JP6143097B2 - Manufacturing method of electronic parts - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品の製造方法に関し、詳しくは、基板に樹脂を塗布する工程を含む電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an electronic component, and more particularly to a method for manufacturing an electronic component including a step of applying a resin to a substrate.

例えば、基板に搭載された部品が樹脂で被覆された電子部品を製造する場合、図7の概略図に示すように、部品21が搭載された集合基板101の実装面101f上に、ディスペンサーのノズル51から吐出された樹脂7を塗布する(例えば、特許文献1参照)。   For example, when manufacturing an electronic component in which a component mounted on a substrate is coated with a resin, as shown in a schematic diagram of FIG. 7, a dispenser nozzle is mounted on a mounting surface 101f of a collective substrate 101 on which the component 21 is mounted. The resin 7 discharged from 51 is applied (see, for example, Patent Document 1).

特開2004−014871号公報JP 2004-014871 A

複数の集合基板に樹脂を塗布する間に、ディスペンサーのシリンジ部に入っている樹脂の粘度変化等によって樹脂の吐出量が変わり、集合基板に塗布された樹脂の量(塗布量)がばらつくことがある。その場合、例えば樹脂モールド部分の高さが変わり、モジュールの高さがばらつくという問題が発生する。モジュールの高さばらつきをなくすために、モールド樹脂の表面を研削する場合、樹脂の塗布量のばらつきのため樹脂高さが異なると、同じ研削時間で樹脂表面を研削したとしても、研削終了時の樹脂高さがばらつくという問題が発生する。   While the resin is applied to a plurality of aggregate substrates, the amount of resin discharged may change due to changes in the viscosity of the resin contained in the syringe part of the dispenser, and the amount of resin applied to the aggregate substrate (application amount) may vary. is there. In that case, for example, the height of the resin mold part changes and the module height varies. When grinding the surface of the mold resin to eliminate module height variation, if the resin height differs due to variation in the amount of resin applied, even if the resin surface is ground in the same grinding time, There arises a problem that the resin height varies.

本発明は、かかる実情に鑑み、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる電子部品の製造方法を提供しようとするものである。   In view of such circumstances, the present invention intends to provide a method for manufacturing an electronic component capable of suppressing variations in the amount of resin applied.

本発明は、上記課題を解決するために、以下のように構成した電子部品の製造方法を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides a method of manufacturing an electronic component configured as follows.

電子部品の製造方法は、基板を用意する第1の工程と、前記基板に樹脂を塗布する第2の工程とを備える。前記第2の工程は、少なくとも1枚の前記基板に対して、(a)前記基板に前記樹脂を塗布する、予め決められた2回以上の所定回数の塗布工程と、(b)最後の前記塗布工程の直前の前記塗布工程である直前塗布工程で塗布された前記樹脂の重量を計測する計測工程と、(c)前記計測工程で計測された前記樹脂の前記重量と、前記直前塗布工程で前記基板に前記樹脂を塗布した時間とに基づいて、前記直前塗布工程で前記基板に塗布された前記樹脂の単位時間あたりの重量である直前塗布速度を算出し、算出した前記直前塗布速度と、前記基板に塗布すべき前記樹脂の重量である目標塗布量と最後の前記塗布工程の直前までに前記基板に塗布されている前記樹脂の重量との差である最終塗布量とに基づいて、最後の前記塗布工程で前記基板に前記樹脂を塗布する時間である最終塗布時間を算出する最終塗布時間算出工程と、を含み、(d)最後の前記塗布工程において、前記最終塗布時間算出工程で算出した前記最終塗布時間の間、前記基板に前記樹脂を塗布する。 The method for manufacturing an electronic component includes a first step of preparing a substrate and a second step of applying a resin to the substrate. The second step includes (a) applying the resin to the substrate on at least one of the substrates, and applying a predetermined number of predetermined times of two or more times , and (b) the last step A measurement step of measuring the weight of the resin applied in the immediately preceding application step, which is the application step immediately before the application step, and (c) the weight of the resin measured in the measurement step, and the immediately preceding application step. Based on the time when the resin is applied to the substrate, the immediately preceding application speed, which is the weight per unit time of the resin applied to the substrate in the immediately preceding application step, is calculated, Based on the target application amount that is the weight of the resin to be applied to the substrate and the final application amount that is the difference between the weight of the resin applied to the substrate immediately before the last application step, In the coating step And a final application time calculation step of calculating a final application time that is a time for applying the resin to (d) the final application time calculated in the final application time calculation step in the final application step. The resin is applied to the substrate.

上記方法によれば、基板に塗布される樹脂の単位時間あたりの重量が、時間の経過とともに変化しても、最後の塗布工程後に基板に塗布されている樹脂の重量が目標塗布量と一致するように、最後の塗布工程において塗布する樹脂の塗布量を、算出した最終塗布時間によって調整することができる。したがって、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。   According to the above method, even if the weight per unit time of the resin applied to the substrate changes with the passage of time, the weight of the resin applied to the substrate after the last application step matches the target application amount. Thus, the application amount of the resin applied in the last application step can be adjusted by the calculated final application time. Therefore, variation in the amount of resin applied can be suppressed.

好ましくは、前記計測工程は、前記直前塗布工程の前後に前記基板を重量計に載置して、前記直前塗布工程で前記基板に塗布された前記樹脂の重量を測定する。前記塗布工程において、前記基板を持ち上げて前記基板を前記重量計から離した状態で、前記基板に前記樹脂を塗布する。   Preferably, in the measurement step, the substrate is placed on a weighing scale before and after the immediately preceding application step, and the weight of the resin applied to the substrate in the immediately preceding application step is measured. In the applying step, the resin is applied to the substrate while the substrate is lifted and the substrate is separated from the weighing scale.

この場合、樹脂を塗布するときには基板を持ち上げ、重量を測定するときに基板を下降させる。重量を計測するときに、基板に塗布された塗布済み樹脂は、樹脂を塗布するノズル等から確実に離れている状態となり、塗布済み樹脂の重量を正確に測定することができるため、樹脂の塗布量のばらつきを、精度良く、抑制することができる。   In this case, the substrate is lifted when the resin is applied, and the substrate is lowered when the weight is measured. When measuring the weight, the coated resin applied to the substrate is in a state of being surely separated from the nozzle or the like for applying the resin, and the weight of the coated resin can be accurately measured. Variation in the amount can be suppressed with high accuracy.

また、基板を昇降することによって、樹脂の塗布と、重量の計測とを行うことができる。基板を昇降するだけでよいため、基板の移動距離を短くすることができ、一つの装置内で、重量の計測と樹脂の塗布とを行い、工程時間を短縮することができる。   In addition, the resin can be applied and the weight can be measured by raising and lowering the substrate. Since it is only necessary to raise and lower the substrate, the moving distance of the substrate can be shortened, and the process time can be shortened by measuring the weight and applying the resin in one apparatus.

好ましくは、前記塗布工程において、加熱装置を備えたステージに前記基板を載置し、前記加熱装置を用いて前記基板を加熱した状態で、前記基板に前記樹脂を塗布する。   Preferably, in the coating step, the substrate is placed on a stage equipped with a heating device, and the resin is applied to the substrate in a state where the substrate is heated using the heating device.

この場合、基板を一定の温度に加熱しながら樹脂を塗布できるため、複数の塗布工程間で、塗布済み樹脂の粘度変化を抑え、樹脂の塗布量のばらつきを、さらに抑制することができる。   In this case, since the resin can be applied while heating the substrate to a constant temperature, it is possible to suppress a change in the viscosity of the applied resin between a plurality of application steps, and to further suppress variations in the resin application amount.

好ましくは、前記第1の工程において、個片に分割される複数の部分に部品が搭載された前記基板を用意する。前記第2の工程において、前記部品が前記樹脂で被覆されるように、前記基板に前記樹脂を塗布する。   Preferably, in the first step, the board having components mounted on a plurality of parts divided into individual pieces is prepared. In the second step, the resin is applied to the substrate so that the component is covered with the resin.

この場合、例えば、モジュール(複合電子部品)を形成するための集合基板にモールド樹脂を塗布し、モールド樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。そのため、モジュール高さのばらつきを低減でき、モールド樹脂の表面を研削する場合には、研削ばらつきも低減できる。   In this case, for example, a mold resin can be applied to a collective substrate for forming a module (composite electronic component), and variations in the amount of the mold resin applied can be suppressed. Therefore, variation in module height can be reduced, and grinding variation can be reduced when the surface of the mold resin is ground.

好ましくは、前記第2の工程は、1枚の前記基板に対して、2回の前記塗布工程を含む。   Preferably, the second step includes the coating step twice for one substrate.

この場合、工程を簡略化しつつ、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。   In this case, it is possible to suppress variations in the amount of resin applied while simplifying the process.

好ましくは、前記第2の工程は、1枚の前記基板に対して、少なくとも3回の前記塗布工程を含み、さらに、前記1枚の前記基板に対して、(a)最後の前記塗布工程の直前の前記塗布工程より前の前記塗布工程である今回塗布工程で塗布された前記樹脂の重量を計測する今回測定工程と、(b)前記今回測定工程で計測された前記樹脂の前記重量と、前記今回塗布工程で前記基板に前記樹脂を塗布した時間とに基づいて、前記今回塗布工程で前記基板に塗布された前記樹脂の単位時間あたりの重量である今回塗布重量を算出し、算出した前記今回塗布重量と前記今回塗布工程の次の前記塗布工程である次回塗布工程で前記基板に塗布すべき前記樹脂の重量とに基づいて、前記次回塗布工程で前記基板に前記樹脂を塗布する時間である次回塗布時間を算出する次回塗布時間算出工程と、を含み、(c)前記次回塗布工程において、前記次回塗布時間算出工程で算出した前記次回塗布時間の間、前記基板に前記樹脂を塗布する。   Preferably, the second step includes at least three application steps for one substrate, and (a) the last application step is performed on the one substrate. A current measurement step of measuring the weight of the resin applied in the current application step, which is the application step prior to the immediately preceding application step, and (b) the weight of the resin measured in the current measurement step; Based on the time when the resin was applied to the substrate in the current application step, the current application weight, which is the weight per unit time of the resin applied to the substrate in the current application step, was calculated, and the calculated Based on the current application weight and the weight of the resin to be applied to the substrate in the next application process, which is the application process subsequent to the current application process, the time for applying the resin to the substrate in the next application process. Next time painting Anda next coating time calculating step of calculating a time, in (c) the next coating step, during the next coating the next coating time calculated by the time calculation step, applying the resin to the substrate.

この場合、1枚の基板に対して、塗布時間を算出して塗布を行う回数を増やすことで、樹脂の塗布量の調整精度を上げて、樹脂の塗布量のばらつきをさらに抑制することができる。特に、1枚の基板に塗布する樹脂の量が多い場合や、基板に塗布される樹脂の単位時間あたりの塗布重量の経時変化が大きい場合に、樹脂の塗布量のばらつき抑制効果が高い。   In this case, by calculating the application time and increasing the number of times of application to a single substrate, it is possible to increase the adjustment accuracy of the resin application amount and further suppress variations in the resin application amount. . In particular, when the amount of resin applied to a single substrate is large, or when the change in the coating weight per unit time of the resin applied to the substrate is large, the effect of suppressing variation in the amount of resin applied is high.

好ましくは、前記第2の工程は、(a)1枚目の前記基板に対して、複数回の前記塗布工程と、前記計測工程と、前記最終塗布時間算出工程とを含み、最後の前記塗布工程において、前記最終塗布時間算出工程で算出した前記最終塗布時間の間、前記基板に前記樹脂を塗布し、(b)2枚目以降、予め決められた枚数までの前記基板に対して、前記1枚目の前記基板の前記塗布工程にそれぞれ対応し、前記1枚目の前記基板の前記塗布工程と同じ時間の間、前記樹脂を塗布する、前記1枚目の前記基板の前記塗布工程と同じ回数の2枚目以降塗布工程を含む。   Preferably, the second step includes (a) a plurality of times of the applying step, the measuring step, and the final applying time calculating step with respect to the first substrate, and the last applying step. In the step, the resin is applied to the substrate during the final application time calculated in the final application time calculation step, and (b) the second and subsequent sheets up to a predetermined number of the substrates, Applying the resin for the same time as the application step of the first substrate, corresponding to the application step of the first substrate, and applying the resin to the first substrate; The second and subsequent coating steps of the same number are included.

この場合、2枚目以降、予め決められた枚数までの基板について、塗布時間の算出を省略し、1枚目の基板と同じ条件で樹脂を塗布することによって、樹脂の塗布量のばらつきを抑制しつつ、効率よく、基板に樹脂を塗布することができる。特に、基板に塗布される樹脂の単位時間あたりの塗布重量が経時変化が小さい場合に、効果が高い。   In this case, for the second and subsequent substrates up to a predetermined number of substrates, calculation of the application time is omitted, and the resin is applied under the same conditions as the first substrate, thereby suppressing variations in the amount of resin applied. However, the resin can be efficiently applied to the substrate. In particular, the effect is high when the application weight per unit time of the resin applied to the substrate has a small change with time.

本発明によれば、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。   According to the present invention, it is possible to suppress variations in the amount of resin applied.

電子部品の製造方法の説明図である。(実施例1)It is explanatory drawing of the manufacturing method of an electronic component. (Example 1) 電子部品の断面図である。(実施例2)It is sectional drawing of an electronic component. (Example 2) 電子部品の製造方法の説明図である。(実施例3)It is explanatory drawing of the manufacturing method of an electronic component. Example 3 電子部品の製造方法の説明図である。(実施例3)It is explanatory drawing of the manufacturing method of an electronic component. Example 3 (a)電子部品の製造方法の説明図、(b)基板の平面図である。(実施例4)(A) It is explanatory drawing of the manufacturing method of an electronic component, (b) It is a top view of a board | substrate. Example 4 電子部品の製造方法のフローチャートである。(実施例5)It is a flowchart of the manufacturing method of an electronic component. (Example 5) 電子部品の製造方法を示す概略図である。(従来例1)It is the schematic which shows the manufacturing method of an electronic component. (Conventional example 1)

以下、本発明の実施の形態について、図1〜図6を参照しながら説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS.

<実施例1> 実施例1の電子部品の製造方法について、図1を参照しながら説明する。   <Example 1> The manufacturing method of the electronic component of Example 1 is demonstrated, referring FIG.

実施例1の電子部品の製造方法は、基板を用意する第1の工程と、前記基板に未硬化の樹脂を塗布する第2の工程と、塗布した樹脂を硬化させる第3の工程とを備える。   The manufacturing method of the electronic component of Example 1 includes a first step of preparing a substrate, a second step of applying an uncured resin to the substrate, and a third step of curing the applied resin. .

図1は、電子部品の製造方法を模式的に示す説明図である。図1に示すように、基板に樹脂を塗布する第2の工程では、基板10に、ディスペンサー2のノズル4から吐出する液状の樹脂20を塗布する。樹脂20の塗布前後の基板10の重量を電子天秤30で計測することによって、基板10に塗布された樹脂20の重量が分かる。   FIG. 1 is an explanatory view schematically showing a method of manufacturing an electronic component. As shown in FIG. 1, in the second step of applying a resin to the substrate, a liquid resin 20 discharged from the nozzle 4 of the dispenser 2 is applied to the substrate 10. By measuring the weight of the substrate 10 before and after the application of the resin 20 with the electronic balance 30, the weight of the resin 20 applied to the substrate 10 can be determined.

ディスペンサー2は、シリンジ部6に樹脂が収納されており、シリンジ部6のピストン(図示せず)にエアーシリンダ等を用いて圧力を加えることによって、シリンジ部6に収納された樹脂がノズル4から吐出する。   In the dispenser 2, the resin is stored in the syringe unit 6, and the resin stored in the syringe unit 6 is discharged from the nozzle 4 by applying pressure to the piston (not shown) of the syringe unit 6 using an air cylinder or the like. Discharge.

シリンジ部6に収納されている樹脂は、温度変化等によって粘度が変化する。シリンジ部6に収納されている樹脂の粘度が変化すると、ノズル4から吐出される樹脂20の単位時間あたりの量が変化する。そのため、1枚の基板10に対して、樹脂20を塗布する時間が同じであれば、複数枚の基板10に樹脂20を塗布している間に、時間経過とともに、基板10ごとの樹脂20の塗布量がばらつく。   The viscosity of the resin stored in the syringe unit 6 changes due to a temperature change or the like. When the viscosity of the resin stored in the syringe unit 6 changes, the amount of the resin 20 discharged from the nozzle 4 per unit time changes. Therefore, if the time for applying the resin 20 to the single substrate 10 is the same, while the resin 20 is being applied to the plurality of substrates 10, the resin 20 for each substrate 10 is increased over time. Application amount varies.

ただし、ノズル4から吐出される樹脂20の粘度変化は緩やかである。そのため、1枚の基板10に樹脂20を塗布する間においては、ノズル4から吐出される樹脂20の単位時間あたりの量、すなわち、単位時間あたり塗布量は、同じか、略同じである。また、シリンジ部のピストンを加圧して樹脂20を塗布する時間(塗布時間)と、塗布される樹脂20の重量(塗布量)とは比例する。したがって、1枚の基板について、塗布工程を2回に分けて行い、1回目の塗布工程後に、単位時間あたりの塗布量と、残りの塗布量とが分かれば、2回目の塗布工程での最適な塗布時間を算出し、算出した塗布時間で樹脂20の塗布を行うことによって、目標塗布重量に対して、精度のよい重量制御塗布を行うことができる。   However, the viscosity change of the resin 20 discharged from the nozzle 4 is gentle. Therefore, while the resin 20 is applied to one substrate 10, the amount of the resin 20 discharged from the nozzle 4 per unit time, that is, the application amount per unit time is the same or substantially the same. Moreover, the time (application time) for applying the resin 20 by pressurizing the piston of the syringe part is proportional to the weight (application amount) of the applied resin 20. Therefore, the coating process is divided into two times for one substrate, and if the coating amount per unit time and the remaining coating amount are known after the first coating process, the optimum in the second coating process. By calculating the appropriate application time and applying the resin 20 with the calculated application time, it is possible to perform accurate weight control application with respect to the target application weight.

詳しい手順は、次のとおりである。   The detailed procedure is as follows.

(1)塗布前の重量計測
まず、樹脂を塗布する前の基板の重量:A(g)を、計測する。
(1) Weight measurement before application First, the weight (A (g)) of the substrate before applying the resin is measured.

(2)1回目の塗布工程
次いで、ディスペンサーのシリンジ部のピストンに圧力を加え、ディスペンサーのノズルから吐出した樹脂を、基板に塗布する。このとき、樹脂の塗布量は、1枚の集合基板に塗布すべき樹脂量(目標量)よりも少なくする。例えば、目標量の半分程度になるようにする。
(2) First application step Next, pressure is applied to the piston of the syringe part of the dispenser, and the resin discharged from the nozzle of the dispenser is applied to the substrate. At this time, the amount of resin applied is set to be smaller than the amount of resin (target amount) to be applied to one aggregate substrate. For example, it should be about half of the target amount.

1回目の塗布を行う時間(1回目の塗布時間)は、例えば、ディスペンサーのシリンジ部のピストンに圧力を加えた時間で定義する。1回目の塗布時間:T1(秒)は、予め定めた時間でも、実測した時間でもよい。すなわち、予め定めた時間に達した時点で、シリンジ部のピストンに圧力を加えることを停止しても、シリンジ部のピストンに圧力を加えた時間を計測してもよい。   The time for performing the first application (first application time) is defined as the time during which pressure is applied to the piston of the syringe part of the dispenser, for example. First application time: T1 (seconds) may be a predetermined time or an actually measured time. That is, when the predetermined time is reached, the pressure applied to the piston of the syringe unit may be stopped or the time during which the pressure is applied to the piston of the syringe unit may be measured.

(3)塗布後の重量計測
次いで、1回目の塗布によって樹脂が塗布された状態の基板の重量:B1(g)を計測する。そして、1回目の塗布工程の前後における基板の重量の差:B1−Aから、1回目の塗布によって塗布された樹脂の重量(1回目の塗布量):P1(g)を算出する。すなわち、次の式(1)によって、P1を算出する。
P1=B1−A ・・・(1)
(3) Weight measurement after application Next, the weight B1 (g) of the substrate on which the resin is applied by the first application is measured. Then, the weight of the resin applied by the first application (first application amount): P1 (g) is calculated from the difference in the weight of the substrate before and after the first application process: B1-A. That is, P1 is calculated by the following equation (1).
P1 = B1-A (1)

なお、電子天秤を用いて重量を計測する場合、1回目の塗布工程の前の重量計測において、計量皿に集合基板を載置した状態で、電子天秤の計測値の表示をリセットし(計測値の表示を0にし)、1回目の塗布工程の後の重量計測で表示される計測値から、1回目の塗布量:P1(g)を得てもよい。   When measuring the weight using an electronic balance, in the weight measurement before the first coating step, the display of the measurement value of the electronic balance is reset with the collective substrate placed on the weighing pan (measured value). The first application amount: P1 (g) may be obtained from the measurement value displayed in the weight measurement after the first application process.

(4)1回目の塗布速度の算出
次いで、1回目の塗布量:P1(g)と、1回目の塗布時間:T1(秒)とから、次の式(2)を用いて、1回目の塗布工程で塗布された樹脂の単位時間あたりの重量(1回目の塗布速度):R1(g/秒)を算出する。
R1=P1/T1
=(B1−A)/T1 ・・・(2)
(4) Calculation of the first coating speed Next, from the first coating amount: P1 (g) and the first coating time: T1 (seconds), the following formula (2) is used to calculate the first coating speed: The weight per unit time of the resin applied in the application step (first application speed): R1 (g / second) is calculated.
R1 = P1 / T1
= (B1-A) / T1 (2)

(5)2回目の塗布時間の算出
次いで、2回目の塗布工程で塗布すべき樹脂の重量、すなわち、1枚の基板に塗布する樹脂の重量である目標塗布量:Me(g)と、1回目の塗布量:P1(g)との差と、1回目の塗布速度:R1(g/秒)とから、次の式(3)を用いて、2回目の塗布時間:T2(秒)を算出する。
T2=(Me−P1)/R1 ・・・(3)
(5) Calculation of Second Application Time Next, the target application amount Me (g), which is the weight of the resin to be applied in the second application process, that is, the weight of the resin applied to one substrate, and 1 From the difference between the first coating amount: P1 (g) and the first coating speed: R1 (g / second), the second coating time: T2 (second) is calculated using the following equation (3). calculate.
T2 = (Me−P1) / R1 (3)

(6)2回目の塗布工程
次いで、算出した2回目の塗布時間:T2(秒)の間、シリンジ部のピストンに圧力を加え、シリンジ部のノズルから吐出した樹脂を、基板に塗布する。
(6) Second application step Next, during the calculated second application time: T2 (seconds), pressure is applied to the piston of the syringe part, and the resin discharged from the nozzle of the syringe part is applied to the substrate.

以上の(1)〜(6)の手順で基板に樹脂を塗布すると、2回目の塗布工程の後に基板に塗布されている樹脂の重量を、目標塗布重量:Meに精度良く近づけることができる。   When the resin is applied to the substrate by the above procedures (1) to (6), the weight of the resin applied to the substrate after the second application process can be brought close to the target application weight: Me with high accuracy.

例えば、シリンジ部のノズルから吐出する樹脂自体の特性変化(粘度変化)や、ディスペンサーの吐出状態の変化(吐出圧の変化等)によって、ノズルからの吐出される樹脂の量がばらついても、1回目の塗布速度:R1に応じて、2回目の塗布時間:T2が適切に補正されるので、塗布量精度を維持することができる。   For example, even if the amount of resin discharged from the nozzle varies due to a characteristic change (viscosity change) of the resin itself discharged from the nozzle of the syringe part or a change in the discharge state of the dispenser (change in discharge pressure, etc.) Since the second coating time: T2 is appropriately corrected according to the first coating speed: R1, the coating amount accuracy can be maintained.

すなわち、基板に塗布される樹脂の単位時間あたりの重量が、時間の経過とともに変化しても、2回目の塗布工程後に基板に塗布されている樹脂の重量が目標塗布量と一致するように、2回目の塗布工程において塗布する樹脂の塗布量を、2回目の塗布時間によって調整することができる。これによって、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。   That is, even if the weight per unit time of the resin applied to the substrate changes with the passage of time, the weight of the resin applied to the substrate after the second application step matches the target application amount. The amount of resin applied in the second application step can be adjusted by the second application time. Thereby, the dispersion | variation in the application quantity of resin can be suppressed.

1枚の基板に対する塗布工程は、3回以上にすることも可能であるが、実施例1のように2回にすると、工程を簡略化しつつ、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。   The coating process for one substrate can be performed three times or more. However, if the coating process is performed twice as in the first embodiment, variation in the amount of resin applied can be suppressed while simplifying the process. .

一般に、基板に塗布される樹脂の単位時間あたりの重量が、時間の経過とともに変化しても、1枚の基板に対して、最後の塗布工程の直前の塗布工程で塗布された樹脂の単位時間あたりの重量(直前塗布速度)と、最後の塗布工程で塗布される樹脂の単位時間あたりの重量とは、同じか、略同じである。   In general, even if the weight per unit time of the resin applied to the substrate changes with time, the unit time of the resin applied to the single substrate in the application step immediately before the last application step The weight per unit time (immediately before application speed) and the weight per unit time of the resin applied in the last application step are the same or substantially the same.

そこで、最後の塗布工程で塗布される樹脂の単位時間あたりの重量が、直前塗布速度と同じであると仮定し、目標塗布量と、直前の塗布工程後に塗布されている樹脂の重量との差から求めた最後の塗布工程で塗布すべき樹脂の重量(最終塗布重量)とに基づいて、最後の塗布工程での適切な塗布時間(最終塗布時間)を算出する。最後の塗布工程において、算出した最終塗布時間の間、基板に樹脂を塗布すると、最後の塗布工程で基板に塗布された樹脂の重量は、最後の塗布工程で塗布すべき樹脂の重量と同じか、略同じになる。その結果、最後の塗布工程後に基板に塗布されている樹脂の重量は、目標塗布量と一致し、あるいは略一致する。   Therefore, assuming that the weight per unit time of the resin applied in the last application process is the same as the previous application speed, the difference between the target application amount and the weight of the resin applied after the previous application process. Based on the weight of the resin to be applied in the final application process (final application weight) obtained from the above, an appropriate application time (final application time) in the final application process is calculated. In the last application step, if the resin is applied to the substrate for the calculated final application time, is the weight of the resin applied to the substrate in the last application step equal to the weight of the resin to be applied in the last application step? It becomes almost the same. As a result, the weight of the resin applied to the substrate after the final application process matches or substantially matches the target application amount.

つまり、基板に塗布される樹脂の単位時間あたりの重量が、時間の経過とともに変化しても、最後の塗布工程後に基板に塗布されている樹脂の重量が目標塗布量と一致するように、最後の塗布工程において塗布する樹脂の塗布量を、算出した最終塗布時間によって調整することができる。したがって、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。   In other words, even if the weight per unit time of the resin applied to the substrate changes with the passage of time, the final weight is such that the weight of the resin applied to the substrate after the last application step matches the target application amount. The application amount of the resin applied in the application step can be adjusted by the calculated final application time. Therefore, variation in the amount of resin applied can be suppressed.

<変形例1> 1枚の基板に対する塗布工程を3回に分けて行う場合、3回目の塗布工程で樹脂を塗布する時間:T3(秒)は、2回目の塗布工程で樹脂を塗布した単位時間あたりの量:R2(g/秒)と、基板に塗布する樹脂の目標量:Me(g)と、1回目の塗布工程で基板に塗布された樹脂の重量:P1(g)と、2回目の塗布工程後で基板に塗布された樹脂の重量:P2(g)とから、次の式(4)を用いて算出する。
T3=(Me−P1−P2)/R2 ・・・(4)
<Modification 1> When the coating process for one substrate is performed in three steps, the time for applying the resin in the third coating process: T3 (seconds) is a unit in which the resin is applied in the second coating process. Amount per time: R2 (g / sec), target amount of resin applied to the substrate: Me (g), weight of resin applied to the substrate in the first application step: P1 (g), 2 From the weight of the resin applied to the substrate after the second application step: P2 (g), calculation is performed using the following equation (4).
T3 = (Me−P1−P2) / R2 (4)

1枚の基板に対して、塗布時間を算出して塗布する回数を増やすことで、樹脂の塗布量の調整精度を上げ、樹脂の塗布量のばらつきをさらに抑制することができる。特に、1枚の基板に塗布する樹脂の量が多い場合や、基板に塗布される樹脂の単位時間あたりの塗布重量の経時変化が大きい場合に、樹脂の塗布量のばらつき抑制効果が高い。   By increasing the number of times of application by calculating the application time on a single substrate, it is possible to increase the adjustment accuracy of the resin application amount and further suppress variations in the resin application amount. In particular, when the amount of resin applied to a single substrate is large, or when the change in the coating weight per unit time of the resin applied to the substrate is large, the effect of suppressing variation in the amount of resin applied is high.

なお、2回目の塗布工程の塗布時間:T2(秒)は、適宜に決めればよいが、例えば、2回目の塗布工程後の樹脂の重量が目標塗布量の2/3になるように、次の(5)式を用いて算出する。
T2={(2/3)Me−P1}/R1 ・・・(5)
Note that the application time of the second application process: T2 (seconds) may be determined as appropriate. For example, the following is performed so that the weight of the resin after the second application process becomes 2/3 of the target application amount. (5) is used for calculation.
T2 = {(2/3) Me-P1} / R1 (5)

<実施例2> 実施例2では、図2の断面図に示すように、部品12を被覆するように樹脂20を塗布する。   Example 2 In Example 2, resin 20 is applied so as to cover component 12 as shown in the cross-sectional view of FIG.

まず、第1の工程として、個片に分割される複数の部分に部品12が搭載された基板10(集合基板)に、粘性が高いダム剤を塗布して、部品12を取り囲む枠状のダム22を形成する。なお、ダム剤としては、樹脂でもよいし、予めリング状に成型された部材を基板上に接着しても構わない。   First, as a first step, a frame-shaped dam that surrounds the component 12 by applying a highly viscous dam agent to the substrate 10 (collective substrate) on which the component 12 is mounted on a plurality of parts divided into individual pieces. 22 is formed. The dam agent may be a resin, or a member previously molded into a ring shape may be bonded onto the substrate.

次いで、第2の工程として、第1の工程で用意した基板10に、未硬化の樹脂20を塗布する。樹脂20は、ダム22の内側に塗布する。   Next, as a second step, an uncured resin 20 is applied to the substrate 10 prepared in the first step. The resin 20 is applied to the inside of the dam 22.

第2の工程は、実施例1と同じであり、樹脂20を塗布する工程を2回に分けて行い、1回目の塗布結果に基づいて、最適な2回目の塗布時間を算出して、2回目の塗布工程を行う。   The second step is the same as in Example 1, and the step of applying the resin 20 is divided into two times, and the optimal second application time is calculated based on the first application result to obtain 2 A second coating process is performed.

次いで、第3の工程として、樹脂20を硬化させる。例えば、塗布した樹脂20が熱硬化性樹脂の場合は硬化開始温度以上に加熱し、紫外線硬化樹脂の場合は紫外線を照射する。   Next, as a third step, the resin 20 is cured. For example, when the applied resin 20 is a thermosetting resin, it is heated above the curing start temperature, and when it is an ultraviolet curable resin, it is irradiated with ultraviolet rays.

次いで、第4の工程として、必要に応じて硬化後の樹脂を研削した後、基板10を個片に分割する。例えば、ダイシング装置を用いて、硬化した樹脂20とともに基板10を切断し、モジュール(複合部品)の個片に分割する。   Next, as a fourth step, the cured resin is ground as necessary, and then the substrate 10 is divided into individual pieces. For example, the substrate 10 is cut together with the cured resin 20 using a dicing apparatus, and is divided into individual pieces of modules (composite parts).

実施例2は、実施例1と同様に、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。そのため、モジュール高さのばらつきを低減でき、モールド樹脂の表面を研削する場合には、研削ばらつきも低減できる。   In the second embodiment, as in the first embodiment, it is possible to suppress variation in the amount of resin applied. Therefore, variation in module height can be reduced, and grinding variation can be reduced when the surface of the mold resin is ground.

<実施例3> 図3及び図4は、実施例3の説明図である。図3及び図4に示すように、実施例3では、実施例1や実施例2の工程を、基板10を載置するステージ44と、ステージを昇降させる不図示の昇降機構を備える自動機を用いて行う。   Example 3 FIGS. 3 and 4 are explanatory diagrams of Example 3. FIG. As shown in FIGS. 3 and 4, in the third embodiment, the steps of the first and second embodiments are performed by using an automatic machine including a stage 44 on which the substrate 10 is placed and a lifting mechanism (not shown) that lifts and lowers the stage. To do.

電子天秤30の計量皿32には、複数の支持柱42が立設された治具40を載置する。ステージ44は、治具40の支持柱42が挿通される貫通孔44pが形成され、支持柱42に接触することなく昇降する。   On the weighing pan 32 of the electronic balance 30, a jig 40 on which a plurality of support columns 42 are erected is placed. The stage 44 is formed with a through hole 44p through which the support column 42 of the jig 40 is inserted, and moves up and down without contacting the support column 42.

図3において矢印46で示すようにステージ44が上昇すると、ステージ44の上面44aから支持柱42が後退し、基板10はステージ44の上面44aによって支持される。この状態で、基板10に樹脂20を塗布する。   When the stage 44 is raised as indicated by an arrow 46 in FIG. 3, the support column 42 is retracted from the upper surface 44 a of the stage 44, and the substrate 10 is supported by the upper surface 44 a of the stage 44. In this state, the resin 20 is applied to the substrate 10.

図4において矢印48で示すように、ステージ44が下降すると、ステージ44の上面44aから、支持柱42が突出し、基板10は支持柱42によって支持される。この状態で、基板10と治具40の重量を、電子天秤30で計測する。   As shown by an arrow 48 in FIG. 4, when the stage 44 is lowered, the support column 42 protrudes from the upper surface 44 a of the stage 44, and the substrate 10 is supported by the support column 42. In this state, the weight of the substrate 10 and the jig 40 is measured with the electronic balance 30.

樹脂20を塗布するときには基板10を持ち上げ、重量を測定するときに基板10を下降させる。重量を計測するときに、基板10に塗布された塗布済み樹脂20xは、樹脂20を塗布するノズル4から離れている状態となり、塗布済み樹脂20xの重量を正確に測定できるため、樹脂の塗布量のばらつきを、精度良く、抑制することができる。   The substrate 10 is lifted when the resin 20 is applied, and the substrate 10 is lowered when the weight is measured. When measuring the weight, the applied resin 20x applied to the substrate 10 is separated from the nozzle 4 for applying the resin 20, and the weight of the applied resin 20x can be accurately measured. Can be suppressed with high accuracy.

また、ステージ44によって基板10を昇降させることによって、樹脂の塗布と、重量の計測とを行うことができる。基板10を昇降させるだけでよいため、基板の移動距離を短くすることができ、一つの装置内で、重量の計測と樹脂の塗布とを行い、工程時間を短縮することができる。   Also, by moving the substrate 10 up and down by the stage 44, it is possible to apply resin and measure the weight. Since it is only necessary to raise and lower the substrate 10, the movement distance of the substrate can be shortened, and the process time can be shortened by measuring the weight and applying the resin in one apparatus.

ステージ44に加熱ヒーターを埋め込んでも構わない。この場合、基板10を一定の温度に加熱しながら樹脂20を塗布できるため、複数の塗布工程間で、塗布済み樹脂20xの粘度変化を抑え、樹脂の塗布量のばらつきを、さらに抑制することができる。   A heater may be embedded in the stage 44. In this case, since the resin 20 can be applied while heating the substrate 10 to a constant temperature, it is possible to suppress a change in viscosity of the applied resin 20x between a plurality of application processes, and to further suppress variations in the amount of resin applied. it can.

すなわち、塗布工程間で、塗布済み樹脂の粘度が変化すると、ノズルから吐出する樹脂に対する塗布済み樹脂の抵抗状態が変化し、ノズルからの樹脂の吐出量が変化する。ノズルからの樹脂の吐出量の変化は、樹脂の塗布量のばらつきの一因となる。ステージ44に加熱ヒーターを埋め込んで基板10を一定の温度に加熱しながら樹脂20を塗布すると、塗布工程間で、塗布済み樹脂20xの粘度変化を抑えることができるので、樹脂の塗布量のばらつきを、さらに抑制することができる。   That is, when the viscosity of the coated resin changes between coating processes, the resistance state of the coated resin with respect to the resin discharged from the nozzle changes, and the amount of resin discharged from the nozzle changes. Changes in the amount of resin discharged from the nozzles contribute to variations in the amount of resin applied. If the resin 20 is applied while a heater is embedded in the stage 44 and the substrate 10 is heated to a certain temperature, the change in the viscosity of the applied resin 20x can be suppressed between the application processes. Can be further suppressed.

なお、ステージ44の上面44aに、基板10を真空吸引によって吸着固定した状態で、樹脂20を塗布してもよい。   In addition, the resin 20 may be applied to the upper surface 44a of the stage 44 in a state where the substrate 10 is adsorbed and fixed by vacuum suction.

<実施例4> 実施例4では、塗布工程を、自動機やロボットを用いて行う。   <Example 4> In Example 4, an application | coating process is performed using an automatic machine and a robot.

図5(a)は、塗布工程を模式的に示す斜視図である。図5(b)は、樹脂20が塗布された基板10の平面図である。図5(a)及び(b)に示すように、自動機50は、案内部52,54に沿って、矢印52x,54yで示す異なる2方向(好ましくは、直交する2方向)に、移動部56が移動する。移動部56にディスペンサー2を取り付け、ディスペンサー2のノズル4から樹脂20を吐出させながら、予め定めた経路に従って移動部56を移動させることによって、基板10上に、矢印58,59で示すように、樹脂20を描画塗布する。   Fig.5 (a) is a perspective view which shows an application | coating process typically. FIG. 5B is a plan view of the substrate 10 on which the resin 20 is applied. As shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b), the automatic machine 50 moves along the guide portions 52 and 54 in two different directions (preferably two directions perpendicular to each other) indicated by arrows 52x and 54y. 56 moves. By attaching the dispenser 2 to the moving part 56 and discharging the resin 20 from the nozzle 4 of the dispenser 2, the moving part 56 is moved according to a predetermined route, thereby, as indicated by arrows 58 and 59 on the substrate 10, as shown in FIG. Resin 20 is drawn and applied.

自動機50の代わりに、3次元の移動が可能なロボットに、ディスペンサー2を取り付け、基板10上に樹脂20を描画塗布してもよい。   Instead of the automatic machine 50, the dispenser 2 may be attached to a robot capable of three-dimensional movement, and the resin 20 may be drawn and applied on the substrate 10.

実施例1の塗布工程に自動機50を用いる場合、1回目の塗布工程は、ノズル4が、予め設定した経路を、予め設定した移動速度で移動し、描画塗布を行う。2回目の塗布工程は、算出した2回目の塗布時間:T2の間、樹脂を塗布する。このとき、算出した2回目の塗布時間:T2で、予め定めた経路の移動、すなわち描画を完了するように、移動部56の移動速度、すわち、描画スピードを制御して、樹脂20を塗布する。   When the automatic machine 50 is used in the coating process of the first embodiment, in the first coating process, the nozzle 4 moves along a preset route at a preset moving speed, and performs drawing coating. In the second application step, the resin is applied for the calculated second application time: T2. At this time, with the calculated second application time: T2, the movement speed of the moving unit 56, that is, the drawing speed is controlled so as to complete the movement of the predetermined path, that is, the drawing, and the resin 20 is applied. To do.

変形例1のように、塗布回数を増し、3回目の塗布を時間:T3で塗布する場合も、同様に制御する。すなわち、3回目の塗布の予め定めた経路の移動、すなわち描画を、時間:T3で完了するように、移動部56の移動速度、すわち、描画スピードを制御する。   The same control is performed when the number of coatings is increased and the third coating is applied at time T3 as in Modification 1. That is, the moving speed of the moving unit 56, that is, the drawing speed is controlled so that the movement of the predetermined path of the third application, that is, the drawing is completed at time T3.

なお、描画パターン、すなわち移動部56の移動経路は、塗布工程の回数によって変更しても構わない。   In addition, you may change a drawing pattern, ie, the movement path | route of the moving part 56, with the frequency | count of an application | coating process.

実施例4では、描画パターンを一定に保ちながらも、1枚の基板に塗布された樹脂の重量を一定にすることができる。樹脂は、所定のパターンで均一に塗布されるようにすることができるので、特に集合基板から個片を分割する場合に、個片ごとの樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。   In Example 4, the weight of the resin applied to one substrate can be made constant while keeping the drawing pattern constant. Since the resin can be uniformly applied in a predetermined pattern, it is possible to suppress variation in the amount of resin applied to each piece, particularly when the pieces are divided from the aggregate substrate.

<実施例5> 実施例5の電子部品の製造方法について、図6を参照しながら説明する。   <Example 5> The manufacturing method of the electronic component of Example 5 is demonstrated, referring FIG.

基板に塗布される樹脂の単位時間あたりの重量(塗布速度)の経時変化が小さい場合には、2枚目以降の基板は、1枚目の基板と同じ条件で樹脂を塗布しても、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。そこで、実施例5では、1枚目の基板については、実施例1と同じ工程とするが、2枚目以降の集合基板については、塗布工程以外の塗布前後の重量計測や2回目の塗布時間算出を省略する。   If the change over time in the weight per unit time (application speed) of the resin applied to the substrate is small, the second and subsequent substrates may be applied even if the resin is applied under the same conditions as the first substrate. Variation in the amount of coating can be suppressed. Therefore, in Example 5, the same process as in Example 1 is performed for the first substrate, but for the second and subsequent aggregate substrates, weight measurement before and after coating other than the coating process and the second coating time are performed. Calculation is omitted.

すなわち、図6のフローチャートに示すように、1枚目の基板については(#10、#20でY)、塗布前の基板の重量:Aを計測した後(#22)、塗布時間:T1で1回目の塗布を行う(#24)。次いで、塗布後の基板の重量:B1を計測し(#28)、前述した式(1)〜(3)を用いて、2回目の塗布時間:T2を算出する(#28)し、算出した塗布時間:T2で2回目の塗布を行う(#30)。   That is, as shown in the flowchart of FIG. 6, for the first substrate (# 10, Y at # 20), after measuring the weight of the substrate before coating: A (# 22), the coating time: T1 The first application is performed (# 24). Next, the weight of the substrate after application: B1 was measured (# 28), and the second application time: T2 was calculated (# 28) using the above-described formulas (1) to (3). Application time: Second application is performed at T2 (# 30).

2枚目の基板については(#32、#20でN)、1枚目の基板と同じ1回目の塗布時間:T1で1回目の塗布を行い(#50)、次いで、1枚目の基板と同じ2回目の塗布時間:T2で2回目の塗布を行う(#52)。   For the second substrate (N at # 32 and # 20), the same first application time as the first substrate: the first application is performed at T1 (# 50), and then the first substrate Second application time: The second application is performed at T2 (# 52).

以下同様に、基板の枚数が、予め定めた枚数:Nに達するで(#54、#26でN)、1枚目の基板と同じ条件で、塗布を行う(#50〜#56)。   Similarly, when the number of substrates reaches a predetermined number: N (N in # 54 and # 26), coating is performed under the same conditions as the first substrate (# 50 to # 56).

基板の枚数が、予め定めた枚数:Nに達すると(#26でY)、以上の一連の手順の最初に戻り(#10)、以下、同様に繰り返す。   When the number of substrates reaches a predetermined number: N (Y in # 26), the process returns to the beginning of the above series of procedures (# 10), and thereafter the same is repeated.

以上のように、2枚目以降、予め決められた枚数:Nに達するまでの基板について、1枚目の基板と同じ条件で樹脂を塗布することによって、樹脂の塗布量のばらつきを抑制しつつ、効率よく、基板に樹脂を塗布することができる。特に、基板に塗布される樹脂の単位時間あたりの塗布重量が経時変化が小さい場合に、効果が高い。   As described above, by applying the resin under the same condition as that of the first substrate for the second and subsequent substrates up to a predetermined number of sheets: N, variation in the amount of resin applied is suppressed. The resin can be efficiently applied to the substrate. In particular, the effect is high when the application weight per unit time of the resin applied to the substrate has a small change with time.

<まとめ> 1枚の基板に対して、樹脂を塗布する塗布工程を複数回に分けて行い、少なくとも最後の塗布工程を最適な塗布時間で行うことによって、樹脂の塗布量のばらつきを抑制することができる。   <Summary> The application process for applying the resin to a single substrate is performed in a plurality of times, and at least the last application process is performed with an optimal application time, thereby suppressing variations in the amount of resin applied. Can do.

なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変更を加えて実施することが可能である。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with various modifications.

2 ディスペンサー
4 ノズル
6 シリンジ部
10 基板
12 部品
20,20x 樹脂
22 ダム
30 電子天秤
32 計量皿
40 治具
42 支持柱
44 ステージ
44a 上面
44p 貫通孔
50 自動機
52,54 案内部
56 移動部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 Dispenser 4 Nozzle 6 Syringe part 10 Board | substrate 12 Parts 20, 20x Resin 22 Dam 30 Electronic balance 32 Weighing pan 40 Jig 42 Support pillar 44 Stage 44a Upper surface 44p Through-hole 50 Automatic machine 52, 54 Guide part 56 Moving part

Claims (7)

基板を用意する第1の工程と、
前記基板に樹脂を塗布する第2の工程と、
を備え、
前記第2の工程は、少なくとも1枚の前記基板に対して、
前記基板に前記樹脂を塗布する、予め決められた2回以上の所定回数の塗布工程と、
最後の前記塗布工程の直前の前記塗布工程である直前塗布工程で塗布された前記樹脂の重量を計測する計測工程と、
前記計測工程で計測された前記樹脂の前記重量と、前記直前塗布工程で前記基板に前記樹脂を塗布した時間とに基づいて、前記直前塗布工程で前記基板に塗布された前記樹脂の単位時間あたりの重量である直前塗布速度を算出し、算出した前記直前塗布速度と、前記基板に塗布すべき前記樹脂の重量である目標塗布量と最後の前記塗布工程の直前までに前記基板に塗布されている前記樹脂の重量との差である最終塗布量とに基づいて、最後の前記塗布工程で前記基板に前記樹脂を塗布する時間である最終塗布時間を算出する最終塗布時間算出工程と、
を含み、
最後の前記塗布工程において、前記最終塗布時間算出工程で算出した前記最終塗布時間の間、前記基板に前記樹脂を塗布することを特徴とする、電子部品の製造方法。
A first step of preparing a substrate;
A second step of applying a resin to the substrate;
With
In the second step, for at least one of the substrates,
Applying the resin to the substrate, a predetermined number of application steps of two or more predetermined times ;
A measuring step for measuring the weight of the resin applied in the immediately preceding application step, which is the application step immediately before the last application step;
Based on the weight of the resin measured in the measurement step and the time during which the resin is applied to the substrate in the immediately preceding application step, per unit time of the resin applied to the substrate in the immediately preceding application step Is applied to the substrate immediately before the last application step and the target application amount that is the weight of the resin to be applied to the substrate. A final application time calculation step of calculating a final application time, which is a time for applying the resin to the substrate in the final application step, based on a final application amount that is a difference from the weight of the resin being,
Including
In the final application step, the resin is applied to the substrate during the final application time calculated in the final application time calculation step.
前記計測工程は、前記直前塗布工程の前後に前記基板を重量計に載置して、前記直前塗布工程で前記基板に塗布された前記樹脂の重量を測定し、
前記塗布工程において、前記基板を持ち上げて前記基板を前記重量計から離した状態で、前記基板に前記樹脂を塗布することを特徴とする、請求項1に記載の電子部品の製造方法。
In the measurement step, the substrate is placed on a weighing scale before and after the immediately preceding application step, and the weight of the resin applied to the substrate in the immediately preceding application step is measured.
2. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein, in the application step, the resin is applied to the substrate in a state where the substrate is lifted and separated from the scale.
前記塗布工程において、加熱装置を備えたステージに前記基板を載置し、前記加熱装置を用いて前記基板を加熱した状態で、前記基板に前記樹脂を塗布することを特徴とする、請求項1又は2に記載の電子部品の製造方法。   2. The application step, wherein the substrate is placed on a stage equipped with a heating device, and the resin is applied to the substrate in a state where the substrate is heated using the heating device. Or the manufacturing method of the electronic component of 2. 前記第1の工程において、個片に分割される複数の部分に部品が搭載された前記基板を用意し、
前記第2の工程において、前記部品が前記樹脂で被覆されるように、前記基板に前記樹脂を塗布することを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一つに記載の電子部品の製造方法。
In the first step, preparing the substrate on which components are mounted in a plurality of parts divided into pieces,
4. The manufacturing of an electronic component according to claim 1, wherein in the second step, the resin is applied to the substrate so that the component is covered with the resin. 5. Method.
前記第2の工程は、1枚の前記基板に対して、2回の前記塗布工程を含むことを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一つに記載の電子部品の製造方法。   4. The method of manufacturing an electronic component according to claim 1, wherein the second step includes two coating steps for one substrate. 5. 前記第2の工程は、1枚の前記基板に対して、
少なくとも3回の前記塗布工程を含み、
さらに、前記1枚の前記基板に対して、
最後の前記塗布工程の直前の前記塗布工程より前の前記塗布工程である今回塗布工程で塗布された前記樹脂の重量を計測する今回測定工程と、
前記今回測定工程で計測された前記樹脂の前記重量と、前記今回塗布工程で前記基板に前記樹脂を塗布した時間とに基づいて、前記今回塗布工程で前記基板に塗布された前記樹脂の単位時間あたりの重量である今回塗布重量を算出し、算出した前記今回塗布重量と前記今回塗布工程の次の前記塗布工程である次回塗布工程で前記基板に塗布すべき前記樹脂の重量とに基づいて、前記次回塗布工程で前記基板に前記樹脂を塗布する時間である次回塗布時間を算出する次回塗布時間算出工程と、
を含み、
前記次回塗布工程において、前記次回塗布時間算出工程で算出した前記次回塗布時間の間、前記基板に前記樹脂を塗布することを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一つに記載の電子部品の製造方法。
In the second step, for one substrate,
Including at least three application steps,
Furthermore, for the one substrate,
A current measurement step of measuring the weight of the resin applied in the current application step, which is the application step prior to the application step immediately before the last application step;
Based on the weight of the resin measured in the current measurement step and the time during which the resin is applied to the substrate in the current application step, the unit time of the resin applied to the substrate in the current application step Based on the calculated current application weight and the weight of the resin to be applied to the substrate in the next application process, which is the next application process after the current application process, A next application time calculating step of calculating a next application time which is a time for applying the resin to the substrate in the next application step;
Including
4. The electron according to claim 1, wherein in the next application step, the resin is applied to the substrate during the next application time calculated in the next application time calculation step. 5. A manufacturing method for parts.
前記第2の工程は、
1枚目の前記基板に対して、
複数回の前記塗布工程と、
前記計測工程と、
前記最終塗布時間算出工程と、
を含み、
最後の前記塗布工程において、前記最終塗布時間算出工程で算出した前記最終塗布時間の間、前記基板に前記樹脂を塗布し、
2枚目以降、予め決められた枚数までの前記基板に対して、
前記1枚目の前記基板の前記塗布工程にそれぞれ対応し、前記1枚目の前記基板の前記塗布工程と同じ時間の間、前記樹脂を塗布する、前記1枚目の前記基板の前記塗布工程と同じ回数の2枚目以降塗布工程を含むことを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか一つの記載の電子部品の製造工程。
The second step includes
For the first substrate,
A plurality of the application steps;
The measuring step;
The final application time calculating step;
Including
In the last application step, during the final application time calculated in the final application time calculation step, the resin is applied to the substrate,
From the second board onwards, up to a predetermined number of boards,
The application step of the first substrate corresponding to the application step of the first substrate and applying the resin for the same time as the application step of the first substrate. The manufacturing process of the electronic component according to any one of claims 1 to 6, further comprising a coating process of the second and subsequent sheets the same number of times.
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