JP6133526B1 - 酸素水素浴システム - Google Patents
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Abstract
Description
本発明に係る酸素水素浴システムは、ガスが導入されるガス供給口を有し、人体全体を収容可能なチャンバと、前記ガス供給口と接続される気体供給管を有し、該気体供給管を介して前記チャンバ内に酸素を含む気体を供給して前記チャンバ内部の圧力を大気圧よりも高圧にするガス供給部と、前記ガス供給口又は前記気体供給管と接続される水素供給管を有し、該水素供給管を介して前記チャンバ内に水素ガスを供給する水素供給部と、前記チャンバと連通され、安全弁又はON/OFF操作によって前記チャンバ内を所定の圧力範囲内に維持する弁を有し、該弁を介して前記チャンバから前記気体及び前記水素ガスを排出するガス排気部と、を備え、前記弁によって前記チャンバ内の圧力が大気圧以上かつ1.35気圧以下に維持され、前記チャンバ内における前記水素ガスの体積濃度が0%を超えかつ前記水素ガスの爆発限界の最小値未満とされる。
本発明に係る第1実施形態について、図1及び図2を参照して説明する。
本実施形態に係る酸素水素浴システム10は、不図示の人体全体を収容するチャンバ11と、チャンバ11内に空気を供給して内部の圧力を大気圧よりも高圧にするガス供給部12と、チャンバ11内に水素ガスを供給する水素供給部13と、チャンバ11から空気及び水素ガスを排出するガス排気部15と、チャンバ内の環境を測定する計測部16と、チャンバ内の環境を制御部17と、を備えている。
まず、チャンバ11の開閉部18を開けて不図示の使用者が開口部11aよりチャンバ11内に入る。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
なお、上述した第1の実施形態と同様の構成要素には同一符号を付すとともに説明を省略する。
第2の実施形態と第1の実施形態との異なる点は、本実施形態に係る酸素水素浴システム40に係るチャンバ41のガス供給口20がチャンバ41の下方に配され、排気弁28がチャンバ41に対してガス供給口20の対角線方向上方に配されたとした点である。
例えば、ガス供給部12は空気をチャンバ11内に供給するとしているが、空気に限らず、酸素を所定の濃度で含有しかつ人体に安全な気体であれば、空気に限らず他のガスであっても構わない。
11,41 チャンバ
12 ガス供給部
13 水素供給部
15 ガス排気部
20 ガス供給口
23 空気供給管(気体供給管)
27 水素供給管
28 排気弁(弁)
Claims (3)
- ガスが導入されるガス供給口を有し、人体全体を収容可能なチャンバと、
前記ガス供給口と接続される気体供給管を有し、該気体供給管を介して前記チャンバ内に酸素を含む気体を供給して前記チャンバ内部の圧力を大気圧よりも高圧にするガス供給部と、
前記ガス供給口又は前記気体供給管と接続される水素供給管を有し、該水素供給管を介して前記チャンバ内に水素ガスを供給する水素供給部と、
前記チャンバと連通され、安全弁又はON/OFF操作によって前記チャンバ内を所定の圧力範囲内に維持する弁を有し、該弁を介して前記チャンバから前記気体及び前記水素ガスを排出するガス排気部と、
を備え、
前記弁によって前記チャンバ内の圧力が大気圧以上かつ1.35気圧以下に維持され、
前記チャンバ内における前記水素ガスの体積濃度が0%を超えかつ前記水素ガスの爆発限界の最小値未満とされる酸素水素浴システム。 - 前記ガス供給部が前記気体を前記チャンバ内に供給している間、前記水素供給部が前記水素ガスを前記チャンバ内に供給する請求項1に記載の酸素水素浴システム。
- 前記ガス供給口が前記チャンバの下方に配され、前記弁が前記ガス供給口から遠方に離間して前記ガス供給口よりも前記チャンバの上方に配された請求項1又は2に記載の酸素水素浴システム。
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