JP6115445B2 - エピタキシャル成長装置 - Google Patents
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Description
上のヒータ15aの上側及び下のヒータ15bの下側に、上下のドーナツ状リフレクタ16a、16bが各々配置される。この上下のドーナツ状リフレクタ16a、16bの少なくとも一つは、ヒータ15a、15bの熱放射を収束させる円筒凹面形状の収束反射板部と、熱放射を分散させる平板形状の分散反射板部とを有する。これら収束反射板部、分散反射板部は、交互に形成されてもよいし、回転対称又は線対称に形成されてもよい。
実施例1として、図1のような直径300mmウェーハ用の枚葉式エピタキシャル成長装置において、直径300mmのシリコンウェーハの中心温度を1100℃に加熱したときのウェーハ面内温度分布を測定した。測定は、特公平07−058730に記載されている方法で行った。これは、イオン注入によって表面に不純物注入層が形成された拡散ウェーハを用意し、熱拡散後のシート抵抗を測定することによりウェーハの面内温度分布を求める方法である。実施例1では、図1に示すように、サセプタの下方でサセプタの下面からの距離が15mmの位置に直径50mmの円盤状の炭化珪素で被覆された炭素製の吸収体を設置した。このときのウェーハ中心部の温度減衰量(本願散乱体を設置した場合の、設置しなかった場合に比較した温度の低下量)は5.8℃、ウェーハ面内温度分布(ウェーハ面内温度均一性)は±3.6℃であった。実施例1の温度減衰量とウェーハ面内温度分布を表1に示す。
図2(a)(b)のように、ウェーハ中心部の直上にリング形状の散乱体として円筒シリンダ形の散乱体を設置した直径300mmウェーハ用の枚葉式エピタキシャル成長装置において、シリコンウェーハの中心温度を1100℃に加熱したときのウェーハ面内温度分布を実施例1と同様に測定した。円筒シリンダ形の散乱体としては、図2(b)に示すように、直径dが80mm、シリンダ高さhが5mm、厚さtが2mmのものを使用した。使用した散乱体はリング形状の金メッキ製反射体であり、設置高さ(ウェーハ表面からの距離)を5mm,20mm,30mm,40mm,50mm,60mmと変更し温度減衰量を評価したところ、表2に示すように、それぞれ22.3℃,22.1℃,17.3℃,15.4℃,10.2℃,3.4℃であった。また、ウェーハ面内温度分布は、表2に示すようにそれぞれ±6.3℃,6.2℃,3.8℃,2.8℃,1.6℃,9.6℃であった。実施例2−5のウェーハ面内温度分布を図5に示す。
図2(a)(b)のように、ウェーハ中心部の直上にリング形状の散乱体を設置した直径300mmウェーハ用の枚葉式エピタキシャル成長装置において、シリコンウェーハの中心温度を1100℃に加熱したときのウェーハ面内温度分布を実施例1と同様に測定した。散乱体は直径dが80mmの円筒シリンダ形のリング形状の金メッキ製反射体であり、シリンダ高さhを2mm,10mm,20mmに変更したもの(厚さtは2mm)、および直径0.5mmの金メッキ細線を螺旋状に重ねた形状(直径dは80mm)の反射体を使用した。温度減衰量を評価したところ、表3に示すように、それぞれ11.2℃,22.9℃,40.3℃,5.0℃であった。また、ウェーハ面内温度分布は、表3に示すようにそれぞれ±1.6℃,6.6℃,15.3℃,4.0℃であった。
図2(a)(b)のように、ウェーハ中心部の直上にリング形状の散乱体を設置した直径300mmウェーハ用の枚葉式エピタキシャル成長装置において、ウェーハ中心温度を1100℃に加熱したときのウェーハ面内温度分布を実施例1と同様に測定した。散乱体は直径dが80mmの円筒シリンダ形のリング形状の石英製であり(厚さtは2mm)、シリンダの表面粗さをRa=0.01μm,0.1μm,10μmに加工したもの、及びシリンダ表面に幅2mm、深さ0.5mmの溝を2mm間隔で加工した凹凸表面を有するものの温度減衰量を評価したところ、表4に示すように、それぞれ5.4℃,8.0℃,12.9℃,12.1℃であった。また、ウェーハ面内温度分布は、表4に示すようにそれぞれ±3.8℃,2.5℃,1.6℃,1.6℃であった。
図2(a)(b)のように、ウェーハ中心部の直上にリング形状の吸収体を設置した直径300mmウェーハ用の枚様式エピタキシャル成長装置において、ウェーハ中心温度を1100℃に加熱したときのウェーハ面内温度分布を実施例1と同様に測定した。吸収体は直径dが80mmの円筒シリンダ形状の石英製であり(厚さtは2mm)、波長1550nmにおける透過率を80%,25%,1%と加工したものの温度減衰量を評価したところ、表5に示すようにそれぞれ9.2℃,32.0℃,40.0℃であった。また、ウェーハ面内温度分布は表5に示すようにそれぞれ±1.9℃,11.1℃,15.1℃であった。
Claims (9)
- サセプタに略水平に載置されたシリコン単結晶基板の主表面にエピタキシャル層を成長させるエピタキシャル成長装置であって、前記サセプタの上下に各々配置され、放射状に円形に並べられた複数の棒状の単体ヒータを有するヒータと、前記上のヒータの上側及び前記下のヒータの下側に各々配置された上下のドーナツ状リフレクタとを備えるエピタキシャル成長装置において、
前記シリコン単結晶基板の近傍に前記ヒータからの熱線を散乱する散乱体及び/又は前記ヒータからの熱線を吸収する吸収体を有し、前記散乱体及び/又は前記吸収体が略円形状に設けられてなり、前記散乱体及び/又は前記吸収体の直径が、前記シリコン単結晶基板の直径の5〜50%の範囲にあり、前記散乱体及び/又は前記吸収体の位置がシリコン単結晶基板面の上方で、前記シリコン単結晶基板の表面からの距離が前記シリコン単結晶基板の直径の20%未満の範囲にあることを特徴とするエピタキシャル成長装置。 - 前記散乱体が、反射体であることを特徴とする請求項1記載のエピタキシャル成長装置。
- 前記反射体が、金メッキ製であることを特徴とする請求項2記載のエピタキシャル成長装置。
- 前記散乱体及び/又は前記吸収体が、細線形状であることを特徴とする請求項1〜3いずれか1項記載のエピタキシャル成長装置。
- 前記散乱体及び/又は前記吸収体が、炭化珪素製又は炭化珪素で被覆されたものであることを特徴とする請求項1記載のエピタキシャル成長装置。
- 前記散乱体及び/又は前記吸収体が、石英製であることを特徴とする請求項1記載のエピタキシャル成長装置。
- 前記散乱体が、石英製散乱体であり、その表面粗さがRa0.01〜10μmであることを特徴とする請求項6記載のエピタキシャル成長装置。
- 前記石英製散乱体が、高さ0.1〜10mmの凹凸表面を有する形状であることを特徴とする請求項6又は7記載のエピタキシャル成長装置。
- 前記石英製散乱体が、波長1550nmにおける透過率で25%を超えることを特徴とする請求項6〜8いずれか1項記載のエピタキシャル成長装置。
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