JP6114635B2 - Radiation detector and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
実施形態は、概して、放射線検出器およびその製造方法に関する。 Embodiments generally relate to radiation detectors and methods of manufacturing the same.
新世代のX線診断用検出器として、アクティブマトリクスを用いた平面形のX線検出器が開発されている。このX線検出器に照射されたX線を検出することにより、X線撮影像、あるいはリアルタイムのX線画像がデジタル信号として出力される。このX線検出器では、X線をシンチレータ層により可視光すなわち蛍光に変換させ、この蛍光をアモルファスシリコン(a−Si)フォトダイオードあるいはCCD(Charge Coupled Device)などの光電変換素子で信号電荷に変換することで画像を取得している。 A planar X-ray detector using an active matrix has been developed as a new generation X-ray diagnostic detector. By detecting the X-rays irradiated to the X-ray detector, an X-ray image or a real-time X-ray image is output as a digital signal. In this X-ray detector, X-rays are converted into visible light, that is, fluorescence by a scintillator layer, and this fluorescence is converted into signal charges by a photoelectric conversion element such as an amorphous silicon (a-Si) photodiode or CCD (Charge Coupled Device). By acquiring the image.
シンチレータ層の材料としては、一般的に、ヨウ化セシウム(CsI):ナトリウム(Na)、ヨウ化セシウム(CsI):タリウム(Tl)、ヨウ化ナトリウム(NaI)、あるいは酸硫化ガドリニウム(Gd2O2S)などが用いられる。シンチレータ層は、ダイシングなどにより溝を形成したり、柱状構造が形成されるように蒸着法で堆積したりすることで、解像度特性を向上させることができる。シンチレータの材料としては上記の通り種々のものがあり、用途や必要な特性によって使い分けられる。 As a material of the scintillator layer, cesium iodide (CsI): sodium (Na), cesium iodide (CsI): thallium (Tl), sodium iodide (NaI), or gadolinium oxysulfide (Gd 2 O) is generally used. 2 S) or the like is used. The scintillator layer can improve resolution characteristics by forming grooves by dicing or the like, or by depositing by a vapor deposition method so that a columnar structure is formed. There are various scintillator materials as described above, and they are properly used depending on the application and necessary characteristics.
シンチレータ層の上面には、蛍光の利用効率を高めて感度特性を改善するために、反射膜を形成する場合がある。すなわち、シンチレータ層で発光した蛍光のうち光電変換素子の反対側に向かう蛍光を反射膜で反射させて、光電変換素子側に到達する蛍光を増大させる。 A reflective film may be formed on the upper surface of the scintillator layer in order to improve the use efficiency of fluorescence and improve sensitivity characteristics. That is, of the fluorescence emitted from the scintillator layer, the fluorescence directed to the opposite side of the photoelectric conversion element is reflected by the reflection film, and the fluorescence reaching the photoelectric conversion element side is increased.
反射膜は、銀合金やアルミニウムなど蛍光反射率の高い金属層をシンチレータ層上に成膜する方法や、TiO2などの光散乱性物質とバインダ樹脂とから成る光散乱反射性の反射膜を塗布形成する方法などで形成される。また、シンチレータ層上に形成するのではなく、アルミなどの金属表面を持つ反射板をシンチレータ層に密着させてシンチレータ光を反射させる方式も実用化されている。 For the reflective film, a metal layer with high fluorescence reflectance such as silver alloy or aluminum is formed on the scintillator layer, or a light-scattering reflective film made of a light-scattering substance such as TiO 2 and a binder resin is applied. It is formed by a forming method or the like. In addition, a method of reflecting scintillator light by bringing a reflector having a metal surface such as aluminum into close contact with the scintillator layer instead of forming on the scintillator layer has been put into practical use.
シンチレータ層や反射層(あるいは反射板など)を外部雰囲気から保護して湿度などによる特性の劣化を抑えるための防湿構造は、検出器を実用的な製品とする上で重要な構成要素である。特に、湿度に対して劣化の大きい材料であるCsI:Tl膜やCsI:Na膜をシンチレータ層とする場合には高い防湿性能が要求される。 A moisture-proof structure for protecting a scintillator layer and a reflective layer (or a reflective plate, etc.) from the external atmosphere to suppress deterioration of characteristics due to humidity is an important component for making a detector a practical product. In particular, when a CsI: Tl film or a CsI: Na film, which is a material having a large deterioration with respect to humidity, is used as a scintillator layer, high moisture-proof performance is required.
防湿構造としては、ポリパラキシリレン(以降は略してパリレンと記載)のCVD膜を用いる方法、あるいは、シンチレータの周囲を包囲部材で囲って防湿層との組み合わせで封止する構造などがある。更に高い防湿性能を得られる構造として、防湿性能の優れたアルミニウム箔などを、シンチレータ層を包含するハット状に加工して、その鍔部を基板と接着シールする構造などが知られている。この防湿構造で、接着層に無機フィラーを添加したシール材を用いた場合には、更に優れた防湿性能を得ることも可能である。 As the moisture-proof structure, there is a method using a CVD film of polyparaxylylene (hereinafter abbreviated as parylene), or a structure in which the periphery of the scintillator is enclosed by a surrounding member and sealed in combination with a moisture-proof layer. As a structure capable of obtaining a higher moisture proof performance, a structure in which an aluminum foil or the like having excellent moisture proof performance is processed into a hat shape including a scintillator layer and its buttock is bonded and sealed to a substrate is known. In this moisture-proof structure, when a sealing material with an inorganic filler added to the adhesive layer is used, it is possible to obtain further superior moisture-proof performance.
シンチレータ層を包含するハット形状などの防湿体を用いて、防湿体の鍔部と基板とを接着封止する防湿構造は、高い防湿性能を確保する事が可能な点では他の方法に比べ格段に優位である。この防湿構造において、ハット形状などの防湿体の鍔部と基板との封止性を十分安定に確保し、かつ高い信頼性を担保するためには、防湿体の鍔部と基板との間に介在させる接着剤の塗布量を十分に大きくすることと、加えて鍔部と基板とを密着させるための加圧力を十分に大きくすることが重要である。 A moisture-proof structure that uses a moisture-proof body such as a hat that includes a scintillator layer to bond and seal the buttock of the moisture-proof body and the substrate is markedly superior to other methods in that it can ensure high moisture-proof performance. Is superior to. In this moisture-proof structure, in order to ensure sufficient stability of the sealing between the flange portion of the moisture-proof body, such as a hat shape, and the substrate, and to ensure high reliability, between the flange portion of the moisture-proof body and the substrate. It is important to increase the applied amount of the intervening adhesive sufficiently and to increase the applied pressure for bringing the collar portion and the substrate into close contact with each other.
しかしながら、このような2つの条件を満足すると、必然的に接着剤が防湿体の鍔部から食み出して、鍔部の周辺の基板上に余剰な接着層の食み出し(広がり)を形成することになる。この接着層の食み出しが、防湿構造の周辺部の基板上に形成されている電極接続用タブパッド(TAB Pad)部などまで到達すると、パッド部へのFPC(フレキシブルプリント基板)の接続ができなくなる。 However, if these two conditions are satisfied, the adhesive inevitably protrudes from the damp part of the moisture-proof body, and a surplus adhesive layer protrudes (spreads) on the substrate around the damp part. Will do. When this adhesive layer protrudes to the electrode connection tab pad (TAB Pad) formed on the peripheral substrate of the moisture-proof structure, the FPC (flexible printed circuit board) can be connected to the pad. Disappear.
このような不具合を避けるためには、防湿体の鍔部の外側端と電極接続用(TABなど)のPadとの間に一定以上の間隔を設ける必要があった。防湿体と基板との貼り合せの位置ズレ(例えば±1mm程度)と、接着剤の食み出し幅(たとえば最大3mm程度)とを考慮して、防湿体のつば部外側端と電極接続用(TABなど)のPad部の間隔を、例えば4mm以上確保する設計が必要である。電極接続用(TABなど)のPad部が信号ライン側(一般にはX−TAB)と制御ライン側(一般にY−TAB)でそれぞれ両側にある場合には、たとえば縦横それぞれ8mmの寸法が、このために必要となる。 In order to avoid such a problem, it is necessary to provide a certain distance or more between the outer end of the flange portion of the moisture-proof body and the pad for electrode connection (TAB or the like). Considering the positional deviation of the moisture-proof body and the substrate (for example, about ± 1 mm) and the protrusion width of the adhesive (for example, about 3 mm at the maximum) and connecting the outer edge of the collar of the moisture-proof body to the electrode ( For example, a design that secures an interval of the pad portion of TAB or the like of 4 mm or more is necessary. If the pad part for electrode connection (TAB, etc.) is on both sides on the signal line side (generally X-TAB) and the control line side (generally Y-TAB), for example, the dimensions are 8 mm in length and width respectively. Is required.
このような防湿体周辺部に要する寸法は、同じ有効画素エリアやその上に形成されるシンチレータ層のエリア寸法に対して放射線検出器としての外形寸法を増大させ、放射線検出器としてのコンパクト設計を阻害することになる。また、放射線検出器の全体寸法が余分に大きくなることは、検出器の重量も余分に増大させる。特に軽量化とコンパクト設計を要望される可搬型(ポータブル)の放射線検出器などにおいては、重大なデメリットとなる。 The dimensions required for the perimeter of the moisture barrier increase the external dimensions of the radiation detector with respect to the same effective pixel area and the area size of the scintillator layer formed thereon, so that the compact design as a radiation detector can be achieved. Will interfere. In addition, an excessive increase in the overall dimensions of the radiation detector also increases the weight of the detector. This is a serious demerit especially in portable radiation detectors that require a light weight and compact design.
接着層の食み出しを抑えるために接着剤の塗布量を減らしたり、加圧密着力を弱めたりする手段が考えられるが、その場合には、防湿体の鍔部と基板との接着封止が不充分となり易く、高温高湿試や冷熱環境における接着部の信頼性に問題を生じ易い。 In order to prevent the adhesive layer from sticking out, it is possible to reduce the amount of adhesive applied or to reduce the pressure adhesion, but in that case the adhesive seal between the moisture-proof body and the substrate is not sufficient. It tends to be insufficient, and it tends to cause problems in the reliability of the bonded part in a high-temperature and high-humidity test or a cold environment.
そこで、実施形態は、防湿構造の信頼性を維持しつつ、放射線検出器を小型化することを目的とする。 Therefore, an object of the embodiment is to reduce the size of the radiation detector while maintaining the reliability of the moisture-proof structure.
上述の目的を達成するため、実施形態によれば、放射線検出器の製造方法において、基板上に光電変換素子を二次元配列したアレイ基板を形成するアレイ基板形成工程と、前記アレイ基板の前記光電変換素子が配列された領域を覆い放射線を蛍光に変換するシンチレータ層を形成するシンチレータ層形成工程と、前記アレイ基板の前記シンチレータ層を囲む部分に対向する鍔部を備えた防湿体を形成する防湿体形成工程と、接着剤が前記鍔部と前記アレイ基板との間の対向接着部およびその対向接着部の前記鍔部の外縁から外側にはみ出す領域で底面が前記アレイ基板に密着し前記鍔部よりも高く突出する食み出し部を形成するように、前記鍔部の前記対向接着部の反対側の面に対向する加圧面が形成された額縁部を持つ加圧治具で前記鍔部を加圧して前記防湿体と前記アレイ基板とを接着させる接着工程と、を具備することを特徴とする。 In order to achieve the above-described object, according to an embodiment, in a method of manufacturing a radiation detector, an array substrate forming step of forming an array substrate in which photoelectric conversion elements are two-dimensionally arranged on a substrate, and the photoelectric of the array substrate forming a scintillator layer forming step of converting element forms a scintillator layer for converting a radiation covering the array region to the fluorescence, a moistureproof body comprising a flange portion opposed to the portion surrounding the scintillator layer before SL array substrate a moistureproof body forming step, the adhesive is adhered to the opposite bonding portion and an outer edge the bottom surface in a region protruding outward from the array substrate of the collar portion of the opposing adhesive portions between the array substrate and the flange portion and the collar The collar part with a pressing jig having a frame part formed with a pressure surface facing the surface on the opposite side of the opposing adhesive part of the collar part so as to form a protruding part protruding higher than the part Pressurized, characterized by comprising: a bonding step of bonding the said array substrate and said moistureproof body.
また、実施形態によれば、放射線検出器において、基板上に光電変換素子を二次元配列したアレイ基板と、前記アレイ基板の前記光電変換素子が配列された領域を覆い放射線を蛍光に変換するシンチレータ層と、前記シンチレータ層を覆う金属の成形体であって前記アレイ基板の前記シンチレータ層を囲む部分に対向する鍔部を備えた防湿体と、前記鍔部と前記アレイ基板との間の対向接着部およびその対向接着部の前記鍔部の外縁から外側にはみ出す領域で底面が前記アレイ基板に密着し前記鍔部よりも高く突出する食み出し部を有して前記防湿体と前記アレイ基板とを接着させる接着層と、を具備することを特徴とする。 According to the embodiment, in the radiation detector, an array substrate in which photoelectric conversion elements are two-dimensionally arranged on the substrate, and a scintillator for covering the region where the photoelectric conversion elements are arranged on the array substrate and converting the radiation into fluorescence. A moisture-proof body comprising a layer, a metal molded body covering the scintillator layer and having a flange portion facing a portion surrounding the scintillator layer of the array substrate, and opposing adhesion between the flange portion and the array substrate parts and said moistureproof body having a protruding portion protruding higher than the from the outer edge of the flange portion bottom surface in a region protruding outward in close contact with the array substrate the collar portion of the opposing adhesive portions and the array substrate And an adhesive layer for adhering to each other.
図1は、一実施形態による放射線検出装置の模式的斜視図である。図2は、本実施形態による放射線検出器のアレイ基板の回路図である。図3は、本実施形態による放射線検出装置のブロック図である。図4は、本実施形態による放射線検出器の断面の一部拡大断面図である。図5は、本実施形態による放射線検出器の上面図である。図6は、本実施形態による放射線検出器の側面図である。 FIG. 1 is a schematic perspective view of a radiation detection apparatus according to an embodiment. FIG. 2 is a circuit diagram of the array substrate of the radiation detector according to the present embodiment. FIG. 3 is a block diagram of the radiation detection apparatus according to the present embodiment. FIG. 4 is a partially enlarged sectional view of a section of the radiation detector according to the present embodiment. FIG. 5 is a top view of the radiation detector according to the present embodiment. FIG. 6 is a side view of the radiation detector according to the present embodiment.
本実施形態の放射線検出器11は、放射線像であるX線画像を検出するX線平面センサであり、たとえば一般医療用途などに用いられる。放射線検出装置10は、この放射線検出器11と、支持板31と、回路基板30と、フレキシブル基板32とを有している。放射線検出器11は、アレイ基板12とシンチレータ層13とを有している。放射線検出器11は、入射したX線を検出して蛍光に変換し、その蛍光を電気信号に変換する。放射線検出装置10は、放射線検出器11を駆動し、放射線検出器11から出力された電気信号を画像情報として出力する。放射線検出装置10が出力した画像情報は、外部のディスプレイなどに表示される。
The
アレイ基板12は、蛍光を電気信号に変換する光電変換基板である。アレイ基板12は、ガラス基板16を有している。ガラス基板16の表面には、複数の微細な画素20が正方格子状に配列されている。画素20は、たとえば対角線の長さが13インチの長方形の画素領域(アクティブ領域)内に配列される。それぞれの画素20は、薄膜トランジスタ22とフォトダイオード21とを有している。また、ガラス基板16の表面には、画素20が配列された正方格子の行に沿って制御ライン18が各画素20の間を延びている。さらに、ガラス基板16の表面には、画素20が配列された正方格子の列に沿って同数のデータライン19が各画素20の間を延びている。シンチレータ層13は、アレイ基板12の画素20が配列された領域の表面に形成されている。
The
シンチレータ層13は、たとえば14×17インチサイズのアレイ基板12の表面に設けられ、X線が入射すると可視光領域の蛍光を発生する。発生した蛍光は、アレイ基板12の表面に到達する。
The
シンチレータ層13は、たとえばヨウ化セシウム(CsI):タリウム(Tl)、あるいはヨウ化ナトリウム(NaI):タリウム(Tl)などを真空蒸着法で柱状構造に形成したものである。たとえば、シンチレータ層13にはCsI:Tlの蒸着膜を用い、その膜厚は約600μmである。CsI:Tlの柱状構造結晶の柱(ピラー)の太さは、最表面でたとえば8〜12μm程度である。あるいは、酸硫化ガドリニウム(Gd2O2S)蛍光体粒子をバインダ材と混合し、アレイ基板12上に塗布して焼成および硬化し、ダイサによりダイシングするなどで溝部を形成して四角柱状に形成してシンチレータ層13を形成してもよい。これらの柱間には、大気、あるいは酸化防止用の窒素(N2)などの不活性ガスが封入され、あるいは真空状態としてもよい。
The
アレイ基板12は、シンチレータ層13で発生した蛍光を受光して電気信号を発生する。その結果、入射したX線によってシンチレータ層13で発生した可視光像は、電気信号で表現された画像情報に変換される。
The
放射線検出器11は、シンチレータ層13が形成された面の反対側の面と支持板31とが接触するように、支持板31に支持されている。回路基板30は、支持板31の放射線検出器11に対して反対側に配置されている。放射線検出器11と回路基板30との間は、フレキシブル基板32で電気的に接続されている。
The
それぞれのフォトダイオード21は、スイッチング素子である薄膜トランジスタ22を介して制御ライン18およびデータライン19に接続されている。また、それぞれのフォトダイオード21には、蓄積キャパシタ27が並列に接続されている。蓄積キャパシタ27は、矩形平板状に形成され、各フォトダイオード21の下部に対向して設けられている。なお、蓄積キャパシタ27は、フォトダイオード21の容量が兼ねる場合もあり、必ずしも必要ではない。
Each
フォトダイオード21およびそれに並列に接続された蓄積キャパシタ27は、薄膜トランジスタ22のドレイン電極25に接続されている。薄膜トランジスタ22のゲート電極23は、制御ライン18に接続されている。薄膜トランジスタ22のソース電極24は、データライン19に接続されている。
The
配列の同じ行に位置する画素20の薄膜トランジスタ22のゲート電極23は、同一の制御ライン18に接続されている。配列の同じ列に位置する画素20の薄膜トランジスタ22のソース電極24は、同一のデータライン19に接続されている。
The
同じ行の画素20中の薄膜トランジスタ22のゲート電極23は、同じ制御ライン18に接続されている。同じ列の画素20中の薄膜トランジスタ22のソース電極24は、同じデータライン19に接続されている。
The
各薄膜トランジスタ22は、フォトダイオード21への蛍光の入射にて発生した電荷を蓄積および放出させるスイッチング機能を担う。薄膜トランジスタ22は、結晶性を有する半導体材料である非晶質半導体としてのアモルファスシリコン(a−Si)、あるいは多結晶半導体であるポリシリコン(P−Si)などの半導体材料にて少なくとも一部が構成されている。
Each
なお、図1および図2において、画素は5行5列あるいは4行4列分しか記載していないが、実際にはもっと多く、解像度、撮像面積に応じて必要な画素が形成されている。 In FIGS. 1 and 2, the pixels are described only for 5 rows and 5 columns or 4 rows and 4 columns, but actually, more pixels are formed according to the resolution and the imaging area.
放射線検出装置10は、放射線検出器11と、ゲートドライバー39と、行選択回路35と、積分アンプ33と、A/D変換器34と、並列/直列変換器38と、画像合成回路36とを有している。ゲートドライバー39は、放射線検出器11の各制御ライン18に接続されている。ゲートドライバー39は、各薄膜トランジスタ22の動作状態、すなわちオンおよびオフを制御する。積分アンプ33は、放射線検出器11の各データライン19に接続されている。
The
行選択回路35は、ゲートドライバー39に接続されている。並列/直列変換器38は、積分アンプ33に接続されている。A/D変換器34は、並列/直列変換器38に接続されている。A/D変換器34は、画像合成回路36に接続されている。
The
積分アンプ33は、たとえば放射線検出器11と回路基板30とを接続するフレキシブル基板32上に設けられている。その他の素子は、たとえば回路基板30上に設けられている。
The integrating
ゲートドライバー39は行選択回路35からの信号を受信して、各薄膜トランジスタ22の動作状態、すなわちオンおよびオフを制御する。つまり、制御ライン18の電圧を順番に変更していく。ゲートドライバー39は、たとえばアレイ基板12の表面の外周近傍に実装されている。行選択回路35は、X線画像を走査する所定の行を選択するための信号をゲートドライバー39へと送る。積分アンプ33は、放射線検出パネルからデータライン19を通じて出力される極めて微小な電荷信号を増幅し出力する。
The
アレイ基板12の表面には、フォトダイオード21および薄膜トランジスタ22などの検出素子、並びに、制御ライン18およびデータライン19などの金属配線を覆う絶縁性の保護膜28が形成されている。シンチレータ層13は、保護膜28の表面に、画素20が配列された領域を覆うように形成されている。
On the surface of the
シンチレータ層13の表面には、反射膜14が設けられている場合が多い。反射膜14は、シンチレータ層13で発生した蛍光のうちアレイ基板12から遠ざかっていくものをアレイ基板12側へ反射させる。これにより、フォトダイオード21に到達する蛍光光量が増大する。
A
反射膜14は、銀合金やアルミニウムなど蛍光反射率の高い金属をシンチレータ層上に成膜する方法で形成される。あるいは、アルミなどの金属表面を持つ反射板をシンチレータ層13に密着させたもの、TiO2などの光散乱性物質とバインダ樹脂とから成る拡散反射性の反射膜14を塗布形成してもよい。なお、反射膜14は、放射線検出器11に求められる解像度、輝度などの特性により、必ずしも必要ではない。
The
放射線検出器11は防湿構造を備えている。この防湿構造は、シンチレータ層13および反射膜14を覆う防湿体15を、アレイ基板12の表面に接着封止して形成されている。
The
防湿体15は、中央部が盛り上がったハット状に形成されている。防湿体15の周辺部分は、平坦な帯状の鍔部50となっている。鍔部50は、アレイ基板12の表面のシンチレータ層13が形成された領域の外側を取り囲む帯状に形成される。鍔部50の内側には、天板部51が形成されている。天板部51は、シンチレータ層13よりも若干大きい平板状の部分である。鍔部50と天板部51との間には、斜面部52が形成されている。
The moisture-
鍔部50は、アレイ基板12と対向している。鍔部50とアレイ基板12との間は接着されている。アレイ基板12上に形成されたシンチレータ層13および反射膜14は、防湿体15の天板部51および斜面部52で覆われている。防湿体15は、シンチレータ層13および反射膜14を外気や湿度から保護する。
The
防湿体15は、たとえばアルミニウムやアルミニウム合金の箔で形成されている。本実施例として防湿体15は、0.1mmのA1N30−O材(純アルミニウム系材料のアニール材)により形成される。鍔部50の幅は、たとえば2.5mmである。
The moisture-
アレイ基板12には、制御ライン18およびデータライン19のそれぞれの端部が露出したパッド29が配列されて、端子群26が形成されている。端子群26は、アレイ基板12の辺に沿って配列されている。制御ライン18につながる端子群26と、データライン19につながる端子群26は、異なる辺に沿って配列されている。これらの端子群26は、フレキシブル基板32を介して、回路基板30と電気的に接続されている。
On the
図7は、本実施形態による放射線検出器の外周部近傍の拡大断面図である。 FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the outer periphery of the radiation detector according to the present embodiment.
アレイ基板12の中央部のX線画像を取得するアクティブエリアから、基板周辺部に配列されたパッド29までのそれぞれには、リード配線62が延びている。アレイ基板12の最表層には保護膜28として、0.2〜0.3μm程度の無機膜と2μm程度の有機膜が形成されている。リード配線としては、TFT駆動のための制御ライン18、X線画像に対応する電荷を読み出すデータライン19、および、フォトダイオード21を動作させるためのバイアス電圧を加えるためのバイアス線がある。
Lead
防湿体15とアレイ基板12とは、接着層90によって接着されている。接着層90は、対向接着部91と食み出し部92とを有する。対向接着部91は、鍔部50とアレイ基板12との間に形成されている。食み出し部92は、鍔部50の外縁から外側、すなわち、鍔部50の外縁からアレイ基板12の外縁に向かう方向に食み出した部分である。接着層90の食み出し部92は、アレイ基板12の表面から突出している。食み出し部92の突出高さは、本例の場合には少なくとも鍔部50のアレイ基板12に対向する面よりも高い。
The moisture-
図8は、本実施形態の変形例による放射線検出器の外周部近傍の拡大断面図である。 FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the outer peripheral portion of the radiation detector according to a modification of the present embodiment.
この変形例では、食み出し部92は、鍔部50の対向接着部91とは反対側の面にまで回り込んでいる。つまり、鍔部50の外縁近傍は、対向接着部91と回り込み部93で挟まれている。
In this modified example, the protruding
次に、この放射線検出器の製造方法について説明する。 Next, the manufacturing method of this radiation detector is demonstrated.
まず、ガラス基板16上に画素20、制御ライン18、データライン19などを形成してアレイ基板12を製造する。次に、アレイ基板12の表面にシンチレータ層13を形成する。また、アルミニウムやアルミニウム合金の箔をプレス成型して、防湿体15を得ておく。次に、防湿体15をアレイ基板12に接着する。
First, the
図9は、本実施形態による防湿体とアレイ基板との接着時の模式的断面図である。 FIG. 9 is a schematic cross-sectional view of the moisture-proof body and the array substrate according to the present embodiment at the time of bonding.
防湿体15とアレイ基板12との接着時には、接着トレイ(加圧治具)80を用いる。接着トレイ80は、周囲に鍔部50が載置される額縁部81が形成されている。額縁部81よりも内側には、窪み部82が形成されている。防湿体15は、額縁部81の上に鍔部50が載置され、窪み部82に天板部51および斜面部52が配置された状態で、接着トレイ80に載せられる。
An adhesive tray (pressure jig) 80 is used when the moisture-
額縁部81の幅は、鍔部50の幅とほぼ同じである。また、窪み部82の大きさは、天板部51および斜面部52の大きさとほぼ同じである。このため、接着トレイ80に載せられた防湿体15の外周は、接着トレイ80の外周にほぼ重なるように配置される。鍔部50および額縁部81の幅は、たとえばいずれも2.5mmである。防湿体15の寸法の誤差を考慮して、額縁部の幅を防湿体の鍔の幅より若干狭くまたは広くしてもよい。
The width of the
接着トレイ80に載せられた防湿体15の鍔部50のアレイ基板12に対向する面には、接着剤94が塗布されている。接着剤94は、たとえばディスペンサーによって鍔部50の幅よりも細い帯状に全周にわたって塗布される。接着剤94は、防湿体15が接着トレイ80に載せられた状態で塗布されてもよいし、接着剤94を塗布した防湿体15を接着トレイに載せてもよい。
An adhesive 94 is applied to the surface of the
接着剤94が鍔部50に塗布された状態で、接着トレイ80をアレイ基板12側に押し付けることによって、鍔部50をアレイ基板12に向かって加圧する。接着剤94の塗布量は、鍔部50をアレイ基板12に所定の圧力で押し付けた際に、接着剤94が鍔部50の外縁からはみ出す程度としておく。接着剤94を介して鍔部50をアレイ基板12に取り付けた後、接着剤94を硬化させる。
In a state where the adhesive 94 is applied to the
防湿体15のアレイ基板12への加圧の際、鍔部50よりも外側の領域では、少なくとも鍔部50の近傍以外には額縁部81が存在しない。つまり、防湿体15の鍔部50の外縁より外側には、接着剤94の流動を抑制する構造がない。その結果、鍔部50をアレイ基板12に向かって加圧した際に鍔部50の外縁から食み出した接着剤94は、接着トレイ80の側面(縁面)に沿って広がる。したがって、接着層90の食み出し部のアレイ基板12の表面方向外側への広がりは小さく抑えられ、代わりに高さ方向に凸形状に形成される。特に、防湿体15を鉛直下方から鉛直上方に向かってアレイ基板12に加圧する場合、すなわち、食み出した接着剤94が重力によって接着トレイ80の側面に沿って垂れていく場合には、接着剤94の食み出し部分の表面方向外側への広がりはよりいっそう抑制される。
When pressurizing the
このように防湿構造を形成して放射線検出器11が完成した後、データライン19のパッド29への信号処理回路の配線の接続、制御ライン18のパッド29への制御回路の配線の接続、その他の実装工程、および光電変換素子やPadの接続異常有無を確認する電気試験、筐体への組立、X線画像試験などを経て、放射線検出装置10が完成する。
After the
次に、本実施形態の放射線検出器11を試作した例について説明する。
Next, an example in which the
シンチレータ層13にCsI:Tlの蒸着膜を用い、膜厚は約600μm、CsI:Tlの柱状構造結晶の柱(ピラー)の太さは最表面で8〜12μm程度のものを用いた。シンチレータ層13は、14×17インチサイズ相当の基板上にCsI:Tl膜(600μmt)を真空蒸着法で形成した。反射膜14は、TiO2のサブミクロン粉体とバインダ樹脂および溶媒を混合した塗液をシンチレータ層13上に塗布・乾燥して形成した。
A CsI: Tl vapor deposition film was used for the
防湿体15は、厚み0.1mmのAL箔を、周辺部に2.5mm幅のつば部を持つ構造にプレス成形してハット形状とした。ディスペンサー装置により、ハット状の防湿体15の鍔部50に接着剤94を塗布し、シンチレータ膜13および反射膜14の形成された基板と貼り合わせた。接着剤94は、エポキシ系の材質の加熱硬化型、紫外線硬化型の両方で作成した。接着剤94の比重は約1.4g/ccである。ハット状防湿体15の鍔部50への接着剤94の塗布量は、0.4mg/mm、0.6mg/mm、0.8mg/mm、1.2mg/mm、1.6mg/mm、の5水準で試作した。
The moisture-
この試作において、防湿体15の鍔部50とアレイ基板12との接着には、第9図に示す接着トレイ80を用いた。この接着トレイ80は、貼り合せの際に加圧される額縁部81の幅が、防湿体15の鍔部50の幅にほぼ合わせて2.5mmで作成している。貼り合せの際の位置ズレを考慮して、額縁の幅に多少、たとえば0.1〜0.5mmのマージンを持たせ、少し幅広の額縁、たとえば幅が2.6〜3.0mm、としてもよい。
In this trial manufacture, the
接着時の加圧条件は、防湿体15の鍔部50の単位面積当りで、0.5kgf/cm2、1.0kgf/cm2、1.5kgf/cm2、2.0kgf/cm2、2.5kgf/cm2の5水準とした。
The pressure conditions at the time of bonding are 0.5 kgf / cm 2 , 1.0 kgf / cm 2 , 1.5 kgf / cm 2 , 2.0 kgf / cm 2 , 2 per unit area of the
接着剤94の粘度と塗布量、および貼り合せ時の加圧力とにより接着層の潰れ方、したがって接着層の厚みや食み出しの量が決まる。必要な接着層の厚みや、可能な製造条件(塗布量や加圧力)などによって、好適な粘度の接着剤を選定する必要がある。紫外線硬化型の接着剤を用いた場合には、その粘度にもよるが、接着剤塗布後で密着させる前に予め紫外線を少量照射して、接着剤の硬度を一定量高めてから貼り合せする事も可能である。この試作に用いた接着剤の粘度は、約400Pa・secで、かなり高粘度のものである。 The way in which the adhesive layer is crushed, and hence the thickness of the adhesive layer and the amount of protrusion, is determined by the viscosity and the coating amount of the adhesive 94 and the pressure applied at the time of bonding. It is necessary to select an adhesive having a suitable viscosity depending on the required thickness of the adhesive layer and possible manufacturing conditions (application amount and applied pressure). When UV curable adhesive is used, it depends on its viscosity, but after application of the adhesive, it is irradiated with a small amount of UV in advance, and the adhesive is increased in hardness by a certain amount before bonding. Things are also possible. The viscosity of the adhesive used in the trial production is about 400 Pa · sec, which is very high.
図10は、本実施形態において接着剤の塗布量と加圧力を変えた場合における防湿体の鍔部外側への接着層の食み出し幅の試作評価結果を示すグラフである。図11は、本実施形態において接着剤の塗布量と加圧力を変えた場合における防湿体の鍔部外側への接着剤の食み出し高さの試作評価結果を示すグラフである。 FIG. 10 is a graph showing the results of trial evaluation of the protrusion width of the adhesive layer on the outer side of the buttocks of the moisture-proof body when the application amount and the applied pressure of the adhesive are changed in this embodiment. FIG. 11 is a graph showing the results of trial evaluation of the height of protrusion of the adhesive to the outer side of the buttock of the moisture-proof body when the application amount and the applied pressure of the adhesive are changed in the present embodiment.
本実施形態では、防湿体の鍔部50の外側に接着剤94の流動を抑制する構造が無いために、接着剤94が硬化して形成された接着層90の食み出し部92は接着トレイ80の側面(縁面)に沿って広がる。この結果、接着層90の食み出し部92は、平面方向外側への広がりが小さく抑えられ、代わって高さ方向に凸形状に形成される。
In this embodiment, since there is no structure for suppressing the flow of the adhesive 94 on the outer side of the
接着層90の食み出し部92の食み出し幅は、塗布量および加圧力が大きくなるにしたがって大きくなる。しかし、加圧力がおよそ1.0kgf/cm2を超えると加圧力の増加に伴う食み出し幅の増加は飽和し、ほぼ一定となる。また、接着層90の食み出し部92の食み出し高さは、塗布量および加圧力が大きくなるにしたがって大きくなる。しかし、加圧力がおよそ1.0kgf/cm2を超えると加圧力の増加に伴う食み出し高さの増加は飽和し、ほぼ一定となる。
The protruding width of the protruding
比較のため、額縁部が広い接着トレイを用いた試作も行った。 For comparison, we also made a prototype using an adhesive tray with a wide frame.
図12は、比較例における防湿体とアレイ基板との接着時の模式的断面図である。 FIG. 12 is a schematic cross-sectional view when the moisture-proof body and the array substrate are bonded in the comparative example.
この比較例において、接着トレイ84の額縁部85の幅が、防湿体15の鍔部50の幅に比べて十分に広い。この比較例では、接着トレイ84の額縁幅は20mmである。この接着トレイ84の窪み部86の大きさは、実施形態の接着トレイ80の窪み部82の大きさと同じとした。
In this comparative example, the width of the
図13は、本実施形態の比較例において接着剤の塗布量と加圧力を変えた場合における防湿体の鍔部外側への接着層の食み出し幅の試作評価結果を示すグラフである。図14は、本実施形態の比較例において接着剤の塗布量と加圧力を変えた場合における防湿体の鍔部外側への接着剤の食み出し高さの試作評価結果を示すグラフである。 FIG. 13 is a graph showing the results of trial evaluation of the protrusion width of the adhesive layer on the outer side of the buttocks of the moisture-proof body when the application amount and the applied pressure of the adhesive are changed in the comparative example of the present embodiment. FIG. 14 is a graph showing a trial evaluation result of the height of protrusion of the adhesive to the outer side of the buttocks of the moisture-proof body when the application amount and the applied pressure of the adhesive are changed in the comparative example of the present embodiment.
この比較例では、防湿体15の鍔部50の外側に接着剤94の高さ方向への流動を抑制する接着トレイ84の額縁部85が存在する。このため、接着剤94の食み出し部は基板の外側方向に広がる。しかも、アレイ基板12と接着トレイ84の額縁部85との隙間は、高々、防湿体15の鍔部50の厚みの程度(本比較例では0.1mm)であり、少量の接着剤94の食み出しでもアレイ基板12の外側への広がりは大きくなってしまう。
In this comparative example, the
このように本実施形態によれば、同一の接着剤塗布量と加圧条件でも、接着層90の食み出し部92の幅が明らかに小さくなることが分かる。接着剤94の塗布量と加圧条件の範囲が大きく変わっても、接着層90の食み出し部92の幅は大きくても高々1.5mm程度以内に収まっている。この結果から、本実施形態によれば、防湿体15の接着層90の外周から2〜3mmあれば、その外側にパッド29などを配するコンパクト設計が実現可能となる。
Thus, according to the present embodiment, it can be seen that the width of the protruding
一方、接着トレイ84の額縁部85を広くした比較例では、接着剤94の塗布量と加圧の条件によっては、今回の検討範囲でも10mmを超える接着剤の食み出しを生じている。接着剤94の塗布量が増えて、加圧力が大きくなる方向では、接着層の食み出し部の最大高さはそれほど変わらず、接着層の食み出し部の幅が顕著に大きくなってしまうことが分かる。したがって、接着層の幅を適正に確保して、かつ周囲のパッド部などにシール材の食み出しが達しないように抑えるためには、条件の制御が極めて難しくなる。前後左右でこのように接着層の食み出し部の幅に差異が生じると、有効画素エリアの外側に確保すべき寸法には、10mm以上も差が生じる。つまり、本実施形態のように、防湿体の鍔部50の外側に接着剤94の流動を抑制する構造をなくすことは、放射線検出器11のコンパクト設計に対して明らかに優位である。
On the other hand, in the comparative example in which the
本実施形態と比較例とで防湿構造の信頼性を調べるために、高温高湿試験および冷熱サイクル試験を行った。これらの試験は、防湿構造まで形成したパネル状態で行った。なお、高温高湿試験や冷熱サイクル試験は、筐体に組み込まれた製品としての状態で最終的には確認されるが、防湿構造まで形成したパネル状態で試験する結果と基本的には同等である。 In order to examine the reliability of the moisture-proof structure between the present embodiment and the comparative example, a high-temperature and high-humidity test and a cooling / heating cycle test were performed. These tests were performed in a panel state in which a moisture-proof structure was formed. The high-temperature and high-humidity test and the thermal cycle test are finally confirmed in the state of a product built in the housing, but are basically the same as the results of testing in a panel state where the moisture-proof structure is formed. is there.
図15は、本実施形態および比較例における高温高湿試験および冷熱サイクル試験の評価サンプルの概要を示す表である。 FIG. 15 is a table showing an outline of evaluation samples of the high-temperature and high-humidity test and the thermal cycle test in the present embodiment and the comparative example.
これらの信頼性試験用の評価サンプルは、光電変換素子やTFTからなる画素パターンを形成していない無地のダミーパネルを用いて作成した。ガラス基板と最上層の保護膜は、実基板相当であり、その他の膜とパターニングは無しとした。これは、防湿構造まで形成したパネル単独で輝度や解像度の特性を測定するのに適しているからである。また、本実施形態による接着構造部の防湿信頼性や冷熱信頼性に関しては、ダミーパネルでの試作評価は実基板と同等の評価が可能と考えられる。 These evaluation samples for reliability test were prepared using a plain dummy panel in which a pixel pattern composed of photoelectric conversion elements and TFTs was not formed. The glass substrate and the uppermost protective film are equivalent to the actual substrate, and the other films and patterning were omitted. This is because the panel formed up to the moisture-proof structure is suitable for measuring luminance and resolution characteristics. In addition, regarding the moisture-proof reliability and cooling / cooling reliability of the bonded structure portion according to the present embodiment, it is considered that trial evaluation with a dummy panel can be performed in the same manner as an actual substrate.
図16は、本実施形態および比較例における高温高湿試験結果の表である。図17は、本実施形態および比較例における高温高湿試験における解像度特性の試験結果を示すグラフである。 FIG. 16 is a table of high-temperature and high-humidity test results in the present embodiment and comparative examples. FIG. 17 is a graph showing test results of resolution characteristics in the high-temperature and high-humidity test in the present embodiment and the comparative example.
高温高湿での信頼性は、シンチレータ層と反射膜によって得られる輝度と解像度特性が、60℃−90%RH環境下の保管時間によりどのように劣化するかを追跡することにより評価した。第16図は、特に湿度に対してより敏感な解像度特性の評価結果を示している。解像度特性は、解像度チャートをサンプルの表面側に配し、RQA−5相当のX線を照射して裏面側から2Lp/mmのCTF(Contrast transfer function)を測定する方法で実施した。初期状態のCTFを100%として、60℃−90%RHの保管時間に対する維持率(%)を示している。 Reliability at high temperature and high humidity was evaluated by following how the luminance and resolution characteristics obtained by the scintillator layer and the reflective film deteriorate with storage time in a 60 ° C.-90% RH environment. FIG. 16 shows the evaluation results of resolution characteristics that are more sensitive to humidity. The resolution characteristics were implemented by a method in which a resolution chart was placed on the front surface side of the sample, and X-rays corresponding to RQA-5 were irradiated to measure 2 Lp / mm CTF (Contrast transfer function) from the back surface side. The maintenance ratio (%) with respect to the storage time of 60 ° C.-90% RH is shown with the initial CTF as 100%.
図15の表との対比で分かる様に、接着層の食み出しがあるサンプルは、食み出しの無いサンプルに比較して、高温高湿の解像度維持率が良好であることが分かる。また、狭額縁の接着トレイで作成して接着層外側のはみだし幅が小さく食み出し高さの大きいサンプルと、広額縁の接着トレイで作成して接着層外側のはみだし幅が大きく食み出し高さの小さいサンプルとで、特に差異は見られない。この特徴は、接着層90の防湿体15の鍔部50の外に食み出している部分は防湿性能には特に影響を及ぼさず、防湿体15の鍔部50とアレイ基板12との間に形成される部分で防湿性能が律せられているためと考えられる。
As can be seen from the comparison with the table of FIG. 15, it can be seen that the sample with the protrusion of the adhesive layer has a better resolution maintenance ratio at high temperature and high humidity than the sample without protrusion. Also, a sample with a narrow frame adhesive tray with a small protrusion width outside the adhesive layer and a large protrusion height, and a sample with a wide frame adhesive tray with a large protrusion width outside the adhesive layer and a large protrusion height. There is no particular difference between small samples. This feature is that the portion of the
図18は、本実施形態および比較例における冷熱信頼性試験結果の表である。図19は、本実施形態および比較例における冷熱信頼性試験での異常の発生の有無を示すグラフである。 FIG. 18 is a table of cooling reliability test results in the present embodiment and comparative examples. FIG. 19 is a graph showing presence / absence of occurrence of abnormality in the cooling reliability test in the present embodiment and the comparative example.
冷熱信頼性試験は、(−20℃×1h)→(室温×30分)→(60℃×1h)→((室温×30分)の温度条件で、サイクル数は最大100サイクルまで実施した。途中の10サイクル毎のラップで、夫々のサンプルに対して接着層の箇所の剥れや破壊などの異常が生じていないかを確認した。図18において、縦軸はこれらの異常が生じていないサンプルすなわち封止状態が維持されているサンプルの枚数である。 The thermal reliability test was carried out under the temperature condition of (−20 ° C. × 1 h) → (room temperature × 30 minutes) → (60 ° C. × 1 h) → ((room temperature × 30 minutes), and the number of cycles was up to 100 cycles. It was confirmed whether or not there was any abnormality such as peeling or destruction of the adhesive layer in each sample at the lap every 10 cycles in the middle. This is the number of samples, that is, the number of samples in which the sealed state is maintained.
図15の表との対比で分かる様に、接着層90の食み出しがあるサンプルは、食み出しの無いサンプルに比較して冷熱試験で接着層の剥れや破壊が生じ難いことが分かる。また、狭額縁の接着トレイ80で作成して接着層外側のはみだし幅が小さく食み出し高さの大きいサンプルと、広額縁の接着トレイ84で作成して接着層外側の食み出し幅が大きく食み出し高さの小さいサンプルとでは、特に差異は見られない。この特徴は、接着層90の防湿体15の鍔部50の外に食み出している部分は、冷熱温度変化に対する接着層の密着度や強度に特に影響を及ぼさず、防湿体15の鍔部50とアレイ基板12との間に形成される部分で密着度や冷熱ストレスに対する強度が律せられているためと考えられる。
As can be seen from the comparison with the table of FIG. 15, it can be seen that the sample with the protrusion of the
防湿体15の鍔部50を加圧する接着トレイの額縁部を、その側面が防湿体15の鍔部部外縁より内側になるようにした場合、接着層90の近傍は図8に示すような形状となる。接着剤が防湿体15の鍔部50から外側に十分にはみ出す条件にすると、接着層90は防湿体15の鍔部50の、アレイ基板12に対向する面の反対側の面まで回りこんでいる。
When the frame portion of the adhesive tray that pressurizes the
本実施形態の変形例による接着層が防湿体の鍔部のアレイ基板に対向する面の反対側の面まで回りこんでいるサンプルおよびこれの比較例に対して信頼性試験を行った。 A reliability test was performed on a sample in which the adhesive layer according to the modified example of the present embodiment wraps around the surface opposite to the surface facing the array substrate of the buttocks of the moistureproof body and a comparative example thereof.
図20は、本実施形態および変形例によるサンプルの接着層作成条件を示す表である。図21は、本実施形態および変形例によるサンプルの高温高湿試験の結果を示す表である。図22は、本実施形態および変形例によるサンプルの冷熱信頼性試験結果の表である。図23は、本実施形態および変形例によるサンプルの高温高湿試験における解像度特性の試験結果を示すグラフである。図24は、本実施形態および変形例によるサンプルの冷熱信頼性試験における異常の発生の有無を示すグラフである。図24において、縦軸は異常が生じていないサンプルすなわち封止状態が維持されているサンプルの枚数である。 FIG. 20 is a table showing the adhesive layer creation conditions of the sample according to the present embodiment and the modification. FIG. 21 is a table showing the results of the high-temperature and high-humidity test of samples according to this embodiment and the modification. FIG. 22 is a table of the thermal reliability test results of the samples according to this embodiment and the modification. FIG. 23 is a graph showing the test results of the resolution characteristics in the high-temperature and high-humidity test of samples according to this embodiment and the modification. FIG. 24 is a graph showing presence / absence of occurrence of abnormality in the cooling reliability test of samples according to the present embodiment and the modification. In FIG. 24, the vertical axis represents the number of samples in which no abnormality occurs, that is, the sample in which the sealed state is maintained.
鍔部50の裏面に接着層90の回り込みを有するサンプルでは、回り込みの無いサンプルに比較して、特に冷熱サイクル試験でより高い信頼性を確保できていることが分かる。その理由としては以下が考えられる。すなわち、アレイ基板12と防湿体15との熱膨脹差により防湿体15の鍔部50と接着層90との間に、剥離方向の応力が加わる。しかし、防湿体15の鍔部50を裏面側からも接着層90によって挟み込んでいる構造は、剥離応力に抗する作用をもたらしている可能性が推定される。
It can be seen that, in the sample having the wraparound of the
接着トレイ80の額縁部81および額縁部81の側壁(縁面)部分には接着後に食み出した接着剤94が付着し、接着トレイ80から防湿体15とアレイ基板12を取り外す際の妨げとなる場合がある。そこで、接着剤94の食み出しの可能性があるこれらの箇所に、予めポリテトラフルオロエチレン(テフロン(登録商標))のテープなど接着剤の付着し難い材質で被覆しておくことが好ましい。または予め接着剤の付着し難い材質コーティング(被覆)しておくことが望ましい。
接着剤94の材質により多少の違いがあるものの、ポリテトラフルオロエチレン(テフロン(登録商標))、シリコーン樹脂、ポリプロピレン樹脂など、室温(20〜25℃)での表面エネルギーが概ね30mN/m以下の材質であれば、接着剤94の食み出しが接着トレイ80に強固に固着することを防ぎ、アレイ基板12および防湿体15を接着トレイ84から取り外すのに特段の問題を生じないことが実験によって確かめられた。また、テープを貼る方法以外にも、テフロン(登録商標)やシリコーン樹脂を接着トレイ84の当該箇所に予めコーティングすることも有効である。また、低表面エネルギーの油脂類などを接着トレイ84の当該箇所に予め塗っておいて、食み出した接着剤94の接着トレイ80への付着を抑制することもできる。
Although there are some differences depending on the material of the adhesive 94, the surface energy at room temperature (20 to 25 ° C.), such as polytetrafluoroethylene (Teflon (registered trademark)), silicone resin, polypropylene resin, etc. is generally 30 mN / m or less. If it is made of a material, it is experimentally confirmed that the sticking out of the adhesive 94 is prevented from being firmly fixed to the
防湿体15とアレイ基板12との貼り合せを、減圧雰囲気下で行うこともできる。減圧状態で貼り合せた場合には、防湿体15はアレイ基板12上の膜面、本実施形態ではシンチレータ層13上の反射膜14上に密着する。その結果、振動や衝撃があっても防湿体15は膜面上で動くことなく、マイクロフォニックによる画像揺れなどの異常を生じ難くなる。また、防湿体15の膜面への密着状態を観察することにより、防湿体内部の減圧状態を確認することができ、防湿体15のピンホールや接着層90の欠陥などのリーク部が無いかを判断することもできる。万が一リークを生じていた場合に、顧客への流出を避けることが可能となる。
The moisture-
防湿体15とアレイ基板12との貼り合せを減圧雰囲気下で行う場合には、接着後に周辺を大気圧に戻す際に、接着層90の外側圧力(大気圧)と内側圧力との差異により、接着層90が防湿体15の内側に引き込まれる力を受ける。この現象によるリークなどの不具合を避けるために、大気圧に戻す前の減圧状態で、外圧に耐え得るような接着層90の硬度、厚み、接着幅、アレイ基板12と防湿体15との密着力を確保しておく必要がある。
When bonding the moisture-
カチオン重合紫外線硬化型の接着剤を用いる場合、たとえば次のように作成することができる。防湿体15の鍔部50の幅を2.5mm、接着剤94の塗布量を0.8mg/mmとする。接着剤塗布後に365nmの紫外線を80mJ/cm2照射する。
When a cationic polymerization ultraviolet curable adhesive is used, for example, it can be prepared as follows. The width | variety of the
その後、防湿体15を載置した接着トレイ80と、シンチレータ膜13や反射膜14を付けたアレイ基板12とを真空チャンバー内に載置して、チャンバー内を0.1気圧に減圧した状態で防湿体15とアレイ基板12とを貼り合せる。その後、チャンバー内を大気圧に戻し、アレイ基板12の裏面から紫外線を更に6J/cm2程度照射し、接着剤94の硬度を高めた。さらに、60℃で3時間の加熱処理により、接着層90の硬化を完了した。
Thereafter, the
アレイ基板12に防湿体15の鍔部50を貼り合せる箇所には、画素エリアと、外部電気回路とのパッド29とを結ぶリード配線62が通っている。このため、アレイ基板12の裏面から紫外線を照射する場合にはそのリード配線62の部分は接着剤に紫外線が照射されない。すなわち硬化が行われないことになってしまう。
A
そこで、カチオン重合型の紫外線硬化接着剤を用いるとよい。カチオン重合型の紫外線接着剤は、紫外線照射部で生じる硬化反応が、紫外線照射後も継続し、また紫外線被照射部の周辺部にも伝播する特性を有する。この特徴により、たとえば50μmないし100μm程度のリード配線62の影になった部分の接着剤94も、周辺の配線間の紫外線が照射された箇所の硬化反応が伝播し、更に加熱硬化時のこの硬化反応の伝播が促進されて、一定の硬度を獲得することが可能となる。この効果のために、紫外線硬化型接着剤の特長である粘度の安定性、長時間のポットライフ、取扱いの容易性などを生かしつつ、かつアレイ基板12の裏面から紫外線照射により金属配線62を有する領域へ接着層90を形成することができる。
Therefore, a cationic polymerization type ultraviolet curing adhesive may be used. The cationic polymerization type ultraviolet adhesive has a characteristic that the curing reaction generated in the ultraviolet irradiation part continues after the ultraviolet irradiation and also propagates to the peripheral part of the ultraviolet irradiation part. Due to this feature, for example, a portion of the adhesive 94 in the shadow of the
防湿体15の材質を0.1mmtのアルミニウム箔としてきたが、材質はアルミニウムに限らず、アルミニウム合金や、樹脂と無機膜(Alなどの軽金属やSiO2、SiON、Al2O3などのセラミック系材質)の積層構造による低透湿防湿材なども使用できる。また厚みに関してもX線を不要に大きく吸収する様な極端な厚さでなく、またその剛性故に基板との接着後に不具合を生じることがなければその範囲は特に限定されるものではない。
Although the material of the
また、図9において、接着トレイ80の額縁部81の側面(縁面)は加圧面に対して垂直としているが、側面(縁面)が曲面であったり、面取りされていたりしていてもよい。これらの側面形状に従って接着層90の食み出し部92の立ち上がり形状は異なるが、接着剤94はいずれもアレイ基板12の表面から上方に凸形状となるように流動し、アレイ基板12の外側への広がりは抑制される。
In FIG. 9, the side surface (edge surface) of the
このように本実施形態によれば、アレイ基板12と防湿体15の鍔部50とを接着する接着層90は、防湿体15の鍔部50とアレイ基板12の表面との間の対向接着部91に加え、鍔部50より外側のアレイ基板12表面上にも食み出して形成されている。また、接着層90の鍔部50より外側に食み出して形成される食み出し部92は、上側に凸形状で、その最大高さが鍔部50の上面の高さを超えている。このような放射線検出器11は、シンチレータ層13を包含する防湿体15の鍔部50とアレイ基板12との間に接着剤94を挟んで加圧して接着層90を形成する際に、防湿体15の鍔部50の、アレイ基板12に対向する面の裏面側に、額縁状の加圧面を有する接着トレイ80を配し、かつ、接着トレイ80の加圧面の外側側面(縁面)が、防湿体15の鍔部50の外縁の延長上か又はそれに近い位置にある。
As described above, according to the present embodiment, the
このような放射線検出器およびその製造方法によれば、接着剤94の量や貼り合せ時の加圧力などを調整して、ハット状防湿体の外側部分にまで確実に十分なシール材の食み出しを形成し、しかも、接着時に防湿体15の鍔部50を加圧する接着トレイ80を特定の形状にする事により接着層90の外側方向への広がりを最小限に抑えることができる。その結果、防湿体15の鍔部50とアレイ基板12とが最大面積で密着して、高い防湿性能と、冷熱環境変化や高温高湿環境下での高い信頼性を確実に有することができる。また、防湿体15の周辺に配置されるパッド29などへの接着剤の広がりによって不具合が生じる可能性が低減される。つまり、防湿構造に関して高い信頼性を有し、かつコンパクト設計をも両立した放射線検出器を提供することができる。
According to such a radiation detector and the manufacturing method thereof, the amount of the adhesive 94 and the pressure applied at the time of bonding are adjusted, so that sufficient encroachment of the sealing material is ensured up to the outer portion of the hat-shaped moisture-proof body. In addition, the
本発明の一実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 Although one embodiment of the present invention has been described, this embodiment is presented as an example and is not intended to limit the scope of the invention. The novel embodiment can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.
10…放射線検出装置、11…放射線検出器、12…アレイ基板、13…シンチレータ層、14…反射膜、15…防湿体、16…ガラス基板、18…制御ライン、19…データライン、20…画素、21…フォトダイオード、22…薄膜トランジスタ、23…ゲート電極、24…ソース電極、25…ドレイン電極、26…端子群、27…蓄積キャパシタ、28…保護膜、29…パッド、30…回路基板、31…支持板、32…フレキシブル基板、33…積分アンプ、34…A/D変換器、35…行選択回路、36…画像合成回路、38…並列/直列変換器、39…ゲートドライバー、50…鍔部、51…天板部、52…斜面部、62…リード配線、80…接着トレイ、81…額縁部、82…窪み部、84…接着トレイ、85…額縁部、86…窪み部、90…接着層、91…対向接着部、92…食み出し部、93…回り込み部、94…接着剤
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記アレイ基板の前記光電変換素子が配列された領域を覆い放射線を蛍光に変換するシンチレータ層を形成するシンチレータ層形成工程と、
前記アレイ基板の前記シンチレータ層を囲む部分に対向する鍔部を備えた防湿体を形成する防湿体形成工程と、
接着剤が前記鍔部と前記アレイ基板との間の対向接着部およびその対向接着部の前記鍔部の外縁から外側にはみ出す領域で底面が前記アレイ基板に密着し前記鍔部よりも高く突出する食み出し部を形成するように、前記鍔部の前記対向接着部の反対側の面に対向する加圧面が形成された額縁部を持つ加圧治具で前記鍔部を加圧して前記防湿体と前記アレイ基板とを接着させる接着工程と、
を具備することを特徴とする放射線検出器の製造方法。 An array substrate forming step of forming an array substrate in which photoelectric conversion elements are two-dimensionally arranged on the substrate;
A scintillator layer forming step of forming a scintillator layer that covers the region where the photoelectric conversion elements of the array substrate are arranged and converts radiation into fluorescence;
A moisture-proof body forming step of forming a moisture-proof body having a collar portion facing a portion surrounding the scintillator layer of the array substrate;
Adhesive facing bonding portion and the outer edge of the flange portion of the opposing adhesive portions bottom in the area protruding outwardly in close contact with the array substrate protrudes higher than the collar portion between the array substrate and the flange portion The moisture-proof portion is pressurized by pressing the collar portion with a pressure jig having a frame portion formed with a pressure surface facing the opposite surface of the opposite adhesive portion of the collar portion so as to form a protruding portion. A bonding step of bonding the body and the array substrate;
The manufacturing method of the radiation detector characterized by comprising.
前記アレイ基板の前記光電変換素子が配列された領域を覆い放射線を蛍光に変換するシンチレータ層と、
前記シンチレータ層を覆う成形体であって前記アレイ基板の前記シンチレータ層を囲む部分に対向する鍔部を備えた防湿体と、
前記鍔部と前記アレイ基板との間の対向接着部およびその対向接着部の前記鍔部の外縁から外側にはみ出す領域で底面が前記アレイ基板に密着し前記鍔部よりも高く突出する食み出し部を有して前記防湿体と前記アレイ基板とを接着させる接着層と、
を具備することを特徴とする放射線検出器。 An array substrate in which photoelectric conversion elements are two-dimensionally arranged on the substrate;
A scintillator layer for covering the region where the photoelectric conversion elements of the array substrate are arranged and converting radiation into fluorescence;
A moisture-proof body provided with a flange facing the portion surrounding the scintillator layer of the array substrate, the molded body covering the scintillator layer;
Protruding protrudes higher than the counter adhesion portion and the outer edge of the flange portion of the opposing adhesive portions bottom in the area protruding outwardly in close contact with the array substrate the collar portion between the array substrate and the flange portion An adhesive layer for adhering the moistureproof body and the array substrate having a portion;
A radiation detector comprising:
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