JP6109107B2 - 太陽電池およびその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明にかかる太陽電池の実施の形態1を模式的に示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A断面図である。図2(a)〜(e)は、同太陽電池の製造工程図、図3はこの太陽電池の製造工程を示すフローチャートである。本実施の形態では結晶系太陽電池の一例であるヘテロ接合型太陽電池(以下、太陽電池と呼ぶ場合がある)およびその製造方法について説明する。
実施の形態1の方法においては、非晶質シリコンn層5のみを選択的に除去することから、プロセス条件が厳しくなるという問題があり、場合によっては非晶質シリコンn層5が残留して光透過率が悪化するおそれがあった。本実施の形態は、この課題を解決すべくなされたものである。
本実施の形態では、H2プラズマ処理工程を用いずに変換効率の高い太陽電池を形成するものである。図6は、本発明にかかる太陽電池の実施の形態3を模式的に示す図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A断面図である。図7(a)〜(d)は、同太陽電池の製造工程図、図8はこの太陽電池の製造工程を示すフローチャートである。本実施の形態の太陽電池ではリンを多く含み結晶核の生成を促す層である高ドープ微結晶シリコンn層(第1のn型微結晶シリコン層)221と、低ドープ微結晶シリコンn層(第2のn型微結晶シリコン層)222とで構成される。この高ドープ微結晶シリコンn層221は実施の形態1,2のリン過剰領域4に相当し、低ドープ微結晶シリコンn層222は微結晶シリコンn層22に相当する。他は図1(a)および(b)に示した実施の形態1の太陽電池と同様である。ここでは説明を省略するが、同一部位には同一符号を付した。
本実施例は、実施の形態1の太陽電池およびその製造方法を実現するサンプルとした。ここではp型単結晶シリコン基板に代えて、ガラス基板を用いた。ガラス基板上に非晶質シリコンi層211および微結晶シリコンi層212を各3nmずつの膜厚となるように堆積した。その後、非晶質シリコンn層5を1nmの膜厚となるように堆積した後、H2プラズマ処理によってこれを除去した。最後に微結晶シリコンn層22を14nmの膜厚となるように堆積し、合計20nmの厚みの膜構造を形成し、実施例1のサンプルを作成した。なお各層の成膜条件については図9の条件に準じた。
本実施例は、実施の形態2の太陽電池およびその製造方法を実現するサンプルとした。まず実施例1と同様にガラス基板上に非晶質シリコンi層211および微結晶シリコンi層212を各3nmずつの膜厚となるように堆積した。その後、実施の形態2で説明したようにPH3ガスを0.1%含んだH2ガス雰囲気中でプラズマ処理を実施、最後に微結晶シリコンn層22を14nmの膜厚となるように堆積して実施例2のサンプルを作成した。
ここでは実施例1に対してリン過剰領域4を形成しない構造を作成した。まずガラス基板上に非晶質シリコンi層211および微結晶シリコンi層212を各3nmの膜厚となるように堆積した後、そのまま微結晶シリコンn層22を14nmの膜厚となるように堆積して、比較例1のサンプルを作成した。
ここでは実施例1に対して非晶質シリコンn層5を削らない構造とした。本比較例ではガラス基板上に非晶質シリコンi層211および微結晶シリコンi層212を各3nmの膜厚となるように、その後非晶質シリコンn層5を1nmの膜厚となるように形成したのち、そのまま最後に微結晶シリコンn層22を14nmの膜厚となるように堆積して、比較例2のサンプルを作成した。
Claims (8)
- 第1主面とこれに対向する第2主面とを有する結晶系シリコン基板と、
前記第1主面に、順次積層された実質的に真性の非晶質シリコン系薄膜および真性の微結晶シリコン系薄膜とを介して形成され、不純物元素としてリンを含有するn型微結晶シリコン系薄膜と、
前記n型微結晶シリコン系薄膜上に順次積層された第1の透光性導電膜および、前記第1の透光性導電膜上に形成された第1の集電電極と、
前記第2主面に、順次積層された第2の透光性導電膜および、前記第2の透光性導電膜上に形成された第2の集電電極とを有し、
前記n型微結晶シリコン系薄膜に含有されるリン原子濃度が、前記真性の微結晶シリコン系薄膜と、前記n型微結晶シリコン系薄膜との界面で最大である太陽電池。 - 前記結晶系シリコン基板の前記第2主面の前記第2の透光性導電膜はp型シリコン系薄膜上に形成された請求項1に記載の太陽電池。
- 前記真性の微結晶シリコン系薄膜と、前記n型微結晶シリコン系薄膜との間に、
高濃度のリン含有領域を備えた請求項2に記載の太陽電池。 - 前記n型微結晶シリコン系薄膜は、前記真性の微結晶シリコン系薄膜側でリン原子濃度が高く、前記第1の透光性導電膜側で低い請求項2に記載の太陽電池。
- 結晶系シリコン基板の第1主面に、
実質的に真性の非晶質シリコン系薄膜および真性の微結晶シリコン系薄膜とを順次積層し、真性薄膜を形成する工程と、
不純物元素としてリンを含有するn型微結晶シリコン系薄膜を形成する工程と、
前記n型微結晶シリコン系薄膜上に第1の透光性導電膜を形成する工程と、
前記第1の透光性導電膜上に第1の集電電極を形成する工程と、
前記結晶系シリコン基板の第2主面に、第2の透光性導電膜を形成する工程と、
前記第2の透光性導電膜上に第2の集電電極を形成する工程と、を備え、
前記n型微結晶シリコン系薄膜に含有されるリン原子濃度が、前記真性の微結晶シリコン系薄膜と、前記n型微結晶シリコン系薄膜との界面で最大である太陽電池の製造方法。 - 前記n型微結晶シリコン系薄膜を形成する工程が、
前記真性の微結晶シリコン系薄膜上にn型非晶質シリコン系薄膜を形成する工程と、
前記n型非晶質シリコン系薄膜を、プラズマエッチングすることにより、前記真性の微結晶シリコン系薄膜の表層にリンをドープする工程とを含む請求項5に記載の太陽電池の製造方法。 - 前記n型微結晶シリコン系薄膜を形成する工程が、
前記真性の微結晶シリコン系薄膜上にPH3とH2あるいは不活性ガスの混合ガスを用いたプラズマ処理を行うことにより、前記真性の微結晶シリコン系薄膜の表層にリンを導入する工程を含む請求項5に記載の太陽電池の製造方法。 - 前記n型微結晶シリコン系薄膜を形成する工程が、
リンを不純物として含有する、第1のn型微結晶シリコン系薄膜を形成する工程と、
前記第1のn型微結晶シリコン系薄膜よりも不純物濃度の低い、第2のn型微結晶シリコン系薄膜を形成する工程とを含む請求項5に記載の太陽電池の製造方法。
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