JP6076995B2 - 圧迫足用ガーメントおよび踵痛を低減するための治療方法 - Google Patents

Description

本開示は、広範かつ一般的に、足用サポート、例えば、足底筋膜の靱帯損傷から生じる浮腫（腫れ）、アーチの低下および踵痛に関連する症状に対処する一般的な医療目的に使用されるものに関する。

足底筋膜は、足底のアーチを支える厚い結合組織である。足底筋膜は、踵骨（踵の骨）粗面から前方に中足骨頭−各爪先間の骨および中足部の骨まで広がっている。しばしば痛みを伴う症状の足底筋膜炎は、足底筋膜の炎症症状である。これは、損傷や肉体的なストレスから、または時に明確な理由なく起こり得る。この炎症の最も一般的な位置は、この靱帯が踵の骨を接続する部位である。

本発明の様々な例示的実施形態を以下に記載する。「例示的な」という用語の使用は、例証的な、または例としてのみ、という意味であり、本明細書における「本発明」についてのいかなる言及も、本明細書に開示される例示的実施形態のいずれか１つ以上の正確な特徴または工程に本発明を制限または限定することを意図するものではない。「例示的実施形態」、「１つの実施形態」、「実施形態」、「様々な実施形態」などに対する言及は、そのように記載される本発明の１つまたは複数の実施形態が、特定の特徴、構造または特性を含み得るが、必ずしも全ての実施形態が当該特定の特徴、構造または特性を含むわけではないことを示し得る。更に、繰り返し使用される「一実施形態において」や「例示的実施形態において」という句は、同一の実施形態を指す場合もあるが、必ずしも同一の実施形態を指すわけではない。

また、「好ましくは」、「一般的には」および「典型的には」などの用語が、請求項に記載の本発明の範囲を限定するまたは幾つかの特徴が請求項に記載の本発明の構造または機能にとって重大である、必須である、あるいは重要であることを暗示するべく本明細書中で利用されないことにも留意すべきである。むしろ、これらの用語は、本発明の特定実施形態において利用され得る、またはされ得ない代替的または付加的な特徴を強調することを意図するにすぎない。

１つの例示的実施形態によれば、本開示は、本体糸（ｂｏｄｙ ｙａｒｎ）（例えば、周方向のコースおよび軸方向のウェール）で一体的に編まれ、かつ、使用者の足に着用させるように適合された圧迫足用ガーメントまたは「スリーブ」を含む。使用者の足は、踵骨と、中足部と、中足指節関節と、中足部の下の踵骨と中足指節関節との間に延在する足底筋膜とを含む。以下に記載される特定の機能的表現の先行する根拠（ａｎｔｅｃｅｄｅｎｔ ｂａｓｉｓ）とすべく、足および足の解剖学的構造の一部分が本明細書中に列挙されている。他の実施形態における足用ガーメントの一部は、足および脚の他の部分の周囲に延在するまたはそれらの部分を覆うことがあるため、この列挙は、例示的な足用ガーメントの適用をこれら足の一部分のみに限定することを意図するものではない。

例示的な足用ガーメントは、第１および第２周方向高圧迫ゾーンと、両高圧迫ゾーンの間にある圧迫解放ゾーンとを包含する。第１高圧迫ゾーンは、足の足底筋膜の下の踵骨と中足指節関節との間、かつ、概ね中足部の周囲に、実質的に周方向の圧迫を加えるように適合されている。第２高圧迫ゾーンは、足の踵骨の上、かつ、概ね使用者の踝の周囲に、実質的に周方向の圧迫を加えるように適合されている。第１および第２高圧迫ゾーンは、本体糸と一体化された（例えば、敷設された（ｌａｉｄ−ｉｎ）または編まれた）弾性糸を含んでいてもよい。圧迫解放ゾーンは、足の第１および第２高圧迫ゾーンの間の区域に、低減された圧迫を加えるように適合されている。１つの例示的実施形態において、第１および第２高圧迫ゾーンは、圧迫解放ゾーンの両側において、圧迫解放ゾーンと直接隣接して存在する。この文脈において、「直接隣接する」という用語は、ある生地区域（または「ゾーン」）の全体もしくは一部が、生地、部品または他の構造を介在させることなく、別の生地区域（または「ゾーン」）の脇に配置もしくは形成される、または、それに取り囲まれていることを意味する。

「足用ガーメント」という用語は、本明細書中では広範に、少なくとも着用者の足の一部分を覆うように設計された靴下または他の生地構造を指す。足用ガーメントは、（例えば、従来の丸編み機を用いて）全体的にまたは部分的に編まれていてもよく、ランニング、サイクリング、ハイキング、ゴルフ、ハンティングおよび他の一般的な運動および普段着を含む様々な用途のために特定的に設計されてもよい。本足用ガーメントは、開放爪先スリーブ、足ラップ、足ソックス、チューブソックス、カーフハイソックス、ミッドカーフまたはオーバー・ザ・カーフソックス、クルーソックス、ストッキング、ストレッチまたはサポート靴下などを含んでいて（またはそれと一体成形して）もよい。

他の例示的実施形態によれば、第１高圧迫ゾーンは、ガーメントの爪先端部に向かって軸方向に増大するコースからコースへと（ｃｏｕｒｓｅ−ｔｏ−ｃｏｕｒｓｅ）段階的に変化する圧迫を使用者の足に加えるように適合された弾性糸を含む。「軸方向（ａｘｉａｌ）」または「軸方向（ａｘｉａｌ ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）」という用語は、本明細書中では、ガーメントの円周部分（例えば、コース）を貫通する概ね直線状の抽象的な軸に沿って延在することを意味する。例えば、例示的な足用ガーメントの各圧迫ゾーンは、軸方向に分割されるか、または概ね垂直な長さに沿って（例えば、踵から踝または下腿に向かって上方に）および／または概ね水平な長さに沿って（例えば、踵から爪先へ向かって）分割されてもよい。

別の例示的実施形態によれば、第２高圧迫ゾーンは、ガーメントの脚端部に向かって軸方向に増大するコースからコースへと段階的に変化する圧迫を使用者の足に加えるように適合された弾性糸を含む。

別の例示的実施形態によれば、第１および第２高圧迫ゾーンは、実質的に等しい圧迫を使用者の足に加える。換言すると、いずれのゾーンも実質的に他よりも高いまたは低い圧迫を足に加えない。本文脈における「実質的に等しい」という用語は、本明細書中では、＋／−１０パーセント以内を意味するものと定義される。

別の例示的実施形態によれば、第１および第２高圧迫ゾーンの各々は、使用者の足に２．７ｋＰａよりも大きい圧迫を加え、かつ、圧迫解放ゾーンが、使用者の足に２．０ｋＰａ未満の圧迫を加える。

別の例示的実施形態によれば、第１および第２高圧迫ゾーンは、実質的に等しい数の丸編みコースを含む。本文脈における「実質的に等しい」という用語は、＋／−１０パーセント以内を意味する。

別の例示的実施形態によれば、圧迫解放ゾーンは、第１および第２高圧迫ゾーンの間に形成された低圧迫踵ポケットを含む。

別の例示的実施形態によれば、圧迫解放ゾーンは、着用者の踝関節に近接する足の頂部にわたって延在するように適合されている。この解放ゾーンの区域は、実質的に楕円形であってもよく、弾性糸を全く有していなくてもよい。１つの例示的実施形態において、この解放ゾーンの楕円形区域は、およそ５０．８〜７６．２ｍｍ長かつおよそ１２．７〜２５．４ｍｍ幅である。

別の例示的実施形態によれば、中圧迫ゾーンは、第１高圧迫ゾーンに隣接して形成され、ガーメントの爪先端部に向かって軸方向に延在する。この中圧迫ゾーンは、足の第１高圧迫ゾーンおよびガーメントの爪先端部の間に、低減された周方向の圧迫を加えるように適合されている。この例示的実施形態において、中圧迫ゾーンは、第１高圧迫ゾーンに直接隣接して形成されてもよい。本文脈における「直接隣接して」という用語は、ある生地区域（または「ゾーン」）の全体もしくは一部が、生地、部品または他の構造を介在させることなく、別の生地区域（または「ゾーン」）の脇に配置もしくは形成される、または、それに取り囲まれていることを意味する。

別の例示的実施形態によれば、中圧迫ゾーンは、本体糸と一体化されかつガーメントの爪先端部に向かって軸方向に増大するコースからコースへと段階的に変化する圧迫を使用者の足に加えるように適合された弾性糸を含む。段階的に変化する圧迫は、効果的な長さの弾性糸を敷設する（ｌａｙｉｎｇ−ｉｎ）ことによって達成され得る。

別の例示的実施形態によれば、中圧迫ゾーンは、第１および第２高圧迫ゾーンによって加えられる圧迫と比較して、１０％〜５０％低い圧迫を足に加える。

別の例示的実施形態によれば、第１および第２高圧迫ゾーンの各々ならびに中圧迫ゾーンは、実質的に等しい数の丸編みコースを含む。本文脈において、「実質的に等しい」という用語は、互いの＋／−１０パーセント以内を意味する。

別の例示的実施形態によれば、軽圧迫ゾーンは、ガーメントの爪先端部において、中圧迫ゾーンに隣接して存在する。この例示的実施形態において、この軽圧迫ゾーンは、中圧迫ゾーンに直接隣接して形成されてもよい。本文脈における「直接隣接して」という用語は、ある生地区域（または「ゾーン」）の全体もしくは一部が、生地、部品または他の構造を介在させることなく、別の生地区域（または「ゾーン」）の脇に配置もしくは形成される、または、それに取り囲まれていることを意味する。

別の例示的実施形態によれば、この軽圧迫ゾーンは、平編み爪先ウェルト（または爪先クロージャー）を含む。

別の例示的実施形態によれば、軽圧迫ゾーンは、ガーメントの脚端部において、第２高圧迫ゾーンに隣接して存在する。この例示的実施形態において、この軽圧迫ゾーンは、第２高圧迫ゾーンに直接隣接して形成されてもよい。本文脈における「直接隣接して」という用語は、ある生地区域（または「ゾーン」）の全体もしくは一部が、生地、部品または他の構造を介在させることなく、別の生地区域（または「ゾーン」）の脇に配置もしくは形成される、または、それに取り囲まれていることを意味する。

別の例示的実施形態によれば、ガーメントの脚端部の軽圧迫ゾーンは、折返し踝ウェルトを含む。

更に別の例示的実施形態において、本開示は、踵痛を低減するための治療方法を含む。本方法は、使用者の足に圧迫足用ガーメントを適用することを包含する。上述のように、足は、踵骨と、中足部と、中足指節関節と、中足部の下の踵骨と中足指節関節との間に延在する足底筋膜とを含む。圧迫足用ガーメントは、使用者に着用されることにより、足用ガーメントの第１高圧迫ゾーンが足の踵骨と中足指節関節との間、かつ、概ね中足部の周囲に、実質的に周方向の圧迫を加え、第２高圧迫ゾーンが足の踵骨の上かつ概ね使用者の踝の周囲に、実質的に周方向の圧迫を加え、かつ、第１および第２高圧迫ゾーンの間にある圧迫解放ゾーンが、足の第１および第２圧迫ゾーンの間の区域に、低減された圧迫を加えるように足底筋膜を伸ばして支える。

「治療」という用語は、本明細書中では広範に、足の健康または足の状態の処置を意味する、またはそれに関連するように使用される。

以下の図面に関連して本発明の例示的実施形態を以下に説明する。図中、同様の番号は同様の要素を示す。

本開示の１つの例示的実施形態による圧迫足用ガーメントの斜視図であり、着用者の足に適用されたガーメントをファントム画法で示している。 例示的な圧迫足用ガーメントの上面図であり、着用者の足に適用されたガーメントをファントム画法で示している。 弛緩した状態にある、着用者から取り外された例示的な足用ガーメントの側面図である。 弛緩した状態にある、着用者から取り外された例示的な足用ガーメントの側面図である。 着用者に適用された例示的な足用ガーメントの側面図であり、足の解剖学的構造をファントム画法で示している。 足の解剖学的構造をファントム画法で示す更なる図であり、足底筋膜の靱帯には網掛けが施されている。 本図において足に適用された例示的な足用ガーメントを示している。 例示的な足用ガーメントの様々なゾーンにおける編み構造の概略図である。

以下、添付の図面を参照して本発明を更に十分に説明する。図面には本発明の１以上の実施形態が示されている。本明細書中で使用される同様の番号は、全体を通して同様の要素を指す。しかしながら、本発明は、多くの異なる形態で実施されてもよく、本明細書中に記載された実施形態に限定されるものと解釈すべきではない。むしろ、これらの実施形態は、本開示が機能的であり、実施可能であり、かつ完全であるように与えられる。したがって、開示された特定の構成は、例証的なものにすぎず、添付の請求の範囲の全領域およびその全ての等価物に対して付与されるべき本発明の範囲に関して限定を加えるものではない。更に、適合、変形、修正および同等のアレンジなどの多くの実施形態は、本明細書に記載される実施形態に暗に開示され、かつ、本発明の範囲内にある。

本明細書中において特定の用語が使用されているが、これらの用語は一般的な説明の意味で使用されているにすぎず、限定のために使用されているものではない。本明細書中において別段明確な定義がなされていない限り、このような用語は、以下に記載される特定実施形態に限定されることなく、関連産業で適用可能であるものと矛盾しない広範な通常かつ普通の意味が与えられるものと意図される。本明細書中で使用される際、冠詞「ａ」は、１以上の品目を包含する。１つだけの品目を意図する場合には、「１つの（ｏｎｅ）」、「単一の（ｓｉｎｇｌｅ）」または同様の表現を使用する。品目の列挙において本明細書中で使用される際、「または（ｏｒ）」という用語は、品目のうちの少なくとも１つを表すが、当該列挙された複数の品目を除外しない。

本発明の例示的方法またはプロセスに関し、本明細書中に記載される工程の順序および／または構成は例証的であり、限定的なものではない。したがって、様々なプロセスまたは方法の工程が一連のまたは経時的な構成であるとして示されかつ記載される場合があるが、このようなプロセスまたは方法の工程は、別段の指示がない限り、特定順序または構成で実施されることに限定されないと理解すべきである。実際、このようなプロセスまたは方法の工程は、一般に、やはり本発明の範囲内にある様々な異なる順序および構成で実施されてもよい。

更に、本発明の利点、利益、予期せぬ結果または実施可能性への言及は、本発明を以前に実施化したこと、または試験を行ったことの肯定を目的とするものではない。同様に、特段の記載がない限り、過去時制（現在完了形または過去形）の動詞の使用は、本発明を以前に実施化したこと、または試験を行ったこと示すまたは暗示することを意図するものではない。

ここで、具体的に図面を参照すると、本開示の１つの例示的実施形態による一体型圧迫足用ガーメントが図１に例証されており、概して参照番号１０で示されている。例示的な足用ガーメント１０は、全体にわたって、マイクロナイロン、放湿（ｍｏｉｓｔｕｒｅ ｗｉｃｋｉｎｇ）繊維および／または他の天然もしくは合成繊維または繊維ブレンドを含む閉ループジャージーニット本体糸から形成され得る。スパンデックスまたは他のエラストマーなどの弾性糸が、足用ガーメント１０の所定区域において本体糸に敷設され、複数の別個の所定圧迫ゾーンを形成する。１つの例示的構成は、およそ７６％の１４０デニールマイクロナイロンと２４％の２８０デニールＬＹＣＲＡ（登録商標）スパンデックスとを含む。以下に更に記載されるように、圧迫ゾーンは、着用者の足底筋膜「ＰＦ」（図６）を持ち上げて（または伸ばして）支えることにより、これら足の靱帯に対する炎症または損傷（足底筋膜炎と呼ばれる病気）から生じる踵痛（ｈｅａｌ ｐａｉｎ）を低減するためのものである。例示的実施形態において、本足用ガーメント１０は、周方向のコースおよび軸方向のウェールで延びるニードルループおよびシンカーループを形成する複数の糸を一体化させる靴下丸編み機上で構成され得る。

本足用ガーメント１０を製造することができる丸編み機の１つの商業的な例は、ドイツ・ヘッヒンゲン（Ｈｅｃｈｉｎｇｅｎ）にあるＭｅｒｚ Ｍａｓｃｈｉｎｅｎｆａｂｒｉｋ ＧｍｂＨ製の「ＣＣ４−ＭＥＤ」機であり得る。ＣＣ４−ＭＥＤは、圧迫クラスＩ〜ＩＩＩで様々な圧迫ガーメントを製造するための踵の往復編み用器具（ａｐｐｌｉａｎｃｅ ｒｅｃｉｐｒｏｃａｔｅｄ ｈｅｅｌ）を備えた４フィード高効率シングルシリンダー丸編み機を含む。Ｍｅｒｚにより示されるように、踵の往復編み用器具により、踵および所望により爪先の往復編みが可能になる。積極的な供給業者であるＭｅｒｚにより、インレイ糸を供給して、各メッシュコースにおける給糸張力が制御された状態で所望の圧迫を生じさせることが可能になる。一体化ダブルウェルト器具は、ダブルウェルト、弾性ウェルトおよびダブル爪先編みを可能にする。あるいは、例示的な足用ガーメント１０は、他の既知の技術に従って、例えば、事前に設計されたパターンから伸縮性生地を裁断して縫うことによって、フラットロック縫いで、作製することができる。

図１〜４を参照すると、例示的な足用ガーメント１０は、ガーメント１０のそれぞれの開放脚および爪先端部に踵および爪先ウェルト２１、２２（または生地クロージャー）と、一体的に編まれた踝および足部分２４および２５とを含み、これら踝および足部分２４および２５は軸方向に隣接した周方向領域に分割されている。これら周方向領域は、上部踝領域３１、下部踝領域３２、踵および上部甲領域３３、後部足裏および中部甲領域３４、前部足裏および下部甲領域３５、ならびに開放爪先領域３６として設計されてもよい。例示的ガーメント領域は、一般に、足底筋膜「ＰＦ」を効果的に支え、持ち上げかつ緩やかに伸ばしつつ、ガーメント１０を密着して快適に着用者に適合させるように設計された指定の圧迫の各治療ゾーン４１、４２、４３、４４、４５および４６を画定する。図中、ゾーン同士を簡単に区別するために、ゾーン４１〜４６には独自に網目状の陰影をつけてある。

図５に最もよく示されているように、例示的な足用ガーメント１０の周方向ゾーン４１〜４６は、足の様々な部分に所定の圧迫度を加えるように配置されている。一実施形態において、足用ガーメント１０のゾーン４２および４４は、各高圧迫ゾーンを含む。第１高圧迫ゾーン４４は、足の踵骨と中足指節関節との間、かつ、概ね中足部の周囲に、実質的に周方向の圧迫を加えるように機能する。第２高圧迫ゾーン４２は、足の踵骨（アキレス腱に近接）の上、かつ、概ね着用者の下部踝の周囲に、実質的に周方向の圧迫を加える。特に、これらのゾーン４２、４４は、図６および７に実証されるように、協働して足を支えて持ち上げることにより、足底筋膜「ＰＦ」の靱帯を緩やかに伸ばす。

ゾーン４３は、高圧迫ゾーン４２および４４の間にそれらと直接隣接する圧迫解放ゾーンを含み、足の踵および上部甲領域３３に、低減された圧迫を加える働きをする。上部甲領域３３Ａにおける解放ゾーン４３の区域は、実質的に楕円形状であってもよく、弛緩時の直径は、およそ５０．８〜７６．２ｍｍ長かつおよそ１２．７〜２５．４ｍｍ幅である。例示されるゾーン４５は、高圧迫ゾーン４４に直接隣接し、かつ、ガーメント１０の爪先端部に向かって軸方向に延在する中圧迫ゾーンを含む。このゾーン４５は、足の中足骨周囲の区域を覆うように設計されている。ゾーン４１および４６は、ガーメント１０の踝ウェルト２１および爪先ウェルト２２に第１および第２軽圧迫ゾーンをそれぞれ含む。第１軽圧迫ゾーン４１は、高圧迫ゾーン４２に直接隣接して配置され、着用者の上部踝に存在して踝ウェルト２１を形成する。踝ウェルト２１は、折返し縫いされて二層生地クロージャーを形成し、かつ、踝周囲の圧力および厚さを低減するために内側層には弾性繊維を有していなくてもよい。第２軽圧迫ゾーン４６は、中圧迫ゾーン４５に直接隣接して配置され、かつ、着用者の中足指節関節に近接して存在し、爪先ウェルト２２を形成するように設計されている。爪先ウェルト２２は、単層の平編み構造を含んでもよい。

図８を参照すると、足用ガーメント１０の様々な周方向ゾーン４１〜４６における目的の圧迫は、軸方向に分割された異なるガーメント領域３１〜３６において本体糸「Ｙ」と効果的な長さの弾性糸「Ｅ」を敷設する（または一体化する）ことによって段階的に変化してもよい。１つの例示的実施形態において、第１軽圧迫ゾーン４１（「ゾーン６」と表示される）における編み構造は、本体糸「Ｙ」に敷設され、かつ、ガーメント１０の開放脚端部に向かってコースからコースへの軸方向またはウェール（ｗａｌｅ−ｗｉｓｅ）方向に長くなる弾性糸「Ｅ」を含む。これは、矢印５１で示す方向に上部踝領域３１での圧迫を低減させる。ゾーン４１は、２０〜３０コースの本体糸「Ｙ」を含んでいてもよい。ガーメント１０のゾーン４１における圧迫は、１．３〜２．０ｋＰａの範囲内であってもよい。高圧迫ゾーン４２（「ゾーン５」と表示される）は、本体糸「Ｙ」に敷設され、かつ、軽圧迫ゾーン４１から圧迫解放ゾーン４３（「ゾーン４」と表示される）へ向かってコースからコースへの軸方向に長さが増す弾性糸「Ｅ」を含み、それにより、上部踝領域３１からガーメント１０の下部踝領域３２を通って矢印５２で示されるように徐々に圧迫が増大される。ゾーン４２は、４０〜６０コースの本体糸「Ｙ」を含んでいてもよい。このゾーン４２内で段階的に変化する圧迫は、２．７〜４．０ｋＰａの範囲内であってもよい。

圧迫解放ゾーン４３は、ガーメント１０の解剖学的な曲がり部を含み、足の踵および上部甲に密着して適合するように成形されている。領域３３におけるガーメントの踵部３３Ｂは、往復編み（片側編み）により作成された深成形（ｄｅｅｐ−ｆｏｒｍｅｄ）ポケットを有する。上部甲３３Ａは、より薄い生地の楕円形状区域を有し、これもまた、足および踝の曲がり部におけるバンチングおよび厚さを最小にすべく弾性糸を有していなくてもよい。解放ゾーン４３（「ゾーン４」）における圧迫は、２．０ｋＰａ未満であってもよい。

高圧迫ゾーン４４（「ゾーン３」と表示される）は、本体糸「Ｙ」に敷設され、かつ、圧迫解放ゾーン４３から中圧迫ゾーン４５（「ゾーン２」と表示される）へ向かってコースからコースへの軸方向に実質的に等しい長さを有する弾性糸「Ｅ」を含む。後部足底および中部甲領域３４における足の大きさは相対的であるため、圧迫は、この領域全体において矢印５３で示されるように徐々に増大される。ゾーン４４は、４０〜６０コースの本体糸「Ｙ」を含んでいてもよい。高圧迫ゾーン４４内で段階的に変化する圧迫は、２．７〜４．０ｋＰａの範囲内であってもよい。ゾーン４２および４４における圧迫は、静脈系の機能を向上させ、組織を安定化し、かつ、踵骨のすぐ前方またはそれに隣接する足底筋膜靱帯を持ち上げるのに十分であり得る。

中圧迫ゾーン４５（「ゾーン２」）は、本体糸「Ｙ」に敷設され、かつ、高圧迫ゾーン４４から軽圧迫ゾーン４６（「ゾーン１」と表示される）へ向かってコースからコースへの軸方向に短くなる弾性糸「Ｅ」を含む。ゾーン４５は、４０〜６０コースの本体糸「Ｙ」を含んでいてもよい。このゾーン４５の圧迫は、前部足底および下部甲領域３５を通って軸方向に矢印５４で示されるように徐々に増大される。中圧迫ゾーン４５内で段階的に変化する圧迫は、２．０〜２．７ｋＰａの範囲内であってもよい。軽圧迫ゾーン４６（「ゾーン１」と表示される）における編み構造は、ガーメント１０の開放爪先端部に向かってコースからコースへの軸方向に長さが増す弾性糸「Ｅ」を包含する。これは、矢印５５で示される方向に、爪先領域３６での圧迫を低減する。ゾーン４６は、２０〜３０コースの本体糸「Ｙ」を含んでいてもよい。ガーメント１０のこのゾーン４６における圧迫は、１．３〜２．０ｋＰａの範囲内であってもよい。

図８に示されたゾーンを参照して、出願人は、足に対する周方向の圧迫の変動が例示されるガーメントの様々な部分で達成可能であると理論付ける。この圧迫は、足および脚の形状と解剖学的に一致しているので、静脈系を圧迫し、それにより上半身へ戻る血液の流量および速度を上げ、腫れや痛みを引き起こして自然回復力を妨げる体液の貯留を低減する。足の靱帯の持ち上げは、足の全周を圧迫しつつ、足上部の硬質な骨構造をてことして用いることによって達成される。これは、より柔らかい足下組織を持ち上げる。この圧迫は、ちょうど足底筋膜が踵に接続する踵骨の前の領域（「ゾーン３」）を対象とするので、足の靱帯は、足上部構造に向かって上方に緩やかに伸びる。さらに、下部アキレス腱（「ゾーン５」）周囲の上部踵のちょうど後ろ側を集中的に圧迫することによって、ガーメントの持ち上げ機能に構造的支持が与えられる。ゾーン３およびゾーン５の協働圧迫は、より柔らかい足下を持ち上げるのに十分な程強いが、制限しないと着用者にとって不快となり得る。これは、他のゾーンにおける圧迫を低減することによって促進され得る。

本発明を説明して定義するために、「実質的に」、「一般に」、「およそ」などの相対的な用語は、本明細書においては、量的比較、値、測定または他の表現に起因し得る固有の不確実性の度合いを表すために使用されることに留意すべきである。これらの用語はまた、量的表現が、問題となる主題の基本的な機能の変化を招くことなく、記載された基準から変動し得る度合いを表すために使用される。

本発明の例示的実施形態を上で説明した。本説明で用いられる要素、行為または指示はいずれも、そのように明白に記載されない限り、本発明にとって重要である、必要である、重大である、または必須であると解釈すべきではない。ここでは、ごくわずかな例示的実施形態しか説明していないが、当業者であれば、本発明の新規な教示および利点から著しく逸脱することなく、これらの例示的実施形態において多くの変更が可能であることを容易に理解するであろう。したがって、このような変更は全て、添付の請求項に定義される本発明の範囲内に含まれることが意図される。

請求項において、ミーンズプラスファンクション節は、記載された機能を遂行する構造ならびに構造的な等価物だけでなく等価な構造をも含むよう意図されている。釘は円柱状の表面を有し木材部品を互いに固定するが、ねじは螺旋状の表面を有し木材部品を互いに固定する。この点で釘とねじは構造的な等価物ではないかもしれない。しかし、木材を固定する観点からは、釘もねじも等価な構成である。請求項中に（特定の機能または工程を遂行する）「ための手段」と正確に表現されていない限り、米国特許法第１１２条第６段落に基づく解釈は意図されない。さらに、特許保護範囲が、請求項自体に明白に記載されていない本明細書中の限定事項を請求項に組み込んで読むことによって本発明の定義を可能にすることを意図するものではない。

Claims (17)

1. 脚端部及び爪先端部を含むと共に、本体糸（ｂｏｄｙ ｙａｒｎ）で一体的に編まれ、かつ、踵骨と、中足部と、中足指節関節と、中足部の下の踵骨と中足指節関節との間に延在する足底筋膜とを含む使用者の足に着用させるように適合された圧迫足用ガーメントであって、
   前記ガーメントの前記爪先端部から軸方向に離間されると共に、足の足底筋膜の下の踵骨と中足指節関節との間、かつ、概ね中足部の周囲に、少なくとも２．７ｋＰａの実質的に周方向の圧迫を加えるように適合され、前記本体糸と一体化された弾性糸を含む第１高圧迫ゾーンと、
   前記ガーメントの前記脚端部から軸方向に離間されると共に、足の踵骨の上、かつ、概ね使用者の踝の周囲に、少なくとも２．７ｋＰａの実質的に周方向の圧迫を加えるように適合され、前記本体糸と一体化された弾性糸を含む第２高圧迫ゾーンと、
   前記第１および第２高圧迫ゾーンの間にあり、かつ、足の前記第１および第２高圧迫ゾーンの間の区域に、低減された圧迫を加えるように適合された圧迫解放ゾーンと、
   を含み、
   前記足用ガーメントは、前記第１高圧迫ゾーンから前記ガーメントの前記爪先端部への軸方向に低減された圧迫及び前記第２高圧迫ゾーンから前記ガーメントの前記脚端部への軸方向に低減された圧迫を含み、
   前記圧迫解放ゾーンにおいて足に加えられた圧迫は、前記第１および第２高圧迫ゾーンの各々により加えられた圧迫の少なくとも２５％未満であり、かつ前記圧迫開放ゾーンは、前記第１及び第２高圧迫ゾーンが協力して前記足底筋膜を持ち上げ及び伸ばすように、足及び踝と比較して前記第１及び第２高圧迫ゾーンの間隔を接近させるために、上部甲領域中に２５．４ｍｍ未満の狭い幅を有する、圧迫足用ガーメント。
2. 前記第１高圧迫ゾーンが、前記ガーメントの爪先端部に向かって軸方向に増大するコースからコースへと（ｃｏｕｒｓｅ−ｔｏ−ｃｏｕｒｓｅ）段階的に変化する圧迫を使用者の足に加えるように適合された弾性糸を含む、請求項１に記載の圧迫足用ガーメント。
3. 前記第２高圧迫ゾーンが、前記ガーメントの脚端部に向かって軸方向に増大するコースからコースへと段階的に変化する圧迫を使用者の足に加えるように適合された弾性糸を含む、請求項１に記載の圧迫足用ガーメント。
4. 前記第１および第２高圧迫ゾーンが、実質的に等しい圧迫を使用者の足に加える、請求項１に記載の圧迫足用ガーメント。
5. 前記第１および第２高圧迫ゾーンが、実質的に等しい数の丸編みコースを含む、請求項１に記載の圧迫足用ガーメント。
6. 前記圧迫解放ゾーンが、前記第１および第２高圧迫ゾーンの間に形成された低圧迫踵ポケットを含む、請求項１に記載の圧迫足用ガーメント。
7. 前記圧迫解放ゾーンが、着用者の踝関節に近接する足の頂部にわたって延在するように適合されている、請求項１に記載の圧迫足用ガーメント。
8. 前記第１高圧迫ゾーンに隣接し、かつ、前記ガーメントの爪先端部に向かって軸方向に延在し、足の前記第１高圧迫ゾーンおよび前記ガーメントの爪先端部の間に、低減された周方向の圧迫を加えるように適合された中圧迫ゾーンを含む、請求項１に記載の圧迫足用ガーメント。
9. 前記中圧迫ゾーンが、前記本体糸と一体化されかつ前記ガーメントの爪先端部に向かって軸方向に増大するコースからコースへと段階的に変化する圧迫を使用者の足に加えるように適合された弾性糸を含む、請求項８に記載の圧迫足用ガーメント。
10. 前記中圧迫ゾーンが、前記第１および第２高圧迫ゾーンによって加えられる圧迫と比較して、１０％〜５０％低い圧迫を足に加える、請求項８に記載の圧迫足用ガーメント。
11. 前記第１および第２高圧迫ゾーンの各々ならびに前記中圧迫ゾーンが、実質的に等しい数の丸編みコースを含む、請求項８に記載の圧迫足用ガーメント。
12. 前記ガーメントの爪先端部において、前記中圧迫ゾーンに隣接して存在する軽圧迫ゾーンを含む、請求項８に記載の圧迫足用ガーメント。
13. 前記ガーメントの脚端部において、前記第２高圧迫ゾーンに隣接して存在する軽圧迫ゾーンを含む、請求項１に記載の圧迫足用ガーメント。
14. 前記ガーメントの脚端部の前記軽圧迫ゾーンが、折返し踝ウェルトを含む、請求項１３に記載の圧迫足用ガーメント。
15. 脚端部及び爪先端部を含むと共に、本体糸（ｂｏｄｙ ｙａｒｎ）で一体的に編まれ、かつ、踵骨と、中足部と、中足指節関節と、中足部の下の踵骨と中足指節関節との間に延在する足底筋膜とを含む使用者の足に着用させるように適合された圧迫足用ガーメントであって、
    前記ガーメントの前記爪先端部から軸方向に離間されると共に、足の踵骨と中足指節関節との間、かつ、概ね中足部の周囲に、少なくとも２．７ｋＰａの実質的に周方向の圧迫を加えるように適合され、前記本体糸と一体化された弾性糸を含む第１高圧迫ゾーンと、
    前記ガーメントの前記脚端部から軸方向に離間されると共に、足の踵骨の上、かつ、概ね使用者の踝の周囲に、少なくとも２．７ｋＰａの実質的に周方向の圧迫を加えるように適合され、前記本体糸と一体化された弾性糸を含む第２高圧迫ゾーンと、
    前記第１および第２高圧迫ゾーンの間にあり、かつ、足の前記第１および第２圧迫ゾーンの間の区域に、低減された圧迫を加えるように適合された圧迫解放ゾーンと、
    前記第１高圧迫ゾーンに隣接し、かつ、前記ガーメントの爪先端部に向かって軸方向に延在し、足の前記第１高圧迫ゾーンおよび前記ガーメントの爪先端部の間に、低減された周方向の圧迫を加えるように適合された中圧迫ゾーンと、
    前記ガーメントの爪先端部において、前記中圧迫ゾーンに隣接する第１軽圧迫ゾーンと、
    前記ガーメントの脚端部において、前記第２高圧迫ゾーンに隣接する第２軽圧迫ゾーンと、
    を含み、
    前記足用ガーメントは、前記第１高圧迫ゾーンから前記ガーメントの前記爪先端部への軸方向に低減された圧迫及び前記第２高圧迫ゾーンから前記ガーメントの前記脚端部への軸方向に低減された圧迫を含み、
    前記圧迫解放ゾーンにおいて足に加えられた圧迫は、前記第１および第２高圧迫ゾーンの各々により加えられた圧迫の少なくとも２５％未満であり、かつ前記圧迫開放ゾーンは、前記第１及び第２高圧迫ゾーンが協力して前記足底筋膜を持ち上げ及び伸ばすように、足及び踝と比較して前記第１及び第２高圧迫ゾーンの間隔を接近させるために、上部甲領域中に２５．４ｍｍ未満の狭い幅を有する、圧迫足用ガーメント。
16. 前記中圧迫ゾーンが、前記第１および第２高圧迫ゾーンによって加えられる圧迫と比較して、１０％〜５０％低い圧迫を足に加え、かつ、前記第１および第２軽圧迫ゾーンが、前記中圧迫ゾーンによって加えられる圧迫と比較して、１０％〜５０％低い圧迫を足に加える、請求項１５に記載の圧迫足用ガーメント。
17. 前記第１および第２高圧迫ゾーンの各々ならびに前記中圧迫ゾーンが、実質的に等しい数の丸編みコースを含む、請求項１５に記載の圧迫足用ガーメント。

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