JP6076098B2 - アラインメント装置、及びアラインメント方法 - Google Patents
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Description
また、本発明は、前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とが繰り返し行われる際には、前記移動装置が前記加工マスクと前記加工対象物との間の前記相対的な移動をさせる力の大きさが検出され、検出された前記力の大きさが所定値を超えると前記相対速度がゼロにされるアラインメント装置である。
また、本発明は、前記誤差速度関係には、前記高精度範囲よりも前記誤差距離が大きい部分に、前記誤差距離が同じ値の前記相対速度に関連づけられた一定速度範囲が設定されたアラインメント装置である。
また、本発明は、前記誤差距離が、少なくとも所定の許容距離よりも小さい範囲では、前記誤差距離にはゼロの値の前記相対速度が関連づけられたアラインメント装置である。
また、本発明は、前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とが繰り返し行われる際に、前記加工マスクと前記加工対象物との間が所定距離よりも小さくなると、前記相対速度がゼロにされるアラインメント装置である。
また、本発明は、撮像装置によって加工マスクのマスクアラインメントマークと加工対象物の加工アラインメントマークとを同じ時刻で撮像して撮像結果を得て、制御装置によって前記加工マスクの位置と前記加工対象物の位置との間の相対的な誤差を求め、移動装置によって前記加工マスクと前記加工対象物のいずれか一方又は両方を移動させて前記誤差を小さくするアラインメント方法であって、前記誤差に含まれる誤差距離と、前記加工マスクと前記加工対象物との間の相対的な移動の速度である相対速度とを、誤差速度関係として予め関連づけておき、前記撮像装置によって前記撮像結果を得る撮像工程と、前記制御装置によって得られた前記撮像結果から前記加工マスクと前記加工対象物との間の相対位置の前記誤差距離を求め、求めた前記誤差距離と前記誤差速度関係から、前記相対速度を求める求速度工程と、前記移動装置によって前記加工マスクと前記加工対象物とを、求めた前記相対速度で相対的な移動を開始させて前記誤差を小さくする移動工程と、前記移動装置によって前記加工マスクと前記加工対象物とを近接させる近接工程と、を有し、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とが繰り返し行われるように設定されており、前記誤差速度関係には、異なる前記相対速度が設定されていて、大きい前記相対速度と関連付けられた誤差距離は、小さい前記相対速度に関連付けられた誤差距離よりも大きいようにされた高精度範囲が設けられ、前記誤差距離が、所定の許容距離よりも小さくなった後、前記近接工程によって前記加工マスクと前記加工対象物とを近接させ、前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とを繰り返し行うアラインメント方法である。
また、本発明は、前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とを繰り返し行う際には、前記移動装置が前記加工マスクと前記加工対象物との間を前記相対的な移動をさせる力の大きさを検出し、検出した前記力の大きさが所定値を超えると前記相対速度をゼロにするアラインメント方法である。
また、本発明は、前記誤差速度関係には、前記高精度範囲よりも前記誤差距離が大きい部分に、前記誤差距離を同じ値の前記相対速度に関連づけた一定速度範囲を設定したアラインメント方法である。
また、本発明は、前記誤差距離が、少なくとも所定の許容距離よりも小さい範囲では、前記誤差距離にはゼロの値の前記相対速度を関連づけたアラインメント方法である。
また、本発明は、前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とを繰り返し行う際に、前記加工マスクと前記加工対象物との間が所定距離よりも小さくなると、前記相対速度をゼロにするアラインメント方法である。
また、本発明の成膜装置の前記アラインメント装置には、前記加工対象物を保持する基板ホルダを設けることができる。
また、本発明の成膜装置では、前記加工対象物は、前記真空槽内を移動しながら、前記撮像装置による前記撮像結果を得られるようにすることができる。この場合、前記加工対象物がフィルムであり、前記加工対象物は、移動しながら成膜されるものであっても良い。
加工マスクと加工対象物とが接触した後も相対移動させるため、近接移動による誤差を小さくすることができる。
図1の符号2aは、本発明の第一例のアラインメント装置を示しており、この第一例のアラインメント装置2aは、本発明の第一例の成膜装置3aに設けられている。
第一例のアラインメント装置2aは、マスク保持装置21と基板ホルダ22とを有している。成膜装置3aは真空槽10を有しており、マスク保持装置21と基板ホルダ22とは真空槽10の内部に配置されている。
真空槽10の内部の、マスク保持装置21に配置された加工マスク31と対面する位置には、成膜源11が配置されている。
第一例のアラインメント装置2aには、モータ等の動力源を有する移動装置14が設けられている。
制御装置13には、加工マスク31と基板32aとが位置合わせされたときの、マスクアラインメントマークと加工アラインメントマークの相対位置が、予め記憶されている。制御装置13には、アラインメントを行う手順が記憶されており、記憶された手順に従って、以下のようにアラインメント処理が行われる。
誤差に関する値の大小の比較は、絶対値で行うものとする。図3は、誤差速度関係の一例を示したグラフであり、横軸は誤差距離、縦軸は相対速度である。
なお、一次関数などの関数に従って、徐々に小さくなる設定に限らず、相対速度は、段階的に小さくなるように設定してもよい。
誤差距離の大きさにかかわらず、求速度工程が終了すると、処理は移動工程に移行される。
制御装置13は、加工マスク31と基板32aとを誤差が小さくなる方向に相対移動させるように設定されており、アラインメントの際の移動工程では、移動装置14は、加工マスク31と基板32aとを、相対移動前の平面と同じ平面内に位置させて、加工マスク31と基板32aとを、直前の求速度工程で求めた相対速度で、誤差が小さくなる方向に、加工マスク31と基板32aとを相対移動させる。この相対移動は、誤差角度が小さくなる方向に相対的な回転移動と、誤差距離が小さくなる方向への直線移動とが含まれる。
移動工程が終了すると、処理は撮像工程に移行される。
撮像工程と、求速度工程と、移動工程とが繰り返し行われると誤差は小さくなる。
つまり、加工マスク31と基板32aとが近づいても、通り過ぎてしまう場合があり、通り過ぎる距離が大きいと、誤差を小さくすることができなくなる。
高精度の位置合わせが必要であり、近接移動に伴って生じる誤差が無視できない場合がある。
そのため、加工マスク31と基板32aとが接触した状態でも撮像工程と、求速度工程と、移動工程とを繰り返し行う場合は、移動装置14が加工マスク31と基板32aとを相対移動させるときに出力する力の大きさを検出して、その大きさが所定値を超えたときに、接触面積が大きくなったものと判断して相対速度をゼロの値に固定し、相対移動を終了させるようにしてもよい。
以上は、柔軟性を有さない基板32aと加工マスク31とをアラインメントする例を説明したが、本発明に用いる加工対象物は、柔軟性を有する有機化合物のフィルムであってもよい。
巻出装置36には、巻き取られたフィルム32bから成る巻出ロール34が装着されており、フィルム32bの加工マスク31と対面する部分は、巻出ロール34から巻き出され、加工マスク31と対面する位置を通る部分であり、巻取装置35に装着されたフィルム32bの一部となる。
加工マスク31には、マスクアラインメントマークが形成されており、フィルム32bには加工アラインメントマークが形成されている。
移動工程では、誤差を少なくするようにマスク保持装置21が回転移動と直線移動される。
形成される薄膜は、走行方向に沿った細長の形状であり、フィルム32b上には、複数本の細長の形状の薄膜が互いに平行に配置される。
上記誤差速度関係では、高精度範囲よりも誤差距離が大きい範囲に、初期範囲が設定されており、初期範囲の誤差距離は、その大きさによらず、一定値の相対速度に関連づけられている。
10……真空槽
11……成膜源
12……撮像装置
13……制御装置
14……移動装置
21……マスク保持装置
22……基板ホルダ
31……加工マスク
32a、32b……加工対象物
Claims (10)
- 加工マスクと加工対象物とのいずれか一方又は両方を移動させることで、加工マスクと加工対象物との間の相対的な位置を変える移動装置と、
前記加工マスクのマスクアラインメントマークと前記加工対象物の加工アラインメントマークとを同じ時刻で撮像し、撮像結果を得る撮像装置と、
前記移動装置と前記撮像装置とを制御して動作させる制御装置と、
を有し、
前記制御装置は、前記撮像結果から求めた前記加工マスクと前記加工対象物との相対的な位置と、位置合わせがされた状態の相対的な位置との間の差である誤差を求め、前記誤差を小さくするように前記相対的な位置を変えるアラインメント装置であって、
前記誤差に含まれる誤差距離と、前記加工マスクと前記加工対象物との間の相対的な移動の速度である相対速度とが関連づけられた誤差速度関係が設定されており、
前記撮像装置によって前記撮像結果を得る撮像工程と、
前記制御装置によって得られた前記撮像結果から前記加工マスクと前記加工対象物との間の相対位置の前記誤差距離を求め、求めた前記誤差距離と前記誤差速度関係から、前記相対速度を求める求速度工程と、
前記移動装置によって前記加工マスクと前記加工対象物とを、求めた前記相対速度での相対的な移動を開始させて前記誤差を小さくする移動工程と、
が繰り返し行われるように設定され、
前記移動装置によって前記加工マスクと前記加工対象物とを近接させる近接工程を有し、
前記誤差速度関係には、異なる前記相対速度が設定されていて、大きい前記相対速度に関連付けられた誤差距離は、小さい前記相対速度に関連付けられた誤差距離よりも大きいようにされた高精度範囲が設けられ、
前記誤差距離が、所定の許容距離よりも小さくなった後、前記近接工程によって前記加工マスクと前記加工対象物とが近接され、前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とが繰り返し行われるアラインメント装置。 - 前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とが繰り返し行われる際には、前記移動装置が前記加工マスクと前記加工対象物との間の前記相対的な移動をさせる力の大きさが検出され、
検出された前記力の大きさが所定値を超えると前記相対速度がゼロにされる請求項1記載のアラインメント装置。 - 前記誤差速度関係には、前記高精度範囲よりも前記誤差距離が大きい部分に、前記誤差距離が同じ値の前記相対速度に関連づけられた一定速度範囲が設定された請求項1又は請求項2のいずれか1項記載のアラインメント装置。
- 前記誤差距離が、少なくとも所定の許容距離よりも小さい範囲では、前記誤差距離にはゼロの値の前記相対速度が関連づけられた請求項1記載のアラインメント装置。
- 前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とが繰り返し行われる際に、前記加工マスクと前記加工対象物との間が所定距離よりも小さくなると、前記相対速度がゼロにされる請求項1記載のアラインメント装置。
- 撮像装置によって加工マスクのマスクアラインメントマークと加工対象物の加工アラインメントマークとを同じ時刻で撮像して撮像結果を得て、制御装置によって前記加工マスクの位置と前記加工対象物の位置との間の相対的な誤差を求め、
移動装置によって前記加工マスクと前記加工対象物のいずれか一方又は両方を移動させて前記誤差を小さくするアラインメント方法であって、
前記誤差に含まれる誤差距離と、前記加工マスクと前記加工対象物との間の相対的な移動の速度である相対速度とを、誤差速度関係として予め関連づけておき、
前記撮像装置によって前記撮像結果を得る撮像工程と、
前記制御装置によって得られた前記撮像結果から前記加工マスクと前記加工対象物との間の相対位置の前記誤差距離を求め、求めた前記誤差距離と前記誤差速度関係から、前記相対速度を求める求速度工程と、
前記移動装置によって前記加工マスクと前記加工対象物とを、求めた前記相対速度で相対的な移動を開始させて前記誤差を小さくする移動工程と、
前記移動装置によって前記加工マスクと前記加工対象物とを近接させる近接工程と、
を有し、
前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とが繰り返し行われるように設定されており、
前記誤差速度関係には、異なる前記相対速度が設定されていて、大きい前記相対速度と関連付けられた誤差距離は、小さい前記相対速度に関連付けられた誤差距離よりも大きいようにされた高精度範囲が設けられ、
前記誤差距離が、所定の許容距離よりも小さくなった後、前記近接工程によって前記加工マスクと前記加工対象物とを近接させ、前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とを繰り返し行うアラインメント方法。 - 前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とを繰り返し行う際には、前記移動装置が前記加工マスクと前記加工対象物との間を前記相対的な移動をさせる力の大きさを検出し、検出した前記力の大きさが所定値を超えると前記相対速度をゼロにする請求項6記載のアラインメント方法。
- 前記誤差速度関係には、前記高精度範囲よりも前記誤差距離が大きい部分に、前記誤差距離を同じ値の前記相対速度に関連づけた一定速度範囲を設定した請求項6又は請求項7のいずれか1項記載のアラインメント方法。
- 前記誤差距離が、少なくとも所定の許容距離よりも小さい範囲では、前記誤差距離にはゼロの値の前記相対速度を関連づけた請求項6記載のアラインメント方法。
- 前記加工マスクと前記加工対象物とが接触した状態で、前記撮像工程と、前記求速度工程と、前記移動工程とを繰り返し行う際に、前記加工マスクと前記加工対象物との間が所定距離よりも小さくなると、前記相対速度をゼロにする請求項6記載のアラインメント方法。
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