JP6065407B2 - Circuit connection material, film-like circuit connection material, circuit connection sheet, circuit connection body and circuit member connection method - Google Patents

Circuit connection material, film-like circuit connection material, circuit connection sheet, circuit connection body and circuit member connection method Download PDF

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Description

本発明は、回路接続材料、フィルム状回路接続材料、回路接続シート、回路接続体及び回路部材の接続方法に関する。   The present invention relates to a circuit connection material, a film-like circuit connection material, a circuit connection sheet, a circuit connection body, and a circuit member connection method.

半導体素子や液晶表示素子の製造において、素子中の種々の回路部材を結合させる目的で、従来から種々の接着剤が使用されている。例えば、液晶表示素子とTCP(Tape Carrier Package)又はCOF(Chip On Film)との接続、TCP又はCOFとプリント配線板との接続、FPC(Flexible Printed Circuit)とプリント配線板との接続、又は、半導体素子の基板への実装等のために接着剤が使用されている。   In the manufacture of semiconductor elements and liquid crystal display elements, various adhesives have been conventionally used for the purpose of bonding various circuit members in the elements. For example, a connection between a liquid crystal display element and TCP (Tape Carrier Package) or COF (Chip On Film), a connection between TCP or COF and a printed wiring board, a connection between an FPC (Flexible Printed Circuit) and a printed wiring board, or An adhesive is used for mounting a semiconductor element on a substrate.

被着体としては、プリント配線板、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)及びポリエチレンナフタレート(PEN)等の有機基材、銅、アルミニウム等の金属、ITO(Indium Tin Oxide:インジウムとスズの複合酸化物)、Si、SiO等の多種多様な表面状態を有する基材が用いられる。そのため、接着剤に関して、各被着体に合わせた分子設計が必要とされる。このような接着剤に要求される特性は、接着性及び回路接続性をはじめとして、耐熱性、高温高湿状態における信頼性等、多岐にわたる。 Examples of the adherend include printed wiring boards, polyimides, organic base materials such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC) and polyethylene naphthalate (PEN), metals such as copper and aluminum, ITO (Indium Tin Oxide: indium and Base materials having various surface states such as composite oxide of tin, Si 3 N 4 , and SiO 2 are used. Therefore, regarding the adhesive, a molecular design tailored to each adherend is required. The properties required for such adhesives are diverse, including adhesiveness and circuit connectivity, heat resistance, reliability in high temperature and high humidity conditions, and the like.

従来、半導体素子又は液晶表示素子用の接着剤としては、高接着性及び高信頼性を示すエポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂が用いられている(例えば、特許文献1参照)。熱硬化性樹脂の構成成分としては、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂に対する反応性を有するフェノール樹脂等の硬化剤、及びエポキシ樹脂と硬化剤の反応を促進する熱潜在性触媒が一般に用いられる。熱潜在性触媒は、室温等の貯蔵温度では反応せず、加熱した際に高い反応性を示す物質である。熱潜在性触媒は、硬化温度及び硬化速度を決定する重要な因子である。接着剤の室温での貯蔵安定性と加熱時の硬化速度の観点から種々の化合物が熱潜在性触媒として選択される。実際の工程では、一般に170℃〜250℃の温度で1〜3時間の加熱の硬化条件により、所望の接着性を得ている。   Conventionally, as an adhesive for a semiconductor element or a liquid crystal display element, a thermosetting resin including an epoxy resin exhibiting high adhesiveness and high reliability has been used (for example, see Patent Document 1). As a component of the thermosetting resin, a curing agent such as an epoxy resin, a phenol resin having reactivity with the epoxy resin, and a thermal latent catalyst that promotes the reaction between the epoxy resin and the curing agent are generally used. A thermal latent catalyst is a substance that does not react at a storage temperature such as room temperature and exhibits high reactivity when heated. Thermal latent catalyst is an important factor in determining the curing temperature and curing rate. Various compounds are selected as thermal latent catalysts from the viewpoints of storage stability of the adhesive at room temperature and curing rate during heating. In the actual process, the desired adhesiveness is generally obtained by the curing conditions of heating at a temperature of 170 ° C. to 250 ° C. for 1 to 3 hours.

一方、最近の半導体素子の高集積化、液晶表示の高精細化に伴い、素子間及び配線間ピッチが狭小化し、硬化時の加熱が周辺部材に悪影響を及ぼす傾向があるため、低温で接着剤を硬化させることが要求されている。また、低コスト化のためにはスループットを向上させる必要があるため、短時間で接着剤を硬化させることも要求されている。   On the other hand, with recent high integration of semiconductor elements and high definition of liquid crystal display, the pitch between elements and wirings is narrowed, and the heat during curing tends to adversely affect peripheral members. Is required to be cured. Moreover, since it is necessary to improve the throughput for cost reduction, it is also required to cure the adhesive in a short time.

従来のエポキシ樹脂を含む熱硬化性樹脂によって低温且つ短時間での硬化(低温速硬化性)を達成するためには、活性化エネルギーの低い熱潜在性触媒を使用する必要がある。しかし、その場合、接着剤の室温での貯蔵安定性が低下する問題がある。   In order to achieve low-temperature and short-time curing (low-temperature rapid curability) with a conventional thermosetting resin including an epoxy resin, it is necessary to use a thermal latent catalyst having a low activation energy. However, in that case, there is a problem that the storage stability of the adhesive at room temperature is lowered.

代わりに、低温速硬化性を有する接着剤として、(メタ)アクリレート誘導体等のラジカル重合性化合物とラジカル重合開始剤である過酸化物とを併用したラジカル硬化型接着剤が注目されている(例えば、特許文献2参照)。ラジカル硬化によれば、反応活性種であるラジカルが反応性に富むため、低温且つ短時間での硬化が可能である。   Instead, as an adhesive having a low temperature fast curing property, a radical curable adhesive using a radical polymerizable compound such as a (meth) acrylate derivative and a peroxide which is a radical polymerization initiator has attracted attention (for example, , See Patent Document 2). According to radical curing, radicals that are reactive species are rich in reactivity, so that curing at a low temperature and in a short time is possible.

しかし、ラジカル硬化を用いた接着剤の場合、硬化時の硬化収縮が大きいため、エポキシ樹脂を用いた接着剤と比較して接着強度に劣り、特に無機材質又は金属材質の基材に対する接着強度が低下する傾向がある。   However, in the case of an adhesive using radical curing, since the curing shrinkage at the time of curing is large, the adhesive strength is inferior to that of an adhesive using an epoxy resin, and in particular, the adhesive strength to a base material made of an inorganic material or a metal material. There is a tendency to decrease.

また、ガラス基板等を用いた半導体素子若しくは液晶表示素子、又はFR4基材等を用いたプリント基板と、ポリイミド及びポリエステルなどの高分子フィルムを基材として有するフレキシブル配線板(FPC)とを接続する場合、熱膨張率差に基づく内部応力が大きくなり、接着剤の剥離及び接続信頼性の低下が生じる可能性がある。   Further, a semiconductor element or a liquid crystal display element using a glass substrate or the like, or a printed circuit board using an FR4 base material or the like and a flexible wiring board (FPC) having a polymer film such as polyimide or polyester as a base material are connected. In this case, the internal stress based on the difference in thermal expansion coefficient is increased, and there is a possibility that the adhesive is peeled off and the connection reliability is lowered.

接着強度の改善方法としては、シランカップリング剤に代表される接着助剤を使用する方法(例えば、特許文献3参照)、エーテル結合によって硬化物に可とう性を付与し接着強度を改善する方法(例えば、特許文献4参照)、接着剤中にゴム系の弾性材料からなる応力吸収粒子を分散させることにより接着強度を改善する方法(特許文献5、6等参照)などが提案されている。   As a method for improving the adhesive strength, a method using an adhesion assistant typified by a silane coupling agent (for example, see Patent Document 3), a method for improving the adhesive strength by imparting flexibility to a cured product by an ether bond. (For example, refer patent document 4), the method (refer patent document 5, 6 etc.) etc. which improve the adhesive strength by disperse | distributing the stress-absorbing particle which consists of rubber-type elastic materials in an adhesive agent are proposed.

この他、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート等の有機基材を接着可能な接着剤として、エチレン性不飽和基及びイソシアネート基を有する化合物と、マレイミド基及びエチレン性不飽和基を有する化合物とを含む光重合硬化型の組成物が提案されている(特許文献7参照)。   In addition, as an adhesive capable of adhering organic base materials such as polyimide, polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate, a compound having an ethylenically unsaturated group and an isocyanate group, and a compound having a maleimide group and an ethylenically unsaturated group There has been proposed a photopolymerization-curable composition containing: (see Patent Document 7).

また、単官能イミドアクリレート、ラジカル開始剤、およびフィラーを含む樹脂ペースト組成物を、半導体素子をリードフレーム等の支持部材に接着するために用いることが提案されている(特許文献8参照)。特許文献8によれば、係る樹脂ペースト組成物を用いることにより、銅フレーム及び有機基板を使用した場合にもリフロークラックの無い半導体装置を提供できるとされている。   In addition, it has been proposed to use a resin paste composition containing a monofunctional imide acrylate, a radical initiator, and a filler in order to bond a semiconductor element to a support member such as a lead frame (see Patent Document 8). According to Patent Document 8, by using such a resin paste composition, it is said that a semiconductor device free from reflow cracks can be provided even when a copper frame and an organic substrate are used.

特開平1−113480号公報Japanese Patent Laid-Open No. 1-113480 国際公開第98/044067号International Publication No. 98/044067 特許第3344886号Japanese Patent No. 3344886 特許第3503740号公報Japanese Patent No. 3503740 特許第3477367号公報Japanese Patent No. 3477367 国際公開第09/020005号International Publication No. 09/020005 特開2011−38088号公報JP 2011-38088 A 特開2000−239616号公報JP 2000-239616 A

ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の耐熱性の低い熱可塑性樹脂を含む基材を有する回路部材を接続する場合には特に、硬化時の加熱が有機基材及び周辺部材に悪影響を及ぼす傾向が高まるため、ガラス基板の場合よりも更に低温で接着剤を硬化させることが要求される。加えて、PET、PC、PEN等を含む基材の表面は一般にガラス基板よりも平滑であるため、物理的な投錨効果(アンカー効果)による効果が小さいため、高い接着強度が得られにくい傾向がある。   When connecting a circuit member having a base material containing a thermoplastic resin having low heat resistance such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), etc., the heating during curing is an organic base material. In addition, since the tendency to adversely affect the peripheral members increases, it is required to cure the adhesive at a lower temperature than in the case of the glass substrate. In addition, since the surface of the base material containing PET, PC, PEN, etc. is generally smoother than the glass substrate, the effect of physical anchoring effect (anchor effect) is small, so that high adhesive strength tends to be difficult to obtain. is there.

そこで、低温硬化性を有するラジカル硬化型の接着剤において、接着強度を改善することが望まれる。しかし、PET、PC、PEN等の熱可塑性樹脂を含む基材は、ベンゼン環等による分子間相互作用によって結晶部分を形成しやすいため、シランカップリング剤と共有結合を形成することは困難である。したがって、これらの基材を用いる場合には特に、特許文献3に記載の方法では充分な接着強度改善効果が得られない。   Therefore, it is desired to improve the adhesive strength in a radical curable adhesive having low temperature curability. However, it is difficult to form a covalent bond with a silane coupling agent because a base material containing a thermoplastic resin such as PET, PC, PEN or the like easily forms a crystal part due to intermolecular interaction due to a benzene ring or the like. . Therefore, when these base materials are used, the method described in Patent Document 3 cannot provide a sufficient effect of improving the adhesive strength.

また、PET、PC、PEN等の熱可塑性樹脂を含む基材は、ガラス基板より熱膨張係数が大きく、表面エネルギーもガラス基板とは異なる。そのため、被着体に対する濡れ性向上及び内部応力低減のために、接着剤に充分な可とう性を付与することが望ましいが、特許文献4に記載の方法では、充分な可とう性を付与することはできず、更なる接着強度の向上が望まれる。   Moreover, the base material containing thermoplastic resins, such as PET, PC, and PEN, has a larger thermal expansion coefficient than a glass substrate, and surface energy is also different from a glass substrate. Therefore, it is desirable to impart sufficient flexibility to the adhesive in order to improve wettability to the adherend and reduce internal stress. However, the method described in Patent Document 4 provides sufficient flexibility. However, further improvement in adhesive strength is desired.

特許文献5に記載の方法の場合、高温高湿試験後の接着強度及び接続抵抗などの性能が充分に得られない問題がある。特許文献6に記載の応力吸収粒子を分散させる方法によっても、特にPET、PC、PEN等の熱可塑性樹脂を含む基材に対しては充分な接着強度向上効果は得られない。   In the case of the method described in Patent Document 5, there is a problem that performance such as adhesive strength and connection resistance after the high temperature and high humidity test cannot be obtained sufficiently. Even by the method of dispersing the stress-absorbing particles described in Patent Document 6, a sufficient effect of improving the adhesive strength cannot be obtained particularly for a substrate containing a thermoplastic resin such as PET, PC, or PEN.

基材と回路部材とを接続する回路接続材料に関しては、十分な接着力のほか、回路と基材との導通を維持する接続特性も要求される。特許文献7に記載の光重合硬化型の組成物は、回路部材の接続に着目したものではないため、これによる電気接続性の確保は困難である。また、回路部材が光を吸収するため、回路接続材料においては光重合硬化型の組成物を使用できない。   Regarding the circuit connection material for connecting the substrate and the circuit member, in addition to sufficient adhesive force, connection characteristics for maintaining electrical connection between the circuit and the substrate are also required. Since the photopolymerization curable composition described in Patent Document 7 does not focus on the connection of circuit members, it is difficult to ensure electrical connectivity. Further, since the circuit member absorbs light, a photopolymerization-curable composition cannot be used in the circuit connection material.

以上のように、従来、PET、PC、PEN等を含む耐熱性の低い有機基材を有する回路部材を接続する場合において、接着強度及び接続信頼性を十分に高いレベルで両立することができないのが実情であった。   As described above, conventionally, when connecting circuit members having an organic base material having low heat resistance including PET, PC, PEN, etc., it is impossible to achieve both sufficiently high adhesive strength and connection reliability. Was the actual situation.

そこで、本発明の目的の一つは、PET、PC、PEN等の耐熱性の低い有機基材を有する回路部材の接続を低温で行った場合であっても優れた接着強度を得ることができ、しかも長時間の高温高湿下の信頼性試験後においても安定した性能を維持できる回路接続材料を提供することにある。   Therefore, one of the objects of the present invention is to obtain excellent adhesive strength even when a circuit member having an organic substrate having low heat resistance such as PET, PC, PEN is connected at a low temperature. And it is providing the circuit connection material which can maintain the stable performance even after the reliability test of high temperature under high humidity for a long time.

本発明者らは上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、耐熱性の低い熱可塑性樹脂であるPET、PC、PEN等を含む有機基材と回路部材との接続において接着強度と接続抵抗を両立するためには、回路接続材料の流動性と機械的強度を最適化することが必要であることを見出した。係る知見に基づいて更に検討した結果、特定の単官能ラジカル重合性化合物を適用することによって、回路接続材料の流動性と機械的強度が適正化されて、接着強度及び接続抵抗を両立できることを見出し、本発明の完成に至った。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have achieved both adhesive strength and connection resistance in connection between an organic base material including a thermoplastic resin having low heat resistance, such as PET, PC, and PEN, and a circuit member. In order to achieve this, it has been found that it is necessary to optimize the fluidity and mechanical strength of the circuit connecting material. As a result of further investigation based on such knowledge, it has been found that by applying a specific monofunctional radical polymerizable compound, the fluidity and mechanical strength of the circuit connecting material are optimized, and both adhesive strength and connection resistance can be achieved. The present invention has been completed.

すなわち、本発明は、(a)熱可塑性樹脂と、(b)2官能以上のラジカル重合性化合物と、(c)下記一般式(1)又は(2)で表される単官能ラジカル重合性化合物と、(d)ラジカル重合開始剤と、を含有する回路接続材料に関する。   That is, the present invention includes (a) a thermoplastic resin, (b) a bifunctional or higher functional radical polymerizable compound, and (c) a monofunctional radical polymerizable compound represented by the following general formula (1) or (2). And (d) a radical polymerization initiator.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(1)中、Rは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基又はこれらの組み合わせからなる基を示し、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を示し、同一分子中の複数のR及びRはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、nは1〜20の整数を示す。 In formula (1), R 1 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an alicyclic ring which may have a substituent. R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 2 and R in the same molecule 4 may be the same or different, and n represents an integer of 1 to 20.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を示し、同一分子中の複数のRは同一でも異なっていてもよく、Rは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示し、nは1〜20の整数を示す。 In formula (2), R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a plurality of R 4 in the same molecule may be the same or different, and R 5 is a substituted group. The aromatic hydrocarbon group which may have a group is shown, and n shows the integer of 1-20.

上記回路接続材料は、式(1)又は(2)で表される特定の単官能ラジカル重合性化合物を含んでいることから、流動性及び硬化後の機械的強度が最適化され、その結果、従来のガラス基材だけでなく、耐熱性の低い有機基材と回路部材との低温での接続においても優れた接着強度及び接続抵抗の両立が可能である。   Since the circuit connection material contains the specific monofunctional radical polymerizable compound represented by the formula (1) or (2), the fluidity and the mechanical strength after curing are optimized, and as a result, It is possible to achieve both excellent adhesion strength and connection resistance not only in a conventional glass substrate but also in a low-temperature connection between an organic substrate having low heat resistance and a circuit member.

上記熱可塑性樹脂は、ウレタン結合及びエステル結合を有する樹脂を含んでいてもよい。係る特定の熱可塑性樹脂を用いることによって、回路接続材料の極性が増大し、回路接続材料とガラス基材又は有機基材との間の静電気的相互作用が増大し、上記特定の単官能ラジカル重合性化合物による効果と相まって、接着力がより一層向上する。   The thermoplastic resin may contain a resin having a urethane bond and an ester bond. By using such a specific thermoplastic resin, the polarity of the circuit connecting material is increased, and the electrostatic interaction between the circuit connecting material and the glass substrate or the organic substrate is increased. Combined with the effect of the organic compound, the adhesive force is further improved.

また、上記熱可塑性樹脂は、60℃以上のガラス転移温度を有する樹脂と、−5℃〜40℃のガラス転移温度を有する樹脂とを含んでいてもよい。ガラス転移温度の異なるこれら熱可塑性樹脂を併用することによって、熱可塑性樹脂の凝集力と流動性が最適化されて、接着力及び接続抵抗をより高いレベルで両立できる。   Moreover, the said thermoplastic resin may contain resin which has a glass transition temperature of 60 degreeC or more, and resin which has a glass transition temperature of -5 degreeC-40 degreeC. By using these thermoplastic resins having different glass transition temperatures in combination, the cohesive force and fluidity of the thermoplastic resin are optimized, and the adhesive force and the connection resistance can be compatible at a higher level.

本発明に係る回路接続材料は、(f)リン酸基を有し、上記2官能以上のラジカル重合性化合物とは異なるビニル化合物、を更に含有していてもよい。これにより、低温且つ短時間の硬化条件において、より優れた接着強度を得ることができる。   The circuit connecting material according to the present invention may further contain (f) a vinyl compound having a phosphate group and different from the above-mentioned bifunctional or higher radical polymerizable compound. Thereby, more excellent adhesive strength can be obtained under low temperature and short time curing conditions.

本発明に係る回路接続材料は、(e)導電粒子を更に含有していてもよい。   The circuit connection material according to the present invention may further contain (e) conductive particles.

本発明に係る回路接続材料をフィルム状に成形して、フィルム状回路接続材料を得てもよい。また、本発明は、基材と、該基材上に形成された上記フィルム状回路接続材料と、を備える回路接続シートにも関する。   The circuit connection material according to the present invention may be formed into a film to obtain a film-like circuit connection material. Moreover, this invention relates also to a circuit connection sheet provided with a base material and the said film-form circuit connection material formed on this base material.

別の側面において、本発明は、第一の回路基板及び該第一の回路基板上に設けられた第一の回路電極を有する第一の回路部材と、第二の回路基板及び該第二の回路基板上に設けられた第二の回路電極を有る第二の回路部材と、第一の回路部材と第二の回路部材との間に介在し、第一の回路電極と第二の回路電極とが電気的に接続されるように第一の回路部材と第二の回路部材とを接着する接続部と、を備える回路接続体に関する。本発明に係る回路接続体において、接続部は、上記本発明に係る回路接続材料の硬化物である。第一の回路基板及び第二の回路基板のうち少なくとも一方は、熱可塑性樹脂を含む有機基材であってもよい。該熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、200℃以下であってもよい。   In another aspect, the present invention provides a first circuit member having a first circuit board and a first circuit electrode provided on the first circuit board, a second circuit board, and the second circuit board. A second circuit member having a second circuit electrode provided on the circuit board; and a first circuit electrode and a second circuit electrode interposed between the first circuit member and the second circuit member. It is related with a circuit connection body provided with the connection part which adhere | attaches a 1st circuit member and a 2nd circuit member so that and may be electrically connected. In the circuit connection body according to the present invention, the connection portion is a cured product of the circuit connection material according to the present invention. At least one of the first circuit board and the second circuit board may be an organic base material including a thermoplastic resin. The glass transition temperature of the thermoplastic resin may be 200 ° C. or less.

接続部が本発明に係る回路接続材料の硬化物であることにより、従来のガラス基材だけでなく、熱可塑性樹脂を含む有機基材を用いた場合でも、優れた接着強度及び長期信頼性試験後の安定した性能(特に、接着強度及び接続抵抗)を得ることができる。   Excellent adhesion strength and long-term reliability test not only when using a conventional glass substrate but also an organic substrate containing a thermoplastic resin because the connection part is a cured product of the circuit connection material according to the present invention. Later stable performance (especially adhesive strength and connection resistance) can be obtained.

更に別の側面において、本発明は、第一の回路基板及び該第一の回路基板上設けられた第一の回路電極を有する第一の回路部材と、第二の回路基板及び該第二の回路基板上に設けられた第二の回路電極を有する第二の回路部材との間に介在する上記回路接続用材料を硬化させて、第一の回路電極と第二の回路電極とが電気的に接続されるように第一の回路部材と第二の回路部材とを接着する工程を備える、回路部材の接続方法に関する。第一の回路基板及び第二の回路基板のうち少なくとも一方が、熱可塑性樹脂を含む有機基材であってもよい。該熱可塑性樹脂のガラス転移温度は、200℃以下であってもよい。   In still another aspect, the present invention provides a first circuit member having a first circuit board and a first circuit electrode provided on the first circuit board, a second circuit board, and the second circuit board. The first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected by curing the circuit connecting material interposed between the second circuit member and the second circuit member provided on the circuit board. It is related with the connection method of a circuit member provided with the process of adhere | attaching a 1st circuit member and a 2nd circuit member so that it may be connected to. At least one of the first circuit board and the second circuit board may be an organic base material containing a thermoplastic resin. The glass transition temperature of the thermoplastic resin may be 200 ° C. or less.

本発明に係る回路接続材料を用いて回路部材を接着することにより、従来のガラス基材だけでなく、熱可塑性樹脂を含む有機基材を用いた場合でも、優れた接着強度及び長期信頼性試験後の安定した性能(特に、接着強度及び接続抵抗)を得ることができる。   By adhering circuit members using the circuit connecting material according to the present invention, excellent adhesion strength and long-term reliability test are possible not only when using a conventional glass substrate but also when using an organic substrate containing a thermoplastic resin. Later stable performance (especially adhesive strength and connection resistance) can be obtained.

上記熱可塑性樹脂は、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含んでいてもよい。回路基板がこれら特定の熱可塑性樹脂を含む有機基材であることにより、回路接続材料の回路基板に対する濡れ性が向上して、更に優れた接着強度及び接続信頼性を得ることができる。   The thermoplastic resin may contain at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. When the circuit board is an organic base material containing these specific thermoplastic resins, the wettability of the circuit connection material to the circuit board is improved, and further excellent adhesive strength and connection reliability can be obtained.

本発明によれば、ガラス基板の他、PET、PC、PEN等の耐熱性の低い有機基材に対して、低温で硬化させた場合でも、優れた接着強度と接続抵抗を両立することができ、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においても安定した性能(接着強度や接続抵抗)を維持することができる回路接続材料並びにそれを用いたフィルム状回路接続材料、回路接続シート、回路接続体及び回路部材の接続方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to achieve both excellent adhesive strength and connection resistance even when cured at low temperature on organic substrates with low heat resistance such as PET, PC, PEN, etc., in addition to glass substrates. Circuit connection materials that can maintain stable performance (adhesion strength and connection resistance) even after long-term reliability tests (high temperature and high humidity tests), film-like circuit connection materials using the same, circuit connection sheets, A circuit connection body and a circuit member connection method can be provided.

回路接続シートの一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section showing one embodiment of a circuit connection sheet. 回路接続体の一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows one Embodiment of a circuit connection body.

以下、場合により図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は適宜省略され得る。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as the case may be. However, the present invention is not limited to the following embodiments. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and overlapping descriptions may be omitted as appropriate.

本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とはアクリル酸又はそれに対応するメタクリル酸を示し、「(メタ)アクリレート」とはアクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味し、「(メタ)アクリロイル基」とはアクリロイル基又はそれに対応するメタクリロイル基を意味する。   In the present specification, “(meth) acrylic acid” means acrylic acid or methacrylic acid corresponding to it, “(meth) acrylate” means acrylate or the corresponding methacrylate, and “(meth) acryloyl group” Means an acryloyl group or a corresponding methacryloyl group.

本明細書において、熱可塑性樹脂又は回路基板の「ガラス転移温度(Tg)」は、ティー・エイ・インスツルメント社製粘弾性アナライザー「RSA−3」(商品名)を用いて、昇温速度5℃/min、周波数10Hz、測定温度−150℃〜300℃の条件で測定される粘弾性カーブにおける、tanδのピーク温度の値を意味する。   In this specification, the “glass transition temperature (Tg)” of a thermoplastic resin or a circuit board is determined by using a viscoelasticity analyzer “RSA-3” (trade name) manufactured by TA Instruments, Inc. It means the value of the peak temperature of tan δ in the viscoelastic curve measured under the conditions of 5 ° C./min, frequency 10 Hz, measurement temperature −150 ° C. to 300 ° C.

本実施形態に係る回路接続材料は、(a)熱可塑性樹脂と、(b)2官能以上のラジカル重合性化合物と、(c)下記一般式(1)又は(2)で表される単官能ラジカル重合性化合物と、(d)ラジカル重合開始剤と、必要により(e)導電粒子とを含有する。   The circuit connecting material according to the present embodiment includes (a) a thermoplastic resin, (b) a bifunctional or higher radical polymerizable compound, and (c) a monofunctional compound represented by the following general formula (1) or (2). It contains a radically polymerizable compound, (d) a radical polymerization initiator, and (e) conductive particles as necessary.

Figure 0006065407
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Figure 0006065407
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式(1)中、Rは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基又はこれらの組み合わせからなる基を示し、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を示し、同一分子中の複数のR及びRはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、nは1〜20の整数を示す。式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を示し、同一分子中の複数のRは同一でも異なっていてもよく、Rは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示し、nは1〜20の整数を示す。 In formula (1), R 1 is an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent, an aliphatic hydrocarbon group which may have a substituent, or an alicyclic ring which may have a substituent. R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 2 and R in the same molecule 4 may be the same or different, and n represents an integer of 1 to 20. In formula (2), R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a plurality of R 4 in the same molecule may be the same or different, and R 5 is a substituted group. The aromatic hydrocarbon group which may have a group is shown, and n shows the integer of 1-20.

式(1)において、Rは、例えば、ヘキサヒドロフタル酸、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、フタル酸及びブタンジオン酸からなる群より選ばれる二塩基酸からカルボキシル基を除いた残基であることが好ましい。nは好ましくは1〜15、より好ましくは1〜10である。式(1)の単官能ラジカル重合性化合物として、好ましくは、N−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、N−アクリロイルオキシエチル−1,2,3,6−テトラヒドロフタルイミド、N−アクリロイルオキシエチル−3,4,5,6−テトラヒドロフタルイミド及びN−アクリロイルオキシエチルマレイミドからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が用いられる。 In the formula (1), R 1 is, for example, a residue obtained by removing a carboxyl group from a dibasic acid selected from the group consisting of hexahydrophthalic acid, cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, phthalic acid and butanedioic acid. It is preferable. n is preferably 1 to 15, more preferably 1 to 10. As the monofunctional radically polymerizable compound of the formula (1), N-acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, N-acryloyloxyethyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalimide, N-acryloyloxyethyl-3, At least one compound selected from the group consisting of 4,5,6-tetrahydrophthalimide and N-acryloyloxyethylmaleimide is used.

式(2)において、Rは、例えば、フェニル基、水酸基及びアルキル基からなる群より選ばれる。nは好ましくは1〜15、より好ましくは1〜10である。式(2)の官能ラジカル重合性化合物として、好ましくは、ヒドロキシエチル化o−フェニルフェノールアクリレート、ヒドロキシブチル化o−フェニルフェノールアクリレート及びヒドロキシへキシル化o−フェニルフェノールアクリレートからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が用いられる。 In the formula (2), R 5 is selected from the group consisting of a phenyl group, a hydroxyl group and an alkyl group, for example. n is preferably 1 to 15, more preferably 1 to 10. The functional radical polymerizable compound of formula (2) is preferably at least one selected from the group consisting of hydroxyethylated o-phenylphenol acrylate, hydroxybutylated o-phenylphenol acrylate and hydroxyhexylated o-phenylphenol acrylate. Seed compounds are used.

式(1)又は(2)で表される単官能ラジカル重合性化合物の量は、熱可塑性樹脂の質量を基準として2〜30質量%であることが好ましい。この量が2質量%以上であることで、回路接続材料の流動性が向上して、接続抵抗の上昇をより一層効果的に抑制することができる。また、この含有量が30質量%以下であると、回路接続材料の機械強度が高まって、より高い接着力を得ることができる。同様の観点から、式(1)又は(2)で表される単官能ラジカル重合性化合物の量の下限は、より好ましくは5質量%であり、さらに好ましくは6質量%である。式(1)又は(2)で表されるラジカル重合性化合物の量の上限は、より好ましくは20質量%であり、さらに好ましくは7.5質量%である。   The amount of the monofunctional radically polymerizable compound represented by the formula (1) or (2) is preferably 2 to 30% by mass based on the mass of the thermoplastic resin. When the amount is 2% by mass or more, the fluidity of the circuit connection material is improved, and the increase in connection resistance can be further effectively suppressed. Moreover, the mechanical strength of a circuit connection material increases that this content is 30 mass% or less, and higher adhesive force can be obtained. From the same viewpoint, the lower limit of the amount of the monofunctional radically polymerizable compound represented by the formula (1) or (2) is more preferably 5% by mass, and further preferably 6% by mass. The upper limit of the amount of the radical polymerizable compound represented by the formula (1) or (2) is more preferably 20% by mass, and further preferably 7.5% by mass.

(a)成分の熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、好ましくは5000〜150000である。重量平均分子量がこの範囲にあることにより、回路接続材料のフィルム形成性及び熱可塑性樹脂の他の成分との相溶性の点で特に優れた効果が得られる。同様の観点から、熱可塑性樹脂の重量平均分子量はより好ましくは10000〜80000である。   (A) The weight average molecular weight of the thermoplastic resin of a component becomes like this. Preferably it is 5000-150,000. When the weight average molecular weight is in this range, a particularly excellent effect can be obtained in terms of film forming property of the circuit connecting material and compatibility with other components of the thermoplastic resin. From the same viewpoint, the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is more preferably 10,000 to 80,000.

本明細書において、重量平均分子量とは、下記に示す条件に従って、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)より標準ポリスチレンによる検量線を用いて測定した値をいう。
(測定条件)
装置:東ソー株式会社製 GPC−8020
検出器:東ソー株式会社製 RI−8020
カラム:日立化成工業株式会社製 Gelpack GL−A−160−S+GL−A150
試料濃度:120mg/3ml
溶媒:テトラヒドロフラン
注入量:60μl
圧力:30kgf/cm
流量:1.00ml/mim
In this specification, a weight average molecular weight means the value measured using the calibration curve by a standard polystyrene from a gel permeation chromatograph (GPC) according to the conditions shown below.
(Measurement condition)
Device: GPC-8020 manufactured by Tosoh Corporation
Detector: RI-8020 manufactured by Tosoh Corporation
Column: Gelpack GL-A-160-S + GL-A150 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
Sample concentration: 120mg / 3ml
Solvent: Tetrahydrofuran Injection volume: 60 μl
Pressure: 30 kgf / cm 2
Flow rate: 1.00 ml / mim

(a)成分の熱可塑性樹脂は、同一分子内にウレタン結合及びエステル結合を有する樹脂(以下、場合により「ポリエステルウレタン樹脂」という。)であってもよい。ウレタン結合は、樹脂の機械的強度を向上させる効果を有する。エステル結合は、樹脂の極性を向上させる効果を有する。これらを同一分子内に有するポリエステルウレタン樹脂を回路接続材料に適用することによって、硬化物の機械的強度向上による接続信頼性の改善、及び樹脂の極性増大による基材への接着力の更なる向上を図ることが可能である。   The thermoplastic resin (a) may be a resin having a urethane bond and an ester bond in the same molecule (hereinafter sometimes referred to as “polyester urethane resin”). The urethane bond has an effect of improving the mechanical strength of the resin. The ester bond has an effect of improving the polarity of the resin. By applying polyester urethane resin having these in the same molecule to circuit connection material, improvement of connection reliability by improving mechanical strength of cured product and further improvement of adhesion to substrate by increasing polarity of resin Can be achieved.

ポリエステルウレタン樹脂は、例えば、ポリエステルポリオールとジイソシアネートとの反応により得ることができる。   The polyester urethane resin can be obtained, for example, by a reaction between a polyester polyol and a diisocyanate.

ポリエステルウレタン樹脂の合成に用いられるポリエステルポリオールは、例えば、ジカルボン酸とジオールとの反応により得ることができる。ジカルボン酸としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、アジピン酸、セバチン酸などが挙げられる。ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコールなどが挙げられる。これらは1種を単独で又は複数を組み合わせて用いることができる。   The polyester polyol used for the synthesis | combination of a polyester urethane resin can be obtained by reaction of dicarboxylic acid and diol, for example. Examples of the dicarboxylic acid include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, adipic acid, and sebacic acid. Examples of the diol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, triethylene glycol and the like. These can be used singly or in combination.

ポリエステルウレタン樹脂の合成に用いられるジイソシアネート化合物は、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、3,3’−ジメチル−4,4’−ビフェニレンジイソシアネート、1、6−ヘキサメチレンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、3,3’−ジメチルジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート、トルエン−2,6−ジイソシアネート、トルエン−2,4−ジイソシアネート、トリエチルヘキサメチレンジイソシアネート及びm−キシレンジイソシアネートからなる群より選ばれる。これらは1種を単独で又は複数を組み合わせて用いることができる。   Examples of the diisocyanate compound used for the synthesis of the polyester urethane resin include 2,4-tolylene diisocyanate, 3,3′-dimethyl-4,4′-biphenylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, and 1,3-phenylene. Diisocyanate, 1,4-phenylene diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, 3,3′-dimethyldiphenylmethane-4,4′-diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate, 4,4 ′ -Diphenylmethane diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, toluene-2,6-diisocyanate, toluene-2,4-diisocyanate, triethylhexamethylene diiso Selected from Aneto the group consisting of m- xylene diisocyanate. These can be used singly or in combination.

回路接続材料に含まれ得る熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、上記ポリエステルウレタン樹脂の他、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。   Preferable specific examples of the thermoplastic resin that can be included in the circuit connecting material include phenoxy resin, polyurethane resin, butyral resin, acrylic resin, polyimide resin, and the like in addition to the polyester urethane resin.

本実施形態に係る回路接続材料は、(a)成分として、2種以上の熱可塑性樹脂を含有していてもよい。特に、熱可塑性樹脂が、60℃以上のガラス転移温度(Tg)を有する第一の樹脂と、−5℃〜40℃のガラス転移温度(Tg)を有する第二の樹脂とを含むことが好ましい。第一の樹脂のガラス転移温度は、60℃〜90℃であることがより好ましく、65℃〜85℃であることがさらに好ましい。ガラス転移温度の異なる2種類以上の熱可塑性樹脂を併用することによって、回路接続材料の流動性及び機械的強度がより一層適性化されて、良好な接続抵抗と十分な接着力を、更に高いレベルで両立できる。第一の樹脂のガラス転移温度が60℃以上であることで、熱可塑性樹脂の耐熱性が向上して、より優れた接続信頼性が得られる。第一の樹脂のガラス転移温度が90℃以下であることで、熱可塑性樹脂の流動性が特に向上して、接続抵抗及び接着力をより一層高いレベルで両立することができる。一方、第二の樹脂のガラス転移温度が−5℃以上であることで、熱可塑性樹脂の耐熱性が特に向上して、より優れた接続信頼性が得られる。第二の樹脂のガラス転移温度が40℃以下であることで、熱可塑性樹脂の流動性が特に向上して、接続抵抗及び接着力をより一層高いレベルで両立することができる。   The circuit connection material which concerns on this embodiment may contain 2 or more types of thermoplastic resins as (a) component. In particular, it is preferable that the thermoplastic resin includes a first resin having a glass transition temperature (Tg) of 60 ° C. or higher and a second resin having a glass transition temperature (Tg) of −5 ° C. to 40 ° C. . The glass transition temperature of the first resin is more preferably 60 ° C to 90 ° C, and further preferably 65 ° C to 85 ° C. By using two or more types of thermoplastic resins with different glass transition temperatures, the fluidity and mechanical strength of the circuit connection material are further optimized to achieve a higher level of good connection resistance and sufficient adhesion. Can be compatible. When the glass transition temperature of the first resin is 60 ° C. or higher, the heat resistance of the thermoplastic resin is improved, and more excellent connection reliability is obtained. When the glass transition temperature of the first resin is 90 ° C. or lower, the fluidity of the thermoplastic resin is particularly improved, and both the connection resistance and the adhesive force can be achieved at a higher level. On the other hand, when the glass transition temperature of the second resin is −5 ° C. or higher, the heat resistance of the thermoplastic resin is particularly improved, and better connection reliability is obtained. When the glass transition temperature of the second resin is 40 ° C. or lower, the fluidity of the thermoplastic resin is particularly improved, and both the connection resistance and the adhesive force can be achieved at a higher level.

例えば、第一の樹脂及び第二の樹脂の両方がポリエステルウレタン樹脂であってもよいし、第一の樹脂又は第二の樹脂としてのポリエステルウレタン樹脂と、ポリエステル以外の樹脂とを組み合わせてもよい。ポリエステルウレタン樹脂のTgは、原料の種類等に基づいて調製することができる。   For example, both of the first resin and the second resin may be a polyester urethane resin, or may be a combination of a polyester urethane resin as the first resin or the second resin and a resin other than the polyester. . The Tg of the polyester urethane resin can be prepared based on the type of raw material.

熱可塑性樹脂として1種類の樹脂を用いる場合であっても、合成条件によって樹脂のガラス転移温度を制御し、熱可塑性樹脂の流動性を向上させることが可能である。ただしこの場合、熱可塑性樹脂の分子量が低下し、硬化物の機械的強度が低下する可能性がある。   Even when one kind of resin is used as the thermoplastic resin, it is possible to control the glass transition temperature of the resin according to the synthesis conditions and improve the fluidity of the thermoplastic resin. However, in this case, the molecular weight of the thermoplastic resin may decrease, and the mechanical strength of the cured product may decrease.

熱可塑性樹脂は、熱可塑性樹脂全体の質量を基準として、−5℃〜40℃のガラス転移温度を有する第二の樹脂5〜60質量%と、残りの第一の樹脂とから構成されることが好ましい。第二の樹脂の比率が5質量%未満であると、耐湿試験後に接着強度が低下しやすい傾向があり、第二の樹脂の比率が60質量%を超えると、回路接続材料の耐熱性が低下する傾向がある。同様の観点から、第二の樹脂の比率は、10〜40質量%であることがより好ましい。   The thermoplastic resin is composed of 5 to 60% by mass of the second resin having a glass transition temperature of −5 ° C. to 40 ° C. and the remaining first resin based on the mass of the entire thermoplastic resin. Is preferred. If the ratio of the second resin is less than 5% by mass, the adhesive strength tends to decrease after the moisture resistance test. If the ratio of the second resin exceeds 60% by mass, the heat resistance of the circuit connecting material decreases. Tend to. From the same viewpoint, the ratio of the second resin is more preferably 10 to 40% by mass.

(a)熱可塑性樹脂の量は、接着剤成分(回路接続材料のうち必要に応じて用いられる導電粒子及び絶縁性粒子以外の成分)の質量を基準として、5質量%以上80質量%以下であることが好ましく、15質量%以上70質量%以下であることがより好ましい。この量が5質量%以上であると、回路接続材料のより良好なフィルム形成性が得られる傾向があり、この量が80質量%以下であると、フィルム状回路接続材料のより優れた流動性が得られる傾向がある。   (A) The amount of the thermoplastic resin is 5% by mass or more and 80% by mass or less based on the mass of the adhesive component (components other than the conductive particles and insulating particles used as necessary among the circuit connecting materials). It is preferable that it is 15 mass% or more and 70 mass% or less. When this amount is 5% by mass or more, there is a tendency that a better film-forming property of the circuit connecting material is obtained. When this amount is 80% by mass or less, more excellent fluidity of the film-like circuit connecting material. Tends to be obtained.

回路接続材料に含有される(b)成分の2官能以上のラジカル重合性化合物としては、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリール基、マレイミド基等のラジカル重合性官能基を2個以上有する化合物を好適に用いることができる。   Examples of the (b) component bifunctional or higher radical polymerizable compound contained in the circuit connecting material include two or more radical polymerizable functional groups such as a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an aryl group, and a maleimide group. The compound which has can be used suitably.

2官能以上のラジカル重合性化合物は、例えば、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO変性2官能(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸EO変性3官能(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンアクリレート、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルのグリシジル基に(メタ)アクリル酸を付加させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンアクリレート、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルのグリシジル基に(メタ)アクリル酸を付加させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルのグリシジル基にエチレングリコール又はプロピレングリコールを付加させて得られる化合物に(メタ)アクリロイルオキシ基を導入した化合物、並びに、下記一般式(A)又は(B)で表される化合物からなる群より選ばれる。   The bifunctional or higher-functional radical polymerizable compound includes, for example, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, polyethylene glycol di ( (Meth) acrylate, polyalkylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, Isocyanuric acid EO-modified bifunctional (meth) acrylate, isocyanuric acid EO-modified trifunctional (meth) acrylate, bisphenoxyethanol fluorene acrylate, bisphenol fluor Epoxy (meth) acrylate obtained by adding (meth) acrylic acid to glycidyl group of range glycidyl ether, epoxy obtained by adding (meth) acrylic acid to glycidyl group of bisphenol fluorenediglycidyl ether (Meth) acrylate, a compound obtained by adding ethylene glycol or propylene glycol to a glycidyl group of bisphenol fluorenediglycidyl ether, a compound obtained by introducing a (meth) acryloyloxy group, and the following general formula (A) or (B) It is selected from the group consisting of compounds represented by:

Figure 0006065407
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式(A)中、R31及びR32はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、a及びbはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。 In formula (A), R 31 and R 32 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each independently represent an integer of 1 to 8.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(B)中、R33及びR34はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、c及びdはそれぞれ独立に0〜8の整数を示す。 In formula (B), R 33 and R 34 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and c and d each independently represent an integer of 0 to 8.

(b)成分のラジカル重合性化合物として、単独で30℃に静置した場合にワックス状、ろう状、結晶状、ガラス状、粉状等、流動性の無い固体状態となる化合物を用いることもできる。このようなラジカル重合性化合物としては、具体的には、N,N’−メチレンビスアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、N−フェニルマレイミド、N−(o−メチルフェニル)マレイミド、N−(m−メチルフェニル)マレイミド、N−(p−メチルフェニル)−マレイミド、N−(o−メトキシフェニル)マレイミド、N−(m−メトキシフェニル)マレイミド、N−(p−メトキシフェニル)−マレイミド、N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−オクチルマレイミド、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、N−メタクリロキシマレイミド、N−アクリロキシマレイミド、1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン、N−メタクリロイルオキシコハク酸イミド、N−アクリロイルオキシコハク酸イミド、2−ナフチルメタクリレート、2−ナフチルアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジビニルエチレン尿素、ジビニルプロピレン尿素、2−ポリスチリルエチルメタクリレート、N−フェニル−N’−(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)−p−フェニレンジアミン、テトラメチルピペリジルメタクリレート、テトラメチルピペリジルアクリレート、ペンタメチルピペリジルメタクリレート、ペンタメチルピペリジルアクリレート、オクタデシルアクリレート、N−t−ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−(ヒドロシキメチル)アクリルアミド、下記一般式(C)、(D)、(E)、(F)、(H)、(I)、(J)、(K)又は(L)で表される化合物等が挙げられる。   As the radically polymerizable compound of component (b), a compound that becomes a solid state having no fluidity, such as waxy, waxy, crystalline, glassy, powdery, etc. when left alone at 30 ° C. may be used. it can. Specific examples of such radically polymerizable compounds include N, N′-methylenebisacrylamide, diacetone acrylamide, N-methylolacrylamide, N-phenylmethacrylamide, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, Tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, N-phenylmaleimide, N- (o-methylphenyl) maleimide, N- (m-methylphenyl) maleimide, N- (p-methylphenyl) -maleimide, N- ( o-methoxyphenyl) maleimide, N- (m-methoxyphenyl) maleimide, N- (p-methoxyphenyl) -maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-octylmaleimide, 4,4′-diphenylmethanebis Maleimide, m-pheny Bismaleimide, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, N-methacryloxymaleimide, N-acryloxymaleimide 1,6-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane, N-methacryloyloxysuccinimide, N-acryloyloxysuccinimide, 2-naphthyl methacrylate, 2-naphthyl acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, Divinylethyleneurea, divinylpropyleneurea, 2-polystyrylethyl methacrylate, N-phenyl-N ′-(3-methacryloyloxy-2-hydroxypropyl) -p-phenylenediamine, N-phenyl-N ′-(3-acryloyl) Oxy -Hydroxypropyl) -p-phenylenediamine, tetramethylpiperidyl methacrylate, tetramethylpiperidyl acrylate, pentamethylpiperidyl methacrylate, pentamethylpiperidyl acrylate, octadecyl acrylate, Nt-butylacrylamide, diacetone acrylamide, N- (hydroxymethyl) ) Acrylamide, compounds represented by the following general formula (C), (D), (E), (F), (H), (I), (J), (K) or (L). .

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(C)中、eは1〜10の整数を示す。   In formula (C), e represents an integer of 1 to 10.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(E)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、gは15〜30の整数を示す。 In formula (E), R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and g represents an integer of 15 to 30.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(F)中、Rはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。 In formula (F), each R 9 independently represents a hydrogen atom or a methyl group.

Figure 0006065407
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式(G)中、R10はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、hは1〜10の整数を示す。 In formula (G), each R 10 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and h represents an integer of 1 to 10.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(H)中、R11はそれぞれ独立に水素原子又は下記一般式(i)若しくは(ii)で表される有機基を示し、iは1〜10の整数を示す。 In formula (H), each R 11 independently represents a hydrogen atom or an organic group represented by the following general formula (i) or (ii), and i represents an integer of 1 to 10.

Figure 0006065407
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Figure 0006065407
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・・・(I)

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... (I)

式(I)中、R12は水素原子又は下記一般式(iii)若しくは(iv)で表される有機基を示し、jは1〜10の整数を示す。同一分子中の複数のR12は同一でも異なっていてもよい。 In the formula (I), R 12 represents a hydrogen atom or an organic group represented by the following general formula (iii) or (iv), and j represents an integer of 1 to 10. A plurality of R 12 in the same molecule may be the same or different.

Figure 0006065407
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Figure 0006065407
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(b)成分のラジカル重合性化合物として、ウレタン(メタ)アクリレートを、単独で又は他のラジカル重合性化合物と共に用いることができる。ウレタン(メタ)アクリレートを用いることで、硬化物の可とう性が向上し、PET、PC、PEN等の有機基材に対する接着強度をより一層向上させることができる。   As the radically polymerizable compound of component (b), urethane (meth) acrylate can be used alone or in combination with other radically polymerizable compounds. By using urethane (meth) acrylate, the flexibility of the cured product is improved, and the adhesive strength to organic substrates such as PET, PC, PEN and the like can be further improved.

ウレタン(メタ)アクリレートとしては、特に制限はないが、下記一般式(J)で表される化合物が好ましい。式(J)で表されるウレタン(メタ)アクリレートは、脂肪族又は脂環式ジイソシアネートと、少なくとも1種類の脂肪族若しくは脂環式エステルジオール又は脂肪族若しくは脂環式カーボネートジオールとの縮合反応により得ることができる。   Although there is no restriction | limiting in particular as urethane (meth) acrylate, The compound represented by the following general formula (J) is preferable. The urethane (meth) acrylate represented by the formula (J) is obtained by a condensation reaction between an aliphatic or alicyclic diisocyanate and at least one aliphatic or alicyclic ester diol or aliphatic or alicyclic carbonate diol. Can be obtained.

Figure 0006065407
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式(J)中、R15及びR16はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、R17はエチレン基又はプロピレン基を示し、R18は飽和脂肪族基又は飽和脂環式基を示し、R19はエステル基を有する飽和脂肪族基若しくは飽和脂環式基、又はカーボネート基を有する飽和脂肪族基若しくは飽和脂環式基を示し、kは1〜40の整数を示す。式中、同一分子中の複数のR15、R16、R17、及びR18は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。R18は、脂肪族又は脂環式ジイソシアネートの残基であり、R19は、脂肪族若しくは脂環式エステルジオール又は脂肪族若しくは脂環式カーボネートジオールの残基である。 In formula (J), R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 17 represents an ethylene group or a propylene group, R 18 represents a saturated aliphatic group or a saturated alicyclic group, R 19 represents a saturated aliphatic group or saturated alicyclic group having an ester group, or a saturated aliphatic group or saturated alicyclic group having a carbonate group, and k represents an integer of 1 to 40. In the formula, a plurality of R 15 , R 16 , R 17 , and R 18 in the same molecule may be the same or different. R 18 is a residue of an aliphatic or alicyclic diisocyanate, and R 19 is a residue of an aliphatic or alicyclic ester diol or an aliphatic or alicyclic carbonate diol.

ウレタン(メタ)アクリレートを構成する脂肪族ジイソシアネートは、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、3−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレン−1,6−ジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレン−1,6−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、及び水素添加トリメチルキシリレンジイソシアネートからなる群より選択される。   The aliphatic diisocyanate constituting the urethane (meth) acrylate is, for example, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, 3-methylpentane-1,5-diisocyanate, 2, 2,4-trimethylhexamethylene-1,6-diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene-1,6-diisocyanate, isophorone diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, and hydrogenation Selected from the group consisting of trimethylxylylene diisocyanate.

ウレタン(メタ)アクリレートを構成する脂肪族エステルジオールは、グリコール類と二塩基酸又はその酸無水物とを脱水縮合させて得られるポリエステルジオールであってもよいし、ε−カプロラクトン等の環状エステル化合物を開環重合して得られるエステルジオールであってもよい。これらは、1種単独で、又は複数種を組み合わせて用いられる。   The aliphatic ester diol constituting the urethane (meth) acrylate may be a polyester diol obtained by dehydration condensation of a glycol and a dibasic acid or an acid anhydride thereof, or a cyclic ester compound such as ε-caprolactone. It may be an ester diol obtained by ring-opening polymerization. These are used individually by 1 type or in combination of multiple types.

ポリエステルジオールを得るために用いられるグリコール類は、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,2−ペンタンジオール、1,4−ペンタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2、4−ジメチル−2,4−ペンタンジオール、2、2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,5−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2、5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、1,2−オクタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,2−デカンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−デカンジオール、ドデカンジオール、ピナコール、1,4−ブチンジオール、トリエチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、及び1,4−シクロヘキサンジメタノールからなる群より選ばれる。二塩基酸は、例えば、アジピン酸、3−メチルアジピン酸、2,2,5,5−テトラメチルアジピン酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、2,2−ジメチルコハク酸、2−エチル−2−メチルコハク酸、2,3−ジメチルコハク酸、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ブチルマロン酸、ジメチルマロン酸、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、3,3−ジメチルグルタル酸、2,4−ジメチルグルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、及びセバシン酸からなる群より選ばれる。   The glycols used to obtain the polyester diol are, for example, ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl. Glycol, 1,2-pentanediol, 1,4-pentanediol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,4-dimethyl-2,4 -Pentanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,2-hexanediol, 1,5-hexanediol, 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, 2-ethyl -1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,2-octane Diol, 1,8-octanediol, 1,7-heptanediol, 1,9-nonanediol, 1,2-decanediol, 1,10-decanediol, 1,12-decanediol, dodecanediol, pinacol, 1 , 4-butynediol, triethylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, cyclohexane dimethanol, and 1,4-cyclohexane dimethanol. Examples of the dibasic acid include adipic acid, 3-methyladipic acid, 2,2,5,5-tetramethyladipic acid, maleic acid, fumaric acid, succinic acid, 2,2-dimethylsuccinic acid, 2-ethyl- 2-methylsuccinic acid, 2,3-dimethylsuccinic acid, oxalic acid, malonic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, butylmalonic acid, dimethylmalonic acid, glutaric acid, 2-methylglutaric acid, 3-methylglutaric acid, It is selected from the group consisting of 2,2-dimethylglutaric acid, 3,3-dimethylglutaric acid, 2,4-dimethylglutaric acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, and sebacic acid.

ウレタン(メタ)アクリレートを構成するポリカーボネートジオールは、例えば、少なくとも1種類の上記グリコール類とホスゲンとの反応によって得らることができる。グリコール類とホスゲンとの反応によって得られるポリカーボネートジオールは、1種単独で又は2種類以上を組み合わせて用いられる。   The polycarbonate diol constituting the urethane (meth) acrylate can be obtained, for example, by a reaction between at least one kind of the above glycols and phosgene. The polycarbonate diol obtained by reaction of glycols and phosgene is used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量は、PET、PC、PEN等の樹脂を含む有機基材に対する接着強度向上の観点から、5000以上30000未満であってもよい。重量平均分子量が係る数値範囲内にあるウレタン(メタ)アクリレートは、適度な柔軟性及び凝集力の両方を有する。その結果、PET、PC、PEN等の有機基材との接着強度が向上し、優れた接続信頼性を得ることができる。同様の観点から、ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量は、80000以上25000未満であることがより好ましく、10000以上20000未満であることがさらに好ましい。ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量が5000以上であることで、より優れた可とう性が得られる傾向があり、ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量30000未満であると、回路接続材料のより良好な流動性が得られる傾向がある。   The weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate may be 5000 or more and less than 30000 from the viewpoint of improving the adhesive strength to an organic substrate containing a resin such as PET, PC, or PEN. A urethane (meth) acrylate having a weight average molecular weight within such a numerical range has both moderate flexibility and cohesion. As a result, the adhesive strength with organic substrates such as PET, PC, PEN and the like can be improved, and excellent connection reliability can be obtained. From the same viewpoint, the weight average molecular weight of urethane (meth) acrylate is more preferably 80000 or more and less than 25000, and further preferably 10,000 or more and less than 20000. When the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is 5000 or more, more excellent flexibility tends to be obtained. When the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate is less than 30000, the circuit connection material Good fluidity tends to be obtained.

回路接続材料において、(b)成分の2官能以上のラジカル重合性化合物及び(c)成分の単官能のラジカル重合性化合物の合計量は、熱可塑性樹脂100質量部に対して、50〜250質量部であることが好ましく、60〜150質量部であることがより好ましい。この量が50質量部以上であると、硬化後の耐熱性がより向上する傾向があり、この量が250質量部以下であると、回路接続材料のより良好なフィルム形成性が得られる傾向がある。   In the circuit connecting material, the total amount of the bifunctional or higher functional radical polymerizable compound (b) and the monofunctional radical polymerizable compound (c) is 50 to 250 masses per 100 parts by mass of the thermoplastic resin. Part, preferably 60 to 150 parts by weight. When this amount is 50 parts by mass or more, the heat resistance after curing tends to be further improved, and when this amount is 250 parts by mass or less, better film formability of the circuit connecting material tends to be obtained. is there.

回路接続材料が含有する(d)ラジカル重合開始剤は、有機過酸化物、アゾ化合物等、外部からのエネルギーの付与によりラジカルを発生する化合物であればよい。ラジカル重合開始剤としては、安定性、反応性、相溶性の観点から、1分間半減期温度が90℃以上175℃以下で、かつ分子量が180以上1000以下の有機過酸化物が好ましい。ラジカル重合開始剤の1分間半減期温度がこの範囲にあることで、貯蔵安定性に優れ、ラジカル重合性も充分に高く、短時間で硬化する回路接続材料を得ることができる。   The (d) radical polymerization initiator contained in the circuit connecting material may be a compound that generates radicals by external energy application, such as an organic peroxide or an azo compound. The radical polymerization initiator is preferably an organic peroxide having a 1 minute half-life temperature of 90 ° C. or more and 175 ° C. or less and a molecular weight of 180 or more and 1000 or less from the viewpoints of stability, reactivity, and compatibility. When the one-minute half-life temperature of the radical polymerization initiator is within this range, a circuit connection material that is excellent in storage stability, sufficiently high in radical polymerization, and cured in a short time can be obtained.

ラジカル重合開始剤は、例えば、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、クミルパーオキシネオデカノエート、ジラウロイルパーオキサイド、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−アミルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、3−ヒドロキシ−1,1−ジメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルパーオキシネオデカノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ(4−メチルベンゾイル)パーオキサイド、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(3−メチルベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジブチルパーオキシトリメチルアジペート、t−アミルパーオキシノルマルオクトエート、t−アミルパーオキシイソノナノエート、t−アミルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物、並びに、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリン酸)、1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)等のアゾ化合物からなる群より選ばれる。これらの化合物は、単独で、又は2種以上を組み合わせて用いられる。   Examples of the radical polymerization initiator include 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, and di (2-ethylhexyl) peroxydicarbonate. , Cumylperoxyneodecanoate, dilauroyl peroxide, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t -Butyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethyl Xanoate, t-butylperoxyneoheptanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-amylperoxy-3,5,5-trimethylhexa Noate, 3-hydroxy-1,1-dimethylbutylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxyneodecanoate , T-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di (3-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, di (4-methylbenzoyl) peroxide, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t- Butyl peroxymaleic acid, t-butyl peroxy-3,5, -Trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (3-methylbenzoylperoxy) hexane, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexyl Peroxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxybenzoate, dibutylperoxytrimethyladipate, t-amylperoxynormal octoate, t-amylperoxyisono Organic peroxides such as nanoate, t-amylperoxybenzoate, and 2,2′-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane), 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), dimethyl-2,2′-azobisisobutyronitrile, 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), 1,1′-azobis (1-cyclohexanecarbonitrile), etc. Selected from the group consisting of: These compounds are used alone or in combination of two or more.

ラジカル重合開始剤としては、150nm以上750nm以下の光照射によってラジカルを発生する化合物を用いることができる。このような化合物としては、例えば、Photoinitiation,Photopolymerization,and Photocuring,J.−P. Fouassier,Hanser Publishers(1995年、p17〜p35)に記載されているα−アセトアミノフェノン誘導体及びホスフィンオキサイド誘導体が、光照射に対する感度が高いためより好ましい。これらの化合物は、単独で、又は上記有機過酸化物若しくはアゾ化合物と組み合わせて用いられる。   As the radical polymerization initiator, a compound that generates radicals by light irradiation of 150 nm or more and 750 nm or less can be used. Such compounds include, for example, Photoinitiation, Photopolymerization, and Photocuring, J. Mol. -P. The α-acetaminophenone derivative and the phosphine oxide derivative described in Fouassier, Hanser Publishers (1995, p17 to p35) are more preferable because of their high sensitivity to light irradiation. These compounds are used alone or in combination with the above organic peroxides or azo compounds.

ラジカル重合開始剤の量は、接着剤成分(回路接続材料のうち必要に応じて用いられる導電粒子及び絶縁性粒子以外の成分)の質量を基準として、0.5質量%以上40質量%以下であることが好ましく、1質量%以上30質量%以下であることがより好ましく、2質量%以上20質量%以下がさらに好ましい。ラジカル重合開始剤の量が0.5質量%部以上であると、回路接続材料が充分に硬化し易くなる傾向があり、ラジカル重合開始剤の量が40質量%以下であると、貯蔵安定性が向上する傾向がある。   The amount of the radical polymerization initiator is 0.5% by mass or more and 40% by mass or less based on the mass of the adhesive component (components other than the conductive particles and insulating particles used as necessary among the circuit connection materials). It is preferably 1% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 20% by mass or less. When the amount of the radical polymerization initiator is 0.5% by mass or more, the circuit connecting material tends to be sufficiently cured, and when the amount of the radical polymerization initiator is 40% by mass or less, storage stability is obtained. Tend to improve.

回路接続材料が含有する(e)導電粒子は、その全体又は表面が導電性材料から構成される粒子であればよい。回路接続材料を接続端子(回路電極)を有する回路部材の接続に使用する場合、接続端子間距離よりも導電粒子の平均粒径が小さいことが好ましい。   The (e) conductive particles contained in the circuit connecting material may be particles whose whole or surface is composed of a conductive material. When the circuit connection material is used for connection of a circuit member having connection terminals (circuit electrodes), it is preferable that the average particle diameter of the conductive particles is smaller than the distance between the connection terminals.

導電粒子としては、Au、Ag、Ni、Cu、Pd、はんだ等の金属粒子、カーボン粒子などが挙げられる。導電粒子は、核としての非導電性のガラス、セラミック又はプラスチック等の粒子と、この核を被覆する金属層、金属粒子又はカーボン粒子と有する複合粒子であってもよい。導電粒子が、上記複合粒子又は熱溶融性の金属粒子であると、加熱加圧により導電粒子が変形するため、接続時に電極との接触面積が増加し、特に高い信頼性が得られる。導電粒子は、例えば、銅粒子と、銅粒子を被覆する銀層とを有する粒子であってもよい。導電粒子として、特開2005−116291号公報に記載されるような、微細な金属粒子が多数、鎖状に繋がった形状を有する金属粉末を用いることもできる。   Examples of the conductive particles include metal particles such as Au, Ag, Ni, Cu, Pd, and solder, and carbon particles. The conductive particles may be composite particles having particles such as non-conductive glass, ceramic, or plastic as a core and metal layers, metal particles, or carbon particles covering the core. When the conductive particles are the composite particles or the heat-meltable metal particles, the conductive particles are deformed by heating and pressurization, so that the contact area with the electrode is increased at the time of connection, and particularly high reliability is obtained. The conductive particles may be, for example, particles having copper particles and a silver layer that covers the copper particles. As the conductive particles, a metal powder having a shape in which a large number of fine metal particles are connected in a chain shape as described in JP-A-2005-116291 can be used.

導電粒子は、導電性の表面を被覆する絶縁性粒子、又は、ハイブリダイゼーション等の方法により設けられた、導電性の表面を被覆する絶縁性物質からなる絶縁層を有していてもよい。このような導電粒子を用いることで、隣接する導電粒子同士の接触による短絡が生じにくくなる。   The conductive particle may have an insulating layer made of an insulating material covering the conductive surface, or an insulating particle covering the conductive surface, or a method such as hybridization. By using such conductive particles, short circuit due to contact between adjacent conductive particles is less likely to occur.

導電粒子の平均粒径は、分散性、導電性の点から1μm以上18μm以下であることが好ましい。   The average particle diameter of the conductive particles is preferably 1 μm or more and 18 μm or less from the viewpoint of dispersibility and conductivity.

導電粒子の量は、特に制限は受けないが、回路接続材料の全体積を基準として0.1体積%以上30体積%以下であることが好ましく、0.1体積%以上10体積%以下であることがより好ましい。導電粒子の量が0.1体積%以上であると導電性がより向上する傾向があり、導電粒子の量が30体積%以下であると回路の短絡がより生じ難くなる傾向がある。ここでいう「体積%」は、23℃の硬化前の各成分の体積をもとに算出される。各成分の体積は、比重を利用して質量から換算して求めることができる。あるいは、体積を求める成分を溶解したり膨潤させたりせず、その成分をよく濡らす適当な溶媒(水、アルコール等)をメスシリンダーに入れ、そこにその成分を投入し、増加した体積をその成分の体積として求めることもできる。   The amount of the conductive particles is not particularly limited, but is preferably 0.1% by volume to 30% by volume based on the total volume of the circuit connecting material, and is 0.1% by volume to 10% by volume. It is more preferable. When the amount of the conductive particles is 0.1% by volume or more, the conductivity tends to be further improved, and when the amount of the conductive particles is 30% by volume or less, a short circuit tends to be less likely to occur. Here, “volume%” is calculated based on the volume of each component before curing at 23 ° C. The volume of each component can be determined by conversion from mass using specific gravity. Alternatively, do not dissolve or swell the component whose volume is to be obtained, put an appropriate solvent (water, alcohol, etc.) that wets the component well into the graduated cylinder, put the component there, and add the increased volume to the component. It can also obtain | require as a volume of.

本実施形態に係る回路接続材料は、(e)分子内に1つ以上のリン酸基を有するビニル化合物を、(a)成分及び(b)成分とは別に含有していてもよい。リン酸基を有するビニル化合物としては、例えば、下記一般式(N)、(O)又は(P)で表される化合物が挙げられる。   The circuit connecting material according to the present embodiment may contain (e) a vinyl compound having one or more phosphate groups in the molecule separately from the component (a) and the component (b). As a vinyl compound which has a phosphoric acid group, the compound represented by the following general formula (N), (O) or (P) is mentioned, for example.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(N)中、R20は(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、R21は水素原子又はメチル基を示し、l及びmはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。同一分子内の複数のR20、R21、l及びmはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。 In formula (N), R 20 represents a (meth) acryloyloxy group, R 21 represents a hydrogen atom or a methyl group, and l and m each independently represent an integer of 1 to 8. A plurality of R 20 , R 21 , l and m in the same molecule may be the same or different.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(O)中、R22は(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、s、o及びpはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。同一分子中の複数のR22、s、o及びpはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。 In the formula (O), R 22 represents a (meth) acryloyloxy group, and s, o and p each independently represent an integer of 1 to 8. A plurality of R 22 s, o and p in the same molecule may be the same or different.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

式(P)中、R23は(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、R24は水素原子又はメチル基を示し、q及びrはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。同一分子中の複数のR24及びqはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。 In formula (P), R 23 represents a (meth) acryloyloxy group, R 24 represents a hydrogen atom or a methyl group, and q and r each independently represents an integer of 1 to 8. A plurality of R 24 and q in the same molecule may be the same or different.

(f)成分のビニル化合物として具体的には、アシッドホスホオキシエチル(メタ)アクリレート、アシッドホスホオキシプロピル(メタ)アクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、2,2’−ジ(メタ)アクリロイロキシジエチルホスフェート、EO変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、リン酸変性エポキシ(メタ)アクリレート、リン酸ビニル等が挙げられる。   Specific examples of the vinyl compound (f) include acid phosphooxyethyl (meth) acrylate, acid phosphooxypropyl (meth) acrylate, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol mono (meth) acrylate, and acid phosphooxypolyoxypropylene. Examples include glycol mono (meth) acrylate, 2,2′-di (meth) acryloyloxydiethyl phosphate, EO-modified phosphoric acid di (meth) acrylate, phosphoric acid-modified epoxy (meth) acrylate, and vinyl phosphate.

本実施形態に係る回路接続材料において、(f)成分のビニル化合物の含有量は、熱可塑性樹脂50質量部に対して、0.1〜15質量部であることが好ましく、0.5〜10質量部であることがより好ましい。この含有量が0.1質量部以上であると、優れた接着強度の効果が得られる傾向があり、この含有量が15質量部以下であると、硬化後の回路接続材料の物性低下が生じ難く、優れた信頼性の効果が得られる傾向がある。   In the circuit connecting material according to the present embodiment, the content of the vinyl compound as the component (f) is preferably 0.1 to 15 parts by mass with respect to 50 parts by mass of the thermoplastic resin. More preferably, it is part by mass. If this content is 0.1 parts by mass or more, an excellent effect of adhesive strength tends to be obtained, and if this content is 15 parts by mass or less, the physical properties of the circuit connection material after curing are reduced. It is difficult to obtain an excellent reliability effect.

本実施形態に係る回路接続材料は、ガラス基材などに対する接着力を向上させるために、カップリング剤を含んでいてもよい。カップリング剤としては、特に制限なく通常の化合物を使用するこことができるが、分子内に1つ以上のアルコキシ酸基を有するシラン化合物が好ましい。好ましいカップリング剤として、例えば3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルトリエトキシシラン等が挙げられる。   The circuit connecting material according to the present embodiment may contain a coupling agent in order to improve the adhesive force to a glass substrate or the like. As the coupling agent, a normal compound can be used without particular limitation, but a silane compound having one or more alkoxy acid groups in the molecule is preferable. Examples of preferred coupling agents include 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyltriethoxysilane, and the like.

カップリング剤の量は、熱可塑性樹脂50質量部に対して、0.1〜15質量部であることが好ましく、0.5〜10質量部であることがより好ましい。カップリング剤の量が0.1質量部以上であると、接着強度向上の効果がより大きくなる傾向があり、カップリング剤の量が15質量部以下であると、硬化後の回路接続材料の物性低下が生じ難く、優れた信頼性の効果が得られる傾向がある。   The amount of the coupling agent is preferably 0.1 to 15 parts by mass and more preferably 0.5 to 10 parts by mass with respect to 50 parts by mass of the thermoplastic resin. When the amount of the coupling agent is 0.1 parts by mass or more, the effect of improving the adhesive strength tends to be larger, and when the amount of the coupling agent is 15 parts by mass or less, the cured circuit connection material There is a tendency that physical properties are hardly lowered and an excellent reliability effect is obtained.

回路接続材料は、応力緩和効果の向上又は回路接続材料の機械強度向上を目的に、絶縁性粒子を含むことができる。この絶縁性微粒子としては、特に制限なく通常の粒子を使用するこことができる。例えば、シリコーン微粒子、窒化ホウ素、マイカ、アルミナ、有機微粒子、ゴム粒子等を好適に使用できる。   The circuit connecting material can contain insulating particles for the purpose of improving the stress relaxation effect or improving the mechanical strength of the circuit connecting material. As the insulating fine particles, ordinary particles can be used without particular limitation. For example, silicone fine particles, boron nitride, mica, alumina, organic fine particles, rubber particles and the like can be suitably used.

回路接続材料における絶縁性微粒子の量は、熱可塑性樹脂50質量部に対して、0.5〜30質量部であることが好ましく、1〜25質量部であることがより好ましい。絶縁性微粒子の量が0.5質量部以上であると、優れた接着強度の効果が得られる傾向があり、絶縁性微粒子の量が30質量部以下であると、硬化後の回路接続材料の物性低下が生じ難く、優れた信頼性の効果が得られる傾向がある。   The amount of the insulating fine particles in the circuit connecting material is preferably 0.5 to 30 parts by mass and more preferably 1 to 25 parts by mass with respect to 50 parts by mass of the thermoplastic resin. When the amount of the insulating fine particles is 0.5 parts by mass or more, there is a tendency to obtain an excellent adhesive strength effect, and when the amount of the insulating fine particles is 30 parts by mass or less, the cured circuit connection material There is a tendency that physical properties are hardly lowered and an excellent reliability effect is obtained.

回路接続材料は、硬化速度の制御及び貯蔵安定性のために、安定化剤を含んでいてもよい。この安定化剤としては、特に制限なく通常の化合物を使用することができる。安定化剤としては、ベンゾキノン、ハイドロキノン等のキノン誘導体、4−メトキシフェノール、4−t−ブチルカテコール等のフェノール誘導体、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル等のアミノキシル誘導体、テトラメチルピペリジルメタクリレート等のヒンダードアミン誘導体などが好ましい。   The circuit connection material may contain a stabilizer for control of the curing rate and storage stability. As the stabilizer, ordinary compounds can be used without any particular limitation. Stabilizers include quinone derivatives such as benzoquinone and hydroquinone, phenol derivatives such as 4-methoxyphenol and 4-t-butylcatechol, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-hydroxy- Aminoxyl derivatives such as 2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, hindered amine derivatives such as tetramethylpiperidyl methacrylate, and the like are preferable.

安定化剤の量は、熱可塑性樹脂の質量を基準として、0.01〜30質量%であることが好ましく、0.05〜10質量%であることがより好ましい。安定化剤の量が0.01質量%以上であると、添加による効果が得られやすい傾向があり、安定化剤の量が30質量%以下であると、他の成分との相溶性が向上する傾向がある。   The amount of the stabilizer is preferably 0.01 to 30% by mass, and more preferably 0.05 to 10% by mass based on the mass of the thermoplastic resin. If the amount of the stabilizer is 0.01% by mass or more, the effect due to the addition tends to be easily obtained, and if the amount of the stabilizer is 30% by mass or less, compatibility with other components is improved. Tend to.

回路接続材料は、常温で液状である場合にはペースト状であってもよい。室温で固形の回路接続材料は、加熱又は溶媒の添加によりペースト化してもよい。使用できる溶媒としては、回路接続材料を構成する各成分との反応性がなく、かつ充分な溶解性を示すものが好ましい。溶媒の常圧での沸点は50℃以上150℃以下であることが好ましい。溶媒の沸点が50℃未満であると、回路接続材料を室温で放置したときに揮発する傾向が高まり、開放系での使用が困難となる傾向にある。溶媒の沸点が150℃を超えると、溶媒を揮発させることが困難で、接着後の信頼性向上の効果の低下を招く可能性がある。   The circuit connecting material may be in the form of a paste when it is liquid at room temperature. The circuit connection material that is solid at room temperature may be made into a paste by heating or adding a solvent. As the solvent that can be used, a solvent that is not reactive with each component constituting the circuit connecting material and exhibits sufficient solubility is preferable. The boiling point of the solvent at normal pressure is preferably 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. If the boiling point of the solvent is less than 50 ° C., the tendency to volatilize when the circuit connecting material is allowed to stand at room temperature tends to be difficult to use in an open system. When the boiling point of the solvent exceeds 150 ° C., it is difficult to volatilize the solvent, and the effect of improving reliability after bonding may be reduced.

回路接続材料は、フィルム状に成形してフィルム状接着剤として用いることもできる。回路接続材料に必要により溶媒等を加えるなどして得た溶液を、フッ素樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、離型紙等の剥離性基材上に塗布し、又は不織布等の基材に上記溶液を含浸させて剥離性基材上に載置し、溶媒等を除去してフィルム状接着剤として使用することができる。フィルムの形状で使用すると取扱性等の点から一層便利である。   The circuit connection material can be formed into a film and used as a film adhesive. A solution obtained by adding a solvent or the like to the circuit connection material as necessary is applied on a peelable substrate such as a fluororesin film, a polyethylene terephthalate film, or a release paper, or a substrate such as a nonwoven fabric is impregnated with the above solution. It is made to mount on a peelable base material, a solvent etc. are removed and it can be used as a film adhesive. Use in the form of a film is more convenient from the viewpoint of handleability.

本実施形態に係る回路接続材料は、例えば、異方導電接着剤、銀ペースト又は銀フィルムとして使用することができる。   The circuit connection material which concerns on this embodiment can be used as an anisotropic conductive adhesive, a silver paste, or a silver film, for example.

図1は、フィルム状回路接続用材料を備える回路接続シートの一実施形態を示す模式断面図である。図1に示す回路接続シート100は、シート状の基材12と、基材12の主面に密着して設けられたフィルム状回路接続材料10とを有する。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a circuit connection sheet including a film-like circuit connection material. A circuit connection sheet 100 shown in FIG. 1 includes a sheet-like base material 12 and a film-like circuit connection material 10 provided in close contact with the main surface of the base material 12.

フィルム状回路接続材料10は、上述の実施形態に係る回路接続材料をフィルム状に成形したものである。フィルム状回路接続材料の厚みは、特に制限されないが、例えば3〜50μmである。   The film-like circuit connection material 10 is obtained by forming the circuit connection material according to the above-described embodiment into a film shape. The thickness of the film-like circuit connecting material is not particularly limited, but is, for example, 3 to 50 μm.

基材12としては、例えば、フッ素樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム又は離型紙等の剥離性基材を用いることができる。基材12の厚みは、特に制限されないが、例えば10〜100μmである。   As the substrate 12, for example, a peelable substrate such as a fluororesin film, a polyethylene terephthalate film, or a release paper can be used. Although the thickness in particular of the base material 12 is not restrict | limited, For example, it is 10-100 micrometers.

図2は、回路接続体の一実施形態を示す模式断面図である。図2に示す回路接続体200は、第一の回路部材20と、第二の回路部材30と、第一の回路部材20及び第二の回路部材30の間に形成された接続部16とから構成される。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of a circuit connector. The circuit connection body 200 shown in FIG. 2 includes a first circuit member 20, a second circuit member 30, and a connection portion 16 formed between the first circuit member 20 and the second circuit member 30. Composed.

接続部16は、例えば、上述の実施形態に係る回路接続材料が加熱により硬化して形成される硬化物である。接続部16は、完全硬化(所定の硬化条件で達成できる最高度の硬化)に達している必要はなく、実用上問題ない範囲で部分硬化の状態であってもよい。   The connection part 16 is, for example, a cured product formed by curing the circuit connection material according to the above-described embodiment by heating. The connecting portion 16 does not have to reach full curing (the highest degree of curing that can be achieved under predetermined curing conditions), and may be in a partially cured state as long as there is no practical problem.

第一の回路部材20は、第一の回路基板21と第一の回路基板21の主面21a上に設けられた第一の回路電極22とを有する。第二の回路部材30は、第二の回路基板31と第二の回路基板31の主面31a上に設けられた第二の回路電極32を有する。第一の回路基板21と第二の回路基板31とは、接続部16を介して、第一の回路電極22と第二の回路電極32とが向かい合うように接続されている。第一の回路基板21及び第二の回路基板31の主面21a、31a上には、それぞれ場合により絶縁層が形成されていてもよい。   The first circuit member 20 includes a first circuit board 21 and a first circuit electrode 22 provided on the main surface 21 a of the first circuit board 21. The second circuit member 30 includes a second circuit board 31 and a second circuit electrode 32 provided on the main surface 31 a of the second circuit board 31. The first circuit board 21 and the second circuit board 31 are connected via the connection portion 16 so that the first circuit electrode 22 and the second circuit electrode 32 face each other. An insulating layer may be formed on the main surfaces 21a and 31a of the first circuit board 21 and the second circuit board 31, respectively.

第一の回路基板21及び第二の回路基板31のうち少なくとも一方は、200℃以下のガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂を含む有機基材であってもよい。200℃以下のガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む。このような熱可塑性樹脂を含む有機基材を有する回路部材を接続する場合であっても、本実施形態に係る回路接続材料によれば、十分に優れた接着強度及び接続信頼性を得ることができる。その理由の一つは、本実施形態に係る回路接続材料が、これら熱可塑性樹脂を含む有機基材に対して高い濡れ性を有していることにあると考えられる。同様の観点から、第一の回路基板21及び第二の回路基板31のうち少なくとも一方が、200℃以下のガラス転移温度を有する有機基材であってもよい。   At least one of the first circuit board 21 and the second circuit board 31 may be an organic base material including a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower. The thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or less includes, for example, at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. Even when a circuit member having an organic base material containing such a thermoplastic resin is connected, the circuit connection material according to the present embodiment can obtain sufficiently excellent adhesive strength and connection reliability. it can. One of the reasons is considered that the circuit connection material according to the present embodiment has high wettability with respect to the organic base material containing these thermoplastic resins. From the same viewpoint, at least one of the first circuit board 21 and the second circuit board 31 may be an organic base material having a glass transition temperature of 200 ° C. or less.

第一の回路基板21及び第二の回路基板31のうち、一方の回路基板が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含み、もう一方の回路基板が、ポリイミド樹脂及び/又はポリエチレンテレフタレートを含むことが好ましい。係る組み合わせの回路基板を用いることによって、接着強度及び接続信頼性をより向上させることができる。   One of the first circuit board 21 and the second circuit board 31 includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate, and the other circuit board is polyimide. It is preferable to contain resin and / or polyethylene terephthalate. By using such a combination of circuit boards, adhesion strength and connection reliability can be further improved.

回路基板としては他にも、半導体、ガラス、セラミック等の無機基板、ポリイミド、ポリカーボネート等の有機基板などを組み合わせて用いることができる。   In addition to the above, an inorganic substrate such as a semiconductor, glass, or ceramic, or an organic substrate such as polyimide or polycarbonate can be used in combination.

回路接続体100は、第一の回路部材20と第二の回路部材30との間に介在する回路接続用材料(例えば、フィルム状回路接続材料10)を硬化させて、第一の回路電極22と第二の回路電極32とが電気的に接続されるように第一の回路部材20と第二の回路部材30とを接着する工程を備える方法により、製造することができる。   The circuit connection body 100 hardens the circuit connection material (for example, the film-like circuit connection material 10) interposed between the first circuit member 20 and the second circuit member 30, and the first circuit electrode 22 is cured. And the second circuit electrode 32 can be manufactured by a method including a step of bonding the first circuit member 20 and the second circuit member 30 so as to be electrically connected.

係る回路接続の工程において、加熱及び加圧により回路接続材料を硬化させることが好ましい。加熱温度は、100℃以上200℃以下が好ましい。圧力は、被着体(第一及び第二の回路部材)に損傷を与えない範囲が好ましく、一般的には0.1MPa以上10MPa以下が好ましい。これらの加熱及び加圧は、0.5秒以上120秒以下の範囲で行うことが好ましい。本実施形態に係る回路接続材料によれば、110℃以上190℃以下、又は90℃以上150℃以下のような低温条件でも高い信頼性で回路接続を行うことが可能である。同様の観点から、加熱及び加熱の時間は、より好ましくは0.5秒以上60秒以下であり、圧力はより好ましくは0.1MPa以上5MPa以下である。接続の条件は、例えば、110℃、3MPa、10秒であってもよい。   In the circuit connection step, it is preferable to cure the circuit connection material by heating and pressing. The heating temperature is preferably 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. The pressure is preferably in a range that does not damage the adherend (first and second circuit members), and is generally 0.1 MPa or more and 10 MPa or less. These heating and pressurization are preferably performed in a range of 0.5 seconds to 120 seconds. According to the circuit connection material according to the present embodiment, it is possible to perform circuit connection with high reliability even under low temperature conditions such as 110 ° C. or higher and 190 ° C. or lower, or 90 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. From the same viewpoint, the heating and heating time are more preferably 0.5 seconds or more and 60 seconds or less, and the pressure is more preferably 0.1 MPa or more and 5 MPa or less. The connection conditions may be, for example, 110 ° C., 3 MPa, and 10 seconds.

以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

1.材料
(a)熱可塑性樹脂
ポリエステルウレタン樹脂A
ジカルボン酸としてイソフタル酸(Aldrich社製)を用い、ジオールとしてネオペンチルグリコール(Aldrich社製)を用い、イソシアネートとして4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(Aldrich社製)を用いて、出発原料におけるイソルタル酸/ネオペンチルグリコール/4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートの質量比が48/37/15であるポリエステルウレタン樹脂Aを合成した。得られたポリエステルウレタン樹脂Aの数平均分子量は25000であり、ガラス転移温度は73℃であった。ポリエステルウレタン樹脂A(PEU―A)を、メチルエチルケトンとトルエンとを1:1(質量比)で混合して調製した混合溶媒に溶解して、濃度40質量%のポリエステルウレタン樹脂溶液を得た。
1. Material (a) Thermoplastic resin Polyester urethane resin A
Using isophthalic acid (manufactured by Aldrich) as the dicarboxylic acid, neopentyl glycol (manufactured by Aldrich) as the diol, and 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Aldrich) as the isocyanate, A polyester urethane resin A having a mass ratio of neopentyl glycol / 4,4′-diphenylmethane diisocyanate of 48/37/15 was synthesized. The number average molecular weight of the obtained polyester urethane resin A was 25000, and the glass transition temperature was 73 ° C. Polyester urethane resin A (PEU-A) was dissolved in a mixed solvent prepared by mixing methyl ethyl ketone and toluene at 1: 1 (mass ratio) to obtain a 40% by mass polyester urethane resin solution.

ポリエステルウレタン樹脂B
ジカルボン酸としてテレフタル酸(Aldrich社製)及びアジピン酸(Aldrich社製)を用い、ジオールとしてネオペンチルグリコール(Aldrich社製)を用い、イソシアネートとして4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(Aldrich社製)を用いて、出発原料におけるテレフタル酸/アジピン酸/ネオペンチルグリコール/4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのモル比が11/25/38/26であるポリエステルウレタン樹脂Bを合成した。得られたポリエステルウレタン樹脂Bの数平均分子量は40000であり、ガラス転移温度は10℃であった。ポリエステルウレタン樹脂B(PEU―B)を、メチルエチルケトンとトルエンとを0.82:0.18(質量比)で混合して調製した混合溶媒に溶解して、濃度40質量%のポリエステルウレタン樹脂溶液を得た。
Polyester urethane resin B
Using terephthalic acid (manufactured by Aldrich) and adipic acid (manufactured by Aldrich) as the dicarboxylic acid, using neopentyl glycol (manufactured by Aldrich) as the diol, and using 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Aldrich) as the isocyanate Thus, polyester urethane resin B having a molar ratio of terephthalic acid / adipic acid / neopentyl glycol / 4,4′-diphenylmethane diisocyanate in the starting material of 11/25/38/26 was synthesized. The number average molecular weight of the obtained polyester urethane resin B was 40000, and the glass transition temperature was 10 ° C. Polyester urethane resin B (PEU-B) was dissolved in a mixed solvent prepared by mixing methyl ethyl ketone and toluene at 0.82: 0.18 (mass ratio) to obtain a polyester urethane resin solution having a concentration of 40 mass%. Obtained.

ポリエステルウレタン樹脂C
ジカルボン酸としてテレフタル酸(Aldrich社製)及びアジピン酸(Aldrich社製)を用い、ジオールとしてネオペンチルグリコール(Aldrich社製)を用い、イソシアネートとして4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(Aldrich社製)を用いて、出発原料におけるテレフタル酸/アジピン酸/ネオペンチルグリコール/4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネートのモル比が34/14/38/14であるポリエステルウレタン樹脂Cを合成した。得られたポリエステルウレタン樹脂Cの数平均分子量は32000であり、ガラス転移温度は18℃であった。ポリエステルウレタン樹脂C(PEU―C)を、メチルエチルケトンとトルエンとを1:1(質量比)で混合して調製した混合溶媒に溶解して、濃度30質量%のポリエステルウレタン樹脂溶液を得た。
Polyester urethane resin C
Using terephthalic acid (manufactured by Aldrich) and adipic acid (manufactured by Aldrich) as the dicarboxylic acid, using neopentyl glycol (manufactured by Aldrich) as the diol, and using 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (manufactured by Aldrich) as the isocyanate Thus, a polyester urethane resin C having a molar ratio of terephthalic acid / adipic acid / neopentyl glycol / 4,4′-diphenylmethane diisocyanate in the starting material of 34/14/38/14 was synthesized. The number average molecular weight of the obtained polyester urethane resin C was 32000, and the glass transition temperature was 18 ° C. Polyester urethane resin C (PEU-C) was dissolved in a mixed solvent prepared by mixing methyl ethyl ketone and toluene at 1: 1 (mass ratio) to obtain a polyester urethane resin solution having a concentration of 30% by mass.

フェノキシ樹脂
フェノキシ樹脂(商品名:YP−50(東都化成株式会社製)、重量平均分子量:60000、ガラス転移温度:80℃)40質量部をメチルエチルケトン60質量部に溶解して、固形分40質量%のフェノキシ樹脂溶液を準備した。
Phenoxy resin Phenoxy resin (trade name: YP-50 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), weight average molecular weight: 60000, glass transition temperature: 80 ° C.) 40 parts by mass is dissolved in 60 parts by mass of methyl ethyl ketone to obtain a solid content of 40% by mass. A phenoxy resin solution was prepared.

(b)2官能以上のラジカル重合性化合物
UA1:ウレタンアクリレート1
撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管付き還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、数平均分子量1000のポリ(1,6−ヘキサンジオールカーボネート)(商品名:デュラノール T5652、旭化成ケミカルズ(株)製)2500質量部(2.50モル)と、イソホロンジイソシアネート(シグマ アルドリッチ社製)666質量部(3.00モル)を、3時間かけて均一に滴下した。反応容器内に充分に窒素ガスを導入した後、反応液を70〜75℃に加熱して、反応を進行させた。
(B) Bifunctional or higher radical polymerizable compound UA1: Urethane acrylate 1
Poly (1,6-hexanediol carbonate) with a number average molecular weight of 1000 (trade name: DURANOL T5652, Asahi Kasei) in a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser with calcium chloride drying tube, and nitrogen gas introduction tube Chemicals Co., Ltd.) 2500 parts by mass (2.50 mol) and isophorone diisocyanate (Sigma Aldrich) 666 parts by mass (3.00 mol) were uniformly added dropwise over 3 hours. After sufficiently introducing nitrogen gas into the reaction vessel, the reaction solution was heated to 70 to 75 ° C. to advance the reaction.

次いで、ハイドロキノンモノメチルエーテル(シグマ アルドリッチ社製)0.53質量部と、ジブチルスズジラウレート(シグマ アルドリッチ社製)5.53質量部を添加し、さらに、2−ヒドロキシエチルアクリレート(シグマ アルドリッチ社製)238質量部(2.05モル)を加え、空気雰囲気下70℃で6時間反応を進行させ、ウレタンアクリレート1(UA1)を生成させた。   Subsequently, 0.53 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether (manufactured by Sigma Aldrich) and 5.53 parts by mass of dibutyltin dilaurate (manufactured by Sigma Aldrich) were added, and further 238 masses of 2-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Sigma Aldrich). Part (2.05 mol) was added, and the reaction was allowed to proceed for 6 hours at 70 ° C. in an air atmosphere to produce urethane acrylate 1 (UA1).

UA2:ウレタンアクリレート2
撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管付き還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、メチルエチルケトン1000質量部、数平均分子量1000のポリカプロラクトンジオール(商品名:プラクセル210N、ダイセル化学工業(株)製)2500質量部(2.50モル)、及びイソホロンジイソシアネート(シグマ アルドリッチ社製)666質量部(3.00モル)を3時間かけて均一に滴下した。反応容器内に充分に窒素ガスを導入した後、反応液を70〜75℃に加熱して、反応を進行させた。
UA2: Urethane acrylate 2
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser with calcium chloride drying tube, and nitrogen gas introduction tube, 1000 parts by mass of methyl ethyl ketone and polycaprolactone diol having a number average molecular weight of 1000 (trade name: Plaxel 210N, Daicel Chemical Industries) 2500 parts by mass (manufactured by Co., Ltd.) and 666 parts by mass (3.00 mol) of isophorone diisocyanate (manufactured by Sigma-Aldrich) were uniformly added dropwise over 3 hours. After sufficiently introducing nitrogen gas into the reaction vessel, the reaction solution was heated to 70 to 75 ° C. to advance the reaction.

次いで、ハイドロキノンモノメチルエーテル(シグマ アルドリッチ社製)0.53質量部と、ジブチルスズジラウレート(シグマ アルドリッチ社製)5.53質量部を添加し、さらに、2−ヒドロキシエチルアクリレート(シグマ アルドリッチ社製)238質量部(2.05モル)を加え、空気雰囲気下70℃で6時間反応を進行させ、ウレタンアクリレート2(UA2)を生成させた。   Subsequently, 0.53 parts by mass of hydroquinone monomethyl ether (manufactured by Sigma Aldrich) and 5.53 parts by mass of dibutyltin dilaurate (manufactured by Sigma Aldrich) were added, and further 238 masses of 2-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Sigma Aldrich). Part (2.05 mol) was added, and the reaction was allowed to proceed at 70 ° C. for 6 hours in an air atmosphere to produce urethane acrylate 2 (UA2).

M−215
イソシアヌル酸EO変性ジアクリレート(東亞合成株式会社製)
M-215
Isocyanuric acid EO-modified diacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)

(c)単官能ラジカル重合性化合物
MAC1
撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管付き還流冷却管、及び水分離機を備えた反応容器内で、ヘキサヒドロフタル酸無水物(シグマ アルドリッチ社製)310質量部(2.00モル)をトルエン500質量部に溶解させて、反応液を調製した。反応液を70℃で加熱しながら、エタノールアミン(株式会社日本触媒製)130質量部(2.00モル)を30分かけて滴下し、その後120℃で5時間反応液を攪拌し、生成した水を分離した。冷却後、アクリル酸(シグマ アルドリッチ社製)160質量部(2.20モル)、ハイドロキノンモノメチルエーテル(シグマ アルドリッチ社製)0.2質量部、及び硫酸12質量部を加えて、更に120℃で5時間反応液を攪拌し、生成した水を共沸脱水した。冷却後、分液ロートを用いて反応液を水で洗浄し、さらに残渣のトルエンを減圧蒸留により除去して、下記式(1a)で表される単官能ラジカル重合性化合物(MAC1、N−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド)を得た。
(C) Monofunctional radically polymerizable compound MAC1
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser with calcium chloride drying tube, and water separator, 310 parts by mass (2.00 mol) of hexahydrophthalic anhydride (manufactured by Sigma-Aldrich) was toluene. A reaction solution was prepared by dissolving in 500 parts by mass. While heating the reaction solution at 70 ° C., 130 parts by mass (2.00 mol) of ethanolamine (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) was added dropwise over 30 minutes, and then the reaction solution was stirred at 120 ° C. for 5 hours to produce. The water was separated. After cooling, 160 parts by mass (2.20 mol) of acrylic acid (manufactured by Sigma Aldrich), 0.2 part by mass of hydroquinone monomethyl ether (manufactured by Sigma Aldrich), and 12 parts by mass of sulfuric acid were added, and further 5 at 120 ° C. The reaction solution was stirred for a period of time, and the generated water was azeotropically dehydrated. After cooling, the reaction solution is washed with water using a separatory funnel, and the residual toluene is removed by distillation under reduced pressure to obtain a monofunctional radical polymerizable compound (MAC1, N-acryloyl) represented by the following formula (1a). Oxyethylhexahydrophthalimide) was obtained.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

MAC2
撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管付き還流冷却管、及び水分離機を備えた反応容器内で、オルトフェニルフェノール(三光株式会社製)340質量部(2.00モル)をエタノール500質量部に溶解させて、反応液を調製した。反応液を70℃で加熱しながら、硫酸12質量部を30分かけて滴下した。その後、更に120℃で5時間反応液を攪拌し、生成した水を分離した。冷却後、アクリル酸(シグマ アルドリッチ社製)160質量部(2.20モル)、ハイドロキノンモノメチルエーテル(シグマ アルドリッチ社製)0.2質量部、及び硫酸12質量部を加え、更に120℃で5時間反応液を攪拌し、生成した水を共沸脱水した。冷却後、分液ロートを用いて反応液を水で洗浄し、さらに残渣のエタノールを減圧蒸留により除去して、下記式(2a)で表される単官能ラジカル重合性化合物(MAC2、ヒドロキシエチル化o−フェニルフェノールアクリレート)を得た。
MAC2
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser with a calcium chloride drying tube, and a water separator, 340 parts by mass (2.00 mol) of orthophenylphenol (manufactured by Sanko Co., Ltd.) was added to 500 parts by mass of ethanol. To prepare a reaction solution. While heating the reaction solution at 70 ° C., 12 parts by mass of sulfuric acid was added dropwise over 30 minutes. Thereafter, the reaction solution was further stirred at 120 ° C. for 5 hours to separate the produced water. After cooling, 160 parts by mass (2.20 mol) of acrylic acid (manufactured by Sigma Aldrich), 0.2 part by mass of hydroquinone monomethyl ether (manufactured by Sigma Aldrich) and 12 parts by mass of sulfuric acid were added, and further at 120 ° C. for 5 hours. The reaction solution was stirred, and the produced water was azeotropically dehydrated. After cooling, the reaction solution is washed with water using a separatory funnel, and the residual ethanol is removed by distillation under reduced pressure to obtain a monofunctional radical polymerizable compound (MAC2, hydroxyethylated) represented by the following formula (2a). o-phenylphenol acrylate) was obtained.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

(d)ラジカル重合開始剤
ジラウロイルパーオキサイド(パーロイルL、日油株式会社製)
(D) Radical polymerization initiator Dilauroyl peroxide (Perroyl L, manufactured by NOF Corporation)

(e)導電粒子
核としてのポリスチレン粒子と、ポリスチレン粒子の表面を覆う厚み0.2μmのニッケル層と、ニッケル層の外側に設けられた厚み0.02μmの金層とから構成される、平均粒径4μm、比重2.5の導電粒子を準備した。
(E) Conductive particles An average particle composed of polystyrene particles as nuclei, a 0.2 μm thick nickel layer covering the surface of the polystyrene particles, and a 0.02 μm thick gold layer provided outside the nickel layer. Conductive particles having a diameter of 4 μm and a specific gravity of 2.5 were prepared.

(f)リン酸基を有するビニル化合物
2−メタクリロイロキシエチルホスフェート(商品名:ライトエステル P−2M、共栄社化学(株)製)
(F) Vinyl compound having a phosphate group 2-Methacryloyloxyethyl phosphate (trade name: Light Ester P-2M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)

(絶縁性微粒子)
コアシェル型シリコーン微粒子(商品名:KMP−600、平均粒径:5μm、信越化学工業(株)製)
(Insulating fine particles)
Core-shell type silicone fine particles (trade name: KMP-600, average particle size: 5 μm, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

2.フィルム状回路接続材料の作製
表1に示す各成分を表1に示す固形質量比にて配合し、さらに、上記導電粒子を配合しこれを分散させて、各実施例及び比較例の回路接続材料を調製した。導電粒子の量は、回路接続材料全体の体積を基準として1.5体積%とした。得られた各回路接続材料を、厚み80μmのフッ素樹脂フィルム(基材)上に塗工装置を用いて塗布し、塗膜を70℃で10分間熱風乾燥することによって、基材としてのフッ素樹脂フィルム及び基材上に設けられた厚み16μmの接着剤層(フィルム状回路接続材料)を有する接着シートを得た。
2. Production of Film-like Circuit Connection Material Each component shown in Table 1 is blended at a solid mass ratio shown in Table 1, and further, the above conductive particles are blended and dispersed, so that the circuit connection materials of each Example and Comparative Example are prepared. Was prepared. The amount of the conductive particles was 1.5% by volume based on the total volume of the circuit connecting material. Each of the obtained circuit connecting materials is applied onto a fluororesin film (base material) having a thickness of 80 μm using a coating apparatus, and the coating film is dried with hot air at 70 ° C. for 10 minutes, whereby a fluororesin as a base material is obtained. An adhesive sheet having an adhesive layer (film-like circuit connecting material) having a thickness of 16 μm provided on the film and the substrate was obtained.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

3.接続抵抗、接着強度の測定
ポリイミドフィルム(Tg350℃)及びポリイミドフィルム上に一定方向に並んで設けられた80本の銅回路(ライン幅25μm、ピッチ50μm、厚み8μm)を有するフレキシブル回路板(FPC)と、ガラス基板(厚み1.1mm)及びガラス基板上に形成された厚み0.2μmの酸化インジウム(ITO)薄層からなる回路を有する回路部材(表面抵抗20Ω/□)とを準備し、これらの間に各実施例及び比較例のフィルム状回路接続材料を介在させた。次いで、熱圧着装置(加熱方式:コンスタントヒート型、東レエンジニアリング社製)を用いて、140℃、4MPaで10秒間の加熱及び加圧により、ガラス基板を有する回路部材にFPCを幅3mmにわたり接着して、回路接続体を得た。
3. Measurement of connection resistance and adhesive strength Flexible circuit board (FPC) having a polyimide film (Tg 350 ° C.) and 80 copper circuits (line width 25 μm, pitch 50 μm, thickness 8 μm) arranged in a certain direction on the polyimide film And a circuit member (surface resistance 20Ω / □) having a circuit made of a thin layer of indium oxide (ITO) having a thickness of 0.2 μm formed on the glass substrate (thickness 1.1 mm), and these The film-like circuit connecting materials of each Example and Comparative Example were interposed between the two. Next, using a thermocompression bonding apparatus (heating method: constant heat type, manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.), FPC is bonded to a circuit member having a glass substrate over a width of 3 mm by heating and pressing at 140 ° C. and 4 MPa for 10 seconds. Thus, a circuit connection body was obtained.

得られた回路接続体の隣接回路間の抵抗値を、接着直後と、85℃、85%RHの高温高湿槽中に240時間保持した後(試験後)にマルチメータで測定した。抵抗値は隣接回路間の抵抗37点の平均で示した。測定結果を表2に示す。   The resistance value between adjacent circuits of the obtained circuit connection body was measured with a multimeter immediately after bonding and after being held in a high-temperature and high-humidity bath at 85 ° C. and 85% RH for 240 hours (after the test). The resistance value was shown as an average of 37 resistances between adjacent circuits. The measurement results are shown in Table 2.

さらに、厚み100μmのPETフィルム(Tg=67℃)、PCフィルム(Tg=150℃)、PENフィルム(Tg=113℃)、又は、ガラス基板を有する上記回路部材と、FPCとの間に、各実施例及び比較例のフィルム状回路接続材料を介在させた。次いで、上記と同様の熱圧着装置を用いて、140℃、4MPaで10秒間の加熱及び加圧により、FPCを幅1mmにわたり接着して、接続体を作製した。   Further, between the FPC and the circuit member having a 100 μm-thick PET film (Tg = 67 ° C.), PC film (Tg = 150 ° C.), PEN film (Tg = 113 ° C.), or glass substrate, The film-like circuit connecting materials of Examples and Comparative Examples were interposed. Next, using the same thermocompression bonding apparatus as described above, the FPC was bonded over a width of 1 mm by heating and pressurizing at 140 ° C. and 4 MPa for 10 seconds to prepare a connection body.

得られた接続体の接着強度を、JIS−Z0237に準じた90度剥離法により測定した。接着強度の測定装置として、東洋ボールドウィン(株)製「テンシロンUTM−4」(商品名)(剥離速度50mm/min、25℃)を使用した。測定結果を表2に示す。   The adhesive strength of the obtained connection body was measured by a 90-degree peeling method according to JIS-Z0237. As a measuring device for adhesion strength, “Tensilon UTM-4” (trade name) (peeling speed 50 mm / min, 25 ° C.) manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd. was used. The measurement results are shown in Table 2.

Figure 0006065407
Figure 0006065407

各実施例のフィルム状接着剤を用いて作製した回路接続体は、加熱温度140℃の条件下で、接着直後及び試験後のいずれにおいても、約2.4Ω以下の良好な接続抵抗を有するとともに、PETフィルム等の熱可塑性樹脂基板の場合でも640N/m以上の良好な接着強度を示した。   The circuit connector produced using the film-like adhesive of each example has a good connection resistance of about 2.4Ω or less immediately after bonding and after the test under a heating temperature of 140 ° C. Even in the case of a thermoplastic resin substrate such as a PET film, a good adhesive strength of 640 N / m or more was exhibited.

これに対して、式(1)又は(2)で表される単官能ラジカル重合性化合物を含有しない比較例のフィルム状回路接続材料を用いて作成した回路接続体は、良好な接着強度を示すものの、接続抵抗は接着直後から2.2Ω以上と高い値を示した。   On the other hand, the circuit connection body produced using the film-like circuit connection material of the comparative example not containing the monofunctional radical polymerizable compound represented by the formula (1) or (2) exhibits good adhesive strength. However, the connection resistance showed a high value of 2.2Ω or more immediately after bonding.

以上の結果から、本発明に係る回路接続材料によれば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等の耐熱性の低い有機基材を有する回路部材の接続を低温で行った場合であっても優れた接着強度を得ることができ、しかも長時間の高温高湿下の信頼性試験後においても安定した性能(接着強度及び接続抵抗)を維持できることが確認された。   From the above results, according to the circuit connection material according to the present invention, connection of circuit members having an organic base material having low heat resistance such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polyethylene naphthalate (PEN), etc. It was confirmed that excellent adhesion strength can be obtained even when the test is performed with a stable performance (adhesion strength and connection resistance) even after a long-term reliability test under high temperature and high humidity. .

本発明に係る回路接続材料によれば、ガラス基板だけでなく、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む有機基材に対しても、低温での硬化によって優れた接続抵抗及び接着強度を得ることができる。そのため、本発明に係る回路接続材料は、PET、PC、PEN等の耐熱性の低い有機基材を用いた半導体素子とFPCとの接続等において、好適に用いられる。   According to the circuit connection material according to the present invention, not only a glass substrate but also an organic base material containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or less, excellent connection resistance and adhesive strength by curing at a low temperature. Can be obtained. Therefore, the circuit connection material according to the present invention is suitably used in connection between a semiconductor element and an FPC using an organic base material having low heat resistance such as PET, PC, PEN and the like.

10…フィルム状回路接続材料、12…基材、14…接着剤成分、16…接続部、17…導電粒子、20…第一の回路部材、21…第一の回路基板、21a…第一の回路基板の主面、22…第一の回路電極、30…第二の回路部材、31…第二の回路基板、31a…第二の回路基板の主面、32…第二の回路電極、200…回路接続体。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Film-like circuit connection material, 12 ... Base material, 14 ... Adhesive component, 16 ... Connection part, 17 ... Conductive particle, 20 ... First circuit member, 21 ... First circuit board, 21a ... First The main surface of the circuit board, 22 ... the first circuit electrode, 30 ... the second circuit member, 31 ... the second circuit board, 31a ... the main surface of the second circuit board, 32 ... the second circuit electrode, 200 ... circuit connections.

Claims (13)

(a)熱可塑性樹脂と、
(b)2官能以上のラジカル重合性化合物と、
(c)下記一般式(1)又は(2)で表される単官能ラジカル重合性化合物と、
(d)ラジカル重合開始剤と、
を含有し、
前記熱可塑性樹脂が、60℃以上のガラス転移温度を有する第一の樹脂と、−5℃〜40℃のガラス転移温度を有する第二の樹脂とを含み、前記第一の樹脂及び前記第二の樹脂のうち一方又は両方が、ウレタン結合及びエステル結合を有する樹脂であり、
第一の回路基板及び該第一の回路基板上設けられた第一の回路電極を有する第一の回路部材と、第二の回路基板及び該第二の回路基板上に設けられた第二の回路電極を有する第二の回路部材との間に介在させ、硬化させることにより前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続されるように前記第一の回路部材と前記第二の回路部材とを接着するために用いられる、回路接続材料。
Figure 0006065407

[式(1)中、Rは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基又はこれらの組み合わせからなる基を示し、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を示し、同一分子中の複数のR及びRはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、nは1〜20の整数を示す。]
Figure 0006065407

[式(2)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を示し、同一分子中の複数のRは同一でも異なっていてもよく、Rは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示し、nは1〜20の整数を示す。]
(A) a thermoplastic resin;
(B) a bifunctional or higher functional radical polymerizable compound;
(C) a monofunctional radically polymerizable compound represented by the following general formula (1) or (2);
(D) a radical polymerization initiator;
Containing
The thermoplastic resin includes a first resin having a glass transition temperature of 60 ° C. or higher and a second resin having a glass transition temperature of −5 ° C. to 40 ° C., and the first resin and the second resin One or both of the resins are resins having a urethane bond and an ester bond ,
A first circuit member having a first circuit board and a first circuit electrode provided on the first circuit board; a second circuit board; and a second circuit board provided on the second circuit board. The first circuit member so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected by being interposed between and cured with a second circuit member having the circuit electrode; A circuit connection material used for bonding the second circuit member.
Figure 0006065407

[In Formula (1), R 1 is an aromatic hydrocarbon group that may have a substituent, an aliphatic hydrocarbon group that may have a substituent, or an oil that may have a substituent. A group consisting of a cyclic hydrocarbon group or a combination thereof, wherein R 2 , R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 2 and R 2 in the same molecule; R 4 may be the same or different, and n represents an integer of 1 to 20. ]
Figure 0006065407

[In Formula (2), R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a plurality of R 4 in the same molecule may be the same or different, and R 5 is The aromatic hydrocarbon group which may have a substituent is shown, n shows the integer of 1-20. ]
(f)リン酸基を有し、前記2官能以上のラジカル重合性化合物とは異なるビニル化合物、を更に含有する、請求項1に記載の回路接続材料。 The circuit connection material according to claim 1, further comprising (f) a vinyl compound having a phosphate group and different from the bifunctional or higher-functional radical polymerizable compound. (e)導電粒子を更に含有する、請求項1又は2に記載の回路接続材料。 (E) further contains conductive particles electrically, the circuit connecting material according to claim 1 or 2. フィルム状に成形された請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続材料からなる、フィルム状回路接続材料。 The film-form circuit connection material which consists of a circuit connection material as described in any one of Claims 1-3 shape | molded in the film form. 基材と、該基材上に形成された請求項に記載のフィルム状回路接続材料と、を備える回路接続シート。 A circuit connection sheet comprising a substrate and the film-like circuit connection material according to claim 4 formed on the substrate. 第一の回路基板及び該第一の回路基板上に設けられた第一の回路電極を有する第一の回路部材と、
第二の回路基板及び該第二の回路基板上に設けられた第二の回路電極を有る第二の回路部材と、
前記第一の回路部材と前記第二の回路部材との間に介在し、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続されるように前記第一の回路部材と前記第二の回路部材とを接着する接続部と、を備え、
前記接続部が、請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続材料の硬化物である、回路接続体。
A first circuit member having a first circuit board and a first circuit electrode provided on the first circuit board;
A second circuit member having a second circuit board and a second circuit electrode provided on the second circuit board;
The first circuit member is interposed between the first circuit member and the second circuit member so that the first circuit electrode and the second circuit electrode are electrically connected to each other. A connecting portion for bonding the second circuit member;
The circuit connection body in which the connection part is a cured product of the circuit connection material according to any one of claims 1 to 3 .
前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板のうち少なくとも一方が、200℃以下のガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂を含む有機基材である、請求項に記載の回路接続体。 The circuit connector according to claim 6 , wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is an organic base material including a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower. 前記200℃以下のガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、請求項に記載の回路接続体。 The circuit connector according to claim 7 , wherein the thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or less includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. 前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板のうち少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む熱可塑性樹脂を含む有機基材である、請求項に記載の回路接続体。 At least one of the first circuit board and the second circuit board is an organic base material including a thermoplastic resin including at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. Item 7. The circuit connector according to Item 6 . 第一の回路基板及び該第一の回路基板上設けられた第一の回路電極を有する第一の回路部材と、第二の回路基板及び該第二の回路基板上に設けられた第二の回路電極を有する第二の回路部材との間に介在する請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続用材料を硬化させて、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とが電気的に接続されるように前記第一の回路部材と前記第二の回路部材とを接着する工程を備える、回路部材の接続方法。 A first circuit member having a first circuit board and a first circuit electrode provided on the first circuit board; a second circuit board; and a second circuit board provided on the second circuit board. The first circuit electrode and the second circuit electrode are cured by curing the circuit connecting material according to any one of claims 1 to 4 interposed between the second circuit member having the circuit electrode. And connecting the first circuit member and the second circuit member so that they are electrically connected to each other. 前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板のうち少なくとも一方が、200℃以下のガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂を含む有機基材である、請求項10に記載の回路部材の接続方法。 The circuit member connection method according to claim 10 , wherein at least one of the first circuit board and the second circuit board is an organic base material including a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or less. . 前記200℃以下のガラス転移温度を有する熱可塑性樹脂が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む、請求項11に記載の回路部材の接続方法。 The circuit member connection method according to claim 11 , wherein the thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. 前記第一の回路基板及び前記第二の回路基板のうち少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む熱可塑性樹脂を含む有機基材である、請求項10に記載の回路部材の接続方法。 At least one of the first circuit board and the second circuit board is an organic base material including a thermoplastic resin including at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. Item 11. A method for connecting circuit members according to Item 10 .
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6112285B1 (en) * 2015-11-11 2017-04-12 Dic株式会社 Method for producing semi-IPN type composite and method for producing synthetic leather
JP6112284B1 (en) * 2015-11-11 2017-04-12 Dic株式会社 Method for producing semi-IPN type composite and method for producing moisture permeable film
EP3375799A4 (en) * 2015-11-11 2019-07-03 DIC Corporation Method for producing semi-ipn composite and method for producing moisture-permeable film
CN108350104B (en) * 2015-11-11 2021-03-23 Dic株式会社 Method for producing semi-IPN type composite and method for producing synthetic leather
CN113571926A (en) * 2016-10-11 2021-10-29 昭和电工材料株式会社 Connection structure, circuit connection member, and adhesive composition
JP7165848B2 (en) * 2018-02-09 2022-11-07 東洋インキScホールディングス株式会社 Photocurable composition and laminate
CN118085738A (en) * 2018-10-23 2024-05-28 积水化学工业株式会社 Curable resin composition and cured body
JP2023172562A (en) * 2022-05-24 2023-12-06 株式会社レゾナック Adhesive composition, circuit connection material, and connection body

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11189763A (en) * 1997-09-29 1999-07-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd Die-attaching paste
JP2000239616A (en) * 1999-02-24 2000-09-05 Hitachi Chem Co Ltd Resin paste composition and semiconductor device using same
JP5495097B2 (en) * 2009-06-26 2014-05-21 株式会社リコー Image display device
WO2011058999A1 (en) * 2009-11-13 2011-05-19 日立化成工業株式会社 Method for manufacturing film-like adhesive, adhesive sheet, semiconductor device, and method for manufacturing semiconductor device
JP5668636B2 (en) * 2010-08-24 2015-02-12 日立化成株式会社 Method for manufacturing circuit connection structure
JP5844589B2 (en) * 2011-09-21 2016-01-20 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film, connection method using the same, and connection structure

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