JP6024261B2 - Adhesive for circuit connection, connection structure for circuit member and solar cell module - Google Patents

Adhesive for circuit connection, connection structure for circuit member and solar cell module Download PDF

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Description

本発明は、回路接続用接着剤、並びに、それを用いた回路部材の接続構造体及び太陽電池モジュールに関する。   The present invention relates to an adhesive for circuit connection, a circuit member connection structure using the adhesive, and a solar cell module.

半導体素子及び液晶表示素子において、素子中の種々の部材を結合させる目的で従来から種々の接着剤が使用されている。接着剤に対する要求は、接着性をはじめとして、耐熱性、高温高湿状態における信頼性等多岐に渡る。上記接着剤は、液晶表示素子とテープキャリアパッケージ(Tape Carrier Package、TCP)との接続(チップオンフィルム(Chip On Film、COF))、フレキシブルプリント配線基板(Flexible Printed Circuit、FPC)とTCPとの接続(COF)、TCPとプリント配線板との接続(COF)、FPCとプリント配線板との接続(COF)等に使用されている。また、半導体素子を基板に実装する場合にも用いられている。   In the semiconductor element and the liquid crystal display element, various adhesives are conventionally used for the purpose of bonding various members in the element. The demand for adhesives is diverse, including adhesiveness, heat resistance, and reliability in high temperature and high humidity conditions. The adhesive includes a connection between a liquid crystal display element and a tape carrier package (Tape Carrier Package, TCP) (Chip On Film (COF)), a flexible printed circuit board (Flexible Printed Circuit, FPC) and TCP. It is used for connection (COF), connection between TCP and printed wiring board (COF), connection between FPC and printed wiring board (COF), and the like. It is also used when a semiconductor element is mounted on a substrate.

接着に使用される被着体は、プリント配線板、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)及びポリエチレンナフタレート(PEN)等の有機基材をはじめ、銅及びアルミニウム等の金属、ITO(インジウムとスズの複合酸化物)、IZO(酸化インジウムと酸化亜鉛の複合物)、AZO(亜鉛・アルミニウム酸化物)、SiN(窒化ケイ素)並びにSiO(二酸化ケイ素)等の多種多様な表面状態を有する基材が用いられ、各被着体にあわせた分子設計が必要である。 The adherend used for bonding includes organic substrates such as printed wiring boards, polyimide, polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC) and polyethylene naphthalate (PEN), metals such as copper and aluminum, ITO ( Various surface states such as indium and tin composite oxide), IZO (composite of indium oxide and zinc oxide), AZO (zinc / aluminum oxide), SiN (silicon nitride) and SiO 2 (silicon dioxide). It is necessary to design a molecule according to each adherend.

従来から、上記半導体素子及び液晶表示素子用の接着剤としては、高接着性で且つ高信頼性を示すエポキシ樹脂を用いた熱硬化性樹脂が用いられてきた(例えば、特許文献1参照)。熱硬化性樹脂の構成成分としては、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂と反応性を有するフェノール樹脂等の硬化剤、エポキシ樹脂と硬化剤の反応を促進する熱潜在性触媒が一般に用いられている。熱潜在性触媒は、室温等の貯蔵温度では反応せず、加熱の際に高い反応性を示す物質であって、硬化温度及び硬化速度を決定する重要な因子となっており、接着剤の室温での貯蔵安定性と加熱時の硬化速度の観点から種々の化合物が用いられてきた。実際の工程では、170〜250℃の温度で1〜3時間硬化する硬化条件により、所望の接着を得ていた。   Conventionally, as an adhesive for the semiconductor element and the liquid crystal display element, a thermosetting resin using an epoxy resin having high adhesiveness and high reliability has been used (for example, see Patent Document 1). As a component of the thermosetting resin, a curing agent such as an epoxy resin, a phenol resin having reactivity with the epoxy resin, and a thermal latent catalyst that accelerates the reaction between the epoxy resin and the curing agent are generally used. A thermal latent catalyst is a substance that does not react at a storage temperature such as room temperature and exhibits high reactivity upon heating, and is an important factor that determines the curing temperature and the curing rate. Various compounds have been used from the viewpoints of storage stability at room temperature and curing rate during heating. In the actual process, the desired adhesion was obtained under the curing conditions of curing at a temperature of 170 to 250 ° C. for 1 to 3 hours.

最近、半導体素子の高集積化、液晶表示素子の高精細化に伴い、素子間及び配線間ピッチの狭小化が進んでいる。また、PET、PC、PEN等の耐熱性の低い有機基材を用いた半導体素子、液晶表示素子、タッチパネル等が用いられるようになっている。このような半導体素子等に適用する接着剤組成物は、硬化させるときの加熱温度が高い。また、接着剤組成物の硬化する速度が遅いと、所望の接続部のみならず周辺部材まで過剰に加熱し、周辺部材の損傷等の要因となる傾向がある。さらに低コスト化のためには、スループットを向上させる必要性がある。よって、より低温で且つ短時間での硬化、すなわち、低温速硬化での接着が要求されている。   Recently, along with the high integration of semiconductor devices and the high definition of liquid crystal display devices, the pitch between devices and between wires has been reduced. In addition, a semiconductor element, a liquid crystal display element, a touch panel, and the like using an organic base material having low heat resistance such as PET, PC, and PEN are used. The adhesive composition applied to such a semiconductor element has a high heating temperature when cured. Further, when the adhesive composition cures slowly, not only the desired connection part but also the peripheral member is excessively heated, which tends to cause damage to the peripheral member. Furthermore, there is a need to improve throughput in order to reduce costs. Therefore, there is a demand for curing at a lower temperature and in a shorter time, that is, adhesion at a lower temperature and faster curing.

最近、アクリレート誘導体、メタアクリレート誘導体等のラジカル重合性化合物とラジカル重合開始剤である過酸化物を併用したラジカル硬化型接着剤が注目されている。ラジカル硬化型接着剤は、反応活性種であるラジカルが反応性に富むため、短時間硬化が可能であり、また、熱硬化性樹脂を用いたものよりも低温で硬化が可能である(例えば、特許文献2参照)。しかしながら、ラジカル硬化型接着剤は、硬化時の硬化収縮が大きいために、エポキシ樹脂を用いた場合と比較して、一般的に接着強度に劣る。そのため、接着強度の改良方法として、エーテル結合によって、硬化物に可とう性を付与し、接着強度を改善する方法(特許文献3,4参照)、接着剤中にゴム系の応力緩和剤を含有させ接着強度を改善する方法が提案されている(特許文献5参照)。一方、ラジカル硬化型接着剤は、接着強度を向上させるために可とう性を付与すると、耐熱性が低下する場合があり、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後にも安定した接続特性を保持することが困難である場合がある。そのため、耐熱性を改善する方法として、接着剤中にシリカ粒子等の無機物のフィラーを分散させる方法が提案されている(特許文献6参照)。   Recently, radically curable adhesives using radically polymerizable compounds such as acrylate derivatives and methacrylate derivatives in combination with peroxides as radical polymerization initiators have attracted attention. The radical curable adhesive can be cured for a short time because radicals which are reactive species are rich in reactivity, and can be cured at a lower temperature than those using a thermosetting resin (for example, Patent Document 2). However, since the radical curable adhesive has a large curing shrinkage at the time of curing, it is generally inferior in adhesive strength as compared with the case of using an epoxy resin. Therefore, as a method for improving the adhesive strength, a method of imparting flexibility to the cured product by ether bond and improving the adhesive strength (refer to Patent Documents 3 and 4), containing a rubber-based stress relaxation agent in the adhesive A method for improving the adhesive strength has been proposed (see Patent Document 5). On the other hand, radically curable adhesives may have reduced heat resistance when imparted with flexibility to improve adhesive strength, and stable connection characteristics even after long-term reliability tests (high temperature and high humidity tests) May be difficult to hold. Therefore, as a method for improving heat resistance, a method of dispersing an inorganic filler such as silica particles in an adhesive has been proposed (see Patent Document 6).

特開平1−113480号公報Japanese Patent Laid-Open No. 1-113480 特開2002−203427号公報JP 2002-203427 A 特許第3522634号公報Japanese Patent No. 3522634 特開2002−285128号公報JP 2002-285128 A 特開2010−106244号公報JP 2010-106244 A 特開2001−164232号公報JP 2001-164232 A

ラジカル硬化型接着剤は低温、短時間で硬化が可能であるものの、ポリイミド、PET、PC、PEN等の有機基材及びITO、IZO、SiN、SiO等の無機基材に対する濡れ性が十分に得られない傾向がある。そのため、上述の特許文献3、4、5に記載の方法では、被着体(ITO、IZO、SiN、SiO、ポリイミド、PET、PC、PEN等)に対する十分な濡れ性が得られず、接着強度が低下する傾向がある。また、基材(ポリイミド、PET、PC、PEN等)が柔軟になると、接着剤の可とう性及び伸びがより必要とされる。しかしながら、上述の特許文献3、4、5に記載の方法では、接着剤に対して、十分な可とう性及び伸びが得られず、柔軟な基材に対しては接着強度が十分に得られない傾向がある。また、上述の特許文献6記載の方法では、接着強度を向上させようとすると、無機物のフィラーの分散性が悪化して、接着剤の流動性及び接続信頼性が低下する傾向がある。 Radical curable adhesives can be cured at low temperature in a short time, but have sufficient wettability to organic substrates such as polyimide, PET, PC, PEN, and inorganic substrates such as ITO, IZO, SiN, and SiO 2 There is a tendency not to be obtained. Therefore, in the methods described in Patent Documents 3, 4, and 5 described above, sufficient wettability with respect to an adherend (ITO, IZO, SiN, SiO 2 , polyimide, PET, PC, PEN, etc.) cannot be obtained. There is a tendency for strength to decrease. Further, when the base material (polyimide, PET, PC, PEN, etc.) becomes flexible, the flexibility and elongation of the adhesive are required more. However, in the methods described in Patent Documents 3, 4, and 5 described above, sufficient flexibility and elongation cannot be obtained for an adhesive, and sufficient adhesive strength can be obtained for a flexible substrate. There is no tendency. Further, in the method described in Patent Document 6, if the adhesive strength is to be improved, the dispersibility of the inorganic filler tends to deteriorate, and the fluidity and connection reliability of the adhesive tend to be reduced.

そこで、本発明は、優れた接着強度を得ることができ、且つ長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においても安定した性能(接着強度及び接続抵抗)を維持することができる回路接続用接着剤及びそれを用いて製造される回路部材の接続構造体を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a circuit connection capable of obtaining excellent adhesive strength and maintaining stable performance (adhesive strength and connection resistance) even after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test). It is an object of the present invention to provide a connecting structure for circuit members manufactured using the same adhesive.

本発明は、第一の接続端子を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部材と、の間に介在され、第一の接続端子と第二の接続端子とを電気的に接続する回路接続用接着剤であって、回路接続用接着剤が(a)熱可塑性樹脂、(b)ラジカル重合性化合物、(c)ラジカル重合開始剤、及び(d)無機フィラーを含有し、(d)無機フィラーの形状が片状である、回路接続用接着剤を提供する。   The present invention is interposed between a first circuit member having a first connection terminal and a second circuit member having a second connection terminal, the first connection terminal and the second connection terminal, An adhesive for circuit connection, wherein the adhesive for circuit connection is (a) a thermoplastic resin, (b) a radical polymerizable compound, (c) a radical polymerization initiator, and (d) an inorganic filler. And (d) an adhesive for circuit connection in which the shape of the inorganic filler is piece-like.

かかる回路接続用接着剤によれば、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においても安定した性能(接着強度及び接続抵抗)を維持することができる。   According to such an adhesive for circuit connection, stable performance (adhesion strength and connection resistance) can be maintained even after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test).

(d)無機フィラーがアルミナ及び窒化ホウ素から選ばれる少なくとも1種を含有することが好ましい。これにより、圧着時の流動性を損なわず、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後において更に安定した性能(接着強度及び接続抵抗)を維持することができる。   (D) It is preferable that the inorganic filler contains at least one selected from alumina and boron nitride. Thereby, the more stable performance (adhesion strength and connection resistance) can be maintained after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test) without impairing the fluidity at the time of pressure bonding.

(d)無機フィラーの含有量は、回路接続用接着剤全体に対して0.5〜20質量%であることが好ましい。これにより、回路接続用接着剤の耐熱性が更に向上し、また、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後において更に安定した性能(接着強度及び接続抵抗)を維持することができる。   (D) It is preferable that content of an inorganic filler is 0.5-20 mass% with respect to the whole adhesive for circuit connection. Thereby, the heat resistance of the adhesive for circuit connection is further improved, and further stable performance (adhesion strength and connection resistance) can be maintained after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test).

(b)ラジカル重合性化合物は、リン酸基を有するビニル化合物と、当該ビニル化合物以外のラジカル重合性化合物と、をそれぞれ1種以上含んでいてもよい。この場合、低温硬化での接着が更に容易となると共に、接続端子を有する基板との接着強度を更に向上させることができる。   (B) The radically polymerizable compound may contain at least one vinyl compound having a phosphate group and one or more radically polymerizable compounds other than the vinyl compound. In this case, adhesion by low-temperature curing is further facilitated, and adhesion strength with the substrate having the connection terminals can be further improved.

また、(a)熱可塑性樹脂は、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ブチラール樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂及びポリアミド樹脂、並びに、酢酸ビニルを構造単位として有する共重合体からなる群より選ばれる少なくとも1種を含んでいてもよい。この場合、耐熱性及び接着性が更に向上し、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においてもこれらの優れた特性を更に容易に維持することができる。   Further, (a) the thermoplastic resin is selected from the group consisting of phenoxy resin, polyurethane resin, polyester urethane resin, butyral resin, acrylic resin, polyimide resin and polyamide resin, and a copolymer having vinyl acetate as a structural unit. At least one kind may be included. In this case, heat resistance and adhesiveness are further improved, and these excellent characteristics can be more easily maintained even after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test).

また、本発明に係る回路接続用接着剤は、(e)導電性粒子を更に含有していてもよい。この場合、回路接続用接着剤に良好な導電性又は異方導電性を付与することができるため、接続端子を有する回路部材同士の接着用途及び太陽電池セルの接続用途等に更に好適に使用することが可能となる。また、上記回路接続用接着剤を介して電気的に接続して得られた接続構造体の接続抵抗を更に十分に低減することができる。   Further, the adhesive for circuit connection according to the present invention may further contain (e) conductive particles. In this case, since good electrical conductivity or anisotropic conductivity can be imparted to the adhesive for circuit connection, the adhesive is more suitably used for adhesion between circuit members having connection terminals and for connection of solar cells. It becomes possible. Further, the connection resistance of the connection structure obtained by electrical connection via the circuit connection adhesive can be further sufficiently reduced.

また、本発明に係る回路接続用接着剤は、第一の基板の主面上に配置された第一の接続端子と、第二の基板の主面上に配置された第二の接続端子とを電気的に接続するために用いられてもよく、基板の主面上に配置された接続端子を有する太陽電池セルの当該接続端子と、配線部材とを電気的に接続するために用いられてもよい。   Further, the adhesive for circuit connection according to the present invention includes a first connection terminal disposed on the main surface of the first substrate, and a second connection terminal disposed on the main surface of the second substrate. May be used to electrically connect the connection terminal of the solar battery cell having the connection terminal disposed on the main surface of the substrate and the wiring member. Also good.

本発明の一側面に係る回路部材の接続構造体は、第一の接続端子を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部材と、第一の回路部材及び第二の回路部材の間に配置され、第一の接続端子と第二の接続端子とを電気的に接続する接続部材と、を備え、接続部材が、上記回路接続用接着剤の硬化物を含む。本発明の一側面に係る接続構造体では、接続部材が上記回路接続用接着剤の硬化物を含有することにより、接続構造体における信頼性(接続抵抗及び接着強度)を向上させることができる。   A circuit member connection structure according to one aspect of the present invention includes a first circuit member having a first connection terminal, a second circuit member having a second connection terminal, a first circuit member, and a first circuit member. A connection member that is disposed between the two circuit members and electrically connects the first connection terminal and the second connection terminal, and the connection member includes a cured product of the adhesive for circuit connection. . In the connection structure according to one aspect of the present invention, when the connection member contains the cured product of the circuit connection adhesive, the reliability (connection resistance and adhesive strength) of the connection structure can be improved.

本発明の一側面に係る回路部材の接続構造体において、第一の回路部材及び第二の回路部材の少なくとも一方は、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基材から構成されていてもよい。この場合、回路接続用接着剤を用いて製造される接続構造体における接着強度を更に向上させ、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後において更に安定した性能(接着強度及び接続抵抗)を維持することができる。   In the circuit member connection structure according to one aspect of the present invention, at least one of the first circuit member and the second circuit member is made of a base material containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower. May be. In this case, the adhesion strength of the connection structure manufactured using the circuit connection adhesive is further improved, and more stable performance (adhesion strength and connection resistance) after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test). Can be maintained.

本発明の一側面に係る回路部材の接続構造体において、第一の回路部材及び第二の回路部材の少なくとも一方は、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基材から構成されていてもよい。この場合、上記特定の材料から構成される基板を有する第一の回路部材又は第二の回路部材を用いた場合であっても、上記本発明に係る回路接続用接着剤を用いることで、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)中に起こる変形に十分に対応することができるため、優れた接続信頼性を得ることができる。   In the circuit member connection structure according to one aspect of the present invention, at least one of the first circuit member and the second circuit member includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. You may be comprised from the base material. In this case, even when the first circuit member or the second circuit member having the substrate made of the specific material is used, by using the circuit connecting adhesive according to the present invention, Since it can sufficiently cope with the deformation that occurs during the time reliability test (high temperature and high humidity test), excellent connection reliability can be obtained.

本発明の一側面に係る回路部材の接続構造体は、第一の回路部材及び第二の回路部材のうち一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基材から構成されており、他方が、ポリイミド樹脂及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基材から構成されている態様であってもよい。この場合、上記特定の材料から構成される基板を有する第一の回路部材及び第二の回路部材を用いた場合であっても、上記本発明に係る回路接続用接着剤を用いることで、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)中に起こる変形に十分に対応することができるため、優れた接続信頼性を得ることができる。   In the circuit member connection structure according to one aspect of the present invention, one of the first circuit member and the second circuit member includes at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. The aspect comprised from the base material and the other is comprised from the base material containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a polyimide resin and a polyethylene terephthalate may be sufficient. In this case, even when the first circuit member and the second circuit member having the substrate made of the specific material are used, by using the circuit connecting adhesive according to the present invention, Since it can sufficiently cope with the deformation that occurs during the time reliability test (high temperature and high humidity test), excellent connection reliability can be obtained.

本発明の他の一側面に係る太陽電池モジュールは、基板及び当該基板の主面上に配置された接続端子を有する太陽電池セルと、配線部材と、太陽電池セル及び配線部材の間に配置され太陽電池セルと配線部材とを電気的に接続する接続部材と、を備え、接続部材が、上記回路接続用接着剤の硬化物を含む。本発明の他の一側面に係る太陽電池モジュールでは、接続部材が上記回路接続用接着剤の硬化物を含有することにより、太陽電池モジュールにおける信頼性(接続抵抗及び接着強度)を向上させることができる。   A solar cell module according to another aspect of the present invention is disposed between a solar cell having a substrate and a connection terminal disposed on the main surface of the substrate, a wiring member, and the solar cell and the wiring member. A connecting member that electrically connects the solar battery cell and the wiring member, and the connecting member includes a cured product of the adhesive for circuit connection. In the solar cell module according to another aspect of the present invention, the reliability (connection resistance and adhesive strength) of the solar cell module can be improved when the connection member contains the cured product of the circuit connection adhesive. it can.

本発明はさらに、(a)熱可塑性樹脂、(b)ラジカル重合性化合物、(c)ラジカル重合開始剤、及び(d)無機フィラーを含有し、(d)無機フィラーの形状が片状である組成物の回路接続用接着剤としての応用、及び当該組成物の回路接続用接着剤の製造のための応用に関してもよい。   The present invention further comprises (a) a thermoplastic resin, (b) a radical polymerizable compound, (c) a radical polymerization initiator, and (d) an inorganic filler, and (d) the shape of the inorganic filler is flaky. It may be related to the application of the composition as an adhesive for circuit connection and the application of the composition for the production of an adhesive for circuit connection.

本発明によれば、優れた接着強度を得ることができ、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においても安定した性能(接着強度及び接続抵抗)を維持することができる回路接続用接着剤及びそれを用いて製造される回路部材の接続構造体を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to obtain excellent adhesive strength, and for circuit connection that can maintain stable performance (adhesive strength and connection resistance) even after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test). An adhesive and a connection structure for a circuit member manufactured using the adhesive can be provided.

本発明の第1実施形態に係る接続構造体を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the connection structure which concerns on 1st Embodiment of this invention. 図1に示す接続構造体の製造方法を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the manufacturing method of the connection structure shown in FIG. 本発明の第2実施形態に係る接続構造体を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the connection structure which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 図3に示す接続構造体の製造方法を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the manufacturing method of the connection structure shown in FIG. 本発明の第3実施形態に係る接続構造体を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the connection structure which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 無機フィラーの一例を示すSEM像である。It is a SEM image which shows an example of an inorganic filler.

以下、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、アクリル酸及びそれに対応するメタクリル酸を意味し、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレート及びそれに対応するメタクリレートを意味し、「(メタ)アクリロイル基」とは、アクリロイル基及びメタクリロイル基を意味し、「(メタ)アクリロイルオキシ基」とは、アクリロイルオキシ基及びそれに対応するメタクリロイルオキシ基を意味する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. In the present specification, “(meth) acrylic acid” means acrylic acid and methacrylic acid corresponding thereto, “(meth) acrylate” means acrylate and methacrylate corresponding thereto, and “(( The “meth) acryloyl group” means an acryloyl group and a methacryloyl group, and the “(meth) acryloyloxy group” means an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group corresponding thereto.

また、本明細書において、重量平均分子量及び数平均分子量は、下記の条件に従って、ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)より標準ポリスチレンによる検量線を用いて測定した値をいう。
(測定条件)
装置:東ソー株式会社製 GPC−8020
検出器:東ソー株式会社製 RI−8020
カラム:日立化成工業株式会社製 Gelpack GL−A−160−S+GL−A150
試料濃度:120mg/3ml
溶媒:テトラヒドロフラン
注入量:60μl
圧力:2.94×10Pa(30kgf/cm
流量:1.00ml/min
Moreover, in this specification, a weight average molecular weight and a number average molecular weight say the value measured using the analytical curve by a standard polystyrene from a gel permeation chromatograph (GPC) according to the following conditions.
(Measurement condition)
Device: GPC-8020 manufactured by Tosoh Corporation
Detector: RI-8020 manufactured by Tosoh Corporation
Column: Gelpack GL-A-160-S + GL-A150 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
Sample concentration: 120mg / 3ml
Solvent: Tetrahydrofuran Injection volume: 60 μl
Pressure: 2.94 × 10 6 Pa (30 kgf / cm 2 )
Flow rate: 1.00 ml / min

本実施形態に係る回路接続用接着剤は、(a)熱可塑性樹脂、(b)ラジカル重合性化合物、(c)ラジカル重合開始剤、及び(d)無機フィラーを含有する。   The adhesive for circuit connection according to this embodiment contains (a) a thermoplastic resin, (b) a radical polymerizable compound, (c) a radical polymerization initiator, and (d) an inorganic filler.

((a):熱可塑性樹脂)
(a)熱可塑性樹脂は、融点又はガラス転移温度以上の温度で加熱すると、粘度の高い液状状態になって外力により自由に変形し、冷却し外力を取り除くとその形状を保ったままで硬くなり、この過程を繰り返し行える性質を持つ樹脂(高分子)をいう。また、(a)熱可塑性樹脂は、上記の性質を有する反応性官能基を有する樹脂(高分子)であってもよい。(a)熱可塑性樹脂のガラス転移温度(Tg)は、−30℃以上190℃以下が好ましく、−25℃以上170℃以下がより好ましく、−20℃以上150℃以下が更に好ましい。
((A): thermoplastic resin)
(A) When the thermoplastic resin is heated at a temperature equal to or higher than the melting point or the glass transition temperature, it becomes a liquid state having a high viscosity and is freely deformed by an external force, and is cooled and hardened while maintaining its shape when the external force is removed. A resin (polymer) having the property of repeating this process. Further, (a) the thermoplastic resin may be a resin (polymer) having a reactive functional group having the above properties. (A) The glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin is preferably −30 ° C. or higher and 190 ° C. or lower, more preferably −25 ° C. or higher and 170 ° C. or lower, and further preferably −20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.

(a)熱可塑性樹脂は、例えば、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ブチラール樹脂(例えばポリビニルブチラール樹脂)、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂及びポリアミド樹脂、並びに、酢酸ビニルを構造単位として有する共重合体(酢酸ビニル共重合体、例えばエチレン−酢酸ビニル共重合体)からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むことができる。これらの中でも、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ブチラール樹脂、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種類を含むことがより好ましい。これらは1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。さらに、これら(a)熱可塑性樹脂中にはシロキサン結合及びフッ素置換基が含まれていてもよい。これらは、混合する樹脂同士が完全に相溶する状態、又は、ミクロ相分離が生じて白濁する状態であることが好ましい。   (A) Thermoplastic resins include, for example, phenoxy resins, polyurethane resins, polyester urethane resins, butyral resins (for example, polyvinyl butyral resins), acrylic resins, polyimide resins and polyamide resins, and copolymers having vinyl acetate as structural units It can contain at least one selected from the group consisting of (vinyl acetate copolymer, for example, ethylene-vinyl acetate copolymer). Among these, it is more preferable to include at least one selected from the group consisting of phenoxy resin, polyurethane resin, polyester urethane resin, butyral resin, acrylic resin, and polyimide resin. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Furthermore, these (a) thermoplastic resins may contain a siloxane bond and a fluorine substituent. These are preferably in a state in which the resins to be mixed are completely compatible with each other, or in a state in which microphase separation occurs and white turbidity occurs.

回路接続用接着剤をフィルム状にして利用する場合、(a)熱可塑性樹脂の重量平均分子量が大きいほど、良好なフィルム形成性が容易に得られ、また、フィルム状回路接続用接着剤としての流動性に影響する溶融粘度を広範囲に設定できる。(a)熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、5000以上が好ましく、7000以上がより好ましく、10000以上が更に好ましい。(a)熱可塑性樹脂の重量平均分子量が5000以上であると、接着剤組成物の流動性を維持しつつ、フィルム形成性が更に向上する傾向がある。(a)熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、150000以下が好ましく、100000以下がより好ましく、80000以下が更に好ましい。(a)熱可塑性樹脂の重量平均分子量が150000以下であると、他の成分との相溶性を維持しつつ、フィルム形成性が更に向上する傾向がある。   When the adhesive for circuit connection is used in the form of a film, (a) the higher the weight average molecular weight of the thermoplastic resin, the easier the film-forming property is obtained, and the adhesive for the film-like circuit connection A wide range of melt viscosities affecting fluidity can be set. (A) The weight average molecular weight of the thermoplastic resin is preferably 5000 or more, more preferably 7000 or more, and still more preferably 10,000 or more. (A) When the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is 5000 or more, the film formability tends to be further improved while maintaining the fluidity of the adhesive composition. (A) The weight average molecular weight of the thermoplastic resin is preferably 150,000 or less, more preferably 100,000 or less, and still more preferably 80000 or less. (A) When the weight average molecular weight of the thermoplastic resin is 150,000 or less, the film formability tends to be further improved while maintaining compatibility with other components.

回路接続用接着剤における(a)熱可塑性樹脂の含有量は、接着剤成分(回路接続用接着剤における導電性粒子を除く成分)の全質量を基準として、5質量%以上が好ましく、15質量%以上がより好ましい。(a)熱可塑性樹脂の含有量が5質量%以上であると、回路接続用接着剤をフィルム状にして利用する場合に特に、フィルム形成性が更に向上する傾向がある。(a)熱可塑性樹脂の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、80質量%以下が好ましく、70質量%以下がより好ましい。(a)熱可塑性樹脂の含有量が80質量%以下であると、回路接続用接着剤の流動性を維持しつつ、フィルム形成性が更に向上する傾向がある。   The content of the thermoplastic resin (a) in the circuit connecting adhesive is preferably 5% by mass or more based on the total mass of the adhesive components (components excluding conductive particles in the circuit connecting adhesive), and 15% by mass. % Or more is more preferable. (A) When the content of the thermoplastic resin is 5% by mass or more, the film formability tends to be further improved particularly when the circuit connecting adhesive is used in the form of a film. (A) 80 mass% or less is preferable on the basis of the total mass of an adhesive component, and, as for content of a thermoplastic resin, 70 mass% or less is more preferable. (A) When the content of the thermoplastic resin is 80% by mass or less, the film formability tends to be further improved while maintaining the fluidity of the circuit connecting adhesive.

((b)ラジカル重合性化合物)
(b)ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合開始剤の作用でラジカル重合を生じる化合物をいうが、光、熱等の活性化エネルギーを付与することでそれ自体ラジカルを生じる化合物であってもよい。(b)ラジカル重合性化合物としては、例えば、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、アリル基、マレイミド基等の、活性ラジカルによって重合する官能基を有する化合物を好適に使用可能である。
((B) Radical polymerizable compound)
The (b) radical polymerizable compound refers to a compound that generates radical polymerization by the action of a radical polymerization initiator, but may be a compound that itself generates radicals by applying activation energy such as light and heat. (B) As the radically polymerizable compound, for example, a compound having a functional group that is polymerized by an active radical such as a vinyl group, a (meth) acryloyl group, an allyl group, or a maleimide group can be preferably used.

(b)ラジカル重合性化合物としては、具体的には、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエーテル(メタ)アクリレートオリゴマー、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー等のオリゴマー、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性2官能(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸変性3官能(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンアクリレート、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルのグリシジル基に(メタ)アクリル酸を付加させたエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンアクリレート、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルのグリシジル基に(メタ)アクリル酸を付加させたエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテルのグリシジル基にエチレングリコール及びプロピレングリコールを付加させた化合物に(メタ)アクリロイルオキシ基を導入した化合物、下記一般式(A)又は一般式(B)で示される化合物などが挙げられる。   (B) Specific examples of radically polymerizable compounds include epoxy (meth) acrylate oligomers, urethane (meth) acrylate oligomers, polyether (meth) acrylate oligomers, oligomers such as polyester (meth) acrylate oligomers, and trimethylolpropane. Tri (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polyalkylene glycol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, isocyanuric acid modified bifunctional (meth) acrylate, isocyanuric acid modified trifunctional (meth) acrylate, bisphenoxye Add (meth) acrylic acid to the glycidyl group of epoxy (meth) acrylate, bisphenoxyethanol fluorene acrylate, or bisphenol fluorenediglycidyl ether obtained by adding (meth) acrylic acid to the glycidyl group of norfluorene acrylate or bisphenol fluorenediglycidyl ether. Epoxy (meth) acrylate, a compound in which ethylene glycol and propylene glycol are added to a glycidyl group of bisphenol fluorenediglycidyl ether, a compound in which a (meth) acryloyloxy group is introduced, the following general formula (A) or general formula (B) And the like.


[式(A)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、a及びbはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。]

[In Formula (A), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and a and b each independently represent an integer of 1 to 8. ]


[式(B)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、c及びdはそれぞれ独立に0〜8の整数を示す。]

[In Formula (B), R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and c and d each independently represents an integer of 0 to 8. ]

また、(b)ラジカル重合性化合物としては、単独で30℃に静置した場合にワックス状、ろう状、結晶状、ガラス状、粉状等の流動性が無く固体状態を示すものであっても、特に制限することなく使用することができる。このような(b)ラジカル重合性化合物としては、具体的には、N,N’−メチレンビスアクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、N−フェニルマレイミド、N−(o−メチルフェニル)マレイミド、N−(m−メチルフェニル)マレイミド、N−(p−メチルフェニル)マレイミド、N−(o−メトキシフェニル)マレイミド、N−(m−メトキシフェニル)マレイミド、N−(p−メトキシフェニル)マレイミド、N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−オクチルマレイミド、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、m−フェニレンビスマレイミド、3,3’−ジメチル−5,5’−ジエチル−4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、4−メチル−1,3−フェニレンビスマレイミド、N−メタクリロキシマレイミド、N−アクリロキシマレイミド、1,6−ビスマレイミド−(2,2,4−トリメチル)ヘキサン、N−メタクリロイルオキシコハク酸イミド、N−アクリロイルオキシコハク酸イミド、2−ナフチルメタクリレート、2−ナフチルアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジビニルエチレン尿素、ジビニルプロピレン尿素、2−ポリスチリルエチルメタクリレート、N−フェニル−N’−(3−メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−(3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)−p−フェニレンジアミン、テトラメチルピペリジルメタクリレート、テトラメチルピペリジルアクリレート、ペンタメチルピペリジルメタクリレート、ペンタメチルピペリジルアクリレート、オクタデシルアクリレート、N−t−ブチルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N−(ヒドロシキメチル)アクリルアミド、下記一般式(C)〜(L)で示される化合物等が挙げられる。   The radically polymerizable compound (b) is a solid state having no fluidity such as waxy, waxy, crystalline, glassy or powdery when left alone at 30 ° C. However, it can be used without any particular limitation. Specific examples of such (b) radical polymerizable compounds include N, N′-methylenebisacrylamide, diacetone acrylamide, N-methylol acrylamide, N-phenyl methacrylamide, and 2-acrylamido-2-methylpropane. Sulfonic acid, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, N-phenylmaleimide, N- (o-methylphenyl) maleimide, N- (m-methylphenyl) maleimide, N- (p-methylphenyl) maleimide, N -(O-methoxyphenyl) maleimide, N- (m-methoxyphenyl) maleimide, N- (p-methoxyphenyl) maleimide, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-octylmaleimide, 4,4'-diphenylmethane Bismaleimide, m-fe Renbismaleimide, 3,3′-dimethyl-5,5′-diethyl-4,4′-diphenylmethane bismaleimide, 4-methyl-1,3-phenylenebismaleimide, N-methacryloxymaleimide, N-acryloxymaleimide 1,6-bismaleimide- (2,2,4-trimethyl) hexane, N-methacryloyloxysuccinimide, N-acryloyloxysuccinimide, 2-naphthyl methacrylate, 2-naphthyl acrylate, pentaerythritol tetraacrylate, Divinylethyleneurea, divinylpropyleneurea, 2-polystyrylethyl methacrylate, N-phenyl-N ′-(3-methacryloyloxy-2-hydroxypropyl) -p-phenylenediamine, N-phenyl-N ′-(3-acryloyl) Oxy 2-hydroxypropyl) -p-phenylenediamine, tetramethylpiperidyl methacrylate, tetramethylpiperidyl acrylate, pentamethylpiperidyl methacrylate, pentamethylpiperidyl acrylate, octadecyl acrylate, Nt-butylacrylamide, diacetone acrylamide, N- (hydroxy) And methyl) acrylamide and compounds represented by the following general formulas (C) to (L).


[式(C)中、eは1〜10の整数を示す。]

[In formula (C), e shows the integer of 1-10. ]


[式(E)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、fは15〜30の整数を示す。]

[In Formula (E), R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and f represents an integer of 15 to 30. ]


[式(F)中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、gは15〜30の整数を示す。]

[In Formula (F), R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and g represents an integer of 15 to 30. ]


[式(G)中、Rは水素原子又はメチル基を示す。]

[In formula (G), R 9 represents a hydrogen atom or a methyl group. ]


[式(H)中、R10は水素原子又はメチル基を示し、hは1〜10の整数を示す。]

[In Formula (H), R 10 represents a hydrogen atom or a methyl group, and h represents an integer of 1 to 10. ]


[式(I)中、R11は水素原子、又は下記一般式(i)若しくは(ii)で表される有機基を示し、iは1〜10の整数を示す。ただし、複数存在するR11のうち少なくとも一つは下記一般式(i)又は(ii)で表される有機基である。]

[In formula (I), R 11 represents a hydrogen atom or an organic group represented by the following general formula (i) or (ii), and i represents an integer of 1 to 10. However, at least one of the plurality of R 11 is an organic group represented by the following general formula (i) or (ii). ]



[式(J)中、R12は水素原子、又は下記一般式(iii)若しくは(iv)で表される有機基を示し、jは1〜10の整数を示す。ただし、複数存在するR12のうち少なくとも一つは下記一般式(iii)又は(iv)で表される有機基である。]

[In formula (J), R 12 represents a hydrogen atom or an organic group represented by the following general formula (iii) or (iv), and j represents an integer of 1 to 10. However, at least one of a plurality of R 12 is an organic group represented by the following general formula (iii) or (iv). ]



[式(K)中、R13は水素原子又はメチル基を示す。]

[In the formula (K), R 13 represents a hydrogen atom or a methyl group. ]


[式(L)中、R14は水素原子又はメチル基を示す。]

[In the formula (L), R 14 represents a hydrogen atom or a methyl group. ]

また、(b)ラジカル重合性化合物として、ウレタンアクリレートを用いることができる。ウレタンアクリレートは、単独で使用してもよく、ウレタンアクリレート以外の(b)ラジカル重合性化合物と併用してもよい。ウレタンアクリレートを、単独で使用、又は、ウレタンアクリレート以外の(b)ラジカル重合性化合物と併用することで、可とう性が向上し、接着強度を更に向上させることができる。   Moreover, urethane acrylate can be used as the radically polymerizable compound (b). Urethane acrylate may be used alone or in combination with (b) a radical polymerizable compound other than urethane acrylate. By using urethane acrylate alone or in combination with (b) a radical polymerizable compound other than urethane acrylate, flexibility is improved and adhesive strength can be further improved.

ウレタンアクリレートとしては、特に制限はないが、下記一般式(M)で表されるウレタンアクリレートが好ましい。ここで、下記一般式(M)で表されるウレタンアクリレートは、脂肪族系ジイソシアネート又は脂環式系ジイソシアネートと、脂肪族エステル系ジオール及び脂環式エステル系ジオール並びに脂肪族カーボネート系ジオール及び脂環式カーボネート系ジオールからなる群より選ばれる少なくとも1種との縮合反応により得ることができる。   Although there is no restriction | limiting in particular as urethane acrylate, The urethane acrylate represented with the following general formula (M) is preferable. Here, the urethane acrylate represented by the following general formula (M) includes an aliphatic diisocyanate or an alicyclic diisocyanate, an aliphatic ester diol, an alicyclic ester diol, an aliphatic carbonate diol, and an alicyclic ring. It can be obtained by a condensation reaction with at least one selected from the group consisting of a carbonate-based diol.


[式(M)中、R15及びR16はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、R17はエチレン基又はプロピレン基を示し、R18は飽和脂肪族基又は飽和脂環式基を示し、R19は、エステル基を含有する飽和脂肪族基又は飽和脂環式基、若しくは、カーボネート基を含有する飽和脂肪族基又は飽和脂環式基を示し、kは1〜40の整数を示す。なお、式(M)中、複数存在するR17同士、R18同士はそれぞれ同一でも異なってもよい。]

[In Formula (M), R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 17 represents an ethylene group or a propylene group, and R 18 represents a saturated aliphatic group or a saturated alicyclic group. , R 19 represents a saturated aliphatic group or saturated alicyclic group containing an ester group, or a saturated aliphatic group or saturated alicyclic group containing a carbonate group, and k represents an integer of 1 to 40. . In the formula (M), a plurality of R 17 and R 18 may be the same or different. ]

上記ウレタンアクリレートを構成する脂肪族系ジイソシアネートは、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、3−メチルペンタン−1,5−ジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレン−1,6−ジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレン−1,6−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、シクロヘキシルジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加トリメチルキシリレンジイソシアネート等から選択される。   The aliphatic diisocyanate constituting the urethane acrylate is tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 2-methylpentane-1,5-diisocyanate, 3-methylpentane-1,5-diisocyanate, 2,2,4. Trimethylhexamethylene-1,6-diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene-1,6-diisocyanate, isophorone diisocyanate, cyclohexyl diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated trimethylxylylene diisocyanate Selected from etc.

また、上記ウレタンアクリレートを構成する脂肪族エステル系ジオールは、低分子ジオール類、二塩基酸又はこれらに対応する酸無水物を脱水縮合させて得られるポリエステルジオール類、ε−カプロラクトン等の環状エステル化合物を脱水縮合させて得られるポリエステルジオール類等から選択される。
低分子ジオール類としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,2−ペンタンジオール、1,4−ペンタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,4−ジメチル−2,4−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、1,2−ヘキサンジオール、1,5−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,5−ヘキサンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、1,2−オクタンジオール、1,8−オクタンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,2−デカンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−デカンジオール、ドデカンジオール、ピナコール、1,4−ブチンジオール、トリエチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノールが挙げられる。
二塩基酸としては、例えば、アジピン酸、3−メチルアジピン酸、2,2,5,5−テトラメチルアジピン酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、2,2−ジメチルコハク酸、2−エチル−2−メチルコハク酸、2,3−ジメチルコハク酸、シュウ酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ブチルマロン酸、ジメチルマロン酸、グルタル酸、2−メチルグルタル酸、3−メチルグルタル酸、2,2−ジメチルグルタル酸、3,3−ジメチルグルタル酸、2,4−ジメチルグルタル酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸が挙げられる。
上記脂肪族エステル系ジオールは、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
The aliphatic ester-based diol constituting the urethane acrylate is a low molecular diol, a dibasic acid or a polyester diol obtained by dehydration condensation of a corresponding acid anhydride, cyclic ester compounds such as ε-caprolactone Is selected from polyester diols obtained by dehydration condensation.
Examples of the low molecular diols include ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, 1,2 -Pentanediol, 1,4-pentanediol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,4-dimethyl-2,4-pentanediol, 2 , 2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,2-hexanediol, 1,5-hexanediol, 1,6-hexanediol, 2,5-hexanediol, 2-ethyl-1,3- Hexanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,2-octanediol, 1,8-octanediol 1,7-heptanediol, 1,9-nonanediol, 1,2-decanediol, 1,10-decanediol, 1,12-decanediol, dodecanediol, pinacol, 1,4-butynediol, triethylene Examples include glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, cyclohexane dimethanol and 1,4-cyclohexane dimethanol.
Examples of the dibasic acid include adipic acid, 3-methyladipic acid, 2,2,5,5-tetramethyladipic acid, maleic acid, fumaric acid, succinic acid, 2,2-dimethylsuccinic acid, and 2-ethyl. 2-methylsuccinic acid, 2,3-dimethylsuccinic acid, oxalic acid, malonic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, butylmalonic acid, dimethylmalonic acid, glutaric acid, 2-methylglutaric acid, 3-methylglutaric acid 2,2-dimethylglutaric acid, 3,3-dimethylglutaric acid, 2,4-dimethylglutaric acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, and sebacic acid.
The aliphatic ester diols can be used alone or in combination of two or more.

また、上記ウレタンアクリレートを構成する脂肪族ポリカーボネート系ジオール及び脂環式カーボネート系ジオールは、少なくとも1種類の上記ジオール類とホスゲンとの反応によって得られるポリカーボネートジオール類から選択されてもよい。上記グリコール類とホスゲンとの反応によって得られるポリカーボネート系ジオールは、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   The aliphatic polycarbonate diol and alicyclic carbonate diol constituting the urethane acrylate may be selected from polycarbonate diols obtained by reaction of at least one kind of the diols with phosgene. The polycarbonate-type diol obtained by reaction of the said glycols and phosgene can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

また、上記ウレタンアクリレートは、接着強度を更に向上させる観点から、5000以上30000未満の範囲内で重量平均分子量を自由に調整し、好適に使用することができる。上記ウレタンアクリレートの重量平均分子量が上記範囲内であれば、柔軟性と凝集力の双方を十分に得ることができ、PET、PC、PEN等の有機基材との接着強度が更に向上し、更に優れた接続信頼性を得ることができる。また、このような効果をより充分に得る観点から、上記ウレタンアクリレートの重量平均分子量は、8000以上25000未満がより好ましく、10000以上20000未満が更に好ましい。なお、この重量平均分子量が5000以上であると、接着剤組成物の流動性を維持しつつ、可とう性が更に向上する傾向があり、重量平均分子量が30000未満であると、回路接続用接着剤の流動性を維持しつつ、可とう性が更に向上する傾向がある。   Moreover, the said urethane acrylate can adjust a weight average molecular weight freely within the range of 5000 or more and less than 30000 from a viewpoint of further improving adhesive strength, and can be used conveniently. If the weight average molecular weight of the urethane acrylate is within the above range, both flexibility and cohesion can be sufficiently obtained, and the adhesive strength with organic base materials such as PET, PC, PEN and the like can be further improved. Excellent connection reliability can be obtained. Further, from the viewpoint of obtaining such an effect more sufficiently, the weight average molecular weight of the urethane acrylate is more preferably 8000 or more and less than 25,000, and further preferably 10,000 or more and less than 20,000. In addition, when this weight average molecular weight is 5000 or more, flexibility tends to be further improved while maintaining the fluidity of the adhesive composition, and when the weight average molecular weight is less than 30000, adhesion for circuit connection The flexibility tends to be further improved while maintaining the fluidity of the agent.

また、上記ウレタンアクリレートの含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上が更に好ましい。上記含有量が5質量%以上であると、硬化後の耐熱性が更に向上する傾向がある。また、上記ウレタンアクリレートの含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、95質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましく、70質量%以下が更に好ましい。上記含有量が95質量%以下であると、回路接続用接着剤をフィルム状接着剤として使用する場合に、回路接続用接着剤の流動性を維持しつつ、可とう性が更に向上する傾向がある。   The urethane acrylate content is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, and still more preferably 15% by mass or more, based on the total mass of the adhesive component. There exists a tendency for the heat resistance after hardening to further improve that the said content is 5 mass% or more. The urethane acrylate content is preferably 95% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, and still more preferably 70% by mass or less, based on the total mass of the adhesive component. When the content is 95% by mass or less, when the circuit connecting adhesive is used as a film adhesive, the flexibility of the circuit connecting adhesive tends to be further improved while maintaining the fluidity of the circuit connecting adhesive. is there.

(b)ラジカル重合性化合物は、リン酸基含有ビニル化合物(リン酸基を有するビニル化合物)と、当該リン酸基含有ビニル化合物以外のラジカル重合性化合物と、をそれぞれ1種以上含んでいてもよい。(b)ラジカル重合性化合物は、N−ビニル化合物及びN,N−ジアルキルビニル化合物からなる群より選ばれるN−ビニル系化合物と、当該N−ビニル系化合物以外のラジカル重合性化合物と、をそれぞれ1種以上含んでいてもよい。リン酸基含有ビニル化合物を他のラジカル重合性化合物と併用すると、接続端子を有する基板に対する回路接続用接着剤の接着性を更に向上させることができる。また、N−ビニル系化合物の併用により、回路接続用接着剤の橋かけ率を向上させることができる。   (B) The radical polymerizable compound may contain at least one kind of a phosphate group-containing vinyl compound (a vinyl compound having a phosphate group) and a radical polymerizable compound other than the phosphate group-containing vinyl compound. Good. (B) The radical polymerizable compound includes an N-vinyl compound selected from the group consisting of an N-vinyl compound and an N, N-dialkylvinyl compound, and a radical polymerizable compound other than the N-vinyl compound, respectively. One or more kinds may be included. When the phosphate group-containing vinyl compound is used in combination with another radical polymerizable compound, the adhesiveness of the circuit connection adhesive to the substrate having the connection terminals can be further improved. Moreover, the cross-linking rate of the adhesive for circuit connection can be improved by using the N-vinyl compound together.

リン酸基含有ビニル化合物としては、リン酸基及びビニル基を有する化合物であれば特に制限はないが、下記一般式(N)〜(P)で表される化合物が好ましい。   The phosphate group-containing vinyl compound is not particularly limited as long as it is a compound having a phosphate group and a vinyl group, but compounds represented by the following general formulas (N) to (P) are preferable.


[式(N)中、R20は(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、R21は水素原子又はメチル基を示し、l及びmはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。なお、式(N)中、複数存在するR20同士、R21同士、l同士及びm同士はそれぞれ同一でも異なってもよい。]

[In the formula (N), R 20 represents a (meth) acryloyloxy group, R 21 represents a hydrogen atom or a methyl group, and l and m each independently represent an integer of 1 to 8. In the formula (N), a plurality of R 20 s , R 21 s , l s and m may be the same or different. ]


[式(O)中、R22は(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、n、o及びpはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。なお、式(O)中、複数存在するR22同士、n同士、o同士及びp同士はそれぞれ同一でも異なってもよい。]

[In the formula (O), R 22 represents a (meth) acryloyloxy group, and n, o and p each independently represent an integer of 1 to 8. In the formula (O), a plurality of R 22 , n, o and p may be the same or different. ]


[式(P)中、R23は(メタ)アクリロイルオキシ基を示し、R24は水素原子又はメチル基を示し、q及びrはそれぞれ独立に1〜8の整数を示す。]

[In Formula (P), R 23 represents a (meth) acryloyloxy group, R 24 represents a hydrogen atom or a methyl group, and q and r each independently represents an integer of 1 to 8. ]

リン酸基含有ビニル化合物としては、具体的には、アシッドホスホオキシエチルメタクリレート、アシッドホスホオキシエチルアクリレート、アシッドホスホオキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート、アシッドホスホオキシポリオキシプロピレングリコールモノメタクリレート、2,2’−ジ(メタ)アクリロイルオキシジエチルホスフェート、エチレンオキシド(EO)変性リン酸ジメタクリレート、リン酸変性エポキシアクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート、リン酸ビニル等が挙げられる。   Specific examples of the phosphoric acid group-containing vinyl compound include acid phosphooxyethyl methacrylate, acid phosphooxyethyl acrylate, acid phosphooxypropyl methacrylate, acid phosphooxypolyoxyethylene glycol monomethacrylate, and acid phosphooxypolyoxypropylene glycol monoester. Examples include methacrylate, 2,2′-di (meth) acryloyloxydiethyl phosphate, ethylene oxide (EO) -modified phosphate dimethacrylate, phosphate-modified epoxy acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, vinyl phosphate, and the like.

N−ビニル系化合物としては、具体的には、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルカプロラクタム、4,4’−ビニリデンビス(N,N−ジメチルアニリン)、N−ビニルアセトアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド等が挙げられる。   Specific examples of the N-vinyl compound include N-vinylimidazole, N-vinylpyridine, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactam, 4,4′-vinylidenebis (N, N— Dimethylaniline), N-vinylacetamide, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide and the like.

上述したリン酸基含有ビニル化合物及びN−ビニル系化合物の含有量のそれぞれは、リン酸基含有ビニル化合物及びN−ビニル系化合物以外のラジカル重合性化合物の含有量とは独立に、接着剤成分の全質量を基準として、0.2質量%以上が好ましく、0.3質量%以上がより好ましく、0.5質量%以上が更に好ましい。上記含有量が0.2質量%以上であると、接着強度が更に向上する傾向がある。上述したリン酸基含有ビニル化合物及びN−ビニル系化合物の含有量のそれぞれは、接着剤成分の全質量を基準として、15質量%以下が好ましく、10質量%以下がより好ましく、5質量%以下が更に好ましい。上記含有量が15質量%以下であると、回路接続用接着剤の硬化後の物性低下を抑えつつ、信頼性の確保が更に容易になる傾向がある。   Each of the contents of the above-mentioned phosphate group-containing vinyl compound and N-vinyl compound is independent of the contents of radical polymerizable compounds other than the phosphate group-containing vinyl compound and N-vinyl compound. Is preferably 0.2% by mass or more, more preferably 0.3% by mass or more, and still more preferably 0.5% by mass or more. There exists a tendency for adhesive strength to further improve that the said content is 0.2 mass% or more. Each of the contents of the above-mentioned phosphate group-containing vinyl compound and N-vinyl compound is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less, based on the total mass of the adhesive component. Is more preferable. When the content is 15% by mass or less, there is a tendency that it is easier to ensure reliability while suppressing deterioration in physical properties after curing of the adhesive for circuit connection.

また、上述したリン酸基含有ビニル化合物又はN−ビニル系化合物に該当する化合物を除いた(b)ラジカル重合性化合物の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、15質量%以上が更に好ましい。上記含有量が5質量%以上であると、硬化後の耐熱性が更に向上する傾向がある。上述したビニル系化合物に該当する化合物を除いた(b)ラジカル重合性化合物の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、95質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましく、70質量%以下が更に好ましい。上記含有量が95質量%以下であると、回路接続用接着剤をフィルム状接着剤として使用する場合に、接着剤組成物の流動性を維持しつつ、可とう性が更に向上する傾向がある。   In addition, the content of the radical polymerizable compound (b) excluding the compound corresponding to the above-described phosphate group-containing vinyl compound or N-vinyl compound is 5% by mass or more based on the total mass of the adhesive component. Preferably, 10 mass% or more is more preferable, and 15 mass% or more is still more preferable. There exists a tendency for the heat resistance after hardening to further improve that the said content is 5 mass% or more. The content of the radically polymerizable compound (b) excluding the compound corresponding to the vinyl compound described above is preferably 95% by mass or less, more preferably 80% by mass or less, based on the total mass of the adhesive component, 70 A mass% or less is more preferable. When the content is 95% by mass or less, when the circuit connection adhesive is used as a film adhesive, the flexibility tends to be further improved while maintaining the fluidity of the adhesive composition. .

((c)ラジカル重合開始剤)
(c)ラジカル重合開始剤としては、従来から知られている有機過酸化物、アゾ化合物等、外部からのエネルギーの付与によりラジカルを発生する化合物を用いることができる。(c)ラジカル重合開始剤としては、安定性、反応性、相溶性の観点から、1分間半減期温度が90〜175℃であり、且つ重量平均分子量が180〜1000の有機過酸化物が好ましい。1分間半減期温度がこの範囲にあることで、貯蔵安定性に更に優れ、ラジカル重合性も充分に高く、短時間で硬化できる。
((C) radical polymerization initiator)
(C) As the radical polymerization initiator, conventionally known compounds such as organic peroxides and azo compounds that generate radicals by external energy application can be used. (C) The radical polymerization initiator is preferably an organic peroxide having a one-minute half-life temperature of 90 to 175 ° C. and a weight average molecular weight of 180 to 1000 from the viewpoints of stability, reactivity, and compatibility. . When the 1-minute half-life temperature is in this range, the storage stability is further improved, the radical polymerizability is sufficiently high, and the composition can be cured in a short time.

有機過酸化物としては、具体的には、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ジラウロイルパーオキサイド、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−アミルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、3−ヒドロキシ−1,1−ジメチルブチルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−アミルパーオキシネオデカノエート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ(3−メチルベンゾイル)パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ(4−メチルベンゾイル)パーオキサイド、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキシマレイン酸、t−ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(3−メチルベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−ヘキシルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジブチルパーオキシトリメチルアジペート、t−アミルパーオキシノルマルオクトエート、t−アミルパーオキシイソノナノエート、t−アミルパーオキシベンゾエート等が挙げられる。
アゾ化合物としては、具体的には、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリン酸)、1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)等が挙げられる。
これらのラジカル重合開始剤は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
Specific examples of the organic peroxide include 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, and di (2-ethylhexyl). Peroxydicarbonate, cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, dilauroyl peroxide, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxynoedecanoate T-hexylperoxyneodecanoate, t-butylperoxyneodecanoate, t-butylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, t-hexylper Xyl-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxyneoheptanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butyl Peroxyhexahydroterephthalate, t-amylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, 3-hydroxy-1,1-dimethylbutylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethyl Butyl peroxy-2-ethylhexanoate, t-amylperoxyneodecanoate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, di (3-methylbenzoyl) peroxide, dibenzoyl peroxide, di (4-Methylbenzoyl) peroxide, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate , T-butylperoxymaleic acid, t-butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanoate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (3-methylbenzoyl) Peroxy) hexane, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-hexylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, t-butylperoxybenzoate, dibutyl Examples include peroxytrimethyl adipate, t-amyl peroxy normal octoate, t-amyl peroxy isononanoate, and t-amyl peroxybenzoate.
Specific examples of the azo compound include 2,2′-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, 1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane), and 2,2′-azobisiso. Butyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), dimethyl-2,2′-azobisisobutyronitrile, 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), 1,1 ′ -Azobis (1-cyclohexanecarbonitrile) etc. are mentioned.
These radical polymerization initiators can be used singly or in combination of two or more.

また、(c)ラジカル重合開始剤としては、150〜750nmの光照射によってラジカルを発生する化合物を用いることができる。このような化合物としては、例えば、Photoinitiation,Photopolymerization,and Photocuring,J.−P. Fouassier,Hanser Publishers(1995年、p17〜p35)に記載されているα−アミノアセトフェノン誘導体及びホスフィンオキサイド誘導体といった光照射に対する感度が高い化合物が挙げられる。これらの化合物は、1種を単独で用いる他に、上記有機過酸化物及びアゾ化合物と混合して用いてもよい。   Moreover, as (c) radical polymerization initiator, the compound which generate | occur | produces a radical by 150-750 nm light irradiation can be used. Such compounds include, for example, Photoinitiation, Photopolymerization, and Photocuring, J. Mol. -P. Examples thereof include compounds having high sensitivity to light irradiation, such as α-aminoacetophenone derivatives and phosphine oxide derivatives described in Fouassier, Hanser Publishers (1995, p17 to p35). These compounds may be used alone or in combination with the above organic peroxides and azo compounds.

上記(c)ラジカル重合開始剤の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、0.5質量%以上が好ましく、1質量%以上がより好ましく、2質量%以上が更に好ましい。上記含有量が0.5質量%以上であると、回路接続用接着剤がより硬化しやすくなる傾向がある。上記(c)ラジカル重合開始剤の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、40質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましく、20質量%以下が更に好ましい。上記含有量が40質量%以下であると、貯蔵安定性を維持しつつ、回路接続用接着剤がより硬化しやすくなる傾向がある。   The content of the (c) radical polymerization initiator is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and still more preferably 2% by mass or more, based on the total mass of the adhesive component. When the content is 0.5% by mass or more, the circuit connecting adhesive tends to be more easily cured. The content of the (c) radical polymerization initiator is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, and still more preferably 20% by mass or less, based on the total mass of the adhesive component. When the content is 40% by mass or less, the adhesive for circuit connection tends to be more easily cured while maintaining storage stability.

((d)無機フィラー)
(d)無機フィラーは、片状である。片状とは扁平状もしくは薄片の不定形状をいい、平面を有し、且つ該平面に直交する方向に厚みを有する形状のものを包含する。片状の一例としては、板状、皿状、鱗片状、フレーク状と呼ばれる形状を含み、平面の形状は円形、楕円形、多角形、不定形等が挙げられる。無機フィラーのSEM像の一例を図6に示す。図6(a)は窒化ホウ素からなる片状の無機フィラーのSEM像であり、図6(b)は図6(a)の拡大図である。
((D) inorganic filler)
(D) The inorganic filler is flaky. The piece shape means a flat shape or an indefinite shape of a thin piece, and includes a shape having a flat surface and a thickness in a direction perpendicular to the flat surface. Examples of the flake shape include shapes called plate shape, dish shape, scale shape, and flake shape, and the shape of the plane includes a circle, an ellipse, a polygon, an indefinite shape, and the like. An example of the SEM image of the inorganic filler is shown in FIG. FIG. 6A is an SEM image of a piece of inorganic filler made of boron nitride, and FIG. 6B is an enlarged view of FIG.

(d)無機フィラーの平均粒子径は、平面平均幅に関しては、0.5〜20μmが好ましく、1〜15μmがより好ましく、1〜10μmがさらに好ましい。また、平面平均長径と平面平均幅との比(平面平均長径/平面平均幅)は、1〜200が好ましく、1.2〜150がより好ましく、1.3〜120がさらに好ましい。ここで、無機フィラーの平面の幅とは、無機フィラーの平面の端部に接する二つの平行線の組合せを、無機フィラーを平面方向に挟むように選択したときに、それらの組合せのうち最短間隔になる二つの平行線間の距離であり、平面平均幅とは、個数分布による平面の幅のメジアン径(D50)で定義されるものである。一方、平面の長径とは、上記のように選択した二つの平行線の組合せのうち最長間隔になる二つの平行線間の距離であり、平面平均長径とは、個数分布による平面の長径のメジアン径(D50)で定義されるものである。なお、個数分布は、例えば、SEM像より500〜1000個程度の微粒子を抽出し、画像解析式粒度分布測定ソフトウェアを用いて評価することができる。平面平均幅が0.5μm以上であると、粒子の表面積が小さくなり、接続時の流動性が更に向上する傾向がある。一方、20μm以下であると、回路接続用接着剤の流動性を維持しつつ、回路接続用接着剤の物性が更に向上する傾向がある。平面平均長径と平面平均幅との比が1以上であると、平面の部分の面積が大きくなり、回路接続接着材の物性がさらに向上する傾向がある。一方、200以下であると、平面部分の面積が小さくなり回路接続用接着剤の流動性が向上する傾向がある。   (D) The average particle diameter of the inorganic filler is preferably 0.5 to 20 μm, more preferably 1 to 15 μm, and even more preferably 1 to 10 μm with respect to the planar average width. The ratio of the plane average major axis to the plane average width (plane average major axis / plane average width) is preferably 1 to 200, more preferably 1.2 to 150, and still more preferably 1.3 to 120. Here, the width of the plane of the inorganic filler is the shortest interval among the combinations of two parallel lines in contact with the end of the plane of the inorganic filler so as to sandwich the inorganic filler in the plane direction. The plane average width is defined by the median diameter (D50) of the plane width according to the number distribution. On the other hand, the major axis of the plane is the distance between the two parallel lines having the longest distance among the combinations of the two parallel lines selected as described above, and the average major axis of the plane is the median of the major axis of the plane according to the number distribution. It is defined by the diameter (D50). The number distribution can be evaluated, for example, by extracting about 500 to 1000 fine particles from an SEM image and using image analysis type particle size distribution measurement software. When the plane average width is 0.5 μm or more, the surface area of the particles becomes small, and the fluidity during connection tends to be further improved. On the other hand, when it is 20 μm or less, the physical properties of the circuit connecting adhesive tend to be further improved while maintaining the fluidity of the circuit connecting adhesive. When the ratio of the plane average major axis to the plane average width is 1 or more, the area of the plane portion increases, and the physical properties of the circuit connection adhesive tend to be further improved. On the other hand, when it is 200 or less, the area of the plane portion is reduced, and the fluidity of the adhesive for circuit connection tends to be improved.

(d)無機フィラーの平均厚みは0.01〜1μmが好ましく、0.02〜0.8μmがより好ましく、0.04〜0.6μmがさらに好ましい。ここでいう平均厚みとは、ランダムに選んだ5個の無機フィラーについて求めた平均値と定義する。平均厚みが0.01μm以上であると、接着性及び接続信頼性が更に向上する傾向がある。一方、1μm以下であると、対向する接続端子間の電気的な接続を維持しつつ、回路接続用接着剤の物性が更に向上する傾向がある。   (D) The average thickness of the inorganic filler is preferably 0.01 to 1 μm, more preferably 0.02 to 0.8 μm, and still more preferably 0.04 to 0.6 μm. The average thickness here is defined as an average value obtained for five randomly selected inorganic fillers. There exists a tendency for adhesiveness and connection reliability to improve further that average thickness is 0.01 micrometer or more. On the other hand, when it is 1 μm or less, the physical properties of the adhesive for circuit connection tend to be further improved while maintaining the electrical connection between the connecting terminals facing each other.

(d)無機フィラーのアスペクト比(平面平均幅/平均厚み)は2〜500が好ましく、2〜400がより好ましく、2〜300が更に好ましい。アスペクト比が2以上であるとより接着剤組成物が高弾性化する傾向がある。一方、500以下であるとであると、対向する接続端子間の電気的な接続がより確実になる。   (D) The aspect ratio (plane average width / average thickness) of the inorganic filler is preferably 2 to 500, more preferably 2 to 400, and still more preferably 2 to 300. When the aspect ratio is 2 or more, the adhesive composition tends to be more elastic. On the other hand, when it is 500 or less, the electrical connection between the connecting terminals facing each other becomes more reliable.

本実施形態に用いられる無機フィラーは、例えばアルミナ、窒化ホウ素、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、結晶性シリカ、チタニア、ガラス、酸化鉄、セラミックを用いることができ、分散性の観点から、窒化ホウ素を用いることが好ましい。なお、無機フィラーが球状の場合、表面積の増加によって、回路接続用接着剤の流動性が十分でなく、十分な接続信頼性が得られない場合がある。また、無機フィラーが繊維状の場合、回路接続用接着剤中で無秩序に充填されるため、十分な接続信頼性が得られない場合がある。   The inorganic filler used in the present embodiment is, for example, alumina, boron nitride, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, Crystalline silica, titania, glass, iron oxide, and ceramic can be used, and boron nitride is preferably used from the viewpoint of dispersibility. When the inorganic filler is spherical, the fluidity of the adhesive for circuit connection may not be sufficient due to the increase in surface area, and sufficient connection reliability may not be obtained. Further, when the inorganic filler is fibrous, it is filled randomly in the adhesive for circuit connection, so that sufficient connection reliability may not be obtained.

片状の窒化ホウ素の種類としては、六方晶窒化ホウ素(h−BN)があり、高い潤滑性及び耐熱性を有する。   As a kind of flake boron nitride, there is hexagonal boron nitride (h-BN), which has high lubricity and heat resistance.

(d)無機フィラーの含有量は、回路接続用接着剤全体に対して、0.5〜20質量%が好ましく、0.5〜15質量%がより好ましく、1〜10質量%が特に好ましい。0.5質量%以上であると、無機フィラーによる耐熱性向上の効果を十分に発揮することができる。一方、20質量%以下であると、回路接続用接着剤の流動性を維持しつつ、接続信頼性が更に向上する傾向にある。   (D) As for content of an inorganic filler, 0.5-20 mass% is preferable with respect to the whole adhesive agent for circuit connection, 0.5-15 mass% is more preferable, 1-10 mass% is especially preferable. The effect of the heat resistance improvement by an inorganic filler can fully be exhibited as it is 0.5 mass% or more. On the other hand, when it is 20% by mass or less, the connection reliability tends to be further improved while maintaining the fluidity of the circuit connecting adhesive.

本実施形態の回路接続用接着剤に含まれる無機フィラーの表面をシランカップリング剤等で処理をすることが好ましい。無機フィラーの表面をシランカップリング剤で処理することで、回路接続用接着剤の他の成分との濡れ性、密着性を向上させ、流動性及び接着強度を更に向上させることができる。無機フィラーの表面処理の有無に関しては、EDX(Energy Dispersive X-ray spectroscopy)を用いて確認することができる。   It is preferable to treat the surface of the inorganic filler contained in the circuit connection adhesive of this embodiment with a silane coupling agent or the like. By treating the surface of the inorganic filler with a silane coupling agent, wettability and adhesion with other components of the circuit connecting adhesive can be improved, and fluidity and adhesive strength can be further improved. The presence or absence of the surface treatment of the inorganic filler can be confirmed using EDX (Energy Dispersive X-ray spectroscopy).

((e)導電性粒子)
(e)導電性粒子は、その全体又は表面に導電性を有する粒子であればよいが、接続端子を有する部材の接続に使用する場合は、接続端子間の距離よりも平均粒径が小さい粒子が好ましい。
((E) conductive particles)
(E) The conductive particles may be particles having conductivity on the whole or on the surface, but when used for connecting members having connection terminals, the average particle diameter is smaller than the distance between the connection terminals. Is preferred.

(e)導電性粒子としては、Au、Ag、Ni、Cu、Pd、はんだ等の金属から構成される金属粒子及びカーボン等から構成される粒子が挙げられる。また、(e)導電性粒子は、非導電性のガラス、セラミック、プラスチック等を核とし、この核に上記金属、金属粒子又はカーボンを被覆した粒子であってもよい。(e)導電性粒子が、プラスチックの核に上記金属、金属粒子又はカーボンを被覆したもの及び熱溶融金属粒子は、加熱加圧により変形性を有することから、接続時に電極との接触面積が増加し信頼性が向上するため好ましい。(e)導電性粒子は、例えば、銅からなる金属粒子に銀を被覆した粒子であってもよい。また、(e)導電性粒子として、特開2005−116291号公報に記載されるような、微細な金属粒子が多数、鎖状に繋がった形状を有する金属粉末を用いることもできる。   (E) Examples of the conductive particles include metal particles composed of metals such as Au, Ag, Ni, Cu, Pd, solder, and particles composed of carbon. Further, (e) the conductive particles may be particles in which non-conductive glass, ceramic, plastic, or the like is used as a core and the core is coated with the metal, metal particles, or carbon. (E) Conductive particles, plastic cores coated with the above metals, metal particles or carbon, and hot-melt metal particles are deformable by heating and pressurization, so that the contact area with the electrode increases during connection. This is preferable because reliability is improved. (E) The electroconductive particle may be a particle obtained by coating silver on a metal particle made of copper, for example. Further, as the conductive particles (e), a metal powder having a shape in which a large number of fine metal particles are connected in a chain shape as described in JP-A-2005-116291 can be used.

また、これらの(e)導電性粒子の表面を高分子樹脂等で更に被覆した微粒子、及びハイブリダイゼーション等の方法により(e)導電性粒子の表面に絶縁性物質からなる絶縁層が設けられたものを用いることで、導電性粒子の含有量が増加した場合の粒子同士の接触による短絡が抑制されて、電極回路間の絶縁性が向上することから、適宜これを単独あるいは(e)導電性粒子と混合して用いてもよい。   Further, (e) fine particles obtained by further covering the surface of the conductive particles with a polymer resin or the like, and (e) an insulating layer made of an insulating material is provided on the surface of the conductive particles by a method such as hybridization. By using one, short-circuiting due to contact between particles when the content of conductive particles increases is suppressed, and insulation between electrode circuits is improved. You may mix and use with particle | grains.

(e)導電性粒子の平均粒径は、分散性及び導電性の点から、1〜18μmが好ましい。このような(e)導電性粒子を含有する場合、回路接続用接着剤を異方導電性接着剤として好適に用いることができる。   (E) As for the average particle diameter of electroconductive particle, 1-18 micrometers is preferable from a dispersibility and an electroconductive point. When (e) such conductive particles are contained, an adhesive for circuit connection can be suitably used as the anisotropic conductive adhesive.

(e)導電性粒子の含有量は、特に制限は受けないが、接着剤成分の全体積を基準として、0.1体積%以上が好ましく、0.2体積%以上がより好ましい。上記含有量が0.1体積%以上であると、対向する接続端子間の導電性を確保しつつ、隣接する接続端子間の絶縁性が更に向上する傾向がある。(e)導電性粒子の含有量は、接着剤成分の全体積を基準として、30体積%以下が好ましく、10体積%以下がより好ましい。上記含有量が30体積%以下であると、回路の短絡がより生じにくくなる傾向がある。なお、「体積%」は23℃の硬化前の各成分の体積をもとに決定されるが、各成分の体積は、比重を利用して質量から体積に換算することができる。また、メスシリンダー等にその成分を溶解したり膨潤させたりせず、その成分をよく濡らす適当な溶媒(水、アルコール等)を入れたものに、その成分を投入し増加した体積をその成分の体積として求めることもできる。   (E) The content of the conductive particles is not particularly limited, but is preferably 0.1% by volume or more, more preferably 0.2% by volume or more based on the total volume of the adhesive component. There exists a tendency for the insulation between adjacent connection terminals to improve further, ensuring the electroconductivity between the opposing connection terminals as the said content is 0.1 volume% or more. (E) The content of the conductive particles is preferably 30% by volume or less, more preferably 10% by volume or less, based on the total volume of the adhesive component. When the content is 30% by volume or less, a short circuit tends to be less likely to occur. “Volume%” is determined based on the volume of each component before curing at 23 ° C., but the volume of each component can be converted from mass to volume using specific gravity. In addition, do not dissolve or swell the component in a graduated cylinder, etc., and put in a suitable solvent (water, alcohol, etc.) that wets the component well. It can also be determined as a volume.

(その他の成分)
本実施形態に係る回路接続用接着剤には、硬化速度の制御及び貯蔵安定性を更に向上させるために、安定化剤を添加することできる。このような安定化剤としては、特に制限なく公知の化合物を使用することができるが、ベンゾキノン、ハイドロキノン等のキノン誘導体;4−メトキシフェノール、4−t−ブチルカテコール等のフェノール誘導体;2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−1−オキシル等のアミノキシル誘導体;テトラメチルピペリジルメタクリレート等のヒンダードアミン誘導体などが好ましい。安定化剤は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
(Other ingredients)
A stabilizer can be added to the adhesive for circuit connection according to the present embodiment in order to further improve the control of the curing rate and the storage stability. As such a stabilizer, known compounds can be used without particular limitation, but quinone derivatives such as benzoquinone and hydroquinone; phenol derivatives such as 4-methoxyphenol and 4-t-butylcatechol; Preferred are aminoxyl derivatives such as 1,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine-1-oxyl; hindered amine derivatives such as tetramethylpiperidyl methacrylate. A stabilizer can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

安定化剤の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、0.005質量%以上が好ましく、0.01質量%以上がより好ましく、0.02質量%以上が更に好ましい。上記含有量が0.005質量%以上であると、硬化速度をより制御しやすくなると共に貯蔵安定性が更に向上しやすい傾向がある。安定化剤の含有量は、接着剤成分接着剤成分の全質量を基準として、10質量%以下が好ましく、8質量%以下がより好ましく、5質量%以下が更に好ましい。上記含有量が10質量%以下であると、硬化性を損なわずに、更に貯蔵安定性が向上する傾向がある。   The content of the stabilizer is preferably 0.005% by mass or more, more preferably 0.01% by mass or more, and still more preferably 0.02% by mass or more, based on the total mass of the adhesive component. When the content is 0.005% by mass or more, the curing rate tends to be more easily controlled and the storage stability tends to be further improved. The content of the stabilizer is preferably 10% by mass or less, more preferably 8% by mass or less, and still more preferably 5% by mass or less, based on the total mass of the adhesive component adhesive component. When the content is 10% by mass or less, the storage stability tends to be further improved without impairing the curability.

また、本実施形態に係る回路接続用接着剤には、アルコキシシラン誘導体及びシラザン誘導体に代表されるカップリング剤、密着向上剤、レベリング剤等の接着助剤を適宜添加してもよい。カップリング剤としては、具体的には、下記一般式(Q)で表される化合物が好ましい。カップリング剤は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   In addition, an adhesive aid such as a coupling agent represented by an alkoxysilane derivative and a silazane derivative, an adhesion improver, and a leveling agent may be appropriately added to the adhesive for circuit connection according to the present embodiment. As the coupling agent, specifically, a compound represented by the following general formula (Q) is preferable. A coupling agent can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.


[式(Q)中、R25、R26及びR27はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、炭素数1〜5のアルコキシカルボニル基又はアリール基を示し、R28は(メタ)アクリロイル基、ビニル基、イソシアナート基、イミダゾール基、メルカプト基、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、フェニルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基、ウレイド基又はグリシジル基を示し、sは1〜10の整数を示す。]

[In formula (Q), R 25 , R 26 and R 27 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl group having 1 to 5 carbon atoms. Or R 28 is a (meth) acryloyl group, vinyl group, isocyanate group, imidazole group, mercapto group, amino group, methylamino group, dimethylamino group, benzylamino group, phenylamino group, cyclohexylamino group , Morpholino group, piperazino group, ureido group or glycidyl group, and s represents an integer of 1 to 10. ]

本実施形態に係る回路接続用接着剤は、応力緩和及び接着性向上を目的に、ゴム成分を含有してもよい。ゴム成分とは、そのままの状態でゴム弾性(JIS K6200)を示す成分又は反応によりゴム弾性を示す成分をいう。ゴム成分は、室温(25℃)で固形でも液状でもよいが、流動性向上の観点から液状であることが好ましい。ゴム成分としては、ポリブタジエン骨格を有する化合物が好ましい。ゴム成分は、シアノ基、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基又はモルホリン基を有していてもよい。また、接着性向上の観点から、高極性基であるシアノ基及びカルボキシル基のうち少なくもいずれかを側鎖又は末端に含むゴム成分が好ましい。なお、ポリブタジエン骨格を有していても、熱可塑性を示す場合は(a)熱可塑性樹脂に分類し、ラジカル重合性を示す場合は(b)ラジカル重合性化合物に分類する。   The adhesive for circuit connection according to the present embodiment may contain a rubber component for the purpose of stress relaxation and adhesion improvement. The rubber component refers to a component that exhibits rubber elasticity (JIS K6200) as it is or a component that exhibits rubber elasticity by reaction. The rubber component may be solid or liquid at room temperature (25 ° C.), but is preferably liquid from the viewpoint of improving fluidity. As the rubber component, a compound having a polybutadiene skeleton is preferable. The rubber component may have a cyano group, a carboxyl group, a hydroxyl group, a (meth) acryloyl group, or a morpholine group. From the viewpoint of improving adhesiveness, a rubber component containing at least one of a cyano group and a carboxyl group, which are highly polar groups, in the side chain or terminal is preferable. In addition, even if it has a polybutadiene skeleton, if it exhibits thermoplasticity, it is classified as (a) a thermoplastic resin, and if it exhibits radical polymerizability, it is classified as (b) a radically polymerizable compound.

ゴム成分としては、具体的には、ポリイソプレン、ポリブタジエン、カルボキシル基末端ポリブタジエン、水酸基末端ポリブタジエン、1,2−ポリブタジエン、カルボキシル基末端1,2−ポリブタジエン、水酸基末端1,2−ポリブタジエン、アクリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、水酸基末端スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基又はモルホリン基をポリマー末端に含有するアクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル化ニトリルゴム、水酸基末端ポリ(オキシプロピレン)、アルコキシシリル基末端ポリ(オキシプロピレン)、ポリ(オキシテトラメチレン)グリコール、ポリオレフィングリコール等が挙げられる。ゴム成分の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、3〜60質量%が好ましく、5〜30質量%がさらに好ましい。   Specific examples of the rubber component include polyisoprene, polybutadiene, carboxyl-terminated polybutadiene, hydroxyl-terminated polybutadiene, 1,2-polybutadiene, carboxyl-terminated 1,2-polybutadiene, hydroxyl-terminated 1,2-polybutadiene, acrylic rubber, Styrene-butadiene rubber, hydroxyl-terminated styrene-butadiene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, carboxyl group, hydroxyl group, (meth) acryloyl group or morpholine group-containing acrylonitrile-butadiene rubber, carboxylated nitrile rubber, hydroxyl-terminated poly ( Oxypropylene), alkoxysilyl group-terminated poly (oxypropylene), poly (oxytetramethylene) glycol, polyolefin glycol and the like. The content of the rubber component is preferably 3 to 60% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, based on the total mass of the adhesive component.

また、上記高極性基を有し、室温で液状であるゴム成分としては、具体的には、液状アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基又はモルホリン基をポリマー末端に含有する液状アクリロニトリル−ブタジエンゴム、液状カルボキシル化ニトリルゴム等が挙げられる。高極性基を有し、室温で液状であるゴム成分の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、3〜60質量%が好ましく、5〜30質量%がさらに好ましい。   In addition, the rubber component having a high polar group and being liquid at room temperature specifically includes a liquid acrylonitrile-butadiene rubber, a carboxyl group, a hydroxyl group, a (meth) acryloyl group or a morpholine group at the polymer end. Examples thereof include liquid acrylonitrile-butadiene rubber and liquid carboxylated nitrile rubber. The content of the rubber component having a highly polar group and being liquid at room temperature is preferably 3 to 60% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass based on the total mass of the adhesive component.

これらのゴム成分は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   These rubber components can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

また、本実施形態に係る回路接続用接着剤には、応力緩和及び接着性向上を目的に、有機微粒子を添加してもよい。有機微粒子の平均粒径は0.05〜1.0μmが好ましい。なお、有機微粒子が上述のゴム成分からなる場合は、有機微粒子ではなくゴム成分に分類し、有機微粒子が上述の(a)熱可塑性樹脂からなる場合は、有機微粒子ではなく(a)熱可塑性樹脂に分類する。   In addition, organic fine particles may be added to the circuit connection adhesive according to the present embodiment for the purpose of stress relaxation and improvement of adhesion. The average particle size of the organic fine particles is preferably 0.05 to 1.0 μm. In addition, when organic fine particles consist of the above-mentioned rubber component, it classifies into a rubber component instead of organic fine particles, and when organic fine particles consist of the above-mentioned (a) thermoplastic resin, it is not organic fine particle (a) thermoplastic resin Classify into:

有機微粒子としては、具体的には、ポリイソプレン、ポリブタジエン、カルボキシル基末端ポリブタジエン、水酸基末端ポリブタジエン、1,2−ポリブタジエン、カルボキシル基末端1,2−ポリブタジエン、アクリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル基、水酸基、(メタ)アクリロイル基又はモルホリン基をポリマー末端に含有するアクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル化ニトリルゴム、水酸基末端ポリ(オキシプロピレン)、アルコキシシリル基末端ポリ(オキシプロピレン)、ポリ(オキシテトラメチレン)グリコール、ポリオレフィングリコール(メタ)アクリル酸アルキル−ブタジエン−スチレン共重合体、(メタ)アクリル酸アルキル−シリコーン共重合体又はシリコーン−(メタ)アクリル共重合体、若しくは、これらの複合体からなる有機微粒子等が挙げられる。   Specific examples of the organic fine particles include polyisoprene, polybutadiene, carboxyl group-terminated polybutadiene, hydroxyl group-terminated polybutadiene, 1,2-polybutadiene, carboxyl group-terminated 1,2-polybutadiene, acrylic rubber, styrene-butadiene rubber, and acrylonitrile-butadiene. Rubber, carboxyl group, hydroxyl group, acrylonitrile-butadiene rubber, carboxylated nitrile rubber, hydroxyl-terminated poly (oxypropylene), alkoxysilyl group-terminated poly (oxypropylene), poly (polypropylene) containing (meth) acryloyl group or morpholine group at the polymer end (Oxytetramethylene) glycol, polyolefin glycol (meth) acrylic acid alkyl-butadiene-styrene copolymer, (meth) acrylic acid alkyl-silicone copolymer or Silicone - (meth) acrylic copolymer, or organic fine particles made of composites thereof.

また、後述する基板がポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含有する基材から構成されている接続構造体を製造するための回路接続用接着剤としては、シリコーン微粒子を含有していてもよい。   In addition, as an adhesive for circuit connection for manufacturing a connection structure in which a substrate described later is composed of a base material containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate and polyethylene naphthalate, silicone is used. It may contain fine particles.

基板がポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含有する基材から構成されている接続構造体を製造するための回路接続用接着剤がシリコーン微粒子を含有することで、内部応力を十分に緩和することができるため、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートに対する接着強度が更に向上し、接続端子を有する部材への接着強度を更に向上させることができる。また、長時間の信頼性試験後にも更に安定した性能を維持することができる。   The adhesive for circuit connection for manufacturing the connection structure comprised from the base material in which a board | substrate contains at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a polyethylene terephthalate, a polycarbonate, and a polyethylene naphthalate contains a silicone microparticle. Since the internal stress can be sufficiently relaxed, the adhesive strength to polyethylene terephthalate, polycarbonate and polyethylene naphthalate can be further improved, and the adhesive strength to a member having a connection terminal can be further improved. In addition, more stable performance can be maintained even after a long-term reliability test.

上記シリコーン微粒子としては、ゴム弾性を有するポリオルガノシルセスキオキサン樹脂の微粒子が知られており、球状又は不定形のシリコーン微粒子が用いられる。また、分散性及び内部応力の緩和の観点から、シリコーン微粒子が100万以上の重量平均分子量を有することが好ましい。また、シリコーン微粒子は、三次元架橋構造を有することが好ましい。このようなシリコーン微粒子は、樹脂に対する分散性が高く、硬化後の応力緩和性に一層優れる。100万以上の重量平均分子量を有する及び/又は三次元架橋構造を有するシリコーン微粒子は、いずれも熱可塑性樹脂等のポリマー、モノマー、溶媒への溶解性が低いため、上述の効果を一層顕著に得ることができる。ここで「三次元架橋構造を有する」とは、ポリマー鎖が三次元網目構造を有していることを示す。また、シリコーン微粒子のガラス転移温度は、−130℃以上−20℃以下が好ましく、−120℃以上−40℃以下がより好ましい。このようなシリコーン微粒子は、回路接続材料としての回路接続用接着剤の内部応力を十分に緩和することができる。   As the silicone fine particles, fine particles of polyorganosilsesquioxane resin having rubber elasticity are known, and spherical or amorphous silicone fine particles are used. Moreover, it is preferable that a silicone fine particle has a weight average molecular weight of 1 million or more from a viewpoint of a dispersibility and relaxation of an internal stress. The silicone fine particles preferably have a three-dimensional crosslinked structure. Such silicone fine particles have high dispersibility with respect to the resin, and are further excellent in stress relaxation after curing. Since the silicone fine particles having a weight average molecular weight of 1 million or more and / or having a three-dimensional cross-linked structure are all low in solubility in polymers such as thermoplastic resins, monomers, and solvents, the above-described effects can be obtained more remarkably. be able to. Here, “having a three-dimensional crosslinked structure” indicates that the polymer chain has a three-dimensional network structure. The glass transition temperature of the silicone fine particles is preferably from −130 ° C. to −20 ° C., more preferably from −120 ° C. to −40 ° C. Such silicone fine particles can sufficiently relieve the internal stress of the adhesive for circuit connection as a circuit connection material.

このような構造を有するシリコーン微粒子としては、具体的には、ビニル基を少なくとも2個含有するオルガノポリシロキサンと、ケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも2個有するオルガノハイドロジエンポリシロキサンと、白金系触媒との反応によって得られるシリコーン微粒子(例えば、特開昭62−257939号公報);アルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、ヒドロシリル基を有するオルガノポリシロキサン及び白金系触媒を用いて得られるシリコーン微粒子(例えば、特開昭63−77942号公報);ジオルガノシロキサン、モノオルガノシルセスキオキサン、トリオルガノシロキシ及び白金系触媒を用いて得られるシリコーン微粒子(例えば、特開昭62−270660号公報);メチルシラントリオール及び/又はその部分縮合物の水/アルコール溶液をアルカリ水溶液に滴下し重縮合反応を行わせて得られるシリコーン微粒子(例えば、特許第3970453号公報)等を用いることができる。また、分散性及び基材との密着性を向上させるために、エポキシ化合物を添加又は共重合させたシリコーン微粒子(例えば、特開平3−167228号公報)、アクリル酸エステル化合物を添加又は共重合させたシリコーン微粒子等も用いることもできる。   Specifically, the silicone fine particles having such a structure include an organopolysiloxane containing at least two vinyl groups, an organohydropolyene polysiloxane having at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms, and a platinum series. Silicone fine particles obtained by reaction with a catalyst (for example, JP-A-62-2579939); silicone fine particles obtained by using an organopolysiloxane having an alkenyl group, an organopolysiloxane having a hydrosilyl group, and a platinum-based catalyst (for example, , JP 63-77942 A); silicone fine particles obtained using diorganosiloxane, monoorganosilsesquioxane, triorganosiloxy and a platinum-based catalyst (for example, JP 62-270660 A); methyl Silanetriol and / Or silicone particles (e.g., Patent No. 3,970,453 discloses) obtained water / alcohol solution of the partial condensate made to perform an addition and polycondensation reaction in an aqueous alkaline solution or the like may be used. In addition, in order to improve dispersibility and adhesion to the substrate, silicone fine particles to which an epoxy compound is added or copolymerized (for example, JP-A-3-167228), an acrylate compound is added or copolymerized. Silicone fine particles can also be used.

また、分散性を更に向上させるためには、コアシェル型の構造を有するシリコーン微粒子を用いることが好ましい。コアシェル型の構造としては、核材(コア層)表面のガラス転移温度より高いガラス転移温度を有する表面層(シェル層)を形成した構造、及び核材(コア層)の外部にグラフト層(シェル層)を有する構造があり、コア層とシェル層で組成が異なるシリコーン微粒子を用いることができる。具体的には、シリコーンゴム球状微粒子の水分散液に、アルカリ性物質又はアルカリ性水溶液とオルガノトリアルコキシシランを添加し、加水分解、縮合反応したコアシェル型シリコーン微粒子(例えば、特許第2832143号公報)、国際公開2009/051067号に記載されるようなコアシェル型シリコーン微粒子を用いることもできる。また、分子末端若しくは分子内側鎖に水酸基、エポキシ基、ケチミン、カルボキシル基、メルカプト基等の官能基を含有したシリコーン微粒子を用いることができる。このようなシリコーン微粒子は、フィルム形成成分及びラジカル重合性物質への分散性が向上するため好ましい。   In order to further improve dispersibility, it is preferable to use silicone fine particles having a core-shell structure. The core-shell type structure includes a structure in which a surface layer (shell layer) having a glass transition temperature higher than the glass transition temperature of the surface of the core material (core layer) is formed, and a graft layer (shell) outside the core material (core layer). Layer), and silicone fine particles having different compositions in the core layer and the shell layer can be used. Specifically, core-shell type silicone fine particles (for example, Japanese Patent No. 2832143) obtained by adding an alkaline substance or an alkaline aqueous solution and an organotrialkoxysilane to an aqueous dispersion of spherical silicone rubber fine particles, followed by hydrolysis and condensation reaction, International Core-shell type silicone fine particles as described in JP 2009/051067 A can also be used. Silicone fine particles containing a functional group such as a hydroxyl group, an epoxy group, a ketimine, a carboxyl group, or a mercapto group at the molecular terminal or the inner chain can be used. Such silicone fine particles are preferable because dispersibility in a film-forming component and a radical polymerizable substance is improved.

前記シリコーン微粒子の平均粒径は、0.05〜25μmが好ましく、0.1〜20μmがより好ましい。平均粒径が0.05μm以上であると、回路接続用接着剤の流動性を維持しつつ、内部応力の緩和が更に向上する傾向がある。また、平均粒径が25μm以下であると、内部応力を緩和する効果が十分に発揮されやすくなる傾向がある。   The average particle size of the silicone fine particles is preferably 0.05 to 25 μm, more preferably 0.1 to 20 μm. When the average particle diameter is 0.05 μm or more, the internal stress tends to be further improved while maintaining the fluidity of the circuit connecting adhesive. Moreover, when the average particle size is 25 μm or less, the effect of relaxing internal stress tends to be sufficiently exhibited.

前記シリコーン微粒子の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、3質量%以上が好ましく、5質量%以上がより好ましい。シリコーン微粒子の含有量が3質量%以上であると、内部応力を緩和する効果が十分に発揮されやすくなる傾向がある。シリコーン微粒子の含有量は、接着剤成分の全質量を基準として、40質量%以下が好ましく、30質量%以下がより好ましい。シリコーン微粒子の含有量が40質量%以下であると、回路接続用接着剤の可とう性(弾性率、伸び)が更に向上し、接着強度が更に向上する傾向がある。   The content of the silicone fine particles is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, based on the total mass of the adhesive component. When the content of the silicone fine particles is 3% by mass or more, the effect of relieving internal stress tends to be sufficiently exhibited. The content of the silicone fine particles is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less, based on the total mass of the adhesive component. When the content of the silicone fine particles is 40% by mass or less, the flexibility (elastic modulus, elongation) of the adhesive for circuit connection is further improved, and the adhesive strength tends to be further improved.

これらのシリコーン微粒子は、1種を単独で又は2種以上を混合して用いることができる。   These silicone fine particles can be used singly or in combination of two or more.

本実施形態に係る回路接続用接着剤は、当該回路接続用接着剤が常温で液状である場合にはペースト状で使用することができる。回路接続用接着剤が室温で固体の場合には、加熱して使用する他、溶媒を使用してペースト化してもよい。使用できる溶媒としては、回路接続用接着剤及び添加剤と反応性がなく、且つ十分な溶解性を示すものが好ましく、常圧での沸点が50〜150℃であるものが好ましい。沸点が50℃以上であると、室温で放置しても揮発がより少なくなり、開放系での使用が容易となる傾向にある。また、沸点が150℃以下であると、溶媒が容易に揮発しないため、相溶性を維持しつつ、ペーストを塗布でき、接着後の信頼性が更に向上し易い傾向がある。   The circuit connecting adhesive according to the present embodiment can be used in a paste form when the circuit connecting adhesive is liquid at room temperature. When the circuit connection adhesive is solid at room temperature, it may be heated and used, or may be made into a paste using a solvent. Solvents that can be used are preferably those that are not reactive with circuit connection adhesives and additives and that exhibit sufficient solubility, and those having a boiling point of 50 to 150 ° C. at normal pressure. When the boiling point is 50 ° C. or higher, volatilization is reduced even when left at room temperature, and use in an open system tends to be facilitated. Further, when the boiling point is 150 ° C. or lower, the solvent does not easily evaporate, so that the paste can be applied while maintaining compatibility, and the reliability after adhesion tends to be further improved.

また、本実施形態に係る回路接続用接着剤は、フィルム状にして用いることもできる。フィルム状の接着剤は、上述の成分を含む組成物を有機溶剤に溶解あるいは分散することにより、液状化して、剥離性基材上、不織布等の基材上に塗布し、硬化剤の活性温度以下で溶剤を除去することにより得ることができる。剥離性基材としては、フッ素樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、離型紙等を用いることができる。フィルムの形状で使用すると、取扱性等の点から一層便利である。   Moreover, the adhesive for circuit connection which concerns on this embodiment can also be used in film form. The film-like adhesive is liquefied by dissolving or dispersing the composition containing the above-described components in an organic solvent, and is applied on a peelable substrate or a substrate such as a nonwoven fabric, and the activation temperature of the curing agent. It can be obtained by removing the solvent below. As the peelable substrate, a fluororesin film, a polyethylene terephthalate film, a release paper or the like can be used. If it is used in the form of a film, it is more convenient in terms of handleability.

本実施形態に係る回路接続用接着剤は、加熱及び加圧を併用して接着させることができる。加熱温度は、100〜200℃の温度が好ましい。圧力は、被着体に損傷を与えない範囲が好ましく、一般的には0.1〜10MPaが好ましい。これらの加熱及び加圧は、0.5〜120秒間の範囲で行うことが好ましく、120〜190℃、3MPa、10秒の加熱でも接着させることが可能である。   The adhesive for circuit connection according to the present embodiment can be bonded by using heating and pressurization together. The heating temperature is preferably 100 to 200 ° C. The pressure is preferably in a range that does not damage the adherend, and generally 0.1 to 10 MPa. These heating and pressurization are preferably performed in the range of 0.5 to 120 seconds, and can be bonded by heating at 120 to 190 ° C., 3 MPa, and 10 seconds.

本実施形態に係る回路接続用接着剤は、熱膨張係数の異なる異種の被着体の接着剤として使用することができる。具体的には、異方導電接着剤、銀ペースト、銀フィルム等に代表される回路接続材料、チップサイズパッケージ(Chip Size Package、CSP)用エラストマー、CSP用アンダーフィル材、リードオンチップ(Lead On Chip、LOC)テープ等に代表される半導体素子接着材料として使用することができる。   The adhesive for circuit connection according to the present embodiment can be used as an adhesive for different types of adherends having different thermal expansion coefficients. Specifically, circuit connection materials represented by anisotropic conductive adhesive, silver paste, silver film, etc., elastomer for chip size package (CSP), underfill material for CSP, lead-on-chip (Lead On Chip) (Chip, LOC) It can be used as a semiconductor element adhesive material represented by a tape.

(接続構造体)
次に、上述した回路接続用接着剤を用いて製造される接続構造体について説明する。図1は、第1実施形態に係る接続構造体を示す模式断面図である。図2は、図1に示す接続構造体の製造方法を示す模式断面図である。図1に示す回路部材の接続構造体100は、(e)導電性粒子を含有しない回路接続用接着剤を用いて製造される。
(Connection structure)
Next, a connection structure manufactured using the above-described adhesive for circuit connection will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a connection structure according to the first embodiment. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing method of the connection structure shown in FIG. The circuit member connection structure 100 shown in FIG. 1 is manufactured using (e) an adhesive for circuit connection that does not contain conductive particles.

図1に示す回路部材の接続構造体100は、回路部材(第一の回路部材)10と、回路部材(第二の回路部材)20と、接続部材30とを備える。回路部材10は、回路基板(第一の基板)12と、回路基板12の主面12a上に配置された接続端子(第一の接続端子)14と、を有している。回路部材20は、回路基板(第二の基板)22と、回路基板22の主面22a上に配置された接続端子(第二の接続端子)24と、を有している。   A circuit member connection structure 100 shown in FIG. 1 includes a circuit member (first circuit member) 10, a circuit member (second circuit member) 20, and a connection member 30. The circuit member 10 includes a circuit board (first board) 12 and connection terminals (first connection terminals) 14 arranged on the main surface 12 a of the circuit board 12. The circuit member 20 includes a circuit board (second board) 22 and connection terminals (second connection terminals) 24 disposed on the main surface 22 a of the circuit board 22.

接続部材30は、回路部材10及び回路部材20の間に配置されている。接続部材30は、主面12a及び主面22aが互いに略平行に対向するように、回路部材10及び回路部材20を接続している。接続構造体100において接続端子14と接続端子24とは、対向配置されていると共に、互いに接することにより電気的に接続されている。接続部材30は、後述する回路接続用接着剤30aの硬化物からなる。   The connection member 30 is disposed between the circuit member 10 and the circuit member 20. The connecting member 30 connects the circuit member 10 and the circuit member 20 so that the main surface 12a and the main surface 22a face each other substantially in parallel. In the connection structure 100, the connection terminal 14 and the connection terminal 24 are arranged to face each other and are electrically connected by being in contact with each other. The connection member 30 is made of a cured product of a circuit connection adhesive 30a described later.

接続構造体100は、例えば、次のようにして製造することができる。まず、図2に示すように、回路部材10と、回路部材20と、回路接続用接着剤30aと、を用意する。回路接続用接着剤30aは、例えば、上述の回路接続用接着剤がフィルム状に形成されてなる。次に、回路部材20における接続端子24が形成されている主面22a上に回路接続用接着剤30aを載せる。そして、接続端子14が接続端子24と対向するように回路接続用接着剤30aの上に回路部材10を載せる。続いて、回路部材10及び回路部材20を介して回路接続用接着剤30aを加熱しながら回路接続用接着剤30aを硬化させると共に主面12a、22aに垂直な方向に加圧し、回路部材10,20の間に接続部材30を形成する。これにより、接続構造体100が得られる。   The connection structure 100 can be manufactured as follows, for example. First, as shown in FIG. 2, a circuit member 10, a circuit member 20, and a circuit connecting adhesive 30a are prepared. The circuit connecting adhesive 30a is formed, for example, by forming the above-described circuit connecting adhesive into a film shape. Next, the circuit connection adhesive 30a is placed on the main surface 22a of the circuit member 20 on which the connection terminals 24 are formed. Then, the circuit member 10 is placed on the circuit connection adhesive 30 a so that the connection terminal 14 faces the connection terminal 24. Subsequently, the circuit connection adhesive 30a is cured while heating the circuit connection adhesive 30a through the circuit member 10 and the circuit member 20, and the circuit member 10 is pressed in a direction perpendicular to the main surfaces 12a and 22a. The connecting member 30 is formed between the two. Thereby, the connection structure 100 is obtained.

回路接続用接着剤30aの硬化物中で、回路接続用接着剤30aに含まれる無機フィラーの平面と回路部材とが略平行になっていることが好ましく、更に、無機フィラーの長径の方向が略一致していることがより好ましい。無機フィラーの平面と回路部材とが略平行になっていることによって、耐湿信頼性試験中における回路部材の面方向に対する熱膨張による伸縮によって発生する回路部材と回路接続用接着剤間の応力を更に抑制することができる。   In the cured product of the circuit connecting adhesive 30a, the plane of the inorganic filler contained in the circuit connecting adhesive 30a and the circuit member are preferably substantially parallel, and the major axis direction of the inorganic filler is substantially the same. More preferably, they match. Since the plane of the inorganic filler and the circuit member are substantially parallel, the stress between the circuit member and the adhesive for circuit connection generated by expansion and contraction due to thermal expansion in the surface direction of the circuit member during the moisture resistance reliability test is further increased. Can be suppressed.

また、硬化物を厚み方向にみたときに、無機フィラーの濃度が濃い箇所と薄い箇所とが層状に分布していることが好ましい。特に、硬化物の厚み方向にみたときに、無機フィラーが存在する箇所と全く存在しない箇所との層構造になっていることがより好ましい。   Moreover, when the cured product is viewed in the thickness direction, it is preferable that the portions where the concentration of the inorganic filler is high and the thin portions are distributed in layers. In particular, when viewed in the thickness direction of the cured product, it is more preferable that the layer structure has a portion where an inorganic filler is present and a portion where no inorganic filler is present.

上記回路接続用接着剤が導電性粒子を含む場合、このような回路接続用接着剤を使用して作製した異方導電フィルムを、相対峙する接続端子間に介在させて加熱加圧することで、導電性粒子を介して接続端子同士を電気的に接続しつつ回路部材同士を接着することにより、回路部材の接続構造体を得ることができる。図3は、第2実施形態に係る接続構造体を示す模式断面図である。図4は、図3に示す接続構造体の製造方法を示す模式断面図である。図3に示す回路部材の接続構造体200は、(e)導電性粒子を含有する回路接続用接着剤を用いて製造される。   When the adhesive for circuit connection contains conductive particles, the anisotropic conductive film produced using such an adhesive for circuit connection is interposed between the connecting terminals facing each other, and heated and pressurized, A circuit member connection structure can be obtained by bonding the circuit members while electrically connecting the connection terminals via the conductive particles. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the connection structure according to the second embodiment. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing method of the connection structure shown in FIG. The circuit member connection structure 200 shown in FIG. 3 is manufactured using (e) an adhesive for circuit connection containing conductive particles.

図3に示す回路部材の接続構造体200は、接続構造体100と同様に回路部材10及び回路部材20と、接続部材40とを備える。接続構造体200において接続端子14と接続端子24とは、互いに離隔した状態で対向配置されている。   The circuit member connection structure 200 shown in FIG. 3 includes the circuit member 10, the circuit member 20, and the connection member 40 in the same manner as the connection structure 100. In the connection structure 200, the connection terminal 14 and the connection terminal 24 are arranged to face each other in a state of being separated from each other.

接続部材40は、回路部材10及び回路部材20の間に配置されている。接続部材40は、後述する回路接続用接着剤40aの硬化物からなり、接着剤成分42と、接着剤成分42中に分散した導電性粒子44とを有している。接着剤成分42は、後述する接着剤成分42aの硬化物からなる。接続構造体200では、対向する接続端子14と接続端子24との間において導電性粒子44が接続端子14,24に接することにより、導電性粒子44を介して接続端子14,24が互いに電気的に接続されている。   The connection member 40 is disposed between the circuit member 10 and the circuit member 20. The connection member 40 is made of a cured product of an adhesive 40a for circuit connection described later, and has an adhesive component 42 and conductive particles 44 dispersed in the adhesive component 42. The adhesive component 42 is made of a cured product of an adhesive component 42a described later. In the connection structure 200, the conductive particles 44 are in contact with the connection terminals 14 and 24 between the connection terminals 14 and 24 that face each other, so that the connection terminals 14 and 24 are electrically connected to each other via the conductive particles 44. It is connected to the.

接続構造体200は、例えば、次のようにして製造することができる。まず、図4に示すように、回路部材10と、回路部材20と、上記回路接続用接着剤からなる回路接続用接着剤40aとを用意する。回路接続用接着剤40aは、例えば、上記回路接続用接着剤がフィルム状に形成されてなる。回路接続用接着剤40aは、接着剤成分42aと、接着剤成分42a中に分散した導電性粒子44とを有している。その後、上記の回路部材の接続構造体100を得る方法と同様の方法により回路接続用接着剤40aを介して回路部材10及び回路部材20を接続する。これにより、接続構造体200が得られる。   The connection structure 200 can be manufactured as follows, for example. First, as shown in FIG. 4, a circuit member 10, a circuit member 20, and a circuit connecting adhesive 40a made of the above circuit connecting adhesive are prepared. The circuit connecting adhesive 40a is formed, for example, by forming the circuit connecting adhesive into a film. The circuit connecting adhesive 40a includes an adhesive component 42a and conductive particles 44 dispersed in the adhesive component 42a. Thereafter, the circuit member 10 and the circuit member 20 are connected through the circuit connecting adhesive 40a by the same method as the method of obtaining the circuit member connection structure 100 described above. Thereby, the connection structure 200 is obtained.

上記回路部材の接続構造体100,200における回路基板12及び回路基板22の少なくとも一方は、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含有する基材から構成されていてもよい。例えば、回路基板12及び回路基板22の少なくとも一方は、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む有機基材から構成されていてもよい。これにより、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート等の有機基材を用いる場合において、回路基板における回路接続用接着剤との濡れ性が向上することにより、低温の硬化条件においても優れた接着強度を得ることができる。そのため、長時間の信頼性試験(高温高湿試験)後においても安定した性能(接着強度及び接続抵抗)を維持することが可能であり、優れた接続信頼性を得ることができる。   At least one of the circuit board 12 and the circuit board 22 in the circuit member connection structures 100 and 200 may be formed of a base material containing a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower. For example, at least one of the circuit board 12 and the circuit board 22 may be composed of an organic base material including at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate. As a result, when organic base materials such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate are used, the wettability of the circuit board with the adhesive for circuit connection is improved, resulting in excellent adhesive strength even under low temperature curing conditions. Can be obtained. Therefore, stable performance (adhesion strength and connection resistance) can be maintained even after a long-term reliability test (high temperature and high humidity test), and excellent connection reliability can be obtained.

また、回路基板12及び回路基板22のうちの一方の回路基板が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含有する基材から構成される場合に、回路基板12及び回路基板22のうちの他方の回路基板が、ポリイミド及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含有する基材から構成されていてもよい。これにより、回路基板における回路接続用接着剤との濡れ性及び接着強度が更に向上し、更に優れた接続信頼性を得ることができる。   When one of the circuit board 12 and the circuit board 22 is composed of a base material containing at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate, the circuit board 12 And the other circuit board of the circuit boards 22 may be composed of a base material containing at least one selected from the group consisting of polyimide and polyethylene terephthalate. Thereby, the wettability with the adhesive for circuit connection in a circuit board and adhesive strength further improve, and the further excellent connection reliability can be acquired.

なお、回路基板12,22は、半導体、ガラス、セラミック等の無機質;ポリイミド、ポリカーボネート等の有機物;ガラス/エポキシ等のこれらの複合材料を含有する基材から構成されていてもよい。また、回路基板12,22は、フレキシブル基板であってもよい。   In addition, the circuit boards 12 and 22 may be comprised from the base materials containing inorganic materials, such as a semiconductor, glass, a ceramic; Organic substances, such as a polyimide and a polycarbonate; These composite materials, such as glass / epoxy. The circuit boards 12 and 22 may be flexible boards.

図5は、第3実施形態に係る接続構造体を示す模式断面図である。図5に示す太陽電池モジュール300は、太陽電池セル310a,310bと、配線部材320と、接続部材330とを備えている。   FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a connection structure according to the third embodiment. A solar cell module 300 shown in FIG. 5 includes solar cells 310a and 310b, a wiring member 320, and a connection member 330.

太陽電池セル310a,310bは、基板312と、基板312の表面(主面)312a上に配置された表面電極(接続端子)314と、基板312の裏面(主面)312b上に配置された裏面電極(接続端子)316とを有している。基板312は、例えば、半導体、ガラス、セラミック等の無機質、ガラス/エポキシ等の複合材料から構成されている。また、基板312は、フレキシブル基板であってもよい。表面312aは、受光面である。   The solar cells 310a and 310b include a substrate 312, a surface electrode (connection terminal) 314 disposed on the surface (main surface) 312a of the substrate 312, and a back surface disposed on the back surface (main surface) 312b of the substrate 312. And an electrode (connection terminal) 316. The substrate 312 is made of, for example, a semiconductor, an inorganic material such as glass or ceramic, or a composite material such as glass / epoxy. The substrate 312 may be a flexible substrate. The surface 312a is a light receiving surface.

配線部材320は、太陽電池セル310aと他の部材とを電気的に接続するための部材であり、例えば、一の太陽電池セルと他の太陽電池セルとを電気的に接続する。図5においては、配線部材320により、太陽電池セル310aの表面電極314と、太陽電池セル310bの裏面電極316とが電気的に接続されている。   The wiring member 320 is a member for electrically connecting the solar battery cell 310a and another member, and for example, electrically connects one solar battery cell to another solar battery cell. In FIG. 5, the surface electrode 314 of the solar battery cell 310 a and the back electrode 316 of the solar battery cell 310 b are electrically connected by the wiring member 320.

接続部材330は、太陽電池セル310a及び配線部材320の間、並びに、太陽電池セル310b及び配線部材320の間にそれぞれ配置されており、太陽電池セル310a,310bと配線部材320とを接続している。接続部材330は、上記回路接続用接着剤の硬化物を含有しており、絶縁性物質を含有している。接続部材330は、導電性粒子を更に含有していてもよく、導電性粒子を含有していなくてもよい。接続部材330が導電性粒子を含有する場合、太陽電池セル310aの表面電極314と配線部材320とは、導電性粒子を介して電気的に接続され得る。また、太陽電池セル310bの裏面電極316と配線部材320もまた、導電性粒子を介して電気的に接続され得る。接続部材330が導電性粒子を含有していない場合、例えば、太陽電池セル310aの表面電極314及び太陽電池セル310bの裏面電極316は、配線部材320と接触していてもよい。   The connection member 330 is disposed between the solar battery cell 310a and the wiring member 320, and between the solar battery cell 310b and the wiring member 320, and connects the solar battery cells 310a and 310b and the wiring member 320. Yes. The connection member 330 contains the hardened | cured material of the said adhesive agent for circuit connections, and contains the insulating substance. The connection member 330 may further contain conductive particles or may not contain conductive particles. When the connection member 330 contains electroconductive particle, the surface electrode 314 and the wiring member 320 of the photovoltaic cell 310a can be electrically connected through electroconductive particle. Further, the back electrode 316 of the solar battery cell 310b and the wiring member 320 can also be electrically connected via conductive particles. When the connection member 330 does not contain conductive particles, for example, the surface electrode 314 of the solar battery cell 310a and the back electrode 316 of the solar battery cell 310b may be in contact with the wiring member 320.

太陽電池モジュール300は、接続部材330が上記回路接続用接着剤の硬化物により構成されている。これにより、太陽電池セル310a及び配線部材320間及び太陽電池セル310b及び配線部材320間における接続部材330の接着強度は十分高く、且つ太陽電池セル310a及び配線部材320間の接続抵抗は十分小さくなっている。また、高温高湿環境下に長期間置かれた場合であっても、接着強度の低下及び接続抵抗の増大を十分に抑制することができる。さらに、接続部材330は低温短時間の加熱処理により形成され得るものである。よって、図5に示す太陽電池モジュールは、接続時に太陽電池セル310a,310bを劣化させることなく製造することができ、従来よりも高い信頼性を有することが可能である。   In the solar cell module 300, the connection member 330 is formed of a cured product of the above-described circuit connection adhesive. Thereby, the adhesive strength of the connection member 330 between the photovoltaic cells 310a and the wiring members 320 and between the photovoltaic cells 310b and the wiring members 320 is sufficiently high, and the connection resistance between the photovoltaic cells 310a and the wiring members 320 is sufficiently small. ing. Moreover, even when it is left for a long time in a high temperature and high humidity environment, it is possible to sufficiently suppress a decrease in adhesive strength and an increase in connection resistance. Further, the connecting member 330 can be formed by a heat treatment at a low temperature for a short time. Therefore, the solar cell module shown in FIG. 5 can be manufactured without deteriorating the solar cells 310a and 310b at the time of connection, and can have higher reliability than conventional ones.

太陽電池モジュール300は、上述した接続構造体100,200の製造方法における回路部材10及び回路部材20に代えて太陽電池セル310a,310b及び配線部材320を用いて、上述した接続構造体の製造方法と同様の方法で製造することができる。   The solar cell module 300 uses the solar cells 310a and 310b and the wiring member 320 in place of the circuit member 10 and the circuit member 20 in the method for manufacturing the connection structures 100 and 200 described above, and the method for manufacturing the connection structure described above. It can be manufactured by the same method.

なお、接続構造体100,200及び太陽電池モジュール300において、接続部材として用いられる上記回路接続用接着剤は、完全硬化(所定硬化条件で達成できる最高度の硬化)している必要はなく、上記特性を生じる限りにおいて部分硬化の状態であってもよい。   In the connection structures 100 and 200 and the solar cell module 300, the circuit connection adhesive used as a connection member does not need to be completely cured (the highest degree of curing that can be achieved under a predetermined curing condition). A partially cured state may be used as long as the characteristics are produced.

以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples, but the present invention is not limited thereto.

<熱可塑性樹脂>
(ポリエステルウレタンの準備)
ポリエステルウレタン樹脂(東洋紡株式会社製、UR−4800(商品名)、重量平均分子量:32000、ガラス転移温度:106℃)をメチルエチルケトンとトルエンの重量比1:1の混合溶媒に溶解して樹脂分30質量%の溶液を準備した。
<Thermoplastic resin>
(Preparation of polyester urethane)
Polyester urethane resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd., UR-4800 (trade name), weight average molecular weight: 32000, glass transition temperature: 106 ° C.) is dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and toluene in a weight ratio of 1: 1 to obtain a resin content of 30. A mass% solution was prepared.

(フェノキシ樹脂の準備)
フェノキシ樹脂(商品名:YP−50(東都化成株式会社製)、重量平均分子量:60000、ガラス転移温度:80℃)40質量部をメチルエチルケトン60質量部に溶解して、樹脂分40質量%の溶液を準備した。
(Preparation of phenoxy resin)
40 parts by mass of phenoxy resin (trade name: YP-50 (manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd.), weight average molecular weight: 60000, glass transition temperature: 80 ° C.) is dissolved in 60 parts by mass of methyl ethyl ketone, and the resin content is 40% by mass Prepared.

<ラジカル重合性化合物>
(ウレタンアクリレート(UA1)の合成)
攪拌機、温度計、及び塩化カルシウム乾燥管を備えた還流冷却管と、窒素ガス導入管とを備えた反応容器に、数平均分子量1000のポリ(1,6−ヘキサンジオールカーボネート)(商品名:デュラノール T5652、旭化成ケミカルズ株式会社製)2500質量部(2.50mol)及びジブチルスズジラウレート(シグマアルドリッチ社製)5.53質量部を投入した。充分に窒素ガスを導入した後、70〜75℃に加熱し、イソホロンジイソシアネート(シグマアルドリッチ社製)666質量部(3.00mol)を3時間で均一に滴下し、反応させた。滴下完了後、約10時間反応を継続した。これに2−ヒドロキシエチルアクリレート(シグマアルドリッチ社製)238質量部(2.05mol)、ハイドロキノンモノメチルエーテル(シグマアルドリッチ社製)0.53重量部を投入し、空気雰囲気下70℃で6時間反応させ、ウレタンアクリレート(UA1)を得た。得られたウレタンアクリレートの重量平均分子量は15000であった。
<Radically polymerizable compound>
(Synthesis of urethane acrylate (UA1))
Poly (1,6-hexanediol carbonate) having a number average molecular weight of 1000 (trade name: DURANOL) in a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser equipped with a calcium chloride drying tube, and a nitrogen gas introduction tube. T5562, Asahi Kasei Chemicals Corporation) 2500 parts by mass (2.50 mol) and dibutyltin dilaurate (Sigma Aldrich) 5.53 parts by mass were added. After sufficiently introducing nitrogen gas, the mixture was heated to 70 to 75 ° C., and 666 parts by mass (3.00 mol) of isophorone diisocyanate (manufactured by Sigma-Aldrich) was uniformly added dropwise over 3 hours to be reacted. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for about 10 hours. 238 parts by mass (2.05 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate (manufactured by Sigma-Aldrich) and 0.53 parts by weight of hydroquinone monomethyl ether (manufactured by Sigma-Aldrich) were added to this and reacted at 70 ° C. for 6 hours in an air atmosphere. The urethane acrylate (UA1) was obtained. The weight average molecular weight of the obtained urethane acrylate was 15000.

(リン酸基を有するビニル化合物(P−2M)の準備)
リン酸基を有するビニル化合物として、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート(商品名:ライトエステルP−2M、共栄社化学株式会社製)を準備した。
(Preparation of vinyl compound having phosphoric acid group (P-2M))
As a vinyl compound having a phosphoric acid group, 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate (trade name: Light Ester P-2M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was prepared.

(イソシアヌル酸変性2官能アクリレート(M−215)の準備)
イソシアヌル酸変性2官能アクリレート(東亞合成株式会社製、M−215(商品名)を準備した。
(Preparation of isocyanuric acid-modified bifunctional acrylate (M-215))
Isocyanuric acid-modified bifunctional acrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., M-215 (trade name)) was prepared.

<無機フィラーの準備>
無機フィラーとして、鱗片状窒化ホウ素粒子(商品名:デンカボロンナイトライドHGP、電気化学工業株式会社製)、鱗片状アルミナ粒子(商品名:セラフ02025、キンセイマテック株式会社製)、シリカ粒子(商品名:アエロジルR805、日本アエロジル社製)を準備した。
デンカボロンナイトライドHGP(以下、「HGP」と略す)は、平面平均幅が5μmであり、平均厚みが0.5μmであり、アスペクト比が10であった。セラフ02025(以下、「02025」と略す)は、平面平均幅が2μmであり、平均厚みが0.08μmであり、アスペクト比が25であった。
<Preparation of inorganic filler>
As an inorganic filler, scaly boron nitride particles (trade name: Denkaboron nitride HGP, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), scaly alumina particles (trade name: Seraph 02025, manufactured by Kinsei Matec Co., Ltd.), silica particles (trade name) : Aerosil R805, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.).
DENKABORON NITRIDE HGP (hereinafter abbreviated as “HGP”) had a planar average width of 5 μm, an average thickness of 0.5 μm, and an aspect ratio of 10. Seraph 02025 (hereinafter abbreviated as “02025”) had a planar average width of 2 μm, an average thickness of 0.08 μm, and an aspect ratio of 25.

<ラジカル重合開始剤>
ラジカル重合開始剤として、ジベンゾイルパーオキサイド(商品名:ナイパーBW、日油株式会社製)を準備した。
<Radical polymerization initiator>
Dibenzoyl peroxide (trade name: Nyper BW, manufactured by NOF Corporation) was prepared as a radical polymerization initiator.

<導電性粒子>
(導電性粒子の作製)
ポリスチレンを核とする粒子の表面に厚み0.2μmのニッケル層を設けた後、このニッケル層の外側に厚み0.02μmの金層を設けて、平均粒径10μm、比重2.5の導電性粒子を作製した。
<Conductive particles>
(Preparation of conductive particles)
A nickel layer having a thickness of 0.2 μm is provided on the surface of particles having polystyrene as a core, and then a gold layer having a thickness of 0.02 μm is provided on the outside of the nickel layer. Particles were made.

[実施例1〜10及び比較例1〜5]
(回路接続用接着剤の作製)
固形質量比で表1に示すように熱可塑性樹脂、ラジカル重合性化合物及びラジカル重合開始剤、及び、無機フィラーを配合し、さらに、接着剤成分(回路接続用接着剤における導電性粒子を除いた成分)の全体積を基準として導電性粒子を1.5体積%配合し、分散させて、回路接続用接着剤を得た。得られた回路接続用接着剤を、塗工装置を用いて厚み80μmのフッ素樹脂フィルム上に塗布し、70℃、10分の熱風乾燥によって接着剤層の厚みが16μmのフィルム状回路接続用接着剤を得た。
[Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 5]
(Production of adhesive for circuit connection)
As shown in Table 1 in terms of solid mass ratio, a thermoplastic resin, a radical polymerizable compound, a radical polymerization initiator, and an inorganic filler were blended, and further an adhesive component (excluding conductive particles in the adhesive for circuit connection). Based on the total volume of the component), 1.5% by volume of conductive particles were blended and dispersed to obtain an adhesive for circuit connection. The obtained adhesive for circuit connection is applied onto a fluororesin film having a thickness of 80 μm using a coating apparatus, and the adhesive for film-like circuit connection having an adhesive layer thickness of 16 μm is dried by hot air at 70 ° C. for 10 minutes. An agent was obtained.

(接続抵抗、接着強度の測定)
実施例1〜10及び比較例1〜5の回路接続用接着剤を、ポリイミドフィルム上にライン幅25μm、ピッチ50μm、厚み8μmの銅回路を500本有するフレキシブル回路板(FPC)と、0.2μmのITOの薄層を形成した厚み1.1mmのガラス(ITO、表面抵抗20Ω/□)との間に介在させた。これを、熱圧着装置(加熱方式:コンスタントヒート型、東レエンジニアリング社製)を用いて、160℃、3MPaで10秒間加熱加圧して幅2mmにわたり接続し、接続構造体Aを作製した。この接続構造体Aの隣接回路間の抵抗値を、接続直後と、85℃、85%RHの高温高湿槽中に240時間保持した後(高温高湿試験後)とにおいて、マルチメータを用いて測定した。抵抗値は隣接回路間の抵抗37点の平均で示した。
(Measurement of connection resistance and adhesive strength)
The flexible circuit board (FPC) which has 500 copper circuits of line width 25micrometer, pitch 50micrometer, and thickness 8micrometer on the polyimide film, and the adhesive for circuit connection of Examples 1-10 and Comparative Examples 1-5, and 0.2 micrometer And a glass with a thickness of 1.1 mm (ITO, surface resistance 20Ω / □) on which a thin layer of ITO was formed. Using a thermocompression bonding apparatus (heating method: constant heat type, manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.), this was heated and pressurized at 160 ° C. and 3 MPa for 10 seconds to be connected over a width of 2 mm to produce a connection structure A. Using a multimeter, the resistance value between adjacent circuits of this connection structure A immediately after connection and after being kept in a high-temperature and high-humidity tank at 85 ° C. and 85% RH for 240 hours (after a high-temperature and high-humidity test) Measured. The resistance value was shown as an average of 37 resistances between adjacent circuits.

また、接続直後と高温高湿試験後とにおいて、接続構造体Aの接着強度をJIS−Z0237に準じて90度剥離法で測定した。ここで、接着強度の測定装置としては、東洋ボールドウィン株式会社製テンシロンUTM−4(剥離速度50mm/min、25℃)を使用した。   Moreover, the adhesive strength of the connection structure A was measured by a 90-degree peeling method according to JIS-Z0237 immediately after the connection and after the high temperature and high humidity test. Here, Tensilon UTM-4 (peeling speed 50 mm / min, 25 ° C.) manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd. was used as an adhesive strength measuring device.

実施例1〜10及び比較例1〜5の回路接続用接着剤を、ポリイミドフィルム(Tg350℃)上にライン幅150μm、ピッチ300μm、厚み8μmの銅回路を80本有するフレキシブル回路板(FPC)と、厚み5μmのAgペーストの薄層を形成した厚み0.1μmのPET基板(Ag)との間に介在させた。これを、熱圧着装置(加熱方式:コンスタントヒート型、東レエンジニアリング社製)を用いて、140℃、2MPaで20秒間加熱加圧して幅2mmにわたり接続し、接続構造体Bを作製した。FPCと、Agペーストの薄層を形成したPET基板とで構成される接続構造体Bの隣接回路間の抵抗値を、接続直後と、85℃、85%RHの高温高湿槽中に240時間保持した後(高温高湿試験後)とにおいて、マルチメータを用いて測定した。抵抗値は隣接回路間の抵抗37点の平均で示した。   A flexible circuit board (FPC) having 80 copper circuits having a line width of 150 μm, a pitch of 300 μm, and a thickness of 8 μm on the polyimide film (Tg 350 ° C.) with the adhesives for circuit connection of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 5; And a 0.1 μm thick PET substrate (Ag) on which a thin layer of 5 μm thick Ag paste was formed. Using a thermocompression bonding apparatus (heating method: constant heat type, manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.), this was heated and pressurized at 140 ° C. and 2 MPa for 20 seconds to be connected over a width of 2 mm to produce a connection structure B. The resistance value between the adjacent circuits of the connection structure B composed of the FPC and the PET substrate on which a thin layer of Ag paste is formed is 240 hours in a high-temperature and high-humidity bath at 85 ° C. and 85% RH immediately after the connection. After holding (after the high temperature and high humidity test), the measurement was performed using a multimeter. The resistance value was shown as an average of 37 resistances between adjacent circuits.

また、接続直後と高温高湿試験後とにおいて、接続構造体Bの接着強度を上記接続構造体Aと同様の条件で測定し、評価した。   Moreover, the adhesive strength of the connection structure B was measured and evaluated under the same conditions as the connection structure A immediately after connection and after the high temperature and high humidity test.

以上のように測定した接続構造体A,Bの接続抵抗及び接着強度の測定結果を下記表2に示す。   The measurement results of the connection resistance and the adhesive strength of the connection structures A and B measured as described above are shown in Table 2 below.

実施例1〜10の回路接続用接着剤を用いて製造されたFPC/ITOの接続構造体Aは、加熱温度160℃における接続直後と、85℃、85%RHの高温高湿槽中に240時間保持した後(高温高湿試験後)とで、約3.8Ω以下の良好な接続抵抗、及び、610N/m以上の良好な接着強度を示した。また、FPC/PETの接続構造体Bにおいても、加熱温度140℃における接続直後と、85℃、85%RHの高温高湿槽中に240時間保持した後(高温高湿試験後)とで、約1.9Ω以下の良好な接続抵抗、及び、600N/m以上の良好な接着強度を示した。実施例1〜10で得られる回路接続用接着剤が、接着性及び接続信頼性に優れることが確認された。   The FPC / ITO connection structure A manufactured using the circuit connection adhesives of Examples 1 to 10 was 240 immediately after connection at a heating temperature of 160 ° C. and in a high-temperature and high-humidity tank of 85 ° C. and 85% RH. After holding for a long time (after the high temperature and high humidity test), a good connection resistance of about 3.8Ω or less and a good adhesive strength of 610 N / m or more were exhibited. Also in the FPC / PET connection structure B, immediately after connection at a heating temperature of 140 ° C. and after being held in a high-temperature and high-humidity tank at 85 ° C. and 85% RH for 240 hours (after a high-temperature and high-humidity test), Good connection resistance of about 1.9Ω or less and good adhesive strength of 600 N / m or more were exhibited. It was confirmed that the adhesive for circuit connection obtained in Examples 1 to 10 was excellent in adhesiveness and connection reliability.

これに対して、比較例1〜5の回路接続用接着剤を用いて製造された接続構造体では、接着力が低い(比較例1〜3)、あるいは接続後、及び高温高湿槽中に240時間保持した後(高温高湿試験後)の接続抵抗が増加する(比較例4、5)ことが確認された。   On the other hand, in the connection structure manufactured using the adhesive for circuit connection of Comparative Examples 1 to 5, the adhesive force is low (Comparative Examples 1 to 3), or after connection, and in a high-temperature and high-humidity tank. It was confirmed that the connection resistance after the holding for 240 hours (after the high temperature and high humidity test) increased (Comparative Examples 4 and 5).

10…回路部材(第一の回路部材)、12…回路基板(第一の基板)、12a…主面、14…接続端子(第一の接続端子)、20…回路部材(第二の回路部材)、22…回路基板(第二の基板)、22a…主面、24…接続端子(第二の接続端子)、30,40…接続部材、30a,40a…回路接続用接着剤、42…接着剤成分、44…導電性粒子、100,200…回路部材の接続構造体、300…太陽電池モジュール(接続構造体)、310a,310b…太陽電池セル、312…基板、312a…表面(主面)、312b…裏面(主面)、314…表面電極、316…裏面電極、320…配線部材、330…接続部材。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Circuit member (1st circuit member), 12 ... Circuit board (1st board | substrate), 12a ... Main surface, 14 ... Connection terminal (1st connection terminal), 20 ... Circuit member (2nd circuit member) ), 22 ... Circuit board (second board), 22a ... Main surface, 24 ... Connection terminal (second connection terminal), 30, 40 ... Connection member, 30a, 40a ... Adhesive for circuit connection, 42 ... Adhesion Agent component, 44 ... conductive particles, 100, 200 ... connection structure of circuit members, 300 ... solar cell module (connection structure), 310a, 310b ... solar cell, 312 ... substrate, 312a ... surface (main surface) , 312b ... back surface (main surface), 314 ... front electrode, 316 ... back electrode, 320 ... wiring member, 330 ... connection member.

Claims (10)

第一の接続端子を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部材と、の間に介在され、前記第一の接続端子と前記第二の接続端子とを電気的に接続する回路接続用接着剤であって、
前記回路接続用接着剤が(a)熱可塑性樹脂、(b)ラジカル重合性化合物、(c)ラジカル重合開始剤、及び(d)無機フィラーを含有し、前記(d)無機フィラーの形状が片状であり、
前記(d)無機フィラーの含有量は、回路接続用接着剤全体に対して、0.5〜20質量%である、回路接続用接着剤。
Interposed between a first circuit member having a first connection terminal and a second circuit member having a second connection terminal, and electrically connecting the first connection terminal and the second connection terminal. An adhesive for circuit connection,
The adhesive for circuit connection contains (a) a thermoplastic resin, (b) a radical polymerizable compound, (c) a radical polymerization initiator, and (d) an inorganic filler, and the shape of the (d) inorganic filler is fragmented. Jodea is,
(D) The adhesive for circuit connection whose content of an inorganic filler is 0.5-20 mass% with respect to the whole adhesive for circuit connection.
前記(d)無機フィラーがアルミナ及び窒化ホウ素から選ばれる少なくとも1種を含有する、請求項1記載の回路接続用接着剤。   The adhesive for circuit connection according to claim 1, wherein (d) the inorganic filler contains at least one selected from alumina and boron nitride. 前記(b)ラジカル重合性化合物が、リン酸基を有するビニル化合物と、該ビニル化合物以外のラジカル重合性化合物と、をそれぞれ1種以上含有する、請求項1又は2に記載の回路接続用接着剤。 The adhesive for circuit connection according to claim 1 or 2 , wherein the radical polymerizable compound (b) contains at least one vinyl compound having a phosphate group and one or more radical polymerizable compounds other than the vinyl compound. Agent. 前記(a)熱可塑性樹脂が、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン樹脂、ブチラール樹脂、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種を含有する、請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤。 Wherein (a) thermoplastic resin, phenoxy resin, polyurethane resin, polyester urethane resins, butyral resins, containing at least one selected from the group consisting of acrylic resin and polyimide resin, any one of claims 1 to 3 The adhesive for circuit connection as described in 2. (e)導電性粒子をさらに含有する、請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤。 (E) The adhesive for circuit connection as described in any one of Claims 1-4 which further contains electroconductive particle. 第一の接続端子を有する第一の回路部材と、第二の接続端子を有する第二の回路部材と、前記第一の回路部材及び前記第二の回路部材の間に配置され、前記第一の接続端子と前記第二の接続端子とを電気的に接続する接続部材と、を備え、
前記接続部材が請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤の硬化物を含む、回路部材の接続構造体。
A first circuit member having a first connection terminal; a second circuit member having a second connection terminal; and the first circuit member and the second circuit member disposed between the first circuit member and the first circuit member. A connection member for electrically connecting the connection terminal and the second connection terminal,
The connection structure of a circuit member in which the said connection member contains the hardened | cured material of the adhesive agent for circuit connections as described in any one of Claims 1-5 .
前記第一の回路部材及び前記第二の回路部材の少なくとも一方が、ガラス転移温度が200℃以下の熱可塑性樹脂を含む基材から構成されている、請求項に記載の回路部材の接続構造体。 The circuit member connection structure according to claim 6 , wherein at least one of the first circuit member and the second circuit member is formed of a base material including a thermoplastic resin having a glass transition temperature of 200 ° C. or lower. body. 前記第一の回路部材及び前記第二の回路部材の少なくとも一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基材から構成されている、請求項に記載の回路部材の接続構造体。 At least one of the first circuit member and the second circuit member, polyethylene terephthalate, and a substrate comprising at least one selected from the group consisting of polycarbonate and polyethylene naphthalate, claim 6 Circuit member connection structure. 前記第一の回路部材及び前記第二の回路部材のうち一方が、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート及びポリエチレンナフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む基材から構成されており、
他方が、ポリイミド及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも1種を含有する基材から構成されている、請求項に記載の回路部材の接続構造体。
One of the first circuit member and the second circuit member is composed of a base material including at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polyethylene naphthalate,
The circuit member connection structure according to claim 6 , wherein the other is composed of a base material containing at least one selected from the group consisting of polyimide and polyethylene terephthalate.
基板及び当該基板の主面上に配置された接続端子を有する太陽電池セルと、配線部材と、前記太陽電池セル及び前記配線部材の間に配置され、前記太陽電池セルと前記配線部材とを電気的に接続する接続部材と、を備え、
前記接続部材が、請求項1〜のいずれか一項に記載の回路接続用接着剤の硬化物を含む、太陽電池モジュール。
A solar battery cell having a connection terminal disposed on a main surface of the substrate and the substrate, a wiring member, and disposed between the solar battery cell and the wiring member, and electrically connecting the solar battery cell and the wiring member. A connection member for connecting
The solar cell module in which the said connection member contains the hardened | cured material of the adhesive agent for circuit connections as described in any one of Claims 1-5 .
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