JP6046497B2 - Curable epoxy resin composition - Google Patents

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Description

本発明は、硬化性エポキシ樹脂組成物、該硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物、及び該硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置に関する。   The present invention relates to a curable epoxy resin composition, a cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition, and an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition About.

近年、光半導体装置の高出力化が進んでおり、このような光半導体装置において光半導体素子を被覆する樹脂(封止材)には、高い耐熱性、耐光性が求められている。従来、耐熱性が高い封止材を形成するための封止剤として、例えば、モノアリルジグリシジルイソシアヌレートとビスフェノールA型エポキシ樹脂を含む組成物が知られている(特許文献1参照)。しかしながら、上記組成物を高出力の青色・白色光半導体用の封止剤として用いた場合には、光半導体素子から発せられる光及び熱によって封止材の着色が進行し、本来出力されるべき光が吸収されてしまい、その結果、光半導体装置から出力される光の光度が経時で低下するという問題が生じていた。   In recent years, the output of optical semiconductor devices has been increased, and in such an optical semiconductor device, a resin (encapsulant) that covers the optical semiconductor element is required to have high heat resistance and light resistance. Conventionally, as a sealing agent for forming a sealing material having high heat resistance, for example, a composition containing monoallyl diglycidyl isocyanurate and a bisphenol A type epoxy resin is known (see Patent Document 1). However, when the composition is used as a sealant for a high-output blue / white light semiconductor, the coloring of the sealant proceeds by light and heat emitted from the optical semiconductor element and should be output originally. As a result, the light is absorbed, and as a result, the intensity of the light output from the optical semiconductor device is lowered with time.

高い耐熱性及び耐光性を有し、黄変しにくい硬化物(封止材)を形成する封止剤として、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレートとε−カプロラクトンの付加物、1,2,8,9−ジエポキシリモネンなどの脂環骨格を有する液状の脂環式エポキシ樹脂が知られている。しかし、これらの脂環式エポキシ樹脂の硬化物は各種応力に弱く、冷熱サイクル(加熱と冷却を周期的に繰り返すこと)のような熱衝撃が加えられた場合に、クラック(ひび割れ)が発生する等の問題が生じていた。   3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate, 3,4 as a sealing agent that forms a cured product (sealing material) that has high heat resistance and light resistance and is not easily yellowed -Liquid alicyclic epoxy resins having an alicyclic skeleton such as an adduct of epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate and ε-caprolactone and 1,2,8,9-diepoxylimonene are known. ing. However, the cured products of these alicyclic epoxy resins are susceptible to various stresses, and cracks are generated when a thermal shock such as a cooling cycle (repeating heating and cooling periodically) is applied. Etc. had occurred.

また、光半導体装置(例えば、表面実装型の光半導体装置)は、はんだ付けにより光半導体装置の電極を配線基板に接合するためのリフロー工程を経るのが一般的である。近年、接合材としてのはんだとして、融点の高い無鉛はんだが使用されるようになってきており、リフロー工程での加熱処理がより高温(例えば、ピーク温度が240〜260℃)になってきている。このような状況下、従来の光半導体装置においては、リフロー工程での加熱処理により封止材が光半導体装置のリードフレームから剥離したり、封止材にクラックが生じたりする等の劣化の問題が生じていた。   In addition, an optical semiconductor device (for example, a surface-mount type optical semiconductor device) generally undergoes a reflow process for bonding an electrode of the optical semiconductor device to a wiring board by soldering. In recent years, lead-free solder having a high melting point has been used as a solder as a bonding material, and heat treatment in a reflow process has become a higher temperature (for example, a peak temperature of 240 to 260 ° C.). . Under such circumstances, in the conventional optical semiconductor device, there is a problem of deterioration such that the sealing material is peeled off from the lead frame of the optical semiconductor device due to the heat treatment in the reflow process, or the sealing material is cracked. Has occurred.

このため、光半導体装置における封止材には、高い耐熱性、耐光性に加え、熱衝撃が加えられた場合にもクラックが生じにくい特性(「耐熱衝撃性」と称する場合がある)、及び、リフロー工程において加熱処理された際にもクラックや剥離が生じにくい特性が求められている。特に、近年、封止材のより高い信頼性確保の観点から、光半導体装置を高湿条件下で一定時間(例えば、30℃、70%RHの条件下で168時間;60℃、60%RHの条件下で40時間など)置いて吸湿させた後にリフロー工程で加熱処理した場合にもなお上述のクラックや剥離が生じにくいこと(このような特性を「耐吸湿リフロー性」と称する場合がある)が求められている。   For this reason, the sealing material in the optical semiconductor device has high heat resistance and light resistance, and also has a characteristic that cracks are not easily generated when a thermal shock is applied (sometimes referred to as “thermal shock resistance”), and Further, there is a demand for characteristics in which cracks and peeling are unlikely to occur even when heat treatment is performed in the reflow process. In particular, in recent years, from the viewpoint of ensuring higher reliability of the sealing material, the optical semiconductor device is kept under high humidity conditions for a certain period of time (for example, 168 hours under conditions of 30 ° C. and 70% RH; 60 ° C., 60% RH). The above-mentioned cracks and peeling are not likely to occur even when heat treatment is performed in the reflow process after absorbing moisture after being placed under the above conditions (for 40 hours, etc.) (this characteristic is sometimes referred to as “moisture absorption reflow resistance”). ) Is required.

特開2000−344867号公報JP 2000-344867 A

従って、本発明の目的は、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に、光半導体装置の高温における通電特性及び耐吸湿リフロー性を向上させることが可能な硬化物を形成できる硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
また、本発明の他の目的は、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に、光半導体装置の高温における通電特性及び耐吸湿リフロー性を向上させることが可能な硬化物を提供する。
また、本発明の他の目的は、高温における通電特性に優れ、さらに高湿条件下で保管された後にリフロー工程で加熱処理した場合の光度低下等の劣化が抑制された、耐久性及び品質の高い光半導体装置を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to have a high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance, and in particular, it is possible to form a cured product capable of improving the current-carrying characteristics and moisture absorption reflow resistance of an optical semiconductor device at high temperatures. A curable epoxy resin composition is provided.
Another object of the present invention is to provide a cured product having high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance, and in particular, capable of improving current-carrying characteristics and moisture absorption reflow resistance at high temperatures of an optical semiconductor device. provide.
In addition, another object of the present invention is to improve durability and quality, which is excellent in current-carrying characteristics at high temperature, further suppresses deterioration such as a decrease in luminous intensity when heat-treated in a reflow process after being stored under high humidity conditions. The object is to provide a high optical semiconductor device.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、脂環式エポキシ化合物と、特定のコアシェル型ポリマー粒子を特定量と、特定のレベリング剤とを含む硬化性エポキシ樹脂組成物が、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に、光半導体装置の高温における通電特性及び耐吸湿リフロー性を向上させることが可能な硬化物を形成できることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has a high curable epoxy resin composition containing an alicyclic epoxy compound, a specific amount of specific core-shell polymer particles, and a specific leveling agent. The inventors have found that a cured product having heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance, in particular, capable of improving current-carrying characteristics and moisture absorption reflow resistance of an optical semiconductor device at a high temperature can be formed, and the present invention has been completed. .

すなわち、本発明は、脂環式エポキシ化合物(A)と、溶解度パラメータ(Fedors法)が19.5〜21.5[MPa1/2]であるコアシェル型アクリルポリマー粒子(B)と、シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤からなる群より選ばれた少なくとも1種のレベリング剤(C)とを含み、
コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)のコアを構成するアクリルポリマーのガラス転移温度が60〜120℃、シェルを構成するアクリルポリマーのガラス転移温度が60〜120℃であり、
コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の含有量が、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して1〜30重量部であることを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。
That is, the present invention relates to an alicyclic epoxy compound (A), core-shell type acrylic polymer particles (B) having a solubility parameter (Fedors method) of 19.5 to 21.5 [MPa 1/2 ], And at least one leveling agent (C) selected from the group consisting of a leveling agent and a fluorine-based leveling agent,
The glass transition temperature of the acrylic polymer constituting the core of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is 60 to 120 ° C., and the glass transition temperature of the acrylic polymer constituting the shell is 60 to 120 ° C.,
The content of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is 1 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alicyclic epoxy compound (A), and a curable epoxy resin composition is provided.

さらに、下記式(1)

Figure 0006046497
[式中、R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。]
で表されるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)を含む前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。 Further, the following formula (1)
Figure 0006046497
[Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]
The said curable epoxy resin composition containing the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) represented by these is provided.

さらに、レベリング剤(C)が、下記式(2)

Figure 0006046497
[式(2)中、R3は、置換基を有していてもよい直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。R4は、置換基を有していてもよい直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、ポリエーテル鎖を含む有機基、又はポリエステル鎖を含む有機基を示す。]
で表される構造単位を有するシリコーン系重合体(C1)、下記式(3)
Figure 0006046497
[式(3)中、R5は、水素原子、フッ素原子、又は、水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜4の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。R6は、フッ素化アルキル基を示す。]
で表される構造単位を有する含フッ素アクリル系重合体(C2)、及び下記式(4)
Figure 0006046497
[式(4)中、R19は、3価の直鎖又は分岐鎖状の炭化水素基を示す。R20は、フッ素化アルキル基を示す。zは、1〜30の整数を示す。]
で表される構造単位を有する含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)からなる群より選択された少なくとも1種の重合体を含むレベリング剤である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。 Furthermore, the leveling agent (C) is represented by the following formula (2):
Figure 0006046497
[In formula (2), R 3 represents an optionally substituted straight or branched chain alkyl group. R 4 is a linear or branched alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, an organic group containing a polyether chain, or an organic group containing a polyester chain Indicates. ]
Silicone polymer (C1) having a structural unit represented by the following formula (3)
Figure 0006046497
[In the formula (3), R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a linear or branched alkyl having 1 to 4 carbon atoms in which part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. Indicates a group. R 6 represents a fluorinated alkyl group. ]
And a fluorine-containing acrylic polymer (C2) having a structural unit represented by the following formula (4):
Figure 0006046497
[In the formula (4), R 19 represents a trivalent linear or branched hydrocarbon group. R 20 represents a fluorinated alkyl group. z shows the integer of 1-30. ]
The curable epoxy resin composition is a leveling agent comprising at least one polymer selected from the group consisting of a fluorine-containing polyether polymer (C3) having a structural unit represented by:

さらに、脂環式エポキシ化合物(A)が、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the curable epoxy resin composition is provided in which the alicyclic epoxy compound (A) is a compound having a cyclohexene oxide group.

さらに、脂環式エポキシ化合物(A)が、下記式(I−1)

Figure 0006046497
で表される化合物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。 Furthermore, the alicyclic epoxy compound (A) is represented by the following formula (I-1)
Figure 0006046497
The said curable epoxy resin composition which is a compound represented by these is provided.

さらに、ゴム粒子を含む前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable epoxy resin composition containing a rubber particle is provided.

さらに、硬化剤(E)及び硬化促進剤(F)、又は硬化触媒(G)を含む前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable epoxy resin composition containing a hardening | curing agent (E) and a hardening accelerator (F), or a hardening catalyst (G) is provided.

また、本発明は、前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化して得られる硬化物を提供する。   Moreover, this invention provides the hardened | cured material obtained by hardening | curing the said curable epoxy resin composition.

さらに、光半導体封止用樹脂組成物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable epoxy resin composition which is a resin composition for optical semiconductor sealing is provided.

また、本発明は、前記の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を提供する。   Moreover, this invention provides the optical semiconductor device by which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the said curable epoxy resin composition.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は上記構成を有するため、該樹脂組成物を硬化させることにより、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に、光半導体装置の高温における通電特性及び耐吸湿リフロー性を向上させることが可能な硬化物を形成することができる。このため、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体封止用樹脂組成物として使用した場合には、特に、高温の過酷な条件下において光度低下等の劣化が生じにくく、さらに、高湿条件下で保管した後にリフロー工程で加熱処理した場合でも光度低下等の劣化が生じにくい、耐久性及び品質の高い光半導体装置を得ることができる。   Since the curable epoxy resin composition of the present invention has the above-described configuration, it has high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance by curing the resin composition. A cured product capable of improving characteristics and moisture absorption reflow resistance can be formed. For this reason, when the curable epoxy resin composition of the present invention is used as a resin composition for optical semiconductor encapsulation, deterioration such as a decrease in luminous intensity is unlikely to occur especially under severe conditions at high temperatures. It is possible to obtain an optical semiconductor device having high durability and high quality, which is less likely to deteriorate such as a decrease in luminous intensity even when heat treatment is performed in a reflow process after storage under conditions.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置の一実施形態を示す概略図である。左側の図(a)は斜視図であり、右側の図(b)は断面図である。It is the schematic which shows one Embodiment of the optical semiconductor device by which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the curable epoxy resin composition of this invention. The left figure (a) is a perspective view, and the right figure (b) is a sectional view. 実施例のはんだ耐熱性試験における光半導体装置の表面温度プロファイル(二度の加熱処理のうち一方の加熱処理における温度プロファイル)の一例である。It is an example of the surface temperature profile (temperature profile in one heat processing among two heat processing) of the optical semiconductor device in the solder heat resistance test of an Example.

<硬化性エポキシ樹脂組成物>
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物(A)と、溶解度パラメータ(Fedors法)が19.5〜21.5[MPa1/2]であるコアシェル型アクリルポリマー粒子(B)(単に「コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)」と称する場合がある)と、シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤からなる群より選ばれた少なくとも1種のレベリング剤(C)(単に「レベリング剤(C)」と称する場合がある)とを少なくとも含む樹脂組成物(硬化性組成物)である。
<Curable epoxy resin composition>
The curable epoxy resin composition of the present invention comprises an alicyclic epoxy compound (A) and core-shell type acrylic polymer particles (B) having a solubility parameter (Fedors method) of 19.5 to 21.5 [MPa 1/2 ]. ) (Simply referred to as “core-shell type acrylic polymer particles (B)”) and at least one leveling agent (C) selected from the group consisting of silicone leveling agents and fluorine leveling agents (simply referred to as “leveling”). A resin composition (curable composition) at least.

[脂環式エポキシ化合物(A)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)は、分子内(一分子中)に脂環(脂肪族環)構造とエポキシ基とを少なくとも有する化合物である。脂環式エポキシ化合物(A)としては、具体的には、(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環エポキシ基)を有する化合物、(ii)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物などが挙げられる。
[Alicyclic epoxy compound (A)]
The alicyclic epoxy compound (A) in the curable epoxy resin composition of the present invention is a compound having at least an alicyclic (aliphatic ring) structure and an epoxy group in the molecule (in one molecule). As the alicyclic epoxy compound (A), specifically, (i) a compound having an epoxy group (alicyclic epoxy group) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring, (Ii) A compound in which an epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond, and the like.

上述の(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環エポキシ基)を有する化合物としては、公知乃至慣用のものの中から任意に選択して使用することができる。中でも、上記脂環エポキシ基としては、シクロヘキセンオキシド基が好ましい。   The compound having an epoxy group (alicyclic epoxy group) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring (i) is arbitrarily selected from known or commonly used compounds. Can be used. Especially, as said alicyclic epoxy group, a cyclohexene oxide group is preferable.

上述の(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物としては、透明性、耐熱性の観点で、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物が好ましく、特に、下記式(I)で表される化合物(脂環式エポキシ化合物)が好ましい。

Figure 0006046497
As the compound (i) having an epoxy group composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring, a compound having a cyclohexene oxide group is preferable from the viewpoint of transparency and heat resistance. In particular, a compound (alicyclic epoxy compound) represented by the following formula (I) is preferable.
Figure 0006046497

上記式(I)中、Xは単結合又は連結基(1以上の原子を有する2価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、2価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基などが挙げられる。   In the above formula (I), X represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and a group in which a plurality of these are linked.

上記式(I)中のXが単結合である化合物としては、3,4,3’,4’−ジエポキシビシクロヘキサンなどが挙げられる。   Examples of the compound in which X in the above formula (I) is a single bond include 3,4,3 ′, 4′-diepoxybicyclohexane and the like.

上記2価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、2価の脂環式炭化水素基などが挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基などが挙げられる。上記2価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基などの2価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)などが挙げられる。   As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclopentylene group, And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as a cyclohexylene group, a 1,4-cyclohexylene group, and a cyclohexylidene group.

上記連結基Xとしては、特に、酸素原子を含有する連結基が好ましく、具体的には、−CO−、−O−CO−O−、−COO−、−O−、−CONH−;これらの基が複数個連結した基;これらの基の1又は2以上と2価の炭化水素基の1又は2以上とが連結した基などが挙げられる。2価の炭化水素基としては上記で例示したものが挙げられる。   As the linking group X, a linking group containing an oxygen atom is particularly preferable. Specifically, -CO-, -O-CO-O-, -COO-, -O-, -CONH-; A group in which a plurality of groups are linked; a group in which one or more of these groups are linked to one or more of divalent hydrocarbon groups, and the like. Examples of the divalent hydrocarbon group include those exemplified above.

上記式(I)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、下記式(I−1)〜(I−10)で表される化合物などが挙げられる。なお、下記式(I−5)、(I−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(I−5)中のRは炭素数1〜8のアルキレン基であり、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、s−ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(I−9)、(I−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。

Figure 0006046497
Figure 0006046497
Typical examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (I) include compounds represented by the following formulas (I-1) to (I-10). In the following formulas (I-5) and (I-7), l and m each represent an integer of 1 to 30. R in the following formula (I-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, s-butylene group, pentylene group, hexylene. And linear or branched alkylene groups such as a group, a heptylene group, and an octylene group. Among these, C1-C3 linear or branched alkylene groups, such as a methylene group, ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, are preferable. N1 to n6 in the following formulas (I-9) and (I-10) each represent an integer of 1 to 30.
Figure 0006046497
Figure 0006046497

上述の(ii)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(II)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0006046497
Examples of the compound (ii) in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond include compounds represented by the following formula (II).
Figure 0006046497

式(II)中、R′はp価のアルコールからp個の−OHを除した基であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R′−(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコールなど(炭素数1〜15のアルコール等)が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(丸括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)などが挙げられる。 In the formula (II), R ′ is a group obtained by removing p —OH from a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the p-valent alcohol [R ′-(OH) p ] include polyhydric alcohols such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol (such as alcohols having 1 to 15 carbon atoms). p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each () (in parentheses) may be the same or different. Specifically, as the above compound, 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol, trade name “EHPE3150” (Co., Ltd.) Daicel) and the like.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において、脂環式エポキシ化合物(A)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。また、脂環式エポキシ化合物(A)としては、例えば、商品名「セロキサイド2021P」、「セロキサイド2081」(以上、(株)ダイセル製)などの市販品を使用することもできる。   In the curable epoxy resin composition of the present invention, the alicyclic epoxy compound (A) can be used singly or in combination of two or more. In addition, as the alicyclic epoxy compound (A), for example, commercially available products such as trade names “Celoxide 2021P” and “Celoxide 2081” (manufactured by Daicel Corporation) may be used.

脂環式エポキシ化合物(A)としては、上記式(I−1)で表される3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート[例えば、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)など]が特に好ましい。   As the alicyclic epoxy compound (A), 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate represented by the above formula (I-1) [for example, trade name “Celoxide 2021P” (( Etc.) are particularly preferred.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、10〜98重量%が好ましく、より好ましくは15〜95重量%、さらに好ましくは20〜95重量%である。脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が上記範囲を外れると、硬化物の耐熱性や耐光性が不十分となる場合がある。   Although content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, it is 10 to 98 with respect to the curable epoxy resin composition (100% by weight). % By weight is preferred, more preferably 15 to 95% by weight, and still more preferably 20 to 95% by weight. When content of an alicyclic epoxy compound (A) remove | deviates from the said range, the heat resistance and light resistance of hardened | cured material may become inadequate.

また、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物が後述の硬化剤(E)を必須成分として含む場合には、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、10〜90重量%が好ましく、より好ましくは15〜80重量%、さらに好ましくは20〜70重量%である。一方、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物が後述の硬化触媒(G)を必須成分として含む場合には、脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、硬化性エポキシ樹脂組成物(100重量%)に対して、25〜98重量%が好ましく、より好ましくは30〜95重量%、さらに好ましくは35〜95重量%である。   Further, the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but the curable epoxy resin composition of the present invention is a curing agent (E ) As an essential component, it is preferably 10 to 90% by weight, more preferably 15 to 80% by weight, still more preferably 20 to 70% by weight, based on the curable epoxy resin composition (100% by weight). It is. On the other hand, when the curable epoxy resin composition of the present invention contains a curing catalyst (G) described later as an essential component, the content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) is determined by the curable epoxy resin composition. The amount is preferably 25 to 98% by weight, more preferably 30 to 95% by weight, and still more preferably 35 to 95% by weight with respect to the product (100% by weight).

硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(全エポキシ化合物)(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、60重量%以上(例えば、60〜100重量%)が好ましく、より好ましくは65重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上である。脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が60重量%未満では、硬化物の耐熱性、耐光性、耐熱衝撃性、耐吸湿リフロー性が低下する場合がある。   The content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) with respect to the total amount of the compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition (total epoxy compound) (100 wt%) is not particularly limited, but 60 % By weight or more (for example, 60 to 100% by weight) is preferable, more preferably 65% by weight or more, and still more preferably 70% by weight or more. When the content of the alicyclic epoxy compound (A) is less than 60% by weight, the heat resistance, light resistance, thermal shock resistance, and moisture absorption reflow resistance of the cured product may be lowered.

[コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物におけるコアシェル型アクリルポリマー粒子(B)は、コアと、該コアを被覆する単層又は多層のシェル層(シェル)とからなるコアシェル構造を有し、上記コア及びシェル層がともにアクリルポリマー(アクリル系単量体を必須の単量体成分とする重合体)により構成されたポリマー粒子である。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、後述のように、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)を含有することにより、特に、室温での取り扱い性に優れ、耐吸湿性に優れた硬化物を形成できる。
[Core-shell type acrylic polymer particles (B)]
The core-shell type acrylic polymer particle (B) in the curable epoxy resin composition of the present invention has a core-shell structure comprising a core and a single-layer or multi-layer shell layer (shell) covering the core, Both shell layers are polymer particles composed of an acrylic polymer (a polymer having an acrylic monomer as an essential monomer component). As described later, the curable epoxy resin composition of the present invention contains core-shell type acrylic polymer particles (B), thereby forming a cured product having excellent handleability at room temperature and excellent moisture absorption resistance. it can.

なお、本明細書においては、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)のコアを構成するアクリルポリマーを「アクリルポリマー[コア]」、上記コアシェル型アクリルポリマー粒子のシェルを構成するアクリルポリマーを「アクリルポリマー[シェル]」と称する場合がある。上記コアシェル型アクリルポリマー粒子においては、特に限定されないが、アクリルポリマー[コア]とアクリルポリマー[シェル]とが異なる組成を有することが好ましい。   In this specification, the acrylic polymer constituting the core of the core-shell type acrylic polymer particle (B) is referred to as “acrylic polymer [core]”, and the acrylic polymer constituting the core of the core-shell type acrylic polymer particle is referred to as “acrylic polymer [ Shell] ”. The core-shell type acrylic polymer particles are not particularly limited, but the acrylic polymer [core] and the acrylic polymer [shell] preferably have different compositions.

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)のFedors法により算出される25℃における溶解度パラメータ(δ)(「溶解度パラメータ(Fedors法)」と称する)は19.5〜21.5[MPa1/2]であり、好ましくは19.7〜21.3[MPa1/2]、さらに好ましくは20.0〜21.0[MPa1/2]である。コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の溶解度パラメータ(Fedors法)が19.5[MPa1/2]未満であると、脂環式エポキシ化合物(A)との相溶性が低下したり、硬化物の耐熱性、耐吸湿リフロー性、耐熱衝撃性が低下する。一般に、低い溶解度パラメータに起因する単量体(例えば、長鎖のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルなど)はガラス転移温度を低下させる傾向があることから、このような単量体単位を多量に含む場合には特に硬化物の耐熱性、耐吸湿リフロー性、耐衝撃性が低下する傾向がある。一方、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の溶解度パラメータ(Fedors法)が21.5[MPa1/2]を超えると、脂環式エポキシ化合物(A)との相溶性が低下したり、硬化物の耐吸湿リフロー性が低下する。一般に、高い溶解度パラメータに起因する単量体は親水性の官能基(例えば、カルボキシル基、ニトリル基)を有し、このような単量体単位を多量に含む場合には特に硬化物の耐吸湿リフロー性が低下する傾向がある。コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の溶解度パラメータ(Fedors法)は、例えば、アクリルポリマー[コア]、アクリルポリマー[シェル]の溶解度パラメータ(Fedors法)をそれぞれ算出し、これらを加重平均することにより算出することができる。なお、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の溶解度パラメータ(Fedors法)は、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)を構成する単量体の組成によって制御される。 The solubility parameter (δ) at 25 ° C. (referred to as “solubility parameter (Fedors method)”) calculated by the Fedors method of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is 19.5 to 21.5 [MPa 1/2 ]. Yes, preferably 19.7 to 21.3 [MPa 1/2 ], more preferably 20.0 to 21.0 [MPa 1/2 ]. If the solubility parameter (Fedors method) of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is less than 19.5 [MPa 1/2 ], the compatibility with the alicyclic epoxy compound (A) may be reduced, Reduces heat resistance, moisture absorption reflow resistance, and thermal shock resistance. In general, monomers resulting from low solubility parameters (eg, (meth) acrylic acid alkyl esters having long chain alkyl groups) tend to lower the glass transition temperature, so such monomer units When a large amount of is contained, the heat resistance, moisture absorption reflow resistance and impact resistance of the cured product tend to be reduced. On the other hand, when the solubility parameter (Fedors method) of the core-shell type acrylic polymer particles (B) exceeds 21.5 [MPa 1/2 ], the compatibility with the alicyclic epoxy compound (A) is reduced, or the cured product Hygroscopic reflow resistance of the is reduced. In general, a monomer resulting from a high solubility parameter has a hydrophilic functional group (for example, carboxyl group or nitrile group). Reflowability tends to decrease. The solubility parameter (Fedors method) of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is calculated by, for example, calculating the solubility parameter (Fedors method) of the acrylic polymer [core] and the acrylic polymer [shell], respectively, and calculating a weighted average thereof. can do. The solubility parameter (Fedors method) of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is controlled by the composition of the monomers constituting the core-shell type acrylic polymer particles (B).

上記アクリルポリマー[コア]のガラス転移温度は60〜120℃であり、好ましくは70〜110℃、より好ましくは80〜100℃である。アクリルポリマー[コア]のガラス転移温度が60℃未満であると、硬化物の耐熱性が低下する。一方、アクリルポリマー[コア]のガラス転移温度が120℃を超えると、例えば、高いガラス転移温度に寄与するモノマー成分(例えば、(メタ)アクリル酸など)が多く存在することで硬化物の耐吸湿リフロー性が低下する場合がある。なお、アクリルポリマー[コア]のガラス転移温度は、下記Foxの式により算出される計算値を意味する(Bull.Am.Phys.Soc.,1(3)123(1956)参照)。下記Foxの式中、Tgはアクリルポリマーのガラス転移温度(単位:K)を示し、Wiはアクリルポリマーを構成する単量体全量に対する単量体iの重量分率を示す。また、Tgiは単量体iの単独重合体のガラス転移温度(単位:K)を示す。下記Foxの式は、アクリルポリマーが単量体1、単量体2、・・・・、及び単量体nの共重合体である場合の式を示す。
1/Tg=W1/Tg1+W2/Tg2+・・・・+Wn/Tgn
上記単独重合体のガラス転移温度は、各種文献に記載の値を採用することができ、例えば、「POLYMER HANDBOOK 第3版」(John Wiley & Sons,Inc.発行)に記載の値を採用できる。なお、文献に記載のないものについては、単量体を常法により重合して得られる単独重合体のDSCにより測定されるガラス転移温度の値を採用することができる。
The glass transition temperature of the acrylic polymer [core] is 60 to 120 ° C, preferably 70 to 110 ° C, more preferably 80 to 100 ° C. The heat resistance of hardened | cured material falls that the glass transition temperature of acrylic polymer [core] is less than 60 degreeC. On the other hand, when the glass transition temperature of the acrylic polymer [core] exceeds 120 ° C., for example, there are many monomer components (for example, (meth) acrylic acid, etc.) that contribute to a high glass transition temperature. Reflowability may be reduced. The glass transition temperature of the acrylic polymer [core] means a calculated value calculated by the following Fox equation (see Bull. Am. Phys. Soc., 1 (3) 123 (1956)). Wherein the following Fox, Tg is the glass transition temperature of the acrylic polymer (unit: K) indicates, W i represents the weight fraction of the monomer i for the monomer total amount constituting the acrylic polymer. Further, Tg i is the glass transition temperature of the homopolymer of monomer i (unit: K) shows a. The following Fox formula shows the formula when the acrylic polymer is a copolymer of monomer 1, monomer 2,..., And monomer n.
1 / Tg = W 1 / Tg 1 + W 2 / Tg 2 +... + W n / Tg n
As the glass transition temperature of the homopolymer, values described in various documents can be adopted, for example, values described in “POLYMER HANDBOOK 3rd edition” (published by John Wiley & Sons, Inc.) can be adopted. In addition, about the thing which is not described in literature, the value of the glass transition temperature measured by DSC of the homopolymer obtained by superposing | polymerizing a monomer by a conventional method is employable.

なお、アクリルポリマー[コア]のガラス転移温度は、アクリルポリマー[コア]を構成する単量体の組成によって制御される。   The glass transition temperature of the acrylic polymer [core] is controlled by the composition of the monomers constituting the acrylic polymer [core].

上記アクリルポリマー[シェル]のガラス転移温度は60〜120℃であり、好ましくは70〜115℃である。アクリルポリマー[シェル]のガラス転移温度が60℃未満であると、硬化物の耐熱性が低下する。一方、アクリルポリマー[シェル]のガラス転移温度が120℃を超えると、例えば、高いガラス転移温度に寄与するモノマー成分(例えば、(メタ)アクリル酸など)が多く存在することで硬化物の耐吸湿リフロー性が低下する場合があったり、長期保存安定性が増粘等により悪化する場合がある。なお、アクリルポリマー[シェル]のガラス転移温度は、上記Foxの式により算出される値を意味し、アクリルポリマー[コア]のガラス転移温度と同様に算出することができる。なお、アクリルポリマー[シェル]のガラス転移温度は、アクリルポリマー[シェル]を構成する単量体の組成によって制御される。   The glass transition temperature of the acrylic polymer [shell] is 60 to 120 ° C, preferably 70 to 115 ° C. The heat resistance of hardened | cured material falls that the glass transition temperature of acrylic polymer [shell] is less than 60 degreeC. On the other hand, when the glass transition temperature of the acrylic polymer [shell] exceeds 120 ° C., for example, there are many monomer components (for example, (meth) acrylic acid, etc.) that contribute to a high glass transition temperature, so that the cured product has moisture absorption resistance. In some cases, the reflowability may decrease, and the long-term storage stability may deteriorate due to thickening or the like. The glass transition temperature of the acrylic polymer [shell] means a value calculated by the above Fox equation, and can be calculated in the same manner as the glass transition temperature of the acrylic polymer [core]. The glass transition temperature of the acrylic polymer [shell] is controlled by the composition of the monomers constituting the acrylic polymer [shell].

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)における、アクリルポリマー[コア]のガラス転移温度とアクリルポリマー[シェル]のガラス転移温度の差[アクリルポリマー[シェル]のガラス転移温度−アクリルポリマー[コア]のガラス転移温度]は、特に限定されないが、−5〜60℃が好ましく、より好ましくは0〜55℃である。上記ガラス転移温度の差が上記範囲に制御されることにより、硬化時の硬化性エポキシ樹脂組成物の接着性が向上して硬化物の耐吸湿リフロー性が向上し、さらに、硬化物の耐熱性が向上する傾向がある。   Difference between glass transition temperature of acrylic polymer [core] and glass transition temperature of acrylic polymer [shell] in core-shell type acrylic polymer particles (B) [glass transition temperature of acrylic polymer [shell]-glass transition of acrylic polymer [core] The temperature] is not particularly limited, but is preferably -5 to 60 ° C, more preferably 0 to 55 ° C. By controlling the difference in the glass transition temperature within the above range, the adhesion of the curable epoxy resin composition at the time of curing is improved, the moisture absorption reflow resistance of the cured product is improved, and the heat resistance of the cured product is further improved. Tend to improve.

上記アクリルポリマー[コア]、アクリルポリマー[シェル]は、それぞれ、アクリル系単量体(アクリルモノマー)を必須の単量体成分として構成されたアクリルポリマーである。   The acrylic polymer [core] and the acrylic polymer [shell] are acrylic polymers each composed of an acrylic monomer (acrylic monomer) as an essential monomer component.

上記アクリルポリマー[コア]、アクリルポリマー[シェル]を構成するアクリル系単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸i−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸i−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸n−ヘプチル、(メタ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸n−ノニル、(メタ)アクリル酸i−ノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸ドデシル、(メタ)アクリル酸ステアリルなどの(メタ)アクリル酸アルキルエステル;(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸t−ブチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸トリシクロ[5.2.1.02.6]デカン−8−イル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタジエニルなどの脂肪族環(脂環)を有する(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸ベンジルなどの芳香族環を有する(メタ)アクリル酸エステル;N−メチル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル(メタ)アクリレートなどの複素環を有する(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリセロールモノ(メタ)アクリレートなどの水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸メチルグリシジルなどのエポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチルなどのアミノ基を有する(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。なお、本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリル及び/又はメタクリル(アクリル及びメタクリルのいずれか一方又は両方)を意味する。 Examples of the acrylic monomer constituting the acrylic polymer [core] and acrylic polymer [shell] include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, (meth ) I-propyl acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, n- (meth) acrylate Heptyl, n-octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, i-nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid (Meth) acrylic acid alkyl esters such as dodecyl, stearyl (meth) acrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, (meth) Acrylic acid t- butyl cyclohexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylic acid tricyclo [5.2.1.0 2.6] decan-8-yl, (meth) aliphatic, such as acrylic acid dicyclopentadienyl (Meth) acrylic acid ester having a ring (alicyclic ring); (meth) acrylic acid ester having an aromatic ring such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate; N-methyl-2,2,6 , 6- (Tetramethylpiperidyl (meth) acrylate) -containing (meth) acrylic acid ester; (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth) acrylic acid 2-hydroxypropyl, (meth) acrylic acid 4- (Meth) acrylic acid ester having a hydroxyl group such as hydroxybutyl and glycerol mono (meth) acrylate; ) (Meth) acrylic acid ester having an epoxy group such as glycidyl acrylate and methyl glycidyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid ester having an amino group such as N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; (Meth) acrylic acid; (meth) acrylamide etc. are mentioned. In the present specification, “(meth) acryl” means acrylic and / or methacrylic (any one or both of acrylic and methacrylic).

上記アクリルポリマー[コア]、アクリルポリマー[シェル]を構成する単量体としては、アクリル系単量体以外の単量体を併用することもできる。上記アクリル系単量体以外の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアン化ビニル単量体;クロトン酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸などのカルボキシル基を有する単量体;ビニルピリジン、ビニルアルコール、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、酢酸ビニル、1−ビニルイミダゾールなどのビニル単量体;モノメチルイタコネート、モノエチルイタコネート、モノプロピルイタコネート、モノブチルイタコネート、ジメチルイタコネート、ジエチルイタコネート、ジプロピルイタコネート、ジブチルイタコネートなどのイタコン酸エステル;モノメチルフマレート、モノエチルフマレート、モノプロピルフマレート、モノブチルフマレート、ジメチルフマレート、ジエチルフマレート、ジプロピルフマレート、ジブチルフマレートなどのフマル酸エステル;モノメチルマレエート、モノエチルマレエート、モノプロピルマレエート、モノブチルマレエート、ジメチルマレエート、ジエチルマレエート、ジプロピルマレエート、ジブチルマレエートなどのマレイン酸エステルなどが挙げられる。   As monomers constituting the acrylic polymer [core] and acrylic polymer [shell], monomers other than acrylic monomers can be used in combination. Examples of monomers other than the acrylic monomers include aromatic vinyl monomers such as styrene, α-methylstyrene, and vinyl toluene; vinyl cyanide monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile; crotonic acid , Monomers having a carboxyl group such as itaconic acid, fumaric acid and maleic acid; vinyl monomers such as vinyl pyridine, vinyl alcohol, vinyl imidazole, vinyl pyrrolidone, vinyl acetate and 1-vinyl imidazole; monomethyl itaconate, mono Itaconic esters such as ethyl itaconate, monopropyl itaconate, monobutyl itaconate, dimethyl itaconate, diethyl itaconate, dipropyl itaconate, dibutyl itaconate; monomethyl fumarate, monoethyl fumarate, monopropyl fumarate , Monobutyl fumarate, dimethyl fumarate, diethyl fumarate, dipropyl fumarate, dibutyl fumarate, etc. fumarate; monomethyl maleate, monoethyl maleate, monopropyl maleate, monobutyl maleate, dimethyl maleate , Maleate esters such as diethyl maleate, dipropyl maleate and dibutyl maleate.

また、上記アクリルポリマー[コア]、アクリルポリマー[シェル]を構成する単量体としては、2以上の重合性官能基(例えば、脂肪族炭素−炭素二重結合など)を有する多官能性単量体を使用することもできる。上記多官能性単量体としては、例えば、ジビニルベンゼン、アリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ブチレングリコールジアクリレートなどが挙げられる。   Moreover, as a monomer which comprises the said acrylic polymer [core] and acrylic polymer [shell], the polyfunctional monomer which has two or more polymerizable functional groups (for example, an aliphatic carbon-carbon double bond etc.). The body can also be used. Examples of the polyfunctional monomer include divinylbenzene, allyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diallyl maleate, triallyl cyanurate, diallyl phthalate, butylene glycol diacrylate, and the like.

上記アクリルポリマー[コア]を構成する単量体の全量(100重量%)に対するアクリル系単量体の割合は、特に限定されないが、70〜100重量%が好ましい。特に、上記アクリルポリマー[コア]は、実質的にアクリル系単量体のみで構成された重合体(例えば、単量体の全量に対するアクリル系単量体の割合が98〜100重量%である重合体)であることが好ましい。上記アクリルポリマー[コア]を構成する単量体としては、中でも、炭素数1〜4のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルが好ましく、より好ましくはメタクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチルである。   Although the ratio of the acrylic monomer to the total amount (100% by weight) of the monomer constituting the acrylic polymer [core] is not particularly limited, it is preferably 70 to 100% by weight. In particular, the acrylic polymer [core] is a polymer substantially composed of only an acrylic monomer (for example, a polymer whose ratio of acrylic monomer to the total amount of monomers is 98 to 100% by weight). It is preferable that As the monomer constituting the acrylic polymer [core], (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, and methyl methacrylate, butyl acrylate, methacrylic acid are more preferable. Butyl.

上記アクリルポリマー[シェル]を構成する単量体の全量(100重量%)に対するアクリル系単量体の割合は、特に限定されないが、70〜100重量%が好ましい。特に、上記アクリルポリマー[シェル]は、実質的にアクリル系単量体のみで構成された重合体(例えば、単量体の全量に対するアクリル系単量体の割合が98〜100重量%である重合体)であることが好ましい。上記アクリルポリマー[シェル]を構成する単量体としては、中でも、炭素数1〜4のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸が好ましく、より好ましくはメタクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸である。   The ratio of the acrylic monomer to the total amount (100% by weight) of the monomer constituting the acrylic polymer [shell] is not particularly limited, but is preferably 70 to 100% by weight. In particular, the above-mentioned acrylic polymer [shell] is a polymer composed substantially of only an acrylic monomer (for example, a polymer whose ratio of the acrylic monomer to the total amount of the monomer is 98 to 100% by weight. It is preferable that As a monomer which comprises the said acrylic polymer [shell], the (meth) acrylic acid alkyl ester and (meth) acrylic acid which have a C1-C4 alkyl group are preferable, More preferably, methyl methacrylate, They are butyl acrylate, butyl methacrylate, and methacrylic acid.

即ち、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)は、実質的にアクリル系単量体のみで構成された重合体(例えば、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)を構成する単量体の全量に対する、アクリル系単量体の割合が98〜100重量%である重合体)により形成されたコアシェル型アクリルポリマー粒子であることが好ましい。   That is, the core-shell type acrylic polymer particle (B) is a polymer substantially composed only of an acrylic monomer (for example, acrylic based on the total amount of monomers constituting the core-shell type acrylic polymer particle (B)). Polymers having a monomer ratio of 98 to 100% by weight) are preferably core-shell type acrylic polymer particles.

上記アクリルポリマー[コア]、アクリルポリマー[シェル]を構成する単量体として、(メタ)アクリロニトリルなどのシアン化ビニル単量体を多量に使用すると、該単量体が高い極性を有するため、硬化物の耐吸湿リフロー性が低下する傾向があるため好ましくない。また、上記アクリルポリマー[コア]、アクリルポリマー[シェル]を構成する単量体として、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル単量体を多量に使用すると、硬化物が着色しやすくなるため好ましくない。従って、上記アクリルポリマー[コア](又はアクリルポリマー[シェル])を構成する単量体の全量(100重量%)に対するシアン化ビニル単量体及び芳香族ビニル単量体の割合は、5重量%以下が好ましく、より好ましくは2重量%以下であり、実質的に含有しないこと(単量体成分として能動的には配合しないこと)が特に好ましい。   When a large amount of vinyl cyanide monomer such as (meth) acrylonitrile is used as a monomer constituting the acrylic polymer [core] and the acrylic polymer [shell], the monomer has high polarity and is cured. This is not preferable because the moisture absorption reflow resistance of the product tends to decrease. In addition, when a large amount of an aromatic vinyl monomer such as styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene or the like is used as a monomer constituting the acrylic polymer [core] and the acrylic polymer [shell], the cured product is colored. Since it becomes easy, it is not preferable. Therefore, the ratio of the vinyl cyanide monomer and the aromatic vinyl monomer to the total amount (100% by weight) of the monomer constituting the acrylic polymer [core] (or acrylic polymer [shell]) is 5% by weight. The following is preferable, more preferably 2% by weight or less, and it is particularly preferable that it is not substantially contained (not actively blended as a monomer component).

また、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)は、硬化物の着色や劣化を抑制する観点で、ブタジエンゴムを含有しないことが好ましい。また、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)は、相溶性やコストの観点で、シリコーンゴムを含有しないことが好ましい。   Moreover, it is preferable that a core-shell type acrylic polymer particle (B) does not contain a butadiene rubber from a viewpoint of suppressing coloring and deterioration of hardened | cured material. Moreover, it is preferable that a core-shell type acrylic polymer particle (B) does not contain a silicone rubber from a viewpoint of compatibility or cost.

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)におけるアクリルポリマー[コア]とアクリルポリマー[シェル]の割合(重量比)[アクリルポリマー[コア]/アクリルポリマー[シェル]]は、特に限定されないが、1/0.1〜1/200が好ましく、より好ましくは1/0.3〜1/120、さらに好ましくは1/0.4〜1/10である。アクリルポリマー[コア]とアクリルポリマー[シェル]の割合が上記範囲を外れると、後述の被着体に対する接着力向上、加熱による速やかな増粘の効果が得られにくく、その結果、硬化性エポキシ樹脂組成物の取り扱い性の向上、硬化物の耐吸湿リフロー性向上の効果が得られない場合がある。   The ratio (weight ratio) [acrylic polymer [core] / acrylic polymer [shell]] of acrylic polymer [core] and acrylic polymer [shell] in the core-shell type acrylic polymer particles (B) is not particularly limited, but is 1 / 0.0. 1-1000 is preferable, More preferably, it is 1 / 0.3 to 1/120, More preferably, it is 1 / 0.4 to 1/10. If the ratio of the acrylic polymer [core] and the acrylic polymer [shell] is out of the above range, it will be difficult to obtain the effect of improving the adhesion to the adherend described below and quickly increasing the viscosity by heating. As a result, the curable epoxy resin The effect of improving the handleability of the composition and improving the moisture absorption reflow resistance of the cured product may not be obtained.

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の特に好ましい具体的態様としては、例えば、炭素数1〜4のアルキル基を有するメタクリル酸アルキルエステル(特に、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル)を必須の単量体成分とするガラス転移温度が60〜120℃のアクリルポリマー[コア]をコアとし、炭素数1〜4のアルキル基を有するメタクリル酸アルキルエステル(特に、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル)を必須の単量体成分とし、ガラス転移温度が60〜120℃であり、アクリルポリマー[コア]とは異なる単量体組成のアクリルポリマー[シェル]をシェルとするコアシェル型アクリルポリマー粒子が挙げられる。上記アクリルポリマー[シェル]は、さらに、ヒドロキシル基を有する単量体(例えば、水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステル)及び/又はカルボキシル基を有する単量体(例えば、(メタ)アクリル酸)を単量体成分として含むことが好ましい。なお、上記シェルは単層であってもよいし、多層であってもよい。上記アクリルポリマー[コア]を構成する単量体成分の全量(100重量%)に対する炭素数1〜4のアルキル基を有するメタクリル酸アルキルエステルの割合は、60重量%以上が好ましく、より好ましくは80重量%以上である。また、上記アクリルポリマー[シェル]を構成する単量体成分の全量(100重量%)に対する炭素数1〜4のアルキル基を有するメタクリル酸アルキルエステルの割合は、60重量%以上が好ましく、より好ましくは80重量%以上である。   As a particularly preferable specific embodiment of the core-shell type acrylic polymer particle (B), for example, a monomer having an essential alkyl methacrylate having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (particularly, methyl methacrylate or butyl methacrylate). A methacrylic acid alkyl ester (especially methyl methacrylate, butyl methacrylate) having an acrylic polymer [core] having a glass transition temperature of 60 to 120 ° C. as a core and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is essential. Examples of the polymer component include core-shell type acrylic polymer particles having a monomer component, an acrylic polymer [shell] having a glass transition temperature of 60 to 120 ° C. and a monomer composition different from that of the acrylic polymer [core]. The acrylic polymer [shell] further includes a monomer having a hydroxyl group (for example, a (meth) acrylic acid ester having a hydroxyl group) and / or a monomer having a carboxyl group (for example, (meth) acrylic acid). It is preferably contained as a monomer component. The shell may be a single layer or a multilayer. The ratio of the alkyl methacrylate having 1 to 4 carbon atoms to the total amount (100% by weight) of the monomer component constituting the acrylic polymer [core] is preferably 60% by weight or more, more preferably 80%. % By weight or more. Further, the ratio of the alkyl methacrylate having a C 1-4 alkyl group to the total amount (100% by weight) of the monomer component constituting the acrylic polymer [shell] is preferably 60% by weight or more, more preferably. Is 80% by weight or more.

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)におけるアルカリ金属イオン(例えば、Naイオン、Kイオンなど)の含有量は、特に限定されないが、10ppm以下が好ましく、より好ましくは5ppm以下、さらに好ましくは1ppm以下である。アルカリ金属イオンの含有量が10ppmを超えると、硬化物の絶縁特性が低下する場合がある。上記アルカリ金属イオンの含有量は、例えば、ICP発光分析装置やイオンクロマトグラフィーなどを用いて測定することができる。なお、上記アルカリ金属イオンの含有量は、例えば、重合に用いる重合開始剤や乳化剤の選択により制御することができる。   The content of alkali metal ions (for example, Na ions, K ions, etc.) in the core-shell type acrylic polymer particles (B) is not particularly limited, but is preferably 10 ppm or less, more preferably 5 ppm or less, and even more preferably 1 ppm or less. . If the content of alkali metal ions exceeds 10 ppm, the insulating properties of the cured product may be deteriorated. The content of the alkali metal ions can be measured using, for example, an ICP emission analyzer or ion chromatography. In addition, content of the said alkali metal ion can be controlled by selection of the polymerization initiator and emulsifier used for superposition | polymerization, for example.

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の平均二次粒子径は、特に限定されないが、5〜50μmが好ましい。平均二次粒子径が5μm未満であると、舞いやすく静電気が起こりやすくなり、取り扱いが難しい場合がある。一方、平均二次粒子径が50μmを超えると、一次粒子に分散させるときに時間的負荷が多い場合がある。上記平均二次粒子径は、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)などの電子顕微鏡を用いて測定することができる。なお、上記平均二次粒子径は、例えば、造粒の条件、乾燥条件(温度、風量)などにより制御することができる。   The average secondary particle diameter of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is not particularly limited, but is preferably 5 to 50 μm. When the average secondary particle size is less than 5 μm, it is easy to fly and static electricity easily occurs, which may be difficult to handle. On the other hand, if the average secondary particle diameter exceeds 50 μm, there may be a large time load when dispersed in the primary particles. The said average secondary particle diameter can be measured using electron microscopes, such as a scanning electron microscope (SEM) and a transmission electron microscope (TEM), for example. The average secondary particle diameter can be controlled by, for example, granulation conditions, drying conditions (temperature, air volume), and the like.

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の体積平均一次粒子径(Dv)は、特に限定されないが、200nm以上が好ましく、より好ましくは500nm以上である。また、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の体積平均一次粒子径は、8μm以下が好ましく、より好ましくは5μm以下、さらに好ましくは1μm以下である。体積平均一次粒子径が200nm未満であると、分散性が低下する場合がある。一方、体積平均一次粒子径が8μmを超えると、硬化物の透明性が低下する場合がある。上記体積平均一次粒子径は、例えば、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置(例えば、商品名「LA−910W」、(株)堀場製作所製など)を用いて測定することができる。なお、上記体積平均一次粒径は、例えば、単量体の乳化の際の条件などにより制御することができる。   The volume average primary particle diameter (Dv) of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is not particularly limited, but is preferably 200 nm or more, and more preferably 500 nm or more. Further, the volume average primary particle diameter of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is preferably 8 μm or less, more preferably 5 μm or less, and further preferably 1 μm or less. If the volume average primary particle diameter is less than 200 nm, the dispersibility may decrease. On the other hand, if the volume average primary particle diameter exceeds 8 μm, the transparency of the cured product may be lowered. The volume average primary particle size can be measured using, for example, a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer (for example, trade name “LA-910W”, manufactured by Horiba, Ltd.). In addition, the said volume average primary particle diameter can be controlled by the conditions at the time of emulsification of a monomer, etc., for example.

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の単分散性(体積平均一次粒子径Dvと個数平均一次粒子径Dnの比[Dv/Dn])は、特に限定されないが、3.0以下が好ましく、より好ましくは2.0以下、さらに好ましくは1.5以下である。Dv/Dnが3.0を超えると、硬化物の耐吸湿リフロー性や耐熱衝撃性が低下する場合がある。上記Dv/Dnは、例えば、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置(例えば、商品名「LA−910W」、(株)堀場製作所製など)を用いて測定することができる。なお、上記Dv/Dnは、例えば、単量体の乳化の際の条件などにより制御することができる。   The monodispersity of the core-shell type acrylic polymer particles (B) (the ratio of the volume average primary particle diameter Dv to the number average primary particle diameter Dn [Dv / Dn]) is not particularly limited, but is preferably 3.0 or less, more preferably Is 2.0 or less, more preferably 1.5 or less. When Dv / Dn exceeds 3.0, the moisture absorption reflow resistance and thermal shock resistance of the cured product may decrease. The Dv / Dn can be measured using, for example, a laser diffraction / scattering particle size distribution measuring apparatus (for example, trade name “LA-910W”, manufactured by Horiba, Ltd.). The Dv / Dn can be controlled by, for example, the conditions during the emulsification of the monomer.

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)は、公知乃至慣用のコアシェル型ポリマー粒子の製造方法を利用して製造することができる。コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)は、コアをシェルによって被覆することにより得ることができ、例えば、コアの表面にシェルを構成するアクリルポリマーを塗布する方法や、上記コアを構成するアクリルポリマーを幹成分としてシェルを構成するアクリルポリマー(枝成分)をグラフト重合する方法などが挙げられる。より具体的には、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)は、例えば、国際公開2010/090246に開示された方法に準じて製造することができる。   The core-shell type acrylic polymer particles (B) can be produced by using a known or conventional method for producing core-shell type polymer particles. The core-shell type acrylic polymer particles (B) can be obtained by coating the core with a shell. For example, the core-shell type acrylic polymer particles (B) can be obtained by coating the surface of the core with an acrylic polymer that constitutes the shell, or the acrylic polymer that constitutes the core. Examples thereof include a method of graft polymerization of an acrylic polymer (branch component) constituting the shell as a component. More specifically, the core-shell type acrylic polymer particles (B) can be produced, for example, according to the method disclosed in International Publication 2010/090246.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。なお、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)としては、商品名「メタブレン KP−0917」、「メタブレン KP−0930」、「メタブレン KP−0950」(以上、三菱レイヨン(株)製)などの市販品を使用することもできる。   In the curable epoxy resin composition of the present invention, the core-shell type acrylic polymer particles (B) can be used singly or in combination of two or more. As the core-shell type acrylic polymer particles (B), commercially available products such as trade names “METABBRENE KP-0917”, “METABBRENE KP-0930”, “METABBRENE KP-0950” (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) are available. It can also be used.

コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の含有量(配合量)は、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して、1〜30重量部であり、好ましくは3〜20重量部である。コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の含有量が1重量部未満であると、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の添加効果が得られにくく、硬化物の耐吸湿リフロー性及び耐熱衝撃性が不良となる。一方、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の含有量が30重量部を超えると、硬化性エポキシ樹脂組成物が増粘し取り扱いが容易でなくなる。   The content (blending amount) of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is 1 to 30 parts by weight, preferably 3 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alicyclic epoxy compound (A). When the content of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is less than 1 part by weight, the effect of adding the core-shell type acrylic polymer particles (B) is difficult to obtain, and the moisture absorption reflow resistance and thermal shock resistance of the cured product are poor. Become. On the other hand, when the content of the core-shell type acrylic polymer particles (B) exceeds 30 parts by weight, the curable epoxy resin composition is thickened and handling is not easy.

脂環式エポキシ化合物(A)とコアシェル型アクリルポリマー粒子(B)とを必須成分として含む本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に、耐吸湿リフロー性に優れた硬化物を与える。上記硬化物におけるこれらの効果(特に、耐吸湿リフロー性向上の効果)は、硬化性エポキシ樹脂組成物におけるコアシェル型アクリルポリマー粒子(B)がコアシェル構造を有し、なおかつコアとシェルのガラス転移温度、溶解度パラメータが特定範囲に制御されていることにより、主に、硬化物の被着体(特に、光半導体装置における銀製電極など)に対する接着性が向上し、さらに、加熱により速やかに増粘(ゲル化)して完全に硬化する前に形状が保持(固定)されることによる効果であると推測される。コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の代わりに、一般のアクリルポリマー(線状ポリマー等)を用いた場合には、上述の接着性向上や加熱による増粘の効果は得られない。例えば、加熱により著しく低粘度化する樹脂組成物は硬化の際に形状が変形しやすいため、このような変形に起因する不具合(例えば、耐吸湿リフロー性低下など)を生じやすい。また、コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)を含む本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、後述のように室温では比較的低い粘度を有するため、取り扱い性にも優れる。   The curable epoxy resin composition of the present invention containing the alicyclic epoxy compound (A) and the core-shell type acrylic polymer particles (B) as essential components has high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance. Gives a cured product excellent in moisture absorption and reflow resistance. These effects (particularly, the effect of improving moisture absorption reflow resistance) in the cured product are as follows. The core-shell type acrylic polymer particles (B) in the curable epoxy resin composition have a core-shell structure, and the glass transition temperature between the core and the shell. By controlling the solubility parameter within a specific range, mainly the adhesion of the cured product to the adherend (especially a silver electrode in an optical semiconductor device) is improved, and further, the viscosity is rapidly increased by heating ( It is presumed that the effect is due to the shape being held (fixed) before being completely cured. In the case where a general acrylic polymer (linear polymer or the like) is used instead of the core-shell type acrylic polymer particles (B), the above-described effects of improving adhesiveness and thickening by heating cannot be obtained. For example, since the resin composition that is remarkably reduced in viscosity by heating is easily deformed in shape, it is liable to cause defects (for example, reduced moisture absorption reflow resistance) due to such deformation. Moreover, since the curable epoxy resin composition of this invention containing a core-shell type acrylic polymer particle (B) has a comparatively low viscosity at room temperature as mentioned later, it is excellent also in handleability.

なお、上述の硬化性エポキシ樹脂組成物の加熱による増粘効果は、特に、コアシェル型アクリルポリマー(B)が加熱された際(特に、コアやシェルのTg付近、具体的には80〜90℃に加熱された際)に膨潤し、なおかつ該コアシェル型アクリルポリマー(B)の溶解度パラメータ(Fedors法)が特定範囲に制御されていることによって、脂環式エポキシ化合物(A)が膨潤したコアシェル型アクリルポリマー粒子のシェル層(表面層)に容易に浸透できることによって得られる効果であると推測される。   In addition, the thickening effect by heating of the above-mentioned curable epoxy resin composition is particularly when the core-shell type acrylic polymer (B) is heated (particularly in the vicinity of Tg of the core or shell, specifically 80 to 90 ° C. Core-shell type in which the alicyclic epoxy compound (A) is swollen by being controlled to a specific range in the solubility parameter (Fedors method) of the core-shell type acrylic polymer (B). It is presumed that this is an effect obtained by being able to easily penetrate into the shell layer (surface layer) of acrylic polymer particles.

[レベリング剤(C)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を構成するレベリング剤(C)は、シリコーン系レベリング剤(ポリシロキサン系レベリング剤)及びフッ素系レベリング剤からなる群より選択された少なくとも1種のレベリング剤である。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、レベリング剤(C)を含むことにより、優れた耐熱性、耐光性、及び耐クラック性を示す硬化物を形成することができ、該硬化物を用いて作製した光半導体装置は、経時での光度低下が生じにくい。
[Leveling agent (C)]
The leveling agent (C) constituting the curable epoxy resin composition of the present invention is at least one leveling agent selected from the group consisting of a silicone leveling agent (polysiloxane leveling agent) and a fluorine leveling agent. . By including the leveling agent (C), the curable epoxy resin composition of the present invention can form a cured product having excellent heat resistance, light resistance, and crack resistance, and using the cured product. The produced optical semiconductor device is unlikely to have a decrease in light intensity over time.

(シリコーン系レベリング剤)
上記シリコーン系レベリング剤とは、ポリシロキサン骨格を有する化合物を含むレベリング剤である。上記シリコーン系レベリング剤としては、公知乃至慣用のシリコーン系レベリング剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、商品名「BYK−300」、「BYK−301/302」、「BYK−306」、「BYK−307」、「BYK−310」、「BYK−315」、「BYK−313」、「BYK−320」、「BYK−322」、「BYK−323」、「BYK−325」、「BYK−330」、「BYK−331」、「BYK−333」、「BYK−337」、「BYK−341」、「BYK−344」、「BYK−345/346」、「BYK−347」、「BYK−348」、「BYK−349」、「BYK−370」、「BYK−375」、「BYK−377」、「BYK−378」、「BYK−UV3500」、「BYK−UV3510」、「BYK−UV3570」、「BYK−3550」、「BYK−SILCLEAN3700」、「BYK−SILCLEAN3720」(以上、ビックケミー・ジャパン(株)製);商品名「AC FS 180」、「AC FS 360」、「AC S 20」(以上、Algin Chemie製);商品名「ポリフローKL−400X」、「ポリフローKL−400HF」、「ポリフローKL−401」、「ポリフローKL−402」、「ポリフローKL−403」、「ポリフローKL−404」(以上、共栄社化学(株)製);商品名「KP−323」、「KP−326」、「KP−341」、「KP−104」、「KP−110」、「KP−112」(以上、信越化学工業(株)製);商品名「LP−7001」、「LP−7002」、「8032 ADDITIVE」、「57 ADDITIVE」、「L−7604」、「FZ−2110」、「FZ−2105」、「67 ADDITIVE」、「8618 ADDITIVE」、「3 ADDITIVE」、「56 ADDITIVE」(以上、東レ・ダウコーニング(株)製)などの市販品を使用することができる。
(Silicone leveling agent)
The silicone leveling agent is a leveling agent containing a compound having a polysiloxane skeleton. As the silicone leveling agent, known or conventional silicone leveling agents can be used, and are not particularly limited. For example, trade names “BYK-300”, “BYK-301 / 302”, “BYK-306”, “ BYK-307 "," BYK-310 "," BYK-315 "," BYK-313 "," BYK-320 "," BYK-322 "," BYK-323 "," BYK-325 "," BYK- " 330 "," BYK-331 "," BYK-333 "," BYK-337 "," BYK-341 "," BYK-344 "," BYK-345 / 346 "," BYK-347 "," BYK- " 348 "," BYK-349 "," BYK-370 "," BYK-375 "," BYK-377 "," BYK-378 "," BYK-UV3500 "," YK-UV3510 ”,“ BYK-UV3570 ”,“ BYK-3550 ”,“ BYK-SILCLEAN3700 ”,“ BYK-SILCLEAN3720 ”(manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.); trade names“ AC FS 180 ”,“ AC "FS 360", "AC S 20" (manufactured by Algin Chemie); trade names "Polyflow KL-400X", "Polyflow KL-400HF", "Polyflow KL-401", "Polyflow KL-402", "Polyflow KL" -403 "," Polyflow KL-404 "(manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.); trade names" KP-323 "," KP-326 "," KP-341 "," KP-104 "," KP- 110 ”,“ KP-112 ”(manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.); trade name“ LP-7001 ”, LP-7002 ”,“ 8032 ADDIIVE ”,“ 57 ADDIIVE ”,“ L-7604 ”,“ FZ-2110 ”,“ FZ-2105 ”,“ 67 ADDITION ”,“ 8618 ADDIIVE ”,“ 3 ADDITIVE ”,“ 56 Commercial products such as “ADDITIVE” (made by Toray Dow Corning Co., Ltd.) can be used.

上記ポリシロキサン骨格を有する化合物としては、特に、下記式(2)で表される構造単位(繰り返し構造単位)を少なくとも有するシリコーン系重合体(以下、「シリコーン系重合体(C1)」と称する場合がある)が好ましい。即ち、上記シリコーン系レベリング剤は、シリコーン系重合体(C1)を少なくとも含むレベリング剤であることが好ましい。

Figure 0006046497
As the compound having a polysiloxane skeleton, in particular, a silicone polymer having at least a structural unit (repeating structural unit) represented by the following formula (2) (hereinafter referred to as “silicone polymer (C1)”) Is preferred). In other words, the silicone leveling agent is preferably a leveling agent containing at least the silicone polymer (C1).
Figure 0006046497

上記式(2)中のR3は、置換基を有していてもよい直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。上記直鎖又は分岐鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基(n−ブチル基)、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基などの炭素数1〜30の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。 R 3 in the above formula (2) represents a linear or branched alkyl group which may have a substituent. Examples of the linear or branched alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group (n-butyl group), an isobutyl group, a s-butyl group, a t-butyl group, and pentyl. C1-C30 linear or branched alkyl groups, such as group, are mentioned.

上記R3において、直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が有していてもよい置換基としては、特に限定されないが、例えば、保護基で保護されていてもよいヒドロキシル基[例えば、ヒドロキシル基、置換オキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基)等]、保護基で保護されていてもよいカルボキシル基[例えば、−COORa基等:Raは、水素原子又はアルキル基を示し、該アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる]、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、プロペニル基、エポキシ基、グリシジル基などが挙げられる。 In R 3 , the substituent that the linear or branched alkyl group may have is not particularly limited. For example, a hydroxyl group that may be protected with a protecting group [for example, a hydroxyl group, A substituted oxy group (for example, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group)], a carboxyl group that may be protected with a protecting group [for example, a —COOR a group, etc .: R a Represents a hydrogen atom or an alkyl group, and examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a s-butyl group, a t-butyl group, and a hexyl group. A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms], acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyl , Propenyl group, an epoxy group, such as glycidyl groups.

上記式(2)中のR4は、置換基を有していてもよい直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、ポリエーテル鎖を含む有機基、又はポリエスエル鎖を含む有機基を示す。上記R4における直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基(n−ブチル基)、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基などの炭素数1〜30の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。また、上記アラルキル基としては、特に限定されないが、例えば、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、メチルフェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基などが挙げられる。 R 4 in the above formula (2) is a linear or branched alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, an organic group containing a polyether chain, Or the organic group containing a polyester chain | strand is shown. Examples of the linear or branched alkyl group represented by R 4, is not particularly limited, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, butyl group (n- butyl group), an isobutyl group, s- butyl C1-C30 linear or branched alkyl groups, such as a group, t-butyl group, and pentyl group. The aralkyl group is not particularly limited, and examples thereof include a benzyl group, a methylbenzyl group, a phenethyl group, a methylphenethyl group, a phenylpropyl group, and a naphthylmethyl group.

上記R4において、直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が有していてもよい置換基、アラルキル基が有していてもよい置換基としては、特に限定されないが、例えば、上述のR3において例示した置換基などが挙げられる。 In R 4 , the substituent that the linear or branched alkyl group may have and the substituent that the aralkyl group may have are not particularly limited. For example, in R 3 described above, Examples thereof include the exemplified substituents.

上記R4におけるポリエーテル鎖を含む有機基とは、ポリエーテル構造を少なくとも含む1価の有機基である。上記ポリエーテル鎖を含む有機基におけるポリエーテル構造としては、エーテル結合を複数有する構造であればよく、特に限定されないが、例えば、ポリエチレングリコール構造(ポリエチレンオキサイド構造)、ポリプロピレングリコール構造(ポリプロピレンオキサイド構造)、ポリブチレングリコール(ポリテトラメチレングリコール)構造、複数種のアルキレングリコール(又はアルキレンオキサイド)に由来するポリエーテル構造(例えば、ポリ(プロピレングリコール/エチレングリコール)構造など)等のポリオキシアルキレン構造が挙げられる。なお、複数種のアルキレングリコールに由来するポリエーテル構造における、それぞれのアルキレングリコールの付加形態は、ブロック型(ブロック共重合型)であってもよいし、ランダム型(ランダム共重合型)であってもよい。 The organic group containing a polyether chain in R 4 is a monovalent organic group containing at least a polyether structure. The polyether structure in the organic group containing a polyether chain is not particularly limited as long as it has a structure having a plurality of ether bonds. For example, polyethylene glycol structure (polyethylene oxide structure), polypropylene glycol structure (polypropylene oxide structure) And polyoxyalkylene structures such as polybutylene glycol (polytetramethylene glycol) structures and polyether structures derived from multiple types of alkylene glycol (or alkylene oxide) (for example, poly (propylene glycol / ethylene glycol) structures). It is done. In addition, the addition form of each alkylene glycol in the polyether structure derived from a plurality of types of alkylene glycols may be a block type (block copolymer type) or a random type (random copolymer type). Also good.

上記ポリエーテル鎖を含む有機基は、上記ポリエーテル構造のみからなる有機基であってもよいし、上記ポリエーテル構造の1又は2以上と、1又は2以上の連結基(1以上の原子を有する2価の基)とが連結した構造を有する有機基であってもよい。上記ポリエーテル鎖を含む有機基における連結基としては、例えば、2価の炭化水素基(特に、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基)、チオエーテル基(−S−)、エステル基(−COO−)、アミド基(−CONH−)、カルボニル基(−CO−)、カーボネート基(−OCOO−)、これらが2以上結合した基などが挙げられる。   The organic group containing the polyether chain may be an organic group consisting only of the polyether structure, or one or two or more of the polyether structure and one or two or more linking groups (one or more atoms may be bonded). It may be an organic group having a structure in which a divalent group) is linked. Examples of the linking group in the organic group containing a polyether chain include, for example, a divalent hydrocarbon group (particularly, a linear or branched alkylene group), a thioether group (—S—), an ester group (—COO—). ), An amide group (—CONH—), a carbonyl group (—CO—), a carbonate group (—OCOO—), a group in which two or more of these are bonded, and the like.

なお、上記ポリエーテル鎖を含む有機基は、上述のR3において例示した置換基(例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、プロペニル基など)を有していてもよく、例えば、このようなポリエーテル構造を含む有機基として、末端(式(2)におけるケイ素原子に対する反対側の端部)に上記置換基を有する有機基などが挙げられる。 In addition, the organic group containing the polyether chain is the substituent exemplified in the above R 3 (for example, hydroxyl group, carboxyl group, acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyl group, propenyl group, etc. For example, as an organic group containing such a polyether structure, an organic group having the above substituent at the terminal (end on the opposite side to the silicon atom in the formula (2)) may be mentioned. It is done.

上記R4におけるポリエステル鎖を含む有機基とは、ポリエステル構造を少なくとも含む一価の有機基である。上記ポリエステル鎖を含む有機基におけるポリエステル構造としては、エステル結合を複数有する構造であればよく、特に限定されないが、例えば、脂肪族ポリエステル構造、脂環族ポリエステル構造、芳香族ポリエステル構造などが挙げられる。 The organic group containing a polyester chain in R 4 is a monovalent organic group containing at least a polyester structure. The polyester structure in the organic group containing a polyester chain is not particularly limited as long as it has a structure having a plurality of ester bonds, and examples thereof include an aliphatic polyester structure, an alicyclic polyester structure, and an aromatic polyester structure. .

上記ポリエステル構造としては、より具体的には、例えば、ポリカルボン酸(特に、ジカルボン酸)とポリオール(特に、ジオール)の重合により形成されるポリエステル構造が挙げられる。上記ポリカルボン酸としては、特に限定されないが、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸(酸無水物やエステル等の誘導体も含む);アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸等の脂肪族ジカルボン酸(酸無水物やエステル等の誘導体も含む);1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、4−メチル−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、ハイミック酸、1,4−デカヒドロナフタレンジカルボン酸、1,5−デカヒドロナフタレンジカルボン酸、2,6−デカヒドロナフタレンジカルボン酸、2,7−デカヒドロナフタレンジカルボン酸などの脂環構造を有するジカルボン酸(酸無水物やエステル等の誘導体も含む)等が挙げられる。上記ポリオールとしては、特に限定されないが、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール(テトラメチレングリコール)、ネオペンチルグリコール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,6−ヘキサンジオール、2−エチル−1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,6−ヘキサンジオール、3−メチルペンタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ヘキシレングリコール(2−メチルペンタン−2,4−ジオール)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,5−ペンタンジオール、2,3,5−トリメチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、1,8−オクタンジオール、1,12−ドデカンジオール、キシリレングリコール、1,3−ジヒドロキシアセトン、ポリブタジエンジオール、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物などのジオール(これらの誘導体も含む);1,2−シクロペンタンジオール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2−シクロペンタンジメタノール、1,3−シクロペンタンジメタノール、ビス(ヒドロキシメチル)トリシクロ[5.2.1.0]デカン等の5員環ジオール、1,2−シクロヘキサンジオール、1,3−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,2−シクロヘキサンジメタノール(1,2−ジメチロールシクロヘキサン)、1,3−シクロヘキサンジメタノール(1,3−ジメチロールシクロヘキサン)、1,4−シクロヘキサンジメタノール(1,4−ジメチロールシクロヘキサン)、2,2−ビス−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパン等の6員環ジオール、水素添加ビスフェノールAなどの脂環構造を有するジオール(これらの誘導体も含む)、グリセリン、トリメチロールプロパン、1,2,6−ヘキサントリオール、ジトリメチロールプロパン、マンニトール、ソルビトール、ペンタエリスリトール等の3以上の水酸基を有するポリオール(これらの誘導体も含む)等が挙げられる。上記ポリエステル構造は、それぞれ単独のポリオール、ポリカルボン酸より形成されたものであってもよいし、それぞれ2種以上のポリオール、ポリカルボン酸より形成されたものであってもよい。   More specifically, examples of the polyester structure include a polyester structure formed by polymerization of polycarboxylic acid (particularly dicarboxylic acid) and polyol (particularly diol). The polycarboxylic acid is not particularly limited, and examples thereof include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid and naphthalenedicarboxylic acid (including derivatives such as acid anhydrides and esters); adipic acid and sebacic acid Aliphatic dicarboxylic acids such as azelaic acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid (including derivatives such as acid anhydrides and esters); 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4 -Cyclohexanedicarboxylic acid, 4-methyl-1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, highmic acid, 1,4-decahydronaphthalenedicarboxylic acid, 1,5-decahydronaphthalenedicarboxylic acid, 2,6-decahydronaphthalenedicarboxylic acid, Has an alicyclic structure such as 2,7-decahydronaphthalenedicarboxylic acid A carboxylic acid (including derivatives such as acid anhydrides and esters). Examples of the polyol include, but are not limited to, ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1,4- Butanediol (tetramethylene glycol), neopentyl glycol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2,6-hexanediol, 2-ethyl-1,6-hexanediol, 2,2,4- Trimethyl-1,6-hexanediol, 3-methylpentanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, hexylene glycol (2-methylpentane-2,4-diol), 3-methyl-1,5-pentanediol, 2- Methyl-1,5-pentanediol, 2,3,5-trime 1,5-pentanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1, Diols (including their derivatives) such as 8-octanediol, 1,12-dodecanediol, xylylene glycol, 1,3-dihydroxyacetone, polybutadienediol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct of bisphenol A ); 1,2-cyclopentanediol, 1,3-cyclopentanediol, 1,2-cyclopentanedimethanol, 1,3-cyclopentanedimethanol, bis (hydroxymethyl) tricyclo [5.2.1.0] ] 5-membered ring diol such as decane, 1,2-cyclohexanediol 1,3-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,2-cyclohexanedimethanol (1,2-dimethylolcyclohexane), 1,3-cyclohexanedimethanol (1,3-dimethylolcyclohexane), 1, Diols having an alicyclic structure such as 4-membered diol such as 4-cyclohexanedimethanol (1,4-dimethylolcyclohexane), 2,2-bis- (4-hydroxycyclohexyl) propane, and hydrogenated bisphenol A (these Derivatives), polyols having three or more hydroxyl groups such as glycerin, trimethylolpropane, 1,2,6-hexanetriol, ditrimethylolpropane, mannitol, sorbitol, pentaerythritol (including these derivatives), and the like. . Each of the polyester structures may be formed from a single polyol or polycarboxylic acid, or may be formed from two or more polyols or polycarboxylic acids.

また、上記ポリエステル構造としては、例えば、ヒドロキシカルボン酸の重合により形成されるポリエステル構造、該ヒドロキシカルボン酸の環状エステルであるラクトンの重合(開環重合)により形成されるポリエステル構造なども挙げられる。上記ヒドロキシカルボン酸としては、特に限定されないが、例えば、p−ヒドロキシ安息香酸、m−ヒドロキシ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸(サリチル酸)、3−メトキシ−4−ヒドロキシ安息香酸(バニリン酸)、4−メトキシ−3−ヒドロキシ安息香酸(イソバニリン酸)、3、5−ジメトキシ−4−ヒドロキシ安息香酸(シリンガ酸)、2,6−ジメトキシ−4−ヒドロキシ安息香酸、3−メチル−4−ヒドロキシ安息香酸、4−メチル−3−ヒドロキシ安息香酸、3−フェニル−4−ヒドロキシ安息香酸、4−フェニル−3−ヒドロキシ安息香酸、2−フェニル−4−ヒドロキシ安息香酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3,4−ジヒドロキシケイ皮酸(コーヒー酸)、(E)−3−(4−ヒドロキシ−3−メトキシ−フェニル)プロパン−2−エノール酸(フェルラ酸)、3−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロペノン酸(クマル酸)などのヒドロキシ芳香族カルボン酸;グリコール酸、乳酸、酒石酸、クエン酸等のヒドロキシ脂肪族カルボン酸等が挙げられる。上記ラクトンとしては、特に限定されないが、例えば、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、ξ−エナントラクトン、η−カプリロラクトン等が挙げられる。上記ポリエステル構造は、それぞれ単独のヒドロキシカルボン酸、ラクトンより形成されたものであってもよいし、それぞれ2種以上のヒドロキシカルボン酸、ラクトンより形成されたものであってもよい。   Examples of the polyester structure include a polyester structure formed by polymerization of hydroxycarboxylic acid and a polyester structure formed by polymerization (ring-opening polymerization) of a lactone that is a cyclic ester of the hydroxycarboxylic acid. The hydroxycarboxylic acid is not particularly limited. For example, p-hydroxybenzoic acid, m-hydroxybenzoic acid, o-hydroxybenzoic acid (salicylic acid), 3-methoxy-4-hydroxybenzoic acid (vanillic acid), 4 -Methoxy-3-hydroxybenzoic acid (isovanillic acid), 3,5-dimethoxy-4-hydroxybenzoic acid (syringic acid), 2,6-dimethoxy-4-hydroxybenzoic acid, 3-methyl-4-hydroxybenzoic acid 4-methyl-3-hydroxybenzoic acid, 3-phenyl-4-hydroxybenzoic acid, 4-phenyl-3-hydroxybenzoic acid, 2-phenyl-4-hydroxybenzoic acid, 6-hydroxy-2-naphthoic acid, 3,4-dihydroxycinnamic acid (caffeic acid), (E) -3- (4-hydroxy-3-methoxy-phenyl) Nyl) propane-2-enolic acid (ferulic acid), hydroxy aromatic carboxylic acids such as 3- (4-hydroxyphenyl) -2-propenonic acid (coumaric acid); hydroxy such as glycolic acid, lactic acid, tartaric acid, citric acid Aliphatic carboxylic acid etc. are mentioned. Although it does not specifically limit as said lactone, For example, (gamma) -butyrolactone, (delta) -valerolactone, (epsilon) -caprolactone, (xi) -enanthlactone, (eta) -caprolactone, etc. are mentioned. The polyester structure may be formed from a single hydroxycarboxylic acid or lactone, or may be formed from two or more hydroxycarboxylic acids or lactones.

なお、上記ポリエステル構造は、上記例示の構造に限定されず、例えば、上述のポリカルボン酸とポリオールの重合により形成されるポリエステル構造、ヒドロキシカルボン酸の重合により形成されるポリエステル構造、ラクトンの重合により形成されるポリエステル構造の2種以上が組み合わされた構造であってもよい。   The polyester structure is not limited to the structure exemplified above. For example, the polyester structure formed by polymerization of the above polycarboxylic acid and polyol, the polyester structure formed by polymerization of hydroxycarboxylic acid, and the polymerization of lactone. A structure in which two or more of the formed polyester structures are combined may be used.

上記ポリエステル鎖を含む有機基は、上記ポリエステル構造のみからなる有機基であってもよいし、上記ポリエステル構造の1又は2以上と、1又は2以上の連結基とが連結した構造を有する有機基であってもよい。上記ポリエステル鎖を含む有機基における連結基としては、例えば、2価の炭化水素基(特に、直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基)、チオエーテル基(−S−)、エステル基(−COO−)、アミド基(−CONH−)、カルボニル基(−CO−)、カーボネート基(−OCOO−)、これらが2以上結合した基などが挙げられる。   The organic group containing the polyester chain may be an organic group consisting only of the polyester structure, or an organic group having a structure in which one or two or more of the polyester structures and one or two or more connecting groups are connected. It may be. Examples of the linking group in the organic group containing a polyester chain include a divalent hydrocarbon group (particularly, a linear or branched alkylene group), a thioether group (—S—), and an ester group (—COO—). Amide group (—CONH—), carbonyl group (—CO—), carbonate group (—OCOO—), a group in which two or more of these are bonded, and the like.

なお、上記ポリエステル鎖を含む有機基は、上述のR3において例示した置換基(例えば、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、プロペニル基など)を有していてもよく、例えば、このようなポリエステル構造を含む有機基として、末端(式(2)におけるケイ素原子に対する反対側の端部)に上記置換基を有する有機基などが挙げられる。 The organic group containing the polyester chain is the substituent exemplified in the above R 3 (for example, hydroxyl group, carboxyl group, acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyl group, propenyl group, etc.) For example, examples of the organic group including such a polyester structure include an organic group having the above substituent at the terminal (end on the opposite side to the silicon atom in Formula (2)).

上記シリコーン系重合体(C1)は、繰り返し構造単位として、式(2)で表される構造単位のみを有する重合体であってもよいし、式(2)で表される構造単位以外の構造単位を有する重合体であってもよい。上記シリコーン系重合体における、式(2)で表される構造単位以外の構造単位は、特に限定されないが、例えば、ヒドロシリル基(Si−H)を有する構造単位などが挙げられる。また、上記シリコーン系重合体(C1)は、式(2)で表される構造単位を1種のみ有する重合体であってもよいし、式(2)で表される構造単位を2種以上有する重合体であってもよい。また、式(2)で表される構造単位以外の構造単位を2種以上有する重合体であってもよい。   The silicone polymer (C1) may be a polymer having only a structural unit represented by the formula (2) as a repeating structural unit, or a structure other than the structural unit represented by the formula (2). It may be a polymer having units. The structural unit other than the structural unit represented by the formula (2) in the silicone polymer is not particularly limited, and examples thereof include a structural unit having a hydrosilyl group (Si—H). The silicone polymer (C1) may be a polymer having only one type of structural unit represented by the formula (2), or two or more types of structural units represented by the formula (2). It may be a polymer. Moreover, the polymer which has 2 or more types of structural units other than the structural unit represented by Formula (2) may be sufficient.

上記シリコーン系重合体(C1)の具体例としては、例えば、下記式(2a)〜(2e)で表される重合体(ポリジメチルシロキサン又は変性ポリジメチルシロキサン)などが挙げられる。

Figure 0006046497
Specific examples of the silicone polymer (C1) include polymers represented by the following formulas (2a) to (2e) (polydimethylsiloxane or modified polydimethylsiloxane).
Figure 0006046497

上記式(2a)で表されるシリコーン系重合体(C1)は、ポリジメチルシロキサンである。式(2a)におけるx1(ジメチルシリルオキシ構造単位[−Si(CH32−O−]の繰り返し数)は、特に限定されないが、2〜3000が好ましく、より好ましくは3〜1500である。 The silicone polymer (C1) represented by the above formula (2a) is polydimethylsiloxane. The x1 (the number of repeating dimethylsilyloxy structural units [—Si (CH 3 ) 2 —O—]) in the formula (2a) is not particularly limited, but preferably 2 to 3000, more preferably 3 to 1500.

上記式(2b)で表されるシリコーン系重合体(C1)は、ポリジメチルシロキサンの側鎖にポリエーテル構造を導入した、ポリジメチルシロキサンのポリエーテル変性体である。式(2b)におけるR7は、水素原子又はメチル基を示す。また、R8は、水素原子、又は置換基を有していてもよい直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。なお、R8における置換基としては、上述のR3において例示した置換基が挙げられる。式(2b)におけるq1(メチレン構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、例えば、1〜30の範囲から適宜選択することができる。また、r1(オキシエチレン構造単位又はオキシプロピレン構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、例えば、2〜3000の範囲から適宜選択することができる。また、式(2b)におけるy1(ポリエーテル構造(ポリエーテル側鎖)を含む構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、1〜3000が好ましく、より好ましくは3〜1500である。さらに、x2(ジメチルシリルオキシ構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、2〜3000が好ましく、より好ましくは3〜1500である。なお、式(2b)で表されるシリコーン系重合体(C1)における、ポリエーテル構造を有する構造単位とジメチルシリルオキシ構造単位の付加形態は、ブロック型であってもよいし、ランダム型であってもよい。また、y1が2以上の整数である場合、y1が付された括弧で囲まれたポリエーテル構造を有する構造単位は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。 The silicone-based polymer (C1) represented by the above formula (2b) is a polydimethylsiloxane modified polyether in which a polyether structure is introduced into the side chain of the polydimethylsiloxane. R 7 in formula (2b) represents a hydrogen atom or a methyl group. R 8 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group which may have a substituent. In addition, as a substituent in R < 8 >, the substituent illustrated in the above-mentioned R < 3 > is mentioned. Although q1 (the number of repeating methylene structural units) in the formula (2b) is not particularly limited, for example, it can be appropriately selected from the range of 1-30. Moreover, r1 (the number of repeating oxyethylene structural units or oxypropylene structural units) is not particularly limited, but can be appropriately selected from a range of 2 to 3000, for example. Moreover, although y1 (The repeating number of the structural unit containing a polyether structure (polyether side chain)) in Formula (2b) is not specifically limited, 1-3000 are preferable, More preferably, it is 3-1500. Furthermore, x2 (the number of repeating dimethylsilyloxy structural units) is not particularly limited, but is preferably 2 to 3000, and more preferably 3 to 1500. The addition form of the structural unit having a polyether structure and the dimethylsilyloxy structural unit in the silicone polymer (C1) represented by the formula (2b) may be a block type or a random type. May be. Moreover, when y1 is an integer greater than or equal to 2, the structural unit which has the polyether structure enclosed by the parenthesis to which y1 was attached | subjected may be the same respectively, and may differ.

上記式(2c)で表されるシリコーン系重合体(C1)は、ポリジメチルシロキサンの側鎖にメチル基よりも長鎖のアルキル基を導入した、ポリジメチルシロキサンの長鎖アルキル変性体(ポリメチルアルキルシロキサン)である。式(2c)におけるR9は、炭素数2以上の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。式(2c)におけるy2(メチルアルキルシリルオキシ構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、2〜3000が好ましく、より好ましくは3〜1500である。また、x3(ジメチルシリルオキシ構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、0〜3000が好ましく、より好ましくは2〜1500である。なお、式(2c)で表されるシリコーン系重合体(C1)における、メチルアルキルシリルオキシ構造単位とジメチルシリルオキシ構造単位の付加形態は、ブロック型であってもよいし、ランダム型であってもよい。また、y2が付された括弧で囲まれたメチルアルキルシリルオキシ構造単位は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。 The silicone polymer (C1) represented by the above formula (2c) is a polydimethylsiloxane long-chain alkyl-modified product (polymethylsiloxane) in which a side chain of polydimethylsiloxane is introduced with an alkyl group that is longer than a methyl group. Alkylsiloxane). R 9 in the formula (2c) represents a linear or branched alkyl group having 2 or more carbon atoms. Y2 (the number of repeating methylalkylsilyloxy structural units) in the formula (2c) is not particularly limited, but is preferably 2 to 3000, more preferably 3 to 1500. Further, x3 (the number of repeating dimethylsilyloxy structural units) is not particularly limited, but is preferably 0 to 3000, and more preferably 2 to 1500. In addition, the addition form of the methylalkylsilyloxy structural unit and the dimethylsilyloxy structural unit in the silicone-based polymer (C1) represented by the formula (2c) may be a block type or a random type. Also good. In addition, the methylalkylsilyloxy structural units surrounded by parentheses with y2 may be the same or different.

上記式(2d)で表されるシリコーン系重合体(C1)は、ポリジメチルシロキサンの側鎖にアラルキル基を導入した、ポリジメチルシロキサンのアラルキル変性体である。式(2d)におけるq2(メチレン構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、例えば、1〜30の範囲から適宜選択することができる。また、y3(メチルアラルキルシリルオキシ構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、2〜3000が好ましく、より好ましくは3〜1500である。また、x4(ジメチルシリルオキシ構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、0〜3000が好ましく、より好ましくは2〜1500である。なお、式(2d)で表されるシリコーン系重合体(C1)における、メチルアラルキルシリルオキシ構造単位とジメチルシリルオキシ構造単位の付加形態は、ブロック型であってもよいし、ランダム型であってもよい。また、y3が付された括弧で囲まれたメチルアラルキルシリルオキシ構造単位は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。   The silicone polymer (C1) represented by the above formula (2d) is an aralkyl modified product of polydimethylsiloxane in which an aralkyl group is introduced into the side chain of polydimethylsiloxane. Although q2 (the number of repeating methylene structural units) in the formula (2d) is not particularly limited, for example, it can be appropriately selected from the range of 1-30. Further, y3 (the number of repeating methylaralkylsilyloxy structural units) is not particularly limited, but is preferably 2 to 3000, and more preferably 3 to 1500. Further, x4 (the number of repeating dimethylsilyloxy structural units) is not particularly limited, but is preferably 0 to 3000, and more preferably 2 to 1500. The addition form of the methylaralkylsilyloxy structural unit and the dimethylsilyloxy structural unit in the silicone-based polymer (C1) represented by the formula (2d) may be a block type or a random type. Also good. The methylaralkylsilyloxy structural units enclosed in parentheses with y3 may be the same or different.

上記式(2e)で表されるシリコーン系重合体(C1)は、ポリジメチルシロキサンの側鎖にポリエステル構造を導入した、ポリジメチルシロキサンのポリエステル変性体である。式(2e)におけるR10及びR11は、同一又は異なって、2価の有機基(例えば、2価の炭化水素基など)を示す。また、R12は、水素原子、又は置換基を有していてもよい直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。なお、R12における置換基としては、上述のR3において例示した置換基が挙げられる。式(2e)におけるq3(メチレン構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、例えば、1〜30の範囲から適宜選択することができる。また、r2(ポリオールとポリカルボン酸の縮合構造の繰り返し数)は、特に限定されないが、例えば、2〜3000の範囲から適宜選択することができる。また、式(2e)におけるy4(ポリエステル構造(ポリエステル側鎖)を含む構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、1〜3000が好ましく、より好ましくは3〜1500である。さらに、x5(ジメチルシリルオキシ構造単位の繰り返し数)は、特に限定されないが、2〜3000が好ましく、より好ましくは3〜1500である。なお、式(2e)で表されるシリコーン系重合体(C1)における、ポリエステル構造を有する構造単位とジメチルシリルオキシ構造単位の付加形態は、ブロック型であってもよいし、ランダム型であってもよい。また、y4が2以上の整数の場合、y4が付された括弧で囲まれたポリエステル構造を含む構造単位は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。 The silicone-based polymer (C1) represented by the above formula (2e) is a polyester modified body of polydimethylsiloxane in which a polyester structure is introduced into the side chain of polydimethylsiloxane. R 10 and R 11 in formula (2e) are the same or different and represent a divalent organic group (for example, a divalent hydrocarbon group). R 12 represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group which may have a substituent. As the substituent in R 12, include the substituents exemplified in R 3 above. Although q3 (the number of repeating methylene structural units) in formula (2e) is not particularly limited, it can be appropriately selected from the range of 1 to 30, for example. Moreover, r2 (the repeating number of the condensation structure of a polyol and polycarboxylic acid) is not particularly limited, but can be appropriately selected from a range of 2 to 3000, for example. Moreover, although y4 (The repeating number of the structural unit containing a polyester structure (polyester side chain)) in Formula (2e) is not specifically limited, 1-3000 are preferable, More preferably, it is 3-1500. Furthermore, x5 (the number of repeating dimethylsilyloxy structural units) is not particularly limited, but is preferably 2 to 3000, and more preferably 3 to 1500. In addition, in the silicone polymer (C1) represented by the formula (2e), the addition form of the structural unit having a polyester structure and the dimethylsilyloxy structural unit may be a block type or a random type. Also good. Moreover, when y4 is an integer greater than or equal to 2, the structural unit containing the polyester structure enclosed by the parenthesis to which y4 was attached | subjected may be the same respectively, and may differ.

上記シリコーン系重合体(C1)は、公知乃至慣用の製造方法により得ることができ、その製造方法は特に限定されないが、例えば、式(2)で表される構造単位に対応する構造を有するモノマーを重合させる方法や、側鎖に反応性基を有するシリコーン系重合体(側鎖に反応性基を有するポリジメチルシロキサン等)の該反応性基に対して、所定の構造を有する化合物(例えば、ポリエーテル構造やポリエステル構造を有する化合物)を反応させて結合させる方法などによって、製造することができる。また、上記シリコーン系重合体(C1)としては、市販品を使用することもできる。   The silicone polymer (C1) can be obtained by a known or conventional production method, and the production method is not particularly limited. For example, the monomer having a structure corresponding to the structural unit represented by the formula (2) Or a compound having a predetermined structure with respect to the reactive group of a silicone polymer having a reactive group in the side chain (such as polydimethylsiloxane having a reactive group in the side chain) (for example, A compound having a polyether structure or a polyester structure) can be produced by a method of reacting and bonding them. Moreover, a commercial item can also be used as said silicone type polymer (C1).

(フッ素系レベリング剤)
上記フッ素系レベリング剤とは、アルキル基の水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたフッ素化アルキル基を有する化合物を含むレベリング剤である。上記フッ素系レベリング剤としては、公知乃至慣用のフッ素系レベリング剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、商品名「BYK−340」(ビックケミー・ジャパン(株)製);商品名「AC 110a」、「AC 100a」(以上、Algin Chemie製);商品名「メガファックF−114」、「メガファックF−410」、「メガファックF−444」、「メガファックEXP TP−2066」、「メガファックF−430」、「メガファックF−472SF」、「メガファックF−477」、「メガファックF−552」、「メガファックF−553」、「メガファックF−554」、「メガファックF−555」、「メガファックR−94」、「メガファックRS−72−K」、「メガファックRS−75」、「メガファックF−556」、「メガファックEXP TF−1367」、「メガファックEXP TF−1437」、「メガファックF−558」、「メガファックEXP TF−1537」(以上、DIC(株)製);商品名「FC−4430」、「FC−4432」(以上、住友スリーエム(株)製);商品名「フタージェント 100」、「フタージェント 100C」、「フタージェント 110」、「フタージェント 150」、「フタージェント 150CH」、「フタージェント A−K」、「フタージェント 501」、「フタージェント 250」、「フタージェント 251」、「フタージェント 222F」、「フタージェント 208G」、「フタージェント 300」、「フタージェント 310」、「フタージェント 400SW」(以上、(株)ネオス製);商品名「PF−136A」、「PF−156A」、「PF−151N」、「PF−636」、「PF−6320」、「PF−656」、「PF−6520」、「PF−651」、「PF−652」(以上、北村化学産業(株)製)などの市販品を使用することもできる。
(Fluorine leveling agent)
The fluorine-based leveling agent is a leveling agent containing a compound having a fluorinated alkyl group in which some or all of the hydrogen atoms of the alkyl group are substituted with fluorine atoms. The fluorine-based leveling agent may be a known or commonly used fluorine-based leveling agent, and is not particularly limited. For example, a trade name “BYK-340” (manufactured by BYK Japan Japan Co., Ltd.); a trade name “AC 110a” "AC 100a" (manufactured by Algin Chemie); trade names "Megafuck F-114", "Megafuck F-410", "Megafuck F-444", "Megafuck EXP TP-2066", "Mega Fuck F-430, Mega Fuck F-472SF, Mega Fuck F-477, Mega Fuck F-552, Mega Fuck F-553, Mega Fuck F-554, Mega Fuck F -555 "," Megafuck R-94 "," Megafuck RS-72-K "," Megafuck RS-75 "," Mega "Fuck F-556", "Mega Fuck EXP TF-1367", "Mega Fuck EXP TF-1437", "Mega Fuck F-558", "Mega Fuck EXP TF-1537" (manufactured by DIC Corporation); Trade names “FC-4430”, “FC-4432” (manufactured by Sumitomo 3M Limited); trade names “Furgent 100”, “Furgent 100C”, “Furgent 110”, “Furgent 150”, "Factent 150CH", "Factent AK", "Factent 501", "Factent 250", "Factent 251", "Factent 222F", "Factent 208G", "Factent 300", "Furgent 310", "Furgent 400SW" (above Product name “PF-136A”, “PF-156A”, “PF-151N”, “PF-636”, “PF-6320”, “PF-656”, “PF-6520” , “PF-651”, “PF-652” (above, manufactured by Kitamura Chemical Sangyo Co., Ltd.) can also be used.

上記フッ素化アルキル基を有する化合物としては、特に、下記式(3)で表される構造単位(繰り返し構造単位)を少なくとも有する含フッ素アクリル系重合体(以下、「含フッ素アクリル系重合体(C2)」と称する場合がある)、又は下記式(4)で表される構造単位(繰り返し構造単位)を少なくとも有する含フッ素ポリエーテル系重合体(以下、「含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)」と称する場合がある)が好ましい。即ち、上記フッ素系レベリング剤は、含フッ素アクリル系重合体(C2)を少なくとも含むレベリング剤、又は、含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)を少なくとも含むレベリング剤であることが好ましい。

Figure 0006046497
Figure 0006046497
As the compound having a fluorinated alkyl group, in particular, a fluorinated acrylic polymer (hereinafter referred to as “fluorinated acrylic polymer (C2) having at least a structural unit (repeating structural unit) represented by the following formula (3)”: ) ”Or a fluorine-containing polyether polymer having at least a structural unit (repeating structural unit) represented by the following formula (4) (hereinafter referred to as“ fluorine-containing polyether polymer (C3) ”) Is sometimes preferred). That is, the fluorine leveling agent is preferably a leveling agent containing at least the fluorine-containing acrylic polymer (C2) or a leveling agent containing at least the fluorine-containing polyether polymer (C3).
Figure 0006046497
Figure 0006046497

上記式(3)中のR5は、水素原子、フッ素原子、又は、水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜4の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。上記炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。 R 5 in the above formula (3) is a hydrogen atom, a fluorine atom, or a linear or branched alkyl having 1 to 4 carbon atoms in which part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. Indicates a group. Examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an s-butyl group, and a t-butyl group.

上記式(3)中のR6は、フッ素化アルキル基(水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基)を示す。上記フッ素化アルキル基としては、特に限定されないが、例えば、ジフルオロメチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、パーフルオロエチルメチル基、2,2,3,3,4,4−ヘキサフルオロブチル基、1,1−ジメチル−2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基、1,1−ジメチル−2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2−(パーフルオロプロピル)エチル基、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル基、1,1−ジメチル−2,2,3,3,4,4−ヘキサフルオロブチル基、1,1−ジメチル−2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基、2−(パーフルオロブチル)エチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6−デカフルオロヘキシル基、パーフルオロペンチルメチル基、1,1−ジメチル−2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル基、1,1−ジメチル−2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基、2−(パーフルオロペンチル)エチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7−ドデカフルオロヘプチル基、パーフルオロヘキシルメチル基、2−(パーフルオロヘキシル)エチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8−テトラデカフルオロオクチル基、パーフルオロヘプチルメチル基、2−(パーフルオロヘプチル)エチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9−ヘキサデカフルオロノニル基、パーフルオロオクチルメチル基、2−(パーフルオロオクチル)エチル基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10−オクタデカフルオロデシル基、パーフルオロノニルメチル基、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブチル基、2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリドデカフルオロオクチル基などの水素原子の一部がフッ素原子で置換された炭素数1〜30の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基;トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−n−プロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、ノナフルオロ−n−ブチル基、ノナフルオロイソブチル基、ノナフルオロ−s−ブチル基、ノナフルオロ−t−ブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロノニル基、パーフルオロデシル基などの炭素数1〜30の直鎖又は分岐鎖状のパーフルオロアルキル基などが挙げられる。中でも、上記R6としては、パーフルオロアルキル基が好ましい。 R 6 in the above formula (3) represents a fluorinated alkyl group (an alkyl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms). The fluorinated alkyl group is not particularly limited, and examples thereof include a difluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, and a 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group. Perfluoroethylmethyl group, 2,2,3,3,4,4-hexafluorobutyl group, 1,1-dimethyl-2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, 1,1-dimethyl-2 , 2,3,3,3-pentafluoropropyl group, 2- (perfluoropropyl) ethyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentyl group, 1,1-dimethyl -2,2,3,3,4,4-hexafluorobutyl group, 1,1-dimethyl-2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl group, 2- (perfluorobutyl) Ethyl group, 2,2,3,3 4,4,5,5,6,6-decafluorohexyl group, perfluoropentylmethyl group, 1,1-dimethyl-2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentyl group, 1,1-dimethyl-2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, 2- (perfluoropentyl) ethyl group, 2,2,3,3,4,4 , 5,5,6,6,7,7-dodecafluoroheptyl group, perfluorohexylmethyl group, 2- (perfluorohexyl) ethyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5 6,6,7,7,8,8-tetradecafluorooctyl group, perfluoroheptylmethyl group, 2- (perfluoroheptyl) ethyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5 6,6,7,7,8,8,9,9-hexadecafluorononyl group, perf Orooctylmethyl group, 2- (perfluorooctyl) ethyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10 -Octadecafluorodecyl group, perfluorononylmethyl group, 2,2,3,4,4,4-hexafluorobutyl group, 2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl group, 3 , 3,4,4,5,5,6,6,6-nonafluorohexyl group, 3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridodeca A linear or branched alkyl group having 1 to 30 carbon atoms in which a part of hydrogen atoms such as a fluorooctyl group is substituted with a fluorine atom; a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, a heptafluoro-n-propyl group , Heptafluoroisopropyl group, nonafluoro-n-butyl group, nonaflu Carbon such as oroisobutyl group, nonafluoro-s-butyl group, nonafluoro-t-butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group, perfluoroheptyl group, perfluorooctyl group, perfluorononyl group, perfluorodecyl group Examples thereof include linear or branched perfluoroalkyl groups having a number of 1 to 30. Among these, as R 6 , a perfluoroalkyl group is preferable.

なお、上記含フッ素アクリル系重合体(C2)は、繰り返し構造単位として、式(3)で表される構造単位のみを有する重合体であってもよいし、式(3)で表される構造単位以外の構造単位を有する重合体であってもよい。また、上記含フッ素アクリル系重合体(C2)は、式(3)で表される構造単位を1種のみ有する重合体であってもよいし、式(3)で表される構造単位を2種以上有する重合体であってもよい。また、式(3)で表される構造単位以外の構造単位を2種以上有する重合体であってもよい。   The fluorine-containing acrylic polymer (C2) may be a polymer having only a structural unit represented by the formula (3) as a repeating structural unit, or a structure represented by the formula (3). It may be a polymer having a structural unit other than the unit. The fluorine-containing acrylic polymer (C2) may be a polymer having only one type of structural unit represented by the formula (3), or 2 structural units represented by the formula (3). It may be a polymer having more than one species. Moreover, the polymer which has 2 or more types of structural units other than the structural unit represented by Formula (3) may be sufficient.

上記含フッ素アクリル系重合体(C2)が有していてもよい、式(3)で表される構造単位以外の構造単位としては、特に限定されず、アクリル系重合体のモノマー成分(単量体成分)として公知乃至慣用のモノマーに由来する構造単位などが挙げられる。上記モノマーとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ペンチル等のアクリル酸エステル類(水酸基やカルボキシル基等の官能基を有するものも含む);メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル等のメタクリル酸エステル類(水酸基やカルボキシル基等の官能基を有するものも含む);アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド等のアクリルアミド類;メタクリルアミド等のメタクリルアミド類;アリル化合物;芳香族ビニル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類などのビニル化合物などが挙げられる。また、ポリアルキレングリコールエーテルとアクリル酸又はメタクリル酸とのエステルなども上記モノマーとして使用できる。   The structural unit other than the structural unit represented by the formula (3) that the fluorine-containing acrylic polymer (C2) may have is not particularly limited, and the monomer component of the acrylic polymer (single amount) Examples of the body component include structural units derived from known or commonly used monomers. Examples of the monomer include acrylic acid esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, and pentyl acrylate (including those having a functional group such as a hydroxyl group or a carboxyl group); methacrylic acid Methacrylic acid esters such as methyl, ethyl methacrylate, propyl methacrylate and butyl methacrylate (including those having functional groups such as hydroxyl and carboxyl groups); acrylamides such as acrylamide and N-methylacrylamide; methacrylamide and the like Examples include methacrylamides; allyl compounds; vinyl compounds such as aromatic vinyl compounds, vinyl ethers, and vinyl esters. Further, an ester of polyalkylene glycol ether and acrylic acid or methacrylic acid can also be used as the monomer.

上記含フッ素アクリル系重合体(C2)の具体例としては、例えば、下記式(3a)で表される含フッ素アクリル系重合体などが挙げられる。

Figure 0006046497
Specific examples of the fluorine-containing acrylic polymer (C2) include a fluorine-containing acrylic polymer represented by the following formula (3a).
Figure 0006046497

式(3a)におけるR13は、水素原子又はメチル基を示す。また、R14は、直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。上記直鎖又は分岐鎖状のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基(n−ブチル基)、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基などの炭素数1〜30の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。 R 13 in the formula (3a) represents a hydrogen atom or a methyl group. R 14 represents a linear or branched alkyl group. Although it does not specifically limit as said linear or branched alkyl group, For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group (n-butyl group), an isobutyl group, s-butyl group, t -C1-C30 linear or branched alkyl groups, such as a butyl group and a pentyl group, are mentioned.

式(3a)におけるR15は、水素原子又はメチル基を示す。また、R16は、パーフルオロアルキル基を示す。上記パーフルオロアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、上記式(3)におけるR6として例示したパーフルオロアルキル基等が挙げられる。 R 15 in the formula (3a) represents a hydrogen atom or a methyl group. R 16 represents a perfluoroalkyl group. Examples of the perfluoroalkyl group is not particularly limited, for example, perfluoroalkyl groups such as exemplified as R 6 in the formula (3) below.

式(3a)におけるR17は、水素原子又はメチル基を示す。また、R18は、ポリエーテル鎖を含む有機基を示す。上記ポリエーテル鎖を有する有機基としては、特に限定されないが、例えば、上記式(2)におけるR4として例示したもの等が挙げられる。 R 17 in formula (3a) represents a hydrogen atom or a methyl group. R 18 represents an organic group containing a polyether chain. The organic group having a polyether chain is not particularly limited, and examples thereof include those exemplified as R 4 in the above formula (2).

式(3a)におけるr、s、及びtは、それぞれ、1〜3000の整数を示す。   R, s, and t in Formula (3a) each represent an integer of 1 to 3000.

上記含フッ素アクリル系重合体(C2)は、公知乃至慣用の製造方法により得ることができ、その製造方法は特に限定されないが、例えば、重合することにより式(3)で表される構造単位を与えるモノマー(例えば、パーフルオロアルキルアクリレートやパーフルオロアルキルメタクリレートなど)を重合させる方法などによって製造することができる。また、上記含フッ素アクリル系重合体(C2)としては、市販品を使用することもできる。   The fluorine-containing acrylic polymer (C2) can be obtained by a known or conventional production method, and the production method is not particularly limited. For example, the structural unit represented by the formula (3) is obtained by polymerization. It can be produced by a method of polymerizing a monomer to be provided (for example, perfluoroalkyl acrylate or perfluoroalkyl methacrylate). Moreover, a commercial item can also be used as said fluorine-containing acrylic polymer (C2).

上記式(4)におけるR19は、3価の直鎖又は分岐鎖状の炭化水素基を示す。上記3価の直鎖又は分岐鎖状の炭化水素基としては、例えば、メタン、エタン、プロパン、n−ブタン、イソブタン、n−ペンタン、n−ヘキサン、2−メチルペンタン、3−メチルペンタン、ヘプタン、2−メチルヘプタン、3−メチルヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の直鎖又は分岐鎖状のアルカンから3個の水素原子を除いた基などが挙げられる。中でも、炭素数1〜10の直鎖又は分岐鎖状のアルカンから3個の水素原子を除いた基が好ましい。 R 19 in the above formula (4) represents a trivalent linear or branched hydrocarbon group. Examples of the trivalent linear or branched hydrocarbon group include methane, ethane, propane, n-butane, isobutane, n-pentane, n-hexane, 2-methylpentane, 3-methylpentane, and heptane. , Groups in which three hydrogen atoms have been removed from a linear or branched alkane such as 2-methylheptane, 3-methylheptane, octane, nonane and decane. Especially, the group remove | excluding three hydrogen atoms from a C1-C10 linear or branched alkane is preferable.

上記式(4)におけるR20は、フッ素化アルキル基を示す。上記フッ素化アルキル基としては、水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基であればよく、特に限定されないが、例えば、上記式(3)におけるR6として例示したもの等が挙げられる。中でも、上記R20としては、水素原子の一部がフッ素原子で置換されたアルキル基が好ましい。 R 20 in the above formula (4) represents a fluorinated alkyl group. The fluorinated alkyl group may be any alkyl group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms, and is not particularly limited. Examples thereof include those exemplified as R 6 in the above formula (3). Can be mentioned. Among them, R 20 is preferably an alkyl group in which a part of hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms.

上記式(4)におけるz(メチレン構造単位の繰り返し数)は、1〜30の整数を示す。中でも、1〜10の整数が好ましい。   In the above formula (4), z (the number of repeating methylene structural units) represents an integer of 1-30. Among these, an integer of 1 to 10 is preferable.

なお、上記含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)は、繰り返し構造単位として、式(4)で表される構造単位のみを有する重合体であってもよいし、式(4)で表される構造単位以外の構造単位を有する重合体であってもよい。また、上記含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)は、式(4)で表される構造単位を1種のみ有する重合体であってもよいし、式(4)で表される構造単位を2種以上を有する重合体であってもよい。また、式(4)で表される構造単位以外の構造単位を2種以上有する重合体であってもよい。   The fluorine-containing polyether polymer (C3) may be a polymer having only the structural unit represented by the formula (4) as the repeating structural unit, or represented by the formula (4). It may be a polymer having a structural unit other than the structural unit. The fluorine-containing polyether polymer (C3) may be a polymer having only one type of structural unit represented by the formula (4), or the structural unit represented by the formula (4). The polymer which has 2 or more types may be sufficient. Moreover, the polymer which has 2 or more types of structural units other than the structural unit represented by Formula (4) may be sufficient.

上記含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)が有していてもよい、式(4)で表される構造単位以外の構造単位としては、特に限定されず、例えば、オキシエチレン単位[−OCH2CH2−]、オキシプロピレン単位[−OCH(CH3)CH2−]などのオキシアルキレン構造単位などが挙げられる。 The structural unit other than the structural unit represented by the formula (4) that the fluorine-containing polyether polymer (C3) may have is not particularly limited, and for example, an oxyethylene unit [—OCH 2 Examples thereof include oxyalkylene structural units such as CH 2 —] and oxypropylene units [—OCH (CH 3 ) CH 2 —].

上記式(4)で表される構造単位の具体例としては、例えば、下記式で表される構造単位などが挙げられる。下記式におけるR21は、水素原子、又は炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基など)を示す。下記式におけるR20、zは、前記に同じである。

Figure 0006046497
Specific examples of the structural unit represented by the above formula (4) include a structural unit represented by the following formula. R 21 in the following formula represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, etc.). R 20 and z in the following formula are the same as described above.
Figure 0006046497

上記含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)の具体例としては、例えば、下記式(4a)で表される含フッ素ポリエーテル系重合体などが挙げられる。

Figure 0006046497
Specific examples of the fluorine-containing polyether polymer (C3) include a fluorine-containing polyether polymer represented by the following formula (4a).
Figure 0006046497

式(4a)におけるu、v、及びwは、それぞれ、1〜50の整数を示す。中でも、uとwの合計は、2〜80の整数であることが好ましく、より好ましくは4〜30の整数、さらに好ましくは6〜14の整数である。また、vは、2〜50の整数であることが好ましく、より好ましくは5〜20の整数である。   U, v, and w in Formula (4a) each represent an integer of 1 to 50. Especially, it is preferable that the sum of u and w is an integer of 2-80, More preferably, it is an integer of 4-30, More preferably, it is an integer of 6-14. Moreover, it is preferable that v is an integer of 2-50, More preferably, it is an integer of 5-20.

上記含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)は、公知乃至慣用の製造方法により得ることができ、その製造方法は特に限定されないが、例えば、重合することにより式(4)で表される構造単位を与えるモノマー(例えば、エポキシ化合物やオキセタン化合物等の環状エーテル化合物など)を重合(例えば、開環重合)させる方法などによって製造することができる。また、上記含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)としては、市販品を使用することもできる。   The fluorinated polyether polymer (C3) can be obtained by a known or conventional production method, and the production method is not particularly limited. For example, the structural unit represented by the formula (4) by polymerization. Can be produced by a method of polymerizing (for example, ring-opening polymerization) a monomer (for example, a cyclic ether compound such as an epoxy compound or an oxetane compound). Moreover, a commercial item can also be used as said fluorine-containing polyether type polymer (C3).

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物におけるレベリング剤(C)の不揮発分の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(100重量部)に対して、0.1〜10重量部が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量部、さらに好ましくは0.1〜4重量部である。レベリング剤(C)の含有量(不揮発分換算)が0.1重量部未満であると、硬化物の耐クラック性が低下する場合がある。一方、レベリング剤(C)の含有量(不揮発分換算)が10重量部を超えると、硬化物の透明性や耐熱性が低下する場合がある。   The non-volatile content (blending amount) of the leveling agent (C) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but the total amount of compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition (100 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight, and still more preferably 0.1 to 4 parts by weight. If the content of the leveling agent (C) (in terms of non-volatile content) is less than 0.1 parts by weight, the crack resistance of the cured product may be lowered. On the other hand, if the content of the leveling agent (C) (in terms of non-volatile content) exceeds 10 parts by weight, the transparency and heat resistance of the cured product may decrease.

特に、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における、シリコーン系重合体(C1)、含フッ素アクリル系重合体(C2)、及び含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(100重量部)に対して、0.1〜10重量部が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量部、さらに好ましくは0.1〜4重量部である。シリコーン系重合体(C1)、含フッ素アクリル系重合体(C2)、及び含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)の含有量が0.1重量部未満であると、硬化物の耐クラック性が低下する場合がある。一方、含有量が10重量部を超えると、硬化物の透明性や耐熱性が低下する場合がある。なお、「シリコーン系重合体(C1)、含フッ素アクリル系重合体(C2)、及び含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)の含有量(配合量)」とは、シリコーン系重合体(C1)、含フッ素アクリル系重合体(C2)、及び含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)のうち2種以上を含む場合には、これらの含有量の合計(合計含有量)を意味する。   In particular, the content (blending amount) of the silicone polymer (C1), the fluorinated acrylic polymer (C2), and the fluorinated polyether polymer (C3) in the curable epoxy resin composition of the present invention is as follows. Although not particularly limited, it is preferably 0.1 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight with respect to the total amount (100 parts by weight) of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. Parts, more preferably 0.1 to 4 parts by weight. When the content of the silicone polymer (C1), the fluorinated acrylic polymer (C2), and the fluorinated polyether polymer (C3) is less than 0.1 parts by weight, the crack resistance of the cured product is reduced. May decrease. On the other hand, if the content exceeds 10 parts by weight, the transparency and heat resistance of the cured product may be lowered. The “content (blending amount) of the silicone polymer (C1), the fluorine-containing acrylic polymer (C2), and the fluorine-containing polyether polymer (C3)” means the silicone polymer (C1). In the case where two or more kinds of fluorine-containing acrylic polymer (C2) and fluorine-containing polyether polymer (C3) are contained, it means the total of these contents (total content).

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上述の特定のレベリング剤(C)を含有するため、上記樹脂組成物の硬化物で光半導体素子を封止して得られる光半導体装置は、優れた耐熱性、耐クラック性を発揮し、経時での光度低下(特に、高輝度の光を発する光半導体装置の光度低下)が抑制される。このような効果は、レベリング剤(C)を含むことにより本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物(又はその硬化物)の光半導体素子やパッケージ材(例えば、リフレクター材など)に対する密着性が向上したことによるものと推測される。   Since the curable epoxy resin composition of the present invention contains the specific leveling agent (C) described above, an optical semiconductor device obtained by sealing an optical semiconductor element with a cured product of the resin composition is excellent. It exhibits heat resistance and crack resistance and suppresses a decrease in light intensity over time (particularly, a decrease in light intensity of an optical semiconductor device that emits high-luminance light). Such an effect improves the adhesion of the curable epoxy resin composition of the present invention (or its cured product) to an optical semiconductor element or a package material (for example, a reflector material) by including a leveling agent (C). This is presumed to be due to this.

[モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、さらに、下記式(1)で表されるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)を含んでいてもよい。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物がモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)を含むことにより、特に、硬化物の靭性が向上し、耐熱衝撃性や耐吸湿リフロー性(特に、吸湿後のリフロー工程での加熱処理における耐クラック性(クラックを生じにくい特性))がいっそう向上する傾向がある。

Figure 0006046497
[Monoallyldiglycidyl isocyanurate compound (D)]
The curable epoxy resin composition of the present invention may further contain a monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) represented by the following formula (1). When the curable epoxy resin composition of the present invention contains the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D), the toughness of the cured product is improved, and the thermal shock resistance and moisture absorption reflow resistance (especially reflow after moisture absorption). There is a tendency that the crack resistance (characteristics that hardly cause cracks) in the heat treatment in the process is further improved.
Figure 0006046497

上記式(1)中、R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が好ましい。上記式(1)中のR1及びR2は、水素原子であることが特に好ましい。 The formula (1), R 1, R 2 are the same or different, represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl groups. Examples thereof include a chain or branched alkyl group. Among these, a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group is preferable. R 1 and R 2 in the above formula (1) are particularly preferably hydrogen atoms.

モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の代表的な例としては、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、1−アリル−3,5−ビス(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレート、1−(2−メチルプロペニル)−3,5−ジグリシジルイソシアヌレート、1−(2−メチルプロペニル)−3,5−ビス(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレートなどが挙げられる。なお、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Representative examples of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) include monoallyl diglycidyl isocyanurate, 1-allyl-3,5-bis (2-methylepoxypropyl) isocyanurate, 1- (2-methyl And propenyl) -3,5-diglycidyl isocyanurate, 1- (2-methylpropenyl) -3,5-bis (2-methylepoxypropyl) isocyanurate, and the like. In addition, a monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

なお、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)は、アルコールや酸無水物などのエポキシ基と反応する化合物を加えてあらかじめ変性して用いてもよい。   The monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) may be modified in advance by adding a compound that reacts with an epoxy group such as alcohol or acid anhydride.

モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(100重量%)に対して、5〜60重量%が好ましく、より好ましくは8〜55重量%、さらに好ましくは10〜50重量%である。モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の含有量が60重量%を超えると、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の硬化性エポキシ樹脂組成物における溶解性が低下し、硬化物の物性に悪影響が及ぶ場合がある。一方、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の含有量が5重量%未満であると、硬化物の耐熱衝撃性や耐吸湿リフロー性が低下する場合がある。   The content (blending amount) of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) is not particularly limited, but is 5 with respect to the total amount (100% by weight) of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. -60 wt% is preferable, more preferably 8-55 wt%, still more preferably 10-50 wt%. When the content of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) exceeds 60% by weight, the solubility of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) in the curable epoxy resin composition is lowered, and the physical properties of the cured product are reduced. There may be adverse effects. On the other hand, if the content of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) is less than 5% by weight, the thermal shock resistance and moisture absorption reflow resistance of the cured product may be lowered.

また、脂環式エポキシ化合物(A)とモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の合計量(100重量%)に対するモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、5〜60重量%が好ましく、より好ましくは8〜55重量%、さらに好ましくは10〜50重量%である。モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の含有量が60重量%を超えると、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の硬化性エポキシ樹脂組成物における溶解性が低下し、硬化物の物性に悪影響が及ぶ場合がある。一方、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)の含有量が5重量%未満であると、硬化物の耐熱衝撃性や耐吸湿リフロー性が低下する場合がある。   Further, the content (blending amount) of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) relative to the total amount (100% by weight) of the alicyclic epoxy compound (A) and the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) is particularly Although not limited, 5 to 60 weight% is preferable, More preferably, it is 8 to 55 weight%, More preferably, it is 10 to 50 weight%. When the content of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) exceeds 60% by weight, the solubility of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) in the curable epoxy resin composition is lowered, and the physical properties of the cured product are reduced. There may be adverse effects. On the other hand, if the content of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) is less than 5% by weight, the thermal shock resistance and moisture absorption reflow resistance of the cured product may be lowered.

[硬化剤(E)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化剤(E)を含んでいてもよい。硬化剤(E)は、エポキシ基を有する化合物を硬化させる働きを有する化合物である。硬化剤(E)としては、エポキシ樹脂用硬化剤として公知乃至慣用の硬化剤を使用することができる。硬化剤(E)としては、中でも、25℃で液状の酸無水物が好ましく、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸などが挙げられる。また、例えば、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物などの常温(約25℃)で固体状の酸無水物についても、常温(約25℃)で液状の酸無水物に溶解させて液状の混合物とすることで、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化剤(E)として好ましく使用することができる。なお、硬化剤(E)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。上述のように、硬化剤(E)としては、硬化物の耐熱性、耐光性、耐クラック性の観点で、飽和単環炭化水素ジカルボン酸の無水物(環にアルキル基等の置換基が結合したものも含む)が好ましい。
[Curing agent (E)]
The curable epoxy resin composition of the present invention may contain a curing agent (E). The curing agent (E) is a compound having a function of curing a compound having an epoxy group. As the curing agent (E), a known or conventional curing agent can be used as a curing agent for epoxy resin. As the curing agent (E), an acid anhydride which is liquid at 25 ° C. is preferable, and examples thereof include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, and methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride. Can be mentioned. In addition, solid acid anhydrides at room temperature (about 25 ° C.) such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride are also liquid at room temperature (about 25 ° C.). It can be preferably used as the curing agent (E) in the curable epoxy resin composition of the present invention by dissolving it in an acid anhydride. In addition, a hardening | curing agent (E) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. As described above, as the curing agent (E), from the viewpoint of heat resistance, light resistance and crack resistance of the cured product, an anhydride of a saturated monocyclic hydrocarbon dicarboxylic acid (a substituent such as an alkyl group is bonded to the ring) Are also preferable).

また、本発明においては、硬化剤(E)として、商品名「リカシッド MH−700」、「リカシッド MH−700F」(以上、新日本理化(株)製);商品名「HN−5500」(日立化成工業(株)製)等の市販品を使用することもできる。   In the present invention, as the curing agent (E), trade names “Rikacid MH-700”, “Rikacid MH-700F” (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.); trade names “HN-5500” (Hitachi) Commercial products such as Kasei Kogyo Co., Ltd. can also be used.

硬化剤(E)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、50〜200重量部が好ましく、より好ましくは100〜145重量部である。より具体的には、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる全てのエポキシ基を有する化合物におけるエポキシ基1当量当たり、0.5〜1.5当量となる割合で使用することが好ましい。硬化剤(E)の含有量が50重量部未満であると、硬化が不十分となり、硬化物の強靱性が低下する傾向がある。一方、硬化剤(E)の含有量が200重量部を超えると、硬化物が着色して色相が悪化する場合がある。なお、硬化剤(E)として2種以上を使用する場合には、これらの硬化剤(E)の総量が上記範囲を満たすことが好ましい。   Although content (blending amount) of a hardening | curing agent (E) is not specifically limited, 50-200 weight part is preferable with respect to 100 weight part of whole quantity of the compound which has an epoxy group contained in curable epoxy resin composition, More preferably, it is 100-145 weight part. More specifically, it is preferably used at a ratio of 0.5 to 1.5 equivalents per 1 equivalent of epoxy groups in all compounds having epoxy groups contained in the curable epoxy resin composition of the present invention. When content of a hardening | curing agent (E) is less than 50 weight part, hardening will become inadequate and there exists a tendency for the toughness of hardened | cured material to fall. On the other hand, when content of a hardening | curing agent (E) exceeds 200 weight part, hardened | cured material may color and hue may deteriorate. In addition, when using 2 or more types as a hardening | curing agent (E), it is preferable that the total amount of these hardening | curing agents (E) satisfy | fills the said range.

[硬化促進剤(F)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤(F)を含んでいてもよい。硬化促進剤(F)は、エポキシ基を有する化合物が硬化剤(E)により硬化する際に、硬化速度を促進する機能を有する化合物である。硬化促進剤(F)としては、公知乃至慣用の硬化促進剤を使用することができ、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩);1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩);ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミンなどの3級アミン;2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール;リン酸エステル、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラ(p−トリル)ボレートなどのホスホニウム化合物;オクチル酸亜鉛やオクチル酸スズなどの有機金属塩;金属キレートなどが挙げられる。硬化促進剤(F)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Curing accelerator (F)]
The curable epoxy resin composition of the present invention may contain a curing accelerator (F). A hardening accelerator (F) is a compound which has a function which accelerates | stimulates a cure rate, when the compound which has an epoxy group hardens | cures with a hardening | curing agent (E). As the curing accelerator (F), a known or conventional curing accelerator can be used. For example, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU) or a salt thereof (for example, phenol) Salt, octylate, p-toluenesulfonate, formate, tetraphenylborate salt); 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN) or a salt thereof (eg, phenol salt, octyl) Acid salt, p-toluenesulfonate, formate, tetraphenylborate salt); tertiary amines such as benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N, N-dimethylcyclohexylamine; Imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole and 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole; Le, phosphines such as triphenyl phosphine; phosphonium compounds such as tetraphenylphosphonium tetra (p- tolyl) borate, organic metal salts such as zinc octylate and tin octylate; metal chelate and the like. A hardening accelerator (F) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

また、本発明においては、硬化促進剤(F)として、商品名「U−CAT SA 506」、「U−CAT SA 102」、「U−CAT 5003」、「U−CAT 18X」、「12XD」(開発品)(以上、サンアプロ(株)製);商品名「TPP−K」、「TPP−MK」(以上、北興化学工業(株)製);商品名「PX−4ET」(日本化学工業(株)製)などの市販品を使用することもできる。   In the present invention, as the curing accelerator (F), trade names “U-CAT SA 506”, “U-CAT SA 102”, “U-CAT 5003”, “U-CAT 18X”, “12XD”. (Developed product) (San Apro Co., Ltd.); Trade name “TPP-K”, “TPP-MK” (Hokuko Chemical Co., Ltd.); Trade name “PX-4ET” (Nippon Chemical Industry) Commercial products such as (manufactured by Co., Ltd.) can also be used.

硬化促進剤(F)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(100重量部)に対して、0.01〜5重量部が好ましく、より好ましくは0.03〜3重量部、さらに好ましくは0.03〜2重量部である。硬化促進剤(F)の含有量が0.01重量部未満であると、硬化促進効果が不十分となる場合がある。一方、硬化促進剤(F)の含有量が5重量部を超えると、硬化物が着色して色相が悪化する場合がある。   Although content (blending amount) of a hardening accelerator (F) is not specifically limited, 0.01-5 with respect to the whole quantity (100 weight part) of the compound which has an epoxy group contained in a curable epoxy resin composition. Part by weight is preferred, more preferably 0.03 to 3 parts by weight, and still more preferably 0.03 to 2 parts by weight. When the content of the curing accelerator (F) is less than 0.01 parts by weight, the curing accelerating effect may be insufficient. On the other hand, when content of a hardening accelerator (F) exceeds 5 weight part, hardened | cured material may color and a hue may deteriorate.

[硬化触媒(G)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、さらに(例えば、硬化剤(E)及び硬化促進剤(F)の代わりに)、硬化触媒(G)を含んでいてもよい。硬化触媒(G)は、エポキシ基を有する化合物の硬化反応を開始及び/又は促進する機能を有する化合物である。硬化触媒(G)としては、特に限定されないが、紫外線照射又は加熱処理を施すことによりカチオン種を発生して、重合を開始させるカチオン触媒(カチオン重合開始剤)が挙げられる。なお、硬化触媒(G)は1種を単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Curing catalyst (G)]
The curable epoxy resin composition of the present invention may further contain a curing catalyst (G) (for example, instead of the curing agent (E) and the curing accelerator (F)). The curing catalyst (G) is a compound having a function of initiating and / or promoting a curing reaction of a compound having an epoxy group. Although it does not specifically limit as a curing catalyst (G), The cationic catalyst (cationic polymerization initiator) which generate | occur | produces a cationic seed | species by giving an ultraviolet irradiation or heat processing, and starts superposition | polymerization is mentioned. In addition, a curing catalyst (G) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

紫外線照射によりカチオン種を発生するカチオン触媒としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモネート塩、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアルゼネート塩などが挙げられる。上記カチオン触媒としては、例えば、商品名「UVACURE1590」(ダイセル・サイテック(株)製);商品名「CD−1010」、「CD−1011」、「CD−1012」(以上、米国サートマー製);商品名「イルガキュア264」(BASF製);商品名「CIT−1682」(日本曹達(株)製)などの市販品を好ましく使用することもできる。   Examples of the cation catalyst that generates cation species by ultraviolet irradiation include hexafluoroantimonate salts, pentafluorohydroxyantimonate salts, hexafluorophosphate salts, hexafluoroarsenate salts, and the like. Examples of the cationic catalyst include trade names “UVACURE1590” (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.); trade names “CD-1010”, “CD-1011”, “CD-1012” (above, manufactured by Sartomer, USA); Commercial products such as trade name “Irgacure 264” (manufactured by BASF); trade name “CIT-1682” (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) can also be preferably used.

加熱処理を施すことによりカチオン種を発生するカチオン触媒としては、例えば、アリールジアゾニウム塩、アリールヨードニウム塩、アリールスルホニウム塩、アレン−イオン錯体などが挙げられ、商品名「PP−33」、「CP−66」、「CP−77」(以上(株)ADEKA製);商品名「FC−509」(スリーエム製);商品名「UVE1014」(G.E.製);商品名「サンエイド SI−60L」、「サンエイド SI−80L」、「サンエイド SI−100L」、「サンエイド SI−110L」、「サンエイド SI−150L」(以上、三新化学工業(株)製);商品名「CG−24−61」(BASF製)などの市販品を好ましく使用することができる。さらに、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とトリフェニルシラノール等のシラノールとの化合物、又は、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とビスフェノールS等のフェノール類との化合物であってもよい。   Examples of the cation catalyst that generates a cation species by performing heat treatment include aryl diazonium salts, aryl iodonium salts, aryl sulfonium salts, and allene-ion complexes, and trade names “PP-33”, “CP- 66 ”,“ CP-77 ”(manufactured by ADEKA); trade name“ FC-509 ”(manufactured by 3M); trade name“ UVE1014 ”(manufactured by GE); trade name“ Sun-Aid SI-60L ” "Sun-Aid SI-80L", "Sun-Aid SI-100L", "Sun-Aid SI-110L", "Sun-Aid SI-150L" (above, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.); trade name "CG-24-61" Commercial products such as (made by BASF) can be preferably used. Furthermore, a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and a acetoacetate or diketone compound and a silanol such as triphenylsilanol, or a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and acetoacetate or diketone and bisphenol S The compound with phenols, such as these, may be sufficient.

硬化触媒(G)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.01〜15重量部が好ましく、より好ましくは0.01〜12重量部、さらに好ましくは0.05〜10重量部、特に好ましくは0.05〜8重量部である。硬化触媒(G)を上記範囲内で使用することにより、耐熱性、耐光性、透明性に優れた硬化物を得ることができる。   The content (blending amount) of the curing catalyst (G) is not particularly limited, but is 0.01 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. More preferably, it is 0.01-12 weight part, More preferably, it is 0.05-10 weight part, Especially preferably, it is 0.05-8 weight part. By using the curing catalyst (G) within the above range, a cured product having excellent heat resistance, light resistance and transparency can be obtained.

[ゴム粒子]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、さらに、ゴム粒子を含んでいてもよい。上記ゴム粒子としては、例えば、粒子状NBR(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)、反応性末端カルボキシル基NBR(CTBN)、メタルフリーNBR、粒子状SBR(スチレン−ブタジエンゴム)などのゴム粒子が挙げられる。上記ゴム粒子としては、ゴム弾性を有するコア部分と、該コア部分を被覆する少なくとも1層のシェル層とからなる多層構造(コアシェル構造)を有するゴム粒子が好ましい。上記ゴム粒子は、特に、(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノマー成分(単量体成分)とするポリマー(重合体)で構成されており、表面に脂環式エポキシ化合物(A)などのエポキシ基を有する化合物と反応し得る官能基としてヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基(ヒドロキシル基及びカルボキシル基のいずれか一方又は両方)を有するゴム粒子が好ましい。上記ゴム粒子の表面にヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基が存在しない場合、冷熱サイクル等の熱衝撃により硬化物が白濁して透明性が低下するため好ましくない。
[Rubber particles]
The curable epoxy resin composition of the present invention may further contain rubber particles. Examples of the rubber particles include rubber particles such as particulate NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), reactive terminal carboxyl group NBR (CTBN), metal-free NBR, particulate SBR (styrene-butadiene rubber). The rubber particles are preferably rubber particles having a multilayer structure (core-shell structure) composed of a core portion having rubber elasticity and at least one shell layer covering the core portion. The rubber particles are particularly composed of a polymer (polymer) having (meth) acrylic acid ester as an essential monomer component (monomer component), and an epoxy such as an alicyclic epoxy compound (A) on the surface. Rubber particles having a hydroxyl group and / or a carboxyl group (either one or both of a hydroxyl group and a carboxyl group) as a functional group capable of reacting with a compound having a group are preferred. When there is no hydroxyl group and / or carboxyl group on the surface of the rubber particles, the cured product becomes clouded by a thermal shock such as a cold cycle and the transparency is lowered, which is not preferable.

上記ゴム粒子におけるゴム弾性を有するコア部分を構成するポリマーは、特に限定されないが、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチルなどの(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノマー成分とすることが好ましい。上記ゴム弾性を有するコア部分を構成するポリマーは、その他、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリル、ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン、エチレン、プロピレン、イソブテンなどをモノマー成分として含んでいてもよい。   The polymer constituting the core portion having rubber elasticity in the rubber particles is not particularly limited, but (meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate are used. The essential monomer component is preferred. The polymer constituting the core portion having rubber elasticity is, for example, aromatic vinyl such as styrene and α-methylstyrene, nitrile such as acrylonitrile and methacrylonitrile, conjugated diene such as butadiene and isoprene, ethylene, propylene, Isobutene or the like may be contained as a monomer component.

中でも、上記ゴム弾性を有するコア部分を構成するポリマーは、モノマー成分として、(メタ)アクリル酸エステルと共に、芳香族ビニル、ニトリル、及び共役ジエンからなる群より選択された1種又は2種以上を組み合わせて含むことが好ましい。即ち、上記コア部分を構成するポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル、(メタ)アクリル酸エステル/共役ジエン等の二元共重合体;(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/共役ジエン等の三元共重合体などが挙げられる。なお、上記コア部分を構成するポリマーには、ポリジメチルシロキサンやポリフェニルメチルシロキサンなどのシリコーンやポリウレタン等が含まれていてもよい。   Especially, the polymer which comprises the said core part which has the rubber elasticity contains 1 type, or 2 or more types selected from the group which consists of aromatic vinyl, a nitrile, and a conjugated diene with a (meth) acrylic acid ester as a monomer component. It is preferable to include it in combination. That is, as the polymer constituting the core part, for example, (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl, (meth) acrylic acid ester / conjugated diene and other binary copolymers; (meth) acrylic acid ester / aromatic And terpolymers such as group vinyl / conjugated dienes. The polymer constituting the core part may contain silicone such as polydimethylsiloxane and polyphenylmethylsiloxane, polyurethane, and the like.

上記コア部分を構成するポリマーは、その他のモノマー成分として、ジビニルベンゼン、アリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ブチレングリコールジアクリレートなどの1モノマー(1分子)中に2以上の反応性官能基を有する反応性架橋モノマーを含有していてもよい。   The polymer constituting the core part includes, as other monomer components, divinylbenzene, allyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diallyl maleate, triallyl cyanurate, diallyl phthalate, butylene glycol diacrylate, etc. One monomer (one molecule) may contain a reactive crosslinking monomer having two or more reactive functional groups.

上記ゴム粒子のコア部分は、中でも、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニルの二元共重合体(特に、アクリル酸ブチル/スチレン)より構成されたコア部分であることが、ゴム粒子の屈折率を容易に調整できる点で好ましい。   The core part of the rubber particles is a core part composed of a (meth) acrylic ester / aromatic vinyl binary copolymer (particularly butyl acrylate / styrene). It is preferable in that the rate can be easily adjusted.

上記ゴム粒子のコア部分を構成するポリマーのガラス転移温度は、特に限定されないが、60℃未満(例えば、−150℃以上、60℃未満)が好ましく、より好ましくは−150〜15℃、さらに好ましくは−100〜0℃である。上記ポリマーのガラス転移温度が60℃以上であると、硬化物の耐クラック性(各種応力に対してクラックを生じにくい特性)が低下する場合がある。なお、上記コア部分を構成するポリマーのガラス転移温度は、上記Foxの式により算出される計算値を意味し、例えば、上述のコアシェル型アクリルポリマー粒子におけるアクリルポリマー[コア]のガラス転移温度と同様にして測定できる。   The glass transition temperature of the polymer constituting the core part of the rubber particles is not particularly limited, but is preferably less than 60 ° C. (for example, −150 ° C. or more and less than 60 ° C.), more preferably −150 to 15 ° C., and even more preferably. Is −100 to 0 ° C. When the glass transition temperature of the polymer is 60 ° C. or higher, the crack resistance of the cured product (characteristics that hardly cause cracks with respect to various stresses) may decrease. The glass transition temperature of the polymer constituting the core portion means a calculated value calculated by the Fox equation, for example, the same as the glass transition temperature of the acrylic polymer [core] in the core-shell type acrylic polymer particles described above. Can be measured.

上記ゴム粒子のコア部分は、通常用いられる方法で製造することができ、例えば、上記モノマーを乳化重合法により重合する方法などにより製造することができる。乳化重合法においては、上記モノマーの全量を一括して仕込んで重合してもよいし、上記モノマーの一部を重合した後、残りを連続的に又は断続的に添加して重合してもよいし、さらに、シード粒子を使用する重合方法を使用してもよい。   The core part of the rubber particles can be produced by a commonly used method. For example, it can be produced by a method of polymerizing the monomer by an emulsion polymerization method. In the emulsion polymerization method, the whole amount of the monomer may be charged all at once and polymerized, or after polymerizing a part of the monomer, the remainder may be added continuously or intermittently for polymerization. Further, a polymerization method using seed particles may be used.

上記ゴム粒子のシェル層を構成するポリマーは、上記コア部分を構成するポリマーとは異種のポリマーであることが好ましい。また、上述のように、上記シェル層は、脂環式エポキシ化合物(A)などのエポキシ基を有する化合物と反応し得る官能基としてヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基を有することが好ましい。これにより、特に、脂環式エポキシ化合物(A)との界面で接着性を向上させることができ、該シェル層を有するゴム粒子を含む硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させた硬化物に対して、優れた耐クラック性を発揮させることができる。また、硬化物のガラス転移温度の低下を防止することもできる。   The polymer constituting the shell layer of the rubber particles is preferably a polymer different from the polymer constituting the core portion. In addition, as described above, the shell layer preferably has a hydroxyl group and / or a carboxyl group as a functional group capable of reacting with a compound having an epoxy group such as the alicyclic epoxy compound (A). Thereby, especially with respect to the hardened | cured material which can improve adhesiveness in an interface with an alicyclic epoxy compound (A), and hardened the curable epoxy resin composition containing the rubber particle which has this shell layer. , Excellent crack resistance can be exhibited. Moreover, the fall of the glass transition temperature of hardened | cured material can also be prevented.

上記シェル層を構成するポリマーは、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチルなどの(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノマー成分として含むことが好ましい。例えば、上記コア部分における(メタ)アクリル酸エステルとしてアクリル酸ブチルを用いた場合、シェル層を構成するポリマーのモノマー成分として、アクリル酸ブチル以外の(メタ)アクリル酸エステル(例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、メタクリル酸ブチルなど)を使用することが好ましい。(メタ)アクリル酸エステル以外に含んでいてもよいモノマー成分としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのニトリルなどが挙げられる。上記ゴム粒子においては、シェル層を構成するモノマー成分として、(メタ)アクリル酸エステルと共に、上記モノマーを単独で、又は2種以上を組み合わせて含むことが好ましく、特に、少なくとも芳香族ビニルを含むことが、上記ゴム粒子の屈折率を容易に調整できる点で好ましい。   The polymer constituting the shell layer preferably contains (meth) acrylic acid ester such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate as an essential monomer component. For example, when butyl acrylate is used as the (meth) acrylic acid ester in the core part, (meth) acrylic acid esters other than butyl acrylate (for example, (meth) acrylic) as the monomer component of the polymer constituting the shell layer It is preferable to use methyl acid, ethyl (meth) acrylate, butyl methacrylate and the like. Examples of the monomer component that may be contained in addition to the (meth) acrylic acid ester include aromatic vinyl such as styrene and α-methylstyrene, and nitrile such as acrylonitrile and methacrylonitrile. In the rubber particles, as a monomer component constituting the shell layer, it is preferable to contain the monomer alone or in combination of two or more, together with (meth) acrylic acid ester, and particularly at least aromatic vinyl. Is preferable in that the refractive index of the rubber particles can be easily adjusted.

さらに、上記シェル層を構成するポリマーは、モノマー成分として、脂環式エポキシ化合物(A)などのエポキシ基を有する化合物と反応し得る官能基としてのヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基を形成するために、ヒドロキシル基含有モノマー(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートなど)や、カルボキシル基含有モノマー(例えば、(メタ)アクリル酸などのα,β−不飽和酸、マレイン酸無水物などのα,β−不飽和酸無水物など)を含有することが好ましい。   Further, the polymer constituting the shell layer forms a hydroxyl group and / or a carboxyl group as a functional group capable of reacting with a compound having an epoxy group such as an alicyclic epoxy compound (A) as a monomer component. , Hydroxyl group-containing monomers (eg, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate) and carboxyl group-containing monomers (eg, α, β-unsaturated acids such as (meth) acrylic acid, It is preferable to contain an α, β-unsaturated acid anhydride such as maleic anhydride).

上記ゴム粒子におけるシェル層を構成するポリマーは、モノマー成分として、(メタ)アクリル酸エステルと共に、上記モノマーから選択された1種又は2種以上を組み合わせて含むことが好ましい。即ち、上記シェル層は、例えば、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/α,β−不飽和酸等の三元共重合体などから構成されたシェル層であることが好ましい。   It is preferable that the polymer which comprises the shell layer in the said rubber particle contains 1 type, or 2 or more types selected from the said monomer in combination with (meth) acrylic acid ester as a monomer component. That is, the shell layer is formed of, for example, a ternary copolymer such as (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl / hydroxyalkyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl / α, β-unsaturated acid. A shell layer composed of a polymer or the like is preferable.

また、上記シェル層を構成するポリマーは、その他のモノマー成分として、コア部分と同様に、上記モノマーの他にジビニルベンゼン、アリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ブチレングリコールジアクリレートなどの1モノマー(1分子)中に2以上の反応性官能基を有する反応性架橋モノマーを含有していてもよい。   Further, the polymer constituting the shell layer includes, as the other monomer components, divinylbenzene, allyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diallyl maleate, trimethyl, as well as the above-described monomer. A reactive crosslinking monomer having two or more reactive functional groups may be contained in one monomer (one molecule) such as allyl cyanurate, diallyl phthalate, or butylene glycol diacrylate.

上記ゴム粒子のシェル層を構成するポリマーのガラス転移温度は、特に限定されないが、60〜120℃が好ましく、より好ましくは70〜115℃である。上記ポリマーのガラス転移温度が60℃未満であると、硬化物の耐熱性が低下する場合がある。一方、上記ポリマーのガラス転移温度が120℃を超えると、硬化物の耐クラック性が低下する場合がある。なお、上記シェル層を構成するポリマーのガラス転移温度は、上記Foxの式により算出される計算値を意味し、例えば、上述のコアシェル型アクリルポリマー粒子におけるアクリルポリマー[コア]のガラス転移温度と同様にして測定できる。   Although the glass transition temperature of the polymer which comprises the shell layer of the said rubber particle is not specifically limited, 60-120 degreeC is preferable, More preferably, it is 70-115 degreeC. When the glass transition temperature of the polymer is less than 60 ° C., the heat resistance of the cured product may be lowered. On the other hand, when the glass transition temperature of the polymer exceeds 120 ° C., the crack resistance of the cured product may be lowered. The glass transition temperature of the polymer constituting the shell layer means a calculated value calculated by the Fox equation, for example, the same as the glass transition temperature of the acrylic polymer [core] in the core-shell type acrylic polymer particles described above. Can be measured.

上記ゴム粒子(コアシェル構造を有するゴム粒子)は、上記コア部分をシェル層により被覆することで得られる。上記コア部分をシェル層で被覆する方法としては、例えば、上記方法により得られたゴム弾性を有するコア部分の表面に、シェル層を構成する共重合体を塗布することにより被覆する方法、上記方法により得られたゴム弾性を有するコア部分を幹成分とし、シェル層を構成する各成分を枝成分としてグラフト重合する方法などが挙げられる。   The rubber particles (rubber particles having a core-shell structure) can be obtained by covering the core portion with a shell layer. Examples of the method of coating the core part with a shell layer include a method of coating the surface of the core part having rubber elasticity obtained by the above method by applying a copolymer constituting the shell layer, and the above method And a method in which the core part having rubber elasticity obtained by the above method is used as a trunk component and each component constituting the shell layer is used as a branch component for graft polymerization.

上記ゴム粒子の平均粒子径は、特に限定されないが、10〜500nmが好ましく、より好ましくは20〜400nmである。また、上記ゴム粒子の最大粒子径は、特に限定されないが、50〜1000nmが好ましく、より好ましくは100〜800nmである。平均粒子径が500nmを上回ると、又は、最大粒子径が1000nmを上回ると、硬化物におけるゴム粒子の分散性が低下し、耐クラック性が低下する場合がある。一方、平均粒子径が10nmを下回ると、又は、最大粒子径が50nmを下回ると、硬化物の耐クラック性向上の効果が得られにくくなる場合がある。   The average particle diameter of the rubber particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, and more preferably 20 to 400 nm. The maximum particle size of the rubber particles is not particularly limited, but is preferably 50 to 1000 nm, more preferably 100 to 800 nm. If the average particle diameter exceeds 500 nm or the maximum particle diameter exceeds 1000 nm, the dispersibility of the rubber particles in the cured product may be reduced, and crack resistance may be reduced. On the other hand, if the average particle size is less than 10 nm or the maximum particle size is less than 50 nm, the effect of improving the crack resistance of the cured product may be difficult to obtain.

上記ゴム粒子の屈折率は、特に限定されないが、1.40〜1.60が好ましく、より好ましくは1.42〜1.58である。また、ゴム粒子の屈折率と、該ゴム粒子を含む硬化性エポキシ樹脂組成物(本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物)を硬化して得られる硬化物の屈折率との差は±0.03以内であることが好ましい。屈折率の差が±0.03を上回ると、硬化物の透明性が低下し、時には白濁して、光半導体装置の光度が低下する傾向があり、光半導体装置の機能を消失させてしまう場合がある。   Although the refractive index of the said rubber particle is not specifically limited, 1.40-1.60 are preferable, More preferably, it is 1.42-1.58. The difference between the refractive index of the rubber particles and the refractive index of the cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition (the curable epoxy resin composition of the present invention) containing the rubber particles is ± 0.03. Is preferably within. When the difference in refractive index exceeds ± 0.03, the transparency of the cured product decreases, sometimes it becomes cloudy, the light intensity of the optical semiconductor device tends to decrease, and the function of the optical semiconductor device is lost. There is.

ゴム粒子の屈折率は、例えば、ゴム粒子1gを型に注型して210℃、4MPaで圧縮成形し、厚さ1mmの平板を得、得られた平板から、縦20mm×横6mmの試験片を切り出し、中間液としてモノブロモナフタレンを使用してプリズムと該試験片とを密着させた状態で、多波長アッベ屈折計(商品名「DR−M2」、(株)アタゴ製)を使用し、20℃、ナトリウムD線での屈折率を測定することにより求めることができる。   The refractive index of the rubber particles is, for example, 1 g of rubber particles cast into a mold and compression molded at 210 ° C. and 4 MPa to obtain a flat plate having a thickness of 1 mm. And using a multi-wavelength Abbe refractometer (trade name “DR-M2”, manufactured by Atago Co., Ltd.) in a state where the prism and the test piece are in close contact using monobromonaphthalene as an intermediate solution, It can be determined by measuring the refractive index at 20 ° C. and sodium D line.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物の屈折率は、例えば、下記硬化物の項に記載の加熱硬化方法により得られた硬化物から、縦20mm×横6mm×厚さ1mmの試験片を切り出し、中間液としてモノブロモナフタレンを使用してプリズムと該試験片とを密着させた状態で、多波長アッベ屈折計(商品名「DR−M2」、(株)アタゴ製)を使用し、20℃、ナトリウムD線での屈折率を測定することにより求めることができる。   The refractive index of the cured product of the curable epoxy resin composition of the present invention is, for example, a test piece having a length of 20 mm × width of 6 mm × thickness of 1 mm from a cured product obtained by the heat curing method described in the section of cured product below. And using a multi-wavelength Abbe refractometer (trade name “DR-M2”, manufactured by Atago Co., Ltd.) in a state where the prism and the test piece are in close contact using monobromonaphthalene as an intermediate solution, It can be determined by measuring the refractive index at 20 ° C. and sodium D line.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における上記ゴム粒子の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物中に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量(100重量部)に対して、0.5〜30重量部が好ましく、より好ましくは1〜20重量部である。ゴム粒子の含有量が0.5重量部を下回ると、硬化物の耐クラック性が低下する傾向がある。一方、ゴム粒子の含有量が30重量部を上回ると、硬化物の耐熱性が低下する傾向がある。   The content (blending amount) of the rubber particles in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but the total amount (100 parts by weight) of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. On the other hand, 0.5-30 weight part is preferable, More preferably, it is 1-20 weight part. When the content of the rubber particles is less than 0.5 parts by weight, the crack resistance of the cured product tends to decrease. On the other hand, when the content of the rubber particles exceeds 30 parts by weight, the heat resistance of the cured product tends to decrease.

[添加剤]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上記以外にも、本発明の効果を損なわない範囲内で各種添加剤を含有していてもよい。上記添加剤として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの水酸基を有する化合物を含有させると、反応を緩やかに進行させることができる。その他にも、粘度や透明性を損なわない範囲内で、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤、界面活性剤、シリカ、アルミナなどの無機充填剤、難燃剤、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、イオン吸着体、顔料、蛍光体(例えば、YAG系の蛍光体微粒子、シリケート系蛍光体微粒子などの無機蛍光体微粒子など)、離型剤などの慣用の添加剤を使用することができる。
[Additive]
In addition to the above, the curable epoxy resin composition of the present invention may contain various additives as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, when a compound having a hydroxyl group such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, or glycerin is included as the additive, the reaction can be allowed to proceed slowly. In addition, as long as the viscosity and transparency are not impaired, silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, surfactants, inorganic fillers such as silica and alumina, flame retardants, colorants, Conventional additives such as antioxidants, ultraviolet absorbers, ion adsorbents, pigments, phosphors (for example, inorganic phosphor particles such as YAG phosphor fine particles and silicate phosphor fine particles), release agents, etc. Can be used.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を、必要に応じて加熱した状態で攪拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。上記攪拌・混合の方法は、特に限定されず、例えば、ディゾルバー、ホモジナイザーなどの各種ミキサー、ニーダー、ロール、ビーズミル、自公転式撹拌装置などの公知乃至慣用の攪拌・混合手段を使用できる。また、攪拌・混合後、真空下にて脱泡してもよい。   Although the curable epoxy resin composition of this invention is not specifically limited, It can prepare by stirring and mixing each said component in the state heated as needed. In addition, the curable epoxy resin composition of the present invention can be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance, for example, two or more stored separately. These components can also be used as a multi-liquid composition (for example, a two-liquid system) that is used by mixing them at a predetermined ratio before use. The stirring / mixing method is not particularly limited, and for example, known or conventional stirring / mixing means such as various mixers such as a dissolver and a homogenizer, a kneader, a roll, a bead mill, and a self-revolving stirrer can be used. Further, after stirring and mixing, defoaming may be performed under vacuum.

特に限定されないが、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物にゴム粒子を配合する場合、当該ゴム粒子は、あらかじめ脂環式エポキシ化合物(A)中に分散させた組成物(当該組成物を「ゴム粒子分散エポキシ化合物」と称する場合がある)の状態で配合することが好ましい。即ち、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物にゴム粒子を配合する場合、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物と、コアシェル型アクリルポリマー(B)と、レベリング剤(C)と、必要に応じてその他の成分を混合することにより調製することが好ましい。このような調製方法により、特に、硬化性エポキシ樹脂組成物におけるゴム粒子の分散性を向上させることができる。但し、ゴム粒子の配合方法は、上記方法に限定されず、それ単独で配合する方法であってもよい。   Although not particularly limited, when rubber particles are blended in the curable epoxy resin composition of the present invention, the rubber particles are prepared by dispersing the rubber particles in the alicyclic epoxy compound (A) in advance (the composition is referred to as “rubber”). It is preferable to blend in a state of “sometimes referred to as a“ particle dispersed epoxy compound ””. That is, when rubber particles are blended in the curable epoxy resin composition of the present invention, the curable epoxy resin composition of the present invention comprises the rubber particle-dispersed epoxy compound, the core-shell type acrylic polymer (B), the leveling agent ( It is preferable to prepare by mixing C) and other components as necessary. Such a preparation method can particularly improve the dispersibility of the rubber particles in the curable epoxy resin composition. However, the blending method of the rubber particles is not limited to the above method, and may be a method of blending alone.

(ゴム粒子分散エポキシ化合物)
上記ゴム粒子分散エポキシ化合物は、上記ゴム粒子を脂環式エポキシ化合物(A)に分散させることによって得られる。なお、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物における脂環式エポキシ化合物(A)は、硬化性エポキシ樹脂組成物を構成する脂環式エポキシ化合物(A)の全量であってもよいし、一部の量であってもよい。同様に、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物におけるゴム粒子は、硬化性エポキシ樹脂組成物を構成するゴム粒子の全量であってもよいし、一部の量であってもよい。
(Rubber particle dispersed epoxy compound)
The rubber particle-dispersed epoxy compound is obtained by dispersing the rubber particles in the alicyclic epoxy compound (A). The alicyclic epoxy compound (A) in the rubber particle-dispersed epoxy compound may be the total amount of the alicyclic epoxy compound (A) constituting the curable epoxy resin composition, or may be a partial amount. There may be. Similarly, the rubber particles in the rubber particle-dispersed epoxy compound may be the total amount of rubber particles constituting the curable epoxy resin composition, or may be a partial amount.

上記ゴム粒子分散エポキシ化合物の粘度は、例えば、反応性希釈剤を併用することにより調整することができる(即ち、ゴム粒子分散エポキシ化合物は、さらに反応性希釈剤を含んでいてもよい)。上記反応性希釈剤としては、例えば、常温(25℃)における粘度が200mPa・s以下の脂肪族ポリグリシジルエーテルを好ましく使用できる。粘度(25℃)が200mPa・s以下の脂肪族ポリグリシジルエーテルとしては、例えば、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。   The viscosity of the rubber particle-dispersed epoxy compound can be adjusted, for example, by using a reactive diluent in combination (that is, the rubber particle-dispersed epoxy compound may further contain a reactive diluent). As the reactive diluent, for example, an aliphatic polyglycidyl ether having a viscosity at room temperature (25 ° C.) of 200 mPa · s or less can be preferably used. Examples of the aliphatic polyglycidyl ether having a viscosity (25 ° C.) of 200 mPa · s or less include, for example, cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, cyclohexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexanediol diglycidyl ether. , Trimethylolpropane triglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, and the like.

上記反応性希釈剤の使用量は、適宜調整することができ、特に限定されないが、脂環式エポキシ化合物(A)とゴム粒子の合計量100重量部に対して、30重量部以下が好ましく、より好ましくは25重量部以下(例えば、5〜25重量部)である。使用量が30重量部を超えると、耐クラック性等の所望の性能を得ることが困難となる傾向がある。   The amount of the reactive diluent used can be appropriately adjusted and is not particularly limited, but is preferably 30 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total amount of the alicyclic epoxy compound (A) and the rubber particles, More preferably, it is 25 parts by weight or less (for example, 5 to 25 parts by weight). When the amount used exceeds 30 parts by weight, it tends to be difficult to obtain desired performance such as crack resistance.

上記ゴム粒子分散エポキシ化合物の製造方法は、特に限定されず、周知慣用の方法を使用することができる。例えば、ゴム粒子を脱水乾燥して粉体とした後に、脂環式エポキシ化合物(A)に混合し、分散させる方法や、ゴム粒子のエマルジョンと脂環式エポキシ化合物(A)とを直接混合し、続いて脱水する方法などが挙げられる。   The manufacturing method of the said rubber particle dispersion | distribution epoxy compound is not specifically limited, A well-known and usual method can be used. For example, after the rubber particles are dehydrated and dried to form powder, the rubber particles are mixed and dispersed in the alicyclic epoxy compound (A), or the emulsion of rubber particles and the alicyclic epoxy compound (A) are directly mixed. Then, the method of dehydrating etc. is mentioned.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の25℃における粘度は、特に限定されないが、60〜6000mPa・sが好ましく、より好ましくは100〜5500mPa・s、さらに好ましくは150〜5000mPa・sである。25℃における粘度が60mPa・s未満であると、硬化物の耐熱性が低下する傾向がある。一方、25℃における粘度が6000mPa・sを超えると、注型時の取り扱い性が低下したり、硬化物に注型不良に由来する不具合が生じやすくなる傾向がある。なお、硬化性エポキシ樹脂組成物の25℃における粘度は、例えば、デジタル粘度計(型番「DVU−EII型」、(株)トキメック製)を用いて、ローター:標準1°34′×R24、温度:25℃、回転数:0.5〜10rpmの条件で測定することができる。   Although the viscosity in 25 degreeC of the curable epoxy resin composition of this invention is not specifically limited, 60-6000 mPa * s is preferable, More preferably, it is 100-5500 mPa * s, More preferably, it is 150-5000 mPa * s. There exists a tendency for the heat resistance of hardened | cured material to fall that the viscosity in 25 degreeC is less than 60 mPa * s. On the other hand, when the viscosity at 25 ° C. exceeds 6000 mPa · s, the handleability at the time of casting tends to be lowered, or a defect derived from poor casting tends to occur in the cured product. The viscosity at 25 ° C. of the curable epoxy resin composition is, for example, using a digital viscometer (model number “DVU-EII type”, manufactured by Tokimec Co., Ltd.), rotor: standard 1 ° 34 ′ × R24, temperature : Measured under conditions of 25 ° C. and rotation speed: 0.5 to 10 rpm.

<硬化物>
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させることにより、耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性に優れ、特に、光半導体装置の高温における通電特性及び耐吸湿リフロー性を向上させることが可能な硬化物を得ることができる。硬化の際の加熱温度(硬化温度)は、特に限定されないが、45〜200℃が好ましく、より好ましくは100〜190℃、さらに好ましくは100〜180℃である。また、硬化の際に加熱する時間(硬化時間)は、特に限定されないが、30〜600分が好ましく、より好ましくは45〜540分、さらに好ましくは60〜480分である。硬化温度と硬化時間が上記範囲の下限値より低い場合は硬化が不十分となり、逆に上記範囲の上限値より高い場合は樹脂成分の分解が起きる場合があるので、いずれも好ましくない。硬化条件は種々の条件に依存するが、例えば、硬化温度を高くした場合は硬化時間を短く、硬化温度を低くした場合は硬化時間を長くする等により、適宜調整することができる。
<Hardened product>
By curing the curable epoxy resin composition of the present invention, it is excellent in heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance, and in particular, it is possible to improve current-carrying characteristics and moisture absorption reflow resistance of optical semiconductor devices at high temperatures. A cured product can be obtained. Although the heating temperature (curing temperature) in the case of hardening is not specifically limited, 45-200 degreeC is preferable, More preferably, it is 100-190 degreeC, More preferably, it is 100-180 degreeC. In addition, the heating time (curing time) for curing is not particularly limited, but is preferably 30 to 600 minutes, more preferably 45 to 540 minutes, and still more preferably 60 to 480 minutes. When the curing temperature and the curing time are lower than the lower limit value in the above range, curing is insufficient. On the contrary, when the curing temperature and the curing time are higher than the upper limit value in the above range, the resin component may be decomposed. Although the curing conditions depend on various conditions, for example, when the curing temperature is increased, the curing time can be shortened, and when the curing temperature is decreased, the curing time can be appropriately increased.

<光半導体封止用樹脂組成物>
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、光半導体装置における光半導体(光半導体素子)を封止するための樹脂組成物、即ち、光半導体封止用樹脂組成物として好ましく使用できる。上記光半導体封止用樹脂組成物として用いることにより、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に耐吸湿リフロー性に優れた硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置が得られる。上記光半導体装置は、高出力、高輝度の光半導体素子を備える場合であっても、経時で光度が低下しにくく、特に、高湿条件下で保管された後にリフロー工程にて加熱された場合でも光度低下等の劣化が生じにくい。
<Resin composition for optical semiconductor encapsulation>
The curable epoxy resin composition of the present invention can be preferably used as a resin composition for sealing an optical semiconductor (optical semiconductor element) in an optical semiconductor device, that is, a resin composition for optical semiconductor sealing. An optical semiconductor in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product having high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance, and particularly excellent in moisture absorption and reflow resistance, by using the resin composition for sealing an optical semiconductor. A device is obtained. Even if the above optical semiconductor device is provided with a high-output, high-brightness optical semiconductor element, the light intensity is unlikely to decrease with time, especially when it is heated in a reflow process after being stored under high humidity conditions. However, deterioration such as a decrease in luminous intensity is unlikely to occur.

<光半導体装置>
本発明の光半導体装置は、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物(光半導体封止用樹脂組成物)の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置である。光半導体素子の封止は、上述の方法で調製した硬化性エポキシ樹脂組成物を所定の成形型内に注入し、所定の条件で加熱硬化して行う。これにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置が得られる。硬化温度と硬化時間は、硬化物の調製時と同様の範囲で適宜設定することができる。
<Optical semiconductor device>
The optical semiconductor device of the present invention is an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition (resin composition for optical semiconductor sealing) of the present invention. The optical semiconductor element is sealed by injecting the curable epoxy resin composition prepared by the above-described method into a predetermined mold and heat-curing under predetermined conditions. Thereby, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the curable epoxy resin composition is obtained. The curing temperature and the curing time can be appropriately set within the same range as when the cured product is prepared.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上述の光半導体素子の封止用途に限定されず、例えば、接着剤、電気絶縁材、積層板、コーティング、インク、塗料、シーラント、レジスト、複合材料、透明基材、透明シート、透明フィルム、光学素子、光学レンズ、光学部材、光造形、電子ペーパー、タッチパネル、太陽電池基板、光導波路、導光板、ホログラフィックメモリなどの用途にも使用することができる。   The curable epoxy resin composition of the present invention is not limited to the above-mentioned optical semiconductor element sealing application, for example, an adhesive, an electrical insulating material, a laminate, a coating, an ink, a paint, a sealant, a resist, a composite material, It can also be used for applications such as transparent substrates, transparent sheets, transparent films, optical elements, optical lenses, optical members, optical modeling, electronic paper, touch panels, solar cell substrates, optical waveguides, light guide plates, holographic memories, etc. .

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、表1〜3における「−」は、該当する成分の配合又は該当する操作を行わなかったことを意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, "-" in Tables 1-3 means that the combination of the corresponding component or the corresponding operation was not performed.

製造例1
(アクリル重合体エマルション(E1)、アクリル重合体粉体(P1)の製造)
攪拌機、還流冷却管、滴下ポンプ、温度制御装置、及び窒素導入管を備えた2リットルのセパラブルフラスコにイオン交換水585.0gを仕込み、攪拌を行った。
別途、メタクリル酸メチル453.5g、メタクリル酸n−ブチル71.5g、ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸アンモニウム5.3g、及びイオン交換水262.5gをホモジナイザー(25000rpm)で乳化処理して単量体混合物(M1)を調製し、該単量体混合物(M1)のうちの10%を上記フラスコ内に投入し、その後、窒素雰囲気下で80℃に昇温した。次いで、予め調製した過硫酸アンモニウム0.30gの水溶液(イオン交換水15.0gに溶解させた)を、上記フラスコ内に一括仕込みし、60分間保持して、シード粒子を形成させた。さらに、シード粒子が形成された上記フラスコ内に残りの単量体混合物(M1)を180分かけて滴下し、滴下後1時間保持して、第1段目の重合を終了した。
次いで、メタクリル酸メチル219.3g、メタクリル酸5.7g、ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸アンモニウム2.3g、及びイオン交換水112.5gをホモジナイザー(25000rpm)で乳化処理して得られた単量体混合物を、上記フラスコ内に90分かけて滴下し、滴下後1時間保持して、第2段目の重合を終了し、平均粒子径0.84μmのアクリル重合体エマルション(E1)を得た。上記アクリル重合体エマルション(E1)におけるアクリルモノマーの組成から、第1段目の重合により形成したコア成分のガラス転移温度は90.6℃、溶解度パラメータ(Fedors法)は20.45であり、第2段目の重合により形成したシェル成分のガラス転移温度は106.9℃、溶解度パラメータ(Fedors法)は20.66である。
得られたアクリル重合体エマルション(E1)を噴霧乾燥処理し、アクリル重合体粉体(P1)を得た。
Production Example 1
(Manufacture of acrylic polymer emulsion (E1) and acrylic polymer powder (P1))
In a 2 liter separable flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping pump, a temperature controller, and a nitrogen introduction tube, 585.0 g of ion-exchanged water was charged and stirred.
Separately, 453.5 g of methyl methacrylate, 71.5 g of n-butyl methacrylate, 5.3 g of ammonium di-2-ethylhexyl sulfosuccinate, and 262.5 g of ion-exchanged water were emulsified with a homogenizer (25000 rpm) to give a monomer. A mixture (M1) was prepared, 10% of the monomer mixture (M1) was charged into the flask, and then heated to 80 ° C. in a nitrogen atmosphere. Next, an aqueous solution of 0.30 g of ammonium persulfate prepared in advance (dissolved in 15.0 g of ion exchange water) was charged all at once into the flask and held for 60 minutes to form seed particles. Further, the remaining monomer mixture (M1) was dropped into the flask in which the seed particles were formed over 180 minutes, and held for 1 hour after the dropping to complete the first stage polymerization.
Next, a monomer obtained by emulsifying 219.3 g of methyl methacrylate, 5.7 g of methacrylic acid, 2.3 g of ammonium di-2-ethylhexylsulfosuccinate, and 112.5 g of ion-exchanged water with a homogenizer (25000 rpm). The mixture was dropped into the flask over 90 minutes and held for 1 hour after dropping to finish the second stage polymerization, and an acrylic polymer emulsion (E1) having an average particle size of 0.84 μm was obtained. From the composition of the acrylic monomer in the acrylic polymer emulsion (E1), the glass transition temperature of the core component formed by the first stage polymerization is 90.6 ° C., the solubility parameter (Fedors method) is 20.45, The glass transition temperature of the shell component formed by the second stage polymerization is 106.9 ° C., and the solubility parameter (Fedors method) is 20.66.
The obtained acrylic polymer emulsion (E1) was spray-dried to obtain an acrylic polymer powder (P1).

製造例2〜6
表1に記載の原料組成及び重合条件に変更したこと以外は製造例1と同様にして、アクリル重合体エマルション(E2)〜(E6)、及びアクリル重合体粉体(P2)〜(P6)を得た。
Production Examples 2-6
Acrylic polymer emulsions (E2) to (E6) and acrylic polymer powders (P2) to (P6) were prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the raw material compositions and polymerization conditions described in Table 1 were changed. Obtained.

製造例7
(アクリル重合体エマルション(E7)、アクリル重合体粉体(P7)の製造)
攪拌機、還流冷却管、滴下ポンプ、温度制御装置、及び窒素導入管を備えた2リットルのセパラブルフラスコにイオン交換水624gを仕込み、攪拌を行った。
別途、メタクリル酸メチル483.7g、メタクリル酸n−ブチル76.3gを混合し、第1段目の重合に用いる単量体混合物(M7)を調製した。上記単量体混合物(M7)のうちの40.0gを上記フラスコ内に投入し、その後、窒素雰囲気下で80℃に昇温した。次いで、予め調製した過硫酸アンモニウム0.32gの水溶液(イオン交換水16.0gに溶解させた)を、上記フラスコ内に一括仕込みし、60分間保持して、シード粒子を形成させた。さらに、シード粒子が形成された上記フラスコ内に、残りの単量体混合物(M7)520.0g、ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸アンモニウム5.6g、及びイオン交換水280.0gをホモジナイザー(25000rpm)で乳化処理して得られた混合物を210分かけて滴下し、1時間保持して、第1段目の重合を終了した。
次いで、上記フラスコ内に、メタクリル酸メチル233.9g、メタクリル酸6.1g、ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸アンモニウム2.4g、及びイオン交換水120.0gをホモジナイザー(25000rpm)で乳化処理して得られた単量体混合物を90分かけて滴下し、滴下後1時間保持して、第2段目の重合を終了し、平均粒子径0.81μmのアクリル重合体エマルション(E7)を得た。上記アクリル重合体エマルション(E7)におけるアクリルモノマーの組成から、第1段目の重合により形成したコア成分のガラス転移温度は90.6℃、溶解度パラメータ(Fedors法)は20.45であり、第2段目の重合により形成したシェル成分のガラス転移温度は106.9℃、溶解度パラメータ(Fedors法)は20.66である。
得られたアクリル重合体エマルション(E7)を噴霧乾燥処理し、アクリル重合体粉体(P7)を得た。
Production Example 7
(Manufacture of acrylic polymer emulsion (E7) and acrylic polymer powder (P7))
624 g of ion-exchanged water was charged into a 2 liter separable flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping pump, a temperature controller, and a nitrogen introduction tube, and stirred.
Separately, 483.7 g of methyl methacrylate and 76.3 g of n-butyl methacrylate were mixed to prepare a monomer mixture (M7) used for the first stage polymerization. 40.0 g of the monomer mixture (M7) was charged into the flask, and then heated to 80 ° C. in a nitrogen atmosphere. Next, an aqueous solution of 0.32 g of ammonium persulfate prepared in advance (dissolved in 16.0 g of ion exchange water) was charged all at once into the flask and held for 60 minutes to form seed particles. Further, 520.0 g of the remaining monomer mixture (M7), 5.6 g of ammonium di-2-ethylhexylsulfosuccinate, and 280.0 g of ion-exchanged water were homogenizer (25000 rpm) in the flask in which the seed particles were formed. The mixture obtained by the emulsification treatment was added dropwise over 210 minutes and held for 1 hour to complete the first stage polymerization.
Next, 233.9 g of methyl methacrylate, 6.1 g of methacrylic acid, 2.4 g of ammonium di-2-ethylhexylsulfosuccinate, and 120.0 g of ion-exchanged water are emulsified in the flask using a homogenizer (25000 rpm). The resulting monomer mixture was added dropwise over 90 minutes, and held for 1 hour after the addition, and the second stage polymerization was completed to obtain an acrylic polymer emulsion (E7) having an average particle size of 0.81 μm. From the composition of the acrylic monomer in the acrylic polymer emulsion (E7), the glass transition temperature of the core component formed by the first stage polymerization is 90.6 ° C., the solubility parameter (Fedors method) is 20.45, The glass transition temperature of the shell component formed by the second stage polymerization is 106.9 ° C., and the solubility parameter (Fedors method) is 20.66.
The obtained acrylic polymer emulsion (E7) was spray-dried to obtain an acrylic polymer powder (P7).

製造例8
(アクリル重合体エマルション(E8)、アクリル重合体粉体(P8)の製造)
攪拌機、還流冷却管、滴下ポンプ、温度制御装置、及び窒素導入管を備えた2リットルのセパラブルフラスコにイオン交換水585.0gを仕込み、攪拌を行った。
別途、メタクリル酸メチル672.75g、メタクリル酸n−ブチル71.5g、メタクリル酸5.72g、ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸アンモニウム7.5g、及びイオン交換水375.0gをホモジナイザー(25000rpm)で乳化処理して単量体混合物(M8)を調製し、該単量体混合物(M8)のうちの10%を上記フラスコに投入した後、窒素雰囲気下で80℃に昇温した。次いで、予め調製した過硫酸アンモニウム0.30gの水溶液(イオン交換水15.0gに溶解させた)を、上記フラスコ内に一括仕込みして、60分間保持して、シード粒子を形成させた。さらに、シード粒子が形成された上記フラスコ内に、残りの単量体混合物(M8)を270分かけて滴下し、滴下後1時間保持して、重合を終了し、平均粒子径0.62μmのアクリル重合体エマルション(E8)を得た。上記アクリル重合体エマルション(E8)におけるアクリルモノマーの組成から、アクリル重合体エマルション(E8)を構成するアクリル重合体のガラス転移温度は95.3℃、溶解度パラメータ(Fedors法)は20.52である。
得られたアクリル重合体エマルション(E8)を噴霧乾燥処理し、アクリル重合体粉体(P8)を得た。
Production Example 8
(Manufacture of acrylic polymer emulsion (E8) and acrylic polymer powder (P8))
In a 2 liter separable flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping pump, a temperature controller, and a nitrogen introduction tube, 585.0 g of ion-exchanged water was charged and stirred.
Separately, 672.75 g of methyl methacrylate, 71.5 g of n-butyl methacrylate, 5.72 g of methacrylic acid, 7.5 g of ammonium di-2-ethylhexylsulfosuccinate, and 375.0 g of ion-exchanged water were emulsified with a homogenizer (25000 rpm). The monomer mixture (M8) was prepared by treatment, 10% of the monomer mixture (M8) was charged into the flask, and then heated to 80 ° C. in a nitrogen atmosphere. Next, an aqueous solution of 0.30 g of ammonium persulfate prepared in advance (dissolved in 15.0 g of ion exchange water) was charged all at once into the flask and held for 60 minutes to form seed particles. Further, the remaining monomer mixture (M8) was dropped into the flask in which the seed particles were formed over 270 minutes, held for 1 hour after the dropping, the polymerization was terminated, and the average particle size was 0.62 μm. An acrylic polymer emulsion (E8) was obtained. From the composition of the acrylic monomer in the acrylic polymer emulsion (E8), the glass transition temperature of the acrylic polymer constituting the acrylic polymer emulsion (E8) is 95.3 ° C., and the solubility parameter (Fedors method) is 20.52. .
The obtained acrylic polymer emulsion (E8) was spray-dried to obtain an acrylic polymer powder (P8).

Figure 0006046497
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製造例9
(ゴム粒子の製造)
還流冷却器付きの1L重合容器に、イオン交換水500g、及びジオクチルスルホコハク酸ナトリウム0.68gを仕込み、窒素気流下に撹拌しながら、80℃に昇温した。ここに、ゴム粒子のコア部分を形成するために必要とする量の約5重量%分に該当するアクリル酸ブチル9.5g、スチレン2.57g、及びジビニルベンゼン0.39gからなる単量体混合物を一括添加し、20分間撹拌して乳化させた後、ペルオキソ二硫酸カリウム9.5mgを添加し、1時間撹拌して最初のシード重合を行った。続いて、ペルオキソ二硫酸カリウム180.5mgを添加し、5分間撹拌した。ここに、コア部分を形成するために必要とする量の残り(約95重量%分)のアクリル酸ブチル180.5g、スチレン48.89g、ジビニルベンゼン7.33gにジオクチルスルホコハク酸ナトリウム0.95gを溶解させてなる単量体混合物を2時間かけて連続的に添加し、2度目のシード重合を行い、その後、1時間熟成してコア部分を得た。
次いで、ペルオキソ二硫酸カリウム60mgを添加して5分間撹拌し、ここに、メタクリル酸メチル60g、アクリル酸1.5g、及びアリルメタクリレート0.3gにジオクチルスルホコハク酸ナトリウム0.3gを溶解させてなる単量体混合物を30分かけて連続的に添加し、シード重合を行った。その後、1時間熟成し、コア部分を被覆するシェル層を形成した。
次いで、室温(25℃)まで冷却し、目開き120μmのプラスチック製網で濾過することにより、コアシェル構造を有するゴム粒子を含むラテックスを得た。得られたラテックスをマイナス30℃で凍結し、吸引濾過器で脱水洗浄した後、60℃で一昼夜送風乾燥してゴム粒子を得た。得られたゴム粒子の平均粒子径は254nm、最大粒子径は486nmであった。
Production Example 9
(Manufacture of rubber particles)
In a 1 L polymerization vessel equipped with a reflux condenser, 500 g of ion-exchanged water and 0.68 g of sodium dioctylsulfosuccinate were charged, and the temperature was raised to 80 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Here, a monomer mixture composed of 9.5 g of butyl acrylate, 2.57 g of styrene, and 0.39 g of divinylbenzene corresponding to about 5% by weight of the amount required to form the core portion of the rubber particles. Were added together and emulsified by stirring for 20 minutes, and then 9.5 mg of potassium peroxodisulfate was added and stirred for 1 hour to perform the first seed polymerization. Subsequently, 180.5 mg of potassium peroxodisulfate was added and stirred for 5 minutes. Here, the remaining amount (about 95% by weight) of butyl acrylate 180.5 g, styrene 48.89 g, divinylbenzene 7.33 g and 0.95 g of sodium dioctyl sulfosuccinate were added to form the core part. The dissolved monomer mixture was continuously added over 2 hours to perform the second seed polymerization, and then aged for 1 hour to obtain a core part.
Next, 60 mg of potassium peroxodisulfate was added and stirred for 5 minutes. Here, 0.3 g of sodium dioctylsulfosuccinate was dissolved in 60 g of methyl methacrylate, 1.5 g of acrylic acid and 0.3 g of allyl methacrylate. The monomer mixture was continuously added over 30 minutes to perform seed polymerization. Then, it aged for 1 hour and formed the shell layer which coat | covers a core part.
Next, the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.) and filtered through a plastic mesh having an opening of 120 μm to obtain a latex containing rubber particles having a core-shell structure. The obtained latex was frozen at −30 ° C., dehydrated and washed with a suction filter, and then blown and dried at 60 ° C. overnight to obtain rubber particles. The resulting rubber particles had an average particle size of 254 nm and a maximum particle size of 486 nm.

なお、ゴム粒子の平均粒子径、最大粒子径は、動的光散乱法を測定原理とした「NanotracTM」形式のナノトラック粒度分布測定装置(商品名「UPA−EX150」、日機装(株)製)を使用して試料を測定し、得られた粒度分布曲線において、累積カーブが50%となる時点の粒子径である累積平均径を平均粒子径、粒度分布測定結果の頻度(%)が0.00%を超えた時点の最大の粒子径を最大粒子径とした。なお、上記試料としては、下記製造例10で得られたゴム粒子分散エポキシ化合物1重量部をテトラヒドロフラン20重量部に分散させたものを用いた。 The average particle size and the maximum particle size of the rubber particles are “Nanotrac ” type nanotrack particle size distribution measuring device (trade name “UPA-EX150”, manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) based on the dynamic light scattering method. ) Was used to measure the sample, and in the obtained particle size distribution curve, the average particle size, which is the particle size when the cumulative curve becomes 50%, is the average particle size, and the frequency (%) of the particle size distribution measurement result is 0 The maximum particle size at the time of exceeding 0.000 was defined as the maximum particle size. In addition, as said sample, what disperse | distributed 1 weight part of rubber particle dispersion | distribution epoxy compounds obtained by the following manufacture example 10 to 20 weight part of tetrahydrofuran was used.

製造例10
(ゴム粒子分散エポキシ化合物の製造)
製造例9で得られたゴム粒子10重量部を、窒素気流下、60℃に加温した状態でディゾルバーを使用して、商品名「セロキサイド2021P」(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、(株)ダイセル製)80重量部に分散させ(1000rpm、60分間)、真空脱泡して、ゴム粒子分散エポキシ化合物(25℃での粘度:530mPa・s)を得た。
なお、上記で得られたゴム粒子分散エポキシ化合物(10重量部のゴム粒子を80重量部のセロキサイド2021Pに分散させたもの)の粘度(25℃での粘度)は、デジタル粘度計(商品名「DVU−EII型」、(株)トキメック製)を使用して測定した。
Production Example 10
(Manufacture of rubber particle-dispersed epoxy compounds)
Using a dissolver with 10 parts by weight of the rubber particles obtained in Production Example 9 heated to 60 ° C. under a nitrogen stream, the product name “Celoxide 2021P” (3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4) -Epoxy) cyclohexanecarboxylate (manufactured by Daicel Corporation) dispersed in 80 parts by weight (1000 rpm, 60 minutes) and vacuum degassed to obtain a rubber particle-dispersed epoxy compound (viscosity at 25 ° C .: 530 mPa · s). It was.
The viscosity (viscosity at 25 ° C.) of the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained above (10 parts by weight of rubber particles dispersed in 80 parts by weight of celoxide 2021P) is a digital viscometer (trade name “ DVU-EII type "(manufactured by Tokimec Co., Ltd.).

製造例11
(硬化剤組成物の製造)
表2に示す配合割合(単位:重量部)で、商品名「リカシッド MH−700」(硬化剤、新日本理化(株)製)、商品名「U−CAT 18X」(硬化促進剤、サンアプロ(株)製)、及びエチレングリコール(添加剤、和光純薬工業(株)製)を、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して硬化剤組成物(「K剤」と称する場合がある)を得た。
Production Example 11
(Manufacture of curing agent composition)
In the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 2, the trade name “Rikacid MH-700” (curing agent, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), the trade name “U-CAT 18X” (curing accelerator, San Apro ( Co., Ltd.), and ethylene glycol (additive, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) using a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nerita AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.) The mixture was uniformly mixed and defoamed to obtain a curing agent composition (sometimes referred to as “K agent”).

実施例1
まず、表2に示す配合割合(単位:重量部)で、商品名「セロキサイド2021P」(脂環式エポキシ化合物、(株)ダイセル製)及びアクリル重合体粉体(P1)を、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、脂環式エポキシ化合物とアクリル重合体粉体(コアシェル型アクリルポリマー粒子)の混合物を得た。
次に、表2に示す配合割合(単位:重量部)となるように、上記で得た混合物と、商品名「BYK−300」(シリコーン系レベリング剤、ビックケミー・ジャパン(株)製)と、製造例11で得られた硬化剤組成物とを自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。上述の方法で測定した上記硬化性エポキシ樹脂組成物の25℃における粘度を表2に示す。
さらに、上記で得た硬化性エポキシ樹脂組成物を図1に示す光半導体のリードフレーム(InGaN素子、3.5mm×2.8mm)に注型した後、120℃のオーブン(樹脂硬化オーブン)で5時間加熱することで、上記硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を得た。なお、図1において、100はリフレクター(光反射用樹脂組成物)、101は金属配線、102は光半導体素子、103はボンディングワイヤ、104は硬化物(封止材)を示す。
Example 1
First, the product name “Celoxide 2021P” (alicyclic epoxy compound, manufactured by Daicel Corporation) and acrylic polymer powder (P1) and the acrylic polymer powder (P1) at a blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 2 are subjected to revolving stirring. Using an apparatus (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.), uniformly mixing, defoaming, alicyclic epoxy compound and acrylic polymer powder (core-shell type acrylic polymer) Particles).
Next, the mixture obtained above so as to have the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 2, the trade name “BYK-300” (silicone leveling agent, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), The curing agent composition obtained in Production Example 11 is uniformly mixed and defoamed using a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.). A curable epoxy resin composition was obtained. Table 2 shows the viscosity at 25 ° C. of the curable epoxy resin composition measured by the method described above.
Further, the curable epoxy resin composition obtained above was cast into an optical semiconductor lead frame (InGaN element, 3.5 mm × 2.8 mm) shown in FIG. 1, and then in an oven (resin curing oven) at 120 ° C. By heating for 5 hours, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the said curable epoxy resin composition was obtained. In FIG. 1, 100 is a reflector (light reflecting resin composition), 101 is a metal wiring, 102 is an optical semiconductor element, 103 is a bonding wire, and 104 is a cured product (sealing material).

実施例2〜14、比較例1〜7
硬化性エポキシ樹脂組成物の組成を表2に示す組成に変更したこと以外は実施例1と同様にして、硬化性エポキシ樹脂組成物を調製した。なお、実施例14においては、エポキシ樹脂の構成成分として、製造例10で得られたゴム粒子分散エポキシ化合物を使用した。なお、エポキシ樹脂としてモノアリルジグリシジルイソシアヌレート(MA−DGIC、四国化成工業(株))を配合する場合には、MA−DGICを溶解させるために、80℃で1時間攪拌することによって、エポキシ樹脂、又は、エポキシ樹脂とアクリル重合体粉体の混合を実施した。
また、実施例1と同様にして光半導体装置を作製した。
Examples 2-14, Comparative Examples 1-7
A curable epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the curable epoxy resin composition was changed to the composition shown in Table 2. In Example 14, the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained in Production Example 10 was used as a constituent component of the epoxy resin. In addition, when compounding monoallyl diglycidyl isocyanurate (MA-DGIC, Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) as an epoxy resin, in order to dissolve MA-DGIC, the epoxy is obtained by stirring at 80 ° C. for 1 hour. Mixing of resin or epoxy resin and acrylic polymer powder was performed.
Further, an optical semiconductor device was fabricated in the same manner as in Example 1.

実施例15
まず、表3に示す配合割合(単位:重量部)で、商品名「セロキサイド2021P」(脂環式エポキシ化合物、(株)ダイセル製)及びアクリル重合体粉体(P1)を、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、脂環式エポキシ化合物とアクリル重合体粉体の混合物を得た。
次に、表3に示す配合割合(単位:重量部)となるように、上記で得た混合物と、商品名「BYK−300」(シリコーン系レベリング剤、ビックケミー・ジャパン(株)製)と、商品名「サンエイド SI−100L」(硬化触媒、三新化学工業(株)製)とを自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
さらに、上記で得た硬化性エポキシ樹脂組成物を図1に示す光半導体のリードフレーム(InGaN素子、3.5mm×2.8mm)に注型した後、120℃のオーブン(樹脂硬化オーブン)で5時間加熱することで、上記硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を得た。
Example 15
First, the product name “Celoxide 2021P” (alicyclic epoxy compound, manufactured by Daicel Co., Ltd.) and acrylic polymer powder (P1) and the acrylic polymer powder (P1) at the blending ratio (unit: part by weight) shown in Table 3 Using a device (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.), the mixture was uniformly mixed and degassed to obtain a mixture of an alicyclic epoxy compound and an acrylic polymer powder. .
Next, the mixture obtained above and a trade name “BYK-300” (silicone-based leveling agent, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) so as to have a blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 3; Using the product name "Sun-Aid SI-100L" (curing catalyst, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) and a self-revolving stirrer (trade name "Awatori Nerita AR-250", manufactured by Shinky Corporation) Were mixed uniformly and defoamed to obtain a curable epoxy resin composition.
Further, the curable epoxy resin composition obtained above was cast into an optical semiconductor lead frame (InGaN element, 3.5 mm × 2.8 mm) shown in FIG. 1, and then in an oven (resin curing oven) at 120 ° C. By heating for 5 hours, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the said curable epoxy resin composition was obtained.

実施例16〜27、比較例8〜14
硬化性エポキシ樹脂組成物の組成を表3に示す組成に変更したこと以外は実施例15と同様にして、硬化性エポキシ樹脂組成物を調製した。なお、実施例26においては、エポキシ樹脂の構成成分として、製造例10で得られたゴム粒子分散エポキシ化合物を使用した。なお、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート(MA−DGIC、四国化成工業(株))を配合する場合には、MA−DGICを溶解させるために、80℃で1時間攪拌することによって、エポキシ樹脂、又は、エポキシ樹脂とアクリル重合体粉体の混合を実施した。
また、実施例15と同様にして光半導体装置を作製した。
Examples 16 to 27, Comparative Examples 8 to 14
A curable epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 15 except that the composition of the curable epoxy resin composition was changed to the composition shown in Table 3. In Example 26, the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained in Production Example 10 was used as a constituent component of the epoxy resin. In addition, when compounding monoallyl diglycidyl isocyanurate (MA-DGIC, Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), in order to dissolve MA-DGIC, by stirring for 1 hour at 80 ° C., an epoxy resin, or Then, the epoxy resin and the acrylic polymer powder were mixed.
Further, an optical semiconductor device was manufactured in the same manner as in Example 15.

<評価>
実施例及び比較例で得られた光半導体装置について、下記の評価試験を実施した。
<Evaluation>
The following evaluation tests were carried out on the optical semiconductor devices obtained in the examples and comparative examples.

[通電試験]
実施例及び比較例で得られた光半導体装置の全光束を全光束測定機を用いて測定し、これを「0時間の全光束」とした。さらに、85℃の恒温槽内で100時間、光半導体装置に40mAの電流を流した後の全光束を測定し、これを「100時間後の全光束」とした。そして、次式から光度保持率を算出した。結果を表2、3の「光度保持率[%]」の欄に示す。
{光度保持率(%)}
={100時間後の全光束(lm)}/{0時間の全光束(lm)}×100
[Energization test]
The total luminous flux of the optical semiconductor devices obtained in the examples and comparative examples was measured using a total luminous flux measuring machine, and this was defined as “total luminous flux for 0 hour”. Further, the total luminous flux after a current of 40 mA was passed through the optical semiconductor device in an 85 ° C. constant temperature bath for 100 hours was measured, and this was designated as “total luminous flux after 100 hours”. And luminous intensity retention was computed from the following formula. The results are shown in the columns of “Luminance retention rate [%]” in Tables 2 and 3.
{Luminance retention (%)}
= {Total luminous flux after 100 hours (lm)} / {total luminous flux after 0 hours (lm)} × 100

[はんだ耐熱性試験]
実施例及び比較例で得られた光半導体装置(各硬化性エポキシ樹脂組成物につき2個ずつ用いた)を、30℃、70%RHの条件下で192時間静置して吸湿処理した。次いで、上記光半導体装置をリフロー炉に入れ、下記加熱条件にて加熱処理した。その後、上記光半導体装置を室温環境下に取り出して放冷した後、再度リフロー炉に入れて同条件で加熱処理した。即ち、当該はんだ耐熱性試験においては、光半導体装置に対して下記加熱条件による熱履歴を二度与えた。
〔加熱条件(光半導体装置の表面温度基準)〕
(1)予備加熱:150〜190℃で60〜120秒
(2)予備加熱後の本加熱:217℃以上で60〜150秒、最高温度260℃
但し、予備加熱から本加熱に移行する際の昇温速度は最大で3℃/秒に制御した。
図2には、リフロー炉による加熱の際の光半導体装置の表面温度プロファイル(二度の加熱処理のうち一方の加熱処理における温度プロファイル)の一例を示す。
その後、デジタルマイクロスコープ(商品名「VHX−900」、(株)キーエンス製)を使用して光半導体装置を観察し、硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生したか否か、及び、電極剥離(電極表面からの硬化物の剥離)が発生したか否かを評価した。光半導体装置2個のうち、硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数を表2、3の「はんだ耐熱性試験[クラック数]」の欄に示し、電極剥離が発生した光半導体装置の個数を表2、3の「はんだ耐熱性試験[電極剥離数]」の欄に示した。
[Solder heat resistance test]
The optical semiconductor devices (two used for each curable epoxy resin composition) obtained in the examples and comparative examples were left to stand for 192 hours under the conditions of 30 ° C. and 70% RH for moisture absorption treatment. Subsequently, the said optical semiconductor device was put into the reflow furnace, and it heat-processed on the following heating conditions. Thereafter, the optical semiconductor device was taken out in a room temperature environment and allowed to cool, and then again placed in a reflow furnace and heat-treated under the same conditions. That is, in the solder heat resistance test, the thermal history under the following heating conditions was given twice to the optical semiconductor device.
[Heating conditions (based on surface temperature of optical semiconductor device)]
(1) Preheating: 150 to 190 ° C. for 60 to 120 seconds (2) Main heating after preheating: 217 ° C. or more for 60 to 150 seconds, maximum temperature 260 ° C.
However, the rate of temperature increase when shifting from preheating to main heating was controlled to 3 ° C./second at the maximum.
FIG. 2 shows an example of a surface temperature profile (temperature profile in one of the two heat treatments) of the optical semiconductor device when heated by the reflow furnace.
Thereafter, the optical semiconductor device was observed using a digital microscope (trade name “VHX-900”, manufactured by Keyence Co., Ltd.), whether or not a crack having a length of 90 μm or more occurred in the cured product, and It was evaluated whether or not electrode peeling (peeling of the cured product from the electrode surface) occurred. Of the two optical semiconductor devices, the number of optical semiconductor devices having a crack of 90 μm or longer in the cured product is shown in the column of “Solder heat resistance test [number of cracks]” in Tables 2 and 3, The number of generated optical semiconductor devices is shown in the column of “Solder heat resistance test [number of electrode peeling]” in Tables 2 and 3.

[熱衝撃試験]
実施例及び比較例で得られた光半導体装置(各硬化性エポキシ樹脂組成物につき2個ずつ用いた)に対し、−40℃の雰囲気下に30分曝露し、続いて、120℃の雰囲気下に30分曝露することを1サイクルとした熱衝撃を、熱衝撃試験機を用いて500サイクル分与えた。その後、光半導体装置における硬化物に生じたクラックの長さを、デジタルマイクロスコープ(商品名「VHX−900」、(株)キーエンス製)を使用して観察し、光半導体装置2個のうち硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数を計測した。結果を表2、3の「熱衝撃試験[クラック数]」の欄に示す。
[Thermal shock test]
The optical semiconductor devices obtained in the examples and comparative examples (two were used for each curable epoxy resin composition) were exposed in an atmosphere of −40 ° C. for 30 minutes, and then in an atmosphere of 120 ° C. A thermal shock with one cycle of exposure to 30 minutes was applied for 500 cycles using a thermal shock tester. Then, the length of the crack which arose in the hardened | cured material in an optical semiconductor device was observed using a digital microscope (brand name "VHX-900", the Keyence Co., Ltd. product), and hardening was carried out among two optical semiconductor devices. The number of optical semiconductor devices in which cracks having a length of 90 μm or more occurred in the object was measured. The results are shown in the column of “thermal shock test [number of cracks]” in Tables 2 and 3.

[総合判定]
各試験の結果、下記(1)〜(4)をいずれも満たすものを○(良好)と判定した。一方、下記(1)〜(4)のいずれかを満たさない場合には×(不良)と判定した。
(1)通電試験:光度保持率が80%以上
(2)はんだ耐熱性試験:硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数が0個
(3)はんだ耐熱性試験:電極剥離が発生した光半導体装置の個数が0個
(4)熱衝撃試験:硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数が0個
結果を表2、3の「総合判定」の欄に示す。
[Comprehensive judgment]
As a result of each test, what satisfy | filled all the following (1)-(4) was determined as (circle) (good). On the other hand, when any of the following (1) to (4) was not satisfied, it was determined as x (defective).
(1) Current test: luminous intensity retention of 80% or more (2) Solder heat resistance test: No. of optical semiconductor devices having cracks of 90 μm or more in cured product (3) Solder heat resistance test: The number of optical semiconductor devices in which electrode peeling occurred was zero (4) Thermal shock test: The number of optical semiconductor devices in which cracks of 90 μm or more occurred in the cured product was zero. It is shown in the “determination” column.

Figure 0006046497
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Figure 0006046497
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なお、実施例、比較例で使用した成分は、以下の通りである。
(エポキシ樹脂)
CEL2021P(セロキサイド2021P):3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、(株)ダイセル製
MA−DGIC:モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、四国化成工業(株)製
YD−128:ビスフェノールA型エポキシ樹脂、新日鐵化学(株)製
(レベリング剤)
BYK−300:シリコーン系レベリング剤(シリコーン系重合体(C1)を含む)、ビックケミー・ジャパン(株)製
AC FS 180:シリコーン系レベリング剤(シリコーン系重合体(C1)を含む)、Algin Chemie製
BYK−340:フッ素系レベリング剤(含フッ素アクリル系重合体(C2)を含む)、ビックケミー・ジャパン(株)製
AC 110a:フッ素系レベリング剤(含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)を含む)、Algin Chemie製
(硬化剤組成物)
MH−700(リカシッド MH−700):4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸=70/30、新日本理化(株)製
U−CAT 18X:硬化促進剤、サンアプロ(株)製
エチレングリコール:和光純薬工業(株)製
(硬化触媒)
SI−100L(サンエイド SI−100L):硬化触媒、三新化学工業(株)製
In addition, the component used by the Example and the comparative example is as follows.
(Epoxy resin)
CEL2021P (Celoxide 2021P): 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate, manufactured by Daicel Corporation MA-DGIC: monoallyl diglycidyl isocyanurate, manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd. YD-128 : Bisphenol A type epoxy resin, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. (leveling agent)
BYK-300: Silicone leveling agent (including silicone polymer (C1)), Big Chemie Japan Co., Ltd. AC FS 180: Silicone leveling agent (including silicone polymer (C1)), Algin Chemie BYK-340: Fluorine leveling agent (including fluorinated acrylic polymer (C2)), Big Chemie Japan Co., Ltd. AC 110a: Fluorine leveling agent (including fluorinated polyether polymer (C3)) , Made by Algin Chemie (curing agent composition)
MH-700 (Licacid MH-700): 4-methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride = 70/30, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd. U-CAT 18X: curing accelerator, manufactured by San Apro Co., Ltd. Glycol: Wako Pure Chemical Industries, Ltd. (curing catalyst)
SI-100L (Sun-Aid SI-100L): Curing catalyst, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.

試験機器
・樹脂硬化オーブン
エスペック(株)製 GPHH−201
・恒温槽
エスペック(株)製 小型高温チャンバー ST−120B1
・全光束測定機
オプトロニックラボラトリーズ社製 マルチ分光放射測定システム OL771
・熱衝撃試験機
エスペック(株)製 小型冷熱衝撃装置 TSE−11−A
・リフロー炉
日本アントム(株)製、UNI−5016F
Test equipment ・ Resin curing oven ESPH Co., Ltd. GPH-201
-Thermostatic chamber ESPEC Co., Ltd. Small high temperature chamber ST-120B1
・ Total luminous flux measuring machine Optronic Laboratories Multi-spectral Radiation Measurement System OL771
・ Thermal shock tester Espec Co., Ltd. Small thermal shock device TSE-11-A
-Reflow furnace manufactured by Nippon Antom Co., Ltd., UNI-5016F

100:リフレクター(光反射用樹脂組成物)
101:金属配線
102:光半導体素子
103:ボンディングワイヤ
104:硬化物(封止材)
100: Reflector (resin composition for light reflection)
101: Metal wiring 102: Optical semiconductor element 103: Bonding wire 104: Hardened material (sealing material)

Claims (10)

下記式(I)
Figure 0006046497
[式(I)中、Xは単結合、又は2価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、及びこれらが複数個連結した基からなる群から選ばれる連結基を示す。]
で表される脂環式エポキシ化合物(A)と、溶解度パラメータ(Fedors法)が19.5〜21.5[MPa1/2]であるコアシェル型アクリルポリマー粒子(B)と、シリコーン系レベリング剤及びフッ素系レベリング剤からなる群より選ばれた少なくとも1種のレベリング剤(C)とを含み、
コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)のコアを構成するアクリルポリマーのガラス転移温度が60〜120℃、シェルを構成するアクリルポリマーのガラス転移温度が60〜120℃であり、
コアシェル型アクリルポリマー粒子(B)の含有量が、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して1〜30重量部であることを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物。
Formula (I)
Figure 0006046497
[In the formula (I), X is a single bond or a divalent hydrocarbon group, a carbonyl group, an ether bond, an ester bond, a carbonate group, an amide group, and a group selected from the group consisting of a plurality of these groups linked together. Indicates a group. ]
In the alicyclic epoxy compound represented as (A), the solubility parameter core-shell acrylic polymer particles (Fedors method) is 19.5~21.5 [MPa 1/2] (B) , a silicone-based leveling agent And at least one leveling agent (C) selected from the group consisting of fluorine-based leveling agents,
The glass transition temperature of the acrylic polymer constituting the core of the core-shell type acrylic polymer particles (B) is 60 to 120 ° C., and the glass transition temperature of the acrylic polymer constituting the shell is 60 to 120 ° C.,
Content of a core-shell type acrylic polymer particle (B) is 1-30 weight part with respect to 100 weight part of alicyclic epoxy compounds (A), The curable epoxy resin composition characterized by the above-mentioned.
さらに、下記式(1)
Figure 0006046497
[式中、R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。]
で表されるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(D)を含む請求項1に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
Further, the following formula (1)
Figure 0006046497
[Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]
The curable epoxy resin composition of Claim 1 containing the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (D) represented by these.
レベリング剤(C)が、下記式(2)
Figure 0006046497
[式(2)中、R3は、置換基を有していてもよい直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示す。R4は、置換基を有していてもよい直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、ポリエーテル鎖を含む有機基、又はポリエステル鎖を含む有機基を示す。]
で表される構造単位を有するシリコーン系重合体(C1)、下記式(3)
Figure 0006046497
[式(3)中、R5は、水素原子、フッ素原子、又は、水素原子の一部若しくは全部がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数1〜4の直鎖若しくは分岐鎖状のアルキル基を示す。R6は、フッ素化アルキル基を示す。]
で表される構造単位を有する含フッ素アクリル系重合体(C2)、及び下記式(4)
Figure 0006046497
[式(4)中、R19は、3価の直鎖又は分岐鎖状の炭化水素基を示す。R20は、フッ素化アルキル基を示す。zは、1〜30の整数を示す。]
で表される構造単位を有する含フッ素ポリエーテル系重合体(C3)からなる群より選択された少なくとも1種の重合体を含むレベリング剤である請求項1又は2に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
Leveling agent (C) is represented by the following formula (2)
Figure 0006046497
[In formula (2), R 3 represents an optionally substituted straight or branched chain alkyl group. R 4 is a linear or branched alkyl group which may have a substituent, an aralkyl group which may have a substituent, an organic group containing a polyether chain, or an organic group containing a polyester chain Indicates. ]
Silicone polymer (C1) having a structural unit represented by the following formula (3)
Figure 0006046497
[In the formula (3), R 5 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, or a linear or branched alkyl having 1 to 4 carbon atoms in which part or all of the hydrogen atoms may be substituted with a fluorine atom. Indicates a group. R 6 represents a fluorinated alkyl group. ]
And a fluorine-containing acrylic polymer (C2) having a structural unit represented by the following formula (4):
Figure 0006046497
[In the formula (4), R 19 represents a trivalent linear or branched hydrocarbon group. R 20 represents a fluorinated alkyl group. z shows the integer of 1-30. ]
The curable epoxy resin composition according to claim 1 or 2, which is a leveling agent comprising at least one polymer selected from the group consisting of a fluorine-containing polyether polymer (C3) having a structural unit represented by object.
脂環式エポキシ化合物(A)が、下記式(I−1)
Figure 0006046497
で表される化合物である請求項1〜のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
The alicyclic epoxy compound (A) is represented by the following formula (I-1)
Figure 0006046497
Curable epoxy resin composition according to any one of claims 1 to 3 in a compound represented by.
さらに、ゴム粒子を含む請求項1〜のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。 Furthermore, the curable epoxy resin composition of any one of Claims 1-4 containing a rubber particle. さらに、硬化剤(E)及び硬化促進剤(F)、又は硬化触媒(G)を含む請求項1〜のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。 Furthermore, the curable epoxy resin composition of any one of Claims 1-5 containing a hardening | curing agent (E), a hardening accelerator (F), or a hardening catalyst (G). 前記硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量%に対する脂環式エポキシ化合物(A)の含有量が60重量%以上である請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。The content of the alicyclic epoxy compound (A) with respect to the total amount of 100% by weight of the compound having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition is 60% by weight or more. The curable epoxy resin composition described. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物硬化物。 Hardened | cured material of the curable epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 光半導体封止用樹脂組成物である請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。   It is a resin composition for optical semiconductor sealing, The curable epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 請求項9に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置。   An optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition according to claim 9.
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