JP2015098586A - Curable epoxy resin composition - Google Patents

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弘世 鈴木
Hirose Suzuki
弘世 鈴木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable epoxy resin composition capable of forming a cured product which has high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance and is capable of particularly improving conduction characteristics and moisture absorption reflow resistance of an optical semiconductor device at a high temperature.SOLUTION: The curable epoxy resin composition contains an alicyclic epoxy compound (A), a monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) represented by formula (1), and an isocyanuric acid derivative (C) having one oxirane ring in the molecule. [In the formula, Rand Rare the same or different and each represent a hydrogen atom or a C1-C8 alkyl group.]

Description

本発明は、硬化性エポキシ樹脂組成物、該硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物、及び該硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置に関する。   The present invention relates to a curable epoxy resin composition, a cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition, and an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition. About.

近年、光半導体装置の高出力化が進んでおり、このような光半導体装置において光半導体素子を被覆する樹脂(封止材)には、高い耐熱性や耐光性が求められている。従来、耐熱性が高い封止材を形成するための封止剤として、例えば、モノアリルジグリシジルイソシアヌレートとビスフェノールA型エポキシ樹脂を含む組成物が知られている(特許文献1参照)。しかしながら、上記組成物を高出力の青色・白色光半導体用の封止剤として用いた場合には、光半導体素子から発せられる光及び熱によって封止材の着色が進行し、本来出力されるべき光が吸収されてしまい、その結果、光半導体装置から出力される光の光度が経時で低下するという問題が生じていた。   In recent years, the output of optical semiconductor devices has been increased, and high heat resistance and light resistance are required for a resin (encapsulant) that covers an optical semiconductor element in such an optical semiconductor device. Conventionally, as a sealing agent for forming a sealing material having high heat resistance, for example, a composition containing monoallyl diglycidyl isocyanurate and a bisphenol A type epoxy resin is known (see Patent Document 1). However, when the composition is used as a sealant for a high-output blue / white light semiconductor, the coloring of the sealant proceeds by light and heat emitted from the optical semiconductor element and should be output originally. As a result, the light is absorbed, and as a result, the intensity of the light output from the optical semiconductor device is lowered with time.

高い耐熱性及び耐光性を有し、黄変しにくい硬化物(封止材)を形成する封止剤として、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレートとε−カプロラクトンの付加物、1,2,8,9−ジエポキシリモネン等の脂環骨格を有する液状の脂環式エポキシ樹脂が知られている。しかし、これらの脂環式エポキシ樹脂の硬化物は各種応力に弱く、冷熱サイクル(加熱と冷却を周期的に繰り返すこと)のような熱衝撃が加えられた場合に、クラック(ひび割れ)が発生する等の問題が生じていた。   3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate, 3,4 as a sealing agent that forms a cured product (sealing material) that has high heat resistance and light resistance and is not easily yellowed -Liquid alicyclic epoxy resins having an alicyclic skeleton such as an adduct of epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate and ε-caprolactone, 1,2,8,9-diepoxylimonene, etc. are known. ing. However, the cured products of these alicyclic epoxy resins are susceptible to various stresses, and cracks are generated when a thermal shock such as a cooling cycle (repeating heating and cooling periodically) is applied. Etc. had occurred.

また、光半導体装置(例えば、表面実装型の光半導体装置)は、はんだ付けにより光半導体装置の電極を配線基板に接合するためのリフロー工程を経るのが一般的である。近年、接合材としてのはんだとして、融点の高い無鉛はんだが使用されるようになってきており、リフロー工程での加熱処理がより高温(例えば、ピーク温度が240〜260℃)になってきている。このような状況下、従来の光半導体装置においては、リフロー工程での加熱処理により封止材が光半導体装置のリードフレームから剥離したり、封止材にクラックが生じたりする等の劣化の問題が生じていた。   In addition, an optical semiconductor device (for example, a surface-mount type optical semiconductor device) generally undergoes a reflow process for bonding an electrode of the optical semiconductor device to a wiring board by soldering. In recent years, lead-free solder having a high melting point has been used as a solder as a bonding material, and heat treatment in a reflow process has become a higher temperature (for example, a peak temperature of 240 to 260 ° C.). . Under such circumstances, in the conventional optical semiconductor device, there is a problem of deterioration such that the sealing material is peeled off from the lead frame of the optical semiconductor device due to the heat treatment in the reflow process, or the sealing material is cracked. Has occurred.

このため、光半導体装置における封止材には、高い耐熱性、耐光性に加え、熱衝撃が加えられた場合にもクラックが生じにくい特性(「耐熱衝撃性」と称する場合がある)、及び、リフロー工程において加熱処理された際にもクラックや剥離が生じにくい特性が求められている。特に、近年、封止材のより高い信頼性確保の観点から、光半導体装置を高湿条件下で一定時間(例えば、30℃、60%RHの条件下で192時間;60℃、60%RHの条件下で52時間等)置いて吸湿させた後にリフロー工程で加熱処理した場合にもなお上述のクラックや剥離が生じにくいこと(このような特性を「耐吸湿リフロー性」と称する場合がある)も求められている。   For this reason, the sealing material in the optical semiconductor device has high heat resistance and light resistance, and also has a characteristic that cracks are not easily generated when a thermal shock is applied (sometimes referred to as “thermal shock resistance”), and Further, there is a demand for characteristics in which cracks and peeling are unlikely to occur even when heat treatment is performed in the reflow process. In particular, in recent years, from the viewpoint of ensuring higher reliability of the sealing material, the optical semiconductor device is kept under high humidity conditions for a certain time (for example, 192 hours under conditions of 30 ° C. and 60% RH; 60 ° C., 60% RH). The above-mentioned cracks and peeling are not likely to occur even when heat treatment is performed in the reflow process after placing and absorbing moisture under the above conditions (such as 52 hours) (this characteristic is sometimes referred to as “moisture absorption reflow resistance”). ) Is also required.

特開2000−344867号公報JP 2000-344867 A

従って、本発明の目的は、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に、光半導体装置の高温における通電特性及び耐吸湿リフロー性を向上させることが可能な硬化物を形成できる硬化性エポキシ樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に、光半導体装置の高温における通電特性及び耐吸湿リフロー性を向上させることが可能な硬化物を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、高温における通電特性に優れ、さらに高湿条件下で保管された後にリフロー工程で加熱処理した場合の光度低下等の劣化が抑制された、耐久性及び品質の高い光半導体装置を提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to have a high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance, and in particular, it is possible to form a cured product capable of improving the current-carrying characteristics and moisture absorption reflow resistance of an optical semiconductor device at high temperatures. The object is to provide a curable epoxy resin composition.
Another object of the present invention is to provide a cured product having high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance, and in particular, capable of improving current-carrying characteristics and moisture absorption reflow resistance at high temperatures of an optical semiconductor device. It is to provide.
In addition, another object of the present invention is to improve durability and quality, which is excellent in current-carrying characteristics at high temperature, further suppresses deterioration such as a decrease in luminous intensity when heat-treated in a reflow process after being stored under high humidity conditions. The object is to provide a high optical semiconductor device.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、脂環式エポキシ化合物と、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物と、分子内に1個のオキシラン環を有するイソシアヌル酸誘導体とを含む硬化性エポキシ樹脂組成物が、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に、光半導体装置の高温における通電特性及び耐吸湿リフロー性を向上させることが可能な硬化物を形成できることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that a curable composition containing an alicyclic epoxy compound, a monoallyl diglycidyl isocyanurate compound, and an isocyanuric acid derivative having one oxirane ring in the molecule. It has been found that the epoxy resin composition has high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance, and in particular, can form a cured product that can improve current-carrying characteristics and moisture absorption reflow resistance at high temperatures of optical semiconductor devices. The present invention has been completed.

すなわち、本発明は、脂環式エポキシ化合物(A)と、下記式(1)

Figure 2015098586
[式中、R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。]
で表されるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)と、分子内に1個のオキシラン環を有するイソシアヌル酸誘導体(C)とを含むことを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。 That is, the present invention relates to an alicyclic epoxy compound (A) and the following formula (1).
Figure 2015098586
[Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]
The curable epoxy resin composition characterized by including the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) represented by these, and the isocyanuric acid derivative (C) which has one oxirane ring in a molecule | numerator is provided.

さらに、分子内に1個のオキシラン環を有するイソシアヌル酸誘導体(C)が、下記式(2−1)

Figure 2015098586
[式中、R3、R4は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。]
で表されるジアリルモノグリシジルイソシアヌレート化合物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。 Furthermore, the isocyanuric acid derivative (C) having one oxirane ring in the molecule is represented by the following formula (2-1):
Figure 2015098586
[In formula, R < 3 >, R < 4 > is the same or different, and shows a hydrogen atom or a C1-C8 alkyl group. ]
The said curable epoxy resin composition which is a diallyl monoglycidyl isocyanurate compound represented by these is provided.

さらに、脂環式エポキシ化合物(A)が、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the curable epoxy resin composition is provided in which the alicyclic epoxy compound (A) is a compound having a cyclohexene oxide group.

さらに、脂環式エポキシ化合物(A)が、下記式(I−1)

Figure 2015098586
で表される化合物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。 Furthermore, the alicyclic epoxy compound (A) is represented by the following formula (I-1)
Figure 2015098586
The said curable epoxy resin composition which is a compound represented by these is provided.

さらに、ゴム粒子を含む前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable epoxy resin composition containing a rubber particle is provided.

さらに、硬化剤(D)及び硬化促進剤(E)を含む前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable epoxy resin composition containing a hardening | curing agent (D) and a hardening accelerator (E) is provided.

さらに、硬化触媒(F)を含む前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable epoxy resin composition containing a curing catalyst (F) is provided.

また、本発明は、前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物を提供する。   The present invention also provides a cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition.

さらに、光半導体封止用樹脂組成物である前記の硬化性エポキシ樹脂組成物を提供する。   Furthermore, the said curable epoxy resin composition which is a resin composition for optical semiconductor sealing is provided.

また、本発明は、前記の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を提供する。   Moreover, this invention provides the optical semiconductor device by which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the said curable epoxy resin composition.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は上記構成を有するため、該樹脂組成物を硬化させることにより、高い耐熱性、耐光性、及び耐熱衝撃性を有し、特に、光半導体装置の高温における通電特性及び耐吸湿リフロー性を向上させることが可能な硬化物を形成することができる。このため、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体封止用樹脂組成物として使用した場合には、特に、高温の過酷な条件下において光度低下等の劣化が生じにくく、さらに、高湿条件下で保管した後にリフロー工程で加熱処理した場合でも光度低下等の劣化が生じにくい、耐久性及び品質の高い光半導体装置を得ることができる。   Since the curable epoxy resin composition of the present invention has the above-described configuration, it has high heat resistance, light resistance, and thermal shock resistance by curing the resin composition. A cured product capable of improving characteristics and moisture absorption reflow resistance can be formed. For this reason, when the curable epoxy resin composition of the present invention is used as a resin composition for optical semiconductor encapsulation, deterioration such as a decrease in luminous intensity is unlikely to occur especially under severe conditions at high temperatures. It is possible to obtain an optical semiconductor device having high durability and high quality, which is less likely to deteriorate such as a decrease in luminous intensity even when heat treatment is performed in a reflow process after storage under conditions.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置の一実施形態を示す概略図である。左側の図(a)は斜視図であり、右側の図(b)は断面図である。It is the schematic which shows one Embodiment of the optical semiconductor device by which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the curable epoxy resin composition of this invention. The left figure (a) is a perspective view, and the right figure (b) is a sectional view. 実施例のはんだ耐熱性試験における光半導体装置の表面温度プロファイル(二度の加熱処理のうち一方の加熱処理における温度プロファイル)の一例である。It is an example of the surface temperature profile (temperature profile in one heat processing among two heat processing) of the optical semiconductor device in the solder heat resistance test of an Example.

<硬化性エポキシ樹脂組成物>
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物(A)と、下記式(1)で表されるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)(「モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)」と称する場合がある)と、分子内に1個のオキシラン環を有するイソシアヌル酸誘導体(C)(「イソシアヌル酸誘導体(C)」と称する場合がある)とを必須成分として含む組成物(硬化性組成物)である。

Figure 2015098586
<Curable epoxy resin composition>
The curable epoxy resin composition of the present invention comprises an alicyclic epoxy compound (A) and a monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) represented by the following formula (1) (“monoallyl diglycidyl isocyanurate compound ( B) ”) and an isocyanuric acid derivative (C) having one oxirane ring in the molecule (sometimes referred to as“ isocyanuric acid derivative (C) ”) as essential components. (Curable composition).
Figure 2015098586

[脂環式エポキシ化合物(A)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)は、分子内(一分子中)に脂環(脂肪族環)構造とエポキシ基(オキシラニル基)とを少なくとも有する化合物である。脂環式エポキシ化合物(A)としては、具体的には、(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環エポキシ基)を有する化合物、(ii)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物等が挙げられる。
[Alicyclic epoxy compound (A)]
The alicyclic epoxy compound (A) in the curable epoxy resin composition of the present invention is a compound having at least an alicyclic (aliphatic ring) structure and an epoxy group (oxiranyl group) in the molecule (in one molecule). . As the alicyclic epoxy compound (A), specifically, (i) a compound having an epoxy group (alicyclic epoxy group) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring, (Ii) A compound in which an epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond, and the like.

上述の(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基(脂環エポキシ基)を有する化合物としては、公知乃至慣用のものの中から任意に選択して使用することができる。中でも、上記脂環エポキシ基としては、シクロヘキセンオキシド基が好ましい。   The compound having an epoxy group (alicyclic epoxy group) composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring (i) is arbitrarily selected from known or commonly used compounds. Can be used. Especially, as said alicyclic epoxy group, a cyclohexene oxide group is preferable.

上述の(i)脂環を構成する隣接する2つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有する化合物としては、透明性、耐熱性の観点で、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物が好ましく、特に、下記式(I)で表される化合物(脂環式エポキシ化合物)が好ましい。

Figure 2015098586
As the compound (i) having an epoxy group composed of two adjacent carbon atoms and oxygen atoms constituting the alicyclic ring, a compound having a cyclohexene oxide group is preferable from the viewpoint of transparency and heat resistance. In particular, a compound (alicyclic epoxy compound) represented by the following formula (I) is preferable.
Figure 2015098586

上記式(I)中、Xは単結合又は連結基(1以上の原子を有する二価の基)を示す。上記連結基としては、例えば、二価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合、カーボネート基、アミド基、これらが複数個連結した基等が挙げられる。   In the above formula (I), X represents a single bond or a linking group (a divalent group having one or more atoms). Examples of the linking group include divalent hydrocarbon groups, alkenylene groups in which part or all of carbon-carbon double bonds are epoxidized, carbonyl groups, ether bonds, ester bonds, carbonate groups, amide groups, and the like. And a group in which a plurality of are connected.

上記式(I)中のXが単結合である化合物としては、3,4,3',4'−ジエポキシビシクロヘキサン等が挙げられる。   Examples of the compound in which X in the above formula (I) is a single bond include 3,4,3 ′, 4′-diepoxybicyclohexane and the like.

上記二価の炭化水素基としては、炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基、二価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が1〜18の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基等が挙げられる。上記二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、1,2−シクロペンチレン基、1,3−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基、シクロヘキシリデン基等の二価のシクロアルキレン基(シクロアルキリデン基を含む)等が挙げられる。   As said bivalent hydrocarbon group, a C1-C18 linear or branched alkylene group, a bivalent alicyclic hydrocarbon group, etc. are mentioned. Examples of the linear or branched alkylene group having 1 to 18 carbon atoms include a methylene group, a methylmethylene group, a dimethylmethylene group, an ethylene group, a propylene group, and a trimethylene group. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group include 1,2-cyclopentylene group, 1,3-cyclopentylene group, cyclopentylidene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclopentylene group, And divalent cycloalkylene groups (including cycloalkylidene groups) such as cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group, and cyclohexylidene group.

上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基(「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある)におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、1−ブテニレン基、2−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数2〜8の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数2〜4のアルケニレン基である。   Examples of the alkenylene group in the alkenylene group in which part or all of the carbon-carbon double bond is epoxidized (sometimes referred to as “epoxidized alkenylene group”) include, for example, a vinylene group, a propenylene group, and a 1-butenylene group. , A 2-butenylene group, a butadienylene group, a pentenylene group, a hexenylene group, a heptenylene group, an octenylene group, etc., and a linear or branched alkenylene group having 2 to 8 carbon atoms. In particular, the epoxidized alkenylene group is preferably an alkenylene group in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized, more preferably 2 to 4 carbon atoms in which all of the carbon-carbon double bonds are epoxidized. Alkenylene group.

上記連結基Xとしては、特に、酸素原子を含有する連結基が好ましく、具体的には、−CO−、−O−CO−O−、−COO−、−O−、−CONH−、エポキシ化アルケニレン基;これらの基が複数個連結した基;これらの基の1又は2以上と二価の炭化水素基の1又は2以上とが連結した基等が挙げられる。二価の炭化水素基としては上記で例示したものが挙げられる。   The linking group X is particularly preferably a linking group containing an oxygen atom, specifically, —CO—, —O—CO—O—, —COO—, —O—, —CONH—, epoxidation. An alkenylene group; a group in which a plurality of these groups are linked; a group in which one or more of these groups are linked to one or more of divalent hydrocarbon groups, and the like. Examples of the divalent hydrocarbon group include those exemplified above.

上記式(I)で表される脂環式エポキシ化合物の代表的な例としては、下記式(I−1)〜(I−10)で表される化合物、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、1,2−エポキシ−1,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)エタン、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン−1−イル)プロパン等が挙げられる。なお、下記式(I−5)、(I−7)中のl、mは、それぞれ1〜30の整数を表す。下記式(I−5)中のRは炭素数1〜8のアルキレン基であり、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、s−ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が挙げられる。これらの中でも、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。下記式(I−9)、(I−10)中のn1〜n6は、それぞれ1〜30の整数を示す。

Figure 2015098586
Figure 2015098586
Representative examples of the alicyclic epoxy compound represented by the above formula (I) include compounds represented by the following formulas (I-1) to (I-10), bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl). ) Ether, 1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) ethane, 1,2-epoxy-1,2-bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) ethane, 2,2 -Bis (3,4-epoxycyclohexane-1-yl) propane and the like. In the following formulas (I-5) and (I-7), l and m each represent an integer of 1 to 30. R in the following formula (I-5) is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, methylene group, ethylene group, propylene group, isopropylene group, butylene group, isobutylene group, s-butylene group, pentylene group, hexylene. And linear or branched alkylene groups such as a group, a heptylene group, and an octylene group. Among these, C1-C3 linear or branched alkylene groups, such as a methylene group, ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, are preferable. N1 to n6 in the following formulas (I-9) and (I-10) each represent an integer of 1 to 30.
Figure 2015098586
Figure 2015098586

上述の(ii)脂環にエポキシ基が直接単結合で結合している化合物としては、例えば、下記式(II)で表される化合物が挙げられる。

Figure 2015098586
Examples of the compound (ii) in which the epoxy group is directly bonded to the alicyclic ring with a single bond include compounds represented by the following formula (II).
Figure 2015098586

式(II)中、R′は、p価のアルコールの構造式からp個の水酸基(−OH)を除いた基(p価の有機基)であり、p、nはそれぞれ自然数を表す。p価のアルコール[R′−(OH)p]としては、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノール等の多価アルコール(炭素数1〜15のアルコール等)等が挙げられる。pは1〜6が好ましく、nは1〜30が好ましい。pが2以上の場合、それぞれの( )内(外側の括弧内)の基におけるnは同一でもよく異なっていてもよい。上記式(II)で表される化合物としては、具体的には、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物[例えば、商品名「EHPE3150」((株)ダイセル製)等]等が挙げられる。 In formula (II), R ′ is a group (p-valent organic group) obtained by removing p hydroxyl groups (—OH) from the structural formula of a p-valent alcohol, and p and n each represent a natural number. Examples of the p-valent alcohol [R ′-(OH) p ] include polyhydric alcohols (such as alcohols having 1 to 15 carbon atoms) such as 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol. p is preferably 1 to 6, and n is preferably 1 to 30. When p is 2 or more, n in each group in () (inside the outer parenthesis) may be the same or different. Specific examples of the compound represented by the above formula (II) include 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol [for example, , Trade name “EHPE3150” (manufactured by Daicel Corporation), etc.].

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において脂環式エポキシ化合物(A)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、脂環式エポキシ化合物(A)としては、例えば、商品名「セロキサイド2021P」、「セロキサイド2081」(以上、(株)ダイセル製)等の市販品を使用することもできる。   In the curable epoxy resin composition of the present invention, the alicyclic epoxy compound (A) can be used singly or in combination of two or more. In addition, as the alicyclic epoxy compound (A), for example, commercially available products such as trade names “Celoxide 2021P” and “Celoxide 2081” (manufactured by Daicel Corporation) may be used.

脂環式エポキシ化合物(A)としては、上記式(I−1)で表される化合物[3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート;例えば、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)等]が特に好ましい。   As the alicyclic epoxy compound (A), a compound represented by the above formula (I-1) [3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate; for example, trade name “Celoxide 2021P” (Daicel Co., Ltd.) etc. are particularly preferred.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における脂環式エポキシ化合物(A)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物の全量(100重量%)に対して、10〜95重量%が好ましく、より好ましくは15〜90重量%、さらに好ましくは20〜85重量%である。脂環式エポキシ化合物(A)の含有量を上記範囲に制御することにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化性がより向上したり、硬化物の耐熱性や機械強度がより向上する傾向がある。   The content (blending amount) of the alicyclic epoxy compound (A) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 10 with respect to the total amount (100% by weight) of the curable epoxy resin composition. -95 weight% is preferable, More preferably, it is 15-90 weight%, More preferably, it is 20-85 weight%. By controlling the content of the alicyclic epoxy compound (A) within the above range, the curability of the curable epoxy resin composition tends to be further improved, and the heat resistance and mechanical strength of the cured product tend to be further improved. .

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における、脂環式エポキシ化合物(A)、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)、及び、イソシアヌル酸誘導体(C)の全量(100重量%)に対する脂環式エポキシ化合物(A)の割合は、特に限定されないが、20〜95重量%が好ましく、より好ましくは30〜90重量%、さらに好ましくは40〜85重量%である。脂環式エポキシ化合物(A)の割合を20重量%以上とすることにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化性がより向上したり、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、脂環式エポキシ化合物(A)の割合を95重量%以下とすることにより、硬化物の耐熱衝撃性がより向上する傾向がある   In the curable epoxy resin composition of the present invention, the alicyclic epoxy compound (A), the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B), and the isocyanuric acid derivative (C) based on the total amount (100% by weight). Although the ratio of an epoxy compound (A) is not specifically limited, 20 to 95 weight% is preferable, More preferably, it is 30 to 90 weight%, More preferably, it is 40 to 85 weight%. By setting the ratio of the alicyclic epoxy compound (A) to 20% by weight or more, the curability of the curable epoxy resin composition tends to be further improved, and the heat resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the ratio of the alicyclic epoxy compound (A) is 95% by weight or less, the thermal shock resistance of the cured product tends to be further improved.

[モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物におけるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)は、上記式(1)で表される化合物である。式(1)中、R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が好ましい。上記式(1)中のR1及びR2は、水素原子であることが特に好ましい。
[Monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B)]
The monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) in the curable epoxy resin composition of the present invention is a compound represented by the above formula (1). Wherein (1), R 1, R 2 are the same or different, represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl groups. Examples thereof include a chain or branched alkyl group. Among these, a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group is preferable. R 1 and R 2 in the above formula (1) are particularly preferably hydrogen atoms.

モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)の代表的な例としては、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート、1−アリル−3,5−ビス(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレート、1−(2−メチルプロペニル)−3,5−ジグリシジルイソシアヌレート、1−(2−メチルプロペニル)−3,5−ビス(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレート等が挙げられる。なお、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)は一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。   Representative examples of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) include monoallyl diglycidyl isocyanurate, 1-allyl-3,5-bis (2-methylepoxypropyl) isocyanurate, 1- (2-methyl And propenyl) -3,5-diglycidyl isocyanurate, 1- (2-methylpropenyl) -3,5-bis (2-methylepoxypropyl) isocyanurate, and the like. In addition, monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type.

なお、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)は、アルコールや酸無水物等のエポキシ基(オキシラニル基)と反応する化合物を加えてあらかじめ変性して用いてもよい。   The monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) may be modified in advance by adding a compound that reacts with an epoxy group (oxiranyl group) such as alcohol or acid anhydride.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物におけるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して、5〜120重量部が好ましく、より好ましくは8〜110重量部、さらに好ましくは10〜105重量部である。モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)の含有量を5重量部以上とすることにより、硬化物の電極に対する密着性、耐熱衝撃性がより向上する傾向がある。一方、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)の含有量を120重量部以下とすることにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化性がより向上したり、硬化物の耐熱性や機械強度がより向上する傾向がある。   Although content (blending amount) of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, it is 5 with respect to 100 parts by weight of the alicyclic epoxy compound (A). -120 weight part is preferable, More preferably, it is 8-110 weight part, More preferably, it is 10-105 weight part. By setting the content of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) to 5 parts by weight or more, the adhesion of the cured product to the electrode and the thermal shock resistance tend to be further improved. On the other hand, by setting the content of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) to 120 parts by weight or less, the curability of the curable epoxy resin composition is further improved, and the heat resistance and mechanical strength of the cured product are further improved. There is a tendency to improve.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる脂環式エポキシ化合物(A)、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)、及び、イソシアヌル酸誘導体(C)の合計量(100重量%)に対するモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)の割合は、特に限定されないが、1〜60重量%が好ましく、より好ましくは5〜55重量%、さらに好ましくは7〜50重量%である。モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)の割合を1重量%以上とすることにより、硬化物の電極に対する密着性、耐熱衝撃性がより向上する傾向がある。一方、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)の割合を60重量%以下とすることにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化性がより向上したり、硬化物の耐熱性や機械強度がより向上する傾向がある。   Mono to the total amount (100% by weight) of the alicyclic epoxy compound (A), monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B), and isocyanuric acid derivative (C) contained in the curable epoxy resin composition of the present invention The ratio of the allyl diglycidyl isocyanurate compound (B) is not particularly limited, but is preferably 1 to 60% by weight, more preferably 5 to 55% by weight, and still more preferably 7 to 50% by weight. By setting the ratio of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) to 1% by weight or more, the adhesion of the cured product to the electrode and the thermal shock resistance tend to be further improved. On the other hand, by setting the ratio of the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) to 60% by weight or less, the curability of the curable epoxy resin composition is further improved, and the heat resistance and mechanical strength of the cured product are further improved. Tend to.

[イソシアヌル酸誘導体(C)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物におけるイソシアヌル酸誘導体(C)は、イソシアヌル酸の誘導体であって、分子内(一分子中)に1個のオキシラニル基を有する化合物である。イソシアヌル酸誘導体(C)としては、例えば、下記式(2)で表される化合物が例示される。

Figure 2015098586
[Isocyanuric acid derivative (C)]
The isocyanuric acid derivative (C) in the curable epoxy resin composition of the present invention is a derivative of isocyanuric acid, and is a compound having one oxiranyl group in the molecule (in one molecule). As an isocyanuric acid derivative (C), the compound represented by following formula (2) is illustrated, for example.
Figure 2015098586

式(2)中、RXは1個のオキシラン環を有する一価の有機基を示し、RY及びRZは、同一又は異なって、水素原子、又は、オキシラン環を有しない一価の有機基を示す。上記オキシラン環を有する一価の有機基としては、例えば、一価の炭化水素基[例えば、一価の脂肪族炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基等);一価の芳香族炭化水素基(例えばアリール基等);一価の複素環式基;脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び、芳香族炭化水素基の2以上が結合して形成された一価の基等]における水素原子の1個がオキシラニル基で置換された基等が挙げられる。なお、上記オキシラン環を有する一価の有機基は、オキシラニル基以外の置換基(例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子等の置換基)を有するものであっても良い。また、上記オキシラン環を有しない一価の有機基としては、例えば、一価の炭化水素基[例えば、一価の脂肪族炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基等);一価の芳香族炭化水素基(例えばアリール基等);一価の複素環式基;脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び芳香族炭化水素基の2以上が結合して形成された一価の基等]等が挙げられる。なお、上記オキシラン環を有しない一価の有機基は、オキシラニル基以外の置換基(例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ハロゲン原子等の置換基)を有するものであっても良い。 In formula (2), R X represents a monovalent organic group having one oxirane ring, and R Y and R Z are the same or different and are a monovalent organic having no hydrogen atom or oxirane ring. Indicates a group. Examples of the monovalent organic group having an oxirane ring include, for example, a monovalent hydrocarbon group [for example, a monovalent aliphatic hydrocarbon group (for example, an alkyl group, an alkenyl group)]; a monovalent aromatic hydrocarbon A monovalent heterocyclic group; a monovalent group formed by combining two or more of an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group; Etc.] in which one of the hydrogen atoms is substituted with an oxiranyl group. The monovalent organic group having an oxirane ring may have a substituent other than the oxiranyl group (for example, a substituent such as a hydroxy group, a carboxy group, or a halogen atom). Examples of the monovalent organic group having no oxirane ring include, for example, a monovalent hydrocarbon group [for example, a monovalent aliphatic hydrocarbon group (for example, an alkyl group, an alkenyl group, etc.); A monovalent heterocyclic group; a monovalent formed by combining two or more of an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group Etc.] and the like. The monovalent organic group having no oxirane ring may have a substituent other than the oxiranyl group (for example, a substituent such as a hydroxy group, a carboxy group, or a halogen atom).

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における、イソシアヌル酸誘導体(C)としては、硬化物の耐衝撃性及び密着性を向上させる観点から、特に、下記式(2−1)で表される化合物(ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート化合物)が好ましい。

Figure 2015098586
The isocyanuric acid derivative (C) in the curable epoxy resin composition of the present invention is particularly a compound represented by the following formula (2-1) from the viewpoint of improving the impact resistance and adhesion of the cured product ( Diallyl monoglycidyl isocyanurate compounds) are preferred.
Figure 2015098586

式(2−1)中、R3、R4は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。炭素数1〜8のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が挙げられる。中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等の炭素数1〜3の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基が好ましい。上記式(2−1)中のR3及びR4は、水素原子であることが特に好ましい。 In formula (2-1), R 3 and R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, and octyl groups. Examples thereof include a chain or branched alkyl group. Among these, a linear or branched alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group is preferable. R 3 and R 4 in the above formula (2-1) are particularly preferably hydrogen atoms.

イソシアヌル酸誘導体(C)の代表的な例としては、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート、1,3−ジアリル−5−(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレート、1,3−ビス(2−メチルプロペニル)−5−グリシジルイソシアヌレート、1,3−ビス(2−メチルプロペニル)−5−(2−メチルエポキシプロピル)イソシアヌレート等が挙げられる。なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物においてイソシアヌル酸誘導体(C)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。なお、イソシアヌル酸誘導体(C)としては、例えば、商品名「DA−MGIC」(四国化成工業(株)製)等の市販品を使用することもできる。   Representative examples of the isocyanuric acid derivative (C) include diallyl monoglycidyl isocyanurate, 1,3-diallyl-5- (2-methylepoxypropyl) isocyanurate, 1,3-bis (2-methylpropenyl)- Examples include 5-glycidyl isocyanurate and 1,3-bis (2-methylpropenyl) -5- (2-methylepoxypropyl) isocyanurate. In addition, in the curable epoxy resin composition of this invention, an isocyanuric acid derivative (C) can also be used individually by 1 type, and can also be used in combination of 2 or more type. In addition, as an isocyanuric acid derivative (C), commercial items, such as a brand name "DA-MGIC" (made by Shikoku Chemicals Co., Ltd.), can also be used, for example.

なお、イソシアヌル酸誘導体(C)は、アルコールや酸無水物等のエポキシ基(オキシラニル基)と反応する化合物を加えてあらかじめ変性して用いてもよい。   The isocyanuric acid derivative (C) may be modified in advance by adding a compound that reacts with an epoxy group (oxiranyl group) such as an alcohol or an acid anhydride.

本発明のイソシアヌル酸誘導体(C)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、脂環式エポキシ化合物(A)100重量部に対して、1〜40重量部が好ましく、より好ましくは3〜35重量部、さらに好ましくは5〜30重量部である。イソシアヌル酸誘導体(C)の含有量を1重量部以上とすることにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化性がより向上したり、硬化物の耐熱性や機械強度がより向上する傾向がある。一方、イソシアヌル酸誘導体(C)の含有量を40重量部以下とすることにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化性がより向上したり、硬化物の耐熱性や機械強度がより向上する傾向がある。   Although content (blending amount) of the isocyanuric acid derivative (C) of the present invention is not particularly limited, it is preferably 1 to 40 parts by weight, more preferably 3 with respect to 100 parts by weight of the alicyclic epoxy compound (A). It is -35 weight part, More preferably, it is 5-30 weight part. By setting the content of the isocyanuric acid derivative (C) to 1 part by weight or more, the curability of the curable epoxy resin composition tends to be improved, and the heat resistance and mechanical strength of the cured product tend to be further improved. On the other hand, by setting the content of the isocyanuric acid derivative (C) to 40 parts by weight or less, the curability of the curable epoxy resin composition is further improved, and the heat resistance and mechanical strength of the cured product tend to be further improved. is there.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる脂環式エポキシ化合物(A)、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)及びイソシアヌル酸誘導体(C)の合計量(100重量%)に対するイソシアヌル酸誘導体(C)の割合は、特に限定されないが、1〜40重量%が好ましく、より好ましくは3〜30重量%、さらに好ましくは5〜20重量%である。イソシアヌル酸誘導体(C)の割合を1重量%以上とすることにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化性がより向上したり、硬化物の耐熱性や機械強度がより向上する傾向がある。一方、イソシアヌル酸誘導体(C)の割合を40重量%以下とすることにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化性がより向上したり、硬化物の耐熱性や機械強度がより向上する傾向がある。   Isocyanuric acid derivative relative to the total amount (100% by weight) of alicyclic epoxy compound (A), monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) and isocyanuric acid derivative (C) contained in the curable epoxy resin composition of the present invention The proportion of (C) is not particularly limited, but is preferably 1 to 40% by weight, more preferably 3 to 30% by weight, and still more preferably 5 to 20% by weight. By setting the proportion of the isocyanuric acid derivative (C) to 1% by weight or more, the curability of the curable epoxy resin composition is further improved, and the heat resistance and mechanical strength of the cured product tend to be further improved. On the other hand, by setting the ratio of the isocyanuric acid derivative (C) to 40% by weight or less, the curability of the curable epoxy resin composition is further improved, and the heat resistance and mechanical strength of the cured product tend to be further improved. .

[硬化剤(D)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、さらに、硬化剤(D)を含んでいてもよい。硬化剤(D)は、脂環式エポキシ化合物(A)、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)、イソシアヌル酸誘導体(C)等のエポキシ基(オキシラニル基)を有する化合物と反応することにより、硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させる働きを有する化合物である。硬化剤(D)としては、エポキシ樹脂用硬化剤として公知乃至慣用の硬化剤を使用することができ、特に限定されないが、例えば、酸無水物類(酸無水物系硬化剤)、アミン類(アミン系硬化剤)、ポリアミド樹脂、イミダゾール類(イミダゾール系硬化剤)、ポリメルカプタン類(ポリメルカプタン系硬化剤)、フェノール類(フェノール系硬化剤)、ポリカルボン酸類、ジシアンジアミド類、有機酸ヒドラジド等が挙げられる。
[Curing agent (D)]
The curable epoxy resin composition of the present invention may further contain a curing agent (D). The curing agent (D) reacts with a compound having an epoxy group (oxiranyl group) such as an alicyclic epoxy compound (A), a monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B), an isocyanuric acid derivative (C), It is a compound having a function of curing the curable epoxy resin composition. As the curing agent (D), a known or conventional curing agent can be used as a curing agent for epoxy resin, and is not particularly limited. For example, acid anhydrides (acid anhydride curing agents), amines ( Amine curing agents), polyamide resins, imidazoles (imidazole curing agents), polymercaptans (polymercaptan curing agents), phenols (phenolic curing agents), polycarboxylic acids, dicyandiamides, organic acid hydrazides, etc. Can be mentioned.

硬化剤(D)としての酸無水物類(酸無水物系硬化剤)としては、公知乃至慣用の酸無水物系硬化剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸(4−メチルテトラヒドロ無水フタル酸、3−メチルテトラヒドロ無水フタル酸等)、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、3−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等)、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、無水フタル酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、水素化メチルナジック酸無水物、4−(4−メチル−3−ペンテニル)テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水アジピン酸、無水セバシン酸、無水ドデカン二酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、ビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、アルキルスチレン−無水マレイン酸共重合体等が挙げられる。中でも、取り扱い性の観点で、25℃で液状の酸無水物[例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸等]が好ましい。一方、25℃で固体状の酸無水物については、例えば、25℃で液状の酸無水物に溶解させて液状の混合物とすることで、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化剤(D)としての取り扱い性が向上する傾向がある。酸無水物系硬化剤としては、硬化物の耐熱性、透明性の観点で、飽和単環炭化水素ジカルボン酸の無水物(環にアルキル基等の置換基が結合したものも含む)が好ましい。   As the acid anhydrides (acid anhydride curing agents) as the curing agent (D), known or commonly used acid anhydride curing agents can be used, and are not particularly limited. For example, methyltetrahydrophthalic anhydride (4 -Methyltetrahydrophthalic anhydride, 3-methyltetrahydrophthalic anhydride, etc.), methylhexahydrophthalic anhydride (such as 4-methylhexahydrophthalic anhydride, 3-methylhexahydrophthalic anhydride), dodecenyl succinic anhydride, methyl Endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylcyclohexene dicarboxylic anhydride, pyromellitic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride, anhydrous Nadic acid, anhydrous methyl nadic acid, methyl hydride Dic anhydride, 4- (4-methyl-3-pentenyl) tetrahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, adipic anhydride, sebacic anhydride, dodecanedioic anhydride, methylcyclohexene tetracarboxylic anhydride, vinyl ether-maleic anhydride Examples include acid copolymers and alkylstyrene-maleic anhydride copolymers. Among these, acid anhydrides [for example, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, etc.] that are liquid at 25 ° C. are preferable from the viewpoint of handleability. On the other hand, for a solid acid anhydride at 25 ° C., for example, by dissolving in a liquid acid anhydride at 25 ° C. to form a liquid mixture, the curing agent (D in the curable epoxy resin composition of the present invention (D ) Tends to be improved. As the acid anhydride curing agent, saturated monocyclic hydrocarbon dicarboxylic acid anhydrides (including those in which a substituent such as an alkyl group is bonded to the ring) are preferable from the viewpoint of heat resistance and transparency of the cured product.

硬化剤(D)としてのアミン類(アミン系硬化剤)としては、公知乃至慣用のアミン系硬化剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジプロピレンジアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ポリプロピレントリアミン等の脂肪族ポリアミン;メンセンジアミン、イソホロンジアミン、ビス(4−アミノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタン、ジアミノジシクロヘキシルメタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、N−アミノエチルピペラジン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−3,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン等の脂環式ポリアミン;m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、トリレン−2,4−ジアミン、トリレン−2,6−ジアミン、メシチレン−2,4−ジアミン、3,5−ジエチルトリレン−2,4−ジアミン、3,5−ジエチルトリレン−2,6−ジアミン等の単核ポリアミン、ビフェニレンジアミン、4,4−ジアミノジフェニルメタン、2,5−ナフチレンジアミン、2,6−ナフチレンジアミン等の芳香族ポリアミン等が挙げられる。   As the amines (amine-based curing agent) as the curing agent (D), a known or conventional amine-based curing agent can be used, and is not particularly limited. For example, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, Aliphatic polyamines such as dipropylenediamine, diethylaminopropylamine, polypropylenetriamine; mensendiamine, isophoronediamine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, diaminodicyclohexylmethane, bis (aminomethyl) cyclohexane, N-amino Cycloaliphatic polyamines such as ethylpiperazine, 3,9-bis (3-aminopropyl) -3,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane; m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, tri 2,4-diamine, tolylene-2,6-diamine, mesitylene-2,4-diamine, 3,5-diethyltolylene-2,4-diamine, 3,5-diethyltolylene-2,6- Examples include mononuclear polyamines such as diamine, aromatic polyamines such as biphenylenediamine, 4,4-diaminodiphenylmethane, 2,5-naphthylenediamine, and 2,6-naphthylenediamine.

硬化剤(D)としてのフェノール類(フェノール系硬化剤)としては、公知乃至慣用のフェノール系硬化剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型クレゾール樹脂、パラキシリレン変性フェノール樹脂、パラキシリレン・メタキシリレン変性フェノール樹脂等のアラルキル樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、トリフェノールプロパン等が挙げられる。   As the phenols (phenolic curing agents) as the curing agent (D), known or conventional phenolic curing agents can be used, and are not particularly limited. For example, novolac type phenol resins, novolac type cresol resins, paraxylylene-modified phenols. Examples thereof include aralkyl resins such as resins, paraxylylene / metaxylylene-modified phenol resins, terpene-modified phenol resins, dicyclopentadiene-modified phenol resins, and triphenol propane.

硬化剤(D)としてのポリアミド樹脂としては、例えば、分子内に第一級アミノ基及び第二級アミノ基のいずれか一方又は両方を有するポリアミド樹脂等が挙げられる。   As a polyamide resin as a hardening | curing agent (D), the polyamide resin etc. which have any one or both of a primary amino group and a secondary amino group in a molecule | numerator are mentioned, for example.

硬化剤(D)としてのイミダゾール類(イミダゾール系硬化剤)としては、公知乃至慣用のイミダゾール系硬化剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2−メチルイミダゾリウムイソシアヌレート、2−フェニルイミダゾリウムイソシアヌレート、2,4−ジアミノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−s−トリアジン等が挙げられる。   As the imidazole (imidazole curing agent) as the curing agent (D), a known or commonly used imidazole curing agent can be used, and is not particularly limited. For example, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1 -Cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2-methylimidazolium isocyanurate, 2-phenylimidazolium isocyanate Nu 2,4-diamino-6- [2-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2-ethyl-4-methylimidazolyl- (1)] -Ethyl-s-triazine and the like.

硬化剤(D)としてのポリメルカプタン類(ポリメルカプタン系硬化剤)としては、例えば、液状のポリメルカプタン、ポリスルフィド樹脂等が挙げられる。   Examples of the polymercaptans (polymercaptan-based curing agent) as the curing agent (D) include liquid polymercaptans and polysulfide resins.

硬化剤(D)としてのポリカルボン酸類としては、例えば、アジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、トリメリット酸、カルボキシ基含有ポリエステル等が挙げられる。   Examples of polycarboxylic acids as the curing agent (D) include adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, carboxy group-containing polyester, and the like.

中でも、硬化剤(D)としては、硬化物の耐熱性、透明性の観点で、酸無水物類(酸無水物系硬化剤)が好ましい。なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において硬化剤(D)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、硬化剤(D)としては、市販品を使用することもできる。例えば、酸無水物類の市販品としては、商品名「リカシッド MH−700」、「リカシッド MH−700F」(以上、新日本理化(株)製);商品名「HN−5500」(日立化成工業(株)製)等が挙げられる。   Especially, as a hardening | curing agent (D), an acid anhydride (acid anhydride type hardening | curing agent) is preferable from a heat resistant and transparent viewpoint of hardened | cured material. In addition, the hardening | curing agent (D) can also be used individually by 1 type in the curable epoxy resin composition of this invention, and can also be used in combination of 2 or more type. Moreover, a commercial item can also be used as a hardening | curing agent (D). For example, as commercial products of acid anhydrides, trade names “Licacid MH-700” and “Licacid MH-700F” (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.); trade name “HN-5500” (Hitachi Chemical Industries) Etc.).

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化剤(D)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、50〜200重量部が好ましく、より好ましくは80〜150重量部である。より具体的には、硬化剤(D)として酸無水物類を使用する場合、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれる全てのエポキシ基を有する化合物におけるエポキシ基1当量あたり、0.5〜1.5当量となる割合で使用することが好ましい。硬化剤(D)の含有量を50重量部以上とすることにより、硬化を十分に進行させることができ、硬化物の強靭性がより向上する傾向がある。一方、硬化剤(D)の含有量を200重量部以下とすることにより、着色が抑制され、色相に優れた硬化物が得られる傾向がある。   The content (blending amount) of the curing agent (D) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 100 parts by weight based on the total amount of compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. The amount is preferably 50 to 200 parts by weight, more preferably 80 to 150 parts by weight. More specifically, when acid anhydrides are used as the curing agent (D), 0.5 equivalent per 1 epoxy group equivalent in the compound having all epoxy groups contained in the curable epoxy resin composition of the present invention. It is preferable to use it at a ratio of ˜1.5 equivalents. By making content of a hardening | curing agent (D) into 50 weight part or more, hardening can fully be advanced and there exists a tendency for the toughness of hardened | cured material to improve more. On the other hand, when the content of the curing agent (D) is 200 parts by weight or less, coloring tends to be suppressed and a cured product having excellent hue tends to be obtained.

[硬化促進剤(E)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、特に硬化剤(D)を含む場合には、さらに硬化促進剤(E)を含むことが好ましい。硬化促進剤(E)は、エポキシ基(オキシラニル基)を有する化合物が硬化剤(D)と反応する際に、その反応速度を促進する機能を有する化合物である。硬化促進剤(E)としては、公知乃至慣用の硬化促進剤を使用でき、特に限定されないが、例えば、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7(DBU)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩等);1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノネン−5(DBN)又はその塩(例えば、フェノール塩、オクチル酸塩、p−トルエンスルホン酸塩、ギ酸塩、テトラフェニルボレート塩等);ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン等の三級アミン;2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール;リン酸エステル;トリフェニルホスフィン、トリス(ジメトキシ)ホスフィン等のホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラ(p−トリル)ボレート等のホスホニウム化合物;オクチル酸亜鉛、オクチル酸スズ、ステアリン酸亜鉛等の有機金属塩;アルミニウムアセチルアセトン錯体等の金属キレート等が挙げられる。
[Curing accelerator (E)]
When the curable epoxy resin composition of the present invention contains a curing agent (D), it is preferable to further contain a curing accelerator (E). The curing accelerator (E) is a compound having a function of accelerating the reaction rate when a compound having an epoxy group (oxiranyl group) reacts with the curing agent (D). The curing accelerator (E) may be a known or conventional curing accelerator, and is not particularly limited. For example, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 (DBU) or a salt thereof (for example, , Phenol salt, octylate, p-toluenesulfonate, formate, tetraphenylborate salt, etc.); 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5 (DBN) or a salt thereof (for example, phenol Salt, octylate, p-toluenesulfonate, formate, tetraphenylborate salt, etc.); benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, N, N-dimethylcyclohexylamine, etc. Tertiary amines; imidazoles such as 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole; Acid esters; phosphines such as triphenylphosphine and tris (dimethoxy) phosphine; phosphonium compounds such as tetraphenylphosphonium tetra (p-tolyl) borate; organometallic salts such as zinc octylate, tin octylate and zinc stearate; Examples thereof include metal chelates such as aluminum acetylacetone complex.

なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において硬化促進剤(E)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。また、硬化促進剤(E)としては、商品名「U−CAT SA 506」、「U−CAT SA 102」、「U−CAT 5003」、「U−CAT 18X」、「U−CAT 12XD」(開発品)(以上、サンアプロ(株)製);商品名「TPP−K」、「TPP−MK」(以上、北興化学工業(株)製);商品名「PX−4ET」(日本化学工業(株)製)等の市販品を使用することもできる。   In addition, a hardening accelerator (E) can also be used individually by 1 type in a curable epoxy resin composition of this invention, and can also be used in combination of 2 or more type. Further, as the curing accelerator (E), trade names “U-CAT SA 506”, “U-CAT SA 102”, “U-CAT 5003”, “U-CAT 18X”, “U-CAT 12XD” ( (Developed product) (San Apro Co., Ltd.); trade names "TPP-K", "TPP-MK" (Hokuko Chemical Co., Ltd.); trade name "PX-4ET" (Nippon Chemical Industry ( It is also possible to use a commercial product such as a product manufactured by Co., Ltd.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化促進剤(E)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.01〜5重量部が好ましく、より好ましくは0.02〜3重量部、さらに好ましくは0.03〜2重量部である。硬化促進剤(E)の含有量を0.01重量部以上とすることにより、いっそう効率的な硬化促進効果が得られる傾向がある。一方、硬化促進剤(E)の含有量を5重量部以下とすることにより、着色が抑制され、色相に優れた硬化物が得られる傾向がある。   The content (blending amount) of the curing accelerator (E) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but the total amount of compounds having epoxy groups contained in the curable epoxy resin composition is 100 parts by weight. On the other hand, 0.01-5 weight part is preferable, More preferably, it is 0.02-3 weight part, More preferably, it is 0.03-2 weight part. By setting the content of the curing accelerator (E) to 0.01 parts by weight or more, a more efficient curing promoting effect tends to be obtained. On the other hand, by setting the content of the curing accelerator (E) to 5 parts by weight or less, coloring tends to be suppressed and a cured product excellent in hue tends to be obtained.

[硬化触媒(F)]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、さらに(例えば、硬化剤(D)の代わりに)硬化触媒(F)を含んでいてもよい。硬化触媒(F)は、脂環式エポキシ化合物(A)、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)、イソシアヌル酸誘導体(C)等のカチオン硬化性化合物の硬化反応(重合反応)を開始及び/又は促進させることにより、硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させる働きを有する化合物である。硬化触媒(F)としては、特に限定されないが、例えば、光照射や加熱処理等を施すことによりカチオン種を発生して、重合を開始させるカチオン重合開始剤(光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤等)や、ルイス酸・アミン錯体、ブレンステッド酸塩類、イミダゾール類等が挙げられる。
[Curing catalyst (F)]
The curable epoxy resin composition of the present invention may further contain a curing catalyst (F) (for example, instead of the curing agent (D)). The curing catalyst (F) initiates and / or initiates a curing reaction (polymerization reaction) of a cationic curable compound such as an alicyclic epoxy compound (A), a monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B), or an isocyanuric acid derivative (C). Or it is a compound which has a function which hardens a curable epoxy resin composition by making it accelerate. The curing catalyst (F) is not particularly limited. For example, a cationic polymerization initiator (photo cationic polymerization initiator, thermal cationic polymerization) that initiates polymerization by generating cationic species by performing light irradiation, heat treatment, or the like. Initiators, etc.), Lewis acid / amine complexes, Bronsted acid salts, imidazoles and the like.

硬化触媒(F)としての光カチオン重合開始剤としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモネート塩、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩等が挙げられ、より具体的には、例えば、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート(例えば、p−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等)、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のスルホニウム塩(特に、トリアリールスルホニウム塩);ジアリールヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジアリールヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ヨードニウム[4−(4−メチルフェニル−2−メチルプロピル)フェニル]ヘキサフルオロホスフェート等のヨードニウム塩;テトラフルオロホスホニウムヘキサフルオロホスフェート等のホスホニウム塩;N−ヘキシルピリジニウムテトラフルオロボレート等のピリジニウム塩等が挙げられる。また、光カチオン重合開始剤としては、例えば、商品名「UVACURE1590」(ダイセル・サイテック(株)製);商品名「CD−1010」、「CD−1011」、「CD−1012」(以上、米国サートマー製);商品名「イルガキュア264」(BASF社製);商品名「CIT−1682」(日本曹達(株)製)等の市販品を好ましく使用することもできる。   Examples of the photocationic polymerization initiator as the curing catalyst (F) include hexafluoroantimonate salts, pentafluorohydroxyantimonate salts, hexafluorophosphate salts, hexafluoroarsenate salts, and more specifically. For example, triarylsulfonium hexafluorophosphate (for example, p-phenylthiophenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphate), sulfonium salt such as triarylsulfonium hexafluoroantimonate (particularly, triarylsulfonium salt); diaryl iodonium hexafluorophosphate , Diaryl iodonium hexafluoroantimonate, bis (dodecylphenyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, iodo Iodonium salts such as um [4- (4-methylphenyl-2-methylpropyl) phenyl] hexafluorophosphate; phosphonium salts such as tetrafluorophosphonium hexafluorophosphate; pyridinium salts such as N-hexylpyridinium tetrafluoroborate It is done. Moreover, as a photocationic polymerization initiator, for example, trade name “UVACURE1590” (manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.); trade names “CD-1010”, “CD-1011”, “CD-1012” (above, the United States) Commercial products such as Sartomer); trade name “Irgacure 264” (manufactured by BASF); trade name “CIT-1682” (manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) can be preferably used.

硬化触媒(F)としての熱カチオン重合開始剤としては、例えば、アリールジアゾニウム塩、アリールヨードニウム塩、アリールスルホニウム塩、アレン−イオン錯体等が挙げられ、商品名「PP−33」、「CP−66」、「CP−77」(以上(株)ADEKA製);商品名「FC−509」(スリーエム製);商品名「UVE1014」(G.E.製);商品名「サンエイドSI−60L」、「サンエイドSI−80L」、「サンエイドSI−100L」、「サンエイドSI−110L」、「サンエイドSI−150L」(以上、三新化学工業(株)製);商品名「CG−24−61」(BASF社製)等の市販品を好ましく使用することができる。さらに、熱カチオン重合開始剤としては、アルミニウムやチタン等の金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とトリフェニルシラノール等のシラノールとの化合物、又は、アルミニウムやチタン等の金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とビスフェノールS等のフェノール類との化合物等も挙げられる。   Examples of the thermal cationic polymerization initiator as the curing catalyst (F) include aryldiazonium salts, aryliodonium salts, arylsulfonium salts, allene-ion complexes, etc., and trade names “PP-33”, “CP-66”. "CP-77" (manufactured by ADEKA); trade name "FC-509" (manufactured by 3M); trade name "UVE1014" (manufactured by GE); trade name "Sun-Aid SI-60L" “Sun-Aid SI-80L”, “Sun-Aid SI-100L”, “Sun-Aid SI-110L”, “Sun-Aid SI-150L” (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.); trade name “CG-24-61” ( Commercially available products such as BASF) can be preferably used. Further, as the thermal cationic polymerization initiator, a compound of a chelate compound of a metal such as aluminum or titanium and acetoacetic acid or diketone and a silanol such as triphenylsilanol, or a metal such as aluminum or titanium and acetoacetic acid or diketone Examples thereof include a compound of a chelate compound with a phenol and a phenol such as bisphenol S.

硬化触媒(F)としてのルイス酸・アミン錯体としては、公知乃至慣用のルイス酸・アミン錯体系硬化触媒を使用することができ、特に限定されないが、例えば、BF3・n−ヘキシルアミン、BF3・モノエチルアミン、BF3・ベンジルアミン、BF3・ジエチルアミン、BF3・ピペリジン、BF3・トリエチルアミン、BF3・アニリン、BF4・n−ヘキシルアミン、BF4・モノエチルアミン、BF4・ベンジルアミン、BF4・ジエチルアミン、BF4・ピペリジン、BF4・トリエチルアミン、BF4・アニリン、PF5・エチルアミン、PF5・イソプロピルアミン、PF5・ブチルアミン、PF5・ラウリルアミン、PF5・ベンジルアミン、AsF5・ラウリルアミン等が挙げられる。 As the Lewis acid / amine complex as the curing catalyst (F), a known or commonly used Lewis acid / amine complex-based curing catalyst can be used, and is not particularly limited. For example, BF 3 .n-hexylamine, BF 3 · monoethylamine, BF 3 · benzylamine, BF 3 · diethylamine, BF 3 · piperidine, BF 3 · triethylamine, BF 3 · aniline, BF 4 - n-hexylamine, BF 4 - monoethylamine, BF 4 - benzylamine , BF 4 · diethylamine, BF 4 · piperidine, BF 4 · triethylamine, BF 4 · aniline, PF 5 · ethylamine, PF 5 · isopropylamine, PF 5 · butylamine, PF 5 · laurylamine, PF 5 · benzylamine, AsF 5. Laurylamine etc. are mentioned.

硬化触媒(F)としてのブレンステッド酸塩類としては、公知乃至慣用のブレンステッド酸塩類を使用することができ、特に限定されないが、例えば、脂肪族スルホニウム塩、芳香族スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩等が挙げられる。   As the Bronsted acid salts as the curing catalyst (F), known or commonly used Bronsted acid salts can be used, and are not particularly limited. For example, aliphatic sulfonium salts, aromatic sulfonium salts, iodonium salts, phosphoniums. Examples include salts.

硬化触媒(F)としてのイミダゾール類としては、公知乃至慣用のイミダゾール類を使用することができ、特に限定されないが、例えば、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2−メチルイミダゾリウムイソシアヌレート、2−フェニルイミダゾリウムイソシアヌレート、2,4−ジアミノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−s−トリアジン等が挙げられる。   As the imidazoles as the curing catalyst (F), known or conventional imidazoles can be used, and are not particularly limited. For example, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecyl Imidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2- Undecylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2-methylimidazolium isocyanurate, 2-phenylimidazolium isocyanurate, 2,4 - Mino-6- [2-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2-ethyl-4-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-s-triazine, etc. Is mentioned.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物において硬化触媒(F)は、一種を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。なお、上述のように、硬化触媒(F)としては市販品を使用することもできる。   In the curable epoxy resin composition of the present invention, the curing catalyst (F) can be used alone or in combination of two or more. In addition, as above-mentioned, a commercial item can also be used as a curing catalyst (F).

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における硬化触媒(F)の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.01〜5重量部が好ましく、より好ましくは0.02〜3重量部、さらに好ましくは0.03〜2重量部である。硬化触媒(F)を上記範囲内で使用することにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化速度が高まり、硬化物の耐熱性及び透明性がバランスよく向上する傾向がある。   The content (blending amount) of the curing catalyst (F) in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is 100 parts by weight based on the total amount of the compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition. The amount is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.02 to 3 parts by weight, and still more preferably 0.03 to 2 parts by weight. By using the curing catalyst (F) within the above range, the curing rate of the curable epoxy resin composition is increased, and the heat resistance and transparency of the cured product tend to be improved in a balanced manner.

[ゴム粒子]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、さらに、ゴム粒子を含んでいてもよい。上記ゴム粒子としては、例えば、粒子状NBR(アクリロニトリル−ブタジエンゴム)、反応性末端カルボキシ基NBR(CTBN)、メタルフリーNBR、粒子状SBR(スチレン−ブタジエンゴム)等のゴム粒子が挙げられる。上記ゴム粒子としては、ゴム弾性を有するコア部分と、該コア部分を被覆する少なくとも1層のシェル層とからなる多層構造(コアシェル構造)を有するゴム粒子が好ましい。上記ゴム粒子は、特に、(メタ)アクリル酸エステルを必須モノマー成分とするポリマー(重合体)で構成され、表面に脂環式エポキシ化合物(A)等のエポキシ基を有する化合物と反応し得る官能基としてヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基(ヒドロキシ基及びカルボキシ基のいずれか一方又は両方)を有するゴム粒子が好ましい。上記ゴム粒子の表面にヒドロキシ基及びカルボキシ基のいずれもが存在しない場合、冷熱サイクル等の熱衝撃により硬化物が白濁して透明性が低下しやすくなるため好ましくない。
[Rubber particles]
The curable epoxy resin composition of the present invention may further contain rubber particles. Examples of the rubber particles include rubber particles such as particulate NBR (acrylonitrile-butadiene rubber), reactive terminal carboxy group NBR (CTBN), metal-free NBR, particulate SBR (styrene-butadiene rubber). The rubber particles are preferably rubber particles having a multilayer structure (core-shell structure) composed of a core portion having rubber elasticity and at least one shell layer covering the core portion. The rubber particles are particularly composed of a polymer (polymer) having (meth) acrylic acid ester as an essential monomer component, and a functional group capable of reacting with a compound having an epoxy group such as an alicyclic epoxy compound (A) on the surface. Rubber particles having a hydroxy group and / or a carboxy group (either one or both of a hydroxy group and a carboxy group) as a group are preferred. If neither the hydroxy group nor the carboxy group is present on the surface of the rubber particles, the cured product becomes cloudy due to a thermal shock such as a cold cycle, and the transparency tends to decrease, which is not preferable.

上記ゴム粒子におけるゴム弾性を有するコア部分を構成するポリマーは、特に限定されないが、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル等の(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノマー成分として含むポリマーであることが好ましい。上記ゴム弾性を有するコア部分を構成するポリマーは、その他、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル;ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン;エチレン、プロピレン、イソブテン等のα−オレフィン等をモノマー成分として含んでいてもよい。   The polymer constituting the core portion having rubber elasticity in the rubber particles is not particularly limited, but (meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate are used. The polymer is preferably contained as an essential monomer component. The polymer constituting the core portion having rubber elasticity includes, for example, aromatic vinyl such as styrene and α-methylstyrene; nitrile such as acrylonitrile and methacrylonitrile; conjugated diene such as butadiene and isoprene; ethylene, propylene, An α-olefin such as isobutene may be included as a monomer component.

中でも、上記ゴム弾性を有するコア部分を構成するポリマーは、モノマー成分として、(メタ)アクリル酸エステルと共に、芳香族ビニル、ニトリル、及び共役ジエンからなる群より選択された一種又は二種以上を組み合わせて含むことが好ましい。即ち、上記コア部分を構成するポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル、(メタ)アクリル酸エステル/共役ジエン等の二元共重合体;(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/共役ジエン等の三元共重合体等が挙げられる。なお、上記コア部分を構成するポリマーには、ポリジメチルシロキサンやポリフェニルメチルシロキサン等のシリコーンやポリウレタン等が含まれていてもよい。   Among them, the polymer constituting the core portion having rubber elasticity is combined with one or more selected from the group consisting of aromatic vinyl, nitrile, and conjugated diene together with (meth) acrylic acid ester as a monomer component. It is preferable to include. That is, as the polymer constituting the core part, for example, (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl, (meth) acrylic acid ester / conjugated diene and other binary copolymers; (meth) acrylic acid ester / aromatic And terpolymers such as group vinyl / conjugated dienes. The polymer constituting the core portion may contain silicone such as polydimethylsiloxane and polyphenylmethylsiloxane, polyurethane, and the like.

上記コア部分を構成するポリマーは、その他のモノマー成分として、ジビニルベンゼン、アリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ブチレングリコールジアクリレート等の分子内に2個以上の反応性官能基を有する反応性架橋モノマーを含有していてもよい。   The polymer constituting the core part includes, as other monomer components, divinylbenzene, allyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diallyl maleate, triallyl cyanurate, diallyl phthalate, butylene glycol diacrylate, etc. A reactive crosslinking monomer having two or more reactive functional groups in the molecule may be contained.

上記ゴム粒子のコア部分は、中でも、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニルの二元共重合体(特に、アクリル酸ブチル/スチレン)より構成されたコア部分であることが、ゴム粒子の屈折率を容易に調整できる点で好ましい。   The core part of the rubber particles is a core part composed of a (meth) acrylic ester / aromatic vinyl binary copolymer (particularly butyl acrylate / styrene). It is preferable in that the rate can be easily adjusted.

上記ゴム粒子のコア部分を構成するポリマーのガラス転移温度は、特に限定されないが、60℃未満(例えば、−150℃以上、60℃未満)が好ましく、より好ましくは−150〜15℃、さらに好ましくは−100〜0℃である。上記ポリマーのガラス転移温度を60℃未満とすることにより硬化物の耐クラック性(各種応力に対してクラックを生じにくい特性)がより向上する傾向がある。なお、上記コア部分を構成するポリマーのガラス転移温度は、下記Foxの式により算出される計算値を意味する(Bull.Am.Phys.Soc.,1(3)123(1956)参照)。下記Foxの式中、Tgはコア部分を構成するポリマーのガラス転移温度(単位:K)を示し、Wiはコア部分を構成するポリマーを構成する単量体全量に対する単量体iの重量分率を示す。また、Tgiは単量体iの単独重合体のガラス転移温度(単位:K)を示す。下記Foxの式は、コアを構成するポリマーが単量体1、単量体2、・・・・、及び単量体nの共重合体である場合の式を示す。
1/Tg=W1/Tg1+W2/Tg2+・・・・+Wn/Tgn
上記単独重合体のガラス転移温度は、各種文献に記載の値を採用することができ、例えば、「POLYMER HANDBOOK 第3版」(John Wiley & Sons,Inc.発行)に記載の値を採用できる。なお、文献に記載のないものについては、単量体を常法により重合して得られる単独重合体の、DSC法により測定されるガラス転移温度の値を採用することができる。
The glass transition temperature of the polymer constituting the core part of the rubber particles is not particularly limited, but is preferably less than 60 ° C. (for example, −150 ° C. or more and less than 60 ° C.), more preferably −150 to 15 ° C., and even more preferably. Is −100 to 0 ° C. By setting the glass transition temperature of the polymer to less than 60 ° C., the crack resistance of the cured product (characteristic that hardly causes cracks with respect to various stresses) tends to be further improved. In addition, the glass transition temperature of the polymer which comprises the said core part means the calculated value calculated by the formula of the following Fox (refer Bull. Am. Phys. Soc., 1 (3) 123 (1956)). Wherein the following Fox, Tg glass transition temperature (unit: K) of the polymer constituting the core portion indicates, W i is the weight fraction of the monomer i for the monomer total amount constituting the polymer constituting the core portion Indicates the rate. Further, Tg i is the glass transition temperature of the homopolymer of monomer i (unit: K) shows a. The following Fox formula shows the formula when the polymer constituting the core is a copolymer of monomer 1, monomer 2,..., And monomer n.
1 / Tg = W 1 / Tg 1 + W 2 / Tg 2 +... + W n / Tg n
As the glass transition temperature of the homopolymer, values described in various documents can be adopted, for example, values described in “POLYMER HANDBOOK 3rd edition” (published by John Wiley & Sons, Inc.) can be adopted. In addition, about the thing which is not described in literature, the value of the glass transition temperature measured by DSC method of the homopolymer obtained by superposing | polymerizing a monomer by a conventional method is employable.

上記ゴム粒子のコア部分は、通常用いられる方法で製造することができ、例えば、上記モノマーを乳化重合法により重合する方法等により製造することができる。乳化重合法においては、上記モノマーの全量を一括して仕込んで重合してもよいし、上記モノマーの一部を重合した後、残りを連続的に又は断続的に添加して重合してもよいし、さらに、シード粒子を使用する重合方法を使用してもよい。   The core part of the rubber particles can be produced by a commonly used method. For example, it can be produced by a method of polymerizing the monomer by an emulsion polymerization method. In the emulsion polymerization method, the whole amount of the monomer may be charged all at once and polymerized, or after polymerizing a part of the monomer, the remainder may be added continuously or intermittently for polymerization. Further, a polymerization method using seed particles may be used.

上記ゴム粒子のシェル層を構成するポリマーは、上記コア部分を構成するポリマーとは異種のポリマー(異なるモノマー組成を有するポリマー)であることが好ましい。また、上述のように、上記シェル層は、脂環式エポキシ化合物(A)等のエポキシ基を有する化合物と反応し得る官能基としてヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基を有することが好ましい。これにより、特に、脂環式エポキシ化合物(A)との界面で接着性を向上させることができ、該シェル層を有するゴム粒子を含む硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させた硬化物に対して、優れた耐クラック性を発揮させることができる。また、硬化物のガラス転移温度の低下を防止することもできる。   The polymer constituting the shell layer of the rubber particles is preferably a polymer different from the polymer constituting the core portion (polymer having a different monomer composition). Further, as described above, the shell layer preferably has a hydroxy group and / or a carboxy group as a functional group capable of reacting with a compound having an epoxy group such as an alicyclic epoxy compound (A). Thereby, especially with respect to the hardened | cured material which can improve adhesiveness in an interface with an alicyclic epoxy compound (A), and hardened the curable epoxy resin composition containing the rubber particle which has this shell layer. , Excellent crack resistance can be exhibited. Moreover, the fall of the glass transition temperature of hardened | cured material can also be prevented.

上記シェル層を構成するポリマーは、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル等の(メタ)アクリル酸エステルを必須のモノマー成分として含むポリマーであることが好ましい。例えば、上記コア部分における(メタ)アクリル酸エステルとしてアクリル酸ブチルを用いた場合、シェル層を構成するポリマーのモノマー成分としては、例えば、アクリル酸ブチル以外の(メタ)アクリル酸エステル(例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル等)を使用することが好ましい。(メタ)アクリル酸エステル以外に含んでいてもよいモノマー成分としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル等が挙げられる。上記ゴム粒子においては、シェル層を構成するモノマー成分として、(メタ)アクリル酸エステルと共に、上記モノマーを単独で、又は二種以上を組み合わせて含むことが好ましく、特に、少なくとも芳香族ビニルを含むことが、上記ゴム粒子の屈折率を容易に調整できる点で好ましい。   The polymer constituting the shell layer is preferably a polymer containing (meth) acrylic acid ester such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and butyl (meth) acrylate as an essential monomer component. . For example, when butyl acrylate is used as the (meth) acrylic acid ester in the core portion, as a monomer component of the polymer constituting the shell layer, for example, (meth) acrylic acid esters other than butyl acrylate (for example, ( (Meth) methyl acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl methacrylate, etc.) are preferably used. Examples of the monomer component that may be contained in addition to the (meth) acrylic acid ester include aromatic vinyl such as styrene and α-methylstyrene; nitrile such as acrylonitrile and methacrylonitrile. In the rubber particles, as a monomer component constituting the shell layer, it is preferable to contain the monomer alone or in combination of two or more together with (meth) acrylic acid ester, and in particular, at least contain aromatic vinyl. Is preferable in that the refractive index of the rubber particles can be easily adjusted.

さらに、上記シェル層を構成するポリマーは、モノマー成分として、脂環式エポキシ化合物(A)等のエポキシ基を有する化合物と反応し得る官能基としてのヒドロキシ基及び/又はカルボキシ基を形成するために、ヒドロキシ基含有モノマー(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等)や、カルボキシ基含有モノマー(例えば、(メタ)アクリル酸等のα,β−不飽和酸;マレイン酸無水物等のα,β−不飽和酸無水物等)を含有することが好ましい。   Further, the polymer constituting the shell layer forms a hydroxy group and / or a carboxy group as a functional group capable of reacting with a compound having an epoxy group such as an alicyclic epoxy compound (A) as a monomer component. Hydroxy group-containing monomers (for example, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate) and carboxy group-containing monomers (for example, α, β-unsaturated acids such as (meth) acrylic acid; It is preferable to contain an α, β-unsaturated acid anhydride such as maleic anhydride).

上記ゴム粒子におけるシェル層を構成するポリマーは、モノマー成分として、(メタ)アクリル酸エステルと共に、上記モノマーから選択された一種又は二種以上を組み合わせて含むことが好ましい。即ち、上記シェル層は、例えば、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸エステル/芳香族ビニル/α,β−不飽和酸等の三元共重合体等から構成されたシェル層であることが好ましい。   It is preferable that the polymer which comprises the shell layer in the said rubber particle contains a 1 type, or 2 or more types selected from the said monomer in combination with (meth) acrylic acid ester as a monomer component. That is, the shell layer is formed of, for example, a ternary copolymer such as (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl / hydroxyalkyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid ester / aromatic vinyl / α, β-unsaturated acid. A shell layer composed of a polymer or the like is preferable.

また、上記シェル層を構成するポリマーは、その他のモノマー成分として、コア部分と同様に、上記モノマーの他にジビニルベンゼン、アリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジアリルマレエート、トリアリルシアヌレート、ジアリルフタレート、ブチレングリコールジアクリレート等の分子内に2個以上の反応性官能基を有する反応性架橋モノマーを含有していてもよい。   Further, the polymer constituting the shell layer includes, as the other monomer components, divinylbenzene, allyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diallyl maleate, trimethyl, as well as the above-described monomer. A reactive crosslinking monomer having two or more reactive functional groups may be contained in the molecule such as allyl cyanurate, diallyl phthalate, butylene glycol diacrylate.

上記ゴム粒子のシェル層を構成するポリマーのガラス転移温度は、特に限定されないが、60〜120℃が好ましく、より好ましくは70〜115℃である。上記ポリマーのガラス転移温度を60℃以上とすることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、上記ポリマーのガラス転移温度を120℃以下とすることにより、硬化物の耐クラック性がより向上する傾向がある。なお、上記シェル層を構成するポリマーのガラス転移温度は、上記Foxの式により算出される計算値を意味し、例えば、上述のコアを構成するポリマーのガラス転移温度と同様にして測定できる。   Although the glass transition temperature of the polymer which comprises the shell layer of the said rubber particle is not specifically limited, 60-120 degreeC is preferable, More preferably, it is 70-115 degreeC. By setting the glass transition temperature of the polymer to 60 ° C. or higher, the heat resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, the crack resistance of hardened | cured material tends to improve more by making the glass transition temperature of the said polymer into 120 degrees C or less. In addition, the glass transition temperature of the polymer which comprises the said shell layer means the calculated value computed by the said Formula of Fox, For example, it can measure similarly to the glass transition temperature of the polymer which comprises the above-mentioned core.

上記ゴム粒子(コアシェル構造を有するゴム粒子)は、上記コア部分をシェル層により被覆することで得られる。上記コア部分をシェル層で被覆する方法としては、例えば、上記方法により得られたゴム弾性を有するコア部分の表面に、シェル層を構成するポリマーを塗布することにより被覆する方法;上記方法により得られたゴム弾性を有するコア部分を幹成分とし、シェル層を構成する各成分を枝成分としてグラフト重合する方法等が挙げられる。   The rubber particles (rubber particles having a core-shell structure) can be obtained by covering the core portion with a shell layer. Examples of the method for coating the core part with the shell layer include a method of coating the surface of the core part having rubber elasticity obtained by the above method by applying a polymer constituting the shell layer; Examples thereof include a graft polymerization method in which the core portion having rubber elasticity is a trunk component and each component constituting the shell layer is a branch component.

上記ゴム粒子の平均粒子径は、特に限定されないが、10〜500nmが好ましく、より好ましくは20〜400nmである。また、上記ゴム粒子の最大粒子径は、特に限定されないが、50〜1000nmが好ましく、より好ましくは100〜800nmである。平均粒子径を500nm以下(又は、最大粒子径を1000nm以下)とすることにより、硬化物におけるゴム粒子の分散性が向上し、耐クラック性がより向上する傾向がある。一方、平均粒子径を10nm以上(又は、最大粒子径を50nm以上)とすることにより、硬化物の耐クラック性がより向上する傾向がある。   The average particle diameter of the rubber particles is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, and more preferably 20 to 400 nm. The maximum particle size of the rubber particles is not particularly limited, but is preferably 50 to 1000 nm, more preferably 100 to 800 nm. When the average particle size is 500 nm or less (or the maximum particle size is 1000 nm or less), the dispersibility of the rubber particles in the cured product is improved, and the crack resistance tends to be further improved. On the other hand, when the average particle diameter is 10 nm or more (or the maximum particle diameter is 50 nm or more), the crack resistance of the cured product tends to be further improved.

上記ゴム粒子の屈折率は、特に限定されないが、1.40〜1.60が好ましく、より好ましくは1.42〜1.58である。また、ゴム粒子の屈折率と、該ゴム粒子を含む硬化性エポキシ樹脂組成物(本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物)を硬化させて得られる硬化物の屈折率との差は±0.03以内であることが好ましい。屈折率の差を±0.03以内とすることにより、硬化物の優れた透明性が確保され、光半導体装置の光度が高く保持される傾向がある。   Although the refractive index of the said rubber particle is not specifically limited, 1.40-1.60 are preferable, More preferably, it is 1.42-1.58. The difference between the refractive index of the rubber particles and the refractive index of the cured product obtained by curing the curable epoxy resin composition containing the rubber particles (the curable epoxy resin composition of the present invention) is ± 0.03. Is preferably within. By setting the difference in refractive index within ± 0.03, excellent transparency of the cured product is secured, and the optical intensity of the optical semiconductor device tends to be kept high.

ゴム粒子の屈折率は、例えば、ゴム粒子1gを型に注型して210℃、4MPaで圧縮成形し、厚さ1mmの平板を得、得られた平板から、縦20mm×横6mmの試験片を切り出し、中間液としてモノブロモナフタレンを使用してプリズムと該試験片とを密着させた状態で、多波長アッベ屈折計(商品名「DR−M2」、(株)アタゴ製)を使用し、20℃、ナトリウムD線での屈折率を測定することにより求めることができる。   The refractive index of the rubber particles is, for example, by casting 1 g of rubber particles into a mold and compression molding at 210 ° C. and 4 MPa to obtain a flat plate having a thickness of 1 mm. From the obtained flat plate, a test piece having a length of 20 mm × width of 6 mm And using a multi-wavelength Abbe refractometer (trade name “DR-M2”, manufactured by Atago Co., Ltd.) in a state where the prism and the test piece are in close contact using monobromonaphthalene as an intermediate solution, It can be determined by measuring the refractive index at 20 ° C. and sodium D line.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物の屈折率は、例えば、下記硬化物の項に記載の加熱硬化方法により得られた硬化物から、縦20mm×横6mm×厚さ1mmの試験片を切り出し、中間液としてモノブロモナフタレンを使用してプリズムと該試験片とを密着させた状態で、多波長アッベ屈折計(商品名「DR−M2」、(株)アタゴ製)を使用し、20℃、ナトリウムD線での屈折率を測定することにより求めることができる。   The refractive index of the cured product of the curable epoxy resin composition of the present invention is, for example, a test piece having a length of 20 mm × width of 6 mm × thickness of 1 mm from a cured product obtained by the heat curing method described in the section of cured product below. And using a multi-wavelength Abbe refractometer (trade name “DR-M2”, manufactured by Atago Co., Ltd.) in a state where the prism and the test piece are in close contact using monobromonaphthalene as an intermediate solution, It can be determined by measuring the refractive index at 20 ° C. and sodium D line.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物における上記ゴム粒子の含有量(配合量)は、特に限定されないが、硬化性エポキシ樹脂組成物に含まれるエポキシ基を有する化合物の全量100重量部に対して、0.5〜30重量部が好ましく、より好ましくは1〜20重量部である。ゴム粒子の含有量を0.5重量部以上とすることにより、硬化物の耐クラック性がより向上する傾向がある。一方、ゴム粒子の含有量を30重量部以下とすることにより、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。   The content (blending amount) of the rubber particles in the curable epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but with respect to 100 parts by weight of the total amount of compounds having an epoxy group contained in the curable epoxy resin composition, 0.5-30 weight part is preferable, More preferably, it is 1-20 weight part. By setting the content of the rubber particles to 0.5 parts by weight or more, the crack resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the content of the rubber particles is 30 parts by weight or less, the heat resistance of the cured product tends to be further improved.

[添加剤]
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上記以外にも、本発明の効果を損なわない範囲内で各種添加剤を含んでいてもよい。上記添加剤として、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等のヒドロキシ基を有する化合物を含有させると、反応を緩やかに進行させることができる。その他にも、粘度や透明性を損なわない範囲内で、シリコーン系やフッ素系消泡剤、レベリング剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランや3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤、界面活性剤、シリカ、アルミナ等の無機充填剤、難燃剤、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、イオン吸着体、顔料、蛍光体(例えば、YAG系の蛍光体微粒子、シリケート系蛍光体微粒子等の無機蛍光体微粒子等)、離型剤等の慣用の添加剤を使用することができる。
[Additive]
In addition to the above, the curable epoxy resin composition of the present invention may contain various additives within a range that does not impair the effects of the present invention. For example, when a compound having a hydroxy group such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, or glycerin is contained as the additive, the reaction can be allowed to proceed slowly. Other silane coupling agents such as silicone-based and fluorine-based antifoaming agents, leveling agents, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, as long as the viscosity and transparency are not impaired. , Surfactants, inorganic fillers such as silica and alumina, flame retardants, colorants, antioxidants, ultraviolet absorbers, ion adsorbents, pigments, phosphors (eg YAG phosphor fine particles, silicate phosphors) Inorganic phosphor fine particles such as fine particles) and conventional additives such as mold release agents can be used.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、特に限定されないが、上記の各成分を、必要に応じて加熱した状態で攪拌・混合することにより調製することができる。なお、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、各成分があらかじめ混合されたものをそのまま使用する1液系の組成物として使用することもできるし、例えば、別々に保管しておいた2以上の成分を使用前に所定の割合で混合して使用する多液系(例えば、2液系)の組成物として使用することもできる。上記攪拌・混合の方法は、特に限定されず、例えば、ディゾルバー、ホモジナイザー等の各種ミキサー、ニーダー、ロール、ビーズミル、自公転式撹拌装置等の公知乃至慣用の攪拌・混合手段を使用できる。また、攪拌・混合後、真空下にて脱泡してもよい。   Although the curable epoxy resin composition of this invention is not specifically limited, It can prepare by stirring and mixing each said component in the state heated as needed. In addition, the curable epoxy resin composition of the present invention can be used as a one-component composition in which each component is mixed in advance, for example, two or more stored separately. These components can also be used as a multi-liquid composition (for example, a two-liquid system) that is used by mixing them at a predetermined ratio before use. The stirring / mixing method is not particularly limited, and for example, known or commonly used stirring / mixing means such as various mixers such as a dissolver and a homogenizer, a kneader, a roll, a bead mill, and a self-revolving stirrer can be used. Further, after stirring and mixing, defoaming may be performed under vacuum.

特に限定されないが、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物にゴム粒子を配合する場合、当該ゴム粒子は、あらかじめ脂環式エポキシ化合物(A)中に分散させた組成物(当該組成物を「ゴム粒子分散エポキシ化合物」と称する場合がある)の状態で配合することが好ましい。即ち、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物にゴム粒子を配合する場合、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物と、モノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)と、イソシアヌル酸誘導体(C)と、必要に応じてその他の成分とを混合することにより調製することが好ましい。このような調製方法により、特に、硬化性エポキシ樹脂組成物におけるゴム粒子の分散性を向上させることができる。但し、ゴム粒子の配合方法は、上記方法に限定されず、それ単独で配合する方法であってもよい。   Although not particularly limited, when rubber particles are blended in the curable epoxy resin composition of the present invention, the rubber particles are prepared by dispersing the rubber particles in the alicyclic epoxy compound (A) in advance (the composition is referred to as “rubber”). It is preferable to blend in a state of “sometimes referred to as a“ particle-dispersed epoxy compound ””. That is, when rubber particles are blended in the curable epoxy resin composition of the present invention, the curable epoxy resin composition of the present invention contains the rubber particle-dispersed epoxy compound, the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B), It is preferable to prepare by mixing the isocyanuric acid derivative (C) and other components as necessary. Such a preparation method can particularly improve the dispersibility of the rubber particles in the curable epoxy resin composition. However, the blending method of the rubber particles is not limited to the above method, and may be a method of blending alone.

(ゴム粒子分散エポキシ化合物)
上記ゴム粒子分散エポキシ化合物は、上記ゴム粒子を脂環式エポキシ化合物(A)に分散させることによって得られる。なお、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物における脂環式エポキシ化合物(A)は、硬化性エポキシ樹脂組成物を構成する脂環式エポキシ化合物(A)の全量であってもよいし、一部の量であってもよい。同様に、上記ゴム粒子分散エポキシ化合物におけるゴム粒子は、硬化性エポキシ樹脂組成物を構成するゴム粒子の全量であってもよいし、一部の量であってもよい。
(Rubber particle dispersed epoxy compound)
The rubber particle-dispersed epoxy compound is obtained by dispersing the rubber particles in the alicyclic epoxy compound (A). The alicyclic epoxy compound (A) in the rubber particle-dispersed epoxy compound may be the total amount of the alicyclic epoxy compound (A) constituting the curable epoxy resin composition, or may be a partial amount. There may be. Similarly, the rubber particles in the rubber particle-dispersed epoxy compound may be the total amount of rubber particles constituting the curable epoxy resin composition, or may be a partial amount.

上記ゴム粒子分散エポキシ化合物の粘度は、例えば、反応性希釈剤を併用することにより調整することができる(即ち、ゴム粒子分散エポキシ化合物は、さらに反応性希釈剤を含んでいてもよい)。上記反応性希釈剤としては、例えば、常温(25℃)における粘度が200mPa・s以下の脂肪族ポリグリシジルエーテルを好ましく使用できる。粘度(25℃)が200mPa・s以下の脂肪族ポリグリシジルエーテルとしては、例えば、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。上記反応性希釈剤の使用量は、適宜調整することができ、特に限定されない。   The viscosity of the rubber particle-dispersed epoxy compound can be adjusted, for example, by using a reactive diluent in combination (that is, the rubber particle-dispersed epoxy compound may further contain a reactive diluent). As the reactive diluent, for example, an aliphatic polyglycidyl ether having a viscosity at room temperature (25 ° C.) of 200 mPa · s or less can be preferably used. Examples of the aliphatic polyglycidyl ether having a viscosity (25 ° C.) of 200 mPa · s or less include, for example, cyclohexanedimethanol diglycidyl ether, cyclohexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and 1,6-hexanediol diglycidyl ether. , Trimethylolpropane triglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, and the like. The usage-amount of the said reactive diluent can be adjusted suitably, and is not specifically limited.

上記ゴム粒子分散エポキシ化合物の製造方法は、特に限定されず、周知慣用の方法を使用することができる。例えば、ゴム粒子を脱水乾燥して粉体とした後に、脂環式エポキシ化合物(A)に混合し、分散させる方法や、ゴム粒子のエマルジョンと脂環式エポキシ化合物(A)とを直接混合し、続いて脱水する方法等が挙げられる。   The manufacturing method of the said rubber particle dispersion | distribution epoxy compound is not specifically limited, A well-known and usual method can be used. For example, after the rubber particles are dehydrated and dried to form powder, the rubber particles are mixed and dispersed in the alicyclic epoxy compound (A), or the emulsion of rubber particles and the alicyclic epoxy compound (A) are directly mixed. Subsequently, a method of dehydrating and the like can be mentioned.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、25℃において液体(液状)であることが好ましい。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物の25℃における粘度は、特に限定されないが、100〜10000mPa・sが好ましく、より好ましくは200〜9000mPa・s、さらに好ましくは300〜8000mPa・sである。25℃における粘度を100mPa・s以上とすることにより、注型時の作業性が向上したり、硬化物の耐熱性がより向上する傾向がある。一方、25℃における粘度を10000mPa・s以下とすることにより、注型時の作業性が向上したり、硬化物に注型不良に由来する不具合が生じにくくなる傾向がある。なお、硬化性エポキシ樹脂組成物の25℃における粘度は、例えば、デジタル粘度計(型番「DVU−EII型」、(株)トキメック製)を用いて、ローター:標準1°34′×R24、温度:25℃、回転数:0.5〜10rpmの条件で測定することができる。   The curable epoxy resin composition of the present invention is preferably liquid (liquid) at 25 ° C. Although the viscosity in 25 degreeC of the curable epoxy resin composition of this invention is not specifically limited, 100-10000 mPa * s is preferable, More preferably, it is 200-9000 mPa * s, More preferably, it is 300-8000 mPa * s. By setting the viscosity at 25 ° C. to 100 mPa · s or more, workability at the time of casting tends to be improved, and the heat resistance of the cured product tends to be further improved. On the other hand, when the viscosity at 25 ° C. is 10000 mPa · s or less, workability at the time of casting tends to be improved, and defects derived from poor casting in the cured product tend not to occur. The viscosity at 25 ° C. of the curable epoxy resin composition is, for example, using a digital viscometer (model number “DVU-EII type”, manufactured by Tokimec Co., Ltd.), rotor: standard 1 ° 34 ′ × R24, temperature : Measured under conditions of 25 ° C. and rotation speed: 0.5 to 10 rpm.

<硬化物>
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させることにより、高い透明性、耐熱性、及び耐光性を有し、耐熱衝撃性に優れた硬化物(本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物を「本発明の硬化物」と称する場合がある)を得ることができる。硬化の手段としては、加熱処理や光照射処理等の公知乃至慣用の手段を利用できる。加熱により硬化させる際の温度(硬化温度)は、特に限定されないが、45〜200℃が好ましく、より好ましくは50〜190℃、さらに好ましくは55〜180℃である。また、硬化の際に加熱する時間(硬化時間)は、特に限定されないが、30〜600分が好ましく、より好ましくは45〜540分、さらに好ましくは60〜480分である。硬化温度と硬化時間が上記範囲の下限値より低い場合は硬化が不十分となり、逆に上記範囲の上限値より高い場合は樹脂成分の分解が起きる場合があるので、いずれも好ましくない。硬化条件は種々の条件に依存するが、例えば、硬化温度を高くした場合は硬化時間を短く、硬化温度を低くした場合は硬化時間を長くする等により、適宜調整することができる。また、硬化は、一段階で行うこともできるし、二段階以上の多段階で行うこともできる。
<Hardened product>
By curing the curable epoxy resin composition of the present invention, a cured product having high transparency, heat resistance, and light resistance and excellent thermal shock resistance (the curable epoxy resin composition of the present invention is cured) The cured product obtained in this way may be referred to as “cured product of the present invention”). As the curing means, known or conventional means such as heat treatment or light irradiation treatment can be used. Although the temperature (curing temperature) at the time of making it harden | cure by heating is not specifically limited, 45-200 degreeC is preferable, More preferably, it is 50-190 degreeC, More preferably, it is 55-180 degreeC. In addition, the heating time (curing time) for curing is not particularly limited, but is preferably 30 to 600 minutes, more preferably 45 to 540 minutes, and still more preferably 60 to 480 minutes. When the curing temperature and the curing time are lower than the lower limit value in the above range, curing is insufficient. On the contrary, when the curing temperature and the curing time are higher than the upper limit value in the above range, the resin component may be decomposed. Although the curing conditions depend on various conditions, for example, when the curing temperature is increased, the curing time can be shortened, and when the curing temperature is decreased, the curing time can be appropriately increased. Moreover, hardening can also be performed in one step and can also be performed in two or more steps.

<光半導体封止用樹脂組成物>
本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、光半導体装置における光半導体素子を封止するための樹脂組成物、即ち、光半導体封止用樹脂組成物(光半導体装置における光半導体素子の封止剤)として好ましく使用できる。本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物を光半導体封止用樹脂組成物として用いることにより、高い透明性、耐熱性、耐光性を有し、耐熱衝撃性に優れた硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置が得られる。上記光半導体装置は、熱衝撃や高温の熱が加えられた場合でも光度低下が生じにくく、耐久性が高い。
<Resin composition for optical semiconductor encapsulation>
The curable epoxy resin composition of the present invention is a resin composition for sealing an optical semiconductor element in an optical semiconductor device, that is, an optical semiconductor sealing resin composition (an optical semiconductor element sealing agent in an optical semiconductor device). ) Can be preferably used. By using the curable epoxy resin composition of the present invention as a resin composition for encapsulating an optical semiconductor, the optical semiconductor element is sealed with a cured product having high transparency, heat resistance and light resistance and excellent thermal shock resistance. A stopped optical semiconductor device is obtained. The optical semiconductor device is less likely to cause a decrease in light intensity even when a thermal shock or high-temperature heat is applied, and has high durability.

<光半導体装置>
本発明の光半導体装置は、本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物(光半導体封止用樹脂組成物)の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置である。光半導体素子の封止は、例えば、上述の方法で調製した硬化性エポキシ樹脂組成物を所定の成形型内に注入し、所定の条件で加熱硬化して行うことができる。これにより、硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置が得られる。硬化温度と硬化時間は、硬化物の調製時と同様の範囲で適宜設定することができる。
<Optical semiconductor device>
The optical semiconductor device of the present invention is an optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition (resin composition for optical semiconductor sealing) of the present invention. The optical semiconductor element can be sealed, for example, by injecting the curable epoxy resin composition prepared by the above-described method into a predetermined mold and heat-curing under predetermined conditions. Thereby, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the curable epoxy resin composition is obtained. The curing temperature and the curing time can be appropriately set within the same range as when the cured product is prepared.

本発明の硬化性エポキシ樹脂組成物は、上述の光半導体素子の封止用途に限定されず、例えば、接着剤、電気絶縁材、積層板、コーティング、インク、塗料、シーラント、レジスト、複合材料、透明基材、透明シート、透明フィルム、光学素子、光学レンズ、光学部材、光造形、電子ペーパー、タッチパネル、太陽電池基板、光導波路、導光板、ホログラフィックメモリ等の各種用途に使用することができる。   The curable epoxy resin composition of the present invention is not limited to the above-mentioned optical semiconductor element sealing application, for example, an adhesive, an electrical insulating material, a laminate, a coating, an ink, a paint, a sealant, a resist, a composite material, It can be used for various applications such as transparent substrates, transparent sheets, transparent films, optical elements, optical lenses, optical members, optical modeling, electronic paper, touch panels, solar cell substrates, optical waveguides, light guide plates, holographic memories, etc. .

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、表1、2における「−」は、当該成分の配合を行わなかったことを意味する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, "-" in Tables 1 and 2 means that the component was not blended.

製造例1
(ゴム粒子の製造)
還流冷却器付きの1L重合容器に、イオン交換水500g、及びジオクチルスルホコハク酸ナトリウム0.68gを仕込み、窒素気流下に撹拌しながら、80℃に昇温した。ここに、ゴム粒子のコア部分を形成するために必要とする量の約5重量%分に該当するアクリル酸ブチル9.5g、スチレン2.57g、及びジビニルベンゼン0.39gからなる単量体混合物を一括添加し、20分間撹拌して乳化させた後、ペルオキソ二硫酸カリウム9.5mgを添加し、1時間撹拌して最初のシード重合を行った。続いて、ペルオキソ二硫酸カリウム180.5mgを添加し、5分間撹拌した。ここに、コア部分を形成するために必要とする量の残り(約95重量%分)のアクリル酸ブチル180.5g、スチレン48.89g、及びジビニルベンゼン7.33gにジオクチルスルホコハク酸ナトリウム0.95gを溶解させてなる単量体混合物を2時間かけて連続的に添加し、2度目のシード重合を行い、その後、1時間熟成してコア部分を得た。
次いで、ペルオキソ二硫酸カリウム60mgを添加して5分間撹拌し、ここに、メタクリル酸メチル60g、アクリル酸1.5g、及びアリルメタクリレート0.3gにジオクチルスルホコハク酸ナトリウム0.3gを溶解させてなる単量体混合物を30分かけて連続的に添加し、シード重合を行った。その後、1時間熟成し、コア部分を被覆するシェル層を形成した。
次いで、室温(25℃)まで冷却し、目開き120μmのプラスチック製網で濾過することにより、コアシェル構造を有するゴム粒子を含むラテックスを得た。得られたラテックスをマイナス30℃で凍結し、吸引濾過器で脱水洗浄した後、60℃で一昼夜送風乾燥してゴム粒子を得た。得られたゴム粒子の平均粒子径は254nm、最大粒子径は486nmであった。
Production Example 1
(Manufacture of rubber particles)
In a 1 L polymerization vessel equipped with a reflux condenser, 500 g of ion-exchanged water and 0.68 g of sodium dioctylsulfosuccinate were charged, and the temperature was raised to 80 ° C. while stirring under a nitrogen stream. Here, a monomer mixture composed of 9.5 g of butyl acrylate, 2.57 g of styrene, and 0.39 g of divinylbenzene corresponding to about 5% by weight of the amount required to form the core portion of the rubber particles. Were added together and emulsified by stirring for 20 minutes, and then 9.5 mg of potassium peroxodisulfate was added and stirred for 1 hour to perform the first seed polymerization. Subsequently, 180.5 mg of potassium peroxodisulfate was added and stirred for 5 minutes. Here, the remaining amount (about 95% by weight) of butyl acrylate 180.5 g, styrene 48.89 g, divinylbenzene 7.33 g and 0.95 g sodium dioctyl sulfosuccinate required to form the core portion. A monomer mixture obtained by dissolving sucrose was continuously added over 2 hours to perform seed polymerization for the second time, and then aged for 1 hour to obtain a core part.
Next, 60 mg of potassium peroxodisulfate was added and stirred for 5 minutes. Here, 0.3 g of sodium dioctylsulfosuccinate was dissolved in 60 g of methyl methacrylate, 1.5 g of acrylic acid and 0.3 g of allyl methacrylate. The monomer mixture was continuously added over 30 minutes to perform seed polymerization. Then, it aged for 1 hour and formed the shell layer which coat | covers a core part.
Next, the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.) and filtered through a plastic mesh having an opening of 120 μm to obtain a latex containing rubber particles having a core-shell structure. The obtained latex was frozen at −30 ° C., dehydrated and washed with a suction filter, and then blown and dried at 60 ° C. overnight to obtain rubber particles. The resulting rubber particles had an average particle size of 254 nm and a maximum particle size of 486 nm.

なお、ゴム粒子の平均粒子径、最大粒子径は、動的光散乱法を測定原理とした「NanotracTM」形式のナノトラック粒度分布測定装置(商品名「UPA−EX150」、日機装(株)製)を使用して試料を測定し、得られた粒度分布曲線において、累積カーブが50%となる時点の粒子径である累積平均径を平均粒子径、粒度分布測定結果の頻度(%)が0.00%を超えた時点の最大の粒子径を最大粒子径とした。なお、上記試料としては、下記製造例2で得られたゴム粒子分散エポキシ化合物1重量部をテトラヒドロフラン20重量部に分散させたものを用いた。 The average particle size and the maximum particle size of the rubber particles are “Nanotrac ” type nanotrack particle size distribution measuring device (trade name “UPA-EX150”, manufactured by Nikkiso Co., Ltd.) based on the dynamic light scattering method. ) Was used to measure the sample, and in the obtained particle size distribution curve, the average particle size, which is the particle size when the cumulative curve becomes 50%, is the average particle size, and the frequency (%) of the particle size distribution measurement result is 0 The maximum particle size at the time of exceeding 0.000 was defined as the maximum particle size. In addition, as said sample, what disperse | distributed 1 weight part of rubber particle dispersion | distribution epoxy compounds obtained by the following manufacture example 2 to 20 weight part of tetrahydrofuran was used.

製造例2
(ゴム粒子分散エポキシ化合物の製造)
製造例1で得られたゴム粒子10重量部を、窒素気流下、60℃に加温した状態でディゾルバーを使用して、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)70重量部に分散させ(1000rpm、60分間)、真空脱泡して、ゴム粒子分散エポキシ化合物(25℃での粘度:1356mPa・s)を得た。
なお、製造例2で得られたゴム粒子分散エポキシ化合物(10重量部のゴム粒子を70重量部のセロキサイド2021Pに分散させたもの)の25℃での粘度は、デジタル粘度計(商品名「DVU−EII型」、(株)トキメック製)を使用して測定した。
Production Example 2
(Manufacture of rubber particle-dispersed epoxy compounds)
10 parts by weight of the rubber particles obtained in Production Example 1 were dispersed in 70 parts by weight of a trade name “Celoxide 2021P” (manufactured by Daicel Corporation) using a dissolver while being heated to 60 ° C. in a nitrogen stream. (1000 rpm, 60 minutes) and vacuum degassing to obtain a rubber particle-dispersed epoxy compound (viscosity at 25 ° C .: 1356 mPa · s).
The viscosity at 25 ° C. of the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained in Production Example 2 (10 parts by weight of rubber particles dispersed in 70 parts by weight of ceroxide 2021P) is a digital viscometer (trade name “DVU”). -EII type ", manufactured by Tokimec Co., Ltd.).

製造例3
(エポキシ硬化剤の製造)
表1に示す配合割合(単位:重量部)で、商品名「リカシッド MH−700」(新日本理化(株)製)、商品名「U−CAT 18X」(サンアプロ(株)製)、及びエチレングリコール(和光純薬工業(株)製)を、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡してエポキシ硬化剤(「K剤」と称する場合がある)を得た。
Production Example 3
(Manufacture of epoxy curing agent)
In the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 1, the trade name “Rikacid MH-700” (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.), the trade name “U-CAT 18X” (manufactured by San Apro Co., Ltd.), and ethylene Glycol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is uniformly mixed and defoamed using a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.). An epoxy curing agent (sometimes referred to as “K agent”) was obtained.

実施例1
まず、表1に示す配合割合(単位:重量部)で、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)、商品名「MA−DGIC」(四国化成工業(株)製)、及び、商品名「DA−MGIC」(四国化成工業(株)製)を、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、エポキシ樹脂を作製した。なお、上記混合は、MA−DGIC及びDA−MGICを溶解させるために80℃で1時間攪拌して実施した。
次に、表1に示す配合割合(単位:重量部)となるように、上記で得たエポキシ樹脂と、製造例3で得たエポキシ硬化剤とを自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
さらに、上記で得た硬化性エポキシ樹脂組成物を図1に示す光半導体のリードフレーム(InGaN素子、3.5mm×2.8mm)に注型した後、120℃のオーブン(樹脂硬化オーブン)で5時間加熱することで、上記硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を得た。なお、図1において、100はリフレクター(光反射用樹脂組成物)、101は金属配線、102は光半導体素子、103はボンディングワイヤ、104は硬化物(封止材)を示す。
Example 1
First, with the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 1, the trade name “Celoxide 2021P” (manufactured by Daicel Corporation), the trade name “MA-DGIC” (manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.), and the product The name “DA-MGIC” (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) was mixed evenly using a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.) Defoaming was performed to produce an epoxy resin. In addition, the said mixing was implemented by stirring at 80 degreeC for 1 hour in order to dissolve MA-DGIC and DA-MGIC.
Next, the revolution ratio stirrer (trade name “Awatori”) was prepared by combining the epoxy resin obtained above and the epoxy curing agent obtained in Production Example 3 so as to have the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 1. Using Nertaro AR-250 "(manufactured by Sinky Corporation), the mixture was uniformly mixed and defoamed to obtain a curable epoxy resin composition.
Further, the curable epoxy resin composition obtained above was cast into an optical semiconductor lead frame (InGaN element, 3.5 mm × 2.8 mm) shown in FIG. 1, and then in an oven (resin curing oven) at 120 ° C. By heating for 5 hours, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the said curable epoxy resin composition was obtained. In FIG. 1, 100 is a reflector (light reflecting resin composition), 101 is a metal wiring, 102 is an optical semiconductor element, 103 is a bonding wire, and 104 is a cured product (sealing material).

実施例2〜5、比較例1〜6
硬化性エポキシ樹脂組成物の組成を表1に示す組成に変更したこと以外は実施例1と同様にして、硬化性エポキシ樹脂組成物を調製した。なお、実施例5においては、エポキシ樹脂の構成成分として、製造例2で得たゴム粒子分散エポキシ化合物を使用した。
また、実施例1と同様にして光半導体装置を作製した。
Examples 2-5, Comparative Examples 1-6
A curable epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the curable epoxy resin composition was changed to the composition shown in Table 1. In Example 5, the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained in Production Example 2 was used as a constituent component of the epoxy resin.
Further, an optical semiconductor device was fabricated in the same manner as in Example 1.

実施例6
まず、表2に示す配合割合(単位:重量部)で、商品名「セロキサイド2021P」((株)ダイセル製)、商品名「MA−DGIC」(四国化成工業(株)製)、及び、商品名「DA−MGIC」(四国化成工業(株)製)を、自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、エポキシ樹脂を作製した。なお、上記混合は、80℃で1時間攪拌して実施した。
次に、表2に示す配合割合(単位:重量部)となるように、上記で得たエポキシ樹脂と、商品名「サンエイドSI−100L」(三新化学工業(株)製)とを自公転式攪拌装置(商品名「あわとり練太郎AR−250」、(株)シンキー製)を使用して均一に混合し、脱泡して、硬化性エポキシ樹脂組成物を得た。
さらに、上記で得た硬化性エポキシ樹脂組成物を図1に示す光半導体のリードフレーム(InGaN素子、3.5mm×2.8mm)に注型した後、120℃のオーブン(樹脂硬化オーブン)で5時間加熱することで、上記硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置を得た。
Example 6
First, in the compounding ratio (unit: parts by weight) shown in Table 2, the trade name “Celoxide 2021P” (manufactured by Daicel Corporation), the trade name “MA-DGIC” (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.), and the product The name “DA-MGIC” (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) was mixed evenly using a self-revolving stirrer (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.) Defoaming was performed to produce an epoxy resin. In addition, the said mixing was implemented by stirring at 80 degreeC for 1 hour.
Next, the epoxy resin obtained above and the trade name “Sun-Aid SI-100L” (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) were revolved so that the blending ratio (unit: parts by weight) shown in Table 2 was obtained. A curable epoxy resin composition was obtained by uniformly mixing and defoaming using an agitator (trade name “Awatori Nertaro AR-250”, manufactured by Shinky Co., Ltd.).
Further, the curable epoxy resin composition obtained above was cast into an optical semiconductor lead frame (InGaN element, 3.5 mm × 2.8 mm) shown in FIG. 1, and then in an oven (resin curing oven) at 120 ° C. By heating for 5 hours, the optical semiconductor device with which the optical semiconductor element was sealed with the hardened | cured material of the said curable epoxy resin composition was obtained.

実施例7〜10、比較例7〜12
硬化性エポキシ樹脂組成物の組成を表2に示す組成に変更したこと以外は実施例6と同様にして、硬化性エポキシ樹脂組成物を調製した。なお、実施例10においては、エポキシ樹脂の構成成分として、製造例2で得たゴム粒子分散エポキシ化合物を使用した。
また、実施例6と同様にして光半導体装置を作製した。
Examples 7-10, Comparative Examples 7-12
A curable epoxy resin composition was prepared in the same manner as in Example 6 except that the composition of the curable epoxy resin composition was changed to the composition shown in Table 2. In Example 10, the rubber particle-dispersed epoxy compound obtained in Production Example 2 was used as a constituent component of the epoxy resin.
Further, an optical semiconductor device was produced in the same manner as in Example 6.

<評価>
実施例及び比較例で得られた光半導体装置について、下記の評価試験を実施した。
<Evaluation>
The following evaluation tests were carried out on the optical semiconductor devices obtained in the examples and comparative examples.

[通電試験]
実施例及び比較例で得られた光半導体装置の全光束を、全光束測定機を用いて測定し、これを「0時間の全光束」とした。さらに、85℃の恒温槽内で100時間、光半導体装置に40mAの電流を流した後の全光束を測定し、これを「100時間後の全光束」とした。そして、次式から光度保持率を算出した。結果を表1、2の「光度保持率[%]」の欄に示す。
{光度保持率(%)}
={100時間後の全光束(lm)}/{0時間の全光束(lm)}×100
[Energization test]
The total luminous fluxes of the optical semiconductor devices obtained in the examples and comparative examples were measured using a total luminous flux measuring machine, and this was defined as “total luminous flux for 0 hour”. Further, the total luminous flux after a current of 40 mA was passed through the optical semiconductor device in an 85 ° C. constant temperature bath for 100 hours was measured, and this was designated as “total luminous flux after 100 hours”. And luminous intensity retention was computed from the following formula. The results are shown in the column of “Luminance retention rate [%]” in Tables 1 and 2.
{Luminance retention (%)}
= {Total luminous flux after 100 hours (lm)} / {total luminous flux after 0 hours (lm)} × 100

[はんだ耐熱性試験]
実施例及び比較例で得られた光半導体装置(各硬化性エポキシ樹脂組成物につき2個ずつ用いた)を、30℃、60%RHの条件下で192時間静置して吸湿処理した。次いで、上記光半導体装置をリフロー炉に入れ、下記加熱条件にて加熱処理した。その後、上記光半導体装置を室温環境下に取り出して放冷した後、再度リフロー炉に入れて同条件で加熱処理した。即ち、当該はんだ耐熱性試験においては、光半導体装置に対して下記加熱条件による熱履歴を二度与えた。
〔加熱条件(光半導体装置の表面温度基準)〕
(1)予備加熱:150〜190℃で60〜120秒
(2)予備加熱後の本加熱:217℃以上で60〜150秒、最高温度260℃
但し、予備加熱から本加熱に移行する際の昇温速度は最大で3℃/秒に制御した。
図2には、リフロー炉による加熱の際の光半導体装置の表面温度プロファイル(二度の加熱処理のうち一方の加熱処理における温度プロファイル)の一例を示す。
その後、デジタルマイクロスコープ(商品名「VHX−900」、(株)キーエンス製)を使用して光半導体装置を観察し、硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生したか否か、及び、電極剥離(電極表面からの硬化物の剥離)が発生したか否かを評価した。光半導体装置2個のうち、硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数を表1、2の「はんだ耐熱性試験[クラック数]」の欄に示し、電極剥離が発生した光半導体装置の個数を表1、2の「はんだ耐熱性試験[電極剥離数]」の欄に示した。
[Solder heat resistance test]
The optical semiconductor devices (two used for each curable epoxy resin composition) obtained in the examples and comparative examples were left to stand for 192 hours under the conditions of 30 ° C. and 60% RH for moisture absorption treatment. Subsequently, the said optical semiconductor device was put into the reflow furnace, and it heat-processed on the following heating conditions. Thereafter, the optical semiconductor device was taken out in a room temperature environment and allowed to cool, and then again placed in a reflow furnace and heat-treated under the same conditions. That is, in the solder heat resistance test, the thermal history under the following heating conditions was given twice to the optical semiconductor device.
[Heating conditions (based on surface temperature of optical semiconductor device)]
(1) Preheating: 150 to 190 ° C. for 60 to 120 seconds (2) Main heating after preheating: 217 ° C. or more for 60 to 150 seconds, maximum temperature 260 ° C.
However, the rate of temperature increase when shifting from preheating to main heating was controlled to 3 ° C./second at the maximum.
FIG. 2 shows an example of a surface temperature profile (temperature profile in one of the two heat treatments) of the optical semiconductor device when heated by the reflow furnace.
Thereafter, the optical semiconductor device was observed using a digital microscope (trade name “VHX-900”, manufactured by Keyence Co., Ltd.), whether or not a crack having a length of 90 μm or more occurred in the cured product, and It was evaluated whether or not electrode peeling (peeling of the cured product from the electrode surface) occurred. Of the two optical semiconductor devices, the number of optical semiconductor devices having a crack of 90 μm or longer in the cured product is shown in the column of “Solder heat resistance test [number of cracks]” in Tables 1 and 2, The number of the generated optical semiconductor devices is shown in the column of “Solder heat resistance test [electrode peeling number]” in Tables 1 and 2.

[熱衝撃試験]
実施例及び比較例で得られた光半導体装置(各硬化性エポキシ樹脂組成物につき2個ずつ用いた)に対し、−40℃の雰囲気下に30分曝露し、続いて、120℃の雰囲気下に30分曝露することを1サイクルとした熱衝撃を、熱衝撃試験機を用いて200サイクル分与えた。その後、光半導体装置における硬化物に生じたクラックの長さを、デジタルマイクロスコープ(商品名「VHX−900」、(株)キーエンス製)を使用して観察し、光半導体装置2個のうち、硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数を計測した。結果を表1、2の「熱衝撃試験[クラック数]」の欄に示す。
[Thermal shock test]
The optical semiconductor devices obtained in the examples and comparative examples (two were used for each curable epoxy resin composition) were exposed in an atmosphere of −40 ° C. for 30 minutes, and then in an atmosphere of 120 ° C. A thermal shock with one cycle of exposure to 30 minutes was applied for 200 cycles using a thermal shock tester. Then, the length of the crack generated in the cured product in the optical semiconductor device was observed using a digital microscope (trade name “VHX-900”, manufactured by Keyence Corporation). The number of optical semiconductor devices in which cracks having a length of 90 μm or more occurred in the cured product was measured. The results are shown in the column of “thermal shock test [number of cracks]” in Tables 1 and 2.

[総合判定]
各試験の結果、下記(1)〜(4)をいずれも満たすものを○(良好)と判定した。一方、下記(1)〜(4)のいずれかを満たさない場合には×(不良)と判定した。
(1)通電試験:光度保持率が90%以上
(2)はんだ耐熱性試験:硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数が0個
(3)はんだ耐熱性試験:電極剥離が発生した光半導体装置の個数が0個
(4)熱衝撃試験:硬化物に長さが90μm以上のクラックが発生した光半導体装置の個数が0個
結果を表1、2の「総合判定」の欄に示す。
[Comprehensive judgment]
As a result of each test, what satisfy | filled all the following (1)-(4) was determined as (circle) (good). On the other hand, when any of the following (1) to (4) was not satisfied, it was determined as x (defective).
(1) Current test: luminous intensity retention of 90% or more (2) Solder heat resistance test: No. of optical semiconductor devices having cracks of 90 μm or more in cured product (3) Solder heat resistance test: The number of optical semiconductor devices in which electrode peeling occurred was zero (4) Thermal shock test: the number of optical semiconductor devices in which a crack having a length of 90 μm or more occurred in a cured product was zero. It is shown in the “determination” column.

Figure 2015098586
Figure 2015098586

Figure 2015098586
Figure 2015098586

なお、実施例、比較例で使用した成分は、以下の通りである。
(エポキシ樹脂)
セロキサイド2021P:商品名「セロキサイド2021P」[3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(3,4−エポキシ)シクロヘキサンカルボキシレート]、(株)ダイセル製
MA−DGIC:商品名「MA−DGIC」[モノアリルジグリシジルイソシアヌレート]、四国化成工業(株)製
DA−MGIC:商品名「DA−MGIC」[ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート]、四国化成工業(株)製
YD−128:商品名「YD−128」[ビスフェノールA型エポキシ樹脂]、新日鐵化学(株)製
(エポキシ硬化剤)
MH−700:商品名「リカシッド MH−700」[4−メチルヘキサヒドロ無水フタル酸/ヘキサヒドロ無水フタル酸=70/30]、新日本理化(株)製
U−CAT 18X:商品名「U−CAT 18X」[硬化促進剤]、サンアプロ(株)製
エチレングリコール:和光純薬工業(株)製
(硬化触媒)
サンエイドSI−100L:商品名「サンエイドSI−100L」[硬化触媒]、三新化学工業(株)製
In addition, the component used by the Example and the comparative example is as follows.
(Epoxy resin)
Celoxide 2021P: Trade name “Celoxide 2021P” [3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxy) cyclohexanecarboxylate], manufactured by Daicel Corporation MA-DGIC: Trade name “MA-DGIC” [monoallyl diglycidyl Isocyanurate], Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. DA-MGIC: trade name “DA-MGIC” [diallyl monoglycidyl isocyanurate], Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd. YD-128: trade name “YD-128” [Bisphenol Type A epoxy resin], manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. (epoxy curing agent)
MH-700: trade name “Licacid MH-700” [4-methylhexahydrophthalic anhydride / hexahydrophthalic anhydride = 70/30], manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd. U-CAT 18X: trade name “U-CAT 18X "[curing accelerator], manufactured by San Apro Co., Ltd. Ethylene glycol: manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. (curing catalyst)
Sun-Aid SI-100L: Trade name “Sun-Aid SI-100L” [curing catalyst], manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.

試験機器
・樹脂硬化オーブン
エスペック(株)製 GPHH−201
・恒温槽
エスペック(株)製 小型高温チャンバー ST−120B1
・全光束測定機
オプトロニックラボラトリーズ社製 マルチ分光放射測定システム OL771
・熱衝撃試験機
エスペック(株)製 小型冷熱衝撃装置 TSE−11−A
・リフロー炉
日本アントム(株)製、UNI−5016F
Test equipment ・ Resin curing oven ESPH Co., Ltd. GPH-201
-Thermostatic chamber ESPEC Co., Ltd. Small high temperature chamber ST-120B1
・ Total luminous flux measuring machine Optronic Laboratories Multi-spectral Radiation Measurement System OL771
・ Thermal shock tester Espec Co., Ltd. Small thermal shock device TSE-11-A
-Reflow furnace manufactured by Nippon Antom Co., Ltd., UNI-5016F

100:リフレクター(光反射用樹脂組成物)
101:金属配線
102:光半導体素子
103:ボンディングワイヤ
104:硬化物(封止材)
100: Reflector (resin composition for light reflection)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101: Metal wiring 102: Optical semiconductor element 103: Bonding wire 104: Hardened | cured material (sealing material)

Claims (10)

脂環式エポキシ化合物(A)と、下記式(1)
Figure 2015098586
[式中、R1、R2は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。]
で表されるモノアリルジグリシジルイソシアヌレート化合物(B)と、分子内に1個のオキシラン環を有するイソシアヌル酸誘導体(C)とを含むことを特徴とする硬化性エポキシ樹脂組成物。
Alicyclic epoxy compound (A) and the following formula (1)
Figure 2015098586
[Wherein, R 1 and R 2 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. ]
The curable epoxy resin composition characterized by including the monoallyl diglycidyl isocyanurate compound (B) represented by these, and the isocyanuric acid derivative (C) which has one oxirane ring in a molecule | numerator.
分子内に1個のオキシラン環を有するイソシアヌル酸誘導体(C)が、下記式(2−1)
Figure 2015098586
[式中、R3、R4は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜8のアルキル基を示す。]
で表されるジアリルモノグリシジルイソシアヌレート化合物である請求項1に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
The isocyanuric acid derivative (C) having one oxirane ring in the molecule is represented by the following formula (2-1):
Figure 2015098586
[In formula, R < 3 >, R < 4 > is the same or different, and shows a hydrogen atom or a C1-C8 alkyl group. ]
The curable epoxy resin composition according to claim 1, which is a diallyl monoglycidyl isocyanurate compound represented by the formula:
脂環式エポキシ化合物(A)が、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物である請求項1又は2に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。   The curable epoxy resin composition according to claim 1 or 2, wherein the alicyclic epoxy compound (A) is a compound having a cyclohexene oxide group. 脂環式エポキシ化合物(A)が、下記式(I−1)
Figure 2015098586
で表される化合物である請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。
The alicyclic epoxy compound (A) is represented by the following formula (I-1)
Figure 2015098586
The curable epoxy resin composition according to claim 1, wherein the curable epoxy resin composition is represented by the formula:
さらに、ゴム粒子を含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。   Furthermore, the curable epoxy resin composition of any one of Claims 1-4 containing a rubber particle. さらに、硬化剤(D)及び硬化促進剤(E)を含む請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。   Furthermore, the curable epoxy resin composition of any one of Claims 1-5 containing a hardening | curing agent (D) and a hardening accelerator (E). さらに、硬化触媒(F)を含む請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。   Furthermore, the curable epoxy resin composition of any one of Claims 1-6 containing a curing catalyst (F). 請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物を硬化させて得られる硬化物。   Hardened | cured material obtained by hardening the curable epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 光半導体封止用樹脂組成物である請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物。   It is a resin composition for optical semiconductor sealing, The curable epoxy resin composition of any one of Claims 1-7. 請求項9に記載の硬化性エポキシ樹脂組成物の硬化物により光半導体素子が封止された光半導体装置。   An optical semiconductor device in which an optical semiconductor element is sealed with a cured product of the curable epoxy resin composition according to claim 9.
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