JP6041433B2 - 汚染物質処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、例えばセシウム等の放射性物質で汚染された土壌、汚泥等から、当該放射性物質を除去する汚染物質処理装置に関する。

溜池や防火水槽、下水処理施設、その他において、例えばセシウムの様な放射性物質を包含する汚泥は、放射線量が高く、従業者の被爆リスクが高いため、従来技術では処理が困難である。
また、当該汚泥において、コロイド状微粒子や、藻類その他の植物体に取り込まれた浮遊物質が結合して、浮遊泥として下層部に浮遊する物が存在する。
その様な浮遊泥（セシウムの様な放射性物質を包含する汚泥）の処理も、従来の技術では困難である。

さらに、溜池や防火水槽、下水処理施設、その他における下層部の汚染水（いわゆる「放射能汚染水」）も放射線量が高く、処理作業に従事する作業者の被爆リスクが高い。
そのため、当該下層部の水についても、従来技術では処理が困難である。

その他の従来技術として、例えば、使用済み燃料の再処理技術が存在する（例えば、特許文献１参照）。
しかし、係る従来技術（特許文献１）は、上述した様な放射性物質で汚染された汚泥や汚染水の処理には適用することは困難である。

特開２０１２−９３２８３号公報

本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、処理作業に従事する作業者の被爆リスクを高くすることなく、例えばセシウムの様な放射性物質を包含する汚泥や汚染水から、当該放射性物質を確実に除去する汚染物質処理装置の提供を目的としている。

本発明の汚染物質処理装置は、所定温度まで内部を加熱する機能を有する高温乾燥装置（１０）と、該高温乾燥装置（１０）の排気口（１０ａｘ）に連通し、そして前記高温乾燥装置（１０）からの排気を冷却する機能および前記高温乾燥装置（１０）からの排気中の固体と気体とに分離する機能を有するサイクロン（３０）と、該サイクロン（３０）で分離された気体を水中に流過させて気体を浄化する機能を有する排気洗浄装置（７０）と、前記サイクロン（３０）の固形物排出口（３１ｏ）からの微粉塵が投入され混練されて冷却される混練機（４０）とを備え、該混練機（４０）からの微粉塵に計量手段（Ｖ３、Ｖ４、ＳＲ４）を介して安定化処理混練機（５０）に投入され、該安定化処理混練機（５０）では微粉塵が冷却されて水ガラス状に固化され安定化固形物となって排出口（５１ｏ）から排出され、前記排気洗浄装置（７０）は冷却水を散布する排気洗浄水注入部（７３）と、該排気洗浄水注入部（７３）で洗浄され溶け込んだ気体を含む冷却水の洗浄槽（７１）とを備え、さらに前記洗浄槽（７１）の冷却水を処理する水処理機構（ＤＶｗ）を備え、該水処理機構（ＤＶｗ）は冷却水中に溶解した汚染物質を沈殿させる凝集沈殿槽（１４０）を備えていることを特徴としている。

本発明において、凝集沈殿槽（１４０）の沈殿物を固液分離する固液分離機（１６０）を備え、固液分離機（１６０）で分離された固体を高温乾燥装置（１０）に投入する搬送装置（定量供給スクリューコンベア９：遮蔽性を有する２重スクリュー）を設けているのが好ましい。

上述する構成を具備する本発明によれば、汚泥を高温乾燥装置（１０）で９００℃程度まで加熱するので、セシウムが気化して汚泥から完全に分離する。そのため、高温乾燥装置（１０）から排出された固体分にはセシウムは包含されていない。
そのため、（放射線量が所定の基準値以下ならば）高温乾燥装置（１０）から排出された固体分を埋設処理することが出来る。

高温乾燥装置（１０）の飛灰や粉塵、気化したセシウムは、サイクロン（３０）で冷却され、固体と気体に分離される。
サイクロン（３０）で分離された固体は、安定化処理（例えば、珪酸ソーダ水溶液とリン酸水溶液を添加してガラス状に固化する処理）を行った後、専用遮蔽容器（５）で保管することが出来る。
一方、サイクロンで分離された気体は、排気洗浄装置（７０）において水中を移動する際に、セシウムが水により捕集されて、気体からは除去される。そのため、水を経由した気体は清浄化される。

ここで、排気洗浄装置（７０）でセシウムを捕集した水が、凝集沈殿槽（１４０）を包含する水処理機構（粗取り原水槽８０、一次攪拌反応槽９０、二次攪拌反応槽１１０、流体移動圧送ポンプ１３０、凝集沈殿槽１４０）に供給されるように構成すれば、当該水中のセシウムを包含する汚泥は、凝集沈殿槽（１４０）で凝集、沈殿される。
そして、凝集沈殿槽（１４０）の沈殿物を、固液分離機（１６０）で固体と液体に分離して、分離された固体を、処理設備（図示せず）で安定化処理を行なう。
また、凝集沈殿槽（１４０）の上澄液と、固液分離機（１６０）で分離された液体は、排気洗浄装置（７０）における排気洗浄用水として利用し、或いは、処理設備（図示せず）で安定化処理することが出来る。

すなわち、本発明によれば、放射性物質（例えばセシウム）を包含する汚泥を固体、気体、液体に分離して、各々から、放射性物質（例えばセシウム）を完全に除去することにより、汚泥中から放射性物質（例えばセシウム）を除去している。
そして、汚泥中から放射性物質（例えばセシウム）を除去する処理は、全て閉鎖系で実行することが出来るので、作業者が被爆すること無く、高濃度の放射性物質で汚染された汚泥を処理することが出来る。

また本発明において、凝集沈殿槽（１４０）の沈殿物を固液分離する固液分離機（１６０）を備え、固液分離機（１６０）で分離された固体を高温乾燥装置（１０）に投入する搬送装置（定量供給スクリューコンベア９）を設けた場合には、先ず、汚泥や汚染水を水処理機構（粗取り原水槽８０、一次攪拌反応槽９０、二次攪拌反応槽１１０、流体移動圧送ポンプ１３０、凝集沈殿槽１４０）に供給し、凝集沈殿槽（１４０）で沈殿物と上澄液とに分離する。
そして、凝集沈殿槽（１４０）の沈殿物を、固液分離機（１６０）で固体と液体に分離して、分離された固体を、高温乾燥装置（１０）で９００℃程度まで加熱する。これにより、当該固体は、セシウムが気化して分離した固体と、飛灰や粉塵、気化したセシウムに分離される。
当該飛灰や粉塵、気化したセシウムは、サイクロン（３０）で冷却され、固体と気体に分離され、サイクロン（３０）で分離された固体は、安定化処理（例えば、珪酸ソーダ水溶液とリン酸水溶液を添加してガラス状に固化する処理）を行った後、専用遮蔽容器（５）で保管することが出来る。そして、サイクロン（３０）で分離された気体は、排気洗浄装置（７０）において水中を移動する際に、セシウムが水により捕集されて、気体からは除去することが出来る。

一方、凝集沈殿槽（１４０）において、セシウムは殆ど沈殿しており、上澄液における含有量は非常に少ない。そして、当該上澄液と、固液分離機（１６０）で分離された液体は、再利用することにより、本発明の処理装置の外部に出すこと無く、再利用することが出来る。
その結果、セシウムのような放射性物質を拡散させること無く、汚泥や汚染水から除去することが出来る。

本発明の第１実施形態を示すブロック図である。 第１実施形態の要部を示すブロック図である。 第１実施形態における水処理系統を示すブロック図である。 第１実施形態の変形例における要部を示すブロック図である。 本発明の第２実施形態を示すブロック図である。

以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図示の実施形態においては、放射性物質としてセシウムを例示している。
先ず、図１〜図３を参照して、第１実施形態を説明する。
図１において、全体を符号１で示す汚染物質処理装置は、高温乾燥装置１０と、処理後物保水混練機２０と、サイクロン３０と、サイクロン処理後の混練機４０と、安定化処理混練機５０と、冷却用熱交換器ＨＸと、熱交換煙道６０と、排気洗浄装置７０と、水処理機構ＤＶＷを備えている。

高温乾燥装置１０と、処理後物保水混練機２０と、サイクロン３０と、サイクロン処理後の混練機４０と、安定化処理混練機５０と、排気洗浄装置７０の詳細が、図２で示されている。
図２において、高温乾燥装置１０は、円筒状のケーシング１１と、処理物投入口（図示せず）に連通した投入スクリュー１２と、ドラムスクリーン１３と、ドラムスクリーン回転軸１４と、ドラム駆動モータ１０Mと、回転力伝達機構１５を備えている。
高温乾燥装置１０において、円筒状のケーシング１１、投入スクリュー１２、ドラムスクリーン１３及びドラムスクリーン回転軸１４は、何れもその中心軸が水平方向に延在している。

円筒状のケーシング１１のエンドプレート１１ｅには高温バーナー１０Ｂが取り付けられており、高温バーナー１０Ｂは、ドラムスクリーン１３内の処理物（セシウム等の放射性物質で汚染された汚染物質を包含する汚泥等）を加熱している。明示はされていないが、高温バーナー１０Ｂは、高温運転と低温運転を切り換え可能に構成されている。
高温乾燥装置１０において、図示しない処理物投入口には、定量供給スクリューコンベア９が接続されている。
図１で示す様に、高温乾燥装置１０には、ケーシング１１内部の圧力を計測する圧力センサＳＲが設けられている。圧力センサＳＲは、入力信号ラインＳｉを介して、制御用コンピュータ３００と接続されている。制御用コンピュータ３００は、ブロワ駆動用モータ７０Ｍと制御信号サインＳｏで接続されており、以って、ケーシング１１内部の圧力に対応してモータ７０Ｍの回転数が制御されるように構成されている。

図２において、定量供給スクリューコンベア９は、投入口９１と、円筒状のケーシング９２と、スクリューコンベア本体９３と、スクリューコンベア本体９３を回転駆動する駆動モータ９４を備えている。
定量供給スクリューコンベア９において、円筒状のケーシング９２、スクリューコンベア本体９３及び駆動モータ９４は、何れもその中心軸が水平に延在している。ここで、定量供給スクリューコンベア９は、作業員の被爆を防止するため、遮蔽性を有する２重スクリューとして構成されるのが好ましい。
図１において、符号８は、例えばセシウムで汚染された汚泥（下水道汚泥、溜池や防火水槽の底部に貯留した汚泥等）や土壌を、定量供給スクリューコンベア９の投入口９１まで搬送する搬送装置（例えば、カート、或いはベルトコンベア）を示している。

図２において、高温乾燥装置１０は、円筒状ケーシング１１の後端（図２における右端）近傍の垂直方向上方には、気体排出口１０ａｘを設けている。気体排出口１０ａｘは、熱交換器ＨＸに接続されている。
また、円筒状ケーシング１１の後端近傍で、気体排出口１０ａｘよりも垂直方向下方には、固形物を排出するための固形物排出管１０ｂが設けられている。固形物排出管１０ｂは、第１の開閉弁Ｖ１を介して、排出口１０ｂｘに連通している。固形物排出口１０ｂｘは、第２の開閉弁Ｖ２を介して、処理後物保水混練機２０の投入口２１ｉに接続されている。

固形物排出管１０ｂ内には第１のレベルセンサＳＲ１が装着され、固形物排出口１０ｂｘ内には第２のレベルセンサＳＲ２が装着されている。
固形物排出管１０ｂにおいて、高温乾燥装置１０からの固体排出物（顆粒：多孔質体）が第１の開閉弁Ｖ１よりも上の領域に溜まり、第１のレベルセンサＳＲ１に接触すると、第１の開閉弁Ｖ１が開放されるように構成されている。第１の開閉弁Ｖ１が開放される際に、第２の開閉弁Ｖ２は閉鎖している。
第２の開閉弁Ｖ２は閉鎖した状態で第１の開閉弁Ｖ１が開放されると、所定量の顆粒或いは多孔質体は、固形物排出管１０ｂにおける第１の開閉弁Ｖ１と第２の開閉弁Ｖ２との間の領域に堆積する。

第１の開閉弁Ｖ１と第２の開閉弁Ｖ２との間の領域に堆積した顆粒或いは多孔質体が、第２のレベルセンサＳＲ２に接触すると、第２の開閉弁Ｖ２が開放され、顆粒（多孔質体）は処理後物保水混練機２０に投入されるように構成されている。この時、第１の開閉弁Ｖ１は閉鎖している。
換言すれば、固形物排出管１０ｂ、第１の開閉弁Ｖ１、第２の開閉弁Ｖ２と、第１のレベルセンサＳＲ１、第２のレベルセンサＳＲ２が、処理後物保水混練機２０に投入される処理物の計量計の役を負っている。なお、第１の開閉弁Ｖ１と第２の開閉弁Ｖ２が同時に開放することはなく、何れか一方のみが開放する様に構成されている。

高温乾燥装置１０では、投入口９１に投入された処理物（下水道汚泥、溜池や防火水槽の底部に貯留した汚泥等、固液分離機１６０で分離された固形物）は、投入スクリュー１２によってドラムスクリーン１３内に搬送され、高温バーナー１０Ｂにより加熱される。
加熱された処理物は、ドラムスクリーン１３のスクリーンを透過して、ドラムスクリーン１３とケーシング１１内周面の間の円環状の空間に進入する。ここで、ドラムスクリーン１３はドラム駆動モータ１０Mで回転駆動されている。
ドラムスクリーン１３の外周面には、スパイラル状の案内ビード１３ｂが形成されている。ドラムスクリーン１３が回転すると、円筒状ケーシング１１の内周とドラムスクリーン１３の外周とで形成される円環状空間に進入した処理物は、加熱されつつ、案内ビード１３ｂに押圧されて搬送される。

高温乾燥装置１０では高温バーナー１０Ｂが稼動しており、高温バーナー１０Ｂの火炎の温度は、約９００℃に設定されている。
当該火炎温度９００℃は、セシウムの気化温度６７１℃に比較して遥かに高温である。そのため、高温乾燥装置１０で加熱、搬送される汚染物質のセシウムは、ほとんどが気化して除去される。
そして、気化したセシウム及び高温乾燥装置１０の飛灰や粉塵は、気体排出口１０ａｘから、熱交換器ＨＸ及び接続部材ＪＤを介して、サイクロン３０に搬送される。

含有されるセシウムのほとんどが気化してしまった残りの固体（顆粒：多孔質体）は、固形物排出管１０ｂを経由して、一定量ずつが（いわゆる「バッチ式」に）処理後物保水混練機２０に投入される。
処理後物保水混練機２０は、円筒状ケーシング２１と、スクリューコンベア２２と、スクリューコンベア駆動モータ２３とを備えている。円筒状ケーシング２１、スクリューコンベア２２及びスクリューコンベア駆動モータ２３は、何れもその中心軸が水平に配置されている。

図２において、処理後物保水混練機２０の二重管構造の円筒状ケーシング（外管）２１における左端に、スクリューコンベア駆動モータ２３が配置されている。
そして、円筒状ケーシング２１の外周における右端近傍の垂直方向上方に投入口２１ｉが形成され、左端近傍の垂直方向下方に排出口２１oが形成されている。
円筒状ケーシング２１の外周における投入口２１ｉ近傍には酸性水注入口２１ａが形成されており、酸性水注入口２１ａを経由して、セシウムを含まない酸性水溶水が円筒状ケーシング２１内に注入される。酸性水溶水供給系統に関しては、水処理機構ＤＶＷに関連して後述する。
円筒状ケーシング２１の外周における右端近傍の垂直方向下方に冷却水注入口２１ｃが形成され、排出口２１o近傍で垂直方向下方には冷却水の排出口２１ｈが形成されている。

高温乾燥装置１０の固形物排出管１０ｂから排出される固形物は、細かい粉塵を凝集したものを加熱しているため、多孔質体の顆粒となっている場合が多い。そして上述した様に、当該顆粒はセシウムを殆ど含まない。そして、当該顆粒は放射線量が規定値以下であれば、埋設処分が可能であるのみならず、土壌改良材として再利用することも出来る。
ここで、高温乾燥装置１０の固形物排出管１０ｂから排出された状態の顆粒は、ｐＨが高く、強いアルカリ性である。処理後物保水混練機２０において、顆粒に酸性水溶液を添加することにより、当該顆粒を中和して、埋設処理を可能にせしめ、或いは、土壌改良材として利用可能にしている。処理後物保水混練機２０の酸性水注入口２１ａから注入される酸化水溶水としては、水処理機構ＤＶＷの酸化液貯留槽２２０（図１）で処理生成された水（酸化水溶水）を用いることが出来る。
なお、上記顆粒は多孔質体であり、単位体積あたりの表面積が大きいため、良好な吸着性能を発揮して、汚染土壌内の放射性物質を吸着することができ、吸着した放射性物質を溶出しない。従って、土壌改良材として土壌に埋め戻すことにより、放射能汚染処理を行うことが出来る。

処理後物保水混練機２０の冷却水注入口２１ｃからは、冷却循環槽２４０から送られる冷却水が二重管の環状部に注入される。固形物排出管１０ｂから排出された状態の顆粒は高温であるため、そのまま排出したのでは、周囲環境を昇温してしまうからである。
図１で示すように、二重管の環状部に注入された冷却水は、ケーシング２１内部を搬送中の顆粒を所定の温度まで冷却した後、排出口２１ｈから排出され、後述するラインＬｒ１７経由で冷却循環槽２４０に戻される。

上述した様に、高温乾燥装置１０で気化したセシウムは、高温乾燥装置１０の飛灰や粉塵と共に、気体排出口１０ａｘから熱交換器ＨＸ及び接続ダクトＪＤを経由して、冷却サイクロン３０に搬送される。
熱交換器ＨＸでは、冷却流体（例えば、冷却循環槽２４０で冷却された冷却水）が注入され（Ｆｃの流れ）、熱交換器ＨＸを流下する気体状のセシウムと熱交換をして温まった冷却水が再び冷却循環槽２４０に戻される。冷却流体の流れは、図２において、矢印Ｆｈで示されている。

図２において、サイクロン３０は、円錐状の渦室３１と、上端の円筒部３２と、吸入部３３と、気体排出管３４と、円筒部３２の上端を閉塞する天蓋３５を備えている。
円錐状の渦室３１は、部分円錐形状の管を二重にして（いわゆる「ジャケット」として）構成され、図示の例では垂直方向で４層に分割されている。円錐状の渦室３１の４層の各々（のジャケット）には、冷却水注入孔３ｃｉと、冷却水排出孔３ｃｏとが設けられている。
円筒部３２は渦室３１の上端に接続している。そして排出管３４は、天蓋３５を貫通している。

排出管３４の上端（排出孔）３４ｏは、熱交換煙道６０の吸入口６１ｉに接続されている。
明示されていないが、円錐状の渦室３１の４層の各々のジャケットにおける冷却水注入孔３ｃiには、冷却循環槽２４０で冷却された冷却水が注入される。当該冷却水は、各ジャケットの半径方向内方の領域に存在する高温乾燥装置１０の排気と熱交換して昇温される。昇温された冷却水は、冷却水排出孔３ｃｏから冷却循環槽２４０（図１参照：図２では図示せず）に戻される。

サイクロン３０の吸入部３３は、円筒部３２の外縁近傍で円筒部３２の断面形状（円形）の接線方向に延在する様に配置されている。
気体排出管３４は、排気洗浄装置７０に設けたブロワ７０Ｂと（間接的に）連通しており、ブロワ７０Ｂの作動によってサイクロン３０の内部（渦室３１）が負圧となり、吸入部３３から吸入される気化したセシウムが渦流をなし、渦室３１を勢いよく流下する。

気化したセシウムはサイクロン３０に吸入され、サイクロンの円錐状の渦室３１で冷却され、再び固化する。セシウムが固化する際に、排気に含まれるコロイド状粒子（微粉塵）に吸着される。
セシウムを吸着した微粉塵（固形物）は比重量が大きいため、サイクロンの円錐状の渦室３１内で遠心分離され、渦室３１の内壁に沿って下降する。そしてセシウムを吸着した微粉塵（固形物）は、固形物排出口３１ｏから、サイクロン処理後の混練機４０の円筒状ケーシング４１に投入される。
渦室３１で固化しなかった気体のセシウムは、ブロワ７０Ｂの吸引力によって、サイクロン３０の気体排出管３４及び熱交換煙道６０を経由して、排気洗浄装置７０の吸入口７２ｉに吸い込まれる。

サイクロン処理後の混練機４０（以下、混練機４０という）は、円筒状ケーシング４１と、スクリューコンベア４２と、スクリューコンベア駆動モータ４３とを備えている。円筒状ケーシング４１は、サイクロン３０の下端に接続されている。
円筒状ケーシング４１、スクリューコンベア４２及びスクリューコンベア駆動モータ４３は、何れもその中心軸が水平方向に延在している。

図２において、混練機４０の二重管構造の円筒状ケーシング４１内にスクリューコンベア４２が収容され、ケーシング４１における左端に、スクリューコンベア駆動モータ４３が配置されている。
円筒状ケーシング４１における左端近傍の垂直方向上方には、サイクロン３０の固形物排出口３１ｏが配置されている。そして、ケーシング４１の右端近傍の垂直方向下方には微粉塵（固形物）の排出管４４が形成されている。そして、排出管４４は、安定化処理混練機５０に連通している。

円筒状ケーシング４１において、固形物排出口３１ｏと接続されている箇所の下方には、冷却水を注入する冷却水注入口４１ｃが形成されている。また、円筒状ケーシング４１における右端近傍の下方には、冷却水排出口４１ｈが形成されている。冷却水注入口４１ｃからケーシング４１内に注入され、冷却水排出口４１ｈから排出される冷却水は、冷却循環槽２４０（図１参照）で冷却された冷却水である。
図２において、セシウムを吸着した微粉塵は、高温であり、固形物排出口３１ｏから混練機４０のケーシング４１に投入される。ケーシング４１に投入された微粉塵は、ケーシング４１内をスクリューコンベア４２によって図２の右方（排出管４４の側）に搬送される。
スクリューコンベア４２で搬送されている最中に、冷却循環槽２４０（図１）で冷却された冷却水が冷却水注入口４１ｃから注入され、搬送中の高温の微粉塵から熱を奪い（冷却水は）昇温して、冷却水排出口４１ｈから冷却循環槽２４０（図１）に戻される。

図３で示すように、サイクロン３０を多段のサイクロンで構成することも可能である。
図３の例では、先ず、メインサイクロン３０Ａの気体排出管３４Ａは、３基のサイクロン３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄの各々の吸入部と接続している。３基のサイクロン３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄの各々の気体排出管は、１本の気体排出管に合流しており、図３では図示しない熱交換煙道６０と接続されている。
サイクロン３０を多段で構成することにより、固体と気体の分離効率を向上することが出来る。

図２において、混練機４０の排出管４４には、第３の開閉弁Ｖ３が介装されている。そして、排出管４４における開閉弁Ｖ３の上方の領域には、第３のレベルセンサＳＲ３が装着され、排出管４４における開閉弁Ｖ３の下方の領域には、第４のレベルセンサＳＲ４が装着されている。
安定化処理されセシウムを吸着した（封じ込めた）微粉塵（固形物）が、排出管４４における第３の開閉弁Ｖ３よりも上方の領域に溜まり、第３のレベルセンサＳＲ３に接触すると、第３の開閉弁Ｖ３が開放されるように構成されている。この時、第４の開閉弁Ｖ４は閉鎖している。

第４の開閉弁Ｖ４は閉鎖した状態で第３の開閉弁Ｖ３が開放すると、セシウムを吸着した微粉塵は、排出管４４における第３の開閉弁Ｖ３と第４の開閉弁Ｖ４との間の領域に堆積する。その状態で、当該微粉塵が第４のレベルセンサＳＲ４に接触すると、第４の開閉弁Ｖ４が開放され、セシウムを封じ込めた微粉塵は安定化処理混練機５０に投入されるように構成されている。この時、第３の開閉弁Ｖ３は閉鎖している。
換言すれば、排出管４４と、第３の開閉弁Ｖ３と、第４の開閉弁Ｖ４と、第３のレベルセンサＳＲ３と、第４のレベルセンサＳＲ４が、安定化処理混練機５０に投入される処理物（微粉塵）を計量する計量手段としての機能を奏する。

安定化処理混練機５０は、円筒状ケーシング５１と、スクリューコンベア５２と、スクリューコンベア駆動モータ５３を備えている。
図２において、安定化処理混練機５０の二重管構造の円筒状ケーシング５１内にスクリューコンベア５２が収容され、ケーシング５１における右端にスクリューコンベア駆動モータ５３が配置されている。
そして、円筒状ケーシング５１における左端近傍の垂直方向上方にセシウムを封じ込めた微粉塵をケーシング５１内に投入する微粉塵投入口５１ｉが配置されている。また、右端近傍の垂直方向下方には、安定化処理を終えた処理物を排出するための排出口５１ｏが形成されている。

円筒状ケーシング５１における微粉塵投入口５１ｉの近傍には、珪酸ソーダ水注入口５１ａと、リン酸ソーダ水注入口５１ｂとが形成されている。また、円筒状ケーシング５１における外周下方で微粉塵投入口５１ｉの真下近傍には、冷却水注入口５１ｃが形成され、排出口５１ｏ近傍には冷却水排出口５１ｈが形成されている。ここで用いられる冷却水は、冷却循環槽２４０（図１）で冷却された冷却水である。
安定化処理混練機５０では、セシウムが封じ込められた微粉塵に、珪酸ソーダ水及びリン酸ソーダ水を注入・添加することにより、当該微粉塵を水ガラス状に固化する。そして図１で示すように、水ガラス状に固化した安定化固形物を専用遮蔽容器５に格納して、当該専用遮蔽容器５を、例えば、国が定める地下の深部に所定期間保管する。

図２において、熱交換煙道６０は、処理流体通過ダクト６１と、熱交換ジャケット６２と、仕切り板６３を有している。処理流体通過ダクト６１の図２における左方下端は、熱交換煙道６０の吸入口６１ｉとなっている。
処理流体通過ダクト６１における右端側には、処理流体通過ダクト６１と直交する方向で下向きに排気口６１ｏが形成されている。

熱交換煙道６０における熱交換ジャケット６２は、全体が処理流体通過ダクト６１と同心に延在しており、処理流体通過ダクト６１を包囲する円環状の管体として構成されている。
熱交換ジャケット６２の図２における右端は、排気洗浄装置７０によって洗浄された排気（既に降温している）が流入する排気流入孔６２ｉが形成されている。
一方、熱交換ジャケット６２の左端近傍には排気排出口６２ｏが形成されており、排気排出口６２ｏは熱交換ジャケット６２と直交して垂直上方に延在している。
熱交換煙道６０における排気口６１ｏは排気洗浄装置７０の吸入口７２ｉに接続され、排気流入孔６２ｉは排気洗浄装置７０の排気ダクト７Ｄ２の排出孔７Ｄ２ｉに接続されている。

熱交換煙道６０における仕切り板６３は、処理流体通過ダクト６１の外周と熱交換ジャケット６２の内周とを接続する環状の板部材であり、板部の中央には複数の孔６３ｈが形成されている。
熱交換煙道６０では、熱交換ジャケット６２を流過する排気Ｆｘが、処理流体通過ダクト６１を流過するサイクロン３０からの気体（冷却サイクロン３０で固化しなかった気体のセシウムを包含する気体）と熱交換を行い、サイクロン３０からの気体は冷却され、排気洗浄装置７０の排気Ｆｘは昇温して排気排出口６２ｏを介して大気に排出される。

排気洗浄装置７０は、洗浄槽７１と、垂直導入管７２と、複数（図示では３箇所）の排気洗浄水注入部７３と、複数（図示では３箇所）の水平仕切り板７４と、傾斜仕切り板７５と、複数（図示では４箇所）の垂直仕切り板７６を備えている。
垂直導入管７２は、洗浄槽７１の図２における左端上方に延在するように配置されている。

複数（図示では３箇所）の排気洗浄水注入部７３は、垂直導入管７２に等間隔にて設けられ、複数（図示では３箇所）の水平仕切り板７４は、垂直導入管７２内を等間隔で仕切っている。なお、水平仕切り板７４は、垂直導入管７２の内部全体を閉塞するものではなく、その一部が（例えば三日月状に）欠損しており、当該欠損箇所が垂直下方に折り曲げられている。
傾斜仕切り板７５は、水平仕切り板７４の下方で且つ垂直導入管７２と洗浄槽７１との境界部に配置されている。そして、傾斜仕切り板７５の端部は垂直下方に折り曲げられている。

複数（図示では４箇所）の垂直仕切り板７６は、洗浄槽７１の幅方向の全幅で洗浄槽７１を水平方向に等分に仕切るように、洗浄槽７１の天蓋部７１ｃから下垂して設けられている。そして、垂直仕切り板７６の下縁部は、洗浄槽７１内の水面より下方まで到達している。
隣り合う垂直仕切り板７６のほぼ中央には、端部が直角に折り曲げられた傾斜板７７が、複数（図示の例では３箇所）、傾斜して設けられている。その直角に折り曲げられた端部と天蓋７１ｃの下面との間には、気体が流過するのに十分な隙間が形成されている。傾斜仕切り板７７の下端も、洗浄槽７１内の水面より下方まで到達している。
ここで、適正数設けられた傾斜仕切り板７７は、後述するブロワ７０Ｂが作動した際に液面ＷＬが上下動して波立つのを促進させて、気体のセシウムが洗浄槽７１内の水に取り込まれることを促進している。

洗浄槽７１の天蓋７１ｃおいて、図２の右端近傍には、第１のダクト７Ｄ１が垂直方向上方に延在するように設けられている。
第１のダクト７Ｄ１における洗浄槽７１と離隔する側の端部は、ブロワ７０Ｂの吸入口７０Ｂｉと接続されている。ブロワ７０Ｂの吐出口７０Ｂｏは、第２のダクト７Ｄ２の一方の端部と接続されている。
第２のダクト７Ｄ２は垂直部７Ｄ２１と水平部７Ｄ２２を有しており、水平部７Ｄ２２の端部は熱交換ジャケット６２の排気流入孔６２ｉと接続されている。

洗浄槽７１は、洗浄槽７１の上縁７１ｔまで水で満たされている。
サイクロン３０側からの気体が洗浄槽７１内の水を通過することにより、当該水に気体のセシウムが溶け込んでいる。
ブロワ７０Ｂがブロワモータ７０Ｍによって作動して負圧を発生することにより、排気洗浄装置７０と連通している上流側の機器内部を負圧にせしめる。そして、熱交換煙道６０から排気洗浄装置７０の吸入口７２ｉに、気化セシウムを包含する気体を吸引する。

排気洗浄装置７０において、吸入口７２ｉから吸引された気体（気化セシウムを包含する）には、複数の区画（図示では３区画）の各々において、排気洗浄水注入部７３から冷却水が散布され、当該冷却水にセシウムが溶け込む。水平仕切り板７４は、セシウムが冷却水に溶け込むのを促進させる機能を持っている。
セシウムを含んだ冷却水は、傾斜仕切り板７５を伝わって洗浄槽７１内に滴下する。そして、洗浄槽７１内ではブロワ７０Ｂの負圧により、隣り合う仕切り板７６で形成される空間のセシウムが水中を通過して、水に溶解する。
セシウムを溶解した水は、水排出口７１ｂｏから排出され（７１ａｏから排出することも可能）、水処理機構ＤＶＷの粗取り原水槽８０に搬送される。

図２において、洗浄槽７１における図２の右端の空間ＥＲに至るまでに、気化したセシウムは全て水に溶け込むので、空間ＥＲ中の気体は気化したセシウムを包含していない。
したがって、ブロワ７０Ｂをモータ７０Ｍによって作動させれば、セシウムを包含しない気体が、空間ＥＲから第１のダクト７Ｄ１、第２のダクト７Ｄ２を経由して、熱交換煙道６０における熱交換ジャケット６２に流入する。熱交換ジャケット６２に流入した冷却空気は、処理流体通過ダクト６１を流下する高温の気体（サイクロン３０からの気体：気化セシウムを包含している）と熱交換を行い、昇温して、排気排出口６２ｏから大気に排出される。

図４は、排気洗浄装置７０と水処理機構ＤＶＷ（図１参照）を詳細に示している。
個々の機器を明示するため、図４では、各機器の左右の向きや配置、ラインの長さや延在している方向が、図１とは必ずしも一致していない。しかし、処理の手順或いは経路については、図１と図４は同一である。
図４において、水処理機構ＤＶＷは、粗取り原水槽８０と、一次攪拌反応槽９０と、二次攪拌反応槽１１０と、凝集沈殿槽１４０と、固液分離機１６０と、補給水タンク１８０と、清水槽１９０と、上澄水槽２００と、バグフィルター槽２１０を備えている。

粗取り原水槽８０は、固液分離部８１と、処理液貯留槽８２と、固形物受け容器８３と、処理液貯留槽８２の底部に設置した搬送ポンプ８０Ｐを備えている。
固液分離部８１の上端には処理液投入口８１ｉが設けられている。
固液分離部８１を形成する傾斜部８１ａは、固形物を処理液から分離するごみの粗取り篩として作用する。
処理液投入口８１ｉには、排気洗浄装置７０で洗浄処理された排気洗浄汚染水（処理液）が、ラインＬ１を介して投入される。ラインＬ１において、排気洗浄装置７０側の領域に、搬送ポンプ７０Ｐが介装されている。
傾斜部８１ａにおいて、ごみ等の比較的大きな異物（例えば、４ｍｍ以上）が処理液から取り除かれる。異物が取り除かれた処理液は、固液分離部８１の下方の処理液貯留槽８２に落下する。

処理液貯留槽８２内の処理液は、搬送ポンプ８０Ｐにより、所定のタイミングで一次攪拌反応槽９０に送られる。
一次攪拌反応槽９０は、反応槽９１と、攪拌翼９２と、攪拌翼を回転するモータ９３と、液面センサ９４と、反応槽９１の底部に設置された搬送ポンプ９０Ｐを備えている。
また、反応槽９１の上方には第１の凝集剤を定量的に反応槽９１に供給する一次定量供給機１００が配置されている。図示では明示していないが、一次定量供給機１００の供給用スクリューコンベアの駆動モータは、粗取り原水槽８０の搬送ポンプ８０Ｐと連動するように構成されている。なお、攪拌翼９２及びそれを回転するモータ９３は、常時、作動している。

搬送ポンプ８０Ｐによって処理液が一次攪拌反応槽９０に投入されると、一次定量供給機１００から第１の凝集剤が自動的に反応槽９１に供給され、同時に攪拌翼９２が回転する。攪拌翼９２が回転すると反応槽９１内の処理液と第１の凝集剤との間でイオン反応が生じ、処理液中のセシウムは第１の凝集剤により凝集される。
一次攪拌反応槽９０の液面センサ９４が液面を検知すると、搬送ポンプ９０Ｐが作動して、ラインＬ３を介して反応槽９１内の処理液（は第１の凝集剤が投入されて攪拌された処理液）は、二次攪拌反応槽１１０に搬送される。

二次攪拌反応槽１１０は、反応槽１１１と、攪拌翼１１２と、攪拌翼を回転するモータ１１３と、液面センサ１１４とを備えている。
反応槽１１１の底部には、処理液を排出する排出口１１０ｏが形成されている。
反応槽１１１の上方には、第２の凝集剤を定量的に反応槽１１１に供給する二次定量供給機１２０が配置されている。
明示していないが、二次定量供給機１２０は、第２の凝集剤を定量的に供給するための供給用スクリューコンベアを有している。一次攪拌反応槽９０の搬送ポンプ９０Ｐによって処理液が二次攪拌反応槽１１０に投入されると、二次定量供給機１２０から第２の凝集剤が自動的に反応槽１１１に供給され、同時に攪拌翼１１２が回転するように構成されている。拌翼１１２が回転すると反応槽１１１内の処理液と第２の凝集剤との間でイオン反応が生じ、セシウムを含む不純物はさらに凝集する。

二次攪拌反応槽１１０の排出口１１０ｏは、ラインＬ４によって凝集沈殿槽１４０の投入口１４０ｉと接続されており、ラインＬ４には圧送ポンプ１３０が介装されている。
二次攪拌反応槽１１０の液面センサ１１４が所定量を検知すると、圧送ポンプ１３０が作動して、反応槽１１１内の処理液は凝集沈殿槽１４０に搬送される。

凝集沈殿槽１４０は、沈殿槽本体１４１と、沈殿槽本体１４１の底部に配置されたスクリューコンベア１４２と、スクリューコンベア１４２を回転駆動させるモータ１４３と、液面センサ１４４を備えている。
沈殿槽本体１４１の底部において、図４の右端部近傍には第１の排出口１４１ａが形成されており、第１の排出口１４１ａを介して、沈殿槽本体１４１における処理液の沈殿物が排出される。
一方、沈殿槽本体１４１の右側面には第２の排出口１４１ｂが形成されており、第２の排出口１４１ｂを介して、沈殿槽本体１４１における処理液の上澄液が排出される。

凝集沈殿槽１４０における第１の排出口１４１ａは、開閉弁Ｖ５、圧送ポンプ１５０、開閉弁Ｖ６を介装したラインＬ５を介して、固液分離機１６０の処理液投入口１６０ｉと接続されている。
凝集沈殿槽１４０における第２の排出口１４１ｂはラインＬ１０に接続され、ラインＬ１０は上澄水槽２００に連通している。

凝集沈殿槽１４０に投入された処理液においては、一次攪拌反応槽９０及び二次攪拌反応槽１１０で投入された凝集剤により、セシウムが凝集・吸着されている。時間の経過と共に、凝集物は沈殿槽本体１４１内で沈殿し、上澄液と分離される。
液面センサ１４４によって沈殿槽本体１４１内の液面が所定以上になったことを検知すると、スクリューコンベア１４２が作動して、ラインＬ５に介装された開閉弁Ｖ５、Ｖ６が開放され、圧送ポンプ１５０も作動して、沈殿槽本体１４１内の底部に貯留された沈殿物が固液分離機１６０に圧送される。

固液分離機１６０は、一時貯留槽１６１と、回転ドラム１６２と、固形物掻き取り斜板１６３を備えている。符号１６０ｏは、回転ドラム１６２の回転軸を示している。
一時貯留槽１６１は、底部がＶ字状に形成され、沈殿槽本体１４１から搬送された沈殿物を貯留する機能を有する。そして一時貯留槽１６１の下端近傍には、沈殿槽本体１４１から搬送された沈殿物を取り込む処理液投入口１６０ｉが形成されている。
回転ドラム１６２は、その表面の約１／３の領域が、一時貯留槽１６１の沈殿物中に浸漬されている。回転ドラム１６２の外周面は、沈殿物を補足し易いように表面処理されている。そして、回転ドラム１６２の外周面は、液体は透過するが固体は透過しない様に構成されている。
固形物掻き取り斜板１６３は、上端がドラム１６２の表面に接する様に配置されており、回転ドラム１６２表面に付着した固形物を掻き取るように構成されている。

回転ドラム１６２が回転すると、沈殿物がドラム１６２の表面に付着する。明示されていないが、回転ドラム１６２の半径方向内方の領域には負圧が作用しており、沈殿物中の液体は当該負圧により吸引され、ドラム１６２の表面を透過して、ラインＬ７に流入する。
一方、沈殿物中の固体も負圧により吸引されるが、ドラム１６２の表面を透過することが出来ないので、ドラム１６２の表面に付着する。ドラム１６２の表面に付着した固体は、固形物掻き取り斜板１６３で掻き取られる。
固形物掻き取り斜板１６３で掻き取った固体（セシウムが凝集した固形分）は、明確には図示されていないが、例えば、ベルトコンベア８や専用のカートによって高温乾燥装置１０（図１、図２参照）に搬送され、高温乾燥装置１０の投入口９１（図１、図２参照）に投入される。

回転ドラム１６２の表面を透過した液体は、ラインＬ７を介して、循環ポンプ１７０の第１の吸入口１７１に供給される。循環ポンプ１７０は、補給水タンク１８０に装備されている。
補給水タンク１８０は、タンク本体１８１の上端に処理水の吸入口１８２が形成され、底部近傍には処理水の排出口１８３が形成され、タンク１８０内部の底部には搬送用のポンプ１８０Ｐが設置されている。

循環ポンプ１７０には、第１の吸入口１７１、吐出口１７２、第２の吸入口１７３が形成されている。循環ポンプ１７０の吐出口１７２は、補給水タンク１８０の吸入口１８２とラインＬ８によって接続されており、循環ポンプ１７０の第２の吸入口１７３は、補給水タンク１８０の排出口１８３とラインＬｒ８によって接続されている。
タンク１８０内部に設置された搬送用のポンプ１８０ＰはラインＬ９に接続され、ラインＬ９は清水槽１９０に連通している。補給水タンク１８０に貯留された水は、搬送用のポンプ１８０Ｐ、ラインＬ９を経由して、清水槽１９０に搬送される。

凝集沈殿槽１４０の上澄液が供給される上澄槽２００は、その底部近傍に処理液の排出口２０１が形成され、排出口２０１には搬送用のポンプ２００Ｐが介装されたラインＬ１１が接続している。
上澄槽２００は、凝集沈殿槽１４０からラインＬ１０経由で送られた上澄液を一時貯留する機能を有している。
ポンプ２００Ｐは、ラインＬ１１を介して接続されているバグフィルター槽２１０の稼働状況により作動して、上澄槽２００内の上澄液を、ラインＬ１１を経由してバグフィルター槽２１０へ供給する。

バグフィルター槽２１０は、フィルターハウジング２１１と、バグフィルター（濾材）２１２と、貯留タンク２１３と、液面センサ２１４を有している。
貯留タンク２１３内には、処理液搬送用のポンプ２１０Ｐが設置されている。
バグフィルター槽２１０では、上澄槽２００から搬送された処理液（凝集沈殿槽１４０の上澄液）に含まれる不純物を、フィルターハウジング２１１内に配置したフィルタ（濾材）２１２でろ過する。ろ過された処理液は、搬送用ポンプ２１０Ｐにより、ラインＬ１２を経由して、清水槽１９０に搬送される。
搬送用ポンプ２１０Ｐは、液面センサ２１４によって、フィルタ２１２でろ過された処理液の液面が、所定の第１の所定値を超えたことを感知した場合に作動する。
一方、上澄槽２００の搬送ポンプ２００Ｐは、バグフィルター槽２１０の液面センサ２１４によって、フィルタ２１２でろ過された処理液の液面が、所定の第２の所定値以下となったことを感知した場合に作動して、上澄槽２００内の処理液をバグフィルター槽２１０の投入口２１１ｉに投入する。

清水槽１９０の底部には搬送用ポンプ１９０Ｐが設置されている。搬送用ポンプ１９０ＰはラインＬ１３に接続され、ラインＬ１３は第１のラインポンプＬＰ１を介装しており、分岐点Ｂ１でラインＬ１４、ラインＬ１５に分岐する。
ラインＬ１４には開閉弁Ｖ７が介装されており、ラインＬ１４は酸化液貯留槽２２０に連通している（図１参照）。
図４において、ラインＬ１５は分岐点Ｂ１側から、ラインポンプＬＰ２、開閉弁Ｖ８を介して、複数のラインに分岐している。当該分岐したラインの各々は、排気洗浄装置７０の複数の排気洗浄水注入部７３の各々に連通している。
明示されていないが、開閉弁Ｖ７、Ｖ８の開閉制御は、集中制御盤（制御用コンピュータ３００：図１）によって行われる。

ラインＬ１４に連通している酸化液貯留槽２２０は、図１において、タンク本体２２１と、攪拌翼２２２と、攪拌翼を回転駆動するモータ２２３を備えている。タンク本体２２１内の処理水には酸性液が添加され、処理水は常にｐＨ３程度に保たれている。
タンク本体２２１の底部近傍には排出口２２１ｏが形成されており、排出口２２１ｏは、定量ポンプ２３０を介装したラインＬ１６を介して、処理後物保水混練機２０の酸性水注入口２１ａに連通している。そして定量ポンプ２３０が作動すれば、酸化液貯留槽２２０から酸性の処理水が、処理後物保水混練機２０に供給される。なお、定量ポンプ２３０の作動制御も集中制御盤（制御コンピュータ３００）によって行われる。

図１において、汚染物質処理装置１では、処理後物保水混練機２０、サイクロン３０に装備されたサイクロン処理後の混練機４０及び安定化処理混練機５０の冷却水として、冷却循環槽２４０で冷却された冷却水が用いられる。
冷却循環槽２４０は、循環する水を冷却する循環槽２４１と、循環槽２４１の底部に設けた循環ポンプ２４０Ｐを有している。
循環槽２４１の底部及び底部近傍の３箇所に吸入口２４２、２４３、２４４が形成されている。

循環ポンプ２４０Ｐは、ラインＬ１７を介して、処理後物保水混練機２０の冷却水注入口２１ｃに連通している。
循環ポンプ２４０Ｐは、ラインＬ１８とも接続しており、ラインＬ１８は分岐点Ｂ２でラインＬ１９とラインＬ２０とに分岐している。そして、ラインＬ１９は、サイクロン処理後の混練機４０における冷却水注入口４１ｃと連通している。また、ラインＬ２０は、安定化処理混練機５０における冷却水注入口５１ｃと連通している。

冷却循環槽２４０の吸入口２４２は、ラインＬｒ１９を介して、サイクロン処理後の混練機４０における冷却水排出口４１ｈと連通している。
冷却循環槽２４０の吸入口２４３は、ラインＬｒ２０を介して、安定化処理混練機５０における冷却水排出口５１ｈと連通している。
冷却循環槽２４０の吸入口２４４は、ラインＬｒ１７を介して、処理後物保水混練機２０の冷却水排出口２１ｈに連通している。
すなわち、冷却循環槽２４０で冷却された冷却水は、処理後物保水混練機２０、サイクロン処理後の混練機４０、安定化処理混練機５０における処理対象物の冷却に用いられている。処理後物保水混練機２０、サイクロン処理後の混練機４０、安定化処理混練機５０で熱交換により昇温した冷却水は、冷却循環槽２４０に戻されて、冷却されて、再び冷却に用いられる。

図１〜図４の第１実施形態によれば、汚泥を高温乾燥装置１０で９００℃程度まで加熱するので、セシウムが気化して汚泥から完全に分離する。そのため、高温乾燥装置１０から排出された固形物にはセシウムは包含されていない。
そのため、当該固形物は（放射線量が所定の基準値以下ならば、）埋設処理が可能であり、土壌改良材として利用することも出来る。

高温乾燥装置１０の飛灰や粉塵、気化したセシウムは、サイクロン３０で冷却され、固体と気体に分離される。
サイクロン３０で分離された固体（固形物）は、安定化処理（例えば、珪酸ソーダ水溶液とリン酸水溶液を添加してガラス状に固化する処理）を行った後、専用遮蔽容器５で保管することが出来る。すなわち、サイクロン３０で分離された固体（固形物）は、安全に処理される。
一方、サイクロン３０で分離された気体は、排気洗浄装置７０において水中を移動する際に、気化したセシウムが水により捕集されて、気体からは除去される。そのため、排気洗浄装置７０を経由した気体は清浄化されている。

第１実施形態では、排気洗浄装置７０でセシウムを捕集した水が、凝集沈殿槽１４０を包含する水処理機構ＤＶＷ（粗取り原水槽８０、一次攪拌反応槽９０、二次攪拌反応槽１１０、流体移動圧送ポンプ１３０、凝集沈殿槽１４０）に供給されるので、当該水中のセシウムを包含する汚泥は、凝集沈殿槽１４０で凝集、沈殿される。
そして、凝集沈殿槽１４０の沈殿物を、固液分離機１６０で固体と液体に分離して、分離された固体を、高温乾燥装置１０等の処理設備（図示せず）で処理する。
また、凝集沈殿槽１４０の上澄液と、固液分離機１６０で分離された液体は、排気洗浄装置７０における排気洗浄用水として利用し、或いは、処理設備（図示せず）で安定化処理することが出来る。

すなわち、図示の第１実施形態によれば、放射性物質（例えばセシウム）を包含する汚泥を固体、気体、液体に分離して、各々から、放射性物質（例えばセシウム）を完全に除去することにより、汚泥中から放射性物質（例えばセシウム）を除去している。
そして、汚泥中から放射性物質（例えばセシウム）を除去する処理は、全て閉鎖系で実行することが出来るので、作業者が被爆すること無く、高濃度の放射性物質で汚染された汚泥を処理することが出来る。

次に、図５を参照して、本発明の第２実施形態を説明する。
図１〜図４の第１実施形態では、先ず、高温乾燥装置１０で汚泥を加熱している。
それに対して、第２実施形態の汚染物質処理装置１Ａでは、先ず、水処理機構ＤＶＷにより、処理するべき汚泥や汚染水を固液分離して、分離された固形物を高温乾燥装置１０で加熱している。

また第２実施形態では、図５において、溜池、防火水槽、その他における汚泥（下水汚泥等も含む）ＭＤと汚染水ＰＷを混合槽５で混合しつつ、粗取り原水槽８０へ送り込む点が、図１〜図４の第１実施形態とは異なっている。
以下、主として、図５の第２実施形態が、図１〜図４の第１実施形態とは異なっている点について説明する。
図５において、第２実施形態に係る汚染物質処理装置１Ａは、混合槽５を備えている。混合槽５は、汚泥ＭＤと汚染水ＰＷを混合するため、搬送用ポンプ５Ｐに加えて、攪拌用ポンプ５ＭＰを有している。
混合槽５で汚泥ＭＤと汚染水ＰＷを混合する際に、汚染水ＰＷの量が不足している場合には、清水槽１９０からの水をラインＬ１３、ラインＬ１５、分岐点Ｂ３、ラインＬ１６２を経由して、供給ノズル６によって混合槽５内の処理液に添加して（図５における符号Ｎ）、混合槽５の底部に設置した搬送ポンプ５Ｐによって粗取り原水槽８０に送出することが出来る。

ただし、清水槽１９０の水が汚染物質処理装置１Ａで循環する場合には、当該水におけるセシウムの高濃度化が懸念される場合が存在する。その様に、セシウムの高濃度化が懸念される場合には、清水槽１９０からの水は、混合槽５内の処理液に添加することのみならず、その他の用途に再利用される。換言すれば、清水槽１９０からの水の善良を、粗取り原水槽８０に戻すことは行われない。
また、図５における左上方の矢印Ｘ、Ｙ、Ｚ、Ｎは、ひとつの混合槽５の異なる状態を便宜上同時に示したものであり、矢印Ｘは混合槽５が攪拌されていない状態を示し、矢印Ｙは攪拌用ポンプ５ＭＰで混合槽５が攪拌されている状態を示し、矢印Ｚは攪拌用ポンプ５ＭＰで混合槽５を攪拌しつつ、ラインＬ２５で粗取り原水槽８０に供給している状態を示す。

凝集沈殿槽１４０では、一次攪拌反応槽９０、二次攪拌反応槽１１０における凝集剤の添加により、セシウムを包含する汚泥が凝集して、沈殿する。
凝集沈殿槽１４０で沈殿した汚泥はセシウムを高濃度で包含しており、当該汚泥を、圧送ポンプ１５０を介して、固液分離機１６０へ圧送する。固液分離機１６０は、第１実施形態で説明したのと同様である。
固液分離機１６０で分離された固形物は、搬送装置８や、符号ＬＳで示す搬送手段を介して、定量供給スクリューコンベア９へ送られる。

一方、固液分離機１４０で分離された液体は、第１実施形態と同様に、補給水タンク１８０を介して、清水槽１９０へ送られる。
凝集沈殿槽１４０の上澄液も、第１実施形態と同様に、上澄水槽２００、バグフィルター槽２１０を介して、清水槽１９０へ送られる。
固液分離機１６０で分離された固体は、高濃度のセシウムを包含しており、定量供給スクリューコンベア８を介して、高温乾燥装置１０に投入される。
高温乾燥装置１０で加熱された後は、第１実施形態と同様に、処理後物保水混練機２０において酸性水溶液を添加されて中和されつつ、（例えば含水率１５〜２０％の）固形物として排出する。排出された固形物は、セシウムが完全に気化して分離しているので、放射線量が所定の基準値以下ならば、埋設処理することが出来る。また、土壌改良材（土改材）として、埋設することも可能である。

高温乾燥装置１０の飛灰や粉塵、気化したセシウムも、第１実施形態と同様に、サイクロン３０へ送られて、冷却されて、固形物と気化セシウムに分離される。
そして、サイクロン３０で分離された固形物は、安定化処理混練機５０を経由して、珪酸ソーダ水溶液とリン酸水溶液を添加されて、ガラス状に固化されて、専用遮蔽容器５で保管される。
一方、気化したセシウムを含む気体は、排気洗浄装置７０に搬送されて、冷却され、一部は再び固化する。そして、気化セシウム及び固化したセシウムは排気洗浄装置７０の洗浄槽７１に貯留した水中を通過することにより、水に溶け込む。そのため、排気洗浄装置７０に送られた気体からはセシウムが除去される。
図５の第２実施形態におけるその他の構成及び作用効果は、図１〜図４の第１実施形態と同様である。

図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記述ではないことを付記する。

１・・・汚染物質処理装置
５・・・混合槽
８・・・搬送装置／ベルトコンベア
９・・・定量供給スクリューコンベア
１０・・・高温乾燥装置
２０・・・処理後物保水混練機
３０・・・サイクロン
４０・・・サイクロン処理後の混練機
５０・・・安定化処理混練機
６０・・・熱交換煙道
７０・・・排気洗浄装置
８０・・・粗取り原水槽
９０・・・一次攪拌反応槽
１００・・・一次定量供給機
１１０・・・二次攪拌反応槽
１２０・・・二次定量供給機
１６０・・・固液分離機
２００・・・上澄水槽
２１０・・・バグフィルター槽

Claims (2)

1. 所定温度まで内部を加熱する機能を有する高温乾燥装置（１０）と、該高温乾燥装置（１０）の排気口（１０ａｘ）に連通し、そして前記高温乾燥装置（１０）からの排気を冷却する機能および前記高温乾燥装置（１０）からの排気中の固体と気体とに分離する機能を有するサイクロン（３０）と、該サイクロン（３０）で分離された気体を水中に流過させて気体を浄化する機能を有する排気洗浄装置（７０）と、前記サイクロン（３０）の固形物排出口（３１ｏ）からの微粉塵が投入され混練されて冷却される混練機（４０）とを備え、該混練機（４０）からの微粉塵に計量手段（Ｖ３、Ｖ４、ＳＲ４）を介して安定化処理混練機（５０）に投入され、該安定化処理混練機（５０）では微粉塵が冷却されて水ガラス状に固化され安定化固形物となって排出口（５１ｏ）から排出され、前記排気洗浄装置（７０）は冷却水を散布する排気洗浄水注入部（７３）と、該排気洗浄水注入部（７３）で洗浄され溶け込んだ気体を含む冷却水の洗浄槽（７１）とを備え、さらに前記洗浄槽（７１）の冷却水を処理する水処理機構（ＤＶｗ）を備え、該水処理機構（ＤＶｗ）は冷却水中に溶解した汚染物質を沈殿させる凝集沈殿槽（１４０）を備えていることを特徴とする汚染物質処理装置。
2. 前記凝集沈殿槽（１４０）の沈殿物を固液分離する固液分離機（１６０）を備え、該固液分離機（１６０）で分離された固体を前記高温乾燥装置（１０）に投入する搬送装置（９）を設けた請求項１記載の汚染物質処理装置。
   

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