JP6029819B2 - Electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents

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本発明は、電子部品及びその製造方法に関し、特に、磁気コアを有し、回路基板上への面実装が可能な小型化されたインダクタ等の電子部品及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an electronic component and a manufacturing method thereof, and more particularly to an electronic component such as a miniaturized inductor having a magnetic core and capable of being surface-mounted on a circuit board, and a manufacturing method thereof.

従来、携帯型の電子機器における電源の昇降圧回路用コイルや高周波回路で用いられるチョークコイル等として磁気コアを有するインダクタが知られている。
このようなインダクタとしては、例えば特許文献1に記載されているように、フェライトコアにコイル導線を巻回し、該コイル導線の両端をフェライトコアの該表面に設けられた一対の端子電極に接続した構造のものが知られている。ここで、フェライトコアは、巻芯部と該巻芯部の上端及び下端に設けられた一対の鍔部とを有する、いわゆるドラム型の形状を有している。このような構造を有するインダクタは、一般に外形寸法(特に高さ寸法)の小型化が可能であることから、回路基板上への高密度実装や低背実装に適しているという特長を有している。
2. Description of the Related Art Conventionally, an inductor having a magnetic core is known as a coil for a step-up / down circuit of a power source in a portable electronic device, a choke coil used in a high-frequency circuit, or the like.
As such an inductor, for example, as described in Patent Document 1, a coil conductor is wound around a ferrite core, and both ends of the coil conductor are connected to a pair of terminal electrodes provided on the surface of the ferrite core. Structures are known. Here, the ferrite core has a so-called drum shape having a core portion and a pair of flange portions provided at the upper end and the lower end of the core portion. Inductors having such a structure are generally suitable for high-density mounting and low-profile mounting on a circuit board because their external dimensions (particularly height dimensions) can be reduced. Yes.

特開2011−009644号公報JP 2011-009644 A

近年、電子機器の小型薄型化や高機能化に伴って、インダクタ特性及び信頼性を向上させつつ、さらなる高密度実装や低背実装が可能なインダクタが求められている。
本発明は、所望の電気特性及び高い信頼性を有しつつ、回路基板上への良好な高密度実装や低背実装が可能なインダクタ等の電子部品及びその製造方法を提供することを目的とする。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become smaller and thinner and have higher functionality, there is a demand for inductors that can be mounted with higher density and lower height while improving inductor characteristics and reliability.
An object of the present invention is to provide an electronic component such as an inductor that can be mounted on a circuit board with high density and low profile while having desired electrical characteristics and high reliability, and a manufacturing method thereof. To do.

請求項1記載の発明に係る電子部品は、
基体と、
前記基体の表面に設けられ、所定の電極材料を含む電極ペーストを焼付処理して形成される焼付電極を含む電極と、
を備え、
前記基体は、酸化層を介して結合する軟磁性合金粒子で形成され、前記軟磁性合金粒子間に空孔を有し、前記電極ペーストに含まれるガラスフリットに起因するガラス成分が、前記電極が接する界面から前記基体の内部方向に、概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散していることを特徴とする。
The electronic component according to the invention of claim 1 is:
A substrate;
An electrode including a baked electrode provided on the surface of the substrate and formed by baking an electrode paste including a predetermined electrode material;
With
The base is formed of soft magnetic alloy particles bonded through an oxide layer, and has pores between the soft magnetic alloy particles, and the glass component caused by the glass frit contained in the electrode paste includes It is characterized by diffusing into the pore portion having a depth of approximately 10 μm or more from the contacting interface toward the inside of the substrate.

請求項2記載の発明は、請求項1記載の電子部品において、
前記基体は、前記ガラス成分が前記基体の内部方向に、前記電極の膜厚に対して概ね30%以上の距離で拡散していることを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the electronic component according to claim 1,
The substrate is characterized in that the glass component is diffused in the inner direction of the substrate at a distance of approximately 30% or more with respect to the film thickness of the electrode.

請求項3記載の発明は、請求項1又は2に記載の電子部品において、
前記ガラスフリットが前記基体の内部及び表面に存在することを特徴とする。
The invention according to claim 3 is the electronic component according to claim 1 or 2,
The glass frit is present inside and on the surface of the substrate .

請求項4記載の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の電子部品において、
前記電極は、複数の電極層が積層された構造を有し、少なくとも、前記基体に接する最下層の前記電極層は、前記ガラスフリットを含む前記電極ペーストを焼付処理して形成される前記焼付電極からなり、前記最下層の前記電極層の上層に設けられる、最上層の前記電極層は、前記ガラスフリットを含まない、前記電極材料のみからなることを特徴とする。
The invention according to claim 4 is the electronic component according to any one of claims 1 to 3,
The electrode has a structure in which a plurality of electrode layers are laminated, and at least the lowermost electrode layer in contact with the substrate is formed by baking the electrode paste containing the glass frit. The uppermost electrode layer provided on the lowermost electrode layer is made of only the electrode material that does not contain the glass frit.

請求項5記載の発明は、請求項4記載の電子部品において、
前記電極は、前記複数の電極層が前記電極ペーストを焼付処理して形成される前記焼付電極からなり、少なくとも、前記最上層の前記電極層が、前記ガラスフリットを含まない前記電極材料から形成される前記焼付電極からなることを特徴とする。
The invention according to claim 5 is the electronic component according to claim 4,
The electrode includes the baked electrode in which the plurality of electrode layers are formed by baking the electrode paste, and at least the uppermost electrode layer is formed from the electrode material not including the glass frit. It consists of the said baking electrode.

請求項6記載の発明は、請求項4記載の電子部品において、
前記電極は、少なくとも、前記最上層の前記電極層が、前記最下層の前記電極層より緻密な結晶状態の金属薄膜からなることを特徴とする。
The invention according to claim 6 is the electronic component according to claim 4,
The electrode is characterized in that at least the uppermost electrode layer is made of a metal thin film in a crystalline state denser than the lowermost electrode layer .

請求項7記載の発明は、請求項1乃至6のいずれかに記載の電子部品において、
前記基体は、吸水率が1.0%以上、又は、空孔率が10〜25%の金属粉の成形体であることを特徴とする。
The invention according to claim 7 is the electronic component according to any one of claims 1 to 6,
The substrate is a metal powder compact having a water absorption rate of 1.0% or more or a porosity of 10 to 25%.

請求項8記載の発明は、請求項1乃至7のいずれかに記載の電子部品において、
前記基体は、鉄、ケイ素、及び、鉄よりも酸化しやすい元素を含有する前記軟磁性合金の粒子群から構成され、前記各軟磁性合金粒子の表面には当該軟磁性合金粒子の前記酸化層があり、当該酸化層は当該軟磁性合金粒子に比較して前記鉄より酸化しやすい元素を多く含み、前記粒子同士は前記酸化層を介して結合されていることを特徴とする。
The invention according to claim 8 is the electronic component according to any one of claims 1 to 7,
The substrate is iron, silicon, and, than iron consists particles of the soft magnetic alloy containing easily element oxide, wherein the oxide layer of the soft magnetic said soft magnetic alloy particles on the surface of the alloy particles The oxide layer contains more elements that are more easily oxidized than the iron as compared with the soft magnetic alloy particles, and the particles are bonded together via the oxide layer.

請求項9記載の発明は、請求項8記載の電子部品において、
前記鉄よりも酸化しやすい元素は、クロムであって、
前記軟磁性合金は、少なくとも、クロムが2〜15wt%含有することを特徴とする。
The invention according to claim 9 is the electronic component according to claim 8,
The element that oxidizes more easily than iron is chromium,
The soft magnetic alloy contains at least 2 to 15 wt% chromium.

請求項10記載の発明は、請求項1乃至9のいずれかに記載の電子部品において、
前記電子部品は、
柱状の巻芯部及びその両端に設けられた一対の鍔部を有する前記基体と、前記基体の前記巻芯部に巻回された被覆導線と、前記基体の外表面に設けられ、前記被覆導線の両端部が接続された一対の前記電極と、前記被覆導線部の外周を被覆するように前記一対の鍔部間に設けられた外装樹脂部と、を備え、
前記一対の電極が接する前記基体の外表面から内部方向に、前記一対の電極を形成するための前記電極ペーストに含まれる前記ガラス成分が、概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散していることを特徴とする。
The invention according to claim 10 is the electronic component according to any one of claims 1 to 9,
The electronic component is
The base body having a columnar core portion and a pair of flanges provided at both ends thereof, a coated conductor wound around the core portion of the base body, and the coated conductor wire provided on the outer surface of the base body A pair of the electrodes to which both ends of the cover are connected, and an exterior resin portion provided between the pair of flanges so as to cover the outer periphery of the coated conductor portion,
The glass component contained in the electrode paste for forming the pair of electrodes diffuses into the hole portion having a depth of about 10 μm or more in an inward direction from an outer surface of the base body in contact with the pair of electrodes. It is characterized by.

請求項11記載の発明に係る電子部品の製造方法は、
酸化層を介して結合する軟磁性合金粒子で形成され、前記軟磁性合金粒子間に空孔を有する基体の表面に、所定の電極材料にガラスフリットが概ね10wt%以上の含有率で含まれた電極ペーストを塗布する工程と、
前記基体を700℃以上の温度で焼付処理して、前記電極材料からなる電極を形成するとともに、前記電極ペーストに含まれる前記ガラスフリットに起因するガラス成分を、前記基体の表面から内部方向に概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散させる工程と、
を含むことを特徴とする。
An electronic component manufacturing method according to the invention of claim 11 is provided.
A glass frit is included in a predetermined electrode material in a content of approximately 10 wt% or more on the surface of a base formed of soft magnetic alloy particles bonded through an oxide layer and having pores between the soft magnetic alloy particles . Applying an electrode paste;
The substrate is baked at a temperature of 700 ° C. or more to form an electrode made of the electrode material, and the glass component caused by the glass frit contained in the electrode paste is generally inward from the surface of the substrate. Diffusing into the hole portion having a depth of 10 μm or more;
It is characterized by including.

請求項12記載の発明は、請求項11記載の電子部品の製造方法において、
前記ガラス成分は、前記基体の内部方向に、前記電極の膜厚に対して概ね30%以上の距離で拡散していることを特徴とする。
The invention according to claim 12 is the method of manufacturing an electronic component according to claim 11,
The glass component is diffused at a distance of approximately 30% or more with respect to the thickness of the electrode in the internal direction of the substrate.

請求項13記載の発明に係る電子部品の製造方法は、
酸化層を介して結合する軟磁性合金粒子で形成され、前記軟磁性合金粒子間に空孔を有する基体の表面に、所定の電極材料にガラスフリットが概ね10wt%以上の含有率で含まれた第1の電極ペーストを塗布する工程と、
前記第1の電極ペースト上に、前記電極材料のみからなる第2の電極ペーストを塗布する工程と、
前記基体を700℃以上の温度で焼付処理して、前記第1の電極ペーストからなる第1の電極層と前記第2の電極ペーストからなる第2の電極層とを形成するとともに、前記第1の電極ペーストに含まれる前記ガラスフリットに起因するガラス成分を、前記基体の表面から内部方向に概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散させる工程と、
を含むことを特徴とする。
A method for manufacturing an electronic component according to the invention of claim 13 is provided.
A glass frit is included in a predetermined electrode material in a content of approximately 10 wt% or more on the surface of a base formed of soft magnetic alloy particles bonded through an oxide layer and having pores between the soft magnetic alloy particles . Applying a first electrode paste;
Applying a second electrode paste made of only the electrode material on the first electrode paste;
The substrate is baked at a temperature of 700 ° C. or more to form a first electrode layer made of the first electrode paste and a second electrode layer made of the second electrode paste, and the first electrode layer Diffusing the glass component resulting from the glass frit contained in the electrode paste from the surface of the substrate into the pore portion having a depth of approximately 10 μm or more in the internal direction;
It is characterized by including.

請求項14記載の発明に係る電子部品の製造方法は、
酸化層を介して結合する軟磁性合金粒子で形成され、前記軟磁性合金粒子間に空孔を有する基体の表面に、所定の電極材料にガラスフリットが概ね10wt%以上の含有率で含まれた電極ペーストを塗布する工程と、
前記基体を700℃以上の温度で焼付処理して、前記電極材料からなる第1の電極層を形成するとともに、前記電極ペーストに含まれる前記ガラスフリットに起因するガラス成分を、前記基体の表面から内部方向に概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散させる工程と、
前記第1の電極層上に、前記電極材料をスパッタリング法や蒸着法等を用いて第2の電極層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。
A method for manufacturing an electronic component according to the invention of claim 14 comprises:
A glass frit is included in a predetermined electrode material in a content of approximately 10 wt% or more on the surface of a base formed of soft magnetic alloy particles bonded through an oxide layer and having pores between the soft magnetic alloy particles . Applying an electrode paste;
The substrate is baked at a temperature of 700 ° C. or more to form a first electrode layer made of the electrode material, and a glass component caused by the glass frit contained in the electrode paste is removed from the surface of the substrate. Diffusing into the hole portion having a depth of approximately 10 μm or more in the inner direction;
Forming a second electrode layer on the first electrode layer using a sputtering method, a vapor deposition method, or the like;
It is characterized by including.

請求項15記載の発明は、請求項13又は14に記載の電子部品の製造方法において、
前記電子部品は、前記第1の電極層及び前記第2の電極層を含む複数の複数層が積層された電極を有し、少なくとも、前記第1の電極層は、前記基体に接する最下層の電極層であり、前記第2の電極層は、前記第1の電極層の上層に設けられる、最上層の電極層であることを特徴とする。
A fifteenth aspect of the present invention is the electronic component manufacturing method according to the thirteenth or fourteenth aspect,
The electronic component includes an electrode in which a plurality of layers including the first electrode layer and the second electrode layer are stacked, and at least the first electrode layer is a lowermost layer in contact with the substrate. It is an electrode layer, and the second electrode layer is an uppermost electrode layer provided on an upper layer of the first electrode layer.

請求項16記載の発明は、請求項11乃至15のいずれかに記載の電子部品の製造方法において、
前記基体は、吸水率が1.0%以上、又は、空孔率が10〜25%の金属粉の成形体であることを特徴とする。
The invention according to claim 16 is the method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 11 to 15,
The substrate is a metal powder compact having a water absorption rate of 1.0% or more or a porosity of 10 to 25%.

請求項17記載の発明は、請求項11乃至16のいずれかに記載の電子部品の製造方法において、
前記基体は、鉄、ケイ素、及び、鉄よりも酸化しやすい元素を含有する前記軟磁性合金の粒子群から構成され、前記各軟磁性合金粒子の表面には当該軟磁性合金粒子の前記酸化層があり、当該酸化層は当該軟磁性合金粒子に比較して前記鉄より酸化しやすい元素を多く含み、前記粒子同士は前記酸化層を介して結合されていることを特徴とする。
The invention according to claim 17 is the method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 11 to 16,
The substrate is iron, silicon, and, than iron consists particles of the soft magnetic alloy containing easily element oxide, wherein the oxide layer of the soft magnetic said soft magnetic alloy particles on the surface of the alloy particles The oxide layer contains more elements that are more easily oxidized than the iron as compared with the soft magnetic alloy particles, and the particles are bonded together via the oxide layer.

請求項18記載の発明は、請求項17記載の電子部品の製造方法において、
前記鉄よりも酸化しやすい元素は、クロムであって、
前記軟磁性合金は、少なくとも、クロムが2〜15wt%含有することを特徴とする。
The invention according to claim 18 is the method of manufacturing an electronic component according to claim 17,
The element that oxidizes more easily than iron is chromium,
The soft magnetic alloy contains at least 2 to 15 wt% chromium.

本発明によれば、所望の電気特性及び高い信頼性を有しつつ、回路基板上への良好な高密度実装や低背実装が可能なインダクタ等の電子部品及びその製造方法を提供することができ、当該電子部品を搭載する電子機器の小型薄型化や高機能化に加え、信頼性の向上に寄与することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an electronic component such as an inductor that can be mounted on a circuit board with high density and low profile while having desired electrical characteristics and high reliability, and a manufacturing method thereof. In addition to reducing the size and thickness of the electronic device on which the electronic component is mounted and increasing the functionality, it is possible to contribute to the improvement of reliability.

本発明に係る電子部品として適用される巻線型インダクタの一構成例を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows one structural example of the winding type inductor applied as an electronic component which concerns on this invention. 第1の実施形態に係る巻線型インダクタの内部構造を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the internal structure of the winding type inductor which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る巻線型インダクタに適用されるコア部材を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the core member applied to the winding type inductor which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る巻線型インダクタを回路基板上に実装した状態を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state which mounted the winding type inductor which concerns on 1st Embodiment on the circuit board. 第1の実施形態に係る巻線型インダクタの製造方法の一例を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows an example of the manufacturing method of the winding type inductor which concerns on 1st Embodiment. 本発明に係る電子部品の基体に適用される軟磁性合金粒子の集合体(成形体)とフェライトとにおける、ガラス成分の拡散に関する特性を示す図である。It is a figure which shows the characteristic regarding the spreading | diffusion of a glass component in the aggregate (molded object) of the soft magnetic alloy particle | grains applied to the base | substrate of the electronic component which concerns on this invention, and a ferrite. 本発明に係る基体と、フェライトからなる基体とにおける表面近傍の断面を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross section of the surface vicinity in the base | substrate which concerns on this invention, and the base | substrate which consists of ferrite. 本発明に係る基体における表面近傍の断面を説明するための拡大模式図である。It is an expansion schematic diagram for demonstrating the cross section of the surface vicinity in the base | substrate which concerns on this invention. 第1の実施形態に係る巻線型インダクタにおいて、端子電極を形成した際のガラス成分の拡散状態を説明するための拡大模式図である。It is an expansion schematic diagram for demonstrating the diffusion state of the glass component at the time of forming a terminal electrode in the winding type inductor which concerns on 1st Embodiment. 本発明に係る電子部品の製造方法を適用した場合における、焼付処理条件と電極の固着強度との関係を示す実験結果である。It is an experimental result which shows the relationship between the baking process conditions and the adhesion strength of an electrode at the time of applying the manufacturing method of the electronic component which concerns on this invention. 巻線型インダクタの剥離強度試験(固着強度試験)の方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method of the peeling strength test (adhesion strength test) of a winding type inductor. 本発明に係る電子部品の製造方法を適用した場合における、電極ペーストの成分とガラスフリットの拡散距離との関係を示す実験結果である。It is an experimental result which shows the relationship between the component of an electrode paste, and the diffusion distance of glass frit when the manufacturing method of the electronic component which concerns on this invention is applied. 第2の実施形態に係る電子部品に適用される端子電極の構造例を示す要部断面図である。It is principal part sectional drawing which shows the structural example of the terminal electrode applied to the electronic component which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る端子電極の構造例におけるガラス成分の拡散状態を説明するための拡大模式図である。It is an expansion schematic diagram for demonstrating the diffusion state of the glass component in the structural example of the terminal electrode which concerns on 2nd Embodiment. 本発明に係る電子部品として適用される積層型インダクタの構成例を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the structural example of the multilayer inductor applied as an electronic component which concerns on this invention. 本適用例に係る積層型インダクタの分解斜視図である。It is an exploded perspective view of the multilayer inductor according to this application example.

<第1の実施形態>
以下、本発明に係る電子部品及びその製造方法について、実施形態を示して詳しく説明する。ここでは、本発明に係る電子部品として、巻線型インダクタを適用した場合について説明する。なお、ここで示す実施形態は、本発明に係る電子部品として適用可能な一例を示すものであって、本発明はこれに何ら限定されるものではない。
<First Embodiment>
Hereinafter, an electronic component and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described in detail with reference to embodiments. Here, a case where a wire-wound inductor is applied as the electronic component according to the present invention will be described. In addition, embodiment shown here shows an example applicable as an electronic component which concerns on this invention, Comprising: This invention is not limited to this at all.

(巻線型インダクタ)
まず、本発明に係る電子部品として適用される巻線型インダクタの概略構成について説明する。
図1は、本発明に係る電子部品として適用される巻線型インダクタの一構成例を示す概略斜視図である。ここで、図1(a)は、本実施形態に係る巻線型インダクタを上面側(上鍔部側)から見た概略斜視図であり、図1(b)は、本実施形態に係る巻線型インダクタを底面側(下鍔部側)から見た概略斜視図である。図2は、本実施形態に係る巻線型インダクタの内部構造を示す概略断面図である。ここで、図2(a)は、図1(a)に示したA−A線に沿った巻線型インダクタの断面を示す図であり、図2(b)は、図2(a)に示したB部を拡大した要部断面の模式図である。図3は、本実施形態に係る巻線型インダクタに適用されるコア部材を示す概略斜視図である。図4は、本実施形態に係る巻線型インダクタを回路基板上に実装した状態を示す概略断面図である。
(Winding inductor)
First, a schematic configuration of a wound inductor applied as an electronic component according to the present invention will be described.
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a configuration example of a wound inductor applied as an electronic component according to the present invention. Here, FIG. 1A is a schematic perspective view of the wire-wound inductor according to the present embodiment as viewed from the upper surface side (upper flange side), and FIG. 1B is the wire-wound type according to the present embodiment. It is the schematic perspective view which looked at the inductor from the bottom face side (lower collar part side). FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the internal structure of the wound inductor according to the present embodiment. Here, FIG. 2A is a view showing a cross section of the wound inductor along the line AA shown in FIG. 1A, and FIG. 2B is shown in FIG. It is the schematic diagram of the principal part cross section which expanded the B part. FIG. 3 is a schematic perspective view showing a core member applied to the wire wound inductor according to the present embodiment. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the wound inductor according to the present embodiment is mounted on a circuit board.

図1、図2(a)に示すように、第1の実施形態に係る巻線型インダクタ10は、概略、ドラム型のコア部材11と、該コア部材11に巻回されたコイル導線12と、コイル導線12の端部13A、13Bが接続される一対の端子電極16A、16Bと、上記巻回されたコイル導線12の外周を被覆する、磁性粉含有樹脂からなる外装樹脂部18と、を有している。   As shown in FIG. 1 and FIG. 2A, the wire-wound inductor 10 according to the first embodiment is roughly composed of a drum-type core member 11 and a coil conductor 12 wound around the core member 11. A pair of terminal electrodes 16A and 16B to which the end portions 13A and 13B of the coil conductor 12 are connected, and an exterior resin portion 18 made of a magnetic powder-containing resin that covers the outer periphery of the wound coil conductor 12. doing.

具体的には、コア部材11は、図1(a)、図2(a)、図3に示すように、コイル導線12が巻回される柱状の巻芯部11aと、該巻芯部11aの図面上端に設けられた上鍔部11bと、巻芯部11aの図面下端に設けられた下鍔部11cとを備え、その外観はドラム型の形状を有している。   Specifically, as shown in FIGS. 1A, 2A, and 3, the core member 11 includes a columnar core portion 11a around which the coil conductor 12 is wound, and the core portion 11a. The upper collar part 11b provided at the upper end of the drawing and the lower collar part 11c provided at the lower end of the winding core part 11a are provided, and the appearance has a drum shape.

ここで、図1〜図3に示すように、上記コア部材11の巻芯部11aは、所定の巻回数を得るために必要なコイル導線12の長さをより短くできるように、断面が略円形もしくは円形であることが好ましいが、これに限定されるものではない。コア部材11の下鍔部11cの外形は、高密度実装に対応して小型化を図るために、平面視形状が略四角形もしくは四角形であることが好ましいが、これに限定されるものではなく、多角形や略円形等であってもよい。また、上記コア部材11の上鍔部11bの外形は、高密度実装に対応して小型化を図るために、下鍔部11cに対応して類似の形状であることが好ましく、さらに、下鍔部11cと同サイズもしくは下鍔部11cよりやや小さめのサイズであることが好ましい。   Here, as shown in FIGS. 1 to 3, the core portion 11 a of the core member 11 has a substantially cross-sectional shape so that the length of the coil conductor 12 necessary for obtaining a predetermined number of turns can be shortened. Although it is preferable that it is circular or circular, it is not limited to this. The outer shape of the lower flange portion 11c of the core member 11 is preferably a substantially quadrangular or quadrangular shape in plan view in order to reduce the size in response to high-density mounting, but is not limited thereto. It may be a polygon or a substantially circular shape. Further, the outer shape of the upper collar portion 11b of the core member 11 is preferably similar to the lower collar portion 11c in order to reduce the size corresponding to high-density mounting. It is preferable that it is the same size as the part 11c or slightly smaller than the lower collar part 11c.

このように、巻芯部11aの上端及び下端に上鍔部11b及び下鍔部11cを設けることにより、巻芯部11aに対するコイル導線12の巻回位置を制御しやすくなり、インダクタの特性を安定させることができる。また、上鍔部11bの四隅に適宜面取り等を施すことにより、上鍔部11b及び下鍔部11c間に、後述する外装樹脂部18を構成する磁性粉含有樹脂を容易に充填することができる。なお、上鍔部11b及び下鍔部11cの厚さは、その下限値が上記コア部材11における巻芯部11aからの上鍔部11b及び下鍔部11cのそれぞれの張り出し寸法を考慮して、所定の強度を満足するように適宜設定される。   Thus, by providing the upper flange portion 11b and the lower flange portion 11c at the upper end and the lower end of the core portion 11a, the winding position of the coil conductor 12 with respect to the core portion 11a can be easily controlled, and the characteristics of the inductor can be stabilized. Can be made. Further, by appropriately chamfering the four corners of the upper collar portion 11b, the magnetic powder-containing resin constituting the exterior resin portion 18 described later can be easily filled between the upper collar portion 11b and the lower collar portion 11c. . In addition, the thickness of the upper collar portion 11b and the lower collar portion 11c is such that the lower limit value takes into account the respective projecting dimensions of the upper collar portion 11b and the lower collar portion 11c from the core portion 11a of the core member 11. It is appropriately set so as to satisfy a predetermined strength.

また、図1(b)、図2(a)、図3に示すように、コア部材11の下鍔部11cの底面(外表面)11Bには、巻芯部11aの中心軸CLの延長線を挟んで一対の端子電極16A、16Bが設けられている。ここで、底面11Bには、一対の端子電極16A、16Bが形成される領域(電極形成領域)に、例えば図1(b)、図2(a)、図3に示すように、溝15A、15Bが形成されているものであってもよい。   Further, as shown in FIGS. 1B, 2A, and 3, the bottom surface (outer surface) 11B of the lower flange portion 11c of the core member 11 is an extension line of the central axis CL of the core portion 11a. A pair of terminal electrodes 16A and 16B are provided with a gap therebetween. Here, on the bottom surface 11B, in a region (electrode formation region) where the pair of terminal electrodes 16A and 16B are formed, as shown in FIGS. 1B, 2A, and 3, for example, grooves 15A, 15B may be formed.

この溝15A、15Bは、例えば図2、図3に示すように、少なくとも底部と、該底部の幅方向の両側に、該底部に対し傾斜して設けられた緩斜面と、を備えた略凹状の断面形状を有している。
なお、上記溝15A、15Bの深さは、例えば図2(a)に示すように、溝15A、15Bの底部に端子電極16A、16Bが形成され、かつ、当該底部にコイル導線12の端部13A、13Bが位置する状態で、コイル導線12の端部13A、13B、もしくは、該端部13A、13Bと端子電極16A、16Bを接合する半田17A、17Bの一部が、底面11Bの平坦面の高さ位置を越えて溝15A、15Bから突出するように形成されることが好ましい。また、上記溝15A、15Bの長さ方向の両端は、図1(b)、図3に示すように、下鍔部11cの互いに対向する一対の外側面に達するように形成されていることが好ましい。なお、ここで示した溝15A、15Bの形状は、本実施形態に係る巻線型インダクタに適用可能な一例を示したものに過ぎず、これに限定されるものではない。例えば、溝15A、15Bは、底部と緩斜面に加え、緩斜面と下鍔部11cの底面11Bが接する領域に、端子電極16A、16Bの幅方向を規制するための、緩斜面よりも急な傾斜を有する側壁が設けられているものであってもよい。また、下鍔部11cの底面11Bに溝を形成することなく、底面11Bの平坦面に直接端子電極16A、16Bが設けられているものであってもよい。
As shown in FIGS. 2 and 3, for example, the grooves 15A and 15B have a substantially concave shape having at least a bottom portion and gentle slopes provided on both sides in the width direction of the bottom portion so as to be inclined with respect to the bottom portion. The cross-sectional shape is as follows.
For example, as shown in FIG. 2A, the depth of the grooves 15A and 15B is such that the terminal electrodes 16A and 16B are formed at the bottoms of the grooves 15A and 15B, and the ends of the coil conductors 12 are formed at the bottoms. In a state where 13A and 13B are located, the end portions 13A and 13B of the coil conductor 12 or a part of the solder 17A and 17B joining the end portions 13A and 13B and the terminal electrodes 16A and 16B are flat surfaces of the bottom surface 11B. Preferably, it is formed so as to protrude from the grooves 15A and 15B beyond the height position. Further, both ends of the grooves 15A and 15B in the length direction are formed so as to reach a pair of opposed outer surfaces of the lower collar portion 11c as shown in FIGS. preferable. The shape of the grooves 15A and 15B shown here is merely an example applicable to the wire wound inductor according to the present embodiment, and is not limited to this. For example, the grooves 15A and 15B are steeper than the gentle slope for regulating the width direction of the terminal electrodes 16A and 16B in a region where the gentle slope and the bottom surface 11B of the lower collar portion 11c are in contact with the bottom and the gentle slope. An inclined side wall may be provided. Further, the terminal electrodes 16A and 16B may be provided directly on the flat surface of the bottom surface 11B without forming a groove on the bottom surface 11B of the lower collar portion 11c.

そして、本実施形態に係る巻線型インダクタ10においては、上記コア部材11の吸水率が1.0%以上、又は、空孔率が10〜25%である、多孔質の成形体が適用される。具体的には、本実施形態に係る巻線型インダクタ10は、コア部材11として、例えば、鉄(Fe)と、ケイ素(Si)と、鉄よりも酸化しやすい元素を含有する軟磁性合金の粒子群から構成され、各軟磁性合金粒子の表面には、当該軟磁性合金粒子が酸化した酸化層が形成され、当該酸化層は当該軟磁性合金粒子に比較して、上記鉄よりも酸化しやすい元素を多く含み、粒子同士が当該酸化層を介して結合されて構成された、多孔質の成形体を適用することができる。なお、本実施形態において、上記鉄よりも酸化しやすい元素としては、クロム(Cr)やアルミニウム(Al)等を適用することができる。特に、上記軟磁性合金粒子は、少なくともクロムが2〜15wt%含有されていることが好ましく、また、軟磁性合金粒子の平均粒径が概ね2〜30μm程度であることがより望ましい。   In the wound inductor 10 according to this embodiment, a porous molded body in which the water absorption rate of the core member 11 is 1.0% or more or the porosity is 10 to 25% is applied. . Specifically, the wire-wound inductor 10 according to the present embodiment includes, as the core member 11, for example, iron (Fe), silicon (Si), and soft magnetic alloy particles containing an element that is more easily oxidized than iron. An oxide layer formed by oxidizing the soft magnetic alloy particles is formed on the surface of each soft magnetic alloy particle, and the oxide layer is more easily oxidized than the iron compared to the soft magnetic alloy particles. A porous molded body containing a large amount of elements and composed of particles bonded together via the oxide layer can be applied. In this embodiment, chromium (Cr), aluminum (Al), or the like can be applied as an element that is more easily oxidized than iron. In particular, the soft magnetic alloy particles preferably contain at least 2 to 15 wt% of chromium, and more preferably have an average particle size of about 2 to 30 μm.

このように、コア部材11を構成する軟磁性合金粒子の組成やその含有率、当該軟磁性合金粒子の平均粒径を上記の範囲内で適宜設定することにより、高い飽和磁束密度Bs(1.2T以上)と高い透磁率μ(37以上)を実現することができるとともに、100kHz以上の周波数においても、粒子内で渦電流損失が生じることを抑制することができることが確認された。そして、この高い透磁率μ、及び、高い飽和磁束密度Bsを有することにより、本実施形態に係る巻線型インダクタ10は、優れたインダクタ特性(インダクタンス−直流重畳特性:L−Idc特性)を実現することができる。   Thus, by appropriately setting the composition and content ratio of the soft magnetic alloy particles constituting the core member 11 and the average particle diameter of the soft magnetic alloy particles within the above range, a high saturation magnetic flux density Bs (1. 2T or higher) and a high magnetic permeability μ (37 or higher), and it was confirmed that eddy current loss can be suppressed in the particles even at a frequency of 100 kHz or higher. And by having this high magnetic permeability μ and high saturation magnetic flux density Bs, the wound inductor 10 according to the present embodiment realizes excellent inductor characteristics (inductance-DC superposition characteristics: L-Idc characteristics). be able to.

端子電極16A、16Bは、例えば図1(b)、図2(a)、図3に示すように、上記溝15A、15B内に設けられる場合には、当該溝15A、15Bに沿って延在し、コイル導線12の各端部13A、13Bに接続されている。また、端子電極16A、16Bは、上記溝15A、15Bによりその幅方向が規制され、幅方向の一端側から他端側に亘るすべての領域が溝15A、15B内に設けられていることが好ましい。そのため、溝15A、15B内に端子電極16A、16Bが収まるように、溝15A、15Bの断面形状及び寸法、並びに、端子電極16A、16Bの厚み寸法が適宜設定されていることが好ましい。ここで、端子電極16A、16Bの厚み寸法(膜厚)は、概ね10〜50μm程度であることが好ましい。   When the terminal electrodes 16A and 16B are provided in the grooves 15A and 15B as shown in FIGS. 1B, 2A, and 3, for example, they extend along the grooves 15A and 15B. The coil conductor 12 is connected to the end portions 13A and 13B. The terminal electrodes 16A and 16B are preferably regulated in the width direction by the grooves 15A and 15B, and all regions extending from one end side to the other end side in the width direction are provided in the grooves 15A and 15B. . Therefore, it is preferable that the cross-sectional shapes and dimensions of the grooves 15A and 15B and the thickness dimensions of the terminal electrodes 16A and 16B are appropriately set so that the terminal electrodes 16A and 16B are accommodated in the grooves 15A and 15B. Here, the thickness dimension (film thickness) of the terminal electrodes 16A and 16B is preferably about 10 to 50 μm.

また、端子電極16A、16Bは、種々の電極材料を用いることができ、例えば、銀(Ag)、銀(Ag)とパラジウム(Pd)の合金、銀(Ag)と白金(Pt)の合金、銅(Cu)、チタン(Ti)とニッケル(Ni)とスズ(Sn)の合金、チタン(Ti)と銅(Cu)の合金、クロム(Cr)とニッケル(Ni)とスズ(Sn)の合金、チタン(Ti)とニッケル(Ni)と銅(Cu)の合金、チタン(Ti)とニッケル(Ni)と銀(Ag)の合金、ニッケル(Ni)とスズ(Sn)の合金、ニッケル(Ni)と銅(Cu)の合金、ニッケル(Ni)と銀(Ag)の合金等を良好に適用することができる。これらの電極材料を用いた端子電極16A、16Bは、例えば銅(Cu)や、銅(Cu)を含む合金等にガラスフリットを所定の含有率で含む電極ペーストを、上記溝15A、15B内や下鍔部11cの底面11Bに塗布し、所定の温度で焼付処理する形成方法により得られる焼付電極(焼付導体膜)が適用される。なお、端子電極16A、16Bは、上述した焼付電極の表面に、電解メッキによりニッケル(Ni)やスズ(Sn)等の金属メッキ層がさらに形成されているものであってもよい。   The terminal electrodes 16A and 16B can use various electrode materials, such as silver (Ag), an alloy of silver (Ag) and palladium (Pd), an alloy of silver (Ag) and platinum (Pt), Copper (Cu), titanium (Ti), nickel (Ni) and tin (Sn) alloy, titanium (Ti) and copper (Cu) alloy, chromium (Cr), nickel (Ni) and tin (Sn) alloy Alloy of titanium (Ti), nickel (Ni) and copper (Cu), alloy of titanium (Ti), nickel (Ni) and silver (Ag), alloy of nickel (Ni) and tin (Sn), nickel (Ni ) And copper (Cu) alloy, nickel (Ni) and silver (Ag) alloy, and the like can be favorably applied. The terminal electrodes 16A and 16B using these electrode materials include, for example, an electrode paste containing glass frit at a predetermined content in copper (Cu), an alloy containing copper (Cu), or the like in the grooves 15A and 15B. A baked electrode (baked conductor film) obtained by a forming method that is applied to the bottom surface 11B of the lower collar portion 11c and baked at a predetermined temperature is applied. The terminal electrodes 16A and 16B may be formed by further forming a metal plating layer such as nickel (Ni) or tin (Sn) on the surface of the above-described baked electrode by electrolytic plating.

また、コイル導線12は、図2(a)に示すように、銅(Cu)や銀(Ag)等からなる金属線13の外周に、ポリウレタン樹脂やポリエステル樹脂等からなる絶縁被覆14が形成された被覆導線が適用される。そして、コイル導線12は、上記コア部材11の柱状の巻芯部11aの周囲に巻回されるとともに、図1、図2(a)に示すように、一方及び他方の端部13A、13Bが、絶縁被覆14が除去された状態で、上記端子電極16A、16Bにそれぞれ半田17A、17Bにより導電接続されている。   Further, as shown in FIG. 2A, the coil conductor 12 has an insulating coating 14 made of polyurethane resin, polyester resin or the like formed on the outer periphery of a metal wire 13 made of copper (Cu), silver (Ag), or the like. Covered conductors are applied. And the coil conducting wire 12 is wound around the columnar core part 11a of the core member 11, and as shown in FIG. 1 and FIG. 2 (a), one and the other end parts 13A and 13B are With the insulating coating 14 removed, the terminal electrodes 16A and 16B are electrically connected to the terminal electrodes 16A and 16B by solders 17A and 17B, respectively.

ここで、コイル導線12は、例えば直径0.1〜0.2mmの被覆導線が、コア部材11の巻芯部11aの周囲に3.5〜15.5回巻回されている。コイル導線12に適用される金属線13は、単線に限定されるものではなく2本以上の線や、撚り線であってもよい。また、コイル導線12の金属線13は、円形の断面形状を有するものに限定されるものではなく、例えば長方形の断面形状を有する平角線や、正方形の断面形状を有する四角線等を用いることもできる。また、上記端子電極16A、16Bが溝15A、15Bの内部に設けられる場合には、コイル導線12の端部13A、13Bの直径が、溝15A、15Bの深さよりも大きくなるように設定されていることが好ましい。   Here, as for the coil conducting wire 12, for example, a coated conducting wire having a diameter of 0.1 to 0.2 mm is wound around the core portion 11 a of the core member 11 3.5 to 15.5 times. The metal wire 13 applied to the coil conducting wire 12 is not limited to a single wire, and may be two or more wires or a stranded wire. Moreover, the metal wire 13 of the coil conducting wire 12 is not limited to one having a circular cross-sectional shape. For example, a rectangular wire having a rectangular cross-sectional shape, a square wire having a square cross-sectional shape, or the like may be used. it can. When the terminal electrodes 16A and 16B are provided inside the grooves 15A and 15B, the diameters of the end portions 13A and 13B of the coil conductor 12 are set to be larger than the depths of the grooves 15A and 15B. Preferably it is.

なお、上述したコイル導線12の端部13A、13Bと端子電極16A、16Bとの半田17A、17Bによる導電接続とは、両者が半田17A、17Bを介して導電接続されている箇所を有しているものであればばよく、半田17A、17Bのみで導電接続されているものに限らない。例えば、端子電極16A、16Bと上記コイル導線12の端部13A、13Bとが熱圧着により金属間結合で接合された箇所を有するとともに、該接合箇所を覆うように半田17A、17Bで被覆された構造を有しているものであってもよい。   The conductive connection by the solder 17A and 17B between the end portions 13A and 13B of the coil conductor 12 and the terminal electrodes 16A and 16B described above includes a portion where both are conductively connected via the solders 17A and 17B. However, the present invention is not limited to those that are conductively connected only by the solders 17A and 17B. For example, the terminal electrodes 16A and 16B and the end portions 13A and 13B of the coil conductor 12 have portions joined by metal bonding by thermocompression bonding, and are covered with solders 17A and 17B so as to cover the joining portions. It may have a structure.

外装樹脂部18は、磁性粉含有樹脂が、図2(a)に示すように、コア部材11の対向する上鍔部11b及び下鍔部11c間の巻芯部11aに巻回されたコイル導線12の外周を被覆し、かつ、巻芯部11aと、上鍔部11b及び下鍔部11cに囲まれた領域に充填されるように設けられている。   As shown in FIG. 2A, the exterior resin portion 18 is a coil conductor in which a magnetic powder-containing resin is wound around a core portion 11a between the upper and lower flange portions 11b and 11c of the core member 11 facing each other. 12 is provided so as to cover the outer periphery of 12 and to fill a region surrounded by the core part 11a, the upper collar part 11b, and the lower collar part 11c.

磁性粉含有樹脂は、巻線型インダクタ10の使用温度範囲において所定の粘弾性を有していることが好ましい。より具体的には、硬化時の物性として温度に対する剛性率の変化において、ガラス状態からゴム状態に移行する過程におけるガラス転移温度が100〜150℃の磁性粉含有樹脂を良好に適用することができる。上記磁性粉含有樹脂に用いる樹脂材料としては、シリコン樹脂を良好に適用することができ、コア部材11の上鍔部11b、下鍔部11c間に磁性粉含有樹脂を装入する工程におけるリードタイムを短縮するためには、例えばエポキシ樹脂とカルボキシル基変性プロピレングリコールとの混合樹脂を適用することがより好ましい。   The magnetic powder-containing resin preferably has a predetermined viscoelasticity in the operating temperature range of the wound inductor 10. More specifically, a magnetic powder-containing resin having a glass transition temperature of 100 to 150 ° C. in the process of transition from a glass state to a rubber state can be satisfactorily applied in the change in rigidity with respect to temperature as a physical property at the time of curing. . As the resin material used for the magnetic powder-containing resin, a silicon resin can be favorably applied, and the lead time in the step of inserting the magnetic powder-containing resin between the upper flange portion 11b and the lower flange portion 11c of the core member 11 In order to shorten the length, for example, it is more preferable to apply a mixed resin of an epoxy resin and a carboxyl group-modified propylene glycol.

そして、本実施形態に係る巻線型インダクタ10においては、多孔質のコア部材11の下鍔部11cの底面11Bであって、上述した端子電極16A、16Bが形成される電極形成領域において、図2(b)の模式図に示すように、上記端子電極16A、16Bを形成する際に用いられる電極ペーストに含まれるガラスフリットに起因するガラス成分が、コア部材11に端子電極16A、16Bが接する界面(すなわち、コア部材11の表面)からコア部材11の内部方向(図面上方向)に所定の深さで拡散した部分11dを有している。ここで、ガラス成分がコア部材11の内部方向に拡散している深さ(拡散距離)は、概ね10μm以上であることが好ましい。より具体的には、コア部材11の表面に形成される端子電極16A、16Bの膜厚(概ね10〜50μm)に対して、上記拡散距離は、概ね30%以上であることが好ましく、端子電極16A、16Bの膜厚よりも大きい場合(100%以上)であってもよい。   In the wound inductor 10 according to the present embodiment, the bottom surface 11B of the lower flange portion 11c of the porous core member 11 is formed in the electrode formation region in which the terminal electrodes 16A and 16B described above are formed. As shown in the schematic diagram of (b), the glass component resulting from the glass frit contained in the electrode paste used when forming the terminal electrodes 16A and 16B is the interface where the terminal electrodes 16A and 16B are in contact with the core member 11. That is, it has a portion 11d diffused at a predetermined depth from the surface (that is, the surface of the core member 11) to the inner direction of the core member 11 (upward in the drawing). Here, the depth (diffusion distance) in which the glass component diffuses in the inner direction of the core member 11 is preferably approximately 10 μm or more. More specifically, the diffusion distance is preferably approximately 30% or more with respect to the film thickness (approximately 10 to 50 μm) of the terminal electrodes 16A and 16B formed on the surface of the core member 11. It may be larger (100% or more) than the film thicknesses of 16A and 16B.

このガラス成分がコア部材11に拡散した部分11dは、端子電極16A、16Bを形成するための電極ペーストに含まれるガラスフリットとコア部材11の一部が化学反応を起こし、互いに交じり合って存在する層であり、主として軟磁性合金粒子とガラスフリットとで構成されている。これにより、電極形成領域におけるコア部材11と端子電極16A、16Bとの界面における結合が強固になって、両者の密着性(接着強度)を向上させることができる。なお、詳しくは、後述する作用効果の検証の欄で説明する。   The portion 11d in which the glass component is diffused into the core member 11 is present where the glass frit contained in the electrode paste for forming the terminal electrodes 16A and 16B and a part of the core member 11 undergo a chemical reaction and cross each other. This layer is mainly composed of soft magnetic alloy particles and glass frit. Thereby, the coupling | bonding in the interface of the core member 11 and terminal electrode 16A, 16B in an electrode formation area becomes firm, and both adhesiveness (adhesion strength) can be improved. Details will be described in the column of verification of effects described later.

なお、上述したような構成を有する巻線型インダクタ10は、図4に示すように、例えばガラス−エポキシ樹脂基板21上に銅箔からなる実装ランド22が形成された回路基板20上に実装される。ここで、実装ランド22への巻線型インダクタ10の実装方法は、回路基板20上にクリーム半田を印刷した後、実装ランド22上に巻線型インダクタ10の電極部分、すなわち、端子電極16A、16Bにコイル導線12の一方及び他方の端部13A、13Bが半田17A、17Bにより導電接続された部分を搭載し、例えば245℃に加熱してリフロー半田付け処理を施す。これにより、実装ランド22に巻線型インダクタ10の電極部分が半田19により接合されて、回路基板20上に巻線型インダクタ10が実装される。   As shown in FIG. 4, the wound inductor 10 having the above-described configuration is mounted on a circuit board 20 in which mounting lands 22 made of copper foil are formed on a glass-epoxy resin substrate 21, for example. . Here, the winding type inductor 10 is mounted on the mounting land 22 by printing cream solder on the circuit board 20 and then on the mounting land 22 to the electrode portion of the winding type inductor 10, that is, the terminal electrodes 16A and 16B. A portion where one and the other end portions 13A and 13B of the coil conductor 12 are electrically connected by solders 17A and 17B is mounted, and heated to 245 ° C., for example, to perform a reflow soldering process. As a result, the electrode portion of the wound inductor 10 is joined to the mounting land 22 by the solder 19, and the wound inductor 10 is mounted on the circuit board 20.

(巻線型インダクタの製造方法)
次に、本実施形態に係る巻線型インダクタの製造方法について説明する。
図5は、本実施形態に係る巻線型インダクタの製造方法の一例を示すフローチャートである。
(Method of manufacturing a wound inductor)
Next, a method for manufacturing the wound inductor according to the present embodiment will be described.
FIG. 5 is a flowchart showing an example of a method for manufacturing a wire-wound inductor according to the present embodiment.

上述した巻線型インダクタは、図5に示すように、概略、コア部材製造工程S101と、端子電極形成工程S102と、コイル導線巻回工程S103と、外装工程S104と、コイル導線接合工程S105と、を経て製造される。   As shown in FIG. 5, the above-described wire-wound inductor generally includes a core member manufacturing process S101, a terminal electrode forming process S102, a coil conductor winding process S103, an exterior process S104, a coil conductor joining process S105, It is manufactured through.

(a)コア部材製造工程S101
コア部材製造工程S101においては、まず、鉄(Fe)と、ケイ素(Si)と、鉄よりも酸化しやすい元素とを、所定の比率で含有する軟磁性合金の粒子群を原料粒子として、所定の結合剤を混合して所定の形状の成形体を形成する。具体的には、鉄よりも酸化しやすい元素として例えばクロム(Cr)を用い、クロム2〜15wt%、ケイ素0.5〜7wt%、残部に鉄を含有する原料粒子に、例えば熱可塑性樹脂などの結合剤(バインダ)を添加し、攪拌混合させて造粒物を得る。次いで、この造粒物を粉末成形プレスを用いて圧縮成形して成形体を形成し、例えば研削ディスクを用いてセンターレス研摩により上鍔部11b及び下鍔部11c間に、柱状の巻芯部11aが形成されるように凹部を形成してドラム形の成形体を得る。
(A) Core member manufacturing process S101
In the core member manufacturing step S101, first, a soft magnetic alloy particle group containing iron (Fe), silicon (Si), and an element more easily oxidized than iron in a predetermined ratio is used as a raw material particle. Are mixed with each other to form a molded body having a predetermined shape. Specifically, for example, chromium (Cr) is used as an element that is easier to oxidize than iron, and the raw material particles containing 2-15 wt% chromium, 0.5-7 wt% silicon, and iron in the balance, for example, thermoplastic resin, etc. A binder (binder) is added and mixed by stirring to obtain a granulated product. Next, this granulated product is compression-molded using a powder molding press to form a molded body. For example, a columnar core part is formed between the upper collar part 11b and the lower collar part 11c by centerless polishing using a grinding disk. Recesses are formed so that 11a is formed to obtain a drum-shaped molded body.

次いで、得られた成形体を焼成する。具体的には、上記成形体を大気中で400〜900℃で熱処理する。このように、大気中で熱処理を行うことで、混合した熱可塑性樹脂を脱脂(脱バインダ処理)するとともに、もともと粒子中に存在し熱処理により表面に移動してきたクロムと、粒子の主成分である鉄を酸素と結合させながら、金属酸化物からなる酸化層を粒子表面に生成させ、かつ、隣接する粒子の表面の酸化層同士を結合させる。生成された酸化層(金属酸化物層)は、主に鉄とクロムからなる酸化物であり、粒子間の絶縁を確保しつつ、軟磁性合金粒子の集合体からなるコア部材11を提供することができる。   Next, the obtained molded body is fired. Specifically, the molded body is heat-treated at 400 to 900 ° C. in the atmosphere. In this way, heat treatment is performed in the atmosphere to degrease the mixed thermoplastic resin (debinder treatment), and the chromium that originally exists in the particles and has moved to the surface by the heat treatment is the main component of the particles. While iron is combined with oxygen, an oxide layer made of a metal oxide is formed on the particle surface, and the oxide layers on the surfaces of adjacent particles are bonded to each other. The generated oxide layer (metal oxide layer) is an oxide mainly composed of iron and chromium, and provides a core member 11 composed of an aggregate of soft magnetic alloy particles while ensuring insulation between the particles. Can do.

ここで、上記原料粒子の例としては、水アトマイズ法で製造した粒子を適用することができ、原料粒子の形状の例として、球状、扁平状があげられる。また、上記熱処理において、酸素雰囲気下での熱処理温度を上昇させると、結合剤が分解し、軟磁性合金の粒子が酸化される。このため、成形体の熱処理条件として、大気中、400〜900℃で、1分以上保持することが好ましい。この温度範囲内で熱処理を行うことにより、優れた酸化層を形成することができる。より好ましくは、600〜800℃である。大気中以外の条件、例えば、酸素分圧が大気と同程度の雰囲気中で熱処理してもよい。還元雰囲気又は非酸化雰囲気では、熱処理により金属酸化物からなる酸化層の生成が行われないため、粒子同士が焼結し体積抵抗率が著しく低下する。また、雰囲気中の酸素濃度、水蒸気量については特に限定されないが、生産面から考慮すると、大気あるいは乾燥空気であることが望ましい。   Here, as an example of the raw material particles, particles produced by a water atomization method can be applied. Examples of the shape of the raw material particles include a spherical shape and a flat shape. In the heat treatment, when the heat treatment temperature in an oxygen atmosphere is increased, the binder is decomposed and the soft magnetic alloy particles are oxidized. For this reason, it is preferable to hold | maintain for 1 minute or more at 400-900 degreeC in air | atmosphere as the heat processing conditions of a molded object. An excellent oxide layer can be formed by performing heat treatment within this temperature range. More preferably, it is 600-800 degreeC. You may heat-process in conditions other than air | atmosphere, for example, the atmosphere whose oxygen partial pressure is comparable as air | atmosphere. In a reducing atmosphere or a non-oxidizing atmosphere, an oxide layer made of a metal oxide is not generated by heat treatment, so that the particles are sintered and the volume resistivity is remarkably reduced. In addition, the oxygen concentration and the amount of water vapor in the atmosphere are not particularly limited, but in consideration of production, air or dry air is desirable.

上記熱処理において、400℃を越える温度に設定することにより、優れた強度と優れた体積抵抗率を得ることができる。一方、熱処理温度が900℃を超えると、強度は増加するものの、体積抵抗率の低下が発生する。また、上記熱処理温度での保持時間は、1分以上とすることにより鉄とクロムを含む金属酸化物からなる酸化層が生成されやすい。ここで、酸化層厚は一定値で飽和するため保持時間の上限はあえて設定しないが、生産性を考慮し2時間以下とすることが妥当である。   By setting the temperature above 400 ° C. in the heat treatment, excellent strength and excellent volume resistivity can be obtained. On the other hand, when the heat treatment temperature exceeds 900 ° C., the strength increases, but the volume resistivity decreases. Further, when the holding time at the heat treatment temperature is set to 1 minute or longer, an oxide layer made of a metal oxide containing iron and chromium is likely to be generated. Here, since the oxide layer thickness is saturated at a constant value, the upper limit of the holding time is not set intentionally, but it is reasonable to set it to 2 hours or less in consideration of productivity.

このように、熱処理温度、熱処理時間、熱処理雰囲気中の酸素量等により、酸化層の形成を制御することができるので、熱処理条件を上記範囲とすることにより、優れた強度と優れた体積抵抗率を同時に満たし、酸化層を有する軟磁性合金粒子の集合体からなるコア部材11を製造することができる。   Thus, since the formation of the oxide layer can be controlled by the heat treatment temperature, the heat treatment time, the amount of oxygen in the heat treatment atmosphere, etc., by setting the heat treatment conditions within the above range, excellent strength and excellent volume resistivity. The core member 11 made of an aggregate of soft magnetic alloy particles satisfying the above and having an oxide layer can be manufactured.

なお、上記ドラム形の成形体は、原料粒子を含む造粒物により形成された成形体の周側面に、センターレス研摩により凹部を形成して得る方法に限定するものではなく、例えば、上記の造粒物を粉末成形プレスを用いて乾式一体成形することによりドラム形の成形体を得ることもできる。また、コア部材11のさらに他の製造方法としては、上述したように、予めドラム形の成形体を準備して焼成する方法に限定するものではなく、例えば、上記の造粒物により形成された成形体(周側面に凹部が形成されていない成形体)を準備した後、脱バインダ処理を行い、所定の温度で焼成した後に、当該焼結体の周側面にダイヤモンドホイール等を用いて凹部を切削加工により形成するものであってもよい。   The drum-shaped molded body is not limited to a method obtained by forming a recess by centerless polishing on the peripheral side surface of a molded body formed of a granulated product containing raw material particles. A drum-shaped molded body can also be obtained by dry-integrating the granulated product using a powder molding press. Further, as described above, the manufacturing method of the core member 11 is not limited to a method in which a drum-shaped molded body is prepared and fired in advance. For example, the core member 11 is formed of the above granulated material. After preparing a molded body (molded body with no recesses formed on the peripheral side surface), after performing a binder removal treatment and firing at a predetermined temperature, the peripheral surface of the sintered body is formed with a diamond wheel or the like. It may be formed by cutting.

また、コア部材11の底面11Bに溝15A、15Bを形成する場合には、上記コア部材11の製造工程において、原料粒子を含む造粒物により成形体を形成する際に、押型の表面に予め一対の突条を設けておき、該成形体の成形と同時に形成する方法のほか、例えば、得られた成形体の表面に切削加工を施して一対の溝を形成するものであってもよい。   Further, when the grooves 15A and 15B are formed on the bottom surface 11B of the core member 11, in the manufacturing process of the core member 11, when the molded body is formed from the granulated material containing the raw material particles, the surface of the pressing mold is preliminarily formed. In addition to the method of forming a pair of protrusions and forming the molded body simultaneously with the molding, for example, the surface of the obtained molded body may be cut to form a pair of grooves.

(b)端子電極形成工程S102
次いで、端子電極形成工程S102においては、上記コア部材11の下鍔部11cの溝15A、15B内、又は、底面11Bに、上述した電極材料を含む電極ペーストを塗布し、所定の温度で焼付処理して端子電極16A、16Bを形成する。この電極形成方法は、製造コストが安価で、生産性が高いという特長を有している。
(B) Terminal electrode formation process S102
Next, in the terminal electrode formation step S102, the electrode paste containing the electrode material described above is applied in the grooves 15A and 15B of the lower flange portion 11c of the core member 11 or the bottom surface 11B, and is baked at a predetermined temperature. Thus, terminal electrodes 16A and 16B are formed. This electrode forming method is characterized by low manufacturing costs and high productivity.

端子電極形成工程は、まず、電極材料(例えば銀や銅、あるいは、これらを含む複数種類の金属材料)の粉末と、所定の含有率のガラスフリットを含む電極ペーストを、上記溝15A、15B内、又は、下鍔部11cの底面11Bに塗布した後、コア部材11を所定の温度及び時間で熱処理することにより、端子電極16A、16Bを形成する。   In the terminal electrode forming step, first, an electrode paste containing a powder of an electrode material (for example, silver, copper, or a plurality of kinds of metal materials containing these) and a glass frit having a predetermined content is placed in the grooves 15A and 15B. Or after apply | coating to the bottom face 11B of the lower collar part 11c, the core member 11 is heat-processed by predetermined temperature and time, and the terminal electrodes 16A and 16B are formed.

ここで、電極ペーストの塗布方法としては、例えばローラー転写法やパッド転写法等の転写法、スクリーン印刷法や孔版印刷法等の印刷法のほか、スプレー法やインクジェット法等を適用することができる。なお、端子電極16A、16Bが、上記溝15A、15B内に良好に収納されて、安定した幅寸法を有するためには、転写法を用いる方がより好ましい。   Here, as a method for applying the electrode paste, for example, a transfer method such as a roller transfer method or a pad transfer method, a printing method such as a screen printing method or a stencil printing method, a spray method or an ink jet method can be applied. . In order for the terminal electrodes 16A and 16B to be satisfactorily accommodated in the grooves 15A and 15B and to have a stable width dimension, it is more preferable to use a transfer method.

また、電極ペーストにおける電極材料やガラスフリットは、用いる電極材料の種類や組成等に応じて適宜設定される。電極材料として、例えば銀(Ag)、銅(Cu)、銀(Ag)とパラジウム(Pd)の合金、あるいは、銀(Ag)と白金(Pt)の合金等を適用した場合には、ガラスフリットの含有率は、概ね10wt%以上、好ましくは、10〜30wt%に設定される。なお、電極ペーストに含まれるガラスフリットは、例えばケイ素(Si)、亜鉛(Zn)、バリウム(Ba)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、カルシウム(Ca)等からなるガラス及び金属酸化物を含む組成を有している。また、下鍔部11cの底面11Bに電極ペーストを塗布した後のコア部材11の熱処理(電極焼付処理)は、例えば、大気雰囲気中や酸素濃度10ppm以下のNガス雰囲気中で、600〜1050℃の温度条件で実行される。より好ましくは、750〜900℃である。 Further, the electrode material and glass frit in the electrode paste are appropriately set according to the type and composition of the electrode material used. When an electrode material such as silver (Ag), copper (Cu), an alloy of silver (Ag) and palladium (Pd), or an alloy of silver (Ag) and platinum (Pt) is applied, a glass frit is used. The content of is generally set to 10 wt% or more, preferably 10 to 30 wt%. The glass frit contained in the electrode paste is made of, for example, glass and metal oxide made of silicon (Si), zinc (Zn), barium (Ba), aluminum (Al), titanium (Ti), calcium (Ca), or the like. It has a composition containing. The heat treatment (electrode baking process) of the core member 11 after applying the electrode paste to the bottom surface 11B of the lower collar part 11c is, for example, 600 to 1050 in an air atmosphere or an N 2 gas atmosphere having an oxygen concentration of 10 ppm or less. It is carried out at a temperature condition of ° C. More preferably, it is 750-900 degreeC.

このような端子電極形成方法により、上記の電極材料からなる端子電極16A、16Bが形成されるとともに、電極ペーストに含まれるガラスフリットが溶融し、多孔質のコア部材11の表面から拡散して、図2(b)に示したように、端子電極16A、16Bとコア部材11の界面、及び、コア部材11の表層の内部にガラス成分が拡散した部分11dが形成される。このとき、端子電極16A、16Bの膜厚は、概ね10〜50μmであり、ガラス成分が拡散した部分11dの深さ(拡散距離)は、概ね10μm以上であった。ここで、上記拡散距離は、端子電極16A、16Bの膜厚に対して概ね30%以上であった。これにより、電極形成領域におけるコア部材11と端子電極16A、16Bとの界面における結合が強固になって、両者が強固に接着される。   By such a terminal electrode formation method, the terminal electrodes 16A and 16B made of the above electrode material are formed, and the glass frit contained in the electrode paste is melted and diffused from the surface of the porous core member 11, As shown in FIG. 2B, a portion 11 d in which the glass component is diffused is formed at the interfaces between the terminal electrodes 16 </ b> A and 16 </ b> B and the core member 11 and inside the surface layer of the core member 11. At this time, the film thickness of the terminal electrodes 16A and 16B was approximately 10 to 50 μm, and the depth (diffusion distance) of the portion 11d where the glass component was diffused was approximately 10 μm or more. Here, the diffusion distance was approximately 30% or more with respect to the film thickness of the terminal electrodes 16A and 16B. Thereby, the coupling | bonding in the interface of the core member 11 and terminal electrode 16A, 16B in an electrode formation area becomes firm, and both are firmly adhere | attached.

(c)コイル導線巻回工程S103
次いで、コイル導線巻回工程S103においては、上記コア部材11の巻芯部11aに、被覆導線を所定回数巻回する。具体的には、上記コア部材11の巻芯部11aが露出するように、コア部材11の上鍔部11bを巻線装置のチャックに固定する。次いで、例えば直径0.1〜0.2mmの被覆導線を下鍔部11cの底面11Bに形成された端子電極16A、16B(又は、溝15A、15B)のいずれか一方側に仮固定した状態で切断してコイル導線12の一端側とする。その後、上記チャックを回転させて被覆導線を巻芯部11aに、例えば3.5〜15.5回巻回する。次いで、被覆導線を上記端子電極16A、16B(又は、溝15A、15B)の他方側に仮固定した状態で切断してコイル導線12の他端側とすることにより、巻芯部11aにコイル導線12が巻回されたコア部材11が形成される。コイル導線12の一端側及び他端側は、上述した端部13A、13Bに対応する。
(C) Coil conductor winding step S103
Next, in the coil conductor winding step S <b> 103, the coated conductor is wound a predetermined number of times around the core portion 11 a of the core member 11. Specifically, the upper collar portion 11b of the core member 11 is fixed to the chuck of the winding device so that the core portion 11a of the core member 11 is exposed. Next, for example, a covered conductive wire having a diameter of 0.1 to 0.2 mm is temporarily fixed to either one of the terminal electrodes 16A and 16B (or grooves 15A and 15B) formed on the bottom surface 11B of the lower collar portion 11c. Cut one end side of the coil conductor 12. Then, the said chuck | zipper is rotated and a covered conducting wire is wound around the core part 11a, for example 3.5 to 15.5 times. Next, the coated lead wire is cut in a state where it is temporarily fixed to the other side of the terminal electrodes 16A, 16B (or grooves 15A, 15B) to be the other end side of the coil lead wire 12, whereby the coil lead wire is connected to the winding core portion 11a. A core member 11 around which 12 is wound is formed. One end side and the other end side of the coil conducting wire 12 correspond to the end portions 13A and 13B described above.

(d)外装工程S104
次いで、外装工程S104においては、上記コア部材11の上鍔部11bと下鍔部11cとの間であって、巻芯部11aの周囲に巻回されたコイル導線12の外周に、所定の透磁率を有する磁性粉含有樹脂からなる外装樹脂部18が被覆形成される。具体的には、例えばコア部材11を構成する軟磁性合金粒子と同一の組成及び構造を有する磁性粉が含有された磁性粉含有樹脂のペーストをディスペンサーにより、コア部材11の上鍔部11b及び下鍔部11c間の領域に吐出して、コイル導線12の外周を被覆するように充填する。次いで、例えば150℃で1時間加熱して、磁性粉含有樹脂のペーストを硬化させることにより、コイル導線12の外周を被覆する外装樹脂部18が形成される。
(D) Exterior process S104
Next, in the exterior step S104, a predetermined transparent portion is formed on the outer periphery of the coil conductor 12 wound between the upper flange portion 11b and the lower flange portion 11c of the core member 11 and around the core portion 11a. An exterior resin portion 18 made of a magnetic powder-containing resin having magnetic susceptibility is coated. Specifically, for example, a paste of magnetic powder-containing resin containing magnetic powder having the same composition and structure as the soft magnetic alloy particles constituting the core member 11 is dispensed by the dispenser using the dispenser. It discharges to the area | region between the collar parts 11c, and it fills so that the outer periphery of the coil conducting wire 12 may be coat | covered. Next, for example, by heating at 150 ° C. for 1 hour to cure the paste of the magnetic powder-containing resin, the exterior resin portion 18 that covers the outer periphery of the coil conductor 12 is formed.

(e)コイル導線接合工程S105
次いで、コイル導線接合工程S105においては、まず、コア部材11に巻回されたコイル導線12の両端部13A、13Bの絶縁被覆14を剥離、除去する。具体的には、コア部材11に巻回されたコイル導線12の両端部13A、13Bに、被覆剥離溶剤を塗布することにより、あるいは、所定のエネルギーのレーザー光を照射することにより、コイル導線12の両端部13A、13B近傍の絶縁被覆14を形成する樹脂材料を溶解又は蒸発させて、完全に剥離、除去する。
(E) Coil conductor joining step S105
Next, in the coil conductor joining step S105, first, the insulating coatings 14 at both ends 13A and 13B of the coil conductor 12 wound around the core member 11 are peeled and removed. Specifically, the coil conductor 12 is applied by applying a coating stripping solvent to both end portions 13A and 13B of the coil conductor 12 wound around the core member 11 or by irradiating a laser beam with a predetermined energy. The resin material forming the insulating coating 14 in the vicinity of both end portions 13A and 13B is dissolved or evaporated to completely peel and remove.

次いで、絶縁被覆14が剥離されたコイル導線12の両端部13A、13Bを、各端子電極16A、16Bに半田接合して、導電接続する。具体的には、絶縁被覆14が剥離されたコイル導線12の両端部13A、13Bを含む各端子電極16A、16B上に、フラックスを含有する半田ペーストを、例えば孔版印刷法により塗布した後、240℃に加熱されたホットプレートにより加熱押圧して、半田を溶融、固着させることにより、コイル導線12の両端部13A、13Bが各端子電極16A、16Bに半田17A、17Bにより接合される。端子電極16A、16Bへのコイル導線12の半田接合後、フラックス残渣を除去する洗浄処理が行われる。   Next, both end portions 13A and 13B of the coil conductor 12 from which the insulating coating 14 has been peeled off are soldered to the terminal electrodes 16A and 16B for conductive connection. Specifically, after applying a solder paste containing flux on each terminal electrode 16A, 16B including both ends 13A, 13B of the coil conductor 12 from which the insulating coating 14 has been peeled off, for example, by stencil printing, 240 The two ends 13A and 13B of the coil conductor 12 are joined to the terminal electrodes 16A and 16B by the solders 17A and 17B by heating and pressing with a hot plate heated to 0 ° C. to melt and fix the solder. After soldering the coil conductor 12 to the terminal electrodes 16A and 16B, a cleaning process for removing the flux residue is performed.

<作用効果の検証>
次に、本発明に係る電子部品及びその製造方法における作用効果について説明する。
ここでは、本実施形態に係る電子部品及びその電極形成方法における作用効果を検証するために、比較対象として、電子部品の基体が周知のフェライトからなる場合を示す。なお、フェライトからなる基体を有する電子部品は、例えば、上述したインダクタ等をはじめとして、既に一般に市販されて種々の電子機器に搭載されているものであって、固着強度をはじめ、様々な信頼性試験において、市場の高い評価を受けているものである。
<Verification of effects>
Next, functions and effects of the electronic component and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described.
Here, in order to verify the operational effects of the electronic component and the electrode forming method according to the present embodiment, a case where the base of the electronic component is made of a well-known ferrite is shown as a comparison target. An electronic component having a base made of ferrite, for example, is already commercially available and mounted on various electronic devices including the above-described inductor and the like, and has various reliability including fixing strength. The test has been highly evaluated by the market.

図6は、本発明に係る電子部品の基体に適用される軟磁性合金粒子の集合体(成形体)とフェライトとにおける、ガラス成分の拡散に関する特性を示す図である。ここで、図6(a)は、本発明に係る基体と、フェライトからなる基体とにおける吸水率、密度(見かけ密度、真密度)、空孔率の違いを示す表であり、図6(b)は、本発明に係る基体と、フェライトからなる基体とにおける吸水率の違いを示す図である。また、図7は、本発明に係る基体と、フェライトからなる基体とにおける表面近傍の断面を示す模式図である。図7(a)は、本発明に係る基体における表面近傍の断面を示す模式図であり、図7(b)は、フェライトからなる基体における表面近傍の断面を示す模式図である。図8は、本発明に係る基体における表面近傍の断面を説明するための拡大模式図である。図8(a)は、本発明に係る基体におけるガラス成分の拡散前の状態を示す拡大模式図であり、図8(b)は、本発明に係る基体におけるガラス成分の拡散後の状態を示す拡大模式図である。図9は、上述した実施形態に係る巻線型インダクタにおいて、端子電極を形成した際のガラス成分の拡散状態を説明するための拡大模式図である。ここで、図9においては、図示の都合上、コア部材11の上面側に端子電極16A、16B(以下、便宜的に、「端子電極16」と総称する)が形成されている場合の断面構造を示す。   FIG. 6 is a diagram showing characteristics relating to diffusion of glass components in an aggregate (molded body) of soft magnetic alloy particles applied to the base of the electronic component according to the present invention and ferrite. Here, FIG. 6A is a table showing the difference in water absorption, density (apparent density, true density), and porosity between the substrate according to the present invention and the substrate made of ferrite, and FIG. ) Is a diagram showing a difference in water absorption between a base according to the present invention and a base made of ferrite. FIG. 7 is a schematic diagram showing a cross section in the vicinity of the surface of a base according to the present invention and a base made of ferrite. FIG. 7A is a schematic diagram showing a cross section near the surface of the substrate according to the present invention, and FIG. 7B is a schematic diagram showing a cross section near the surface of the substrate made of ferrite. FIG. 8 is an enlarged schematic view for explaining a cross section in the vicinity of the surface of the substrate according to the present invention. FIG. 8A is an enlarged schematic view showing a state before diffusion of the glass component in the substrate according to the present invention, and FIG. 8B shows a state after diffusion of the glass component in the substrate according to the present invention. It is an enlarged schematic diagram. FIG. 9 is an enlarged schematic diagram for explaining the diffusion state of the glass component when the terminal electrode is formed in the wound inductor according to the embodiment described above. Here, in FIG. 9, for convenience of illustration, a cross-sectional structure in which terminal electrodes 16 </ b> A and 16 </ b> B (hereinafter collectively referred to as “terminal electrode 16” for convenience) are formed on the upper surface side of the core member 11. Indicates.

上述したように、本発明に係る電子部品の基体に適用される軟磁性合金粒子の集合体(成形体)は多孔質であるため、図6(a)、(b)に示すように、緻密な結晶構造を有する周知のフェライトと比較して、吸水率や空孔率が高い。具体的には、本発明に係る基体においては、真密度が7.6g/cmの基体が見かけ密度6.2g/cmのとき、吸水率が2%、空孔率が18.4%と高い値を示す。これに対して、フェライトからなる基体においては、真密度が5.35g/cmの基体が見かけ密度5.34g/cmのとき、吸水率が0.2%、空孔率が0.2%と、本実施形態に係る基体に比較して概ね1/10以下の低い値を示す。この状態を図7、図8に示す。 As described above, since the aggregate (molded body) of soft magnetic alloy particles applied to the substrate of the electronic component according to the present invention is porous, as shown in FIGS. Compared with known ferrite having a simple crystal structure, it has a high water absorption rate and porosity. Specifically, in the substrate according to the present invention, when the substrate having a true density of 7.6 g / cm 3 has an apparent density of 6.2 g / cm 3 , the water absorption is 2% and the porosity is 18.4%. And high values. In contrast, in the substrate made of a ferrite, when true density of the density 5.34 g / cm 3 apparent substrate 5.35 g / cm 3, water absorption of 0.2%, a porosity of 0.2 %, A low value of about 1/10 or less compared to the substrate according to the present embodiment. This state is shown in FIGS.

すなわち、図7(a)、図8(a)に示すように、本発明に係る基体においては、軟磁性合金粒子の表面に酸化層が形成され、該酸化層を介して軟磁性合金粒子同士が結合した構造を有しているため、基体表面から内部にかけて略同様に、軟磁性合金粒子間に比較的大きな空孔部分が存在する。これに対して、図7(b)に示すように、周知のフェライトからなる基体においては、緻密な結晶構造を有しているため、基体内部には空孔部分が略皆無の状態になっている。 That is, as shown in FIG. 7 (a), FIG. 8 (a), the in substrate according to the present invention, oxide layer on the surface of the soft magnetic alloy particles are formed, soft magnetic alloy grains through the oxide layer Therefore, there is a relatively large void portion between the soft magnetic alloy particles from the base surface to the inside. On the other hand, as shown in FIG. 7 (b), the base made of known ferrite has a dense crystal structure, so that there are almost no voids inside the base. Yes.

上述した実施形態においては、このような多孔質の基体に対して、ガラスフリットの含有率が概ね10wt%以上含まれた電極ペーストを塗布、乾燥し、所定の条件で焼付処理を施すことにより、図8(a)、(b)に示すように、基体内部の軟磁性合金粒子間の空孔部分に、ガラス成分が拡散して充填され、少なくとも基体の表面又は表層における多孔質性が改善される。   In the above-described embodiment, by applying an electrode paste containing a glass frit content of approximately 10 wt% or more to such a porous substrate, drying, and performing a baking treatment under predetermined conditions, As shown in FIGS. 8 (a) and 8 (b), glass components are diffused and filled in the pores between the soft magnetic alloy particles inside the substrate, and at least the porosity on the surface or surface layer of the substrate is improved. The

具体的には、上述した実施形態に示した巻線型インダクタ10において、例えば粒度6〜23μmの金属粉を成形(例えば6.0〜6.6g/cm→理論空孔率22〜13%)、研削、焼成してドラム型のコア部材11を製造する。次いで、当該コア部材11の下鍔部11cの電極形成領域に、ガラスフリットを10〜30wt%の含有率で含む銅(Cu)からなる電極ペーストを塗布、乾燥し、600〜1050℃の温度で焼付処理して端子電極16を形成する。次いで、巻芯部11aに被覆導線からなるコイル導線12を巻回した後、磁性粉含有樹脂からなる外装樹脂部18を被覆形成し、次いで、端子電極16とコイル導線12を半田接続することにより、巻線型インダクタ10を製造した。 Specifically, in the wound inductor 10 shown in the above-described embodiment, for example, metal powder having a particle size of 6 to 23 μm is formed (for example, 6.0 to 6.6 g / cm 3 → theoretical porosity 22 to 13%). The drum-shaped core member 11 is manufactured by grinding and firing. Next, an electrode paste made of copper (Cu) containing glass frit at a content of 10 to 30 wt% is applied to the electrode forming region of the lower flange portion 11c of the core member 11 and dried at a temperature of 600 to 1050 ° C. The terminal electrode 16 is formed by baking treatment. Next, after winding the coil lead wire 12 made of the coated lead wire around the winding core portion 11a, the exterior resin portion 18 made of a magnetic powder-containing resin is coated, and then the terminal electrode 16 and the coil lead wire 12 are connected by soldering. A wound inductor 10 was manufactured.

ここで、端子電極形成工程において、上述したように、ガラスフリットを所定の含有率で含む電極ペーストを塗布し、所定の条件で焼付処理を行うことにより、図9に示すように、ガラス成分16gが液相の状態でコア部材11を構成する金属粉(軟磁性合金粒子)11p間に拡散して充填される。このときのガラス成分16gが拡散した部分11dの拡散距離Dは、コア部材11の表面(端子電極16との界面)から概ね10μm以上であった。また、このときの端子電極16の膜厚は、概ね10〜50μmであり、上記拡散距離Dは、端子電極16の膜厚に対して概ね30%以上であった。   Here, in the terminal electrode forming step, as described above, by applying an electrode paste containing glass frit at a predetermined content and performing a baking treatment under predetermined conditions, as shown in FIG. Is diffused and filled between metal powders (soft magnetic alloy particles) 11p constituting the core member 11 in a liquid phase state. The diffusion distance D of the portion 11d where the glass component 16g was diffused at this time was approximately 10 μm or more from the surface of the core member 11 (interface with the terminal electrode 16). Further, the film thickness of the terminal electrode 16 at this time was approximately 10 to 50 μm, and the diffusion distance D was approximately 30% or more with respect to the film thickness of the terminal electrode 16.

次に、上述した具体例に示した巻線型インダクタにおいて、端子電極の固着強度について詳しく検証する。
(検証例1)
図10は、本発明に係る電子部品の製造方法を適用した場合における、焼付処理条件と電極の固着強度との関係を示す実験結果である。図10(a)は、焼付温度に対する電極の半田接合性の評価結果を示す表であり、図10(b)は、焼付温度及びガラスフリット添加量に対する電極の固着強度との関係を示す実験結果である。図11は、巻線型インダクタの剥離強度試験(固着強度試験)の方法を説明するための図である。
Next, in the wire-wound inductor shown in the specific example described above, the terminal electrode fixing strength will be verified in detail.
(Verification example 1)
FIG. 10 shows the experimental results showing the relationship between the baking treatment conditions and the electrode fixing strength when the electronic component manufacturing method according to the present invention is applied. FIG. 10A is a table showing the evaluation result of the solder joint property of the electrode with respect to the baking temperature, and FIG. 10B is an experimental result showing the relationship between the baking temperature and the fixing strength of the electrode with respect to the glass frit addition amount. It is. FIG. 11 is a diagram for explaining a method of a peel strength test (adhesion strength test) of a wound inductor.

まず、端子電極形成工程において実行される焼付処理の、焼付温度と端子電極の半田接合性について検証する。上述した製造方法に示した端子電極形成工程において、コア部材11の表面に所定の電極ペーストを塗布した後に実行される焼付処理の温度(焼成温度)と、当該焼付処理により形成される端子電極16表面の半田接合性との関係は、図10(a)に示される。ここで、図10(a)に示した半田接合性の評価結果は、電極材料として銅(Cu)を用い、焼付温度を650〜900℃の範囲で50℃ごとに異ならせて形成した各端子電極において、電極表面における半田の接着強度が所定の基準値を満たしているか否かを評価したものである。   First, the baking temperature and the solderability of the terminal electrode in the baking process executed in the terminal electrode forming step will be verified. In the terminal electrode formation step shown in the manufacturing method described above, the temperature (baking temperature) of the baking process performed after applying a predetermined electrode paste to the surface of the core member 11 and the terminal electrode 16 formed by the baking process. The relationship with the surface solder jointability is shown in FIG. Here, the evaluation result of the solder bonding property shown in FIG. 10A is that each terminal formed by using copper (Cu) as the electrode material and varying the baking temperature every 50 ° C. within the range of 650 to 900 ° C. In the electrode, it is evaluated whether or not the adhesive strength of the solder on the electrode surface satisfies a predetermined reference value.

図10(a)に示すように、この評価結果によれば、焼付温度を650℃に設定した場合には、端子電極を形成する銅の結晶化が不十分で緻密性に欠け、半田接合時に半田ペーストが端子電極の銅粒子間に浸み込んでしまい電極表面に均一に濡れ広がらず、一定の外観基準を満たさない。この結果は、銅電極の緻密性によるものであり、ガラスフリット添加量には依存しないことが確認されている。一方、焼付温度を700℃以上に設定した場合には、端子電極を形成する銅の結晶化が十分進行して、上述したようなはんだ濡れの異常は生じないことが確認された。このことから、上述した具体例に示したように、電極材料として銅を適用した場合、焼付処理における焼付温度を概ね700℃以上に設定することにより、半田ペーストが端子電極の表面に均一に濡れ広がり、半田接合時の外観基準を満たし、良好な半田接合性が得られることが判明した。   As shown in FIG. 10 (a), according to this evaluation result, when the baking temperature is set to 650 ° C., the crystallization of copper forming the terminal electrode is insufficient and the denseness is insufficient. The solder paste soaks between the copper particles of the terminal electrode and does not spread evenly on the electrode surface and does not meet certain appearance standards. This result is due to the denseness of the copper electrode, and it has been confirmed that it does not depend on the amount of glass frit added. On the other hand, when the baking temperature was set to 700 ° C. or higher, it was confirmed that the crystallization of copper forming the terminal electrode was sufficiently advanced and the above-described abnormality of solder wetting did not occur. From this, as shown in the specific examples described above, when copper is applied as the electrode material, the solder paste is uniformly wetted on the surface of the terminal electrode by setting the baking temperature in the baking process to approximately 700 ° C. or higher. It has been found that it spreads, satisfies the appearance standard at the time of soldering, and provides good solderability.

次いで、上述した端子電極の半田接合性の評価結果に基づいて、概ね700℃以上の温度で焼付処理を行った場合の、端子電極の固着強度について検証する。端子電極形成工程における焼付処理の温度と、ペースト中へのガラスフリット添加量、及び、端子電極の固着強度との関係は、図10(b)に示される。   Next, based on the evaluation result of the solderability of the terminal electrode described above, the fixing strength of the terminal electrode when the baking process is performed at a temperature of approximately 700 ° C. or higher is verified. The relationship between the baking temperature in the terminal electrode formation step, the glass frit addition amount in the paste, and the fixing strength of the terminal electrode is shown in FIG.

ここで、端子電極16の固着強度は、概ね、以下のような方法により測定した。まず、上述した製造方法により製造された巻線型インダクタ10、もしくは、端子電極16が形成されたコア部材11を、図4に示したように、回路基板20上の実装ランド22に端子電極16を半田接合することにより実装する。そして、コア部材11が実装された回路基板20に対して、図11に示すように、コア部材11の側面(図面左方)から回路基板20の上面と平行に矢印方向に剥離強度試験装置の治具で加圧して、その剥離強度を測定し、これを電極の固着強度として評価を行った。ここでは、一般的な電子機器において、回路基板上に実装される種々の電子部品の剥離強度(固着強度)として規定されている10kgfを基準(下限値)として、この10kgf以上の強度で良好な実装が実現されるものと規定した。   Here, the fixing strength of the terminal electrode 16 was generally measured by the following method. First, the wound inductor 10 manufactured by the above-described manufacturing method or the core member 11 on which the terminal electrode 16 is formed, the terminal electrode 16 is mounted on the mounting land 22 on the circuit board 20 as shown in FIG. Mounting by soldering. Then, with respect to the circuit board 20 on which the core member 11 is mounted, as shown in FIG. 11, the peel strength test apparatus is parallel to the upper surface of the circuit board 20 from the side surface (left side of the drawing) of the core member 11. The peel strength was measured by applying pressure with a jig, and this was evaluated as the fixing strength of the electrode. Here, in a general electronic device, 10 kgf defined as the peel strength (adhesion strength) of various electronic components mounted on a circuit board is used as a reference (lower limit), and the strength of 10 kgf or more is good. It was defined that the implementation would be realized.

図10(b)に示すように、この実験結果によれば、上述した具体例に示したように、電極材料として銅を用い、10wt%以上の含有率(図中では添加量と表記)でガラスフリットを含む電極ペーストを適用した場合、焼付処理における焼付温度を700℃以上に設定することにより、良好な固着強度(10kgf以上)が得られることが判明した。また、図10(b)に示した実験結果によれば、焼付処理の温度が700〜900℃の範囲においては、当該焼付温度を高くするほど、固着強度が向上する傾向が得られ、また、焼付温度900℃においては、5wt%のガラスフリット含有率でも良好な固着強度(18kgf)が得られることが確認された。なお、図中では、当該範囲の固着強度データを明示するために、便宜的にハッチングを施して示した。   As shown in FIG. 10 (b), according to this experimental result, as shown in the above-described specific example, copper is used as the electrode material, and the content is 10 wt% or more (indicated as the amount of addition in the figure). It has been found that when an electrode paste containing glass frit is applied, a good fixing strength (10 kgf or more) can be obtained by setting the baking temperature in the baking treatment to 700 ° C. or higher. Further, according to the experimental results shown in FIG. 10 (b), when the baking temperature is in the range of 700 to 900 ° C., the higher the baking temperature, the higher the fixing strength tends to be obtained. At a baking temperature of 900 ° C., it was confirmed that good fixing strength (18 kgf) could be obtained even with a glass frit content of 5 wt%. In the drawing, hatching is shown for convenience in order to clearly show the adhesion strength data in the range.

(検証例2)
上述した検証例1においては、電極材料として銅を用い、焼付温度に対するガラスフリット添加量及び固着強度の関係について説明した。次に、ガラスフリットの含有率と、焼付温度及び拡散距離との関係について検証する。
(Verification example 2)
In Verification Example 1 described above, copper was used as the electrode material, and the relationship between the glass frit addition amount and the fixing strength with respect to the baking temperature was described. Next, the relationship between the glass frit content, the baking temperature, and the diffusion distance will be verified.

図12は、本発明に係る電子部品の製造方法を適用した場合における、電極ペーストの成分とガラスフリットの拡散距離との関係を示す実験結果である。図12(a)は、電極ペーストに含まれるガラスフリットの含有率(添加量)と各焼付温度における電極中のガラスフリットの拡散距離との関係を示す実験結果である。ここで、図12(a)に示した実験結果は、電極材料として銅(Cu)を用い、ガラスフリットの含有率を3〜30wt%の範囲で任意に異ならせた電極ペーストを焼付処理して端子電極を形成した場合の、端子電極からの、ガラスフリットの拡散距離に関する実測データである。なお、図中では、図10(b)に示した、良好な固着強度が得られる範囲に対応する拡散距離データについて、便宜的にハッチングを施して示した。   FIG. 12 shows the experimental results showing the relationship between the components of the electrode paste and the diffusion distance of the glass frit when the electronic component manufacturing method according to the present invention is applied. FIG. 12A shows the experimental results showing the relationship between the content (addition amount) of the glass frit contained in the electrode paste and the diffusion distance of the glass frit in the electrode at each baking temperature. Here, the experimental results shown in FIG. 12 (a) are obtained by baking an electrode paste using copper (Cu) as an electrode material and arbitrarily varying the glass frit content in a range of 3 to 30 wt%. It is the measurement data regarding the diffusion distance of the glass frit from a terminal electrode at the time of forming a terminal electrode. In the drawing, the diffusion distance data corresponding to the range in which the good fixing strength shown in FIG. 10B is obtained is hatched for convenience.

ここで、コア部材11内部へのガラスフリット(ガラス成分)の拡散距離は、概ね、以下のような方法により測定した。まず、図9に示したように、ガラス成分が拡散した部分(図2(b)の11dに相当する)の基体について、倍率1000〜5000倍で写真を10枚撮影する。次いで、撮影された各写真について、基体表面(コア部材と端子電極との界面)からガラス成分の拡散した最大及び最小の距離を測定し、その中点となる距離を算出する。次いで、撮影された10枚の写真について、算出された上記各中点の距離を平均して、当該平均値を拡散距離Dと規定した。   Here, the diffusion distance of the glass frit (glass component) into the core member 11 was generally measured by the following method. First, as shown in FIG. 9, ten photographs are taken at a magnification of 1000 to 5000 times on the substrate where the glass component is diffused (corresponding to 11d in FIG. 2B). Next, for each photograph taken, the maximum and minimum distances at which the glass component diffuses from the substrate surface (interface between the core member and the terminal electrode) are measured, and the distance serving as the midpoint is calculated. Next, for the 10 photographs taken, the calculated distances of the respective midpoints were averaged, and the average value was defined as the diffusion distance D.

上述した検証例1において、図10(b)に示したように、ガラスフリットの含有率を3wt%、5wt%に設定した場合には、ペーストから供給される当該ガラスフリットの大半が多孔質のコア部材11の内部に拡散してしまい、端子電極との界面(コア部材11の表面)にほとんど残留しないため、十分な固着強度が得られないことが確認された。但し、5wt%とした場合において、焼付温度が高い場合(図では900℃)には、ペーストからのガラスフリットの供給が促進され、十分な固着強度が得られることが確認された。   In the verification example 1 described above, as shown in FIG. 10B, when the glass frit content is set to 3 wt% and 5 wt%, most of the glass frit supplied from the paste is porous. Since it diffused inside the core member 11 and hardly remained at the interface with the terminal electrode (surface of the core member 11), it was confirmed that sufficient fixing strength could not be obtained. However, when the baking temperature was 5 wt%, when the baking temperature was high (900 ° C. in the figure), it was confirmed that the supply of glass frit from the paste was promoted and sufficient fixing strength was obtained.

一方、ガラスフリットの含有率を10wt%以上に設定した場合には、ガラスフリットが多孔質のコア部材11の内部に拡散するとともに、コア部材11の表面(端子電極との界面)にも十分な量のガラスフリットが残留するため、10kgf以上の十分な固着強度が得られることが確認された。このことから、上述した具体例に示したように、電極材料として銅を適用した場合、焼付温度を高く設定した条件下ではガラスフリットの含有率を概ね5wt%以上とすることもできるが、好ましくは、10wt%以上に設定することにより、図10(b)に示すように、フェライトを基体とした場合の固着強度(概ね22〜28kgf)に近似する程度の、良好な固着強度が得られることが判明した。   On the other hand, when the glass frit content is set to 10 wt% or more, the glass frit diffuses into the porous core member 11 and is sufficient on the surface of the core member 11 (interface with the terminal electrode). Since an amount of glass frit remained, it was confirmed that a sufficient fixing strength of 10 kgf or more can be obtained. From this, as shown in the specific examples described above, when copper is applied as the electrode material, the glass frit content can be set to approximately 5 wt% or more under conditions where the baking temperature is set high, but preferably Is set to 10 wt% or more, as shown in FIG. 10 (b), it is possible to obtain a good fixing strength that approximates the fixing strength (generally 22 to 28 kgf) when a ferrite is used as a base. There was found.

そして、このような固着強度特性を有する巻線型インダクタにおいて、電極ペーストに含まれるガラスフリットの含有率(添加量)と電極中のガラスフリットの拡散距離との関係について検証した実験結果によれば、図12(a)に示すように、ガラスフリットの拡散距離Dは、ガラスフリットの含有率が10wt%の場合には15μm以上、また、ガラスフリットの含有率が15wt%以上の場合には20μm以上であることが確認された。また、図12(a)に示した実験結果によれば、電極ペーストに含まれるガラスフリットの含有率を高くするほど、ガラスフリットの拡散距離Dが概ね大きくなる傾向が得られた。また、ガラスフリットの含有率が3wt%、5wt%の場合には、ガラスフリットの拡散距離Dが10μm未満(概ね数μm程度)となることが確認された。但し、ガラスフリットの含有率が5wt%の場合でも焼付温度900℃においては、ガラスフリットの拡散距離Dが10μm以上となることが確認された。このような実験結果により、電極中のガラスフリットの拡散距離が概ね10μm以上のときに、良好な固着強度(10kgf以上)が得られることが判明した。ここで、ガラスフリットの拡散距離は、コア部材の電気特性等に影響を与えない範囲であれば、特に上限値を限定するものではない。なお、本実験結果において、検出限界以下のデータについては、図中に「ND」と表記した。また、比較対象となるフェライトを基体とした場合においては、緻密な結晶構造を有しているため、基体内部にガラスフリットが拡散されず、拡散距離Dは検出限界以下であった。   And, in the wound inductor having such a fixing strength characteristic, according to the experimental results verified about the relationship between the glass frit content (addition amount) contained in the electrode paste and the diffusion distance of the glass frit in the electrode, As shown in FIG. 12 (a), the diffusion distance D of the glass frit is 15 μm or more when the glass frit content is 10 wt%, and is 20 μm or more when the glass frit content is 15 wt% or more. It was confirmed that. Further, according to the experimental results shown in FIG. 12A, there is a tendency that the diffusion distance D of the glass frit generally increases as the content of the glass frit contained in the electrode paste is increased. It was also confirmed that when the glass frit content was 3 wt% and 5 wt%, the glass frit diffusion distance D was less than 10 μm (approximately several μm). However, even when the glass frit content was 5 wt%, it was confirmed that the glass frit diffusion distance D was 10 μm or more at a baking temperature of 900 ° C. From these experimental results, it has been found that good fixing strength (10 kgf or more) can be obtained when the diffusion distance of the glass frit in the electrode is approximately 10 μm or more. Here, the diffusion distance of the glass frit is not particularly limited as long as it does not affect the electrical characteristics of the core member. In this experimental result, data below the detection limit is indicated as “ND” in the figure. Further, when the ferrite to be compared was used as a substrate, the glass frit was not diffused inside the substrate because it had a dense crystal structure, and the diffusion distance D was below the detection limit.

また、図12(b)は、電極ペーストに含まれるガラスフリットの含有率と電極膜厚に対するガラスフリットの拡散距離の割合との関係を示す計算結果である。ここで、図12(b)に示した計算結果は、上述した場合と同様に、電極材料として銅(Cu)を用い、ガラスフリットの含有率を3〜30wt%の範囲で任意に異ならせた電極ペーストを焼付処理して、電極膜厚38±2μmの端子電極を形成した場合の、当該電極膜厚に対するガラスフリットの拡散距離(図12(a)に示した実測データ)の割合を示す計算データである。なお、図中では、図10(b)に示した、良好な固着強度が得られる範囲に対応する計算データについて、便宜的にハッチングを施して示した。   FIG. 12B is a calculation result showing the relationship between the content of the glass frit contained in the electrode paste and the ratio of the diffusion distance of the glass frit to the electrode film thickness. Here, the calculation results shown in FIG. 12B were obtained by using copper (Cu) as the electrode material and arbitrarily varying the glass frit content in the range of 3 to 30 wt%, as in the case described above. Calculation showing the ratio of the diffusion distance of glass frit (measured data shown in FIG. 12A) to the electrode film thickness when the electrode paste is baked to form a terminal electrode having an electrode film thickness of 38 ± 2 μm. It is data. In the figure, the calculation data corresponding to the range in which good adhesion strength shown in FIG. 10B is obtained is hatched for convenience.

図12(b)に示すように、この計算結果によれば、電極膜厚に対するガラスフリットの拡散距離の割合は、ガラスフリットの含有率が10wt%以上の場合には38%以上であることが確認された。また、図12(b)に示した計算結果によれば、電極ペーストに含まれるガラスフリットの含有率を高くするほど、電極膜厚に対するガラスフリットの拡散距離の割合が概ね大きくなる傾向が得られた。また、ガラスフリットの含有率が3wt%、5wt%の場合には、電極膜厚に対するガラスフリットの拡散距離の割合が概ね20%以下となることが確認された。但し、ガラスフリットの含有率が5wt%の場合でも焼付温度900℃においては、電極膜厚に対するガラスフリットの拡散距離の割合が30%となることが確認された。このような計算結果により、電極膜厚に対するガラスフリットの拡散距離の割合が概ね30%以上のときに、良好な固着強度(10kgf以上)が得られることが判明した。   As shown in FIG. 12B, according to this calculation result, the ratio of the diffusion distance of the glass frit to the electrode film thickness is 38% or more when the glass frit content is 10 wt% or more. confirmed. Further, according to the calculation result shown in FIG. 12B, the ratio of the diffusion distance of the glass frit to the electrode film thickness tends to increase as the content of the glass frit contained in the electrode paste increases. It was. In addition, when the glass frit content was 3 wt% and 5 wt%, it was confirmed that the ratio of the diffusion distance of the glass frit to the electrode film thickness was approximately 20% or less. However, even when the glass frit content was 5 wt%, it was confirmed that at the baking temperature of 900 ° C., the ratio of the diffusion distance of the glass frit to the electrode film thickness was 30%. From such a calculation result, it has been found that when the ratio of the diffusion distance of the glass frit to the electrode film thickness is approximately 30% or more, good fixing strength (10 kgf or more) can be obtained.

このように、上述した実施形態に係る電子部品及びその製造方法によれば、所定量のガラスフリットを含む電極ペーストを所定の条件で焼付処理して端子電極16を形成することにより、ガラス成分が多孔質のコア部材11の表面から所定の深さまで拡散するとともに、コア部材11の表面にも十分な量のガラスフリットが残留するため、基体であるコア部材11と端子電極16とが強固に結合して、十分な固着強度が得られる。これにより、多孔質の基体に電極を形成する場合であっても、基体と電極の接合性や密着性が低下することを抑制することができるので、概ねフェライトを基体に適用した場合と同程度の固着強度を実現することができ、このような電子部品を搭載した電子機器における信頼性の向上に寄与することができる。   Thus, according to the electronic component and the manufacturing method thereof according to the above-described embodiment, the glass paste is formed by baking the electrode paste containing a predetermined amount of glass frit under predetermined conditions to form the terminal electrode 16. While diffusing from the surface of the porous core member 11 to a predetermined depth and a sufficient amount of glass frit remaining on the surface of the core member 11, the core member 11 as the base and the terminal electrode 16 are firmly bonded. Thus, sufficient fixing strength can be obtained. As a result, even when an electrode is formed on a porous substrate, it is possible to suppress a decrease in the bondability and adhesion between the substrate and the electrode, so that it is approximately the same as when ferrite is applied to the substrate. Can be achieved, and can contribute to the improvement of reliability in an electronic device equipped with such an electronic component.

<第2の実施形態>
次に、本発明に係る電子部品及びその製造方法の第2の実施形態について説明する。
上述した第1の実施形態においては、所定量のガラスフリットを含む電極ペーストを焼付処理して、基体であるコア部材の内部にガラス成分を拡散させるとともに、コア部材表面に電極材料からなる端子電極を形成する場合について説明した。第2の実施形態においては、端子電極が2層以上の電極層により形成された構成を有している。
<Second Embodiment>
Next, a second embodiment of the electronic component and the manufacturing method thereof according to the present invention will be described.
In the first embodiment described above, an electrode paste containing a predetermined amount of glass frit is baked to diffuse the glass component into the core member, which is the base, and the terminal electrode is made of an electrode material on the core member surface. The case of forming is described. In the second embodiment, the terminal electrode has a configuration in which two or more electrode layers are formed.

図13は、第2の実施形態に係る電子部品に適用される端子電極の構造例を示す要部断面の模式図である。また、図14は、本実施形態に係る端子電極の構造例におけるガラス成分の拡散状態を説明するための拡大模式図である。ここで、図13、図14においては、図示の都合上、コア部材11の上面側に端子電極16が形成されている場合の断面構造を示す。   FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of an essential part showing a structural example of a terminal electrode applied to an electronic component according to the second embodiment. FIG. 14 is an enlarged schematic view for explaining the diffusion state of the glass component in the structural example of the terminal electrode according to the present embodiment. Here, in FIG. 13 and FIG. 14, for convenience of illustration, a cross-sectional structure in the case where the terminal electrode 16 is formed on the upper surface side of the core member 11 is shown.

第2の実施形態に係る電子部品においては、例えば図13の模式図に示すように、多孔質のコア部材11の電極形成領域に、第1の電極層16xと第2の電極層16yとからなる積層構造を有する端子電極16が設けられている。下層側の第1の電極層16xは、上述した第1の実施形態と同様に、所定量のガラスフリットを含む第1の電極ペーストを焼付処理することにより形成される焼付電極であり、内部にガラスフリットの残留物や空孔部分が存在して、比較的不均一な焼結状態を有している。この第1の電極層16xがコア部材11に接する界面(すなわち、コア部材11の表面)からコア部材11の内部方向(図面下方向)には、第1の電極層16xを形成する際に用いられる第1の電極ペーストに含まれるガラスフリットに起因するガラス成分が、所定の深さで拡散した部分11dが形成されている。ここで、ガラス成分がコア部材11の内部方向に拡散している深さ(拡散距離)は、上述した第1の実施形態と同様に概ね10μm以上であることが好ましい。また、上層側の第2の電極層16yは、電極材料のみからなりガラスフリットが含まれていない第2の電極ペーストを焼付処理することにより形成される焼付電極であり、結晶化が十分進行して、上述した第1の電極層16xに比較して緻密な結晶状態を有している。なお、第2の電極層16yは、ガラスフリットが含まれていない電極ペーストを焼付処理して形成されるものであることが好ましいが、極微量のガラスフリットを含む電極ペーストを焼付処理したものであってもよい。   In the electronic component according to the second embodiment, for example, as shown in the schematic diagram of FIG. 13, the electrode forming region of the porous core member 11 includes the first electrode layer 16 x and the second electrode layer 16 y. A terminal electrode 16 having a laminated structure is provided. The first electrode layer 16x on the lower layer side is a baked electrode formed by baking a first electrode paste containing a predetermined amount of glass frit, as in the first embodiment described above. There are glass frit residues and voids, and it has a relatively non-uniform sintered state. This first electrode layer 16x is used when forming the first electrode layer 16x from the interface (that is, the surface of the core member 11) in contact with the core member 11 to the inner direction of the core member 11 (downward in the drawing). A portion 11d in which a glass component caused by glass frit contained in the first electrode paste is diffused at a predetermined depth is formed. Here, it is preferable that the depth (diffusion distance) in which the glass component is diffused in the inner direction of the core member 11 is approximately 10 μm or more as in the first embodiment described above. The second electrode layer 16y on the upper layer side is a baked electrode formed by baking a second electrode paste made of only an electrode material and not containing glass frit, and crystallization proceeds sufficiently. Thus, it has a dense crystal state as compared with the first electrode layer 16x described above. The second electrode layer 16y is preferably formed by baking an electrode paste containing no glass frit, but is formed by baking an electrode paste containing a very small amount of glass frit. There may be.

このような構造を有する端子電極は、上述した第1の実施形態に示した端子電極形成工程において、概ね以下のような手順で形成される。
すなわち、上述した端子電極形成工程S102において、まず、コア部材11の電極形成領域に、銅(Cu)等の電極材料に、概ね10wt%以上の含有率のガラスフリットが含まれた第1の電極ペーストを塗布する。次いで、第1の電極ペーストの乾燥後、当該第1の電極ペースト上に、ガラスフリットを含まない第2の電極ペーストを塗布する。次いで、第2の電極ペーストの乾燥後、コア部材11を700℃以上の温度で焼付処理をして、電極層16xと電極層16yが積層された2層構造からなる端子電極16を形成する。
The terminal electrode having such a structure is generally formed by the following procedure in the terminal electrode forming step shown in the first embodiment described above.
That is, in the terminal electrode formation step S102 described above, first, the first electrode in which the electrode forming region of the core member 11 includes a glass frit having a content of approximately 10 wt% or more in an electrode material such as copper (Cu). Apply paste. Next, after drying the first electrode paste, a second electrode paste not containing glass frit is applied onto the first electrode paste. Next, after drying the second electrode paste, the core member 11 is baked at a temperature of 700 ° C. or higher to form the terminal electrode 16 having a two-layer structure in which the electrode layer 16x and the electrode layer 16y are laminated.

このような端子電極形成方法により、上記の電極材料からなる端子電極16がコア部材の上面に形成されるとともに、第1の電極ペーストに含まれるガラスフリットが多孔質のコア部材11の表面から拡散して、図14に示すように、端子電極16(第1の電極層16x)とコア部材11の界面、及び、コア部材11の表層の内部にガラス成分16gが拡散した部分11dが形成される。このとき、ガラス成分16gの拡散距離D(ガラス成分16gが拡散した部分11dの深さ)は、上述した第1の実施形態と同様に、概ね10μm以上であった。これにより、電極形成領域におけるコア部材11と端子電極16との界面における結合が強固になって、両者が強固に接着される。   By such a terminal electrode forming method, the terminal electrode 16 made of the above electrode material is formed on the upper surface of the core member, and the glass frit contained in the first electrode paste is diffused from the surface of the porous core member 11. Then, as shown in FIG. 14, a portion 11 d in which the glass component 16 g is diffused is formed in the interface between the terminal electrode 16 (first electrode layer 16 x) and the core member 11 and in the surface layer of the core member 11. . At this time, the diffusion distance D of the glass component 16g (the depth of the portion 11d in which the glass component 16g diffused) was approximately 10 μm or more, as in the first embodiment described above. Thereby, the coupling | bonding in the interface of the core member 11 and the terminal electrode 16 in an electrode formation area becomes firm, and both are firmly adhere | attached.

また、第1の電極層16xとなる第1の電極ペーストと、第2の電極層16yとなる第2の電極ペーストを重ねて塗布した後、一括して焼付処理(一括焼成)することにより、端子電極16を形成しているので、第1の電極層16xと第2の電極層16yとの間の結晶化が進行して両者が強固に結合され、略一体の電極層からなる端子電極16が形成される。このとき、図14の模式図に示すように、第1の電極層16xの内部には、ガラスフリットの残留物や空孔部分が存在して、比較的不均一な焼結状態を有している。これに対して、第2の電極層16yは、電極材料のみからなる第2の電極ペーストを焼付処理することにより形成されるので、端子電極16(第2の電極層16y)を形成する銅等の結晶化が十分進行して、第1の電極層16xよりも緻密な結晶状態を有している。これにより、コア部材11の表面に形成される第1の電極層16xの結晶状態が比較的不均一で、半田接合時に半田ペーストが端子電極の銅粒子間に浸み込んでしまい電極表面に均一に濡れ広がらず、一定の外観基準を満たさない場合であっても、上層の第2の電極層16yの結晶状態が緻密であるため、外観基準を満たすことができる。   In addition, after the first electrode paste to be the first electrode layer 16x and the second electrode paste to be the second electrode layer 16y are applied in an overlapping manner, a baking process (batch firing) is performed collectively. Since the terminal electrode 16 is formed, the crystallization between the first electrode layer 16x and the second electrode layer 16y proceeds and the two are firmly coupled to each other, and the terminal electrode 16 made of a substantially integral electrode layer. Is formed. At this time, as shown in the schematic diagram of FIG. 14, there are glass frit residues and pores in the first electrode layer 16 x, and a relatively non-uniform sintered state exists. Yes. On the other hand, since the second electrode layer 16y is formed by baking the second electrode paste made of only the electrode material, the copper or the like that forms the terminal electrode 16 (second electrode layer 16y) Has sufficiently progressed, and has a finer crystalline state than the first electrode layer 16x. As a result, the crystal state of the first electrode layer 16x formed on the surface of the core member 11 is relatively non-uniform, and the solder paste is soaked between the copper particles of the terminal electrode during solder bonding, and is uniform on the electrode surface. Even when the film does not wet and spread and does not satisfy a certain appearance standard, the crystal condition of the upper second electrode layer 16y is fine, so that the appearance standard can be satisfied.

なお、本実施形態に示した端子電極形成工程においては、第1の電極層16x及び第2の電極層16yを、各々、第1の電極ペースト及び第2の電極ペーストを焼付処理した焼付電極により構成した場合について説明した。すなわち、第1の電極層16xを形成するための、所定量のガラスフリットを含む第1の電極ペーストを塗布、乾燥した後、第2の電極層16yを形成するための、ガラスフリットを含まない第2の電極ペーストを塗布、乾燥し、その後、これらの電極ペーストを一括焼成して、電極層16xと電極層16yが積層された2層構造からなる端子電極16を形成する製造方法を示した。   In the terminal electrode forming step shown in the present embodiment, the first electrode layer 16x and the second electrode layer 16y are respectively formed by baking electrodes obtained by baking the first electrode paste and the second electrode paste. The case where it is configured has been described. That is, after the first electrode paste containing a predetermined amount of glass frit for forming the first electrode layer 16x is applied and dried, the glass frit for forming the second electrode layer 16y is not included. A manufacturing method is shown in which the second electrode paste is applied and dried, and then these electrode pastes are collectively fired to form the terminal electrode 16 having a two-layer structure in which the electrode layer 16x and the electrode layer 16y are laminated. .

本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、第2の電極層16yとして、銅等の電極材料をスパッタリング法や蒸着法等を用いて第1の電極層16x上に形成された金属薄膜を適用するものであってもよい。すなわち、第1の電極層16xを形成するための、所定量のガラスフリットを含む電極ペーストを塗布した後、焼付処理を行って、第1の電極層16xを形成するとともに、コア部材11の内部にガラス成分16gが拡散した部分11dが形成される。次いで、銅等の電極材料をスパッタリング法や蒸着法等を用いて第1の電極層16x上に金属薄膜からなる第2の電極層16yを形成する。これにより、第1の電極層16xと第2の電極層16yが積層された2層構造からなる端子電極16が形成される。   The present invention is not limited to this. For example, as the second electrode layer 16y, a metal thin film formed of an electrode material such as copper on the first electrode layer 16x by using a sputtering method, a vapor deposition method, or the like. May be applied. That is, after applying an electrode paste containing a predetermined amount of glass frit to form the first electrode layer 16x, a baking process is performed to form the first electrode layer 16x and the inside of the core member 11 A portion 11d in which the glass component 16g is diffused is formed. Next, a second electrode layer 16y made of a metal thin film is formed on the first electrode layer 16x by using an electrode material such as copper by sputtering or vapor deposition. As a result, the terminal electrode 16 having a two-layer structure in which the first electrode layer 16x and the second electrode layer 16y are laminated is formed.

このような端子電極16の構造及び形成方法によれば、焼付電極よりも表面の緻密性が良好な金属薄膜を確実に形成することができ、この金属薄膜を第2の電極層16yとして用いることができるので、半田接合時の外観基準を満たし、良好な半田接合性を実現することができる。   According to such a structure and forming method of the terminal electrode 16, it is possible to reliably form a metal thin film having better surface density than the baked electrode, and to use this metal thin film as the second electrode layer 16 y. Therefore, it is possible to satisfy the appearance standard at the time of soldering and realize good solderability.

なお、本実施形態においては、端子電極16が、第1の電極層16x及び第2の電極層16yからなる2層構造を有する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、端子電極16が2層以上の複数層からなる積層構造を有するものであってもよい。要するに、本発明に係る電子部品に適用される端子電極は、少なくとも、多孔質のコア部材11の表面に直接形成される(最下層の)電極層が、所定量のガラスフリットを含む電極ペーストを焼付処理して形成される焼付電極からなり、かつ、半田接合される最上層の電極層が、略電極材料のみからなる緻密な結晶状態を有するものであれば、これらの間に適当な導電層を1又は複数層介在させた構造を有するものであってもよい。   In the present embodiment, the case where the terminal electrode 16 has a two-layer structure including the first electrode layer 16x and the second electrode layer 16y has been described. However, the present invention is not limited to this. The terminal electrode 16 may have a laminated structure composed of two or more layers. In short, the terminal electrode applied to the electronic component according to the present invention is an electrode paste in which at least the (lowermost) electrode layer formed directly on the surface of the porous core member 11 includes a predetermined amount of glass frit. If the uppermost electrode layer composed of a baked electrode formed by baking treatment and having a dense crystal state made of only an electrode material has a dense crystalline state, an appropriate conductive layer between them It may have a structure in which one or more layers are interposed.

(他の適用例)
上述した各実施形態においては、電子部品の一例として、巻線型のインダクタを示して詳しく説明したが、本発明は、面実装型の電子部品であれば、積層型インダクタ等の他の構成を有するものであってもよい。以下、積層型インダクタの適用例について簡単に説明する。なお、ここで示す積層型インダクタの構成は、本発明が適用可能な一例を示すものであって、本発明はこれに何ら限定されるものではない。
(Other application examples)
In each of the above-described embodiments, the winding type inductor is shown and described in detail as an example of the electronic component, but the present invention has other configurations such as a multilayer inductor as long as it is a surface mount type electronic component. It may be a thing. Hereinafter, application examples of the multilayer inductor will be briefly described. The configuration of the multilayer inductor shown here is an example to which the present invention can be applied, and the present invention is not limited to this.

図15は、本発明に係る電子部品として適用される積層型インダクタの構成例を示す概略構成図である。ここで、図15(a)は、本適用例に係る積層型インダクタの概略斜視図であり、図15(b)は、図15(a)に示したB−B線に沿った積層型インダクタの断面を示す図である。図16は、本適用例に係る積層型インダクタの分解斜視図である。   FIG. 15 is a schematic configuration diagram showing a configuration example of a multilayer inductor applied as an electronic component according to the present invention. Here, FIG. 15A is a schematic perspective view of the multilayer inductor according to this application example, and FIG. 15B is a multilayer inductor along the line BB shown in FIG. FIG. FIG. 16 is an exploded perspective view of the multilayer inductor according to this application example.

図15、図16に示すように、本適用例に係る積層型インダクタ30は、直方体形状の部品本体31と、該部品本体31の長さ方向の両端部に設けられた一対の端子電極34、35と、を有している。   As shown in FIGS. 15 and 16, the multilayer inductor 30 according to this application example includes a rectangular parallelepiped component main body 31 and a pair of terminal electrodes 34 provided at both ends in the length direction of the component main body 31. 35.

部品本体31は、図15(a)、(b)に示すように、直方体形状の磁性体部32と、該磁性体部32によって被覆された螺旋状のコイル部33と、を有しており、該コイル部33の一端は端子電極34に接続され、他端は端子電極35に接続されている。   As shown in FIGS. 15A and 15B, the component main body 31 includes a rectangular parallelepiped magnetic body portion 32 and a spiral coil portion 33 covered with the magnetic body portion 32. The coil portion 33 has one end connected to the terminal electrode 34 and the other end connected to the terminal electrode 35.

磁性体部32は、図16に示すように、例えば計20層の磁性体層ML1〜ML6を積層して一体化した構造を有している。ここで、磁性体部32は、上述した各実施形態に示した基体(コア部材11)と同様に、例えば鉄(Fe)と、ケイ素(Si)と、クロム(Cr)を含有する軟磁性合金の粒子群から構成される多孔質の成形体が適用される。   As shown in FIG. 16, the magnetic part 32 has a structure in which, for example, a total of 20 magnetic layers ML1 to ML6 are stacked and integrated. Here, the magnetic body portion 32 is a soft magnetic alloy containing, for example, iron (Fe), silicon (Si), and chromium (Cr), similarly to the base body (core member 11) shown in the above-described embodiments. A porous molded body composed of these particle groups is applied.

また、コイル部33は、例えば銀(Ag)粒子群を主体として構成され、図16に示すように、複数のコイルセグメントCS1〜CS5と、該コイルセグメントCS1〜CS5を接続する中継セグメントIS1〜IS4とが、螺旋状に一体化してコイル構造を有している。   Moreover, the coil part 33 is mainly composed of, for example, a silver (Ag) particle group, and as shown in FIG. 16, a plurality of coil segments CS1 to CS5 and relay segments IS1 to IS4 connecting the coil segments CS1 to CS5. Are integrated in a spiral shape to have a coil structure.

各コイルセグメントCS1〜CS4は帯状を有し、図16に示すように、それぞれ所定の平面パターンを有している。また、各中継セグメントIS1〜IS4は磁性体層ML1〜ML4を貫通する柱状を有している。そして、図15(b)、図16に示すように、最上層のコイルセグメントCS1は、連続的に形成された引出部分LS1を介して端子電極34に接続され、また、最下層のコイルセグメントCS5は、連続的に形成された引出部分LS2を介して端子電極35に接続されている。   Each of the coil segments CS1 to CS4 has a strip shape and has a predetermined plane pattern as shown in FIG. Each relay segment IS1 to IS4 has a column shape penetrating the magnetic layers ML1 to ML4. Then, as shown in FIGS. 15B and 16, the uppermost coil segment CS1 is connected to the terminal electrode 34 through the continuously formed lead portion LS1, and the lowermost coil segment CS5. Is connected to the terminal electrode 35 through a continuously formed lead portion LS2.

一対の端子電極34、35は、コイル部33と同様に、例えば銀(Ag)粒子群を主体として構成され、図15(a)、(b)に示すように、部品本体31の長さ方向の各端面と該端面近傍の4側面に形成されている。ここで、端子電極34、35は、上述した各実施形態に示した端子電極16と同様に、基体である多孔質の磁性体部32(部品本体31)の長さ方向の両端部に、上述した各実施形態に示した製造方法(端子電極形成工程)に示した方法を用いて形成される。すなわち、端子電極34、35の形成工程において、所定量のガラスフリットを含む電極ペーストを所定の温度で焼付処理して端子電極34、35を形成することにより、ガラス成分が多孔質の磁性体部32の表面から所定の深さまで拡散するとともに、磁性体部32の表面にも十分な量のガラスフリットが残留するため、基体である磁性体部32と端子電極34、35とが強固に結合して、十分な固着強度が得られる。   The pair of terminal electrodes 34 and 35 are configured mainly of, for example, a silver (Ag) particle group, as in the coil portion 33, and the length direction of the component main body 31 as shown in FIGS. Are formed on each end face and four side faces in the vicinity of the end face. Here, like the terminal electrode 16 shown in each embodiment described above, the terminal electrodes 34 and 35 are provided at both ends in the length direction of the porous magnetic body portion 32 (component main body 31) as a base. It is formed using the method shown in the manufacturing method (terminal electrode forming step) shown in each embodiment. That is, in the step of forming the terminal electrodes 34 and 35, an electrode paste containing a predetermined amount of glass frit is baked at a predetermined temperature to form the terminal electrodes 34 and 35, whereby the glass body has a porous magnetic part. Since a sufficient amount of glass frit remains on the surface of the magnetic body portion 32 while diffusing from the surface of the magnetic body 32 to a predetermined depth, the magnetic body portion 32 that is the base and the terminal electrodes 34 and 35 are firmly bonded. Thus, sufficient fixing strength can be obtained.

以上のように、本適用例によれば、回路基板上への面実装が可能な積層型のインダクタにおいて、磁性体部32と端子電極34、35との接合性や密着性が低下することを抑制することができるので、このような電子部品を搭載した電子機器における信頼性の向上に寄与することができる。   As described above, according to this application example, in the multilayer inductor that can be surface-mounted on the circuit board, the bondability and adhesion between the magnetic body portion 32 and the terminal electrodes 34 and 35 are reduced. Since it can suppress, it can contribute to the improvement of the reliability in the electronic device carrying such an electronic component.

なお、上述した各実施形態及び適用例においては、インダクタの端子電極に本発明を適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、本発明は、多孔質の基体を有する電子部品において、電極を形成するものであれば、他の電子部品であっても良好に適用することができる。   In each of the embodiments and application examples described above, the case where the present invention is applied to the terminal electrode of the inductor has been described, but the present invention is not limited to this. That is, the present invention can be satisfactorily applied to other electronic components as long as they form electrodes in an electronic component having a porous substrate.

本発明は、回路基板上への面実装が可能な小型化されたインダクタ等の電子部品に適用して好適である。特に、多孔質の基体を有する電子部品において、当該基体に良好に電極を形成することができ極めて有効である。   The present invention is suitable for application to electronic components such as miniaturized inductors that can be surface-mounted on a circuit board. In particular, in an electronic component having a porous substrate, an electrode can be satisfactorily formed on the substrate, which is extremely effective.

10 巻線型インダクタ
11 コア部材
11a 巻芯部
11b 上鍔部
11c 下鍔部
11d ガラス成分が拡散した部分
12 コイル導線
16、16A、16B 端子電極
16x 第1の電極層
16y 第2の電極層
20 回路基板
22 実装ランド
30 積層型インダクタ
31 部品本体
32 磁性体部
33 コイル部
34、35 端子電極
S101 コア部材製造工程
S102 端子電極形成工程
S103 コイル導線巻回工程
S104 外装工程
S105 コイル導線接合工程
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Winding type inductor 11 Core member 11a Core part 11b Upper collar part 11c Lower collar part 11d The part which the glass component diffused 12 Coil conductor 16, 16A, 16B Terminal electrode 16x 1st electrode layer 16y 2nd electrode layer 20 Circuit Substrate 22 Mounting land 30 Multilayer inductor 31 Component body 32 Magnetic body part 33 Coil part 34, 35 Terminal electrode S101 Core member manufacturing process S102 Terminal electrode formation process S103 Coil conductor winding process S104 Exterior process S105 Coil conductor joining process

Claims (18)

基体と、
前記基体の表面に設けられ、所定の電極材料を含む電極ペーストを焼付処理して形成される焼付電極を含む電極と、
を備え、
前記基体は、酸化層を介して結合する軟磁性合金粒子で形成され、前記軟磁性合金粒子間に空孔を有し、前記電極ペーストに含まれるガラスフリットに起因するガラス成分が、前記電極が接する界面から前記基体の内部方向に、概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散していることを特徴とする電子部品。
A substrate;
An electrode including a baked electrode provided on the surface of the substrate and formed by baking an electrode paste including a predetermined electrode material;
With
The base is formed of soft magnetic alloy particles bonded through an oxide layer, and has pores between the soft magnetic alloy particles, and the glass component caused by the glass frit contained in the electrode paste includes contact with the inside direction from the interface the substrate, electronic components, characterized in that diffused substantially in the pores portion of 10μm or more in depth.
前記基体は、前記ガラス成分が前記基体の内部方向に、前記電極の膜厚に対して概ね30%以上の距離で拡散していることを特徴とする請求項1記載の電子部品。   2. The electronic component according to claim 1, wherein the glass component is diffused in a distance of approximately 30% or more with respect to a film thickness of the electrode in an inner direction of the substrate. 前記ガラスフリットが前記基体の内部及び表面に存在することを特徴とする請求項1又は2に記載の電子部品。 The electronic component according to claim 1, wherein the glass frit is present inside and on the surface of the substrate . 前記電極は、複数の電極層が積層された構造を有し、少なくとも、前記基体に接する最下層の前記電極層は、前記ガラスフリットを含む前記電極ペーストを焼付処理して形成される前記焼付電極からなり、前記最下層の前記電極層の上層に設けられる、最上層の前記電極層は、前記ガラスフリットを含まない、前記電極材料のみからなることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電子部品。   The electrode has a structure in which a plurality of electrode layers are laminated, and at least the lowermost electrode layer in contact with the substrate is formed by baking the electrode paste containing the glass frit. The uppermost electrode layer provided on the uppermost electrode layer of the lowermost layer is made of only the electrode material that does not contain the glass frit. Electronic components described in 前記電極は、前記複数の電極層が前記電極ペーストを焼付処理して形成される前記焼付電極からなり、少なくとも、前記最上層の前記電極層が、前記ガラスフリットを含まない前記電極材料から形成される前記焼付電極からなることを特徴とする請求項4記載の電子部品。 The electrode includes the baked electrode in which the plurality of electrode layers are formed by baking the electrode paste, and at least the uppermost electrode layer is formed from the electrode material not including the glass frit. The electronic component according to claim 4, comprising the baked electrode. 前記電極は、少なくとも、前記最上層の前記電極層が、前記最下層の前記電極層より緻密な結晶状態の金属薄膜からなることを特徴とする請求項4記載の電子部品。 5. The electronic component according to claim 4, wherein at least the uppermost electrode layer is made of a metal thin film in a crystalline state denser than the lowermost electrode layer . 6. 前記基体は、吸水率が1.0%以上、又は、空孔率が10〜25%の金属粉の成形体であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の電子部品。   The electronic component according to any one of claims 1 to 6, wherein the substrate is a metal powder compact having a water absorption rate of 1.0% or more or a porosity of 10 to 25%. 前記基体は、鉄、ケイ素、及び、鉄よりも酸化しやすい元素を含有する前記軟磁性合金の粒子群から構成され、前記各軟磁性合金粒子の表面には当該軟磁性合金粒子の前記酸化層があり、当該酸化層は当該軟磁性合金粒子に比較して前記鉄より酸化しやすい元素を多く含み、前記粒子同士は前記酸化層を介して結合されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の電子部品。 The substrate is iron, silicon, and, than iron consists particles of the soft magnetic alloy containing easily element oxide, wherein the oxide layer of the soft magnetic said soft magnetic alloy particles on the surface of the alloy particles The oxide layer includes more elements that are more easily oxidized than the iron compared to the soft magnetic alloy particles, and the particles are bonded to each other through the oxide layer. The electronic component according to any one of 7 above. 前記鉄よりも酸化しやすい元素は、クロムであって、
前記軟磁性合金は、少なくとも、クロムが2〜15wt%含有することを特徴とする請求項8記載の電子部品。
The element that oxidizes more easily than iron is chromium,
9. The electronic component according to claim 8, wherein the soft magnetic alloy contains at least 2 to 15 wt% of chromium.
前記電子部品は、
柱状の巻芯部及びその両端に設けられた一対の鍔部を有する前記基体と、前記基体の前記巻芯部に巻回された被覆導線と、前記基体の外表面に設けられ、前記被覆導線の両端部が接続された一対の前記電極と、前記被覆導線部の外周を被覆するように前記一対の鍔部間に設けられた外装樹脂部と、を備え、
前記一対の電極が接する前記基体の外表面から内部方向に、前記一対の電極を形成するための前記電極ペーストに含まれる前記ガラス成分が、概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散していることを特徴とする請求項1乃至9のいずれかに記載の電子部品。
The electronic component is
The base body having a columnar core portion and a pair of flanges provided at both ends thereof, a coated conductor wound around the core portion of the base body, and the coated conductor wire provided on the outer surface of the base body A pair of the electrodes to which both ends of the cover are connected, and an exterior resin portion provided between the pair of flanges so as to cover the outer periphery of the coated conductor portion,
The glass component contained in the electrode paste for forming the pair of electrodes diffuses into the hole portion having a depth of about 10 μm or more in an inward direction from an outer surface of the base body in contact with the pair of electrodes. The electronic component according to claim 1, wherein the electronic component is provided.
酸化層を介して結合する軟磁性合金粒子で形成され、前記軟磁性合金粒子間に空孔を有する基体の表面に、所定の電極材料にガラスフリットが概ね10wt%以上の含有率で含まれた電極ペーストを塗布する工程と、
前記基体を700℃以上の温度で焼付処理して、前記電極材料からなる電極を形成するとともに、前記電極ペーストに含まれる前記ガラスフリットに起因するガラス成分を、前記基体の表面から内部方向に概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散させる工程と、
を含むことを特徴とする電子部品の製造方法。
A glass frit is included in a predetermined electrode material in a content of approximately 10 wt% or more on the surface of a base formed of soft magnetic alloy particles bonded through an oxide layer and having pores between the soft magnetic alloy particles . Applying an electrode paste;
The substrate is baked at a temperature of 700 ° C. or more to form an electrode made of the electrode material, and the glass component caused by the glass frit contained in the electrode paste is generally inward from the surface of the substrate. Diffusing into the hole portion having a depth of 10 μm or more;
The manufacturing method of the electronic component characterized by including.
前記ガラス成分は、前記基体の内部方向に、前記電極の膜厚に対して概ね30%以上の距離で拡散していることを特徴とする請求項11記載の電子部品の製造方法。   12. The method of manufacturing an electronic component according to claim 11, wherein the glass component is diffused in a distance of approximately 30% or more with respect to a film thickness of the electrode in an inner direction of the base. 酸化層を介して結合する軟磁性合金粒子で形成され、前記軟磁性合金粒子間に空孔を有する基体の表面に、所定の電極材料にガラスフリットが概ね10wt%以上の含有率で含まれた第1の電極ペーストを塗布する工程と、
前記第1の電極ペースト上に、前記電極材料のみからなる第2の電極ペーストを塗布する工程と、
前記基体を700℃以上の温度で焼付処理して、前記第1の電極ペーストからなる第1の電極層と前記第2の電極ペーストからなる第2の電極層とを形成するとともに、前記第1の電極ペーストに含まれる前記ガラスフリットに起因するガラス成分を、前記基体の表面から内部方向に概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散させる工程と、
を含むことを特徴とする電子部品の製造方法。
A glass frit is included in a predetermined electrode material in a content of approximately 10 wt% or more on the surface of a base formed of soft magnetic alloy particles bonded through an oxide layer and having pores between the soft magnetic alloy particles . Applying a first electrode paste;
Applying a second electrode paste made of only the electrode material on the first electrode paste;
The substrate is baked at a temperature of 700 ° C. or more to form a first electrode layer made of the first electrode paste and a second electrode layer made of the second electrode paste, and the first electrode layer Diffusing the glass component resulting from the glass frit contained in the electrode paste from the surface of the substrate into the pore portion having a depth of approximately 10 μm or more in the internal direction;
The manufacturing method of the electronic component characterized by including.
酸化層を介して結合する軟磁性合金粒子で形成され、前記軟磁性合金粒子間に空孔を有する基体の表面に、所定の電極材料にガラスフリットが概ね10wt%以上の含有率で含まれた電極ペーストを塗布する工程と、
前記基体を700℃以上の温度で焼付処理して、前記電極材料からなる第1の電極層を形成するとともに、前記電極ペーストに含まれる前記ガラスフリットに起因するガラス成分を、前記基体の表面から内部方向に概ね10μm以上の深さの前記空孔部分に拡散させる工程と、
前記第1の電極層上に、前記電極材料をスパッタリング法や蒸着法等を用いて第2の電極層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする電子部品の製造方法。
A glass frit is included in a predetermined electrode material in a content of approximately 10 wt% or more on the surface of a base formed of soft magnetic alloy particles bonded through an oxide layer and having pores between the soft magnetic alloy particles . Applying an electrode paste;
The substrate is baked at a temperature of 700 ° C. or more to form a first electrode layer made of the electrode material, and a glass component caused by the glass frit contained in the electrode paste is removed from the surface of the substrate. Diffusing into the hole portion having a depth of approximately 10 μm or more in the inner direction;
Forming a second electrode layer on the first electrode layer using a sputtering method, a vapor deposition method, or the like;
The manufacturing method of the electronic component characterized by including.
前記電子部品は、前記第1の電極層及び前記第2の電極層を含む複数の複数層が積層された電極を有し、少なくとも、前記第1の電極層は、前記基体に接する最下層の電極層であり、前記第2の電極層は、前記第1の電極層の上層に設けられる、最上層の電極層であることを特徴とする請求項13又は14に記載の電子部品の製造方法。   The electronic component includes an electrode in which a plurality of layers including the first electrode layer and the second electrode layer are stacked, and at least the first electrode layer is a lowermost layer in contact with the substrate. 15. The method of manufacturing an electronic component according to claim 13, wherein the second electrode layer is an uppermost electrode layer provided on an upper layer of the first electrode layer. . 前記基体は、吸水率が1.0%以上、又は、空孔率が10〜25%の金属粉の成形体であることを特徴とする請求項11乃至15のいずれかに記載の電子部品。   The electronic component according to any one of claims 11 to 15, wherein the substrate is a metal powder compact having a water absorption rate of 1.0% or more or a porosity of 10 to 25%. 前記基体は、鉄、ケイ素、及び、鉄よりも酸化しやすい元素を含有する前記軟磁性合金の粒子群から構成され、前記各軟磁性合金粒子の表面には当該軟磁性合金粒子の前記酸化層があり、当該酸化層は当該軟磁性合金粒子に比較して前記鉄より酸化しやすい元素を多く含み、前記粒子同士は前記酸化層を介して結合されていることを特徴とする請求項11乃至16のいずれかに記載の電子部品の製造方法。 The substrate is iron, silicon, and, than iron consists particles of the soft magnetic alloy containing easily element oxide, wherein the oxide layer of the soft magnetic said soft magnetic alloy particles on the surface of the alloy particles The oxide layer includes more elements that are more easily oxidized than the iron as compared with the soft magnetic alloy particles, and the particles are bonded to each other through the oxide layer. The method for manufacturing an electronic component according to any one of 16. 前記鉄よりも酸化しやすい元素は、クロムであって、
前記軟磁性合金は、少なくとも、クロムが2〜15wt%含有することを特徴とする請求項17記載の電子部品の製造方法。
The element that oxidizes more easily than iron is chromium,
18. The method of manufacturing an electronic component according to claim 17, wherein the soft magnetic alloy contains at least 2 to 15 wt% chromium.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR102195952B1 (en) * 2014-03-13 2020-12-28 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 Powder magnetic core manufacturing method, and powder magnetic core
JP6508878B2 (en) * 2014-03-17 2019-05-08 株式会社トーキン Soft magnetic molding
JPWO2017047764A1 (en) * 2015-09-16 2018-07-05 日立金属株式会社 Manufacturing method of dust core
JP7052238B2 (en) * 2017-07-18 2022-04-12 Tdk株式会社 Coil device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0812953B2 (en) * 1988-11-07 1996-02-07 株式会社日立製作所 Glass-ceramic multilayer circuit board sintered body
JPH0777085B2 (en) * 1989-02-28 1995-08-16 株式会社村田製作所 Ferrite chip parts
JPH1041180A (en) * 1996-07-19 1998-02-13 Murata Mfg Co Ltd Reduced and reoxidized semiconductor ceramic capacitor
JP3534684B2 (en) * 2000-07-10 2004-06-07 Tdk株式会社 Conductive paste, external electrode and method of manufacturing the same
JP3933077B2 (en) * 2002-04-01 2007-06-20 株式会社村田製作所 Manufacturing method of ceramic electronic component
JP2006286807A (en) * 2005-03-31 2006-10-19 Taiyo Yuden Co Ltd Chip-type of wound coil component and its manufacturing method
JP4561574B2 (en) * 2005-10-07 2010-10-13 昭栄化学工業株式会社 Conductive paste for multilayer ceramic component terminal electrode
JP2007305830A (en) * 2006-05-12 2007-11-22 Murata Mfg Co Ltd Method for manufacturig electronic component, electronic component, and electronic equipment
JP2009064896A (en) * 2007-09-05 2009-03-26 Taiyo Yuden Co Ltd Wire-winded type electronic component
JP5093008B2 (en) * 2007-09-12 2012-12-05 セイコーエプソン株式会社 Method for producing oxide-coated soft magnetic powder, oxide-coated soft magnetic powder, dust core, and magnetic element
JP2009088502A (en) * 2007-09-12 2009-04-23 Seiko Epson Corp Method of manufacturing oxide-coated soft magnetic powder, oxide-coated soft magnetic powder, dust core, and magnetic element
JP2010232343A (en) * 2009-03-26 2010-10-14 Murata Mfg Co Ltd Electronic component and manufacturing method thereof

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