JP6029813B2 - Suspension board with circuit - Google Patents

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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Supporting Of Heads In Record-Carrier Devices (AREA)
  • Moving Of The Head To Find And Align With The Track (AREA)

Description

本発明は、回路付サスペンション基板、詳しくは、ハードディスクドライブに用いられる回路付サスペンション基板に関する。   The present invention relates to a suspension board with circuit, and more particularly to a suspension board with circuit used for a hard disk drive.

従来、磁気ヘッドの位置および角度を精細に調節すべく、磁気ヘッドが搭載される回路付サスペンション基板において、マイクロアクチュエータを設けることが知られている。   Conventionally, in order to finely adjust the position and angle of a magnetic head, it is known to provide a microactuator on a suspension board with circuit on which the magnetic head is mounted.

例えば、ステージを有し、トレースが形成されるタング部と、ステージに固定されるヘッド・スライダと、タング部内に設けられ、ステージを回動可能に支持するピエゾ素子とを備えるヘッド・ジンバル・アセンブリが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   For example, a head gimbal assembly including a tongue portion having a stage and a trace formed thereon, a head slider fixed to the stage, and a piezoelectric element provided in the tongue portion and rotatably supporting the stage. Has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1のヘッド・ジンバル・アセンブリでは、ピエゾ素子の伸縮動作によって、ステージおよびヘッド・スライダを回動させている。また、トレースは、回動時のヘッド・スライダの端部を迂回するように、引き回されている。   In the head gimbal assembly of Patent Document 1, the stage and the head slider are rotated by the expansion / contraction operation of the piezo element. The trace is routed so as to bypass the end of the head slider during rotation.

特開2010−146631号公報JP 2010-146631 A

しかるに、トレースを、ヘッド・スライダを迂回するように配置すると、回路付サスペンション基板の小型化およびトレースの高密度化を図ることが困難である。   However, if the trace is disposed so as to bypass the head slider, it is difficult to reduce the size of the suspension board with circuit and the density of the trace.

一方、トレースを、ヘッド・スライダと厚み方向に重なるように配置すると、ヘッド・スライダの回動時に、ヘッド・スライダの端部がトレースに摺擦して、トレースが破損するという不具合がある。   On the other hand, when the trace is arranged so as to overlap the head slider in the thickness direction, there is a problem that the end of the head slider rubs against the trace when the head slider rotates, and the trace is damaged.

本発明の目的は、スライダを導体領域に対して相対移動可能に実装することができ、磁気ヘッドの位置および角度を精細に調節することができながら、小型化および導体層の高密度化を図りつつ、導体層の損傷を防止することのできる回路付サスペンション基板を提供することにある。   The object of the present invention is to enable the slider to be mounted so as to be movable relative to the conductor region, and to finely adjust the position and angle of the magnetic head, while achieving miniaturization and higher density of the conductor layer. It is another object of the present invention to provide a suspension board with circuit that can prevent a conductor layer from being damaged.

上記目的を達成するために、本発明の回路付サスペンション基板は、導体層が形成される導体領域と、前記導体層と電気的に接続される磁気ヘッドを搭載するスライダを実装するための実装領域とを備える回路付サスペンション基板であって、前記実装領域は、前記スライダを前記導体領域に対して相対移動可能に実装し、前記導体領域は、前記スライダの前記導体領域に対する相対移動時に、前記スライダと厚み方向に対向する対向領域を備え、前記スライダによる前記対向領域への損傷を防止するための損傷防止部を備えている
ことを特徴としている。
In order to achieve the above object, a suspension board with circuit of the present invention includes a mounting region for mounting a conductor region on which a conductor layer is formed and a slider for mounting a magnetic head electrically connected to the conductor layer. A suspension board with circuit, wherein the mounting area is mounted so that the slider can move relative to the conductor area, and the conductor area moves when the slider moves relative to the conductor area. And an anti-damage part for preventing damage to the counter area by the slider.

この回路付サスペンション基板によれば、実装領域が、スライダを導体領域に対する相対移動可能に実装して、磁気ヘッドの位置および角度を精密に調節することができる。   According to this suspension board with circuit, the mounting area can be mounted so that the slider can move relative to the conductor area, and the position and angle of the magnetic head can be adjusted precisely.

また、導体領域は、対向領域を備えるので、回路付サスペンション基板の小型化および導体層の高密度化を図ることができる。   In addition, since the conductor region includes the opposing region, it is possible to reduce the size of the suspension board with circuit and increase the density of the conductor layer.

さらに、回路付サスペンション基板は、損傷防止部を備えるので、スライダによる対向領域への損傷を防止することができる。   Furthermore, since the suspension board with circuit includes a damage preventing portion, it is possible to prevent damage to the opposing region by the slider.

また、本発明の回路付サスペンション基板では、前記損傷防止部が、前記導体領域に対して相対移動する前記スライダと、前記対向領域とを、厚み方向に離間する離間部であることが好適である。   In the suspension board with circuit of the present invention, it is preferable that the damage preventing portion is a separation portion that separates the slider that moves relative to the conductor region and the opposing region in the thickness direction. .

この回路付サスペンション基板では、離間部によって、スライダと対向領域とを厚み方向に離間するので、スライダによる対向領域への損傷を確実に防止することができる。   In this suspension board with circuit, the slider and the opposed region are separated in the thickness direction by the separating portion, so that damage to the opposed region by the slider can be reliably prevented.

また、本発明の回路付サスペンション基板では、前記離間部が、前記対向領域以外の前記導体領域に比べて厚みが薄い薄肉領域であることが好適である。   In the suspension board with circuit of the present invention, it is preferable that the separation portion is a thin region that is thinner than the conductor region other than the opposing region.

この回路付サスペンション基板では、薄肉領域は、対向領域以外の導体領域に比べて厚みが薄いので、スライダの相対移動時に、スライダとの厚み方向における間隔を十分に確保することができる。そのため、スライダによる対向領域への損傷をより一層確実に防止することができる。   In this suspension board with circuit, since the thin region is thinner than the conductor region other than the opposing region, a sufficient distance in the thickness direction from the slider can be secured when the slider is relatively moved. Therefore, it is possible to more reliably prevent damage to the opposing area by the slider.

また、本発明の回路付サスペンション基板では、前記実装領域は、前記スライダの一端を固定し、かつ、その他端を前記導体領域に対して相対移動可能に、前記スライダを実装し、前記薄肉領域が、厚み方向に投影したときに、前記導体領域に対する相対移動時の前記スライダの他端と対向することが好適である。   Further, in the suspension board with circuit of the present invention, the mounting region has the slider mounted so that one end of the slider is fixed and the other end is movable relative to the conductor region, and the thin region is When projected in the thickness direction, it is preferable to face the other end of the slider during relative movement with respect to the conductor region.

また、この回路付サスペンション基板では、前記導体領域は、ベース絶縁層、前記ベース絶縁層の上に形成される前記導体層、および、前記ベース絶縁層の上に、前記導体層を被覆するように形成されるカバー絶縁層を備え、前記薄肉領域における前記ベース絶縁層、前記導体層および前記カバー絶縁層からなる群から選択される少なくとも1層の厚みが、前記対向領域以外の前記導体領域における少なくとも前記1層に比べて、厚みが薄いことが好適である。   Further, in this suspension board with circuit, the conductor region covers a base insulating layer, the conductor layer formed on the base insulating layer, and the conductor layer on the base insulating layer. The insulating cover layer is formed, and the thickness of at least one layer selected from the group consisting of the insulating base layer, the conductive layer, and the insulating cover layer in the thin region is at least in the conductive region other than the facing region It is preferable that the thickness is smaller than that of the first layer.

また、この回路付サスペンション基板では、前記離間部が、前記スライダを相対移動可能に支持するための台座であることが好適である。   In the suspension board with circuit, it is preferable that the separating portion is a pedestal for supporting the slider so as to be relatively movable.

この回路付サスペンション基板によれば、台座は、スライダを相対移動可能に支持することによって、スライダの相対移動時に、スライダとの厚み方向における間隔を確保することができる。そのため、スライダによる対向領域への損傷をより一層確実に防止することができる。   According to the suspension board with circuit, the pedestal supports the slider so as to be relatively movable, so that the distance from the slider in the thickness direction can be secured when the slider is relatively moved. Therefore, it is possible to more reliably prevent damage to the opposing area by the slider.

また、本発明の回路付サスペンション基板では、前記台座は、前記スライダの相対移動の前後にわたって、前記スライダと摺動可能に接触することが好適である。   In the suspension board with circuit of the present invention, it is preferable that the pedestal is slidably in contact with the slider before and after relative movement of the slider.

この回路付サスペンション基板では、台座は、スライダの相対移動の前後にわたって、スライダと摺動可能に接触するので、スライダの円滑な相対移動を担保し、それによって、対向領域とスライダとの厚み方向における間隔を確実に確保することができる。   In this suspension board with circuit, the pedestal slidably contacts the slider before and after the relative movement of the slider, thereby ensuring a smooth relative movement of the slider, and thereby in the thickness direction between the opposed region and the slider. An interval can be ensured reliably.

また、本発明の回路付サスペンション基板では、前記台座は、前記スライダの移動方向に沿って延びるように形成されていることが好適である。   In the suspension board with circuit of the present invention, it is preferable that the pedestal is formed so as to extend along a moving direction of the slider.

この回路付サスペンション基板では、台座は、スライダの移動方向に沿って延びるように形成されているので、移動するスライダを確実に支持し、それによって、対向領域とスライダとの厚み方向における間隔を確実に確保することができる。   In this suspension board with circuit, since the pedestal is formed so as to extend along the moving direction of the slider, the moving slider is reliably supported, thereby ensuring a gap in the thickness direction between the facing region and the slider. Can be secured.

本発明の回路付サスペンション基板は、スライダを導体領域に対する相対移動可能に実装して、磁気ヘッドの位置および角度を精密に調節することができながら、小型化および導体層の高密度化を図ることができるとともに、スライダによる対向領域への損傷を防止することができる。   In the suspension board with circuit of the present invention, the slider can be mounted so as to be movable relative to the conductor region, and the position and angle of the magnetic head can be precisely adjusted, and the size and density of the conductor layer can be increased. In addition, it is possible to prevent damage to the opposing region by the slider.

図1は、本発明の回路付サスペンション基板の一実施形態(薄肉領域が設けられる態様)の平面図を示す。FIG. 1 shows a plan view of an embodiment (an embodiment in which a thin region is provided) of a suspension board with circuit of the present invention. 図2は、図1に示す回路付サスペンション基板のジンバル部の拡大平面図を示す。FIG. 2 is an enlarged plan view of the gimbal portion of the suspension board with circuit shown in FIG. 図3は、図2に示すジンバル部のA−A線に沿う断面図を示す。FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA of the gimbal portion shown in FIG. 図4は、図2に示すジンバル部のB−B線に沿う断面図を示す。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line BB of the gimbal portion shown in FIG. 図5は、図2に示すジンバル部のステージを揺動させた状態の平面図を示す。FIG. 5 is a plan view showing a state where the stage of the gimbal portion shown in FIG. 2 is swung. 図6は、図2に示すジンバル部のステージを揺動させた状態の断面図を示す。6 shows a cross-sectional view of the state where the stage of the gimbal portion shown in FIG. 2 is swung. 図7は、回路付サスペンション基板の製造方法を説明するための工程図であって、(a)は、金属支持基板を用意する工程(b)は、ベース絶縁層を用意する工程、(c)は、導体層を形成する工程、(d)は、カバー絶縁層を用意する工程、(e)は、基板開口部を形成する工程を示す。FIG. 7 is a process diagram for explaining a method of manufacturing a suspension board with circuit, where (a) is a process of preparing a metal support board, (b) is a process of preparing an insulating base layer, and (c). These are the process of forming a conductor layer, (d) shows the process of preparing a cover insulating layer, (e) shows the process of forming a board | substrate opening part. 図8は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態の薄肉部分(薄肉カバー部分を備える態様)の断面図を示す。FIG. 8: shows sectional drawing of the thin part (mode provided with a thin cover part) of other embodiment of the suspension board | substrate with a circuit of this invention. 図9は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態の薄肉部分(薄肉カバー部分および薄肉ベース部分を備える態様)の断面図を示す。FIG. 9 shows a cross-sectional view of a thin portion (an aspect including a thin cover portion and a thin base portion) of another embodiment of the suspension board with circuit of the present invention. 図10は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態の薄肉部分(薄肉導体部分を備える態様)の断面図を示す。FIG. 10 shows a cross-sectional view of a thin-walled portion (an embodiment including a thin-walled conductor portion) of another embodiment of the suspension board with circuit of the present invention. 図11は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態の薄肉部分(薄肉導体部分および薄肉ベース部分を備える態様)の断面図を示す。FIG. 11 is a cross-sectional view of a thin portion (an aspect including a thin conductor portion and a thin base portion) of another embodiment of the suspension board with circuit of the present invention. 図12は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態の薄肉部分(薄肉カバー部分および薄肉導体部分を備える態様)の断面図を示す。FIG. 12 shows a cross-sectional view of a thin portion (an aspect including a thin cover portion and a thin conductor portion) of another embodiment of the suspension board with circuit of the present invention. 図13は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態(台座が設けられる態様)の平面図を示す。FIG. 13 shows a plan view of another embodiment (an aspect in which a pedestal is provided) of the suspension board with circuit of the present invention. 図14は、図13に示す回路付サスペンション基板のジンバル部の平面図を示す。FIG. 14 is a plan view of the gimbal portion of the suspension board with circuit shown in FIG. 図15は、図13に示す回路付サスペンション基板のジンバル部の底面図を示す。FIG. 15 shows a bottom view of the gimbal portion of the suspension board with circuit shown in FIG. 図16は、図14および図15に示すジンバル部のC−C線に沿う断面図を示す。FIG. 16 is a sectional view taken along line CC of the gimbal portion shown in FIGS. 14 and 15. 図17は、図14に示すジンバル部の平面図であり、第1ベース絶縁層を明示した平面図を示す。FIG. 17 is a plan view of the gimbal portion shown in FIG. 14 and shows a plan view clearly showing the first base insulating layer. 図18は、図15に示すジンバル部の底面図であり、第2ベース絶縁層を明示した底面図を示す。FIG. 18 is a bottom view of the gimbal portion shown in FIG. 15 and shows a bottom view clearly showing the second base insulating layer. 図19は、回路付サスペンション基板の製造方法を説明するための工程図であって、(a)は、金属支持基板を用意する工程、(b)は、第1ベース絶縁層を形成する工程、(c)は、第1導体パターンを形成する工程、(d)は、第1カバー絶縁層を形成する工程、(e)は、導通開口部を金属支持基板に形成する工程を示す。19A and 19B are process diagrams for explaining a method of manufacturing a suspension board with circuit, wherein FIG. 19A is a process of preparing a metal support board, and FIG. 19B is a process of forming a first base insulating layer. (C) shows the process of forming a 1st conductor pattern, (d) shows the process of forming a 1st cover insulating layer, (e) shows the process of forming a conduction | electrical_connection opening part in a metal support substrate. 図20は、図19に引き続き、回路付サスペンション基板の製造方法を説明するための工程図であって、(f)は、第2ベース絶縁層を形成する工程、(g)は、第2導体パターンを形成する工程を示す。FIG. 20 is a process diagram for explaining the manufacturing method of the suspension board with circuit, following FIG. 19, wherein (f) is a process of forming the second base insulating layer, and (g) is the second conductor. The process of forming a pattern is shown. 図21は、図20に引き続き、回路付サスペンション基板の製造方法を説明するための工程図であって、(h)は、第2カバー絶縁層を形成する工程、(i)は、基板開口部および連通空間を形成する工程を示す。FIG. 21 is a process diagram for explaining the manufacturing method of the suspension board with circuit, following FIG. 20, wherein (h) is the process of forming the second cover insulating layer, and (i) is the substrate opening. And a step of forming a communication space. 図22は、図14に示すジンバル部のステージを揺動させた状態の平面図を示す。FIG. 22 is a plan view showing a state where the stage of the gimbal portion shown in FIG. 14 is swung. 図23は、図16に示すジンバル部のステージを揺動させた状態の断面図を示す。FIG. 23 is a sectional view showing a state where the stage of the gimbal portion shown in FIG. 16 is swung.

図1は、本発明の回路付サスペンション基板の一実施形態(薄肉領域が設けられる態様)の平面図、図2は、図1に示す回路付サスペンション基板のジンバル部の拡大平面図、図3および図4は、図2に示すジンバル部のA−A線およびB−B線に沿う断面図、図5および図6は、図2に示すジンバル部のステージを揺動させた状態の平面図および断面図、図7は、回路付サスペンション基板の製造方法を説明するための工程図を示す。   FIG. 1 is a plan view of an embodiment of the suspension board with circuit of the present invention (an aspect in which a thin region is provided), FIG. 2 is an enlarged plan view of a gimbal portion of the suspension board with circuit shown in FIG. 4 is a cross-sectional view taken along lines AA and BB of the gimbal portion shown in FIG. 2, and FIGS. 5 and 6 are plan views showing a state where the stage of the gimbal portion shown in FIG. Sectional drawing and FIG. 7 show process drawing for demonstrating the manufacturing method of a suspension board with a circuit.

なお、図1、図2および図5において、後述するベース絶縁層7およびカバー絶縁層8は、後述する導体層6およびスライダ26の相対配置を明瞭に示すため、省略している。   1, 2, and 5, a base insulating layer 7 and a cover insulating layer 8 to be described later are omitted in order to clearly show a relative arrangement of a conductor layer 6 and a slider 26 to be described later.

図1および図2において、この回路付サスペンション基板1は、磁気ヘッド27(図3)を搭載するスライダ26(図2の仮想線および図3の実線)およびピエゾ素子23を実装して、ハードディスクドライブ(図示せず)に搭載される。   1 and 2, the suspension board with circuit 1 has a slider 26 (virtual line in FIG. 2 and solid line in FIG. 3) and a piezo element 23 on which a magnetic head 27 (FIG. 3) is mounted, and a hard disk drive. (Not shown).

回路付サスペンション基板1では、金属支持基板5に導体層6が支持されている。   In the suspension board with circuit 1, the conductor layer 6 is supported on the metal support board 5.

金属支持基板5は、長手方向に延びる平面視略矩形平帯状に形成されており、本体部3と、本体部3の先側(長手方向一側、以下同じ)に形成されるジンバル部4とを一体的に備えている。   The metal support substrate 5 is formed in a substantially rectangular flat band shape in plan view extending in the longitudinal direction, and includes a main body portion 3 and a gimbal portion 4 formed on the front side of the main body portion 3 (one side in the longitudinal direction, hereinafter the same). Is integrated.

本体部3は、平面視略矩形状に形成されている。   The main body 3 is formed in a substantially rectangular shape in plan view.

ジンバル部4は、本体部3の先端から先側に延びるように形成されている。また、ジンバル部4には、厚み方向を貫通する平面視略矩形状の基板開口部11が形成されている。   The gimbal part 4 is formed so as to extend from the front end of the main body part 3 to the front side. The gimbal portion 4 is formed with a substrate opening 11 having a substantially rectangular shape in plan view that penetrates the thickness direction.

ジンバル部4は、基板開口部11の幅方向(先後方向に直交する方向)外側に仕切られるアウトリガー部34と、アウトリガー部34に連結されるタング部12とを備えている。   The gimbal portion 4 includes an outrigger portion 34 that is partitioned outside the width direction of the substrate opening 11 (a direction orthogonal to the front-rear direction), and a tongue portion 12 that is coupled to the outrigger portion 34.

アウトリガー部34は、本体部3の幅方向両端部から先側に向かって直線状に延びるように形成されている。   The outrigger portion 34 is formed so as to extend linearly from both ends in the width direction of the main body portion 3 toward the front side.

タング部12は、図2に示すように、アウトリガー部34の幅方向内側に設けられ、アウトリガー部34の先端部から幅方向内側斜め後方に向かって延びる第1連結部35を介して、アウトリガー部34に連結されている。タング部12は、平面視略H字状に形成されており、幅方向に長く延びる平面視略矩形状の基部15と、基部15の先側に間隔を隔てて配置され、幅方向に長く延びる平面視略矩形状のステージ17と、基部15およびステージ17の幅方向中央を接続し、先後方向に長い平面視略矩形状の中央部16とを一体的に備えている。   As shown in FIG. 2, the tongue portion 12 is provided on the inner side in the width direction of the outrigger portion 34, and is connected to the outrigger portion via a first connecting portion 35 that extends obliquely rearward in the width direction from the tip portion of the outrigger portion 34. 34. The tongue portion 12 is formed in a substantially H shape in a plan view, and is disposed at a distance from the base portion 15 having a substantially rectangular shape in a plan view extending in the width direction and a front side of the base portion 15 and extending in the width direction. A stage 17 having a substantially rectangular shape in plan view, and a central part 16 having a substantially rectangular shape in plan view that is long in the front-rear direction are integrally connected to the base 15 and the center of the stage 17 in the width direction.

ステージ17の幅方向中央および先後方向中央は、スライダ26が実装される実装領域28とされている。また、ステージ17は、第2連結部20によって、アウトリガー部34に接続されている。   The center in the width direction and the center in the front-rear direction of the stage 17 are a mounting area 28 where the slider 26 is mounted. Further, the stage 17 is connected to the outrigger portion 34 by the second connecting portion 20.

第2連結部20は、各アウトリガー部34の先端と、ステージ17の幅方向両端を湾曲状に連結する湾曲部21と、各アウトリガー部34の先端と、ステージ17の先端とを連結するE字部22とを備えている。   The second connecting portion 20 is an E-shape that connects the tip of each outrigger portion 34, the bending portion 21 that connects both ends in the width direction of the stage 17 in a curved shape, the tip of each outrigger portion 34, and the tip of the stage 17. Part 22.

湾曲部21は、アウトリガー部34の先端から幅方向内側斜め先側に向かって湾曲状に延び、ステージ17の幅方向両端に至っている。   The bending portion 21 extends in a curved shape from the front end of the outrigger portion 34 toward the diagonally inner side in the width direction, and reaches both ends of the stage 17 in the width direction.

E字部22は、平面視略E字状をなし、具体的には、両アウトリガー部34の先端から先側に向かって延び、その後、幅方向内側に屈曲し、幅方向内側に延びて合一となった後、後側に屈曲して、ステージ17の先端に至っている。   The E-shaped portion 22 is substantially E-shaped in plan view, and specifically, extends from the tip of both outrigger portions 34 toward the front side, then bends inward in the width direction, and extends inward in the width direction. After becoming one, it bends to the rear side and reaches the tip of the stage 17.

中央部16は、幅方向に湾曲可能な幅狭に形成されている。   The central portion 16 is formed with a narrow width that can be bent in the width direction.

導体層6は、図1に示すように、外部側端子10と、ヘッド側端子18と、ピエゾ先側端子24(図2)と、ピエゾ後側端子25(図2)と、配線9とを備えている。   As shown in FIG. 1, the conductor layer 6 includes an external terminal 10, a head side terminal 18, a piezo tip side terminal 24 (FIG. 2), a piezo back side terminal 25 (FIG. 2), and a wiring 9. I have.

外部側端子10は、本体部3の後端部に設けられ、先後方向に互いに間隔を隔てて複数(6つ)配置されている。   A plurality of (six) external terminals 10 are provided at the rear end of the main body 3 and are spaced apart from each other in the front-rear direction.

ヘッド側端子18は、図2に示すように、ステージ17の先端部に設けられ、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(4つ)配置されている。   As shown in FIG. 2, the head-side terminals 18 are provided at the tip of the stage 17, and a plurality (four) of the head-side terminals 18 are arranged at intervals in the width direction.

ピエゾ先側端子24は、ステージ17の幅方向外側部の後端縁から後方に向かって突出するように形成され、中央部16の幅方向両外側に互いに間隔を隔てて複数(2つ)配置されている。   The piezo tip side terminals 24 are formed so as to protrude rearward from the rear end edge of the outer side portion of the stage 17 in the width direction, and a plurality (two) of the piezo tip side terminals 24 are arranged on both outer sides in the width direction of the central portion 16 with a space therebetween. Has been.

詳しくは、ピエゾ先側端子24は、ステージ17の後端部の配線9(後述)が、ステージ17の後端縁から後側に向かって突出し、かつ、幅方向に膨出するように形成されている。なお、後述するが、図3が参照されるように、ピエゾ先側端子24を形成する導体層6の周端部には、ステージ17の後端部の配線9の下に形成されるベース絶縁層7が連続して平面視枠状に形成されており、導体層6がかかるベース絶縁層7の枠内に落ち込んでいる。   Specifically, the piezo tip side terminal 24 is formed such that a wiring 9 (described later) at the rear end portion of the stage 17 protrudes from the rear end edge of the stage 17 toward the rear side and bulges in the width direction. ing. As will be described later, as shown in FIG. 3, the base insulation formed under the wiring 9 at the rear end portion of the stage 17 is provided at the peripheral end portion of the conductor layer 6 forming the piezoelectric tip side terminal 24. The layer 7 is continuously formed in a frame shape in plan view, and the conductor layer 6 falls into the frame of the insulating base layer 7.

ピエゾ後側端子25は、図2に示すように、ピエゾ先側端子24に対応して形成されており、各ピエゾ先側端子24の後側に間隔を隔てて形成されている。ピエゾ後側端子25は、基部15の幅方向外側部の先端縁から先方に向かって突出するように形成され、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(2つ)配置されている。   As shown in FIG. 2, the piezo rear side terminals 25 are formed corresponding to the piezo front side terminals 24, and are formed on the rear side of each piezo front side terminal 24 with an interval. The piezoelectric rear side terminals 25 are formed so as to protrude forward from the front end edge of the width direction outer side portion of the base portion 15, and a plurality (two) of the piezoelectric rear side terminals 25 are arranged at intervals in the width direction.

詳しくは、ピエゾ後側端子25は、導体層6が、基部15の先端縁から先側に向かって突出し、かつ、幅方向に膨出するように形成されている。なお、後述するが、図3が参照されるように、ピエゾ後側端子25を形成する導体層6の周端部には、ベース絶縁層7が平面視枠状に形成されており、導体層6がかかるベース絶縁層7の枠内に落ち込んでいる。なお、ピエゾ後側端子25は、配線9と独立して設けられるとともに、図示しないグランド配線を介して接地されている。   Specifically, the piezoelectric rear terminal 25 is formed such that the conductor layer 6 protrudes from the front end edge of the base portion 15 toward the front side and bulges in the width direction. As will be described later, as shown in FIG. 3, a base insulating layer 7 is formed in a frame shape in plan view at the peripheral end of the conductor layer 6 that forms the piezoelectric rear terminal 25. 6 falls into the frame of the base insulating layer 7. The piezoelectric rear terminal 25 is provided independently of the wiring 9 and is grounded via a ground wiring (not shown).

配線9は、図1および図2に示すように、外部側端子10と、ヘッド側端子18およびピエゾ先側端子24とに連続し、それらを電気的に接続している。   As shown in FIGS. 1 and 2, the wiring 9 continues to the external terminal 10, the head-side terminal 18, and the piezoelectric tip-side terminal 24, and electrically connects them.

配線9は、図1に示すように、本体部3において、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(6つ)形成されている。   As shown in FIG. 1, a plurality of (six) wirings 9 are formed in the main body 3 at intervals in the width direction.

具体的には、配線9は、本体部3の後端部において、外部側端子10から先側に向かって延び、本体部3の先後方向途中において、幅方向両側に向かって2束に分岐状に屈曲した後、幅方向両端部において先側に屈曲し、本体部3の先端部に向けて、幅方向外端縁に沿って延び、図2に示すように、ジンバル部4において、基板開口部11および第1連結部35を通過し、続いて、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25の間を通過した後、中央部16の先後方向途中に集束状に至り、先側に屈曲し、続いて、中央部16に沿って先側に延び、その後、ステージ17の後端部において、幅方向両側に向かって2束に分岐状に屈曲した後、ステージ17の周端縁に沿って延び、その後、折り返されて、ヘッド側端子18およびピエゾ先側端子24に至るように形成されている。   Specifically, the wiring 9 extends from the external terminal 10 toward the front side at the rear end portion of the main body 3, and is branched into two bundles toward both sides in the width direction in the front-rear direction of the main body 3. 2 is bent toward the front side at both ends in the width direction and extends along the outer edge in the width direction toward the tip of the main body 3. As shown in FIG. After passing through the portion 11 and the first connecting portion 35, and subsequently passing between the piezo tip side terminal 24 and the piezo back side terminal 25, it converges in the middle of the center portion 16 in the front-rear direction and bends to the front side. Then, it extends to the front side along the central portion 16, and then bends in two bundles toward the both sides in the width direction at the rear end portion of the stage 17, and then along the peripheral edge of the stage 17. And then folded back to the head side terminal 18 and the piezo tip side It is formed so as to extend to the child 24.

なお、配線9において、第1連結部35と中央部16との間に架設される部分(後述する薄肉領域30を形成する配線9に相当)は、幅方向に沿う直線状に形成されている。   In addition, in the wiring 9, the part (equivalent to the wiring 9 which forms the thin area | region 30 mentioned later) constructed between the 1st connection part 35 and the center part 16 is formed in the linear form along the width direction. .

また、図3に示すように、配線9の周囲には、断面視において、ベース絶縁層7およびカバー絶縁層8が形成されており、配線9は、ベース絶縁層7およびカバー絶縁層8とともに、導体領域2を形成している。   Further, as shown in FIG. 3, a base insulating layer 7 and a cover insulating layer 8 are formed around the wiring 9 in a cross-sectional view, and the wiring 9 includes the base insulating layer 7 and the cover insulating layer 8. A conductor region 2 is formed.

この回路付サスペンション基板1は、金属支持基板5、金属支持基板5の上に形成されるベース絶縁層7、ベース絶縁層7の上に形成される導体層6、および、ベース絶縁層7の上に、導体層6を被覆するように形成されるカバー絶縁層8を備えている。   The suspension board with circuit 1 includes a metal supporting board 5, a base insulating layer 7 formed on the metal supporting board 5, a conductor layer 6 formed on the base insulating layer 7, and a base insulating layer 7. In addition, an insulating cover layer 8 is provided so as to cover the conductor layer 6.

金属支持基板5は、図1に示すように、回路付サスペンション基板1の外形形状に対応する形状に形成されている。金属支持基板5は、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、銅−ベリリウム、りん青銅などの金属材料から形成されている。好ましくは、ステンレスから形成されている。金属支持基板5の厚みは、例えば、15〜50μm、好ましくは、20〜30μmである。   As shown in FIG. 1, the metal support substrate 5 is formed in a shape corresponding to the outer shape of the suspension board with circuit 1. The metal support substrate 5 is made of a metal material such as stainless steel, 42 alloy, aluminum, copper-beryllium, phosphor bronze, and the like. Preferably, it is formed from stainless steel. The thickness of the metal supporting board 5 is 15-50 micrometers, for example, Preferably, it is 20-30 micrometers.

ベース絶縁層7は、図1および図2が参照されるように、本体部3およびジンバル部4にわたって形成されており、図3に示すように、導体層6が形成される部分に対応して形成されている。また、ベース絶縁層7は、導体層6とともに、導体領域2を形成する。   As shown in FIGS. 1 and 2, the base insulating layer 7 is formed over the main body portion 3 and the gimbal portion 4, and corresponds to the portion where the conductor layer 6 is formed as shown in FIG. Is formed. The insulating base layer 7 forms the conductor region 2 together with the conductor layer 6.

具体的には、ベース絶縁層7は、本体部3において、金属支持基板5の上に形成される一方、ジンバル部4の基板開口部11内と、第1連結部35および中央部16の上とにも、配線9に沿って形成されている。   Specifically, the base insulating layer 7 is formed on the metal support substrate 5 in the main body 3, while inside the substrate opening 11 of the gimbal portion 4 and on the first connecting portion 35 and the central portion 16. In addition, it is formed along the wiring 9.

さらに、ベース絶縁層7は、ステージ17の金属支持基板5から後方に突出し、ピエゾ先側端子24の周端部に、平面視略矩形枠形状に形成されるとともに、基部15の金属支持基板5から先方に突出し、ピエゾ後側端子25の周端部に、平面視略矩形枠形状に形成されている。   Furthermore, the base insulating layer 7 protrudes rearward from the metal support substrate 5 of the stage 17, is formed in a substantially rectangular frame shape in plan view at the peripheral end portion of the piezoelectric tip side terminal 24, and the metal support substrate 5 of the base portion 15. And is formed in a substantially rectangular frame shape in plan view at the peripheral end of the piezoelectric rear terminal 25.

また、ベース絶縁層7は、図2に示すように、第2連結部20を形成するパターンとしても形成されている。   Further, the base insulating layer 7 is also formed as a pattern for forming the second connecting portion 20 as shown in FIG.

ベース絶縁層7は、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂などの絶縁材料から形成されている。好ましくは、ポリイミド樹脂から形成されている。   The base insulating layer 7 is made of an insulating material such as a synthetic resin such as polyimide resin, polyamideimide resin, acrylic resin, polyethernitrile resin, polyethersulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, or polyvinyl chloride resin. Is formed. Preferably, it is formed from a polyimide resin.

ベース絶縁層7の厚みは、例えば、1〜35μm、好ましくは、3〜33μmである。   The insulating base layer 7 has a thickness of, for example, 1 to 35 μm, or preferably 3 to 33 μm.

導体層6は、上記したように、外部側端子10(図1)、ヘッド側端子18、ピエゾ先側端子24、ピエゾ後側端子25および配線9を備えるパターンとして形成されている。   As described above, the conductor layer 6 is formed as a pattern including the external terminal 10 (FIG. 1), the head terminal 18, the piezoelectric tip terminal 24, the piezoelectric rear terminal 25, and the wiring 9.

ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25は、図3に示すように、平面視略枠状に形成されるベース絶縁層7の内側に落ち込むように形成され、それにより、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25の下面がベース絶縁層7から下方に露出している。   As shown in FIG. 3, the piezoelectric front terminal 24 and the piezoelectric rear terminal 25 are formed so as to fall inside the base insulating layer 7 formed in a substantially frame shape in plan view. Further, the lower surface of the piezoelectric rear terminal 25 is exposed downward from the base insulating layer 7.

また、ピエゾ先側端子24の下面は、その周端部に形成されるベース絶縁層7の下面と、幅方向および先後方向において面一に形成されている。また、ピエゾ後側端子25の下面は、その周端部に形成されるベース絶縁層7の下面と、幅方向および先後方向において面一に形成されている。   Further, the lower surface of the piezo tip side terminal 24 is formed flush with the lower surface of the base insulating layer 7 formed at the peripheral end in the width direction and the front-rear direction. Further, the lower surface of the piezoelectric rear terminal 25 is formed flush with the lower surface of the base insulating layer 7 formed at the peripheral end in the width direction and the front-rear direction.

導体層6は、例えば、銅、ニッケル、金、はんだまたはこれらの合金などの導体材料から形成されている。導体層6の厚みは、例えば、3〜50μm、好ましくは、5〜20μmである。   The conductor layer 6 is made of a conductor material such as copper, nickel, gold, solder, or an alloy thereof. The thickness of the conductor layer 6 is 3-50 micrometers, for example, Preferably, it is 5-20 micrometers.

配線9の幅は、例えば、5〜200μm、好ましくは、8〜100μmである。また、外部側端子10、ヘッド側端子18、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25の幅および長さ(長手方向長さ)は、例えば、20〜1000μm、好ましくは、30〜800μmである。   The width | variety of the wiring 9 is 5-200 micrometers, for example, Preferably, it is 8-100 micrometers. Further, the width and length (length in the longitudinal direction) of the external side terminal 10, the head side terminal 18, the piezo front side terminal 24, and the piezo back side terminal 25 are, for example, 20 to 1000 μm, and preferably 30 to 800 μm. .

カバー絶縁層8は、図1が参照されるように、本体部3およびジンバル部4にわたって形成され、図3に示すように、平面視において導体層6を含むパターンに形成されている。また、カバー絶縁層8は、導体層6およびベース絶縁層7とともに導体領域2を形成する。   As shown in FIG. 1, the insulating cover layer 8 is formed over the main body 3 and the gimbal 4, and is formed in a pattern including the conductor layer 6 in a plan view as shown in FIG. 3. The insulating cover layer 8 forms the conductive region 2 together with the conductive layer 6 and the insulating base layer 7.

具体的には、カバー絶縁層8は、配線9、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25の上面を被覆し、外部側端子10(図1参照)およびヘッド側端子18の上面を露出するパターンに形成されている。   Specifically, the insulating cover layer 8 covers the upper surfaces of the wiring 9, the piezoelectric front terminal 24 and the piezoelectric rear terminal 25, and exposes the upper surfaces of the external terminal 10 (see FIG. 1) and the head terminal 18. It is formed in a pattern.

カバー絶縁層8は、ベース絶縁層7を形成する絶縁材料と同様の絶縁材料から形成されている。カバー絶縁層8の厚みは、例えば、1〜40μm、好ましくは、3〜10μmである。   The insulating cover layer 8 is made of an insulating material similar to the insulating material forming the insulating base layer 7. The insulating cover layer 8 has a thickness of, for example, 1 to 40 μm, preferably 3 to 10 μm.

そして、この回路付サスペンション基板1には、スライダ26およびピエゾ素子23が実装される。   The slider 26 and the piezo element 23 are mounted on the suspension board with circuit 1.

スライダ26は、図2の仮想線および図3に示すように、平面視略矩形箱形状に形成されており、スライダ26の先端部が、ステージ17の実装領域28に、公知の接着剤からなる接着剤層37を介して接着される。   As shown in the phantom line of FIG. 2 and FIG. 3, the slider 26 is formed in a substantially rectangular box shape in plan view, and the tip of the slider 26 is made of a known adhesive in the mounting region 28 of the stage 17. Bonding is performed via an adhesive layer 37.

接着剤層37の厚みは、例えば、ベース絶縁層7、導体層6およびカバー絶縁層8の総厚みと実質的に同一である。   The thickness of the adhesive layer 37 is, for example, substantially the same as the total thickness of the base insulating layer 7, the conductor layer 6, and the cover insulating layer 8.

これにより、スライダ26の先端部は、実装領域28に固定される。   Thereby, the tip of the slider 26 is fixed to the mounting area 28.

スライダ26の先端縁は、図2に示すように、ヘッド側端子18に沿って形成されており、具体的には、ヘッド側端子18の後側に微小間隔を隔てて形成される。これにより、図3に示すように、スライダ26の先端部に搭載される磁気ヘッド27が、ヘッド側端子18とはんだボール83などによって電気的に接続される。   As shown in FIG. 2, the leading edge of the slider 26 is formed along the head-side terminal 18, and specifically, is formed on the rear side of the head-side terminal 18 with a minute interval. As a result, as shown in FIG. 3, the magnetic head 27 mounted on the tip of the slider 26 is electrically connected by the head-side terminal 18 and the solder ball 83 or the like.

スライダ26の後端縁は、図2に示すように、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25の間と、中央部16の先後方向途中とを、幅方向に横切るように配置される。具体的には、スライダ26の後端縁が、第1連結部35と中央部16との間にわたって幅方向に沿って直線状に架設される導体領域2(後述する薄肉領域30)に沿うように配置され、厚み方向に投影したときに、かかる導体領域2の先側に微小間隔を隔てて平行状に配置される。   As shown in FIG. 2, the rear end edge of the slider 26 is arranged so as to cross between the piezo front side terminal 24 and the piezo rear side terminal 25 and the middle of the central portion 16 in the front-rear direction. Specifically, the rear end edge of the slider 26 extends along a conductor region 2 (a thin region 30 described later) that extends in a straight line along the width direction between the first connecting portion 35 and the central portion 16. When arranged in the thickness direction and projected in the thickness direction, the conductor regions 2 are arranged in parallel with a minute gap therebetween.

なお、スライダ26は、平面視において、中央部16に沿う導体領域2と、ステージ17の後端部における導体領域2とを含むように実装される。   The slider 26 is mounted so as to include the conductor region 2 along the central portion 16 and the conductor region 2 at the rear end portion of the stage 17 in plan view.

ピエゾ素子23は、先後方向に伸縮可能となるように、各ピエゾ先側端子24および各ピエゾ後側端子25を架設するように実装される。具体的には、各ピエゾ素子23の先端部および後端部は、ピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25に電気的に接続されるとともに、それらにそれぞれ固定される。   The piezo element 23 is mounted so that each piezo front side terminal 24 and each piezo back side terminal 25 are installed so as to be extendable in the front-rear direction. Specifically, the front end portion and the rear end portion of each piezo element 23 are electrically connected to the piezo tip side terminal 24 and the piezo back side terminal 25 and are fixed to them.

ピエゾ素子23は、ピエゾ先側端子24を介して電気が供給され、その電圧が制御されることによって、伸縮する。   The piezo element 23 expands and contracts when electricity is supplied through the piezo tip side terminal 24 and the voltage is controlled.

なお、図3および図4では、ピエゾ素子23の上面に、第1連結部35と中央部16との間に架設される導体領域2が載置されるように図示されているが、実際には、それらの間には微小間隔が設けられている。   In FIGS. 3 and 4, the conductor region 2 laid between the first connecting portion 35 and the central portion 16 is illustrated on the upper surface of the piezo element 23. Are provided with a minute interval between them.

次に、ピエゾ素子23の伸縮によるスライダ26の揺動について、図2、図3、図5および図6を参照して説明する。   Next, swinging of the slider 26 due to expansion and contraction of the piezo element 23 will be described with reference to FIGS. 2, 3, 5, and 6.

まず、ピエゾ素子23は、電気がピエゾ先側端子24を介して供給され、電気の電圧が制御されることによって、一方が収縮する。すると、一方のピエゾ素子23を固定するピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25が相対的に近接する。つまり、一方のピエゾ先側端子24が、基部15に支持される一方のピエゾ後側端子25に対して後側に移動する。   First, electricity is supplied to the piezo element 23 via the piezo tip side terminal 24, and one of the piezo elements 23 contracts by controlling the voltage of electricity. Then, the piezoelectric front side terminal 24 and the piezoelectric rear side terminal 25 for fixing one piezoelectric element 23 are relatively close to each other. That is, one piezoelectric front terminal 24 moves rearward with respect to one piezoelectric rear terminal 25 supported by the base 15.

これと同時に、電気がピエゾ先側端子24を介して供給され、電気の電圧が制御されることによって、他方のピエゾ素子23が伸長する。すると、他方のピエゾ素子23を固定するピエゾ先側端子24およびピエゾ後側端子25が相対的に離間する。つまり、他方のピエゾ先側端子24が、基部15に支持される他方のピエゾ後側端子25に対して、先側に移動する。   At the same time, electricity is supplied through the piezoelectric tip side terminal 24, and the voltage of the electricity is controlled, so that the other piezoelectric element 23 expands. Then, the piezoelectric front side terminal 24 and the piezoelectric rear side terminal 25 that fix the other piezoelectric element 23 are relatively separated from each other. That is, the other piezoelectric front terminal 24 moves forward with respect to the other piezoelectric rear terminal 25 supported by the base 15.

これにより、中央部16の先端および先後方向途中が、幅方向一方側に(図5における左側)湾曲しながら、ステージ17が、中央部16の後端を支点として、幅方向一方側に向かって揺動する。これとともに、スライダ26が幅方向一方側に向かって揺動する。   As a result, the stage 17 moves toward the one side in the width direction, with the rear end of the center portion 16 as a fulcrum, while the tip of the center portion 16 and the middle in the front-rear direction curve toward the one side in the width direction (left side in FIG. 5). Swing. At the same time, the slider 26 swings toward one side in the width direction.

そうすると、図5および図6に示すように、スライダ26の後端部の幅方向一端部が、第1連結部35と中央部16との間に架設される導体領域2と、厚み方向に対向する。他方、スライダ26の後端部の幅方向他端部は、上記した導体領域2から離間する。   Then, as shown in FIGS. 5 and 6, one end in the width direction of the rear end of the slider 26 is opposed to the conductor region 2 laid between the first connecting portion 35 and the central portion 16 in the thickness direction. To do. On the other hand, the other end in the width direction of the rear end of the slider 26 is separated from the conductor region 2 described above.

なお、ピエゾ素子23の一方を伸長させ、他方を収縮させれば、スライダ26が上記と逆向き(幅方向他方側、図5における右側)に揺動する。   If one of the piezo elements 23 is extended and the other is contracted, the slider 26 swings in the opposite direction (the other side in the width direction, the right side in FIG. 5).

この回路付サスペンション基板1では、図5において、上記したスライダ26の揺動時に、導体領域2において、スライダ26と厚み方向に対向する部分が、対向領域29とされる。   In this suspension board with circuit 1, in FIG. 5, when the slider 26 swings, the portion of the conductor region 2 that faces the slider 26 in the thickness direction is the facing region 29.

対向領域29は、第1連結部35と中央部16との間に架設される導体領域2(後述する薄肉領域30)と、中央部16に沿う導体領域2と、ステージ17の後端部における導体領域2とを含んでいる。   The facing area 29 is formed in a conductor area 2 (thin area 30 described later) laid between the first connecting portion 35 and the center section 16, a conductor area 2 along the center section 16, and a rear end portion of the stage 17. Conductor region 2.

そして、この回路付サスペンション基板1では、第1連結部35と中央部16との間に架設される導体領域2が薄肉領域30とされている。   In the suspension board with circuit 1, the conductor region 2 provided between the first connecting portion 35 and the central portion 16 is a thin region 30.

薄肉領域30は、図3および図4に示すように、対向領域29以外の導体領域2に比べて厚みが薄く形成されている。例えば、薄肉領域30の厚みは、対向領域29以外の導体領域2の厚みに比べて、例えば、2〜45μm薄く、好ましくは、5〜40μm薄い。   As shown in FIGS. 3 and 4, the thin region 30 is formed to be thinner than the conductor region 2 other than the facing region 29. For example, the thickness of the thin region 30 is, for example, 2 to 45 μm thinner, preferably 5 to 40 μm thinner than the thickness of the conductor region 2 other than the opposing region 29.

詳しくは、薄肉領域30の厚みは、例えば、5〜48μm、好ましくは、8〜45μmである。   Specifically, the thickness of the thin region 30 is, for example, 5 to 48 μm, or preferably 8 to 45 μm.

また、対向領域29以外の導体領域2の厚みは、例えば、10〜50μm、好ましくは、13〜35μmである。   Moreover, the thickness of the conductor area | region 2 other than the opposing area | region 29 is 10-50 micrometers, for example, Preferably, it is 13-35 micrometers.

具体的には、薄肉領域30におけるベース絶縁層7の厚みが、対向領域29以外の導体領域2のベース絶縁層7の厚みより薄く、具体的には、例えば、2〜30μm薄く、好ましくは、5〜30μm薄く形成されている。薄肉領域30におけるベース絶縁層7、つまり、薄肉ベース部分31の厚みが、例えば、1〜33μm、好ましくは、3〜30μmである。   Specifically, the thickness of the base insulating layer 7 in the thin region 30 is thinner than the thickness of the base insulating layer 7 in the conductor region 2 other than the opposing region 29, specifically, for example, 2 to 30 μm thinner, preferably It is formed 5 to 30 μm thin. The thickness of the base insulating layer 7 in the thin region 30, that is, the thin base portion 31 is, for example, 1 to 33 μm, preferably 3 to 30 μm.

この回路付サスペンション基板1を得るには、図7(a)に示すように、まず、金属支持基板5を用意する。   In order to obtain the suspension board with circuit 1, first, a metal support board 5 is prepared as shown in FIG.

次いで、図7(b)に示すように、ベース絶縁層7を金属支持基板5の上に形成する。ベース絶縁層7を形成するには、感光性の絶縁材料のワニスを金属支持基板5の上に塗布して乾燥させて、ベース皮膜を形成する。   Next, as shown in FIG. 7B, the base insulating layer 7 is formed on the metal support substrate 5. In order to form the base insulating layer 7, a varnish of a photosensitive insulating material is applied onto the metal support substrate 5 and dried to form a base film.

その後、ベース皮膜を、図示しない階調露光フォトマスクを介して露光する(階調露光)。階調露光フォトマスクは、遮光部分、光半透過部分および光全透過部分をパターンで備えており、ベース絶縁層7(薄肉ベース部分31を形成する部分を除く。)を形成する部分には光全透過部分を、薄肉ベース部分31を形成する部分には光半透過部分を、ベース絶縁層7を形成しない部分には遮光部分を、ベース皮膜に対して、対向配置する。   Thereafter, the base film is exposed through a gradation exposure photomask (not shown) (gradation exposure). The gradation exposure photomask has a light-shielding portion, a light semi-transmissive portion, and a light total-transmissive portion in a pattern, and light is applied to a portion where the base insulating layer 7 (excluding the portion where the thin base portion 31 is formed) is formed. The total transmission part is disposed opposite to the base film with the light semi-transmission part in the part where the thin base part 31 is formed and the light-shielding part in the part where the base insulating layer 7 is not formed.

その後、ベース皮膜を現像し、必要により硬化させることにより、薄肉ベース部分31を備えるベース絶縁層7を、上記したパターンで形成する。   Thereafter, the base film is developed and cured as necessary, thereby forming the base insulating layer 7 having the thin base portion 31 with the above-described pattern.

次いで、図7(c)に示すように、導体層6を、金属支持基板5およびベース絶縁層7の上に、アディティブ法またはサブトラクティブ法などのパターン形成法によって形成する。   Next, as shown in FIG. 7C, the conductor layer 6 is formed on the metal supporting substrate 5 and the base insulating layer 7 by a pattern forming method such as an additive method or a subtractive method.

次いで、図7(d)に示すように、カバー絶縁層8を、ベース絶縁層7の上に形成する。カバー絶縁層8を形成するには、感光性の絶縁材料のワニスを塗布して乾燥させて、カバー皮膜を形成した後、カバー皮膜を露光し、続いて、現像して、加熱硬化することにより、上記したパターンで形成する。   Next, as shown in FIG. 7D, the insulating cover layer 8 is formed on the insulating base layer 7. In order to form the cover insulating layer 8, a varnish of a photosensitive insulating material is applied and dried to form a cover film, and then the cover film is exposed, followed by development and heat curing. The pattern is formed as described above.

次いで、図7(e)に示すように、金属支持基板5を、例えば、エッチングなどによって外形加工して、基板開口部11を形成する。   Next, as shown in FIG. 7E, the metal support substrate 5 is subjected to external processing by, for example, etching to form the substrate opening 11.

そして、上記した回路付サスペンション基板1によれば、実装領域28が、スライダ26を導体領域2に対する相対移動可能に実装して、磁気ヘッド27の位置および角度を精密に調節することができる。   According to the suspension board with circuit 1 described above, the mounting region 28 can mount the slider 26 so as to be movable relative to the conductor region 2, and the position and angle of the magnetic head 27 can be adjusted precisely.

また、導体領域2は、対向領域29を備えるので、回路付サスペンション基板1の小型化および導体層6の高密度化を図ることができる。   Further, since the conductor region 2 includes the facing region 29, the suspension board with circuit 1 can be reduced in size and the conductor layer 6 can be increased in density.

さらに、薄肉領域30は、対向領域29以外の導体領域2に比べて厚みが薄いので、揺動時のスライダ26との厚み方向における間隔を十分に確保することができる。   Furthermore, since the thin region 30 is thinner than the conductor region 2 other than the opposing region 29, a sufficient distance in the thickness direction from the slider 26 when swinging can be secured.

具体的には、薄肉ベース部分31の厚みが、対向領域29以外の導体領域2におけるベース絶縁層7の厚みより薄いので、薄肉領域30における導体層6の上面の上下方向位置が、対向領域29以外の導体領域2における導体層6の上面の上下方向位置より低い。   Specifically, since the thickness of the thin base portion 31 is thinner than the thickness of the base insulating layer 7 in the conductor region 2 other than the opposing region 29, the vertical position of the upper surface of the conductor layer 6 in the thin region 30 is the opposing region 29. It is lower than the vertical position of the upper surface of the conductor layer 6 in the conductor region 2 other than the above.

よって、図6に示すように、薄肉領域30を、厚み方向に投影したときに、スライダ26と重なっても、かかるスライダ26と厚み方向に離間する離間部とすることができる。   Therefore, as shown in FIG. 6, even when the thin region 30 is projected in the thickness direction, even if it overlaps with the slider 26, it can be a separation portion that is separated from the slider 26 in the thickness direction.

そのため、薄肉領域30によって、スライダ26と対向領域29とを厚み方向に離間するので、スライダ26による対向領域29への損傷を確実に防止することができる。   Therefore, since the slider 26 and the opposing region 29 are separated in the thickness direction by the thin region 30, damage to the opposing region 29 by the slider 26 can be reliably prevented.

これによって、薄肉領域30における導体層6と、スライダ26の下面とが接触することを有効に防止することができる。   Accordingly, it is possible to effectively prevent the conductor layer 6 in the thin region 30 and the lower surface of the slider 26 from contacting each other.

つまり、薄肉領域30を、スライダ26による対向領域29における導体層6への損傷を防止するための損傷防止部とすることができる。   That is, the thin region 30 can be used as a damage prevention unit for preventing the conductor layer 6 from being damaged in the facing region 29 by the slider 26.

一方、図6の仮想線で示すように、薄肉領域30が、厚く形成されると、揺動時のスライダ26の下面と接触してしまう。つまり、薄肉領域30とスライダ26とを厚み方向に離間することができず、さらには、スライダ26による導体層6への損傷を防止することもできない。   On the other hand, as shown by the phantom line in FIG. 6, when the thin region 30 is formed thick, it comes into contact with the lower surface of the slider 26 at the time of swinging. That is, the thin region 30 and the slider 26 cannot be separated in the thickness direction, and further, damage to the conductor layer 6 by the slider 26 cannot be prevented.

しかし、この回路付サスペンション基板1では、薄肉領域30と、スライダ26との接触を有効に防止して、かかる接触に起因する配線9の損傷を防止することができる。   However, in the suspension board with circuit 1, the contact between the thin region 30 and the slider 26 can be effectively prevented, and damage to the wiring 9 due to such contact can be prevented.

また、この回路付サスペンション基板1では、スライダ26の後端部は、先端部に比べて、薄肉領域30に対する揺動が大きく、その分、導体領域2と接触し易い。しかし、上記した回路付サスペンション基板1では、導体領域2に対する揺動時のスライダ26と薄肉領域30との接触を有効に防止して、かかる接触に起因する配線9の損傷を防止することができる。   Further, in the suspension board with circuit 1, the rear end portion of the slider 26 swings more with respect to the thin region 30 than the front end portion, and accordingly, is easily in contact with the conductor region 2. However, in the suspension board with circuit 1 described above, it is possible to effectively prevent the contact between the slider 26 and the thin region 30 when swinging with respect to the conductor region 2 and to prevent the wiring 9 from being damaged due to such contact. .

また、上記した説明では、薄肉領域30を、対向領域29のうち、第1連結部35と中央部16との間に架設される導体領域2としているが、例えば、図示しないが、上記に加え、あるいは、上記に代えて、中央部16に沿う導体領域2、および/または、ステージ17の後端部における導体領域2を、薄肉領域30とすることもできる。   Further, in the above description, the thin region 30 is the conductor region 2 constructed between the first connecting portion 35 and the central portion 16 in the opposing region 29. For example, although not shown, in addition to the above, Alternatively, instead of the above, the conductor region 2 along the central portion 16 and / or the conductor region 2 at the rear end portion of the stage 17 may be the thin region 30.

図8〜図12は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態の薄肉部分の断面図を示す。   FIGS. 8-12 shows sectional drawing of the thin part of other embodiment of the suspension board | substrate with a circuit of this invention.

なお、上記した各部に対応する部材については、以降の各図面において同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。   In addition, about the member corresponding to each above-mentioned part, the same referential mark is attached | subjected in each subsequent drawing, and the detailed description is abbreviate | omitted.

上記した説明では、薄肉領域30は、ベース絶縁層7の薄肉ベース部分31を備えているが、例えば、薄肉カバー部分32および/または薄肉導体部分33を追加的に、あるいは、単独で備えることができる。   In the above description, the thin region 30 includes the thin base portion 31 of the base insulating layer 7. For example, the thin region 30 may additionally or independently include the thin cover portion 32 and / or the thin conductor portion 33. it can.

図8において、薄肉領域30は、対向領域29以外の導体領域2におけるカバー絶縁層8に比べて厚みが薄い薄肉カバー部分32を備えている。   In FIG. 8, the thin region 30 includes a thin cover portion 32 that is thinner than the cover insulating layer 8 in the conductor region 2 other than the facing region 29.

図9において、薄肉領域30は、対向領域29以外の薄肉ベース部分31と、薄肉カバー部分32とを備えている。   In FIG. 9, the thin region 30 includes a thin base portion 31 other than the facing region 29 and a thin cover portion 32.

図10において、薄肉領域30は、導体領域2における導体層6に比べて厚みが薄い薄肉導体部分33を備えている。   In FIG. 10, the thin region 30 includes a thin conductor portion 33 that is thinner than the conductor layer 6 in the conductor region 2.

図11において、薄肉領域30は、薄肉ベース部分31と、薄肉導体部分33とを備えている。   In FIG. 11, the thin region 30 includes a thin base portion 31 and a thin conductor portion 33.

図12において、薄肉領域30は、薄肉導体部分33と、薄肉カバー部分32とを備えている。   In FIG. 12, the thin region 30 includes a thin conductor portion 33 and a thin cover portion 32.

図10〜図12で示す薄肉導体部分33を形成するには、例えば、サブトラクティブ法において、導体層6をパターンに形成した後、薄肉導体部分33以外の部分にエッチングレジストを積層し、続いて、エッチングレジストから露出する導体層6をハーフエッチングし、その後、エッチングレジストを除去する。   In order to form the thin conductor portion 33 shown in FIGS. 10 to 12, for example, in the subtractive method, after forming the conductor layer 6 in a pattern, an etching resist is laminated on portions other than the thin conductor portion 33, The conductor layer 6 exposed from the etching resist is half-etched, and then the etching resist is removed.

また、図8、図9および図12で示す薄肉カバー部分32を備えるカバー絶縁層8を形成するには、例えば、感光性の絶縁材料のワニスを、ベース絶縁層7の上に塗布して乾燥させて、カバー皮膜を形成する。   In order to form the insulating cover layer 8 having the thin cover portion 32 shown in FIGS. 8, 9 and 12, for example, a varnish of a photosensitive insulating material is applied on the insulating base layer 7 and dried. To form a cover film.

その後、カバー皮膜を、図示しない階調露光フォトマスクを介して露光する(階調露光)。階調露光フォトマスクは、遮光部分、光半透過部分および光全透過部分をパターンで備えており、カバー絶縁層8(薄肉カバー部分32を形成する部分を除く。)を形成する部分には光全透過部分を、薄肉カバー部分32を形成する部分には光半透過部分を、カバー絶縁層8を形成しない部分には遮光部分を、カバー皮膜に対して、対向配置する。   Thereafter, the cover film is exposed through a gradation exposure photomask (not shown) (gradation exposure). The gradation exposure photomask has a light-shielding portion, a light semi-transmissive portion, and a light transmissive portion in a pattern, and light is applied to a portion where the cover insulating layer 8 (excluding the portion where the thin cover portion 32 is formed) is formed. The light transmitting portion is disposed opposite to the cover film, and the light transmitting portion is disposed in the portion where the thin cover portion 32 is formed, and the light shielding portion is disposed in the portion where the cover insulating layer 8 is not formed.

その後、カバー皮膜を現像し、必要により硬化させることにより、薄肉カバー部分32を備えるカバー絶縁層8を、上記したパターンで形成する。   Thereafter, the cover film is developed and cured as necessary, thereby forming the insulating cover layer 8 including the thin cover portion 32 in the above-described pattern.

なお、図8における薄肉領域30では、導体層6の上面の上下方向位置が、対向領域29以外の導体領域2における導体層6の上面の上下方向位置と同じ位置にある。しかしながら、薄肉カバー部分32の厚みが薄いことから、スライダ26の下面と、薄肉カバー部分32との接触に基づくカバー絶縁層8の損傷に起因する、薄肉領域30における導体層6の損傷を防止することができる。   8, the vertical position of the upper surface of the conductor layer 6 is the same as the vertical position of the upper surface of the conductor layer 6 in the conductor region 2 other than the facing region 29. However, since the thin cover portion 32 is thin, the conductor layer 6 in the thin region 30 is prevented from being damaged due to damage to the insulating cover layer 8 due to contact between the lower surface of the slider 26 and the thin cover portion 32. be able to.

図13は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態(台座が設けられる態様)の平面図を、図14および図15は、図13に示す回路付サスペンション基板のジンバル部の平面図および底面図、図16は、図14および図15に示すジンバル部のC−C線に沿う断面図、図17は、図14に示すジンバル部の平面図であり、第1ベース絶縁層を明示した平面図、図18は、図15に示すジンバル部の底面図であり、第2ベース絶縁層を明示した底面図、図19〜図21は、回路付サスペンション基板の製造方法を説明するための工程図、図22は、図14に示すジンバル部のステージを揺動させた状態の平面図、図23は、図16に示すジンバル部のステージを揺動させた状態の断面図を示す。   FIG. 13 is a plan view of another embodiment of the suspension board with circuit of the present invention (a mode in which a pedestal is provided), and FIGS. 14 and 15 are plan views of a gimbal portion of the suspension board with circuit shown in FIG. FIG. 16 is a bottom view, FIG. 16 is a cross-sectional view taken along line CC of the gimbal part shown in FIGS. 14 and 15, and FIG. 17 is a plan view of the gimbal part shown in FIG. FIG. 18 is a bottom view of the gimbal portion shown in FIG. 15, and a bottom view clearly showing the second base insulating layer. FIGS. 19 to 21 are steps for explaining a method of manufacturing a suspension board with circuit. FIG. 22 is a plan view of the state where the stage of the gimbal part shown in FIG. 14 is swung, and FIG. 23 is a sectional view of the state where the stage of the gimbal part shown in FIG. 16 is swung.

なお、図13、図14および図22において、後述する第1ベース絶縁層51および第1カバー絶縁層53は、後述する第1導体パターン52の相対配置を明確に示すために省略している。   In FIG. 13, FIG. 14 and FIG. 22, a first base insulating layer 51 and a first cover insulating layer 53 which will be described later are omitted in order to clearly show the relative arrangement of the first conductor pattern 52 which will be described later.

また、図15において、後述する第2ベース絶縁層71および第2カバー絶縁層73は、後述する第2導体パターン72の相対配置を明確に示すために、省略している。   In FIG. 15, the second base insulating layer 71 and the second cover insulating layer 73 described later are omitted to clearly show the relative arrangement of the second conductor pattern 72 described later.

さらに、図17において、後述する第1カバー絶縁層53は、後述する第1導体パターン52および第1ベース絶縁層51の相対配置を明確に示すために、省略している。   Further, in FIG. 17, a first cover insulating layer 53 described later is omitted in order to clearly show a relative arrangement of a first conductor pattern 52 and a first base insulating layer 51 described later.

さらにまた、図15において、後述する第2カバー絶縁層73は、後述する第2導体パターン72および第2ベース絶縁層71の相対配置を明確に示すために、省略している。   Further, in FIG. 15, a second cover insulating layer 73 described later is omitted in order to clearly show a relative arrangement of a second conductor pattern 72 and a second base insulating layer 71 described later.

図13および図16において、この回路付サスペンション基板1は、磁気ヘッド27を搭載するスライダ26およびピエゾ素子23が搭載されて、ハードディスクドライブ(図示せず)に搭載される。   13 and 16, the suspension board with circuit 1 is mounted on a hard disk drive (not shown) on which a slider 26 and a piezoelectric element 23 on which a magnetic head 27 is mounted are mounted.

回路付サスペンション基板1は、図13に示すように、先後方向に延びる平帯形状に形成されており、本体部3と、ジンバル部4とを一体的に備えている。   As shown in FIG. 13, the suspension board with circuit 1 is formed in a flat band shape extending in the front-rear direction, and integrally includes a main body portion 3 and a gimbal portion 4.

本体部3は、先後方向に延びる平面視略矩形状に形成されている。本体部3は、回路付サスペンション基板1がハードディスクドライブに搭載されるときに、ハードディスクドライブのロードビーム(図示せず)に支持されながら、リード・ライト基板などの外部回路基板46(仮想線)、および、電源47(仮想線)に電気的に接続される。   The main body 3 is formed in a substantially rectangular shape in plan view extending in the front-rear direction. When the suspension board with circuit 1 is mounted on a hard disk drive, the main body 3 is supported by an external circuit board 46 (virtual line) such as a read / write board while being supported by a load beam (not shown) of the hard disk drive. And it is electrically connected to the power supply 47 (virtual line).

ジンバル部4には、厚み方向を貫通する平面視略矩形状の基板開口部11が形成されている。   The gimbal portion 4 is formed with a substrate opening 11 having a substantially rectangular shape in plan view that penetrates the thickness direction.

ジンバル部4は、図14に示すように、アウトリガー部34と、タング部12とを備えている。   As shown in FIG. 14, the gimbal portion 4 includes an outrigger portion 34 and a tongue portion 12.

タング部12は、基部15と、ステージ17と、中央部16とを一体的に備えている。   The tongue portion 12 is integrally provided with a base portion 15, a stage 17, and a central portion 16.

ステージ17の後端部は、スライダ26が実装される実装領域28とされている。   A rear end portion of the stage 17 is a mounting area 28 where the slider 26 is mounted.

また、先後方向において、基部15の幅方向両端部と、ステージ17の幅方向端部との間に囲まれる空間として、連通空間14が仕切られている。   In addition, in the front-rear direction, the communication space 14 is partitioned as a space surrounded by the width direction both ends of the base portion 15 and the width direction end portion of the stage 17.

つまり、連通空間14は、中央部16の幅方向両側に仕切られており、各連通空間14は、回路付サスペンション基板1の厚み方向を貫通するように形成されている。   That is, the communication space 14 is partitioned on both sides in the width direction of the central portion 16, and each communication space 14 is formed so as to penetrate the thickness direction of the suspension board with circuit 1.

ステージ17には、先後方向中央部分に配線折返部55が区画されている。   In the stage 17, a wiring folded portion 55 is defined at the center in the front-rear direction.

配線折返部55は、ステージ17において後述する第1導体パターン52が折り返される領域として、幅方向に長い平面視略矩形状に仕切られている。   The wiring folded portion 55 is partitioned into a substantially rectangular shape in plan view that is long in the width direction as a region where a first conductor pattern 52 (to be described later) is folded on the stage 17.

また、ステージ17は、第2連結部20によって、アウトリガー部34に接続されている。第2連結部20は、湾曲部21と、E字部22を備えている。   Further, the stage 17 is connected to the outrigger portion 34 by the second connecting portion 20. The second connecting portion 20 includes a bending portion 21 and an E-shaped portion 22.

中央部16は、幅方向に湾曲可能な幅狭に形成されている。なお、中央部16は、次に説明する第2台座92が設置される領域を確保する幅で形成されている。   The central portion 16 is formed with a narrow width that can be bent in the width direction. In addition, the center part 16 is formed with the width | variety which ensures the area | region where the 2nd base 92 demonstrated below is installed.

また、タング部12には、スライダ26を支持するための台座90が設けられている。   The tongue portion 12 is provided with a pedestal 90 for supporting the slider 26.

台座90は、基部15に設けられる第1台座91と、中央部16に設けられる第2台座92とを備えている。   The pedestal 90 includes a first pedestal 91 provided in the base portion 15 and a second pedestal 92 provided in the central portion 16.

第1台座91は、基部15の先側部分に配置され、具体的には、厚み方向に投影したときに、後述する第1導体パターン52と重ならないように、配置されている。第1台座91は、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(2つ)対向配置されている。各第1台座91は、幅方向に沿って延びるように形成されており、具体的には、幅方向に長い平面視略矩形状に形成されている。   The first pedestal 91 is disposed at the front side portion of the base portion 15, and specifically, is disposed so as not to overlap a first conductor pattern 52 described later when projected in the thickness direction. A plurality (two) of the first pedestals 91 are arranged opposite to each other at an interval in the width direction. Each first pedestal 91 is formed so as to extend in the width direction, and specifically, is formed in a substantially rectangular shape in plan view that is long in the width direction.

他方、第2台座92は、平面視略円形状をなし、第1台座91の先側に間隔を隔てて設けられ、具体的には、中央部16の先後方向中央部分に配置されている。また、第2台座92は、厚み方向において、中央部16における第1導体パターン52と重複するように、配置されている。   On the other hand, the second pedestal 92 has a substantially circular shape in plan view, and is provided on the front side of the first pedestal 91 with a space therebetween. Specifically, the second pedestal 92 is disposed at a central portion in the front-rear direction of the central portion 16. The second pedestal 92 is arranged so as to overlap the first conductor pattern 52 in the central portion 16 in the thickness direction.

台座90は、図16に示すように、上面の上下方向位置が互いに同じ高さとなるように形成されており、具体的には、第1台座91および各第2台座92の上面は、先後方向または幅方向に投影したときに、直線状になるように、形成されている。   As shown in FIG. 16, the pedestal 90 is formed so that the vertical positions of the upper surface are the same height as each other. Specifically, the upper surfaces of the first pedestal 91 and each second pedestal 92 are in the front-rear direction. Or it forms so that it may become linear shape when it projects in the width direction.

また、第1台座91および各第2台座92の上面は、平坦状に形成されている。   Moreover, the upper surface of the 1st base 91 and each 2nd base 92 is formed in flat shape.

そのため、台座90は、スライダ26を摺動可能に接触することができる。   Therefore, the base 90 can contact the slider 26 so that sliding is possible.

そして、回路付サスペンション基板1は、金属支持基板5と、金属支持基板5の上に形成される第1ベース絶縁層51と、第1ベース絶縁層51の上に形成される導体層としての第1導体パターン52と、第1ベース絶縁層51の上に、第1導体パターン52を被覆するように形成される第1カバー絶縁層53とを備えている。   The suspension board with circuit 1 includes a metal support board 5, a first base insulating layer 51 formed on the metal support board 5, and a first conductor layer formed on the first base insulating layer 51. One conductive pattern 52 and a first cover insulating layer 53 formed on the first insulating base layer 51 so as to cover the first conductive pattern 52 are provided.

図13に示すように、金属支持基板5は、先後方向に延び、上記した回路付サスペンション基板1の外形形状と実質的に同じ外形形状に形成されている。   As shown in FIG. 13, the metal support board 5 extends in the front-rear direction, and is formed in an outer shape substantially the same as the outer shape of the suspension board with circuit 1 described above.

また、図16に示すように、金属支持基板5には、導通開口部59が形成されている。   Further, as shown in FIG. 16, a conductive opening 59 is formed in the metal support substrate 5.

導通開口部59は、基部15およびステージ17に、図14が参照されるように、間隔を隔てて複数(4つ)設けられている。具体的には、導通開口部59は、基部15の幅方向両端部およびステージ17の幅方向両端部にそれぞれ形成されている。各導通開口部59は、金属支持基板5を厚み方向に貫通する平面視略円形状に形成されている。   A plurality (four) of conductive openings 59 are provided at intervals in the base 15 and the stage 17 as shown in FIG. Specifically, the conduction openings 59 are respectively formed at both ends in the width direction of the base portion 15 and both ends in the width direction of the stage 17. Each conduction opening 59 is formed in a substantially circular shape in plan view that penetrates the metal support substrate 5 in the thickness direction.

第1ベース絶縁層51は、図16および図17に示すように、第1導体パターン52が形成される部分に対応するように形成されている。   As shown in FIGS. 16 and 17, the first insulating base layer 51 is formed so as to correspond to a portion where the first conductor pattern 52 is formed.

詳しくは、第1ベース絶縁層51は、本体部3およびジンバル部4の上面に形成されている。より具体的には、第1ベース絶縁層51は、基部15の金属支持基板5の先端縁(幅方向中央部を除く)および後端縁の上面を露出し、中央部16の金属支持基板5の幅方向両端縁の上面を露出するとともに、ステージ17の先端縁および幅方向両端縁の上面を露出するパターンに形成されている。   Specifically, the first base insulating layer 51 is formed on the upper surfaces of the main body portion 3 and the gimbal portion 4. More specifically, the first insulating base layer 51 exposes the top edge (excluding the central portion in the width direction) and the rear edge of the metal support substrate 5 of the base portion 15, and the metal support substrate 5 of the central portion 16. Are formed in a pattern that exposes the upper surface of both edges in the width direction and the upper surface of the leading edge of the stage 17 and both edges in the width direction.

また、第1ベース絶縁層51は、連通空間14の先端部を被覆するように形成されている。   The first insulating base layer 51 is formed so as to cover the tip of the communication space 14.

つまり、ステージ17に対応する第1ベース絶縁層51は、その後端縁65が、厚み方向に投影したときに、連通空間14の先端縁よりも後側へ突出している。   That is, the first base insulating layer 51 corresponding to the stage 17 has the rear end edge 65 protruding rearward from the front end edge of the communication space 14 when projected in the thickness direction.

なお、基部15に対応する第1ベース絶縁層51は、その先端縁63が、厚み方向に投影したときに、連通空間14の後端縁よりも後側に配置されている。   Note that the first base insulating layer 51 corresponding to the base portion 15 is disposed on the rear side of the rear end edge of the communication space 14 when the front end edge 63 is projected in the thickness direction.

また、第1ベース絶縁層51は、次に説明する第1導体パターン52とともに、導体領域2を形成する。   The first insulating base layer 51 forms the conductor region 2 together with the first conductor pattern 52 described below.

さらに、第1ベース絶縁層51は、第2連結部20を形成する。   Further, the first base insulating layer 51 forms the second connection part 20.

さらにまた、第1ベース絶縁層51は、図16に示すように、金属支持基板5の各導通開口部59の周端縁を円環状に被覆している。これにより、第1ベース絶縁層51には、各導通開口部59に対応する複数(4つ)の第1ベース貫通孔64が、導通開口部59と中心を共有する平面視略円形状に形成されている。   Furthermore, as shown in FIG. 16, the first insulating base layer 51 covers the peripheral edge of each conductive opening 59 of the metal support substrate 5 in an annular shape. Thereby, a plurality of (four) first base through holes 64 corresponding to each conduction opening 59 are formed in the first base insulating layer 51 in a substantially circular shape in plan view sharing the center with the conduction opening 59. Has been.

第1導体パターン52は、図13および図17に示すように、磁気ヘッド27(図16)に電気的に接続されるヘッド側パターン57と、ピエゾ素子23(図16)に電気的に接続される素子側パターン58とを備えている。   As shown in FIGS. 13 and 17, the first conductor pattern 52 is electrically connected to the head-side pattern 57 that is electrically connected to the magnetic head 27 (FIG. 16) and to the piezo element 23 (FIG. 16). The element side pattern 58 is provided.

ヘッド側パターン57は、ヘッド側端子18と、外部側端子10(図13)と、これらヘッド側端子18および外部側端子10を接続するための信号配線62とを一体的に備えている。   The head side pattern 57 is integrally provided with a head side terminal 18, an external side terminal 10 (FIG. 13), and a signal wiring 62 for connecting the head side terminal 18 and the external side terminal 10.

ヘッド側端子18は、図14および図17に示すように、ステージ17の幅方向両端部の後端部に複数(4つ)配置されている。具体的には、各ヘッド側端子18は、平面視略矩形状をなし、配線折返部55の後側に配置され、幅方向に互いに間隔を隔てて整列配置されている。また、ヘッド側端子18は、先後方向に投影したときに、中央部16の幅方向両側に間隔を隔てて配置されている。   As shown in FIGS. 14 and 17, a plurality (four) of the head-side terminals 18 are arranged at the rear end portions of both ends in the width direction of the stage 17. Specifically, each head-side terminal 18 has a substantially rectangular shape in plan view, is disposed on the rear side of the wiring folded portion 55, and is aligned and spaced from each other in the width direction. Further, the head-side terminals 18 are arranged at intervals on both sides in the width direction of the central portion 16 when projected in the front-rear direction.

ヘッド側端子18の後端縁87は、図16および図17に示すように、ステージ17における第1ベース絶縁層51の後端縁65よりも先側に退避するように、配置されている。   As shown in FIGS. 16 and 17, the rear end edge 87 of the head-side terminal 18 is disposed so as to be retracted further forward than the rear end edge 65 of the first base insulating layer 51 in the stage 17.

外部側端子10は、図13に示すように、本体部3の後端部において、幅方向に互いに間隔を隔てて整列配置され、ヘッド側端子18に対応するように、複数(4つ)設けられている。外部側端子10には、仮想線で示す外部回路基板46が接続される。   As shown in FIG. 13, a plurality of (four) external terminals 10 are arranged at the rear end portion of the main body portion 3 so as to be spaced apart from each other in the width direction and correspond to the head side terminals 18. It has been. An external circuit board 46 indicated by a virtual line is connected to the external terminal 10.

各信号配線62は、対応するヘッド側端子18と外部側端子10とを接続するように、互いに間隔を隔てて、複数(4つ)形成されている。   Each signal wiring 62 is formed in a plurality (four) at a distance from each other so as to connect the corresponding head side terminal 18 and the external terminal 10.

具体的には、信号配線62の後端は、外部側端子10に連続している。詳しくは、信号配線62は、本体部3の後端部において、外部側端子10から先側に向かって延び、本体部3の先後方向途中において、幅方向両側に向かって2束に分岐状に屈曲する。その後、信号配線62は、本体部3の先後方向途中において、幅方向両端部において先側に屈曲し、本体部3の先端部に向けて、幅方向外端縁に沿って延び、ジンバル部4において、図14および図17に示すように、基板開口部11を通過した後、第1連結部35に至る。   Specifically, the rear end of the signal wiring 62 is continuous with the external terminal 10. Specifically, the signal wiring 62 extends from the external terminal 10 toward the front side at the rear end portion of the main body 3, and is branched into two bundles toward the both sides in the width direction in the middle of the front-rear direction of the main body 3. Bend. Thereafter, the signal wiring 62 is bent forward at both ends in the width direction in the middle of the body portion 3 in the front-rear direction, and extends along the outer edge in the width direction toward the tip portion of the body portion 3. 14 and 17, after passing through the substrate opening portion 11, the first connecting portion 35 is reached.

その後、信号配線62は、第1連結部35に沿って後方斜め幅方向内側に延び、基部15の幅方向両端部に至り、幅方向内側に屈曲した後、基部15の幅方向中央において合一する。その後、信号配線62は、中央部16に沿って先側に向かって延び、ステージ17の配線折返部55において、幅方向両側に向かって2束に分岐状に屈曲し、その後、ステージ17の後端縁に沿って幅方向両外側に向かって延び、次いで、後側に折り返された後、ヘッド側端子18の先端部に接続されている。   After that, the signal wiring 62 extends inward in the rearward diagonal width direction along the first connecting portion 35, reaches both ends in the width direction of the base portion 15, bends inward in the width direction, and then unites at the center in the width direction of the base portion 15. To do. Thereafter, the signal wiring 62 extends toward the front side along the central portion 16, and is bent into two bundles in two bundles toward the both sides in the width direction at the wiring folded portion 55 of the stage 17. After extending toward the outer side in the width direction along the edge, and then folded back to the rear side, the head side terminal 18 is connected to the front end portion.

なお、信号配線62は、基部15において、第1台座91の後側に間隔を隔てて配置されおり、幅方向に沿う直線状に形成されている。   In addition, the signal wiring 62 is arrange | positioned in the base 15 at the back side of the 1st base 91 at intervals, and is formed in the linear form along the width direction.

素子側パターン58は、図13、図14および図16に示すように、供給側端子36と、表側導通部13と、供給側端子36および表側導通部13を接続するための表側電源配線68とを一体的に備えている。   As shown in FIGS. 13, 14, and 16, the element side pattern 58 includes a supply side terminal 36, a front side conductive portion 13, and a front side power supply wiring 68 for connecting the supply side terminal 36 and the front side conductive portion 13. Is integrated.

供給側端子36は、図13に示すように、本体部3の後端部において、外部側端子10の先側に間隔を隔てて複数(4つ)設けられている。各供給側端子36は、平面視略矩形状をなし、幅方向に間隔を隔てて整列配置されている。供給側端子36には、仮想線で示す電源47が接続される。   As shown in FIG. 13, a plurality (four) of supply-side terminals 36 are provided on the front end side of the external-side terminal 10 at a rear end portion of the main body portion 3 with a space therebetween. Each supply-side terminal 36 has a substantially rectangular shape in plan view, and is arranged in a line in the width direction with an interval. A power supply 47 indicated by a virtual line is connected to the supply side terminal 36.

表側導通部13は、図16に示すように、各第1ベース貫通孔64内にそれぞれ充填されるように、複数(4つ)形成されている。   As shown in FIG. 16, a plurality (four) of the front side conductive portions 13 are formed so as to be filled in the first base through holes 64.

表側電源配線68は、図13および図14に示すように、表側導通部13と供給側端子36とに接続されるように、互いに間隔を隔てて、複数(4つ)形成されている。また、表側電源配線68は、本体部3およびジンバル部4にわたって、信号配線62の外側に間隔を隔てて配置されている。   As shown in FIGS. 13 and 14, a plurality (four) of the front-side power wirings 68 are formed at intervals from each other so as to be connected to the front-side conduction unit 13 and the supply-side terminal 36. Further, the front-side power supply wiring 68 is disposed outside the signal wiring 62 across the main body portion 3 and the gimbal portion 4 with a space therebetween.

そして、第1導体パターン52、具体的には、信号配線62、表側導通部13および表側電源配線68の周囲には、断面視において、第1ベース絶縁層51および第1カバー絶縁層53が形成されている。信号配線62、表側導通部13および表側電源配線68は、第1ベース絶縁層51および第1カバー絶縁層53とともに、導体領域2を形成している。   The first insulating base layer 51 and the first insulating cover layer 53 are formed around the first conductor pattern 52, specifically, the signal wiring 62, the front-side conductive portion 13, and the front-side power supply wiring 68 in a cross-sectional view. Has been. The signal wiring 62, the front conductive portion 13, and the front power supply wiring 68 together with the first base insulating layer 51 and the first cover insulating layer 53 form the conductor region 2.

第1カバー絶縁層53は、図16に示すように、第1導体パターン52が形成される部分に対応して形成されている。   As shown in FIG. 16, the first insulating cover layer 53 is formed corresponding to a portion where the first conductor pattern 52 is formed.

具体的には、第1カバー絶縁層53は、ヘッド側パターン57に対応して、外部側端子10(図13参照)およびヘッド側端子18を露出し、信号配線62を被覆するパターンで形成されている。また、第1カバー絶縁層53は、素子側パターン58に対応して、供給側端子36(図13参照)を露出し、表側電源配線68および表側導通部13を被覆するパターンで形成されている。   Specifically, the first insulating cover layer 53 is formed in a pattern that exposes the external terminal 10 (see FIG. 13) and the head terminal 18 and covers the signal wiring 62 corresponding to the head pattern 57. ing. Further, the first cover insulating layer 53 is formed in a pattern that exposes the supply-side terminal 36 (see FIG. 13) and covers the front-side power supply wiring 68 and the front-side conductive portion 13 corresponding to the element-side pattern 58. .

また、上記した第1ベース絶縁層51、第1導体パターン52および第1カバー絶縁層53は、表側支持層93(後述)とともに、各台座90を形成する。   Further, the first base insulating layer 51, the first conductor pattern 52, and the first cover insulating layer 53 described above form each pedestal 90 together with the front side support layer 93 (described later).

すなわち、台座90は、図16に示すように、第1ベース絶縁層51と、その上に形成される第1導体パターン52と、第1ベース絶縁層51の上に、第1導体パターン52を被覆するように形成される第1カバー絶縁層53と、第1カバー絶縁層53の上に形成される表側支持層93とを備えている。   That is, as shown in FIG. 16, the pedestal 90 has the first base insulating layer 51, the first conductor pattern 52 formed thereon, and the first conductor pattern 52 on the first base insulating layer 51. A first cover insulating layer 53 formed so as to cover and a front support layer 93 formed on the first cover insulating layer 53 are provided.

台座90において、表側支持層93は、平面視において、第1カバー絶縁層53よりやや小さく形成されている。   In the pedestal 90, the front support layer 93 is formed slightly smaller than the first cover insulating layer 53 in plan view.

また、回路付サスペンション基板1は、金属支持基板5の下に形成される第2ベース絶縁層71と、第2ベース絶縁層71の下に形成される第2導体パターン72と、第2ベース絶縁層71の下に、第2導体パターン72を被覆するように形成される第2カバー絶縁層73とを備えている。   The suspension board with circuit 1 includes a second base insulating layer 71 formed under the metal support substrate 5, a second conductor pattern 72 formed under the second base insulating layer 71, and a second base insulating layer. A second cover insulating layer 73 formed so as to cover the second conductor pattern 72 is provided below the layer 71.

第2ベース絶縁層71は、図16および図18に示すように、次に説明する第2導体パターン72が形成される部分に対応して形成されている。   As shown in FIGS. 16 and 18, the second insulating base layer 71 is formed corresponding to a portion where a second conductor pattern 72 described below is formed.

詳しくは、第2ベース絶縁層71は、基部15およびステージ17から連通空間14内に臨むように形成されている。具体的には、第2ベース絶縁層71は、4つの導通開口部59に対応して4つ設けられている。各第2ベース絶縁層71は、先後方向および幅方向に互いに間隔を隔てて独立して配置されており、具体的には、基部15およびステージ17の幅方向両端部に配置されている。   Specifically, the second insulating base layer 71 is formed so as to face the communication space 14 from the base 15 and the stage 17. Specifically, four second insulating base layers 71 are provided corresponding to the four conductive openings 59. Each of the second base insulating layers 71 is independently arranged at intervals in the front-rear direction and the width direction, and specifically, is disposed at both ends of the base portion 15 and the stage 17 in the width direction.

また、各第2ベース絶縁層71は、底面視において、各導通開口部59を含むように、先後方向に長く延びる略矩形状に形成されている。   In addition, each second base insulating layer 71 is formed in a substantially rectangular shape extending long in the front-rear direction so as to include each conduction opening 59 in a bottom view.

基部15に対応する第2ベース絶縁層71は、基部15の幅方向両端部および連通空間14の後端部にわたって形成されている。   The second insulating base layer 71 corresponding to the base portion 15 is formed across the width direction both ends of the base portion 15 and the rear end portion of the communication space 14.

また、基部15に対応する第2ベース絶縁層71の先端縁69は、ジンバル部4において、厚み方向に投影したときに、連通空間14の後端縁よりも先側へ(つまり、連通空間14の先後方向中央に向かって)突出している。すなわち、基部15に対応する第2ベース絶縁層71は、厚み方向に投影したときに、幅方向に沿う金属支持基板5の先端縁84を、先後方向に横切るように形成されている。   Further, the leading edge 69 of the second base insulating layer 71 corresponding to the base portion 15 is more forward than the rear end edge of the communication space 14 when projected in the thickness direction at the gimbal portion 4 (that is, the communication space 14. Projecting toward the center of the front-rear direction). That is, the second insulating base layer 71 corresponding to the base portion 15 is formed so as to cross the front edge 84 of the metal support substrate 5 along the width direction in the front-rear direction when projected in the thickness direction.

ステージ17に対応する第2ベース絶縁層71は、ステージ17の幅方向両端部および連通空間14の先端部にわたって形成されている。また、ステージ17に対応する第2ベース絶縁層71は、その後端縁70が、厚み方向に投影したときに第1ベース絶縁層51の後端縁65に重なるように、形成されている。   The second insulating base layer 71 corresponding to the stage 17 is formed across both ends in the width direction of the stage 17 and the tip of the communication space 14. The second insulating base layer 71 corresponding to the stage 17 is formed so that the rear edge 70 overlaps the rear edge 65 of the first insulating base layer 51 when projected in the thickness direction.

つまり、第2ベース絶縁層71の後端縁70は、ジンバル部4において、厚み方向に投影したときに、連通空間14の先端縁よりも後側へ(つまり、連通空間14の先後方向中央に向かって)突出している。   That is, the rear end edge 70 of the second insulating base layer 71 is rearward of the leading edge of the communication space 14 when projected in the thickness direction at the gimbal portion 4 (that is, at the center in the front-rear direction of the communication space 14). Protruding).

すなわち、ステージ17に対応する第2ベース絶縁層71は、厚み方向に投影したときに、幅方向に沿う金属支持基板5の後端縁85を、先後方向に横切るように形成されている。   That is, the second insulating base layer 71 corresponding to the stage 17 is formed so as to cross the rear edge 85 of the metal support substrate 5 along the width direction in the front-rear direction when projected in the thickness direction.

なお、第2ベース絶縁層71は、図16において、基部15およびステージ17において、金属支持基板5の各導通開口部59の周端縁を円環状に被覆している。これにより、第2ベース絶縁層71には、各導通開口部59に対応する複数(4つ)の第2ベース貫通孔77が、導通開口部59と中心を共有する平面視略円形状に形成されている。   In FIG. 16, the second insulating base layer 71 covers the peripheral edge of each conductive opening 59 of the metal supporting board 5 in an annular shape in the base 15 and the stage 17. As a result, a plurality (four) of second base through holes 77 corresponding to the respective conductive openings 59 are formed in the second base insulating layer 71 in a substantially circular shape in plan view sharing the center with the conductive openings 59. Has been.

なお、第2ベース絶縁層71は、図18に示すように、第1ベース絶縁層51とともに、第2連結部20を形成している。   As shown in FIG. 18, the second insulating base layer 71 forms the second connecting portion 20 together with the first insulating base layer 51.

第2導体パターン72は、図15において、裏側導通部74、素子側端子75、および、裏側導通部74と素子側端子75とを接続するための裏側電源配線76を一体的に備えている。   In FIG. 15, the second conductor pattern 72 is integrally provided with a back-side conduction portion 74, an element-side terminal 75, and a back-side power supply wiring 76 for connecting the back-side conduction portion 74 and the element-side terminal 75.

裏側導通部74は、図16において、各第2ベース貫通孔77内にそれぞれ充填されるように、複数(4つ)形成されている。   In FIG. 16, a plurality (four) of the back side conducting portions 74 are formed so as to be filled in the respective second base through holes 77.

これにより、表側導通部13と裏側導通部74とは、第1ベース貫通孔64内および第2ベース貫通孔77内において、直接接触し、厚み方向に電気的に接続されている。   Thereby, the front side conduction | electrical_connection part 13 and the back side conduction | electrical_connection part 74 contact directly in the 1st base through-hole 64 and the 2nd base through-hole 77, and are electrically connected to the thickness direction.

素子側端子75は、図15において、基部15に対応する第2ベース絶縁層71の先端部と、ステージ17に対応する第2ベース絶縁層71の後端部とに独立して配置されている。また、各素子側端子75は、連通空間14に臨んでおり、各裏側導通部74に対応するように、幅方向および先後方向に互いに間隔を隔てて複数(4つ)設けられている。各素子側端子75は、底面略矩形状をなし、その幅方向両端縁は、厚み方向に投影したときに、第2ベース絶縁層51のそれらと同一位置に形成されている。   In FIG. 15, the element-side terminal 75 is disposed independently at the front end portion of the second base insulating layer 71 corresponding to the base portion 15 and the rear end portion of the second base insulating layer 71 corresponding to the stage 17. . Each element-side terminal 75 faces the communication space 14, and a plurality (four) of the element-side terminals 75 are provided at intervals in the width direction and the front-rear direction so as to correspond to the respective back-side conductive portions 74. Each element-side terminal 75 has a substantially rectangular bottom surface, and both end edges in the width direction are formed at the same positions as those of the second base insulating layer 51 when projected in the thickness direction.

また、素子側端子75は、連通空間14の後端部に設けられる素子側後端子80と、素子側先端子50の先側に間隔を隔てて設けられる素子側先端子81とを備えている。   The element-side terminal 75 includes an element-side rear terminal 80 provided at the rear end portion of the communication space 14 and an element-side front terminal 81 provided at a distance from the front side of the element-side front terminal 50. .

素子側後端子80は、基部15において、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(2つ)並列配置されている。   A plurality (two) of element-side rear terminals 80 are arranged in parallel at the base portion 15 at intervals in the width direction.

素子側先端子81は、ステージ17において、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(2つ)並列配置されている。各素子側先端子81は、幅方向最外側のヘッド側端子18に対応して設けられており、具体的には、図16に示すように、厚み方向に投影したときに、幅方向最外側のヘッド側端子18の後側部分と重複するように、配置されている。   A plurality (two) of element side front terminals 81 are arranged in parallel on the stage 17 at intervals in the width direction. Each element-side front terminal 81 is provided corresponding to the outermost head-side terminal 18 in the width direction. Specifically, as shown in FIG. 16, when projected in the thickness direction, the outermost in the width direction It arrange | positions so that it may overlap with the rear side part of the head side terminal 18 of this.

図15に示すように、幅方向一方側の素子側後端子80および幅方向一方側の素子側先端子81は、中央部16の幅方向一方側の連通空間14を隔てて対をなして設けられている。また、幅方向他方側の素子側後端子80および幅方向他方側の素子側先端子81は、中央部16の幅方向他方側の連通空間14を隔てて対をなして設けられている。   As shown in FIG. 15, the element-side rear terminal 80 on one side in the width direction and the element-side front terminal 81 on one side in the width direction are provided in pairs with the communication space 14 on the one side in the width direction of the center portion 16. It has been. The element-side rear terminal 80 on the other side in the width direction and the element-side front terminal 81 on the other side in the width direction are provided as a pair with the communication space 14 on the other side in the width direction of the center portion 16 therebetween.

素子側後端子80の先端縁78は、図16に示すように、厚み方向に投影したときに、基部15に対応する第2ベース絶縁層71の先端縁69と略面一になるように、配置されている。   As shown in FIG. 16, the leading edge 78 of the element-side rear terminal 80 is substantially flush with the leading edge 69 of the second insulating base layer 71 corresponding to the base portion 15 when projected in the thickness direction. Has been placed.

素子側先端子81の後端縁79は、厚み方向に投影したときに、ステージ17に対応する第2ベース絶縁層71の後端縁70と略面一になるように、配置されている。   The rear end edge 79 of the element side front terminal 81 is disposed so as to be substantially flush with the rear end edge 70 of the second base insulating layer 71 corresponding to the stage 17 when projected in the thickness direction.

また、素子側先端子81の後端縁79は、ヘッド側端子18の後端縁87の後側に微小な間隔を隔てて近接配置されている。   In addition, the rear end edge 79 of the element side front terminal 81 is disposed close to the rear side of the rear end edge 87 of the head side terminal 18 with a minute gap.

裏側電源配線76は、図16および図18に示すように、対応する裏側導通部74と素子側端子75とを接続するように、互いに間隔を隔てて複数(4つ)形成されている。   As shown in FIGS. 16 and 18, a plurality (four) of the back-side power supply wirings 76 are formed at a distance from each other so as to connect the corresponding back-side conductive portions 74 and the element-side terminals 75.

第2カバー絶縁層73は、図16に示すように、ジンバル部4において、第2導体パターン72に対応するように形成されている。具体的には、第2カバー絶縁層73は、素子側端子75を露出し、裏側電源配線76および裏側導通部74を被覆するように形成されている。   As shown in FIG. 16, the second cover insulating layer 73 is formed in the gimbal portion 4 so as to correspond to the second conductor pattern 72. Specifically, the second cover insulating layer 73 is formed so as to expose the element-side terminal 75 and cover the back-side power supply wiring 76 and the back-side conductive portion 74.

そして、この回路付サスペンション基板1には、図14および図16に示すように、スライダ26(図14の仮想線)とピエゾ素子23とが実装される。   Then, as shown in FIGS. 14 and 16, a slider 26 (virtual line in FIG. 14) and a piezo element 23 are mounted on the suspension board with circuit 1.

スライダ26は、回路付サスペンション基板1とともに、ハードディスクドライブ(図示せず)のロードビーム(図示せず)の先端に実装され、ハードディスクドライブ(図示せず)が駆動されたときには、磁気ディスク(図示せず)に対して、相対的に走行しながら、微小間隔を隔てて浮上される。   The slider 26 is mounted together with the suspension board with circuit 1 at the tip of a load beam (not shown) of a hard disk drive (not shown). When the hard disk drive (not shown) is driven, a magnetic disk (not shown) is mounted. Z)), the aircraft is levitated with a small interval while running relatively.

スライダ26は、平面視略矩形状、かつ、側断面視略矩形状をなし、図14の仮想線で示すように、厚み方向に投影したときに、その先端部が、ステージ17の後端部と重なり、かつ、その後端部が基部15の先端部と重なるように、配置されている。また、スライダ26は、厚み方向に投影したときに、その先後方向途中部であって、幅方向途中部が、中央部16と重なるように、配置されている。   The slider 26 has a substantially rectangular shape in a plan view and a substantially rectangular shape in a side sectional view, and when projected in the thickness direction as indicated by an imaginary line in FIG. And the rear end portion thereof is arranged so as to overlap the front end portion of the base portion 15. Further, the slider 26 is arranged so that when projected in the thickness direction, the middle part in the front-rear direction and the middle part in the width direction overlap the central part 16.

さらに、スライダ26は、その先後方向途中部および後端部が、厚み方向に投影したときに、台座90を含むように、配置されている。   Furthermore, the slider 26 is disposed so that the middle part and the rear end part in the front-rear direction include the base 90 when projected in the thickness direction.

具体的には、スライダ26の後端縁は、基部15において幅方向に沿って形成される導体領域2(後述する対向領域29)に沿うように配置され、厚み方向に投影したときに、かかる導体領域2の先側に微小間隔を隔てて平行状に配置される。   Specifically, the rear end edge of the slider 26 is arranged along the conductor region 2 (opposed region 29 described later) formed along the width direction in the base portion 15 and is applied when projected in the thickness direction. The conductor region 2 is arranged in parallel with a minute interval on the front side.

また、スライダ26の先端部には、図16に示すように、磁気ヘッド27が、スライダ26の厚み方向全体にわたって搭載されている。磁気ヘッド27は、ヘッド側端子18とはんだボール83によって先後方向に電気的に接続される。   Further, as shown in FIG. 16, a magnetic head 27 is mounted on the entire end of the slider 26 in the thickness direction. The magnetic head 27 is electrically connected in the front-rear direction by the head-side terminal 18 and the solder ball 83.

これにより、スライダ26は、その先端部が、ステージ17に固定される。詳しくは、スライダ26は、その先端縁が、ステージ17の実装領域28と厚み方向に対向するように、ステージ17に固定される。   Thereby, the tip of the slider 26 is fixed to the stage 17. Specifically, the slider 26 is fixed to the stage 17 so that the leading edge thereof faces the mounting area 28 of the stage 17 in the thickness direction.

そして、スライダ26の後端部が、基部15に対して面方向(厚み方向に直交する方向)にスライド(揺動)可能に支持される。   The rear end portion of the slider 26 is supported so as to be slidable (swingable) in the surface direction (direction orthogonal to the thickness direction) with respect to the base portion 15.

つまり、スライダ26は、その下面が各台座90の上面に摺動可能に接触するように、設けられている。   That is, the slider 26 is provided such that the lower surface thereof is slidably in contact with the upper surface of each pedestal 90.

なお、スライダ26の後端部は、厚み方向に投影したときに、素子側後端子80と重複している。   The rear end of the slider 26 overlaps with the element-side rear terminal 80 when projected in the thickness direction.

ピエゾ素子23は、図14および図15に示すように、先後方向に伸縮可能であって、先後方向に長い平面視略矩形状に形成されている。また、図16に示すように、ピエゾ素子23は、スライダ26の下側に間隔を隔てて配置されている。   As shown in FIGS. 14 and 15, the piezo element 23 can be expanded and contracted in the front-rear direction, and is formed in a substantially rectangular shape in plan view that is long in the front-rear direction. In addition, as shown in FIG. 16, the piezo elements 23 are arranged below the slider 26 with a space therebetween.

また、ピエゾ素子23は、厚み方向に投影したときに、連通空間14内に配置されており、連通空間14を先後方向に跨ぐように配置されている。   Further, the piezoelectric element 23 is disposed in the communication space 14 when projected in the thickness direction, and is disposed so as to straddle the communication space 14 in the front-rear direction.

詳しくは、図14および図15に示すように、ピエゾ素子23は、連通空間14を先後方向に挟む2組の1対の素子側端子75(素子側先端子81および素子側後端子80)間に架設されるように、搭載されている。   Specifically, as shown in FIGS. 14 and 15, the piezo element 23 is formed between two pairs of element side terminals 75 (element side front terminal 81 and element side rear terminal 80) sandwiching the communication space 14 in the front-rear direction. It is mounted so as to be erected on.

より具体的には、図16に示すように、各ピエゾ素子23の先端部の端子が、素子側先端子81の下面に接合され、それらは、はんだボール83を介して電気的に接続されている。また、各ピエゾ素子23の後端部の端子が、素子側後端子80の下面に接合され、それらが、はんだボール83を介して電気的に接続されている。   More specifically, as shown in FIG. 16, the terminal at the tip of each piezo element 23 is joined to the lower surface of the element-side front terminal 81, and they are electrically connected via a solder ball 83. Yes. Further, the terminal at the rear end of each piezo element 23 is joined to the lower surface of the element-side rear terminal 80, and these are electrically connected via the solder ball 83.

これにより、各ピエゾ素子23は、素子側先端子81および素子側後端子80にそれぞれ固定される。   Thereby, each piezoelectric element 23 is fixed to the element side front terminal 81 and the element side rear terminal 80, respectively.

また、図14に示すように、ピエゾ素子23は、厚み方向に投影したときに、スライダ26と重複しており、具体的には、ピエゾ素子23は、厚み方向に投影したときに、スライダ26にすべて含まれる。   Further, as shown in FIG. 14, the piezo element 23 overlaps the slider 26 when projected in the thickness direction. Specifically, the piezo element 23 is projected when projected in the thickness direction. All included.

そして、ピエゾ素子23は、電源47(図13の仮想線)から素子側パターン58および第2導体パターン72を介して電気が供給され、その電圧が制御されることによって、伸縮する。   The piezo element 23 expands and contracts when electricity is supplied from the power source 47 (virtual line in FIG. 13) via the element side pattern 58 and the second conductor pattern 72 and the voltage is controlled.

次に、この回路付サスペンション基板1の製造方法について、図19〜図21を参照して説明する。   Next, a method for manufacturing the suspension board with circuit 1 will be described with reference to FIGS.

この方法では、まず、図19(a)に示すように、金属支持基板5を用意する。   In this method, first, a metal support substrate 5 is prepared as shown in FIG.

次いで、図19(b)に示すように、金属支持基板5の上に、感光性の絶縁材料のワニスを塗布して乾燥させた後、露光および現像して、加熱硬化することにより第1ベース絶縁層51を、上記したパターンで形成する。   Next, as shown in FIG. 19B, a photosensitive insulating material varnish is applied onto the metal support substrate 5 and dried, then exposed to light, developed, and heat-cured to form the first base. The insulating layer 51 is formed with the pattern described above.

これと同時に、台座90(図19(d)参照)に対応する第1ベース絶縁層51を形成する。   At the same time, the first insulating base layer 51 corresponding to the base 90 (see FIG. 19D) is formed.

第1ベース絶縁層51を形成する材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂などの絶縁材料が挙げられる。好ましくは、ポリイミド樹脂が挙げられる。   Examples of the material for forming the first insulating base layer 51 include polyimide resin, polyamideimide resin, acrylic resin, polyether nitrile resin, polyether sulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, and polyvinyl chloride resin. An insulating material such as a synthetic resin can be used. Preferably, a polyimide resin is used.

第1ベース絶縁層51の厚みは、例えば、1〜35μm、好ましくは、3〜15μmである。   The thickness of the 1st base insulating layer 51 is 1-35 micrometers, for example, Preferably, it is 3-15 micrometers.

各第1ベース貫通孔64の直径は、例えば、20〜280μm、好ましくは、40〜200μmである。   The diameter of each first base through hole 64 is, for example, 20 to 280 μm, or preferably 40 to 200 μm.

次いで、図19(c)に示すように、第1ベース絶縁層51の上に、第1導体パターン52を、アディティブ法またはサブトラクティブ法などにより形成する。   Next, as shown in FIG. 19C, a first conductor pattern 52 is formed on the first insulating base layer 51 by an additive method or a subtractive method.

これと同時に、台座90(図19(d)参照)に対応する第1導体パターン52を、第1ベース絶縁層51の上に形成する。   At the same time, a first conductor pattern 52 corresponding to the base 90 (see FIG. 19D) is formed on the first base insulating layer 51.

第1導体パターン52を形成する材料は、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、またはそれらの合金などの導体材料などが挙げられ、好ましくは、銅が挙げられる。   Examples of the material forming the first conductor pattern 52 include conductor materials such as copper, nickel, gold, solder, and alloys thereof, and preferably copper.

第1導体パターン52の厚みは、例えば、3〜50μm、好ましくは、5〜20μmである。   The thickness of the 1st conductor pattern 52 is 3-50 micrometers, for example, Preferably, it is 5-20 micrometers.

各信号配線62および表側電源配線68の幅は、例えば、5〜200μm、好ましくは、8〜100μmである。   The width of each signal line 62 and front side power supply line 68 is, for example, 5 to 200 μm, preferably 8 to 100 μm.

また、各信号配線62間の間隔(幅方向における間隔、以下同様。)は、例えば、5〜1000μm、好ましくは、8〜100μmである。また、信号配線62と表側電源配線68との間の間隔は、例えば、5〜1000μm、好ましくは、8〜100μmである。   The interval between the signal wirings 62 (interval in the width direction, the same applies hereinafter) is, for example, 5 to 1000 μm, or preferably 8 to 100 μm. Moreover, the space | interval between the signal wiring 62 and the front side power supply wiring 68 is 5-1000 micrometers, for example, Preferably, it is 8-100 micrometers.

また、各ヘッド側端子18、各外部側端子10(図13参照)および各供給側端子36(図13参照)の幅は、例えば、15〜1000μm、好ましくは、20〜800μmである。   Further, the width of each head side terminal 18, each external side terminal 10 (see FIG. 13) and each supply side terminal 36 (see FIG. 13) is, for example, 15 to 1000 μm, preferably 20 to 800 μm.

また、各ヘッド側端子18間の間隔と、各外部側端子10(図13参照)間の間隔とは、例えば、15〜1000μm、好ましくは、20〜800μmである。   Moreover, the space | interval between each head side terminal 18 and the space | interval between each external side terminal 10 (refer FIG. 13) are 15-1000 micrometers, for example, Preferably, it is 20-800 micrometers.

また、図14が参照されるように、各第1台座91に対応する第1導体パターン52の先後方向長さ(幅)L1は、例えば、5〜200μm、好ましくは、10〜150μmであり、幅方向長さ(長さ)L2は、例えば、5〜200μm、好ましくは、10〜150μmである。さらに、各第1台座91間の間隔L3は、例えば、50〜300μm、好ましくは、80〜200μmである。   Moreover, as FIG. 14 is referred to, the front-rear direction length (width) L1 of the first conductor pattern 52 corresponding to each first pedestal 91 is, for example, 5 to 200 μm, preferably 10 to 150 μm. The width direction length (length) L2 is, for example, 5 to 200 μm, or preferably 10 to 150 μm. Furthermore, the space | interval L3 between each 1st base 91 is 50-300 micrometers, for example, Preferably, it is 80-200 micrometers.

さらに、第2台座92に対応する第1導体パターン52の最大長さ(直径)は、例えば、5〜200μm、好ましくは、10〜150μmである。また、第1台座91および第2台座92間の先後方向間隔L4は、例えば、50〜600μm、好ましくは、100〜200μmである。   Furthermore, the maximum length (diameter) of the first conductor pattern 52 corresponding to the second pedestal 92 is, for example, 5 to 200 μm, or preferably 10 to 150 μm. The front-rear direction interval L4 between the first pedestal 91 and the second pedestal 92 is, for example, 50 to 600 μm, or preferably 100 to 200 μm.

次いで、図19(d)に示すように、第1ベース絶縁層51の上に、第1導体パターン52を被覆するように、感光性の絶縁材料のワニスを塗布して乾燥させた後、露光および現像して、加熱硬化することにより第1カバー絶縁層53を上記したパターンで形成する。   Next, as shown in FIG. 19D, a photosensitive insulating material varnish is applied and dried on the first base insulating layer 51 so as to cover the first conductive pattern 52, and then exposed. Then, the first cover insulating layer 53 is formed in the above-described pattern by developing and heat-curing.

これと同時に、台座90に対応する第1カバー絶縁層53を、第1ベース絶縁層51の上に、第1導体パターン52を被覆するように、形成する。   At the same time, the first insulating cover layer 53 corresponding to the pedestal 90 is formed on the first insulating base layer 51 so as to cover the first conductive pattern 52.

第1カバー絶縁層53を形成する材料としては、上記した第1ベース絶縁層51の絶縁材料と同様の絶縁材料が挙げられる。第1カバー絶縁層53の厚みは、例えば、1〜40μm、好ましくは、1〜10μmである。   As a material for forming the first insulating cover layer 53, an insulating material similar to the insulating material of the first insulating base layer 51 described above can be used. The thickness of the first insulating cover layer 53 is, for example, 1 to 40 μm, preferably 1 to 10 μm.

続いて、図19(d)に示すように、台座90に対応する第1カバー絶縁層53の上に、表側支持層93を形成する。表側支持層93は、例えば、上記した絶縁材料または金属材料などから公知の形成方法によって形成する。   Subsequently, as shown in FIG. 19D, the front support layer 93 is formed on the first cover insulating layer 53 corresponding to the pedestal 90. The front side support layer 93 is formed by, for example, a known forming method from the above-described insulating material or metal material.

表側支持層93の厚みは、例えば、1μm以上、好ましくは、2μm以上、さらに好ましくは、3μm以上であり、通常、例えば、10μm以下である。表側支持層93の厚みが上記下限に満たない場合には、後述する対向領域29とスライダ26との厚み方向間隔を十分に確保できない場合がある。   The thickness of the front side support layer 93 is, for example, 1 μm or more, preferably 2 μm or more, more preferably 3 μm or more, and usually 10 μm or less, for example. When the thickness of the front support layer 93 is less than the lower limit, there may be a case where a sufficient distance in the thickness direction between the facing region 29 and the slider 26 described later may not be secured.

次いで、図19(e)に示すように、金属支持基板5に、各導通開口部59を形成する。   Next, as shown in FIG. 19 (e), each conduction opening 59 is formed in the metal support substrate 5.

各導通開口部59は、例えば、ドライエッチング(例えば、プラズマエッチング)やウェットエッチング(例えば、化学エッチング)などのエッチング法、例えば、ドリル穿孔、例えば、レーザ加工などにより、形成する。好ましくは、エッチング法により形成する。   Each conductive opening 59 is formed by an etching method such as dry etching (for example, plasma etching) or wet etching (for example, chemical etching), for example, drill drilling, for example, laser processing. Preferably, it is formed by an etching method.

これにより、金属支持基板5の導通開口部59から、第1ベース絶縁層51の下面と、表側導通部13の下面とを露出させる。   As a result, the lower surface of the first insulating base layer 51 and the lower surface of the front conductive portion 13 are exposed from the conductive opening 59 of the metal support substrate 5.

各導通開口部59の内径は、例えば、50〜300μm、好ましくは、100〜250μmである。   The internal diameter of each conduction | electrical_connection opening part 59 is 50-300 micrometers, for example, Preferably, it is 100-250 micrometers.

次いで、図20(f)に示すように、金属支持基板5の下面(各導通開口部59から露出される第1ベース絶縁層51の下面および表側導通部13の下面を含む。)に、感光性の絶縁材料のワニスを塗布して乾燥させた後、露光および現像して、加熱硬化することにより第2ベース絶縁層71を、上記したパターンで形成する。   Next, as shown in FIG. 20 (f), the lower surface of the metal support substrate 5 (including the lower surface of the first base insulating layer 51 exposed from each conductive opening 59 and the lower surface of the front-side conductive portion 13) is photosensitive. After applying and drying a varnish of a conductive insulating material, the second base insulating layer 71 is formed in the above-described pattern by exposure and development, and heat curing.

第2ベース絶縁層71を形成する材料としては、上記した第1ベース絶縁層51の絶縁材料と同様の絶縁材料が挙げられる。   As a material for forming the second insulating base layer 71, an insulating material similar to the insulating material of the first insulating base layer 51 described above can be used.

第2ベース絶縁層71の厚みは、例えば、1〜35μm、好ましくは、8〜15μmである。   The thickness of the second insulating base layer 71 is, for example, 1 to 35 μm, or preferably 8 to 15 μm.

各第2ベース貫通孔77の直径は、例えば、20〜280μm、好ましくは、40〜200μmである。   The diameter of each second base through hole 77 is, for example, 20 to 280 μm, or preferably 40 to 200 μm.

次いで、図20(g)に示すように、第2ベース絶縁層71の下面に、第2導体パターン72を、アディティブ法またはサブトラクティブ法などにより形成する。   Next, as shown in FIG. 20G, a second conductor pattern 72 is formed on the lower surface of the second insulating base layer 71 by an additive method or a subtractive method.

第2導体パターン72を形成する材料としては、第1導体パターン52の導体材料と同様の導体材料が挙げられる。   Examples of the material for forming the second conductor pattern 72 include the same conductor material as that of the first conductor pattern 52.

第2導体パターン72の厚みは、例えば、3〜50μm、好ましくは、5〜20μmである。   The thickness of the 2nd conductor pattern 72 is 3-50 micrometers, for example, Preferably, it is 5-20 micrometers.

各裏側電源配線76の幅は、例えば、5〜200μm、好ましくは、8〜100μmである。   The width of each back side power supply wiring 76 is, for example, 5 to 200 μm, or preferably 8 to 100 μm.

また、各素子側端子75の幅は、例えば、15〜1000μm、好ましくは、20〜800μmである。   Moreover, the width | variety of each element side terminal 75 is 15-1000 micrometers, for example, Preferably, it is 20-800 micrometers.

次いで、図21(h)に示すように、第2ベース絶縁層71の裏面に、裏側の第2導体パターン72を被覆するように、感光性の絶縁材料のワニスを塗布して乾燥させた後、露光および現像して、加熱硬化することにより第2カバー絶縁層73を上記したパターンで形成する。   Next, as shown in FIG. 21 (h), a varnish of a photosensitive insulating material is applied and dried on the back surface of the second insulating base layer 71 so as to cover the second conductive pattern 72 on the back side. The second cover insulating layer 73 is formed in the above-described pattern by exposure and development, and heat curing.

第2カバー絶縁層73を形成する材料としては、上記した第1ベース絶縁層51の絶縁材料と同様の絶縁材料が挙げられる。第2カバー絶縁層73の厚みは、例えば、1〜40μm、好ましくは、1〜10μmである。   Examples of the material for forming the second cover insulating layer 73 include the same insulating material as the insulating material of the first base insulating layer 51 described above. The thickness of the second insulating cover layer 73 is, for example, 1 to 40 μm, preferably 1 to 10 μm.

次いで、図21(i)に示すように、金属支持基板5に基板開口部11(図13参照)および連通空間14を形成する。   Next, as shown in FIG. 21 (i), the substrate opening 11 (see FIG. 13) and the communication space 14 are formed in the metal support substrate 5.

連通空間14および基板開口部11は、例えば、化学エッチングなどのウェットエッチングにより形成する。   The communication space 14 and the substrate opening 11 are formed by wet etching such as chemical etching, for example.

このとき、連通空間14を形成するには、エッチング時間を比較的長く設定して、金属支持基板5をオーバーエッチングすることにより、第1ベース絶縁層51と第2ベース絶縁層71との間にあり、ステージ17に対応する金属支持基板5を先側へエッチング(オーバーエッチング)するとともに、第2ベース絶縁層71の下にあり、基部15に対応する金属支持基板5を後側へエッチング(オーバーエッチング)する。   At this time, in order to form the communication space 14, the etching time is set to be relatively long, and the metal support substrate 5 is over-etched, so that the space between the first base insulating layer 51 and the second base insulating layer 71 is formed. Yes, the metal support substrate 5 corresponding to the stage 17 is etched to the front side (overetching), and the metal support substrate 5 below the second insulating base layer 71 and corresponding to the base portion 15 is etched to the rear side (overetching). Etch).

これにより、図16に示すように、ステージ17における金属支持基板5の後端縁85が、ステージ17に対応する第1ベース絶縁層51の後端縁65および第2ベース絶縁層71の後端縁79よりも、先側に配置される。   Accordingly, as shown in FIG. 16, the rear end edge 85 of the metal support substrate 5 in the stage 17 is the rear end edge 65 of the first base insulating layer 51 and the rear end of the second base insulating layer 71 corresponding to the stage 17. It arrange | positions rather than the edge 79 ahead.

すなわち、第1ベース絶縁層51の後端縁65および第2ベース絶縁層71の後端縁79は、金属支持基板5の後端縁85よりも、連通空間14内に突出する。   That is, the rear end edge 65 of the first insulating base layer 51 and the rear end edge 79 of the second insulating base layer 71 protrude into the communication space 14 from the rear end edge 85 of the metal support substrate 5.

また、基部15における金属支持基板5の先端縁84が、基部15に対応する第2ベース絶縁層71の先端縁69よりも、連通空間14内に突出する。   Further, the leading edge 84 of the metal support substrate 5 in the base portion 15 protrudes into the communication space 14 from the leading edge 69 of the second base insulating layer 71 corresponding to the base portion 15.

次いで、金属支持基板5を外形加工して、回路付サスペンション基板1を得る。   Next, the metal supporting board 5 is subjected to external processing to obtain the suspension board with circuit 1.

その後、回路付サスペンション基板1の上側において、磁気ヘッド27が設けられたスライダ26を、台座90の上面に載置する。   Thereafter, the slider 26 provided with the magnetic head 27 is placed on the upper surface of the base 90 on the upper side of the suspension board with circuit 1.

続いて、ヘッド側端子18の上に、はんだボール83を、はんだボール83が磁気ヘッド27の端子(側面端子)に接触するように、設ける。   Subsequently, the solder balls 83 are provided on the head-side terminals 18 so that the solder balls 83 are in contact with the terminals (side terminals) of the magnetic head 27.

これとともに、回路付サスペンション基板1の下側において、ピエゾ素子23の先端部および後端部を、素子側先端子81および素子側後端子80に接合する。つまり、ヘッド側端子18の上、および、素子側端子75の上に、はんだボール83をそれぞれ設ける。   At the same time, the front end portion and the rear end portion of the piezo element 23 are joined to the element side front terminal 81 and the element side rear terminal 80 on the lower side of the suspension board with circuit 1. That is, the solder balls 83 are provided on the head side terminals 18 and the element side terminals 75, respectively.

そして、各はんだボール83を溶融させることにより、ヘッド側端子18を磁気ヘッド27に固定して電気的に接続する。   Then, by melting each solder ball 83, the head-side terminal 18 is fixed to the magnetic head 27 and electrically connected.

これにより、スライダ26は、台座90に面方向に揺動(スライド)可能に支持される。   Thereby, the slider 26 is supported by the pedestal 90 so as to be swingable (slidable) in the surface direction.

また、各ピエゾ素子23は、1対の素子側端子75(素子側先端子81および素子側後端子80)間に架設されるように、回路付サスペンション基板1に搭載される。   Further, each piezo element 23 is mounted on the suspension board with circuit 1 so as to be bridged between a pair of element side terminals 75 (element side front terminal 81 and element side rear terminal 80).

同時に、素子側端子75をピエゾ素子23に固定して電気的に接続させる。   At the same time, the element side terminal 75 is fixed and electrically connected to the piezo element 23.

なお、図13が参照されるように、外部側端子10を外部回路基板46と電気的に接続させるとともに、供給側端子36を電源47と電気的に接続させる。   As shown in FIG. 13, the external terminal 10 is electrically connected to the external circuit board 46 and the supply terminal 36 is electrically connected to the power supply 47.

これにより、回路付サスペンション基板1にスライダ26およびピエゾ素子23が搭載される。   Thereby, the slider 26 and the piezoelectric element 23 are mounted on the suspension board with circuit 1.

次に、ピエゾ素子23の伸縮によるスライダ26の揺動について、図22および図23を参照して説明する。   Next, swinging of the slider 26 due to expansion and contraction of the piezo element 23 will be described with reference to FIGS.

まず、ピエゾ素子23は、電気が電源47(図13)から素子側端子75を介して供給され、電気の電圧が制御されることによって、一方が収縮する。すると、一方のピエゾ素子23を固定する素子側先端子81および素子側後端子80が相対的に近接する。つまり、ステージ17に支持される一方の素子側先端子81が、基部15に支持される一方の素子側後端子80に対して後側に移動する。   First, electricity is supplied to the piezo element 23 from the power supply 47 (FIG. 13) via the element side terminal 75, and one of the piezo elements 23 is contracted by controlling the voltage of electricity. Then, the element-side front terminal 81 and the element-side rear terminal 80 that fix one piezoelectric element 23 are relatively close to each other. That is, one element-side front terminal 81 supported by the stage 17 moves rearward with respect to one element-side rear terminal 80 supported by the base portion 15.

これと同時に、電気が電源47(図13)から素子側端子75を介して供給され、電気の電圧が制御されることによって、他方のピエゾ素子23が伸長する。すると、他方のピエゾ素子23を固定する素子側先端子81および素子側後端子80が相対的に離間する。つまり、ステージ17に支持される他方の素子側先端子81が、基部15に支持される他方の素子側後端子80に対して、先側に移動する。   At the same time, electricity is supplied from the power source 47 (FIG. 13) via the element-side terminal 75, and the other piezoelectric element 23 is extended by controlling the voltage of electricity. Then, the element side front terminal 81 and the element side rear terminal 80 for fixing the other piezoelectric element 23 are relatively separated from each other. That is, the other element side front terminal 81 supported by the stage 17 moves to the front side with respect to the other element side rear terminal 80 supported by the base portion 15.

これにより、中央部16の先端および先後方向途中が、幅方向一方側(左側)に湾曲しながら、ステージ17が、中央部16の後端を支点として、幅方向一方側に向かって揺動する。これとともに、スライダ26の先側部分が幅方向一方側に向かって揺動する。   As a result, the stage 17 swings toward the one side in the width direction with the rear end of the center portion 16 as a fulcrum, while the front end of the center portion 16 and the middle in the front-rear direction curve to the one side (left side) in the width direction. . At the same time, the front portion of the slider 26 swings toward one side in the width direction.

一方、図示しないが、一方のピエゾ素子23を伸長させ、他方のピエゾ素子23を収縮させれば、スライダ26の先側部分が上記と逆向き(幅方向他方側、右側)に揺動する。   On the other hand, although not shown, when one piezo element 23 is extended and the other piezo element 23 is contracted, the front side portion of the slider 26 swings in the opposite direction (the other side in the width direction, the right side).

そして、この回路付サスペンション基板1では、上記したスライダ26の揺動時に、導体領域2において、スライダ26と厚み方向に対向する部分が、対向領域29とされる。   In the suspension board with circuit 1, when the slider 26 swings, the portion of the conductor region 2 that faces the slider 26 in the thickness direction is the facing region 29.

対向領域29は、基部15において幅方向に沿う導体領域2と、中央部16における導体領域2とを含んでいる。   The facing region 29 includes the conductor region 2 along the width direction in the base portion 15 and the conductor region 2 in the central portion 16.

対向領域29のうち、基部15において幅方向に沿う導体領域2は、スライダ26の揺動前には、厚み方向に投影した時に、スライダ26と対向しない一方、スライダ26の揺動後(あるいは揺動途中)には、スライダ26と対向する。   Of the opposing region 29, the conductor region 2 along the width direction in the base 15 does not face the slider 26 when projected in the thickness direction before the slider 26 swings, while the conductor 26 after the slider 26 swings (or swings). In the middle of movement), it faces the slider 26.

他方、台座90の上面は、スライダ26の揺動前後にわたって、スライダ26の上面と摺動可能に接触している。   On the other hand, the upper surface of the pedestal 90 is slidably in contact with the upper surface of the slider 26 before and after the slider 26 swings.

そして、この回路付サスペンション基板1では、台座90を、スライダ26の揺動時において、かかるスライダ26と対向領域29とを厚み方向に離間させる離間部とすることができる。   In the suspension board with circuit 1, the pedestal 90 can be a separation portion that separates the slider 26 and the facing region 29 in the thickness direction when the slider 26 swings.

そのため、台座90によって、スライダ26と対向領域29とを厚み方向に離間するので、スライダ26による対向領域29への損傷を確実に防止することができる。   Therefore, since the slider 26 and the facing area 29 are separated in the thickness direction by the pedestal 90, damage to the facing area 29 by the slider 26 can be reliably prevented.

これによって、対向領域29における第1導体パターン52と、スライダ26の下面とが接触することを有効に防止することができる。   Thereby, it is possible to effectively prevent the first conductor pattern 52 in the facing region 29 from contacting the lower surface of the slider 26.

つまり、台座90を、スライダ26による対向領域29における第1導体パターン52への損傷を防止するための損傷防止部とすることができる。   That is, the pedestal 90 can be used as a damage prevention unit for preventing the first conductor pattern 52 from being damaged in the facing region 29 by the slider 26.

さらに、台座90は、スライダ26の揺動の前後にわたって、スライダ26と摺動可能に接触するので、スライダ26の円滑な揺動を担保し、それによって、対向領域29とスライダ26との厚み方向における間隔を確実に確保することができる。   Further, since the pedestal 90 is slidably in contact with the slider 26 before and after the swing of the slider 26, the smooth swing of the slider 26 is ensured, whereby the thickness direction between the opposed region 29 and the slider 26 is increased. The space | interval in can be ensured reliably.

なお、図14および図22の実施形態では、第1台座91を、幅方向に沿って延びるように形成しているが、その形状は特に限定されず、例えば、図示しないが、円形状、あるいは、先後方向に沿って延びる矩形状に形成することもできる。   In the embodiment of FIGS. 14 and 22, the first pedestal 91 is formed so as to extend along the width direction, but the shape thereof is not particularly limited. For example, although not illustrated, It can also be formed in a rectangular shape extending along the front-rear direction.

好ましくは、第1台座91は、スライダ26の揺動方向、つまり、幅方向に沿って延びるように形成されている。これによれば、幅方向に沿って揺動するスライダ26を確実に支持し、それによって、対向領域29とスライダ26との厚み方向における間隔を確実に確保することができる。   Preferably, the first pedestal 91 is formed so as to extend along the swinging direction of the slider 26, that is, the width direction. According to this, it is possible to reliably support the slider 26 that swings along the width direction, and thereby to ensure a gap in the thickness direction between the facing region 29 and the slider 26.

また、上記した実施形態では、損傷防止部および離間部として、図3において、薄肉領域30を設け、あるいは、図16において、台座90を設けているが、例えば、図示しないが、薄肉領域30と台座90との両方を設けることもできる。   Further, in the above-described embodiment, the thin region 30 is provided in FIG. 3 or the pedestal 90 is provided in FIG. 16 as the damage preventing portion and the separation portion. Both the base 90 can be provided.

これによって、スライダ26と対向領域29とを厚み方向により一層確実に離間できるので、スライダ26による対向領域29への損傷をより一層確実に防止することができる。   Accordingly, the slider 26 and the facing area 29 can be more reliably separated in the thickness direction, so that the damage to the facing area 29 by the slider 26 can be prevented more reliably.

1 回路付サスペンション基板
2 導体領域
6 導体層
7 ベース絶縁層
8 カバー絶縁層
26 スライダ
27 磁気ヘッド
28 実装領域
29 対向領域
30 薄肉領域
90 台座
91 第1台座
92 第2台座
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Suspension board with circuit 2 Conductor area 6 Conductor layer 7 Base insulating layer 8 Cover insulating layer 26 Slider 27 Magnetic head 28 Mounting area 29 Opposite area 30 Thin area 90 Pedestal 91 First pedestal 92 Second pedestal

Claims (10)

導体層が形成される導体領域と、
前記導体層と電気的に接続される磁気ヘッドを搭載するスライダを実装するための実装領域とを備える回路付サスペンション基板であって、
前記実装領域は、前記スライダを前記導体領域に対して相対移動可能に実装し、
前記導体領域は、前記スライダの前記導体領域に対する相対移動時に、前記スライダと厚み方向に対向する対向領域を備え、
前記スライダによる前記対向領域への損傷を防止するための損傷防止部を備え、
前記損傷防止部は、ベース絶縁層、前記ベース絶縁層の上に形成される前記導体層、および、前記ベース絶縁層の上に、前記導体層を被覆するように形成されるカバー絶縁層を備え、
前記損傷防止部は、前記スライダの前記導体領域に対する相対移動前に、前記スライダと厚み方向に対向せず、前記スライダの前記導体領域に対する相対移動時に、前記スライダと厚み方向に対向することを特徴とする、回路付サスペンション基板。
A conductor region in which a conductor layer is formed;
A suspension board with circuit, comprising a mounting region for mounting a slider for mounting a magnetic head electrically connected to the conductor layer,
The mounting area is mounted so that the slider can move relative to the conductor area;
The conductor region includes a facing region facing the slider in a thickness direction when the slider moves relative to the conductor region;
A damage prevention unit for preventing damage to the opposing region by the slider;
The damage prevention unit includes a base insulating layer, the conductor layer formed on the base insulating layer, and a cover insulating layer formed on the base insulating layer so as to cover the conductor layer. ,
The damage preventing portion does not face the slider in the thickness direction before the slider moves relative to the conductor region, but faces the slider in the thickness direction when the slider moves relative to the conductor region. Suspension board with circuit.
前記損傷防止部が、前記導体領域に対して相対移動する前記スライダと、前記対向領域とを、厚み方向に離間する離間部である
ことを特徴とする、請求項1に記載の回路付サスペンション基板。
2. The suspension board with circuit according to claim 1, wherein the damage prevention portion is a separation portion that separates the slider that moves relative to the conductor region and the opposing region in a thickness direction. .
前記離間部が、前記対向領域以外の前記導体領域に比べて厚みが薄い薄肉領域である
ことを特徴とする、請求項2に記載の回路付サスペンション基板。
3. The suspension board with circuit according to claim 2, wherein the spaced-apart portion is a thin region that is thinner than the conductor region other than the opposing region.
前記実装領域は、前記スライダの一端を固定し、かつ、その他端を前記導体領域に対して相対移動可能に、前記スライダを実装し、
前記薄肉領域が、厚み方向に投影したときに、前記導体領域に対する相対移動時の前記スライダの他端と対向する
ことを特徴とする、請求項3に記載の回路付サスペンション基板。
The mounting area mounts the slider so that one end of the slider is fixed and the other end is movable relative to the conductor area.
4. The suspension board with circuit according to claim 3, wherein the thinned region faces the other end of the slider during relative movement with respect to the conductor region when projected in the thickness direction. 5.
前記導体領域は、前記ベース絶縁層、前記導体層、および、前記カバー絶縁層を備え、
前記薄肉領域における前記ベース絶縁層、前記導体層および前記カバー絶縁層からなる群から選択される少なくとも1層の厚みが、前記対向領域以外の前記導体領域における少なくとも前記1層に比べて、厚みが薄い
ことを特徴とする、請求項3または4に記載の回路付サスペンション基板。
The conductor region includes the base insulating layer, the conductor layer, and the cover insulating layer,
The thickness of at least one layer selected from the group consisting of the base insulating layer, the conductor layer, and the cover insulating layer in the thin region is larger than at least the one layer in the conductor region other than the opposing region. The suspension board with circuit according to claim 3 or 4, characterized in that the suspension board is thin.
前記損傷防止部の前記ベース絶縁層が、ピエゾ素子と対向し、
前記ピエゾ素子は、前記スライダの下側に対向配置されており、前記スライダの前記導体領域に対する相対移動時に、前記スライダと前記損傷防止部を厚み方向に挟むことを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の回路付サスペンション基板。
The insulating base layer of the damage preventing portion is opposed to the piezo element ;
The piezoelectric element is disposed opposite to the lower side of the slider, and sandwiches the slider and the damage prevention portion in a thickness direction when the slider moves relative to the conductor region . The suspension board with circuit according to claim 5.
金属支持基板は、開口部を含み、
前記損傷防止部が、厚み方向に投影したときに、開口部内に含まれていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の回路付サスペンション基板。
The metal support substrate includes an opening,
The suspension board with circuit according to any one of claims 1 to 6, wherein the damage preventing portion is included in the opening when projected in the thickness direction.
前記離間部が、前記スライダを相対移動可能に支持するための台座である
ことを特徴とする、請求項2〜5のいずれか一項に記載の回路付サスペンション基板。
The suspension board with circuit according to any one of claims 2 to 5, wherein the separation portion is a base for supporting the slider so as to be relatively movable.
前記台座は、前記スライダの相対移動の前後にわたって、前記スライダと摺動可能に接触する
ことを特徴とする、請求項8に記載の回路付サスペンション基板。
The suspension board with circuit according to claim 8, wherein the pedestal is slidably in contact with the slider before and after relative movement of the slider.
前記台座は、前記スライダの移動方向に沿って延びるように形成されている
ことを特徴とする、請求項9に記載の回路付サスペンション基板。
The suspension board with circuit according to claim 9, wherein the pedestal is formed so as to extend along a moving direction of the slider.
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