JP4994304B2 - Suspension board with circuit and mounting method and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、回路付サスペンション基板ならびにその実装方法および製造方法、詳しくは、ハードディスクドライブのEブロックなどに実装される回路付サスペンション基板ならびにその実装方法および製造方法に関する。 The present invention relates to a suspension board with circuit and a mounting method and manufacturing method thereof, and more particularly, to a suspension board with circuit mounted on an E block of a hard disk drive and the mounting method and manufacturing method thereof.
回路付サスペンション基板は、通常、ハードディスクドライブにおける櫛形状のEブロックに実装される。
例えば、ハードディスクドライブに備えられるヘッドスタックアセンブリ(HSA)において、フレキシャを有する複数のヘッドジンバルアセンブリ(HGA)が、Eブロックに実装されることが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
For example, in a head stack assembly (HSA) provided in a hard disk drive, it has been proposed that a plurality of head gimbal assemblies (HGA) having flexures are mounted on an E block (see, for example, Patent Document 1).
しかるに、HGAは、Eブロックの隙間に挿入されて実装されるところ、HGAの挿入時に、HGAのフレキシャがEブロックのエッジと接触すると、Eブロックが剛性の高い材料(金属など)からなることから、フレキシャが損傷する場合がある。
とりわけ、Eブロックのエッジにバリがあると、フレキシャは、バリとの接触によって、容易に損傷する。
However, the HGA is mounted by being inserted into the gap of the E block. When the HGA flexure comes into contact with the edge of the E block when the HGA is inserted, the E block is made of a highly rigid material (such as metal). The flexure may be damaged.
In particular, if there is a burr on the edge of the E block, the flexure is easily damaged by contact with the burr.
本発明の目的は、Eブロックへの実装において、損傷を防止することのできる、回路付サスペンション基板ならびにその実装方法および製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a suspension board with circuit that can prevent damage in mounting on an E block, and a mounting method and manufacturing method thereof.
上記目的を達成するために、本発明の回路付サスペンション基板は、金属支持基板、前記金属支持基板の上に形成されるベース絶縁層、前記ベース絶縁層の上に形成される導体パターン、および、前記ベース絶縁層の上に形成され、前記導体パターンを被覆するカバー絶縁層を備える回路基板部と、前記回路基板部から延出され、前記回路基板部の少なくとも一部を被覆するための被覆部とを備え、前記被覆部は、前記金属支持基板および前記ベース絶縁層を含み、外側に前記金属支持基板が配置され、内側に前記ベース絶縁層が配置されるように折り曲げられることにより、前記回路基板部の少なくとも一部と厚み方向において重なることができるように形成されていることを特徴としている。 To achieve the above object, a suspension board with circuit of the present invention includes a metal supporting board, a base insulating layer formed on the metal supporting board, a conductor pattern formed on the base insulating layer, and A circuit board portion including a cover insulating layer formed on the insulating base layer and covering the conductor pattern, and a covering portion extending from the circuit board portion and covering at least a part of the circuit board portion And the covering portion includes the metal support substrate and the base insulating layer, and is bent so that the metal support substrate is disposed outside and the base insulating layer is disposed inside. It is characterized by being formed so as to be able to overlap with at least a part of the substrate portion in the thickness direction.
また、本発明の回路付サスペンション基板では、前記導体パターンは、複数の配線を備え、前記回路基板部は、前記配線が形成される配線形成部を含み、前記被覆部は、前記配線形成部から、前記配線に沿う方向と交差する方向に膨出するように形成され、前記被覆部と前記配線形成部との間には、折曲部が設けられており、前記被覆部は、前記折曲部に沿って折り曲げられるように形成されていることが好適である。 In the suspension board with circuit of the present invention, the conductor pattern includes a plurality of wirings, the circuit board part includes a wiring forming part in which the wiring is formed, and the covering part is formed from the wiring forming part. , Swelled in a direction intersecting the direction along the wiring, and a bent portion is provided between the covering portion and the wiring forming portion. It is preferable that it is formed so as to be bent along the portion.
また、本発明の回路付サスペンション基板では、前記折曲部は、前記金属支持基板においてスリットが設けられることにより、前記ベース絶縁層の1層のみから形成されることが好適である。
また、本発明の回路付サスペンション基板では、前記被覆部は、嵌合部を備え、前記回路基板部は、前記嵌合部に嵌合されるための被嵌合部を備え、前記嵌合部は、前記被覆部が折り曲げられたときに、厚み方向において前記被嵌合部と対向配置され、その被嵌合部と嵌合できるように形成されていることが好適である。
In the suspension board with circuit of the present invention, it is preferable that the bent portion is formed of only one layer of the base insulating layer by providing a slit in the metal supporting board .
In the suspension board with circuit of the present invention, the covering portion includes a fitting portion, and the circuit board portion includes a fitted portion to be fitted to the fitting portion. It is preferable that when the covering portion is bent, the covering portion is arranged so as to be opposed to the fitted portion in the thickness direction so as to be fitted to the fitted portion.
また、本発明の回路付サスペンション基板では、前記被覆部が折り曲げられたときに、前記被覆部と前記厚み方向において対向する前記回路基板部の前記ベース絶縁層の厚みが、それに隣接する前記ベース絶縁層の厚みより、薄く形成されていることが好適である。
また、本発明の回路付サスペンション基板の実装方法は、上記した回路付サスペンション基板の前記被覆部を、前記回路基板部の少なくとも一部と厚み方向において重なり、外側に前記金属支持基板が配置され、内側に前記ベース絶縁層が配置されるように、折り曲げる折曲工程、および、前記折曲工程後、前記回路付サスペンション基板をEブロックに実装する工程を備えることを特徴としている。
また、本発明の回路付サスペンション基板の製造方法は、金属支持基板を用意する工程と、回路基板部、折曲部および被覆部に対応して連続するように、前記金属支持基板の上にベース絶縁層を形成する工程と、前記回路基板部の前記ベース絶縁層の上に導体パターンを形成する工程と、前記回路基板部の前記ベース絶縁層の上に前記導体パターンを被覆するカバー絶縁層を形成する工程と、前記金属支持基板を、前記回路基板部、前記折曲部および前記被覆部に対応する形状に外形加工する工程とを備えることを特徴としている。
また、本発明の回路付サスペンション基板の製造方法は、前記外形加工する工程において、前記金属支持基板の前記折曲部に対応する部分にスリットを形成する工程を備えることが好適である。
In the suspension board with circuit of the present invention, when the covering portion is bent, the thickness of the base insulating layer of the circuit board portion facing the covering portion in the thickness direction is equal to the base insulating layer adjacent thereto. It is preferable that the layer is formed thinner than the thickness of the layer.
Further, a mounting method of the suspension board with circuit of the present invention, the covering portion of the suspension board with circuit described above, Ri Do heavy at least part in the thickness direction of the circuit board portion, said metal support substrate laterally displaced is, and the so that the base insulating layer is disposed on the inner side, folding the folding process, and, after the folding step, further comprising a step of mounting the suspension board with circuit to the E-block.
The method of manufacturing a suspension board with circuit according to the present invention includes a step of preparing a metal support board and a base on the metal support board so as to correspond to the circuit board portion, the bent portion, and the covering portion. A step of forming an insulating layer; a step of forming a conductor pattern on the base insulating layer of the circuit board portion; and a cover insulating layer covering the conductor pattern on the base insulating layer of the circuit board portion. And forming the metal supporting board into a shape corresponding to the circuit board part, the bent part, and the covering part.
Moreover, it is preferable that the manufacturing method of the suspension board with circuit of the present invention includes a step of forming a slit in a portion corresponding to the bent portion of the metal support substrate in the step of processing the outer shape.
本発明の回路付サスペンション基板では、被覆部を折り曲げれば、被覆部が回路基板部の少なくとも一部と厚み方向において重なり、被覆部により、回路基板部の少なくとも一部を被覆することができる。
そのため、本発明の回路付サスペンション基板の実装方法によれば、折曲工程後の回路付サスペンション基板をEブロックに実装するときに、回路付サスペンション基板がEブロックと接触しても、回路基板部が被覆部により被覆されているので、回路基板部ではなく被覆部がEブロックと接触するので、回路基板部のEブロックとの接触に起因する損傷や断線を防止することができる。
In the suspension board with circuit of the present invention, when the covering portion is bent, the covering portion overlaps at least a part of the circuit board portion in the thickness direction, and at least a part of the circuit board portion can be covered with the covering portion.
Therefore, according to the mounting method of the suspension board with circuit of the present invention, when the suspension board with circuit after the bending process is mounted on the E block, even if the suspension board with circuit contacts the E block, the circuit board portion Is covered by the covering portion, the covering portion, not the circuit board portion, comes into contact with the E block, so that damage or disconnection due to the contact of the circuit board portion with the E block can be prevented.
その結果、導体パターンの損傷や断線が防止された回路付サスペンションをハードディスクドライブに搭載することにより、そのハードディスクドライブの信頼性を向上させることができる。 As a result, the reliability of the hard disk drive can be improved by mounting the suspension with circuit in which the conductor pattern is prevented from being damaged or disconnected in the hard disk drive.
図1は、本発明の回路付サスペンション基板の一実施形態の平面図、図2は、図1に示す回路付サスペンション基板の要部拡大平面図、図3は、図2におけるA−A線に沿う断面図、図4は、図2におけるB−B線に沿う断面図を示す。
なお、図1において、後述するベース絶縁層12および導体パターン13の相対配置を明確に示すため、カバー絶縁層14は省略している。
1 is a plan view of an embodiment of a suspension board with circuit of the present invention, FIG. 2 is an enlarged plan view of the main part of the suspension board with circuit shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a line AA in FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line BB in FIG.
In FIG. 1, the
図1において、この回路付サスペンション基板1は、ハードディスクドライブの磁気ヘッド(図示せず)を実装して、磁気ヘッドとハードディスク(図示せず)とが相対的に走行するときの空気流に抗して、その磁気ヘッドを、ハードディスクとの間に微小な間隔を保持しながら支持する。また、回路付サスペンション基板1には、金属支持基板11に、図示しない外部回路基板(例えば、リード・ライト基板)および磁気ヘッドを電気的に接続するための導体パターン13が形成されている。
In FIG. 1, this suspension board with
なお、導体パターン13は、後述するが、磁気ヘッドの端子に接続するためのヘッド側端子17と、リード・ライト基板の端子に接続するための外部側端子18と、これらを接続するための複数の配線15とを一体的に備えている。
そして、この回路付サスペンション基板1は、長手方向に延びる平面視略矩形平帯状に形成されており、回路基板部2と、被覆部3と、折曲部7とを一体的に備えている。
As will be described later, the
The suspension board with
回路基板部2は、図1および図2に示すように、長手方向に延びる平面視略矩形平帯状に形成されている。また、回路基板部2は、配線形成部4と、ヘッド側端子形成部5と、外部側端子形成部6とを一体的に備えている。
配線形成部4は、先後方向(長手方向)に延びる平面視略矩形状に形成されている。また、配線形成部4の先後方向途中は、後述する折曲工程によって、被覆部3により被覆される、回路基板部2の一部としての保護部分8とされている。そして、配線形成部4には、長手方向に沿って延びる複数の配線15が幅方向(長手方向に直交する方向、以下同様。)に間隔を隔てて並列配置されている。また、配線形成部4には、被嵌合部10が設けられている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
The
被嵌合部10は、後述する嵌合部9に嵌合されるために設けられ、保護部分8における長手方向略中央の幅方向他端部に形成されている。具体的には、被嵌合部10は、保護部分8の幅方向他端縁から幅方向他方に向かって突出する、第3突出部23を備えている。
各第3突出部23は、平面視略矩形状に形成され、幅方向他端部の長手方向中央が平面視略矩形状に切り欠かれた溝24が開口されている。
The to-
Each
ヘッド側端子形成部5は、図1に示すように、回路基板部2に対して先側(長手方向一方側、以下同様。)に隣接配置されており、具体的には、配線形成部4の先端縁から先側に向かって延び、回路基板部2の幅とほぼ同幅の平面視略矩形状に形成されている。
また、ヘッド側端子形成部5には、図示しない磁気ヘッドと電気的に接続されるヘッド側端子17が形成されている。ヘッド側端子17は、ヘッド側端子形成部5において、幅方向に間隔を隔てて並列配置されており、複数の配線15の先端がそれぞれ接続されている。
As shown in FIG. 1, the head-side
The head side
外部側端子形成部6は、回路基板部2に対して後側(長手方向他方側、以下同様。)に隣接配置されており、具体的には、配線形成部4の後端縁から後側に向かって延び、回路基板部2の幅よりやや幅広の平面視略矩形状に形成されている。
また、外部側端子形成部6には、図示しないリード・ライト基板と電気的に接続される外部側端子18が形成されている。外部側端子18は、外部側端子形成部6において、幅方向に間隔を隔てて並列配置されており、複数の配線15の後端がそれぞれ接続されている。
The external
The external
被覆部3は、回路基板部2の配線形成部4から、折曲部7を介して、幅方向一方側に延出されている。具体的には、被覆部3は、配線形成部4の保護部分8の幅方向一端縁から、折曲部7を介して幅方向一方側に膨出(突出)するように、幅方向に配線形成部4と対向配置されている。また、被覆部3は、配線形成部4(保護部分8)と略同幅の平面視略形状に形成されている。さらに、被覆部3には、嵌合部9が設けられている。
The
嵌合部9は、被嵌合部10と嵌合するために設けられ、被覆部3における長手方向略中央において、幅方向において被嵌合部10と保護部分8および折曲部7を挟んで対向配置されている。具体的には、嵌合部9は、被覆部3の幅方向一端部に形成されており、被覆部3の幅方向一端縁から幅方向一方に向かって突出する、平面視略T字状をなし、第1突出部21および第2突出部22を備えている。
The
第1突出部21は、図2に示すように、被覆部3の幅方向一端縁から幅方向一方に向かって直線状に延びる、平面視略矩形状に形成されている。
第2突出部22は、第1突出部21の幅方向一端部の長手方向両端縁から連続して長手方向両側に向かって直線状に延びる、平面視略矩形状に形成されている。
折曲部7は、被覆部3と配線形成部4との間に設けられており、具体的には、被覆部3の幅方向他端縁と、保護部分8の幅方向一端縁とを連結するように、幅方向において、それらの間に架設されている。また、折曲部7は、長手方向に沿って、被覆部3の長さ(長手方向長さ)よりわずかに短い長さにまで延びる、幅狭の平面視略矩形状に形成されている。
As shown in FIG. 2, the first projecting
The second projecting
The
また、この回路付サスペンション基板1は、図3および図4に示すように、金属支持基板11、金属支持基板11の上に形成されるベース絶縁層12、ベース絶縁層12の上に形成される導体パターン13、および、ベース絶縁層12の上に形成され、導体パターン13を被覆するカバー絶縁層14を備えている。
金属支持基板11は、図1〜図3に示すように、上記した回路付サスペンション基板1の外形形状に対応する形状に形成されている。
The suspension board with
As shown in FIGS. 1 to 3, the
具体的には、金属支持基板11は、回路基板部2および被覆部3に対応するように形成されている。
また、金属支持基板11は、回路基板部2においては、被嵌合部10の平面視形状に対応するように形成され、また、被覆部3においては、嵌合部9の平面視形状に対応するように形成されている。
Specifically, the
The
また、金属支持基板11には、折曲部7に対応する部分に、長手方向に沿い、厚み方向を貫通するスリット19が形成されている。スリット19は、回路基板部2の金属支持基板11と、被覆部3の金属支持基板11とを、幅方向において分断するように、折曲部7の長手方向一端から長手方向他端までのすべてにわたって形成されている。
金属支持基板11の寸法は、回路基板部2における幅(幅方向長さ)が、例えば、0.3〜5mm、好ましくは、0.4〜3mmであり、被覆部3における幅が、例えば、0.3〜5mm、好ましくは、0.4〜3mmであり、スリット19の幅が、例えば、50〜500μm、好ましくは、100〜200μmである。
Further, the
As for the dimensions of the
また、嵌合部9の寸法は、嵌合部9の幅(第1突出部21の突出長さ)L1が、例えば、500〜5000μm、その長さ(第2突出部22の長手方向両端部間の長さ)L2が、例えば、500〜5000μmである。また、第1突出部21の幅(長手方向長さ)W1が、例えば、50〜1000μm、第2突出部22の幅(幅方向長さ)W2が、例えば、300〜3000μmである。
The dimensions of the
また、被嵌合部10の寸法は、被嵌合部10の幅(第3突出部23の突出長さ)L3が、例えば、500〜5000μm、第3突出部23の長手方向長さL4が、例えば、300〜6000μm、溝24の幅(長手方向長さ)L5は、例えば、60〜2000μmである。なお、溝24の深さ(長手方向長さ)D1は、例えば、300〜3000μmである。
Moreover, the dimension of the to-
金属支持基板11の厚みは、回路基板部2および被覆部3において、例えば、10〜60μm、好ましくは、15〜30μmである。
ベース絶縁層12は、回路基板部2、折曲部7および被覆部3に対応して形成されている。具体的には、ベース絶縁層12は、回路基板部2、折曲部7および被覆部3にわたって連続して形成されている。
The thickness of the
The
すなわち、ベース絶縁層12は、回路基板部2においては、金属支持基板11の表面に形成されている。また、ベース絶縁層12は、配線形成部4と、ヘッド側端子形成部5と、外部側端子形成部6とにわたって連続して、導体パターン13が形成される部分に対応するパターンとして形成されている。また、ベース絶縁層12は、図1に示すように、回路基板部2において、その金属支持基板11の周端部(金属支持基板11の長手方向両側端、および、保護部分8の幅方向一側端を除く金属支持基板11の幅方向両側端)を露出させている。つまり、ベース絶縁層12は、回路基板部2において、その金属支持基板11よりやや小さく形成されている。
That is, the
また、ベース絶縁層12は、回路基板部2において、図3および図4に示すように、保護部分8(被覆部3が折り曲げられたときに、被覆部3と厚み方向において対向する部分(図7参照)。図2における斜線部分。)のベース絶縁層12の厚みT1が、それに隣接するベース絶縁層12の厚みT2より、薄く形成されている。すなわち、保護部分8のベース絶縁層12の厚みT1は、図3に示すように、被覆部3および折曲部7のベース絶縁層12の厚みT2より薄く、かつ、図4に示すように、回路基板部2における保護部分8と長手方向両側に隣接するベース絶縁層12の厚みT2よりも薄く形成されている。
Further, as shown in FIG. 3 and FIG. 4, the insulating
具体的には、保護部分8のベース絶縁層12の厚みT1は、保護部分8に隣接するベース絶縁層12の厚みT2を100%としたときに、例えば、50%以下、好ましくは、40%以下、さらに好ましくは、通常、10%以上であり、具体的には、例えば、4μm以下、好ましくは、3μm以下、さらに好ましくは、通常、1.5μm以上である。
また、保護部分8に隣接するベース絶縁層12の厚みT2は、例えば、5〜15μm、好ましくは、8〜12μmである。
Specifically, the thickness T1 of the
Moreover, the thickness T2 of the
また、ベース絶縁層12は、被覆部3においては、金属支持基板11の表面に形成されている。ベース絶縁層12は、図1に示すように、金属支持基板11の周端部(金属支持基板11の長手方向両側端、および、金属支持基板11の幅方向一側端)を露出させている。つまり、ベース絶縁層12は、被覆部3において、その金属支持基板11よりやや小さく形成されている。
The insulating
また、ベース絶縁層12は、折曲部7においては、金属支持基板11のスリット19から下側に露出している。
ベース絶縁層12の寸法は、回路基板部2における幅(幅方向長さ)が、例えば、250〜4500μm、好ましくは、350〜2500μmであり、被覆部3における幅が、例えば、250〜4500μm、好ましくは、750〜4500μmである。なお、折曲部7のベース絶縁層12の幅は、上記したスリット19の幅と同一である。
Further, the insulating
Regarding the dimensions of the
導体パターン13は、図1、図3および図4に示すように、回路基板部2におけるベース絶縁層12の表面に設けられ、上記したように、ヘッド側端子17と外部側端子18と配線15とを一体的に備える配線回路パターンとして形成されている。
導体パターン13の寸法は、各配線15の幅が、例えば、10〜500μm、好ましくは、30〜200μm、その間隔が、例えば、10〜500μm、好ましくは、30〜200μmであり、各ヘッド側端子17の幅および各外部側端子18の幅が、例えば、20〜1000μm、好ましくは、30〜800μmであり、各ヘッド側端子17間の間隔および各外部側端子18間の間隔が、例えば、20〜1000μm、好ましくは、30〜800μmである。
As shown in FIGS. 1, 3 and 4, the
The size of the
カバー絶縁層14は、図2および図3に示すように、回路基板部2に対応して設けられ、導体パターン13の表面、および、導体パターン13から露出するベース絶縁層12の表面に設けられている。具体的には、カバー絶縁層14は、配線形成部4において、配線15を被覆し、ヘッド側端子形成部5および外部側端子形成部6において、ヘッド側端子17および外部側端子18を露出するパターンとして形成されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the insulating
カバー絶縁層14の寸法は、回路基板部2における幅が、例えば、50〜4500μm、好ましくは、150〜250μmであり、その厚みが、例えば、1〜30μm、好ましくは、2〜5μmである。
図5は、回路付サスペンション基板の製造方法を説明する工程図である。
次に、この配線回路基板の製造方法について、図5を参照して説明する。
As for the dimensions of the insulating
FIG. 5 is a process diagram illustrating a method for manufacturing a suspension board with circuit.
Next, a method for manufacturing the printed circuit board will be described with reference to FIG.
まず、この方法では、図5(a)に示すように、金属支持基板11を用意する。
金属支持基板11は、平板シート形状の金属箔や金属薄板からなり、これを形成する金属材料としては、例えば、ステンレス、42アロイなどが用いられ、好ましくは、ステンレスが用いられる。
次いで、この方法では、図5(b)に示すように、ベース絶縁層12を、金属支持基板11の上に、回路基板部2、被覆部3および折曲部7にわたる上記したパターンで形成する。
First, in this method, a
The
Next, in this method, as shown in FIG. 5B, the
ベース絶縁層12を形成する絶縁材料としては、例えば、ポリイミド、ポリエーテルニトリル、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ塩化ビニルなどの合成樹脂が用いられる。好ましくは、ポリイミドが用いられる。
ベース絶縁層12を上記したパターンで形成するには、例えば、感光性樹脂(感光性ポリアミック酸樹脂)のワニスを、金属支持基板11の表面に塗布し、塗布されたワニスを乾燥して、ベース皮膜を形成する。
As an insulating material for forming the
In order to form the
次いで、ベース皮膜を、階調露光フォトマスク(図示せず)を介して露光する。なお、階調露光フォトマスクは、遮光部分、光半透過部分および光全透過部分のパターンを備えており、保護部分8以外のベース絶縁層12に形成されるベース皮膜には光全透過部分を、保護部分8のベース絶縁層12に形成されるベース皮膜には光半透過部分を、ベース絶縁層12を形成しないベース皮膜(回路基板部2および被覆部3における金属支持基板11の周端部)には遮光部分を、ベース皮膜に対して、対向配置する。露光後、必要により加熱し、現像により上記したパターンを形成させ、その後、例えば、減圧下、250℃以上で加熱することにより、硬化(イミド化)させる。
Next, the base film is exposed through a gradation exposure photomask (not shown). The gradation exposure photomask is provided with a pattern of a light shielding portion, a light semi-transmissive portion, and a total light transmissive portion, and the base film formed on the
これにより、ベース絶縁層12を、保護部分8のベース絶縁層12とそれに隣接するベース絶縁層12との厚みが相違するように、形成する。
次いで、この方法では、図5(c)に示すように、導体パターン13を、回路基板部2におけるベース絶縁層12の上に上記した配線回路パターンで形成する。
導体パターン13は、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、またはこれらの合金などの導体材料からなり、好ましくは、銅からなる。
Thereby, the
Next, in this method, as shown in FIG. 5C, the
The
また、導体パターン13は、例えば、アディティブ法、サブトラクティブ法などの公知のパターンニング法、好ましくは、アディティブ法によって形成する。
アディティブ法では、まず、ベース絶縁層12および金属支持基板11の表面に、導体薄膜(種膜)を形成する。導体薄膜は、スパッタリング、好ましくは、クロムスパッタリングおよび銅スパッタリングにより、クロム薄膜と銅薄膜とを順次積層する。
The
In the additive method, first, a conductive thin film (seed film) is formed on the surfaces of the
次いで、この導体薄膜の上面に、導体パターン13のパターンと逆パターンでめっきレジストを形成した後、めっきレジストから露出する導体薄膜の上面に、電解めっきにより、導体パターン13を形成する。その後、めっきレジストおよびそのめっきレジストが積層されていた部分の導体薄膜を除去する。
次いで、この方法では、図5(d)に示すように、カバー絶縁層14を、回路基板部2におけるベース絶縁層12の上に上記したパターンで形成する。
Next, after forming a plating resist on the upper surface of the conductive thin film in a pattern opposite to the pattern of the
Next, in this method, as shown in FIG. 5D, the insulating
カバー絶縁層14を上記したパターンで形成するには、例えば、感光性樹脂(感光性ポリアミック酸樹脂)のワニスを、導体パターン13、ベース絶縁層12および金属支持基板11の表面に塗布し、塗布されたワニスを乾燥して、カバー皮膜を形成する。次いで、カバー皮膜を、フォトマスクを介して露光した後、必要により加熱後、現像により上記したパターン(ヘッド側端子17および外部側端子18が開口されるパターン)を形成させ、その後、例えば、減圧下、250℃以上で加熱することにより、硬化(イミド化)させる。
In order to form the
次いで、この方法では、図5(e)に示すように、金属支持基板11を開口して、スリット19を形成する。
金属支持基板11の開口は、例えば、ドライエッチングやウェットエッチング(化学エッチング)などのエッチング、例えば、ドリル加工やレーザ加工などが用いられる。好ましくは、化学エッチングが用いられる。
Next, in this method, as shown in FIG. 5 (e), the
For the opening of the
スリット19の形成では、回路基板部2および被覆部3に金属支持基板11が残存するように、折曲部7の金属支持基板11を除去する。これにより、折曲部7において、金属支持基板11が形成されず、折曲部7が、ベース絶縁層12の1層から形成されて、さらに、被覆部3が、金属支持基板11およびベース絶縁層12の2層から形成される。
また、このスリット19の形成と同時に、図2に示すように、回路基板部2および被覆部3の金属支持基板11を外形加工することにより、嵌合部9および被嵌合部10を形成して、回路付サスペンション基板1を得る。
In the formation of the
Simultaneously with the formation of the
図6は、図1の回路付サスペンション基板の平面図であって、被覆部が折り曲げられた状態を示し、図7は、図2の回路付サスペンション基板の幅方向に沿う断面図であって、被覆部が折り曲げられた状態を示し、図8は、図7の回路付サスペンション基板の実装方法の説明図である。
次に、図1および図6〜図8を参照して、回路付サスペンション基板1をハードディスクドライブのEブロック30に実装する方法を説明する。
6 is a plan view of the suspension board with circuit of FIG. 1, showing a state in which the covering portion is bent, and FIG. 7 is a sectional view taken along the width direction of the suspension board with circuit of FIG. FIG. 8 is an explanatory view of a mounting method of the suspension board with circuit of FIG. 7.
Next, a method for mounting the suspension board with
まず、この方法では、図1の矢印および図7の矢印および仮想線に示すように、回路付サスペンション基板1において、被覆部3を、回路基板部2に対して、折曲部7に沿って折り曲げる(折曲工程)。
具体的には、折曲部7の表面(折曲部7のベース絶縁層12の表面)を谷にして、回路基板部2のカバー絶縁層14の表面と、被覆部3のベース絶縁層12の表面とが近接するように、被覆部3を保護部分8に重ねる。
First, in this method, as shown by the arrows in FIG. 1 and the arrows and phantom lines in FIG. 7, in the suspension board with
Specifically, with the surface of the bent part 7 (the surface of the
また、折曲工程において、図7に示すように、嵌合部9を被嵌合部10に嵌合する。すなわち、上記したように、嵌合部9は、折曲部7に沿って折り曲げられたときに、厚み方向において被嵌合部10と対向配置される。そして、図2が参照されるように、嵌合部9の第1突出部21を、被嵌合部10の溝24に挿入して、嵌合部9の第2突出部22を、被嵌合部10の裏面側に配置させる。これによって、嵌合部9を被嵌合部10に嵌合することができる。
Further, in the bending process, as shown in FIG. 7, the
上記した折曲工程によって、被覆部3は、保護部分8と厚み方向において重なることができる。また、嵌合部9と被嵌合部10との嵌合によって、被覆部3と保護部分8との重なり状態を維持することができる。
その後、この方法では、図8に示すように、折り曲げられた回路付サスペンション基板1をEブロック30に実装する(実装工程)。
By the bending process described above, the covering
Thereafter, in this method, as shown in FIG. 8, the folded suspension board with
Eブロック30は、ハードディスクドライブにおけるヘッドスタックアセンブリ(HSA)などに備えられ、図8に示すように、例えば、金属製の断面櫛形状に形成され、回路付サスペンション基板1を収納するための隙間31が複数仕切られている。なお、Eブロック30は、その表面が、通常、ニッケルなどの金属によってめっきされて被覆されている。
The
回路付サスペンション基板1をEブロック30に実装するには、矢印で示すように、回路付サスペンション基板1を、その折曲部7側から、Eブロック30の隙間31に差し込む。
そして、この回路付サスペンション基板1によれば、被覆部3を折り曲げることによって、被覆部3が回路基板部2の保護部分8と厚み方向において重なり、被覆部3により、回路基板部2の保護部分8を被覆することができる。
In order to mount the suspension board with
According to the suspension board with
とりわけ、折曲部7は、金属支持基板11におけるスリット19が設けられ、しかも、ベース絶縁層12の1層のみから形成されているので、折曲部7の柔軟性を向上させることができ、折曲部7に沿って被覆部3を容易に折り曲げることができる。
また、嵌合部9は、被覆部3が折り曲げられたときに、厚み方向において被嵌合部10と対向配置され、その被嵌合部10と嵌合できるように形成されている。そのため、嵌合部9を被嵌合部10と嵌合させることができ、被覆部3と保護部分8との重なり状態を確実に維持することができる。
In particular, the
Further, the
さらには、被覆部3と厚み方向において対向する保護部分8のベース絶縁層12の厚みが、保護部分8に隣接するベース絶縁層12の厚みより、薄く形成されているので、重ねられた保護部分8および被覆部3の合計厚み(T1+T2)が過度に厚くなることを防止することができる。そのため、保護部分8および被覆部3の合計厚み(T1+T2)を薄く維持することで、保護部分8の配線15の損傷や断線を防止しながら、回路付サスペンション基板1をEブロック30へ円滑に差し込むことができる。
Furthermore, since the thickness of the insulating
折曲工程後の回路付サスペンション基板1をEブロック30に実装するときに、回路付サスペンション基板1がEブロック30と接触しても、とりわけ、Eブロック30のエッジ(端)33にバリ32(例えば、ニッケルめっきにより発生したバリ32)があり、これと接触しても、回路基板部2が被覆部3により被覆されているので、回路基板部2ではなく、被覆部3がEブロック30のバリ32と接触するので、回路基板部2のEブロック30のバリ32との接触に起因する損傷や断線を防止することができる。
When the suspension board with
その結果、配線15の損傷や断線が防止された回路付サスペンション基板1をハードディスクドライブに搭載することにより、そのハードディスクドライブの信頼性を向上させることができる。
なお、上記した説明では、被覆部3を、折曲工程において保護部分8と重なることができるように形成したが、例えば、図示しないが、保護部分8を含む配線形成部4のすべてと重なることができるように形成することもできる。
As a result, the reliability of the hard disk drive can be improved by mounting the suspension board with
In the above description, the covering
また、上記した説明では、嵌合部9および被嵌合部10を形成して、これらの嵌合により、被覆部3と保護部分8との重なり状態を維持したが、例えば、図2の仮想線(符号11にて表される。)で示すように、嵌合部9および被嵌合部10を形成せず、これらに代えて接着剤層を設けることもできる。すなわち、保護部分8のカバー絶縁層14の表面全面、および/または、被覆部3のベース絶縁層12の表面全面に、公知の接着剤からなる接着剤層を設けて、保護部分8と被覆部3とを接着剤層を介して接着することにより、これらを固定する。
In the above description, the
さらには、嵌合部9および被嵌合部10による嵌合と、接着剤層による接着とを併用することもできる。
図9は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態(ベース開口部が形成される態様)の要部拡大平面図を示す。
上記した説明では、折曲部7を、ベース絶縁層12から長手方向にわたって連続して形成したが、例えば、図9に示すように、ベース絶縁層12の長手方向途中に、スリット19と厚み方向に連通するベース開口部20を形成することもできる。
Furthermore, the fitting by the
FIG. 9 shows an enlarged plan view of a main part of another embodiment (an aspect in which a base opening is formed) of the suspension board with circuit of the present invention.
In the above description, the
これにより、折曲部7は、長手方向においてベース開口部20によって2つに分断され、分断された2つのベース絶縁層12が、スリット19を幅方向に横切るように形成される。つまり、折曲部7における2つのベース絶縁層12は、保護部分8の長手方向両端部のベース絶縁層12と、被覆部3の長手方向両端部のベース絶縁層12とをそれぞれ連結するように形成されている。
Thereby, the
折曲部7の長手方向長さL6は、例えば、50〜2000μm、好ましくは、70〜1000μmである。
そして、折曲部7は、ベース開口部20が形成され、長手方向に分断されているので、折曲工程において、ベース開口部20に沿って、折曲部7のベース絶縁層12の表面を谷にして、被覆部3をより一層容易に折り曲げることができる。
The longitudinal direction length L6 of the
Since the
図10は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態(保護部分とそれに隣接するベース絶縁層の厚みが同一である態様)の幅方向に沿う断面図を示す。
上記した説明では、保護部分8のベース絶縁層12の厚みT1を、それに隣接するベース絶縁層の厚みT2より薄く形成したが、例えば、図10に示すように、それに隣接するベース絶縁層の厚みT2と同一厚みで形成することもできる。
FIG. 10 shows a cross-sectional view along the width direction of another embodiment of the suspension board with circuit of the present invention (an embodiment in which the protective portion and the base insulating layer adjacent thereto have the same thickness).
In the above description, the thickness T1 of the
保護部分8のベース絶縁層12と、それに隣接するベース絶縁層12とを同一厚みで形成する場合には、ベース皮膜の露光における階調露光フォトマスクに代えて、構造が簡単なフォトマスク(遮光部分および光全透過部分のみのパターンのフォトマスク)を用いるので、ベース絶縁層12を簡便に形成して、回路付サスペンション基板1の製造コストを低減することができる。
When the
また、上記した説明では、折曲部7における金属支持基板11にスリット19を設けたが、例えば、図5(e)の仮想線(符号11にて表される。)で示すように、スリット19を形成することなく、金属支持基板11を、回路基板部2、折曲部7および被覆部3にわたって連続するように形成することもできる。金属支持基板11を上記のように形成する場合には、スリット19を形成する必要がないので、金属支持基板11を簡便に形成することができる。
Further, in the above description, the
図11は、本発明の回路付サスペンション基板の他の実施形態(被覆部がベース絶縁層のみから形成される態様)の幅方向に沿う断面図を示す。
上記した説明では、被覆部3を、金属支持基板11およびベース絶縁層12の2層から形成したが、被覆部3の層構成はこれに限定されない。例えば、図11に示すように、ベース絶縁層12の1層から形成することもできる。さらには、図示しないが、例えば、金属支持基板11の1層、ベース絶縁層12およびカバー絶縁層14の2層、金属支持基板11、ベース絶縁層12およびカバー絶縁層14の3層、金属支持基板11、ベース絶縁層12、導体パターン13およびカバー絶縁層14の4層などから形成することもできる。
FIG. 11 shows a cross-sectional view along the width direction of another embodiment of the suspension board with circuit of the present invention (embodiment in which the covering portion is formed of only the base insulating layer).
In the above description, the covering
これらのうち、被覆部3によって保護部分8を確実に保護する観点から、好ましくは、被覆部3を、上記し図3に示すように、金属支持基板11およびベース絶縁層12の2層から形成する。
あるいは、重ねられた被覆部3および保護部分8の合計厚みを薄くする観点から、好ましくは、被覆部3を、上記し図11に示すように、ベース絶縁層12のみの1層、または、金属支持基板11のみの1層(図示せず)から形成する。
Among these, from the viewpoint of surely protecting the
Alternatively, from the viewpoint of reducing the total thickness of the overlapped covering
以下に実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、何ら実施例に限定されることはない。
(回路付サスペンション基板の製造)
実施例1(被覆部を金属支持基板およびベース絶縁層から形成し、折曲工程で、接着剤により固定する態様)
厚さ25μmのステンレスからなる金属支持基板を用意した(図5(a)参照)。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples.
(Manufacture of suspension board with circuit)
Example 1 (Aspect where the covering portion is formed from a metal support substrate and a base insulating layer, and is fixed with an adhesive in the bending step)
A metal support substrate made of stainless steel having a thickness of 25 μm was prepared (see FIG. 5A).
次いで、金属支持基板の表面に、ポリアミック酸樹脂のワニスを塗布した後、130℃で加熱することにより、ベース皮膜を形成した。その後、ベース皮膜を、遮光部分および光全透過部分のパターンのフォトマスクを介して露光させ、露光部分を180℃に加熱して乾燥させた後、アルカリ現像液を用いて現像することにより、ベース皮膜をパターンに形成した。 Next, a base film was formed by applying a polyamic acid resin varnish to the surface of the metal supporting substrate and then heating at 130 ° C. Thereafter, the base film is exposed through a photomask having a pattern of a light-shielding portion and a light transmissive portion, and the exposed portion is heated to 180 ° C. and dried, and then developed using an alkali developer, whereby the base film is developed. A film was formed into a pattern.
次いで、ベース皮膜を、350℃で加熱して、硬化(イミド化)させ、これによって、厚さ10μmのポリイミドからなるベース絶縁層を、回路基板部、折曲部および被覆部にわたって連続して形成した(図5(b)および図10参照)。
なお、ベース絶縁層は、回路基板部における幅が1500μm、折曲部における幅が100μm、被覆部における幅が1500μmであった。
Next, the base film is heated at 350 ° C. to be cured (imidized), thereby forming a base insulating layer made of polyimide having a thickness of 10 μm continuously over the circuit board portion, the bent portion, and the covering portion. (See FIG. 5B and FIG. 10).
The base insulating layer had a width of 1500 μm in the circuit board portion, a width in the bent portion of 100 μm, and a width in the covering portion of 1500 μm.
次いで、導体パターンを、回路基板部、被覆部および折曲部におけるベース絶縁層の上に、上記した配線回路パターンで形成した。すなわち、ベース絶縁層および金属支持基板の表面に、厚さ300Åのクロム薄膜と厚さ700Åの銅薄膜とからなる導体薄膜を、クロムスパッタリングおよび銅スパッタリングにより、順次形成した。その後、導体薄膜の上に、配線回路パターンの逆パターンでめっきレジスト形成した後、めっきレジストから露出する導体薄膜の上面に、電解銅めっきにより、銅からなる厚み20μmの導体パターンを形成した(図5(c)参照)。 Subsequently, the conductor pattern was formed with the above-described wiring circuit pattern on the base insulating layer in the circuit board portion, the covering portion, and the bent portion. That is, a conductive thin film composed of a chromium thin film having a thickness of 300 mm and a copper thin film having a thickness of 700 mm was sequentially formed on the surface of the base insulating layer and the metal supporting substrate by chromium sputtering and copper sputtering. Then, after forming a plating resist on the conductor thin film in the reverse pattern of the wiring circuit pattern, a conductor pattern having a thickness of 20 μm made of copper was formed on the upper surface of the conductor thin film exposed from the plating resist by electrolytic copper plating (FIG. 5 (c)).
その後、めっきレジストを、化学エッチングによって除去した後、めっきレジストが形成されていた部分の導体薄膜を、化学エッチングにより除去した。
導体パターンの寸法は、各配線の幅が20μm、各配線間の間隔が30μmであり、各ヘッド側端子および各外部側端子の幅が100μm、各ヘッド側端子間の間隔および各外部側端子間の間隔が80μmであった。
Thereafter, the plating resist was removed by chemical etching, and then the portion of the conductive thin film where the plating resist was formed was removed by chemical etching.
The dimensions of the conductor pattern are as follows: the width of each wiring is 20 μm, the spacing between each wiring is 30 μm, the width of each head side terminal and each external side terminal is 100 μm, the spacing between each head side terminal and each external side terminal Was 80 μm.
次いで、カバー絶縁層を、回路基板部におけるベース絶縁層の上に上記したパターンで形成した。
すなわち、導体パターン、ベース絶縁層および金属支持基板の表面に、ポリアミック酸樹脂のワニスを塗布した後、130℃で加熱することにより、カバー皮膜を形成した。次いで、フォトマスクを介して露光させ、露光部分を180℃に加熱して乾燥させた後、アルカリ現像液を用いて現像することにより、カバー皮膜をパターンに形成した。
Next, the cover insulating layer was formed in the above-described pattern on the base insulating layer in the circuit board portion.
That is, a polyamic acid resin varnish was applied to the surfaces of the conductor pattern, the base insulating layer, and the metal support substrate, and then heated at 130 ° C. to form a cover film. Next, the film was exposed through a photomask, the exposed portion was heated to 180 ° C. and dried, and then developed using an alkali developer to form a cover film in a pattern.
次いで、カバー皮膜を、350℃で加熱して、硬化(イミド化)させ、これによって、厚さ(T2)5μmのポリイミドからなるカバー絶縁層を、回路基板部に形成した(図5(d)参照)。なお、カバー絶縁層の回路基板部における幅が1500μmであった。
次いで、化学エッチングにより、金属支持基板を開口して、幅100μmのスリットを形成するとともに、金属支持基板を外形加工して、平面視矩形状の回路基板部および被覆部を形成した。
Next, the cover film was heated at 350 ° C. to be cured (imidized), thereby forming a cover insulating layer made of polyimide having a thickness (T2) of 5 μm on the circuit board portion (FIG. 5D). reference). The width of the insulating cover layer in the circuit board portion was 1500 μm.
Next, the metal support substrate was opened by chemical etching to form a slit having a width of 100 μm, and the metal support substrate was subjected to external processing to form a rectangular circuit board portion and a covering portion in plan view.
なお、金属支持基板は、回路基板部における幅が1600μm、被覆部における幅が1600μmであった。
これにより、回路付サスペンション基板を得た(図5(e)および図10参照)。
その後、保護部分のカバー絶縁層の表面に接着剤層を積層し、その後、折曲部に沿って、被覆部を折り曲げて、被覆部を接着剤層を介して保護部分に重ねて接着し、これらを固定した。
The metal supporting board had a width of 1600 μm in the circuit board portion and 1600 μm in the covering portion.
Thus, a suspension board with circuit was obtained (see FIG. 5E and FIG. 10).
Thereafter, an adhesive layer is laminated on the surface of the cover insulating layer of the protective part, and then the covering part is folded along the bent part, and the covering part is overlapped and adhered to the protective part via the adhesive layer, These were fixed.
実施例2(被覆部を金属支持基板およびベース絶縁層から形成し、折曲工程で、嵌合部および被嵌合部により嵌合する態様)
実施例1の金属支持基板の外形加工において、回路基板部の配線形成部に被嵌合部を形成し、被覆部に嵌合部を形成し、さらに、接着剤層による固定に代えて、嵌合部と被嵌合部との嵌合に変更した以外は、実施例1と同様にして、回路付サスペンション基板を得た(図1および図2参照)。
Example 2 (form which forms a coating | coated part from a metal support substrate and a base insulating layer, and is fitted by a fitting part and a to-be-fitted part in a bending process)
In the outer shape processing of the metal support board of Example 1, a fitting part is formed in the wiring forming part of the circuit board part, a fitting part is formed in the covering part, and the fitting is performed instead of fixing with the adhesive layer. A suspension board with circuit was obtained in the same manner as in Example 1 except that the fitting portion was changed to the fitting portion and the fitted portion (see FIGS. 1 and 2).
なお、嵌合部は、図2が参照されるように、幅(L1)が1000μm、長さ(L2)が1500μmであり、第1突出部の幅(W1)が500μmであり、第2突出部の幅(W2)が、500μmであった。
また、被嵌合部は、幅(L3)が1000μm、第3突出部の長手方向長さ(L4)が1500μm、溝の幅(L5)は600μmであり、溝の深さ(D1)500μmであった。
As shown in FIG. 2, the fitting portion has a width (L1) of 1000 μm, a length (L2) of 1500 μm, a width of the first protrusion (W1) of 500 μm, and a second protrusion. The part width (W2) was 500 μm.
Further, the fitted portion has a width (L3) of 1000 μm, a longitudinal length (L4) of the third protruding portion is 1500 μm, a groove width (L5) is 600 μm, and a groove depth (D1) is 500 μm. there were.
実施例3(折曲部に、ベース開口部を形成する態様)
折曲部にベース開口部が形成されるように、ベース絶縁層を形成した以外は、実施例2と同様にして、回路付サスペンション基板を得た(図9参照)。
なお、ベース開口部により長手方向に分断された、折曲部の長手方向長さ(L6)は200μmであった。
Example 3 (Aspect in which a base opening is formed in a bent portion)
A suspension board with circuit was obtained in the same manner as in Example 2 except that the base insulating layer was formed so that the base opening was formed in the bent portion (see FIG. 9).
In addition, the longitudinal direction length (L6) of the bending part divided | segmented into the longitudinal direction by the base opening part was 200 micrometers.
実施例4(保護部分のベース絶縁層をそれに隣接するベース絶縁層より薄く形成する態様)
保護部分のベース絶縁層を、それに隣接するベース絶縁層よりも薄く形成した以外は、実施例1と同様にしてベース絶縁層を形成し、続いて、回路付サスペンション基板を得た(図3および図4参照)。
Example 4 (a mode in which the base insulating layer of the protective portion is formed thinner than the base insulating layer adjacent thereto)
A base insulating layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the base insulating layer of the protective part was formed thinner than the base insulating layer adjacent thereto, and then a suspension board with circuit was obtained (see FIG. 3 and FIG. 3). (See FIG. 4).
すなわち、ベース皮膜の露光において、保護部分以外のベース絶縁層に形成されるベース皮膜に光全透過部分を対向させ、保護部分のベース皮膜に光半透過部分を対向させ、それら以外のベース皮膜に遮光部分を対向させるように、階調露光フォトマスクを配置した。
なお、保護部分におけるベース絶縁層の厚み(T1)は3μmであった。
That is, in the exposure of the base film, the light transmission part is made to face the base film formed on the base insulating layer other than the protection part, the light semi-transmission part is made to face the base film of the protection part, and the base film other than those is covered. A gradation exposure photomask was arranged so that the light shielding portions were opposed to each other.
In addition, the thickness (T1) of the base insulating layer in the protection portion was 3 μm.
実施例5(被覆部をベース絶縁層のみから形成し、折曲工程で、接着剤により固定する態様)
実施例1の金属支持基板の外形加工において、折曲部および被覆部の金属支持基板をエッチングにより除去し、回路基板部の金属支持基板を残存させた以外は、実施例1と同様にして、回路付サスペンション基板を得た(図11参照)。
Example 5 (Aspect in which the covering portion is formed only from the base insulating layer, and is fixed with an adhesive in the bending step)
In the outer shape processing of the metal support substrate of Example 1, the metal support substrate of the bent portion and the covering portion was removed by etching, and the metal support substrate of the circuit board portion was left as in Example 1, A suspension board with circuit was obtained (see FIG. 11).
すなわち、被覆部をベース絶縁層のみから形成した。
(回路付サスペンション基板の実装)
実施例1〜5の回路付サスペンション基板を、ハードディスクドライブにおけるヘッドスタックアセンブリ(HSA)のEブロックに実装した。なお、Eブロックにおける隙間の高さ(隙間を仕切る櫛状部材間の間隔)(H)は100μmであった。
That is, the covering portion was formed only from the base insulating layer.
(Mounting suspension board with circuit)
The suspension boards with circuits of Examples 1 to 5 were mounted on the E block of the head stack assembly (HSA) in the hard disk drive. The height of the gap in the E block (the distance between the comb-like members that partition the gap) (H) was 100 μm.
その後、保護部分における配線の損傷の有無を確認したところ、いずれの回路付サスペンション基板においても、損傷が確認されなかった。 Thereafter, when the presence or absence of damage to the wiring in the protection portion was confirmed, no damage was confirmed in any suspension board with circuit.
1 回路付サスペンション基板
2 回路基板部
3 被覆部
4 配線形成部
7 折曲部
8 保護部分
9 嵌合部
10 被嵌合部
11 金属支持基板
12 ベース絶縁層
13 導体パターン
14 カバー絶縁層
30 Eブロック
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記回路基板部から延出され、前記回路基板部の少なくとも一部を被覆するための被覆部とを備え、
前記被覆部は、前記金属支持基板および前記ベース絶縁層を含み、外側に前記金属支持基板が配置され、内側に前記ベース絶縁層が配置されるように折り曲げられることにより、前記回路基板部の少なくとも一部と厚み方向において重なることができるように形成されていることを特徴とする、回路付サスペンション基板。 A metal support substrate, a base insulating layer formed on the metal support substrate, a conductor pattern formed on the base insulating layer, and a cover formed on the base insulating layer and covering the conductor pattern A circuit board portion comprising an insulating layer;
A coating portion extending from the circuit board portion and covering at least a part of the circuit board portion;
The covering portion includes the metal support substrate and the base insulating layer, and is bent so that the metal support substrate is disposed outside and the base insulating layer is disposed inside, so that at least the circuit board portion is formed. A suspension board with circuit, wherein the suspension board is formed so as to be able to overlap with a part in a thickness direction.
前記回路基板部は、前記配線が形成される配線形成部を含み、
前記被覆部は、前記配線形成部から、前記配線に沿う方向と交差する方向に膨出するように形成され、
前記被覆部と前記配線形成部との間には、折曲部が設けられており、
前記被覆部は、前記折曲部に沿って折り曲げられるように形成されていることを特徴とする、請求項1に記載の回路付サスペンション基板。 The conductor pattern includes a plurality of wirings,
The circuit board portion includes a wiring forming portion where the wiring is formed,
The covering portion is formed so as to bulge from the wiring forming portion in a direction intersecting with the direction along the wiring,
Between the covering portion and the wiring forming portion, a bent portion is provided,
The suspension board with circuit according to claim 1, wherein the covering portion is formed to be bent along the bent portion.
前記回路基板部は、前記嵌合部に嵌合されるための被嵌合部を備え、
前記嵌合部は、前記被覆部が折り曲げられたときに、厚み方向において前記被嵌合部と対向配置され、その被嵌合部と嵌合できるように形成されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の回路付サスペンション基板。 The covering portion includes a fitting portion,
The circuit board portion includes a fitted portion to be fitted to the fitting portion,
The fitting part is formed so as to be opposed to the fitted part in the thickness direction when the covering part is bent, and to be fitted to the fitted part. The suspension board with circuit according to any one of claims 1 to 3.
前記折曲工程後、前記回路付サスペンション基板をEブロックに実装する工程
を備えることを特徴とする、回路付サスペンション基板の実装方法。 The covering portion of the suspension board with circuit according to claim 1, heavy Do Ri at least part in the thickness direction of the circuit board portion, the metal supporting board is placed outside, the inside in so that the base insulating layer is disposed, folding process folding and,
A method for mounting a suspension board with circuit, comprising the step of mounting the suspension board with circuit on an E block after the bending step.
回路基板部、折曲部および被覆部に対応して連続するように、前記金属支持基板の上にベース絶縁層を形成する工程と、 Forming a base insulating layer on the metal support substrate so as to correspond to the circuit board portion, the bent portion, and the covering portion; and
前記回路基板部の前記ベース絶縁層の上に導体パターンを形成する工程と、 Forming a conductor pattern on the base insulating layer of the circuit board portion;
前記回路基板部の前記ベース絶縁層の上に前記導体パターンを被覆するカバー絶縁層を形成する工程と、 Forming an insulating cover layer covering the conductive pattern on the insulating base layer of the circuit board portion;
前記金属支持基板を、前記回路基板部、前記折曲部および前記被覆部に対応する形状に外形加工する工程と Processing the outer shape of the metal support substrate into a shape corresponding to the circuit board portion, the bent portion, and the covering portion;
を備えることを特徴とする、回路付サスペンション基板の製造方法。A method of manufacturing a suspension board with circuit, comprising:
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