JP6818169B2 - Suspension board with circuit - Google Patents

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Description

本発明は、回路付サスペンション基板、詳しくは、ハードディスクドライブに用いられる回路付サスペンション基板、および、その製造方法に関する。 The present invention relates to a suspension board with a circuit, specifically, a suspension board with a circuit used for a hard disk drive, and a method for manufacturing the same.

従来、ハードディスクドライブには、磁気ヘッドを備えるスライダが搭載される回路付サスペンション基板が実装される。 Conventionally, a suspension board with a circuit on which a slider having a magnetic head is mounted is mounted on a hard disk drive.

このような回路付サスペンション基板では、ヘッド側端子を、スライダの磁気ヘッドの端子に対して、はんだボールによって電気的に接続している(例えば、特許文献1参照。
)。
In such a suspension board with a circuit, the terminal on the head side is electrically connected to the terminal of the magnetic head of the slider by a solder ball (see, for example, Patent Document 1).
).

特開2012−099204号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-099204

しかるに、上記した特許文献1に記載の回路付サスペンション基板において、ヘッド側端子と磁気ヘッドの端子とは、厚み方向において離間しており、その程度が大きい場合には、はんだボールを溶融させたときに、ヘッド側端子と磁気ヘッドの端子との接触面積を確保することができず、接触不良を起こす場合がある。 However, in the suspension board with a circuit described in Patent Document 1 described above, the head side terminal and the magnetic head terminal are separated in the thickness direction, and when the degree is large, when the solder ball is melted. In addition, the contact area between the head side terminal and the magnetic head terminal cannot be secured, which may cause poor contact.

本発明の目的は、接続端子を、スライダの端子に対して確実に接続させることのできる回路付サスペンション基板、および、回路付サスペンション基板の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a suspension board with a circuit capable of reliably connecting the connection terminals to the terminals of the slider, and a method for manufacturing the suspension board with a circuit.

本発明[1]は、金属支持基板と、金属支持基板の厚み方向一方側に配置されるベース絶縁層と、ベース絶縁層の厚み方向一方側に配置され、スライダと電気的に接続される接続端子を備える導体層とを備え、ベース絶縁層は、厚み方向に投影したときに、少なくとも接続端子と重なる端子領域と、端子領域と重ならず、かつ、端子領域の周辺の周辺領域とを有し、端子領域の厚みは、周辺領域の厚みよりも厚い回路付サスペンション基板を含んでいる。 In the present invention [1], a metal support substrate, a base insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the metal support substrate, and a connection arranged on one side in the thickness direction of the base insulating layer and electrically connected to a slider. A conductor layer including terminals is provided, and the base insulating layer has at least a terminal area that overlaps with the connection terminal when projected in the thickness direction, and a peripheral area that does not overlap with the terminal area and is around the terminal area. However, the thickness of the terminal region includes the suspension substrate with a circuit that is thicker than the thickness of the peripheral region.

このような構成によれば、端子領域の厚みが、周辺領域の厚みよりも厚いので、厚み方向において、接続端子をスライダの端子に対して近接させることができる。 According to such a configuration, since the thickness of the terminal region is thicker than the thickness of the peripheral region, the connection terminal can be brought close to the terminal of the slider in the thickness direction.

そのため、接続端子とスライダの端子とを確実に接続させることができる。 Therefore, the connection terminal and the terminal of the slider can be reliably connected.

一方、周辺領域の厚みは、端子領域の厚みよりも薄いので、回路付サスペンション基板の軽量薄型化を図ることができる。 On the other hand, since the thickness of the peripheral region is thinner than the thickness of the terminal region, the suspension substrate with a circuit can be made lighter and thinner.

本発明[2]は、ベース絶縁層は、金属支持基板の厚み方向一方側に配置される第1ベース絶縁層と、第1ベース絶縁層を被覆し、金属支持基板の厚み方向一方側に配置される第2ベース絶縁層とを備え、端子領域は、第1ベース絶縁層からなり、金属支持基板の厚み方向一方側に配置される第1端子領域絶縁層と、第2ベース絶縁層からなり、第1端子領域絶縁層の厚み方向一方側に配置される第2端子領域絶縁層とを備え、周辺領域は、第2ベース絶縁層からなり、金属支持基板の厚み方向一方側に配置される第2周辺領域絶縁層を、少なくとも備える、上記[1]の回路付サスペンション基板を含んでいる。 In the present invention [2], the base insulating layer covers the first base insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the metal supporting substrate and the first base insulating layer, and is arranged on one side in the thickness direction of the metal supporting substrate. The terminal region is composed of a first base insulating layer, and is composed of a first terminal region insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the metal support substrate and a second base insulating layer. The second terminal region insulating layer is provided on one side in the thickness direction of the first terminal region insulating layer, and the peripheral region is composed of the second base insulating layer and is arranged on one side in the thickness direction of the metal support substrate. It includes a suspension substrate with a circuit according to the above [1], which includes at least a second peripheral region insulating layer.

このような構成によれば、周辺領域が、第2ベース絶縁層からなる第2周辺領域絶縁層を備えているのに対し、端子領域が、第1ベース絶縁層からなる第1端子領域絶縁層と、第2ベース絶縁層からなる第2端子領域絶縁層を備えている。 According to such a configuration, the peripheral region includes the second peripheral region insulating layer composed of the second base insulating layer, whereas the terminal region includes the first terminal region insulating layer composed of the first base insulating layer. And a second terminal region insulating layer composed of a second base insulating layer is provided.

そのため、端子領域を、1層のベース絶縁層から形成する場合と比較して、端子領域の厚みを2層、すなわち、第1端子領域絶縁層および第2端子領域絶縁層から形成することで、周辺領域の厚みよりも容易に厚くすることができる。 Therefore, as compared with the case where the terminal region is formed from one base insulating layer, the thickness of the terminal region is formed from two layers, that is, the first terminal region insulating layer and the second terminal region insulating layer. It can be easily made thicker than the thickness of the peripheral region.

その結果、接続端子をスライダの端子に対して近接させることができるので、接続端子とスライダの端子とを、より確実に接続させることができる。 As a result, the connection terminal can be brought close to the slider terminal, so that the connection terminal and the slider terminal can be connected more reliably.

本発明[3]は、接続端子を露出するように導体層を被覆し、ベース絶縁層の厚み方向一方側に配置されるカバー絶縁層と、スライダを支持する台座とをさらに備え、台座は、第1ベース絶縁層からなり、金属支持基板の厚み方向一方側に配置される第1ベース台座層と、第2ベース絶縁層からなり、第1ベース台座層の厚み方向一方側に配置される第2ベース台座層と、カバー絶縁層からなり、第2ベース台座層の厚み方向一方側に配置されるカバー台座層とを備える、上記[2]の回路付サスペンション基板を含んでいる。 The present invention [3] further includes a cover insulating layer that covers a conductor layer so as to expose the connection terminals and is arranged on one side in the thickness direction of the base insulating layer, and a pedestal that supports the slider. A first base pedestal layer composed of a first base insulating layer and arranged on one side in the thickness direction of the metal support substrate, and a first base pedestal layer composed of a second base insulating layer and arranged on one side in the thickness direction of the first base pedestal layer. The suspension substrate with a circuit according to the above [2] is included, which includes a two-base pedestal layer and a cover pedestal layer which is composed of a cover insulating layer and is arranged on one side in the thickness direction of the second base pedestal layer.

このような構成によれば、第1ベース台座層が第1ベース絶縁層からなり、第2ベース台座層が第2ベース絶縁層からなり、カバー台座層がカバー絶縁層からなるので、スライダを支持するための部材を別途設けることなく、台座を形成することができる。 According to such a configuration, the first base pedestal layer is composed of the first base insulating layer, the second base pedestal layer is composed of the second base insulating layer, and the cover pedestal layer is composed of the cover insulating layer, so that the slider is supported. The pedestal can be formed without separately providing a member for the purpose.

本発明[4]は、ベース絶縁層は、金属支持基板の厚み方向一方側に配置される第1ベース絶縁層と、第1ベース絶縁層の厚み方向一方側に配置される第2ベース絶縁層と、を備え、端子領域は、第1ベース絶縁層からなり、金属支持基板の厚み方向一方側に配置される第1端子領域絶縁層と、第2ベース絶縁層からなり、第1端子領域絶縁層の厚み方向一方側に配置される第2端子領域絶縁層とを備え、周辺領域は、第1ベース絶縁層からなり、金属支持基板の厚み方向一方側に配置される第1周辺領域絶縁層を、少なくとも備える、上記[1]の回路付サスペンション基板を含んでいる。 In the present invention [4], the base insulating layer is a first base insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the metal support substrate and a second base insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the first base insulating layer. The terminal region is composed of a first base insulating layer, a first terminal region insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the metal support substrate, and a second base insulating layer, and is insulated from the first terminal region. A second terminal region insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the layer is provided, and the peripheral region is composed of a first base insulating layer, and the first peripheral region insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the metal support substrate. The suspension substrate with a circuit according to the above [1] is included.

このような構成によれば、周辺領域が、第1ベース絶縁層からなる第1周辺領域絶縁層を備えているのに対し、端子領域が、第1ベース絶縁層からなる第1端子領域絶縁層と、第2ベース絶縁層からなる第2端子領域絶縁層を備えている。 According to such a configuration, the peripheral region includes a first peripheral region insulating layer made of a first base insulating layer, whereas the terminal region is a first terminal region insulating layer made of a first base insulating layer. And a second terminal region insulating layer composed of a second base insulating layer is provided.

そのため、端子領域を、1層のベース絶縁層から形成する場合と比較して、端子領域の厚みを2層、すなわち、第1端子領域絶縁層および第2端子領域絶縁層から形成することで、周辺領域の厚みよりも容易に厚くすることができる。 Therefore, as compared with the case where the terminal region is formed from one base insulating layer, the thickness of the terminal region is formed from two layers, that is, the first terminal region insulating layer and the second terminal region insulating layer. It can be easily made thicker than the thickness of the peripheral region.

その結果、接続端子をスライダの端子に対して近接させることができるので接続端子とスライダの端子とを、より確実に接続させることができる。 As a result, the connection terminal can be brought close to the slider terminal, so that the connection terminal and the slider terminal can be connected more reliably.

本発明[5]は、接続端子を露出するように導体層を被覆し、ベース絶縁層の厚み方向一方側に配置されるカバー絶縁層と、スライダを支持する台座とをさらに備え、台座は、第1ベース絶縁層からなり、金属支持基板の厚み方向一方側に配置される第1ベース台座層と、第2ベース絶縁層からなり、第1ベース台座層の厚み方向一方側に配置される第2ベース台座層と、カバー絶縁層からなり、第2ベース台座層の厚み方向一方側に配置されるカバー台座層とを備える、上記[4]の回路付サスペンション基板を含んでいる。 The present invention [5] further includes a cover insulating layer that covers a conductor layer so as to expose the connection terminals and is arranged on one side in the thickness direction of the base insulating layer, and a pedestal that supports the slider. A first base pedestal layer composed of a first base insulating layer and arranged on one side in the thickness direction of the metal support substrate, and a first base pedestal layer composed of a second base insulating layer and arranged on one side in the thickness direction of the first base pedestal layer. The suspension substrate with a circuit according to the above [4] is included, which comprises a two-base pedestal layer, a cover insulating layer, and a cover pedestal layer arranged on one side in the thickness direction of the second base pedestal layer.

このような構成によれば、第1ベース台座層が第1ベース絶縁層からなり、第2ベース台座層が第2ベース絶縁層からなり、カバー台座層がカバー絶縁層からなるので、スライダを支持するための部材を別途設けることなく、台座を形成することができる。 According to such a configuration, the first base pedestal layer is composed of the first base insulating layer, the second base pedestal layer is composed of the second base insulating layer, and the cover pedestal layer is composed of the cover insulating layer, so that the slider is supported. The pedestal can be formed without separately providing a member for the purpose.

本発明[6]は、上記[3]に記載の回路付サスペンション基板の製造方法であって、金属支持基板を用意する工程、金属支持基板の厚み方向一方側に第1端子領域絶縁層と、金属支持基板の厚み方向一方側に第1ベース台座層とを、少なくとも配置するように、第1ベース絶縁層を形成する工程、第1端子領域絶縁層の厚み方向一方側に第2端子領域絶縁層と、金属支持基板の厚み方向一方側に第2周辺領域絶縁層と、第1ベース台座層の厚み方向一方側に第2ベース台座層とを配置するように、第2ベース絶縁層を形成する工程、ベース絶縁層の厚み方向一方側に、接続端子を備える導体層を形成する工程、および、第2ベース台座層の厚み方向一方側にカバー台座層を配置するように、接続端子を露出し、導体層を被覆するカバー絶縁層を形成する工程を備える回路付サスペンション基板の製造方法を含んでいる。 The present invention [6] is the method for manufacturing a suspension substrate with a circuit according to the above [3], wherein a step of preparing a metal support substrate, a first terminal region insulating layer on one side in the thickness direction of the metal support substrate, and the like. A step of forming a first base insulating layer so that at least the first base pedestal layer is arranged on one side in the thickness direction of the metal support substrate, and second terminal region insulation on one side in the thickness direction of the first terminal region insulating layer. A second base insulating layer is formed so as to arrange the layer, the second peripheral region insulating layer on one side in the thickness direction of the metal support substrate, and the second base pedestal layer on one side in the thickness direction of the first base pedestal layer. The step of forming a conductor layer having a connection terminal on one side in the thickness direction of the base insulating layer, and exposing the connection terminals so as to arrange the cover pedestal layer on one side in the thickness direction of the second base pedestal layer. It also includes a method of manufacturing a suspension substrate with a circuit, which comprises a step of forming a cover insulating layer that covers the conductor layer.

このような方法によれば、端子領域の厚みが、周辺領域の厚みよりも厚く、厚み方向において、接続端子をスライダの端子に対して近接させることのできる回路付サスペンション基板を製造することができる。 According to such a method, it is possible to manufacture a suspension board with a circuit in which the thickness of the terminal region is thicker than the thickness of the peripheral region and the connection terminals can be brought close to the terminals of the slider in the thickness direction. ..

また、第2端子領域絶縁層および第2周辺領域絶縁層を形成する工程において、第2ベース台座層を同時に形成することができる。 Further, in the step of forming the second terminal region insulating layer and the second peripheral region insulating layer, the second base pedestal layer can be formed at the same time.

そのため、接続端子をスライダの端子に確実に近接させることができながら、別途工程を増やすことなく、効率よく台座を形成することができる。 Therefore, the pedestal can be efficiently formed without increasing the number of steps, while the connection terminal can be surely brought close to the terminal of the slider.

本発明[7]は、上記[5]に記載の回路付サスペンション基板の製造方法であって、金属支持基板を用意する工程、金属支持基板の厚み方向一方側に第1端子領域絶縁層と、金属支持基板の厚み方向一方側に第1周辺領域絶縁層と、金属支持基板の厚み方向一方側に第1ベース台座層とを配置するように、第1ベース絶縁層を形成する工程、第1端子領域絶縁層の厚み方向一方側に第2端子領域絶縁層と、第1ベース台座層の厚み方向一方側に第2ベース台座層とを、少なくとも配置するように、第2ベース絶縁層を形成する工程、ベース絶縁層の厚み方向一方側に、接続端子を備える導体層を形成する工程、および、第2ベース台座層の厚み方向一方側にカバー台座層を配置するように、接続端子を露出し、導体層を被覆するカバー絶縁層を形成する工程を備える回路付サスペンション基板の製造方法を含んでいる。 The present invention [7] is the method for manufacturing a suspension substrate with a circuit according to the above [5], wherein a step of preparing a metal support substrate, a first terminal region insulating layer on one side in the thickness direction of the metal support substrate, and the like. The first step of forming the first base insulating layer so that the first peripheral region insulating layer is arranged on one side in the thickness direction of the metal supporting substrate and the first base pedestal layer is arranged on one side in the thickness direction of the metal supporting substrate. A second base insulating layer is formed so that at least a second terminal region insulating layer is arranged on one side in the thickness direction of the terminal region insulating layer and a second base pedestal layer is arranged on one side in the thickness direction of the first base pedestal layer. The step of forming a conductor layer having a connection terminal on one side in the thickness direction of the base insulating layer, and exposing the connection terminals so as to arrange the cover pedestal layer on one side in the thickness direction of the second base pedestal layer. It also includes a method of manufacturing a suspension substrate with a circuit, which comprises a step of forming a cover insulating layer that covers the conductor layer.

このような方法によれば、端子領域の厚みが、周辺領域の厚みよりも厚く、厚み方向において、接続端子をスライダの端子に対して近接させることのできる回路付サスペンション基板を製造することができる。 According to such a method, it is possible to manufacture a suspension board with a circuit in which the thickness of the terminal region is thicker than the thickness of the peripheral region and the connection terminals can be brought close to the terminals of the slider in the thickness direction. ..

また、第1端子領域絶縁層および第1周辺領域絶縁層を形成する工程において、第1ベース台座層を同時に形成することができる。 Further, in the step of forming the first terminal region insulating layer and the first peripheral region insulating layer, the first base pedestal layer can be formed at the same time.

そのため、接続端子をスライダの端子に確実に近接させることができながら、別途工程を増やすことなく、効率よく台座を形成することができる。 Therefore, the pedestal can be efficiently formed without increasing the number of steps, while the connection terminal can be surely brought close to the terminal of the slider.

本発明の回路付サスペンション基板およびその製造方法によれば、接続端子を、スライダの端子に対して確実に接続させることができる。 According to the suspension board with a circuit of the present invention and the manufacturing method thereof, the connection terminals can be reliably connected to the terminals of the slider.

図1は、本発明の回路付サスペンション基板の第1実施形態の平面図を示す。FIG. 1 shows a plan view of a first embodiment of a suspension substrate with a circuit of the present invention. 図2は、図1に示す回路付サスペンション基板のジンバル部の平面図を示す。FIG. 2 shows a plan view of a gimbal portion of the suspension substrate with a circuit shown in FIG. 図3Aは、図2に示すジンバル部のA−A線に沿う断面図を示す。図3Bは、図2に示すジンバル部のB−B線に沿う断面図を示す。FIG. 3A shows a cross-sectional view of the gimbal portion shown in FIG. 2 along the line AA. FIG. 3B shows a cross-sectional view of the gimbal portion shown in FIG. 2 along the line BB. 図4A〜図4Cは、図3Bに示す回路付サスペンション基板の製造方法を説明するための工程図であって、図4Aは、金属支持基板を用意する工程、図4Bは、第1ベース絶縁層を形成する工程、図4Cは、第2ベース絶縁層を形成する工程を示す。4A to 4C are process diagrams for explaining the manufacturing method of the suspension substrate with a circuit shown in FIG. 3B, FIG. 4A is a process of preparing a metal support substrate, and FIG. 4B is a first base insulating layer. FIG. 4C shows a step of forming the second base insulating layer. 図5D〜図5Fは、図4Cに引き続き、図3Bに示す回路付サスペンション基板の製造方法を説明するための工程図であって、図5Dは、導体層を形成する工程、図5Eは、カバー絶縁層を形成する工程、図5Fは、金属支持基板を外形加工する工程を示す。5D to 5F are process diagrams for explaining a method of manufacturing a suspension substrate with a circuit shown in FIG. 3B, following FIG. 4C. FIG. 5D is a process of forming a conductor layer, and FIG. 5E is a cover. The process of forming the insulating layer, FIG. 5F, shows the process of externally processing the metal support substrate. 図6G〜図6Iは、図5Fに引き続き、図3Bに示す回路付サスペンション基板の製造方法を説明するための工程図であって、図6Gは、第1ベース絶縁層を部分的に除去する工程、図6Hは、めっき層を形成する工程、図6Iは、スライダを実装する工程を示す。6G to 6I are process diagrams for explaining the manufacturing method of the suspension substrate with a circuit shown in FIG. 3B, following FIG. 5F, and FIG. 6G is a process of partially removing the first base insulating layer. 6H shows a step of forming a plating layer, and FIG. 6I shows a step of mounting a slider. 図7Aは、本発明の回路付サスペンション基板の第2実施形態の断面図であって、図3Aに対応する断面図を示す。図7Bは、本発明の回路付サスペンション基板の第2実施形態の断面図であって、図3Bに対応する断面図を示す。FIG. 7A is a cross-sectional view of a second embodiment of the suspension substrate with a circuit of the present invention, and shows a cross-sectional view corresponding to FIG. 3A. FIG. 7B is a cross-sectional view of a second embodiment of the suspension substrate with a circuit of the present invention, and shows a cross-sectional view corresponding to FIG. 3B.

<第1実施形態>
図1に示す回路付サスペンション基板1は、磁気ヘッド3を搭載するスライダ4、および、ピエゾ素子5を実装し、外部基板6および電源7が接続されて、ハードディスクドライブ(図示せず)に搭載される。
<First Embodiment>
The suspension board 1 with a circuit shown in FIG. 1 mounts a slider 4 on which a magnetic head 3 is mounted and a piezo element 5, is connected to an external board 6 and a power supply 7, and is mounted on a hard disk drive (not shown). To.

なお、図1において、紙面左右方向は、先後方向(第1方向)であって、紙面左側が先側(第1方向一方側)、紙面右側が後側(第1方向他方側)である。また、紙面上下方向は、左右方向(幅方向、第2方向)であって、紙面上側が左側(幅方向一方側、第2方向一方側)、紙面下側が右側(幅方向他方側、第2方向他方側)である。また、紙面紙厚方向は、上下方向(厚み方向、第3方向)であって、紙面手前側が上側(厚み方向一方側、第3方向一方側)、紙面奥側が下側(厚み方向他方側、第3方向他方側)である。具体的には、各図の方向矢印に準拠する。 In FIG. 1, the left-right direction of the paper surface is the front-rear direction (first direction), the left side of the paper surface is the front side (one side of the first direction), and the right side of the paper surface is the rear side (the other side of the first direction). The vertical direction of the paper surface is the left-right direction (width direction, second direction), the upper side of the paper surface is the left side (one side in the width direction, one side in the second direction), and the lower side of the paper surface is the right side (the other side in the width direction, the second). The other side of the direction). The paper thickness direction is the vertical direction (thickness direction, third direction), the front side of the paper surface is the upper side (one side in the thickness direction, one side in the third direction), and the back side of the paper surface is the lower side (the other side in the thickness direction, The other side in the third direction). Specifically, it conforms to the direction arrows in each figure.

また、図1において、架橋部36(後述)以外のベース絶縁層9(後述)、および、カバー絶縁層11を省略している。また、図2においては、ベース絶縁層9(第1ベース絶縁層26(後述)、第2ベース絶縁層27(後述))を図示し、カバー絶縁層11(後述)を省略している。 Further, in FIG. 1, the base insulating layer 9 (described later) other than the crosslinked portion 36 (described later) and the cover insulating layer 11 are omitted. Further, in FIG. 2, the base insulating layer 9 (first base insulating layer 26 (described later), second base insulating layer 27 (described later)) is shown, and the cover insulating layer 11 (described later) is omitted.

回路付サスペンション基板1は、図1に示すように、先後方向に延びる平帯形状に形成されている。回路付サスペンション基板1は、図3Aおよび図3Bに示すように、金属支持基板8、金属支持基板8の上に形成されるベース絶縁層9、ベース絶縁層9の上に形成される導体層10、ベース絶縁層9の上に導体層10を被覆するように形成されるカバー絶縁層11、および、導体層10の後述する複数の端子(外部側端子57、ヘッド側端子58、ピエゾ側端子59)の表面を被覆するめっき層12を備えている。 As shown in FIG. 1, the suspension substrate 1 with a circuit is formed in a flat band shape extending in the front-rear direction. As shown in FIGS. 3A and 3B, the suspension substrate 1 with a circuit includes a metal support substrate 8, a base insulating layer 9 formed on the metal support substrate 8, and a conductor layer 10 formed on the base insulating layer 9. , A cover insulating layer 11 formed so as to cover the conductor layer 10 on the base insulating layer 9, and a plurality of terminals (external side terminal 57, head side terminal 58, piezo side terminal 59) of the conductor layer 10 described later. ) Is provided with a plating layer 12 for covering the surface thereof.

金属支持基板8は、図1に示すように、先後方向に延びる平帯形状に形成されており、本体部13と、本体部13の先側に形成されるジンバル部14とを一体的に備えている。 As shown in FIG. 1, the metal support substrate 8 is formed in a flat band shape extending in the front-rear direction, and integrally includes a main body portion 13 and a gimbal portion 14 formed on the front side of the main body portion 13. ing.

本体部13は、先後方向に延びる平面視略矩形状に形成されている。本体部13は、回路付サスペンション基板1がハードディスクドライブに搭載されるときに、ハードディスクドライブのロードビーム(図示せず)に支持される。 The main body 13 is formed in a substantially rectangular shape in a plan view extending in the front-rear direction. The main body 13 is supported by a load beam (not shown) of the hard disk drive when the suspension board 1 with a circuit is mounted on the hard disk drive.

ジンバル部14は、図2に示すように、本体部13の先端から先側に延びるように形成されている。 As shown in FIG. 2, the gimbal portion 14 is formed so as to extend from the tip end side of the main body portion 13.

ジンバル部14は、1対のアウトリガー部17と、搭載部18と、1対の連結部19とを備えている。 The gimbal portion 14 includes a pair of outrigger portions 17, a mounting portion 18, and a pair of connecting portions 19.

アウトリガー部17は、平面視細長矩形状をなし、本体部13の幅方向両端部から先側に向かって直線状に延びるように1対として形成されている。 The outrigger portions 17 have an elongated rectangular shape in a plan view, and are formed as a pair so as to extend linearly from both ends in the width direction of the main body portion 13 toward the front side.

搭載部18は、1対のアウトリガー部17に対して幅方向内側に間隔を隔て、かつ、本体部13の先端縁に対して、先後方向に間隔を隔てるように配置されている。搭載部18は、幅方向両側に向かって開く平面視略H字状に形成されている。すなわち、搭載部18は、先後方向中央部の幅方向両端部が切り欠かれ(開口され)ている。具体的には、搭載部18は、基部21と、ステージ22と、中央部23とを一体的に備えている。 The mounting portions 18 are arranged so as to be spaced inward in the width direction with respect to the pair of outrigger portions 17 and spaced in the front-rear direction with respect to the tip edge of the main body portion 13. The mounting portion 18 is formed in a substantially H-shape in a plan view that opens toward both sides in the width direction. That is, the mounting portion 18 is cut out (opened) at both ends in the width direction of the central portion in the front-rear direction. Specifically, the mounting portion 18 integrally includes a base portion 21, a stage 22, and a central portion 23.

基部21は、搭載部18の後端部に配置されており、幅方向に長く延びる平面視略矩形状に形成されている。 The base portion 21 is arranged at the rear end portion of the mounting portion 18, and is formed in a substantially rectangular shape in a plan view extending long in the width direction.

ステージ22は、基部21の先側に間隔を隔てて配置され、幅方向に長く延びる平面視略矩形状に形成されている。また、ステージ22は、ステージ開口部25を備えている。 The stages 22 are arranged on the front side of the base 21 at intervals, and are formed in a substantially rectangular shape in a plan view extending long in the width direction. Further, the stage 22 includes a stage opening 25.

ステージ開口部25は、図2および図3Aに示すように、ステージ22を厚み方向に平面視略矩形状に貫通するように形成されている。 As shown in FIGS. 2 and 3A, the stage opening 25 is formed so as to penetrate the stage 22 in a substantially rectangular shape in a plan view in the thickness direction.

中央部23は、図2に示すように、基部21およびステージ22の幅方向中央を接続し、先後方向に延びる平面視細長矩形状に形成されている。中央部23は、幅方向に湾曲可能な幅狭に形成されている。 As shown in FIG. 2, the central portion 23 connects the base portion 21 and the center of the stage 22 in the width direction, and is formed in a slender rectangular shape in a plan view extending in the front-rear direction. The central portion 23 is formed to be narrow enough to be curved in the width direction.

なお、搭載部18において、切り欠かれた部分は、1対の連通空間24として区画されている。1対の連通空間24は、中央部23の幅方向両側に区画されており、金属支持基板8を厚み方向に貫通するように形成されている。 In the mounting portion 18, the notched portion is partitioned as a pair of communication spaces 24. The pair of communication spaces 24 are partitioned on both sides of the central portion 23 in the width direction, and are formed so as to penetrate the metal support substrate 8 in the thickness direction.

1対の連結部19のそれぞれは、1対のアウトリガー部17のそれぞれの先端部から、基部21の幅方向両端部に連結されるように、幅方向内側斜め後方に延びている。これにより、1対の連結部19は、1対のアウトリガー部17と搭載部18とを連結している。
また、これによって、1対の連結部19と1対のアウトリガー部17との間、および、搭載部18と本体部13との間に、平面視において先側に向かって開く略U字状の基板開口部16が開口されている。
Each of the pair of connecting portions 19 extends obliquely rearward in the width direction from the respective tip portions of the pair of outrigger portions 17 so as to be connected to both ends in the width direction of the base portion 21. As a result, the pair of connecting portions 19 connects the pair of outrigger portions 17 and the mounting portion 18.
Further, as a result, a substantially U-shape that opens toward the front side in a plan view between the pair of connecting portions 19 and the pair of outrigger portions 17 and between the mounting portion 18 and the main body portion 13. The substrate opening 16 is open.

金属支持基板8は、例えば、ステンレス、42アロイ、アルミニウム、銅−ベリリウム、りん青銅などの金属材料から形成されている。好ましくは、ステンレスから形成されている。 The metal support substrate 8 is formed of, for example, a metal material such as stainless steel, 42 alloy, aluminum, copper-beryllium, or phosphor bronze. Preferably, it is made of stainless steel.

金属支持基板8の厚みは、例えば、5μm以上、好ましくは、10μm以上であり、例えば、30μm以下、好ましくは、25μm以下である。 The thickness of the metal support substrate 8 is, for example, 5 μm or more, preferably 10 μm or more, and for example, 30 μm or less, preferably 25 μm or less.

ベース絶縁層9は、金属支持基板8の上面に、導体層10に対応するパターンに形成されている。ベース絶縁層9は、第1ベース絶縁層26と、第2ベース絶縁層27とを備えている。 The base insulating layer 9 is formed on the upper surface of the metal support substrate 8 in a pattern corresponding to the conductor layer 10. The base insulating layer 9 includes a first base insulating layer 26 and a second base insulating layer 27.

第1ベース絶縁層26は、金属支持基板8の上面に配置されている。第1ベース絶縁層26は、第1端子領域絶縁層28と、第1ベース台座層の一例としての1対の第1先側ベース層29と、第1ベース台座層の一例としての1対の第1後側ベース層30とを備えている。 The first base insulating layer 26 is arranged on the upper surface of the metal support substrate 8. The first base insulating layer 26 is a pair of a first terminal region insulating layer 28, a pair of first front base layers 29 as an example of the first base pedestal layer, and a pair as an example of the first base pedestal layer. It includes a first rear base layer 30.

第1端子領域絶縁層28は、ステージ22におけるステージ開口部25の先側に形成されている。第1端子領域絶縁層28は、ステージ開口部25の幅方向両端部よりも幅方向外側まで延びる平面視略矩形状に形成されている。図2および図3Aに示すように、第1端子領域絶縁層28の後端縁は、ステージ開口部25の前端縁と一致している。 The first terminal region insulating layer 28 is formed on the front side of the stage opening 25 in the stage 22. The first terminal region insulating layer 28 is formed in a substantially rectangular shape in a plan view extending outward in the width direction from both ends in the width direction of the stage opening 25. As shown in FIGS. 2 and 3A, the trailing edge of the first terminal region insulating layer 28 coincides with the front edge of the stage opening 25.

1対の第1先側ベース層29のそれぞれは、1対の連通空間24とステージ開口部25との間において、ステージ22の上に配置されている。第1先側ベース層29は、平面視略矩形状に形成されている。1対の第1先側ベース層29は、幅方向において、互いに間隔を隔てて配置されている。 Each of the pair of first front base layers 29 is arranged on the stage 22 between the pair of connected spaces 24 and the stage opening 25. The first front base layer 29 is formed in a substantially rectangular shape in a plan view. The pair of first front base layers 29 are arranged at intervals from each other in the width direction.

1対の第1後側ベース層30のそれぞれは、図2および図3Bに示すように、中央部23の上に配置されている。第1後側ベース層30は、平面視略矩形状に形成されている。
1対の第1後側ベース層30は、先後方向において、互いに間隔を隔てて配置されている。
Each of the pair of first rear base layers 30 is located above the central portion 23, as shown in FIGS. 2 and 3B. The first rear base layer 30 is formed in a substantially rectangular shape in a plan view.
The pair of first rear base layers 30 are spaced apart from each other in the front-rear direction.

第1ベース絶縁層26は、例えば、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などの合成樹脂などの絶縁材料から形成されている。好ましくは、ポリイミド樹脂から形成されている。 The first base insulating layer 26 insulates, for example, a synthetic resin such as a polyimide resin, a polyamideimide resin, an acrylic resin, a polyether nitrile resin, a polyether sulfone resin, a polyethylene terephthalate resin, a polyethylene naphthalate resin, or a polyvinyl chloride resin. It is made of material. Preferably, it is made of a polyimide resin.

第1ベース絶縁層26の厚みは、具体的には、1μm以上、好ましくは、3μm以上であり、例えば、30μm以下、好ましくは、15μm以下である。 Specifically, the thickness of the first base insulating layer 26 is 1 μm or more, preferably 3 μm or more, for example, 30 μm or less, preferably 15 μm or less.

第2ベース絶縁層27は、金属支持基板8の上に、第1ベース絶縁層26を被覆するように配置されている。第2ベース絶縁層27は、本体部13に対応する本体部絶縁層31と、ジンバル部14に対応するジンバル部絶縁層32とを備えている。 The second base insulating layer 27 is arranged on the metal support substrate 8 so as to cover the first base insulating layer 26. The second base insulating layer 27 includes a main body insulating layer 31 corresponding to the main body 13 and a gimbal insulating layer 32 corresponding to the gimbal 14.

本体部絶縁層31は、図1に示す本体部13における導体層10(具体的には、後述する外部側端子57、および、配線60)に対応するように形成されている。 The main body insulating layer 31 is formed so as to correspond to the conductor layer 10 (specifically, the external terminal 57 and the wiring 60, which will be described later) in the main body 13 shown in FIG.

ジンバル部絶縁層32は、図2に示すように、基板開口部16に対応する基板開口部絶縁層34と、搭載部18に対応する搭載部絶縁層35と、架橋部36とを備えている。 As shown in FIG. 2, the gimbal portion insulating layer 32 includes a substrate opening insulating layer 34 corresponding to the substrate opening 16, a mounting portion insulating layer 35 corresponding to the mounting portion 18, and a cross-linked portion 36. ..

基板開口部絶縁層34は、基板開口部16を先後方向に跨ぐように形成されている。具体的には、基板開口部絶縁層34は、本体部絶縁層31の幅方向両端部の先端から連続して基板開口部16を通過するように先側に向かって延びており、基板開口部16の後側において幅方向両側に分岐され、基部21よりも後側で合一となり、基部21の先後方向途中まで延びる平面視略Y字状に形成されている。 The substrate opening insulating layer 34 is formed so as to straddle the substrate opening 16 in the front-rear direction. Specifically, the substrate opening insulating layer 34 extends from the tips of both ends in the width direction of the main body insulating layer 31 toward the front side so as to continuously pass through the substrate opening 16. The rear side of the 16 is branched on both sides in the width direction, is united on the rear side of the base 21, and is formed in a substantially Y-shape in plan view extending halfway in the front-rear direction of the base 21.

搭載部絶縁層35は、搭載部18に対応して、平面視略H字状に形成されている。具体的には、搭載部絶縁層35は、基部絶縁層38と、ステージ絶縁層39と、中央部絶縁層40とを備えている。 The mounting portion insulating layer 35 is formed in a substantially H shape in a plan view corresponding to the mounting portion 18. Specifically, the mounting portion insulating layer 35 includes a base insulating layer 38, a stage insulating layer 39, and a central insulating layer 40.

基部絶縁層38は、搭載部18の基部21における導体層10に対応して形成されている。基部絶縁層38は、搭載部18の基部21の先側において、基板開口部絶縁層34から連続して、幅方向両外側に延びる平面視略矩形状に形成されている。また、基部絶縁層38は、基部21の先端縁よりも先方まで延びるように形成されている。基部絶縁層38において、搭載部18の中央部23を跨いで連通空間24から露出される部分が、1対の後ピエゾ側端子形成部43として区画されている。 The base insulating layer 38 is formed corresponding to the conductor layer 10 in the base 21 of the mounting portion 18. The base insulating layer 38 is formed on the front side of the base 21 of the mounting portion 18 in a substantially rectangular shape in a plan view extending from the substrate opening insulating layer 34 to both outer sides in the width direction. Further, the base insulating layer 38 is formed so as to extend beyond the tip edge of the base 21. In the base insulating layer 38, a portion exposed from the communication space 24 across the central portion 23 of the mounting portion 18 is partitioned as a pair of rear piezo side terminal forming portions 43.

ステージ絶縁層39は、搭載部18のステージ22における導体層10に対応して形成されている。ステージ絶縁層39は、基部絶縁層38の先側に間隔を隔てて配置され、搭載部18のステージ22の先側から、ステージ22の後端縁よりも後方まで延びる平面視略矩形状に形成されている。ステージ絶縁層39において、搭載部18の中央部23を跨いで連通空間24から露出される部分が、1対の前ピエゾ側端子形成部44として区画されている。また、ステージ絶縁層39において、厚み方向に投影したときに、第1端子領域絶縁層28と重なる部分が、第2端子領域絶縁層54として区画され、第2端子領域絶縁層54以外の部分が、第2周辺領域絶縁層55として区画されている。また、ステージ絶縁層39において、厚み方向に投影したときに、1対の第1先側ベース層29のそれぞれと重なる部分が、第2ベース台座層の一例としての1対の第2先側ベース層50として区画されている。つまり、第2先側ベース層50は、幅方向において、互いに間隔を隔てて配置されている。また、ステージ絶縁層39は、ステージ開口部25に対応する接続端子開口部45と、複数(2つ)の接地開口部46とを備えている。 The stage insulating layer 39 is formed corresponding to the conductor layer 10 in the stage 22 of the mounting portion 18. The stage insulating layer 39 is arranged at intervals on the front side of the base insulating layer 38, and is formed in a substantially rectangular shape in a plan view extending from the front side of the stage 22 of the mounting portion 18 to the rear of the rear end edge of the stage 22. Has been done. In the stage insulating layer 39, a portion exposed from the communication space 24 across the central portion 23 of the mounting portion 18 is partitioned as a pair of front piezo side terminal forming portions 44. Further, in the stage insulating layer 39, a portion overlapping the first terminal region insulating layer 28 when projected in the thickness direction is partitioned as a second terminal region insulating layer 54, and a portion other than the second terminal region insulating layer 54 is formed. , The second peripheral region is partitioned as an insulating layer 55. Further, in the stage insulating layer 39, when projected in the thickness direction, the portion overlapping each of the pair of the first front base layers 29 is a pair of the second front bases as an example of the second base pedestal layer. It is partitioned as layer 50. That is, the second front base layer 50 is arranged so as to be spaced apart from each other in the width direction. Further, the stage insulating layer 39 includes a connection terminal opening 45 corresponding to the stage opening 25, and a plurality (two) grounding openings 46.

接続端子開口部45は、図2および図3Aに示すように、ステージ絶縁層39を厚み方向に略矩形に貫通するように形成されている。接続端子開口部45の幅方向両端縁、および、後端縁は、厚み方向に投影したときに、ステージ開口部25の幅方向両端縁、および、後端縁と一致している。接続端子開口部45の先端縁は、ステージ開口部25の先端縁よりも後方に位置している。 As shown in FIGS. 2 and 3A, the connection terminal opening 45 is formed so as to penetrate the stage insulating layer 39 in a substantially rectangular shape in the thickness direction. The widthwise both ends and the trailing edge of the connection terminal opening 45 coincide with the widthwise both edges and the trailing edge of the stage opening 25 when projected in the thickness direction. The tip edge of the connection terminal opening 45 is located behind the tip edge of the stage opening 25.

接地開口部46は、厚み方向に投影したときに、搭載部18のステージ22の後端部と重なる部分において、ステージ絶縁層39を厚み方向に貫通するように形成されている。 The grounding opening 46 is formed so as to penetrate the stage insulating layer 39 in the thickness direction at a portion of the mounting portion 18 that overlaps with the rear end portion of the stage 22 when projected in the thickness direction.

中央部絶縁層40は、図2に示すように、搭載部18の中央部23における導体層10に対応して形成されている。中央部絶縁層40は、基部絶縁層38およびステージ絶縁層39の幅方向中央を接続し、先後方向に延びる平面視細長矩形状に形成されている。なお、中央部絶縁層40は、中央部23よりも幅狭であり、幅方向に湾曲可能に形成されている。また、中央部絶縁層40において、厚み方向に投影したときに、1対の第1後側ベース層30のそれぞれと重なる部分が、第2ベース台座層の一例としての1対の第2後側ベース層51として区画されている。つまり、第2後側ベース層51は、先後方向において、互いに間隔を隔てて配置されている。 As shown in FIG. 2, the central insulating layer 40 is formed corresponding to the conductor layer 10 in the central portion 23 of the mounting portion 18. The central insulating layer 40 connects the center of the base insulating layer 38 and the stage insulating layer 39 in the width direction, and is formed in a slender rectangular shape extending in the front-rear direction. The central portion insulating layer 40 is narrower than the central portion 23 and is formed so as to be bendable in the width direction. Further, in the central insulating layer 40, when projected in the thickness direction, the portion overlapping each of the pair of first rear base layers 30 is a pair of second rear sides as an example of the second base pedestal layer. It is partitioned as a base layer 51. That is, the second rear base layer 51 is arranged at a distance from each other in the front-rear direction.

なお、1対の後ピエゾ側端子形成部43と、1対の前ピエゾ側端子形成部44とを併せて、ピエゾ側端子形成部47とする。 The pair of rear piezo side terminal forming portions 43 and the pair of front piezo side terminal forming portions 44 are combined to form a piezo side terminal forming portion 47.

ピエゾ側端子形成部47は、図2および図3Aに示すように、端子開口部49を備えている。 The piezo-side terminal forming portion 47 includes a terminal opening 49 as shown in FIGS. 2 and 3A.

端子開口部49は、基部絶縁層38の1対の後ピエゾ側端子形成部43のそれぞれ、および、ステージ絶縁層39の1対の前ピエゾ側端子形成部44のそれぞれに、1つずつ形成されている。端子開口部49は、後ピエゾ側端子形成部43、および、前ピエゾ側端子形成部44を厚み方向に略矩形に貫通するように形成されている。 One terminal opening 49 is formed in each of the pair of rear piezo side terminal forming portions 43 of the base insulating layer 38 and one in each of the pair of front piezo side terminal forming portions 44 of the stage insulating layer 39. ing. The terminal opening 49 is formed so as to penetrate the rear piezo side terminal forming portion 43 and the front piezo side terminal forming portion 44 in a substantially rectangular shape in the thickness direction.

架橋部36は、図2に示すように、1対のアウトリガー部17の先端と、ステージ22の幅方向両端とを湾曲状に連結する1対の湾曲部52と、1対のアウトリガー部17の先端およびステージ22の先端を連結するE字部53とを備えている。 As shown in FIG. 2, the bridging portion 36 is composed of a pair of curved portions 52 and a pair of outrigger portions 17 that curvedly connect the tips of the pair of outrigger portions 17 and both ends in the width direction of the stage 22. It is provided with an E-shaped portion 53 that connects the tip and the tip of the stage 22.

湾曲部52は、アウトリガー部17の先端から幅方向内側斜め先側に向かって湾曲状に延び、ステージ22の幅方向両端に至っている。 The curved portion 52 extends in a curved shape from the tip of the outrigger portion 17 toward the diagonally front side inward in the width direction, and reaches both ends in the width direction of the stage 22.

E字部53は、平面視略E字状をなし、具体的には、両アウトリガー部17の先端から先側に向かって延び、その後、幅方向内側に屈曲し、幅方向内側に延びて合一となった後、後側に屈曲して、ステージ22の先端の幅方向中央に至っている。 The E-shaped portion 53 has a substantially E-shaped shape in a plan view, and specifically, extends from the tips of both outrigger portions 17 toward the front side, then bends inward in the width direction, and extends inward in the width direction. After becoming one, it bends to the rear side and reaches the center of the tip of the stage 22 in the width direction.

第2ベース絶縁層27は、第1ベース絶縁層26を形成する絶縁材料と同一の絶縁材料から形成されている。 The second base insulating layer 27 is formed of the same insulating material as the insulating material forming the first base insulating layer 26.

第2ベース絶縁層27の厚みは、第1ベース絶縁層26の厚み100%に対して、例えば、20%以上、好ましくは、40%以上であり、例えば、500%以下、好ましくは、300%以下である。第2ベース絶縁層27の厚みは、具体的には、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上であり、例えば、30μm以下、好ましくは、15μm以下である。 The thickness of the second base insulating layer 27 is, for example, 20% or more, preferably 40% or more, and for example, 500% or less, preferably 300%, based on 100% of the thickness of the first base insulating layer 26. It is as follows. Specifically, the thickness of the second base insulating layer 27 is, for example, 1 μm or more, preferably 3 μm or more, and for example, 30 μm or less, preferably 15 μm or less.

なお、ベース絶縁層9において、第1端子領域絶縁層28および第2端子領域絶縁層54が形成される領域が、端子領域62として区画され、厚み方向に投影したときに、端子領域62と重ならない領域であり、ベース絶縁層9における端子領域62以外のすべての領域(第2周辺領域絶縁層55が形成される領域)が、周辺領域63として区画されている。 In the base insulating layer 9, the region where the first terminal region insulating layer 28 and the second terminal region insulating layer 54 are formed is partitioned as the terminal region 62, and when projected in the thickness direction, it overlaps with the terminal region 62. All regions (regions in which the second peripheral region insulating layer 55 is formed) other than the terminal region 62 in the base insulating layer 9 are partitioned as peripheral regions 63.

導体層10は、図1に示すように、外部側端子57と、接続端子の一例としてのヘッド側端子58と、ピエゾ側端子59と、配線60とを備えている。 As shown in FIG. 1, the conductor layer 10 includes an external terminal 57, a head-side terminal 58 as an example of a connection terminal, a piezo-side terminal 59, and a wiring 60.

外部側端子57は、本体部13に対応する本体部絶縁層31の後端部に複数(6つ)配置されている。外部側端子57は、信号端子57Aと、電源端子57Bとを備えている。 A plurality (six) of the external terminals 57 are arranged at the rear end of the main body insulating layer 31 corresponding to the main body 13. The external terminal 57 includes a signal terminal 57A and a power supply terminal 57B.

信号端子57Aは、外部側端子57の複数(6つ)の内、後方に配置される4つであり、幅方向に互いに間隔を隔てて配置されている。信号端子57Aは、外部基板6と電気的に接続される。 The signal terminals 57A are four arranged at the rear of the plurality (six) of the external terminals 57, and are arranged at intervals in the width direction. The signal terminal 57A is electrically connected to the external substrate 6.

電源端子57Bは、外部側端子57の複数(6つ)の内、前方に配置される2つであり、幅方向に互いに間隔を隔てて配置されている。電源端子57Bは、電源7と電気的に接続される。 The power supply terminals 57B are two arranged in the front of the plurality (six) of the external terminal 57, and are arranged at intervals in the width direction. The power supply terminal 57B is electrically connected to the power supply 7.

ヘッド側端子58は、図2に示すように、ステージ22に対応するステージ絶縁層39の先端部の上面に設けられ、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(4つ)配置されている。
ヘッド側端子58は、図3Aおよび図3Bに示すように、ステージ開口部25の先端縁と、接続端子開口部45の先端縁とを跨ぐように先後方向に延びている。ヘッド側端子58は、後述するヘッド接合材66を介して、磁気ヘッド3と電気的に接続される。ヘッド側端子58は、先側部58Aと、中央部58Bと、後側部58Cとを備えている。
As shown in FIG. 2, a plurality (four) of head-side terminals 58 are provided on the upper surface of the tip end portion of the stage insulating layer 39 corresponding to the stage 22, and are spaced apart from each other in the width direction.
As shown in FIGS. 3A and 3B, the head-side terminal 58 extends in the front-rear direction so as to straddle the tip edge of the stage opening 25 and the tip edge of the connection terminal opening 45. The head-side terminal 58 is electrically connected to the magnetic head 3 via a head bonding material 66 described later. The head side terminal 58 includes a front side portion 58A, a central portion 58B, and a rear side portion 58C.

先側部58Aは、ヘッド側端子58におけるステージ開口部25の先端縁よりも先側部分である。先側部58Aは、厚み方向に投影したときに、金属支持基板8、第1ベース絶縁層26の第1端子領域絶縁層28、および、第2ベース絶縁層27と重なっている。つまり、先側部58Aは、厚み方向に投影したときに、端子領域62と重なっている。言い換えると、端子領域62は、厚み方向に投影したときに、先側部58Aと重なっている。
先側部58Aは、ヘッド側端子58を支持している。
The front side portion 58A is a portion on the head side terminal 58 that is ahead of the tip edge of the stage opening 25. When projected in the thickness direction, the front side portion 58A overlaps the metal support substrate 8, the first terminal region insulating layer 28 of the first base insulating layer 26, and the second base insulating layer 27. That is, the front side portion 58A overlaps with the terminal region 62 when projected in the thickness direction. In other words, the terminal region 62 overlaps the front side portion 58A when projected in the thickness direction.
The front side portion 58A supports the head side terminal 58.

中央部58Bは、ヘッド側端子58におけるステージ開口部25の先端縁と、接続端子開口部45の先端縁との間の部分である。中央部58Bは、先側部58Aの後端部から連続して延びている。中央部58Bは、厚み方向に投影したときに、第2ベース絶縁層27と重なっている。中央部58Bは、ステージ開口部25内に配置されるが、第2ベース絶縁層27により支持されている。 The central portion 58B is a portion between the tip edge of the stage opening 25 in the head side terminal 58 and the tip edge of the connection terminal opening 45. The central portion 58B extends continuously from the rear end portion of the front side portion 58A. The central portion 58B overlaps with the second base insulating layer 27 when projected in the thickness direction. The central portion 58B is arranged in the stage opening 25, but is supported by the second base insulating layer 27.

後側部58Cは、ヘッド側端子58における接続端子開口部45の先端縁よりも後側部分である。後側部58Cは、中央部58Bの後端部から連続して、下方に屈曲した後、後方に延びている。これにより、後側部58Cの上面と、中央部58Bの上面とは段差を形成している。また、後側部58Cの下面は、ステージ開口部25内に位置する第2ベース絶縁層27の下面と面一である。後側部58Cは、ステージ開口部25内に配置され、より磁気ヘッド3の近傍に位置することができる。 The rear side portion 58C is a portion on the head side terminal 58 that is rearward from the tip edge of the connection terminal opening 45. The rear side portion 58C is continuous from the rear end portion of the central portion 58B, bends downward, and then extends rearward. As a result, a step is formed between the upper surface of the rear side portion 58C and the upper surface of the central portion 58B. The lower surface of the rear side portion 58C is flush with the lower surface of the second base insulating layer 27 located in the stage opening 25. The rear side portion 58C is arranged in the stage opening 25 and can be located closer to the magnetic head 3.

ピエゾ側端子59は、連通空間24におけるベース絶縁層9のピエゾ側端子形成部47に、複数(4つ)配置されている。具体的には、ピエゾ側端子59は、基部絶縁層38の1対の後ピエゾ側端子形成部43のそれぞれの端子開口部49、および、ステージ絶縁層39の1対の前ピエゾ側端子形成部44のそれぞれの端子開口部49に落ち込み、充填されている。なお、図2および図3Aに示すように、ピエゾ側端子59において、1対の後ピエゾ側端子形成部43のそれぞれの端子開口部49に充填されるピエゾ側端子59を後ピエゾ側端子59Aとし、1対の前ピエゾ側端子形成部44のそれぞれの端子開口部49に充填されるピエゾ側端子59を前ピエゾ側端子59Bとする。ピエゾ側端子59は、後述するピエゾ接合材68を介して、ピエゾ素子5と電気的に接続される。 A plurality (four) of the piezo side terminals 59 are arranged in the piezo side terminal forming portion 47 of the base insulating layer 9 in the communication space 24. Specifically, the piezo-side terminal 59 is a pair of terminal openings 49 of the rear piezo-side terminal forming portion 43 of the base insulating layer 38 and a pair of front piezo-side terminal forming portions of the stage insulating layer 39. Each terminal opening 49 of 44 is depressed and filled. As shown in FIGS. 2 and 3A, in the piezo side terminal 59, the piezo side terminal 59 filled in each terminal opening 49 of the pair of rear piezo side terminal forming portions 43 is designated as the rear piezo side terminal 59A. The piezo side terminal 59 filled in each terminal opening 49 of the pair of front piezo side terminal forming portions 44 is referred to as a front piezo side terminal 59B. The piezo side terminal 59 is electrically connected to the piezo element 5 via a piezo bonding material 68 described later.

配線60は、図1に示すように、本体部13に対応する本体部絶縁層31(図2参照)、および、ジンバル部14に対応するジンバル部絶縁層32(図2参照)において、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(6つ)形成されている。配線60は、信号配線60Aと、電源配線60Bとを備えている。 As shown in FIG. 1, the wiring 60 is provided in the width direction in the main body insulating layer 31 (see FIG. 2) corresponding to the main body 13 and the gimbal insulating layer 32 (see FIG. 2) corresponding to the gimbal portion 14. A plurality (six) are formed at intervals of each other. The wiring 60 includes a signal wiring 60A and a power supply wiring 60B.

信号配線60Aは、複数(6つ)の配線60の内の幅方向内側の4つであり、信号端子57Aと、ヘッド側端子58とに電気的に接続されている。信号配線60Aは、磁気ヘッド3(図3Aおよび図3B参照)、および、外部基板6間に電気信号を伝達する。 The signal wirings 60A are four inside in the width direction of the plurality (six) wirings 60, and are electrically connected to the signal terminal 57A and the head side terminal 58. The signal wiring 60A transmits an electric signal between the magnetic head 3 (see FIGS. 3A and 3B) and the external substrate 6.

具体的には、信号配線60Aは、本体部13に対応する本体部絶縁層31(図2参照)の後端部において、信号端子57Aから先側に向かって延びた後、図2に示すように、基板開口部絶縁層34、および、搭載部絶縁層35の上を順次通過して、ヘッド側端子58に至るように形成されている。 Specifically, the signal wiring 60A extends from the signal terminal 57A toward the front side at the rear end of the main body insulating layer 31 (see FIG. 2) corresponding to the main body 13, and then is shown in FIG. It is formed so as to sequentially pass over the substrate opening insulating layer 34 and the mounting portion insulating layer 35 to reach the head side terminal 58.

なお、信号配線60Aは、搭載部絶縁層35の中央部絶縁層40において、厚み方向に投影したときに、第1ベース絶縁層26の1対の第1後側ベース層30と重なっている。
また、信号配線60Aは、搭載部絶縁層35のステージ絶縁層39において、厚み方向に投影したときに、第1先側ベース層29、および、第1端子領域絶縁層28と重なっている。
The signal wiring 60A overlaps with the pair of the first rear base layer 30 of the first base insulating layer 26 when projected in the thickness direction in the central insulating layer 40 of the mounting portion insulating layer 35.
Further, the signal wiring 60A overlaps the first front base layer 29 and the first terminal region insulating layer 28 when projected in the thickness direction in the stage insulating layer 39 of the mounting portion insulating layer 35.

電源配線60Bは、図1に示すように、複数(6つ)の配線60の内、信号配線60Aよりも幅方向両外側の2つであり、電源端子57Bと、後ピエゾ側端子59Aとに電気的に接続されている。電源配線60Bは、ピエゾ素子5に、電源7から電力を供給する。 As shown in FIG. 1, the power supply wiring 60B is two of the plurality of (six) wirings 60 on both outer sides in the width direction of the signal wiring 60A, and is connected to the power supply terminal 57B and the rear piezo side terminal 59A. It is electrically connected. The power supply wiring 60B supplies electric power to the piezo element 5 from the power supply 7.

具体的には、電源配線60Bは、本体部13に対応する本体部絶縁層31(図2参照)の後端部において、電源端子57Bから先側に向かって延びた後、図2に示すように、基板開口部絶縁層34、および、搭載部絶縁層35を順次通過して、後ピエゾ側端子59Aに至るように形成されている。 Specifically, the power supply wiring 60B extends from the power supply terminal 57B toward the front side at the rear end portion of the main body portion insulating layer 31 (see FIG. 2) corresponding to the main body portion 13, as shown in FIG. It is formed so as to sequentially pass through the substrate opening insulating layer 34 and the mounting portion insulating layer 35 to reach the rear piezo side terminal 59A.

また、配線60は、ジンバル部14に対応するジンバル部絶縁層32において、幅方向に互いに間隔を隔てて複数(2つ)形成されるグランド配線60Cを備えている。 Further, the wiring 60 includes ground wiring 60C formed in a plurality (two) of the gimbal portion insulating layer 32 corresponding to the gimbal portion 14 at intervals in the width direction.

グランド配線60Cは、前ピエゾ側端子59Bを接地するために設けられている。具体的には、グランド配線60Cは、図2および図3Aに示すように、前ピエゾ側端子59Bから先側に向かって延び、信号配線60Aの後側において、接地開口部46に落ち込み、充填されるように下側に屈曲し、金属支持基板8と接触している。 The ground wiring 60C is provided to ground the front piezo side terminal 59B. Specifically, as shown in FIGS. 2 and 3A, the ground wiring 60C extends from the front piezo side terminal 59B toward the front side, and falls into the ground opening 46 on the rear side of the signal wiring 60A and is filled. It is bent downward so as to be in contact with the metal support substrate 8.

導体層10は、例えば、銅、ニッケル、金、はんだ、または、これらの合金などの導体材料から形成されている。好ましくは、銅から形成されている。 The conductor layer 10 is formed of, for example, a conductor material such as copper, nickel, gold, solder, or an alloy thereof. Preferably, it is made of copper.

導体層10の厚みは、ベース絶縁層9の厚み(第1ベース絶縁層26の厚みと第2ベース絶縁層27の厚みとの総和)100%に対して、10%以上、好ましくは、30%以上であり、例えば、200%以下、好ましくは、100%以下である。導体層10の厚みは、具体的には、例えば、3μm以上、好ましくは、5μm以上であり、例えば、50μm以下、好ましくは、20μm以下である。 The thickness of the conductor layer 10 is 10% or more, preferably 30%, based on 100% of the thickness of the base insulating layer 9 (the sum of the thickness of the first base insulating layer 26 and the thickness of the second base insulating layer 27). The above is, for example, 200% or less, preferably 100% or less. Specifically, the thickness of the conductor layer 10 is, for example, 3 μm or more, preferably 5 μm or more, and for example, 50 μm or less, preferably 20 μm or less.

カバー絶縁層11は、図1が参照されるように、本体部13およびジンバル部14にわたって形成され、図3Aおよび図3Bに示すように、ベース絶縁層9の上に配置され、平面視において導体層10を含むパターンに形成されている。 The cover insulating layer 11 is formed over the main body portion 13 and the gimbal portion 14, as shown in FIG. 1, and is arranged on the base insulating layer 9 as shown in FIGS. 3A and 3B, and is a conductor in a plan view. It is formed in a pattern including the layer 10.

具体的には、カバー絶縁層11は、配線60の上面を被覆し、外部側端子57(図1参照)、および、ヘッド側端子58の上面を露出するパターンに形成されている。 Specifically, the cover insulating layer 11 is formed in a pattern that covers the upper surface of the wiring 60 and exposes the upper surface of the external terminal 57 (see FIG. 1) and the head side terminal 58.

また、カバー絶縁層11において、厚み方向に投影したときに、1対の第1先側ベース層29および1対の第2先側ベース層50と重なる部分が、カバー台座層の一例としての1対の先側スライダ接触層78として区画されている。 Further, in the cover insulating layer 11, when projected in the thickness direction, a portion overlapping the pair of the first front base layer 29 and the pair of the second front base layer 50 is 1 as an example of the cover pedestal layer. It is partitioned as a pair of front slider contact layers 78.

そして、第1先側ベース層29、第2先側ベース層50、および、先側スライダ接触層78から、台座の一例としての第1台座88が形成されている。つまり、第1台座88は、1対設けられている。1対の第1台座88は、幅方向において、互いに間隔を隔てて配置されている。 Then, the first pedestal 88 as an example of the pedestal is formed from the first front base layer 29, the second front base layer 50, and the front slider contact layer 78. That is, a pair of first pedestals 88 is provided. A pair of first pedestals 88 are arranged apart from each other in the width direction.

また、カバー絶縁層11において、厚み方向に投影したときに、1対の第1後側ベース層30および1対の第2後側ベース層51と重なる部分が、カバー台座層の一例としての1対の後側スライダ接触層79として区画されている。 Further, in the cover insulating layer 11, a portion overlapping the pair of the first rear base layer 30 and the pair of the second rear base layer 51 when projected in the thickness direction is 1 as an example of the cover pedestal layer. It is partitioned as a pair of rear slider contact layers 79.

そして、第1後側ベース層30、第2後側ベース層51、および、後側スライダ接触層79から、台座の一例としての第2台座89が形成されている。つまり、第2台座89は、1対設けられている。1対の第2台座89は、先後方向において、互いに間隔を隔てて配置されている。1対の第2台座89は、1対の第1台座88よりも後側であって、1対の第1台座88の幅方向略中央に配置されている。これにより、1対の第2台座89のいずれか一方と、1対の第1台座88とは、それぞれを頂点とする略三角形状に配置されている。 A second pedestal 89 as an example of the pedestal is formed from the first rear base layer 30, the second rear base layer 51, and the rear slider contact layer 79. That is, a pair of second pedestals 89 is provided. A pair of second pedestals 89 are arranged at intervals from each other in the front-rear direction. The pair of second pedestals 89 is located behind the pair of first pedestals 88 and is arranged substantially in the center of the pair of first pedestals 88 in the width direction. As a result, either one of the pair of the second pedestals 89 and the pair of the first pedestals 88 are arranged in a substantially triangular shape having each as the apex.

カバー絶縁層11は、ベース絶縁層9(第1ベース絶縁層26および第2ベース絶縁層27)を形成する絶縁材料と同一の絶縁材料から形成されている。カバー絶縁層11の厚みは、第1ベース絶縁層26の厚み100%に対して、例えば、50%以上、好ましくは、80%以上であり、例えば、200%以下、好ましくは、150%以下である。また、カバー絶縁層11の厚みは、第2ベース絶縁層27の厚み100%に対して、例えば、10%以上、好ましくは、30%以上であり、例えば、100%以下、好ましくは、70%以下である。カバー絶縁層11の厚みは、具体的には、例えば、1μm以上、好ましくは、3μm以上であり、例えば、40μm以下、好ましくは、10μm以下である。 The cover insulating layer 11 is formed of the same insulating material as the insulating material forming the base insulating layer 9 (first base insulating layer 26 and second base insulating layer 27). The thickness of the cover insulating layer 11 is, for example, 50% or more, preferably 80% or more, and for example, 200% or less, preferably 150% or less, based on 100% of the thickness of the first base insulating layer 26. is there. The thickness of the cover insulating layer 11 is, for example, 10% or more, preferably 30% or more, and for example, 100% or less, preferably 70%, based on 100% of the thickness of the second base insulating layer 27. It is as follows. Specifically, the thickness of the cover insulating layer 11 is, for example, 1 μm or more, preferably 3 μm or more, and for example, 40 μm or less, preferably 10 μm or less.

めっき層12は、複数の端子、具体的には、外部側端子57、ヘッド側端子58、ピエゾ側端子59の表面に形成されている。めっき層12は、例えば、無電解めっき、電解めっきなどのめっき、好ましくは、電解めっきによって形成される。めっき層12は、例えば、ニッケル、金などの金属材料から形成されて、好ましくは、金から形成されている。
めっき層12の厚みは、導体層10の厚み100%に対して、例えば、5%以上、好ましくは、10%以上であり、例えば、100%以下、好ましくは、50%以下である。めっき層12の厚みは、具体的には、例えば、0.1μm以上、好ましくは、1μm以上であり、例えば、8μm以下、好ましくは、4μm以下である。
The plating layer 12 is formed on the surfaces of a plurality of terminals, specifically, an external terminal 57, a head terminal 58, and a piezo side terminal 59. The plating layer 12 is formed by, for example, electroless plating, electrolytic plating or the like, preferably electrolytic plating. The plating layer 12 is formed of, for example, a metal material such as nickel or gold, and is preferably formed of gold.
The thickness of the plating layer 12 is, for example, 5% or more, preferably 10% or more, and for example, 100% or less, preferably 50% or less, based on 100% of the thickness of the conductor layer 10. Specifically, the thickness of the plating layer 12 is, for example, 0.1 μm or more, preferably 1 μm or more, and for example, 8 μm or less, preferably 4 μm or less.

スライダ4は、その先端にハードディスクの情報を読み書き可能な磁気ヘッド3が搭載されており、平面視略矩形箱形状に形成されている。なお、磁気ヘッド3の先端には、複数のヘッド側端子58に対応して、複数(4つ)のヘッド端子65が設けられている。 The slider 4 is equipped with a magnetic head 3 capable of reading and writing information on the hard disk at its tip, and is formed in a substantially rectangular box shape in a plan view. At the tip of the magnetic head 3, a plurality of (four) head terminals 65 are provided corresponding to the plurality of head-side terminals 58.

ヘッド端子65は、磁気ヘッド3の前端面に配置され、磁気ヘッド3の下端部よりも上側に位置し、厚み方向に長さを有し、先側に臨むように設けられている。 The head terminal 65 is arranged on the front end surface of the magnetic head 3, is located above the lower end of the magnetic head 3, has a length in the thickness direction, and is provided so as to face the front side.

スライダ4は、1対の第1台座88および1対の第2台座89に接着剤などを介して、載置されており、ヘッド端子65がヘッド側端子58の上面に臨むように、ヘッド側端子58の上側に微小間隔を隔てて配置されている。 The slider 4 is mounted on a pair of first pedestals 88 and a pair of second pedestals 89 via an adhesive or the like, and the head terminal 65 faces the upper surface of the head side terminal 58 on the head side. It is arranged on the upper side of the terminal 58 at a minute interval.

そして、ヘッド側端子58の上面には、ヘッド接合材66が設けられている。 A head joining material 66 is provided on the upper surface of the head side terminal 58.

ヘッド接合材66は、例えば、はんだや、導電性接着剤などの導電性材料から形成されている。好ましくは、低融点のはんだから形成されている。この低融点のはんだとしては、例えば、錫、銀、銅の合金からなるはんだ、錫、銀、ビスマス、インジウムの合金からなるはんだ、錫、亜鉛の合金からなるはんだ、錫、ビスマスの合金からなるはんだ、錫、ビスマス、銀の合金からなるはんだなどが挙げられる。低融点のはんだの融点は、好ましくは220℃以下である。また、導電性接着剤としては、例えば、銀ペーストなどが挙げられる。 The head bonding material 66 is formed of, for example, a conductive material such as solder or a conductive adhesive. Preferably, it is made of low melting point solder. Examples of the low melting point solder include solder made of an alloy of tin, silver and copper, solder made of an alloy of tin, silver, bismuth and indium, solder made of an alloy of tin and zinc, and an alloy of tin and bismuth. Examples thereof include solder, tin, bismuth, and solder made of an alloy of silver. The melting point of low melting point solder is preferably 220 ° C. or lower. In addition, examples of the conductive adhesive include silver paste and the like.

ヘッド接合材66は、ヘッド側端子58と、磁気ヘッド3のヘッド端子65とを電気的に接続している。 The head bonding material 66 electrically connects the head side terminal 58 and the head terminal 65 of the magnetic head 3.

このように、端子領域62において、第1ベース絶縁層26の第1端子領域絶縁層28と、第2ベース絶縁層27の第2端子領域絶縁層54とが形成されていることにより、ヘッド側端子58を、スライダ4が搭載する磁気ヘッド3のヘッド端子65に対して近接させている。 In this way, in the terminal region 62, the first terminal region insulating layer 28 of the first base insulating layer 26 and the second terminal region insulating layer 54 of the second base insulating layer 27 are formed on the head side. The terminal 58 is brought close to the head terminal 65 of the magnetic head 3 mounted on the slider 4.

ピエゾ素子5は、先後方向に伸縮可能なアクチュエータであって、先後方向に延びる平面視略矩形状に形成されている。ピエゾ素子5は、電力が供給され、その電圧が制御されることによって、伸縮する。なお、ピエゾ素子5の上部における前側および後側のそれぞれには、ピエゾ端子67が設けられている。ピエゾ素子5は、図2および図3Aに示すように、幅方向に間隔を隔てて1対配置されている。このとき、ピエゾ素子5は、後ピエゾ側端子59A、および、前ピエゾ側端子59Bを回路付サスペンション基板1に対して下側から架設し、ピエゾ側端子59の下面に対して、ピエゾ端子67が臨むように配置されている。 The piezo element 5 is an actuator that can expand and contract in the front-rear direction, and is formed in a substantially rectangular shape in a plan view extending in the front-rear direction. The piezo element 5 expands and contracts when electric power is supplied and the voltage is controlled. A piezo terminal 67 is provided on each of the front side and the rear side of the upper portion of the piezo element 5. As shown in FIGS. 2 and 3A, the piezo elements 5 are arranged in pairs at intervals in the width direction. At this time, in the piezo element 5, the rear piezo side terminal 59A and the front piezo side terminal 59B are erected from below with respect to the suspension board 1 with a circuit, and the piezo terminal 67 is provided with respect to the lower surface of the piezo side terminal 59. It is arranged so that it faces.

そして、ピエゾ側端子59の上面には、ピエゾ接合材68が設けられている。ピエゾ接合材68は、例えば、ヘッド接合材66を形成する導電性材料と同一の導電性材料から形成されている。 A piezo bonding material 68 is provided on the upper surface of the piezo side terminal 59. The piezo bonding material 68 is formed of, for example, the same conductive material as the conductive material forming the head bonding material 66.

ピエゾ接合材68は、ピエゾ側端子59と、ピエゾ素子5のピエゾ端子67とを電気的に接続している。 The piezo bonding material 68 electrically connects the piezo side terminal 59 and the piezo terminal 67 of the piezo element 5.

次に、回路付サスペンション基板1の製造方法について、図4A〜図6Iを参照して説明する。 Next, a method of manufacturing the suspension substrate 1 with a circuit will be described with reference to FIGS. 4A to 6I.

この方法では、図4Aに示すように、まず、金属支持基板8を用意する。 In this method, as shown in FIG. 4A, first, the metal support substrate 8 is prepared.

次いで、図4Bに示すように、第1ベース絶縁層26を金属支持基板8の上に形成する。 Next, as shown in FIG. 4B, the first base insulating layer 26 is formed on the metal support substrate 8.

具体的には、第1ベース絶縁層26を、第1端子領域絶縁層28、1対の第1先側ベース層29(図3A参照)、および、1対の第1後側ベース層30に対応するパターンとして、金属支持基板8の上に形成する。 Specifically, the first base insulating layer 26 is applied to the first terminal region insulating layer 28, a pair of first front base layers 29 (see FIG. 3A), and a pair of first rear base layers 30. As a corresponding pattern, it is formed on the metal support substrate 8.

第1端子領域絶縁層28、1対の第1先側ベース層29(図3A参照)、および、1対の第1後側ベース層30を備える第1ベース絶縁層26を形成するには、感光性の絶縁材料のワニスを金属支持基板8の上に塗布して乾燥させて、ベース皮膜を形成する。 To form a first base insulating layer 26 comprising a first terminal region insulating layer 28, a pair of first front base layers 29 (see FIG. 3A), and a pair of first rear base layers 30. A varnish of a photosensitive insulating material is applied onto the metal support substrate 8 and dried to form a base film.

その後、ベース皮膜を、図示しないフォトマスクを介して露光する。フォトマスクは、遮光部分および光全透過部分をパターンで備えており、第1ベース絶縁層26を形成する部分には光全透過部分を、第1ベース絶縁層26を形成しない部分には遮光部分を、ベース皮膜に対して対向配置し、露光する。 Then, the base film is exposed through a photomask (not shown). The photomask is provided with a light-shielding portion and a light-shielding portion in a pattern, a light-shielding portion is provided in a portion forming the first base insulating layer 26, and a light-shielding portion is provided in a portion not forming the first base insulating layer 26. Is placed facing the base film and exposed.

その後、ベース皮膜を現像し、必要により加熱硬化させることにより、第1端子領域絶縁層28、1対の第1先側ベース層29(図3A参照)、および、1対の第1後側ベース層30を備えるベース絶縁層9を、上記したパターンで形成する。 Then, the base film is developed and, if necessary, heat-cured to form a first terminal region insulating layer 28, a pair of first front base layers 29 (see FIG. 3A), and a pair of first rear bases. The base insulating layer 9 including the layer 30 is formed in the above-mentioned pattern.

次いで、図4Cに示すように、第2ベース絶縁層27を、第1ベース絶縁層26を被覆するように、金属支持基板8の上に形成する。 Next, as shown in FIG. 4C, the second base insulating layer 27 is formed on the metal support substrate 8 so as to cover the first base insulating layer 26.

具体的には、第2ベース絶縁層27を、本体部絶縁層31(図1参照)、および、ジンバル部絶縁層32に対応するパターンとして、金属支持基板8の上に形成する。ジンバル部絶縁層32においては、第2端子領域絶縁層54と、第2周辺領域絶縁層55と、1対の第2先側ベース層50(図3A参照)と、1対の第2後側ベース層51と、接続端子開口部45とを備えるパターンとして形成する。 Specifically, the second base insulating layer 27 is formed on the metal support substrate 8 as a pattern corresponding to the main body insulating layer 31 (see FIG. 1) and the gimbal insulating layer 32. In the gimbal portion insulating layer 32, the second terminal region insulating layer 54, the second peripheral region insulating layer 55, the pair of second front base layers 50 (see FIG. 3A), and the pair of second rear sides. It is formed as a pattern including a base layer 51 and a connection terminal opening 45.

接続端子開口部45が形成される第2ベース絶縁層27を形成するには、感光性の絶縁材料のワニスを金属支持基板8および第1ベース絶縁層26の上に塗布して乾燥させて、ベース皮膜を形成する。 To form the second base insulating layer 27 on which the connection terminal opening 45 is formed, a varnish of a photosensitive insulating material is applied onto the metal support substrate 8 and the first base insulating layer 26 and dried. Form a base film.

その後、ベース皮膜を、図示しないフォトマスクを介して露光する。フォトマスクは、遮光部分および光全透過部分をパターンで備えており、ベース絶縁層9(接続端子開口部45を形成する部分を除く。)を形成する部分には光全透過部分を、ベース絶縁層9を形成しない部分、および、接続端子開口部45を形成する部分には遮光部分を、ベース皮膜に対して対向配置し、露光する。 Then, the base film is exposed through a photomask (not shown). The photomask is provided with a light-shielding portion and a light-transmitting portion in a pattern, and a portion that forms the base insulating layer 9 (excluding the portion forming the connection terminal opening 45) is provided with a light-transmitting portion and base insulation. A light-shielding portion is arranged to face the base film in the portion where the layer 9 is not formed and the portion where the connection terminal opening 45 is formed, and is exposed.

その後、ベース皮膜を現像し、必要により加熱硬化させることにより、第2端子領域絶縁層54、第2周辺領域絶縁層55、1対の第2先側ベース層50、1対の第2後側ベース層51、および、接続端子開口部45を備えるベース絶縁層9を、上記したパターンで形成する。 Then, the base film is developed and, if necessary, heat-cured to cause a second terminal region insulating layer 54, a second peripheral region insulating layer 55, a pair of second front base layers 50, and a pair of second rear sides. The base layer 51 and the base insulating layer 9 provided with the connection terminal opening 45 are formed in the above pattern.

次いで、図5Dに示すように、導体層10を、ベース絶縁層9の上面に形成する。詳しくは、ベース絶縁層9の上面に、導体層10をアディティブ法またはサブトラクティブ法などのパターン形成法、好ましくは、アディティブ法によって形成する。 Next, as shown in FIG. 5D, the conductor layer 10 is formed on the upper surface of the base insulating layer 9. Specifically, the conductor layer 10 is formed on the upper surface of the base insulating layer 9 by a pattern forming method such as an additive method or a subtractive method, preferably an additive method.

これにより、図1が参照されるように、導体層10が、ベース絶縁層9の上面に、外部側端子57、ヘッド側端子58、ピエゾ側端子59、および、配線60を備えるように形成される。なお、ヘッド側端子58の後側部58Cは、第1端子領域絶縁層28の上面に落ち込むように形成される。 As a result, as shown in FIG. 1, the conductor layer 10 is formed so as to include an external terminal 57, a head terminal 58, a piezo side terminal 59, and a wiring 60 on the upper surface of the base insulating layer 9. Ru. The rear side portion 58C of the head side terminal 58 is formed so as to drop into the upper surface of the first terminal region insulating layer 28.

次いで、図5Eに示すように、カバー絶縁層11を、第2ベース絶縁層27の上に、1対の先側スライダ接触層78(図3A参照)、および、1対の後側スライダ接触層79を備えるパターンとして形成する。1対の先側スライダ接触層78(図3A参照)、および1対の後側スライダ接触層79を備えるカバー絶縁層11を形成するには、第2ベース絶縁層27および導体層10の上に、感光性の絶縁材料のワニスを塗布して乾燥させて、カバー皮膜を形成した後、カバー皮膜を露光し、続いて、現像して、加熱硬化することにより、上記したパターンで形成する。 Then, as shown in FIG. 5E, the cover insulating layer 11 is placed on the second base insulating layer 27 with a pair of front slider contact layers 78 (see FIG. 3A) and a pair of rear slider contact layers. It is formed as a pattern including 79. To form a cover insulating layer 11 with a pair of front slider contact layers 78 (see FIG. 3A) and a pair of rear slider contact layers 79, on top of the second base insulating layer 27 and the conductor layer 10. After applying a varnish of a photosensitive insulating material and drying it to form a cover film, the cover film is exposed, and then developed and heat-cured to form the above-mentioned pattern.

これにより、図3Aが参照されるように、1対の先側スライダ接触層78は、対応する第2ベース絶縁層27の1対の第2先側ベース層50、および、第1ベース絶縁層26の1対の第1先側ベース層29とともに、第1台座88を構成する。 As a result, as shown in FIG. 3A, the pair of front slider contact layers 78 are the pair of second front base layers 50 of the corresponding second base insulation layers 27 and the first base insulation layer. Together with a pair of 26 first front base layers 29, it constitutes a first pedestal 88.

また、図5Eに示すように、1対の後側スライダ接触層79は、対応する第2ベース絶縁層27の1対の第2後側ベース層51、および、第1ベース絶縁層26の1対の第1後側ベース層30とともに、第2台座89を構成する。 Further, as shown in FIG. 5E, the pair of rear slider contact layers 79 is a pair of the second rear base layer 51 of the corresponding second base insulating layer 27 and one of the first base insulating layer 26. Together with the pair of first rear base layers 30, it constitutes a second pedestal 89.

次いで、図5Fに示すように、金属支持基板8を、例えば、エッチングなどによって、基板開口部16(図1および図2参照)、および、ステージ開口部25が形成されるように、外形加工する。 Next, as shown in FIG. 5F, the metal support substrate 8 is externally processed so that the substrate opening 16 (see FIGS. 1 and 2) and the stage opening 25 are formed by, for example, etching. ..

これにより、ステージ開口部25から、第1端子領域絶縁層28の後端部の下面が露出される。 As a result, the lower surface of the rear end portion of the first terminal region insulating layer 28 is exposed from the stage opening 25.

次いで、図6Gに示すように、ベース絶縁層9において、ステージ開口部25から露出する第1端子領域絶縁層28の後端部を除去する。具体的には、エッチング、好ましくは、ウェットエッチングなどによって、除去する。 Next, as shown in FIG. 6G, in the base insulating layer 9, the rear end portion of the first terminal region insulating layer 28 exposed from the stage opening 25 is removed. Specifically, it is removed by etching, preferably wet etching or the like.

これにより、第2端子領域絶縁層54の後端部の下面が露出されるとともに、ヘッド側端子58の後側部58Cの下面が露出される。 As a result, the lower surface of the rear end portion of the second terminal region insulating layer 54 is exposed, and the lower surface of the rear side portion 58C of the head side terminal 58 is exposed.

次いで、図6Hに示すように、複数の端子、具体的には、外部側端子57、ヘッド側端子58、ピエゾ側端子59の表面に、めっき層12を形成する。 Next, as shown in FIG. 6H, a plating layer 12 is formed on the surfaces of the plurality of terminals, specifically, the external terminal 57, the head terminal 58, and the piezo terminal 59.

具体的には、無電解めっき、電解めっきなどのめっき、好ましくは、電解めっきによって、めっき層12を形成する。 Specifically, the plating layer 12 is formed by plating such as electroless plating or electrolytic plating, preferably electrolytic plating.

これにより、回路付サスペンション基板1が完成する。 As a result, the suspension board 1 with a circuit is completed.

次いで、図6Iに示すように、回路付サスペンション基板1に対して、磁気ヘッド3が搭載されたスライダ4を接続するときには、まず、ヘッド側端子58(めっき層12)の上にヘッド接合材66を形成する。具体的には、上記した導電性材料を公知の印刷機による印刷、または、ディスペンサーで塗布することで、ヘッド接合材66を形成する。 Next, as shown in FIG. 6I, when connecting the slider 4 on which the magnetic head 3 is mounted to the suspension substrate 1 with a circuit, first, the head bonding material 66 is placed on the head side terminal 58 (plating layer 12). To form. Specifically, the head bonding material 66 is formed by printing the above-mentioned conductive material with a known printing machine or applying it with a dispenser.

次いで、磁気ヘッド3が搭載されたスライダ4を、1対の第1台座88(図2および図3A参照)、および、1対の第2台座89によって支持され、ヘッド端子65がヘッド側端子58の上側に位置するように、回路付サスペンション基板1に対して上側に配置する。 Next, the slider 4 on which the magnetic head 3 is mounted is supported by a pair of first pedestals 88 (see FIGS. 2 and 3A) and a pair of second pedestals 89, and the head terminal 65 is head-side terminal 58. It is arranged above the suspension substrate 1 with a circuit so as to be located above the above.

そして、ヘッド接合材66を、レーザー(Xeランプレーザー)照射、または、はんだごてなどの加熱方法によって、その溶融温度以上に加熱する。好ましくは、ヘッド接合材66を、レーザー照射により加熱する。 Then, the head bonding material 66 is heated to a temperature equal to or higher than the melting temperature by a laser (Xe lamp laser) irradiation or a heating method such as a soldering iron. Preferably, the head bonding material 66 is heated by laser irradiation.

これにより、図3Aおよび図3Bに示すように、ヘッド接合材66が溶融されて流動し、ヘッド側端子58と、磁気ヘッド3のヘッド端子65とが電気的に接続される。 As a result, as shown in FIGS. 3A and 3B, the head bonding material 66 is melted and flows, and the head side terminal 58 and the head terminal 65 of the magnetic head 3 are electrically connected.

このとき、ヘッド接合材66がフィレットを形成することで、ヘッド端子65の上端部まで、確実にヘッド接合材66を配置することができ、ヘッド側端子58とヘッド端子65とを確実に電気的に接続させることができる。 At this time, since the head bonding material 66 forms a fillet, the head bonding material 66 can be reliably arranged up to the upper end portion of the head terminal 65, and the head side terminal 58 and the head terminal 65 can be reliably electrically arranged. Can be connected to.

また、図3Aに示すように、回路付サスペンション基板1に対して、ピエゾ素子5を接続するときには、まず、ピエゾ側端子59の下にピエゾ接合材68を形成する。具体的には、上記した導電性材料を、公知の印刷機による印刷、または、ディスペンサーで塗布することで、ピエゾ接合材68を形成する。 Further, as shown in FIG. 3A, when the piezo element 5 is connected to the suspension substrate 1 with a circuit, first, the piezo bonding material 68 is formed under the piezo side terminal 59. Specifically, the above-mentioned conductive material is printed by a known printing machine or applied with a dispenser to form the piezo bonding material 68.

そして、1対のピエゾ素子5を、ピエゾ端子67が対応するピエゾ側端子59の下側に位置するように、回路付サスペンション基板1に対して下側に配置する。 Then, the pair of piezo elements 5 are arranged below the suspension substrate 1 with a circuit so that the piezo terminals 67 are located below the corresponding piezo side terminals 59.

次いで、ピエゾ素子5が配置された回路付サスペンション基板1のジンバル部14をリフロー炉内に入れて加熱し、ピエゾ接合材68をリフローする。 Next, the gimbal portion 14 of the suspension substrate 1 with a circuit in which the piezo element 5 is arranged is placed in a reflow furnace and heated to reflow the piezo bonding material 68.

リフロー温度は、ピエゾ接合材68が溶融する温度以上、例えば、100℃以上、好ましくは、130℃以上であり、例えば、350℃以下、好ましくは、300℃以下である。 The reflow temperature is equal to or higher than the temperature at which the piezo bonding material 68 melts, for example, 100 ° C. or higher, preferably 130 ° C. or higher, and for example, 350 ° C. or lower, preferably 300 ° C. or lower.

また、リフロー時間は、例えば、5秒以上、好ましくは、10秒以上であり、例えば、500秒以下、好ましくは、300秒以下である。 The reflow time is, for example, 5 seconds or more, preferably 10 seconds or more, and for example, 500 seconds or less, preferably 300 seconds or less.

これにより、ピエゾ接合材68は、溶融することにより流動し、ピエゾ側端子59と、ピエゾ素子5のピエゾ端子67とを接着する。 As a result, the piezo bonding material 68 flows by melting, and the piezo side terminal 59 and the piezo terminal 67 of the piezo element 5 are adhered to each other.

ピエゾ素子5は、ピエゾ側端子59を介して電源7から電力が供給され、その電圧が制御されることによって、先後方向に伸縮する。ピエゾ素子5が伸縮することにより、スライダ4の位置を微調整することができる。 The piezo element 5 is supplied with electric power from the power source 7 via the piezo side terminal 59, and the voltage is controlled to expand and contract in the front-rear direction. The position of the slider 4 can be finely adjusted by expanding and contracting the piezo element 5.

この回路付サスペンション基板1によれば、図3Aおよび図3Bに示すように、端子領域62の厚みが、周辺領域63の厚みよりも厚いので、厚み方向において、ヘッド側端子58をスライダ4の磁気ヘッド3のヘッド端子65に対して近接させることができる。 According to the suspension substrate 1 with a circuit, as shown in FIGS. 3A and 3B, the thickness of the terminal region 62 is thicker than the thickness of the peripheral region 63. Therefore, in the thickness direction, the head side terminal 58 is magnetized by the slider 4. It can be brought close to the head terminal 65 of the head 3.

そのため、ヘッド側端子58とヘッド端子65とを確実に接続させることができる。 Therefore, the head terminal 58 and the head terminal 65 can be reliably connected.

一方、周辺領域63の厚みは、端子領域62の厚みよりも薄いので、回路付サスペンション基板1の軽量薄型化を図ることができる。 On the other hand, since the thickness of the peripheral region 63 is thinner than the thickness of the terminal region 62, the suspension substrate 1 with a circuit can be made lighter and thinner.

この回路付サスペンション基板1によれば、図3Aおよび図3Bに示すように、周辺領域63が、第2ベース絶縁層27からなる第2周辺領域絶縁層55を備えているのに対し、端子領域62が、第1ベース絶縁層26からなる第1端子領域絶縁層28と、第2ベース絶縁層27からなる第2端子領域絶縁層54を備えている。 According to the suspension substrate 1 with a circuit, as shown in FIGS. 3A and 3B, the peripheral region 63 includes the second peripheral region insulating layer 55 composed of the second base insulating layer 27, whereas the terminal region 62 includes a first terminal region insulating layer 28 made of a first base insulating layer 26 and a second terminal region insulating layer 54 made of a second base insulating layer 27.

そのため、端子領域62を、1層のベース絶縁層9から形成する場合と比較して、端子領域62の厚みを2層、すなわち、第1端子領域絶縁層28および第2端子領域絶縁層54から形成することで、周辺領域63の厚みよりも容易に厚くすることができる。 Therefore, as compared with the case where the terminal region 62 is formed from the one-layer base insulating layer 9, the thickness of the terminal region 62 is increased from two layers, that is, from the first terminal region insulating layer 28 and the second terminal region insulating layer 54. By forming it, it can be easily made thicker than the thickness of the peripheral region 63.

その結果、ヘッド側端子58をスライダ4の端子に対して近接させることができるので、ヘッド側端子58とスライダ4の磁気ヘッド3のヘッド端子65とを、より確実に接続させることができる。 As a result, the head-side terminal 58 can be brought close to the terminal of the slider 4, so that the head-side terminal 58 and the head terminal 65 of the magnetic head 3 of the slider 4 can be more reliably connected.

この回路付サスペンション基板1によれば、図3Aおよび図3Bに示すように、1対の第1先側ベース層29および1対の第1後側ベース層30が第1ベース絶縁層26からなり、1対の第2先側ベース層50および1対の第2後側ベース層51が第2ベース絶縁層27からなり、1対の先側スライダ接触層78および1対の後側スライダ接触層79がカバー絶縁層11からなるので、スライダ4を支持するための部材を別途設けることなく、配線60を被覆するようにして、1対の第1台座88および1対の第2台座89を形成することができる。 According to the suspension substrate 1 with a circuit, as shown in FIGS. 3A and 3B, the pair of the first front base layer 29 and the pair of the first rear base layer 30 are composed of the first base insulating layer 26. A pair of second front base layers 50 and a pair of second rear base layers 51 are composed of a second base insulating layer 27, a pair of front slider contact layers 78 and a pair of rear slider contact layers. Since 79 is composed of the cover insulating layer 11, a pair of first pedestal 88 and a pair of second pedestal 89 are formed so as to cover the wiring 60 without separately providing a member for supporting the slider 4. can do.

この回路付サスペンション基板1の製造方法によれば、図3Aおよび図3Bに示すように、端子領域62の厚みが、周辺領域63の厚みよりも厚く、厚み方向において、ヘッド側端子58をスライダ4の端子に対して近接させることのできる回路付サスペンション基板1を製造することができる。 According to the manufacturing method of the suspension substrate 1 with a circuit, as shown in FIGS. 3A and 3B, the thickness of the terminal region 62 is thicker than the thickness of the peripheral region 63, and the head side terminal 58 is slider 4 in the thickness direction. It is possible to manufacture a suspension substrate 1 with a circuit that can be brought close to the terminals of.

また、図4Cに示すように、第2端子領域絶縁層54および第2周辺領域絶縁層55を形成する工程において、1対の第2先側ベース層50、および、1対の第2後側ベース層51を同時に形成することができる。 Further, as shown in FIG. 4C, in the step of forming the second terminal region insulating layer 54 and the second peripheral region insulating layer 55, a pair of the second front base layer 50 and a pair of the second rear side are formed. The base layer 51 can be formed at the same time.

そのため、ヘッド側端子58をスライダ4の端子に確実に近接させることができながら、別途工程を増やすことなく、効率よく1対の第1台座88および1対の第2台座89を形成することができる。 Therefore, the head side terminal 58 can be surely brought close to the terminal of the slider 4, and the pair of the first pedestal 88 and the pair of the second pedestal 89 can be efficiently formed without increasing the number of separate steps. it can.

<第2実施形態>
次いで、図7Aおよび図7Bを参照して、本発明の第2実施形態の回路付サスペンション基板1について説明する。なお、第2実施形態において、上記した第1実施形態と同様の部材には同様の符号を付し、その説明を省略する。
<Second Embodiment>
Next, the suspension substrate 1 with a circuit of the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 7A and 7B. In the second embodiment, the same members as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

上記した第1実施形態では、第1ベース絶縁層26が、第1端子領域絶縁層28、1対の第1先側ベース層29、1対の第1後側ベース層30のみを備え、第2ベース絶縁層27が、本体部13に対応する本体部絶縁層31と、ジンバル部14に対応するジンバル部絶縁層32とを備えている。 In the first embodiment described above, the first base insulating layer 26 includes only the first terminal region insulating layer 28, a pair of first front base layers 29, and a pair of first rear base layers 30. The 2 base insulating layer 27 includes a main body insulating layer 31 corresponding to the main body 13 and a gimbal insulating layer 32 corresponding to the gimbal portion 14.

対して、第2実施形態では、第1ベース絶縁層26が、本体部13に対応する本体部絶縁層31と、ジンバル部14に対応するジンバル部絶縁層32とを備え、第2ベース絶縁層27が、第2周辺領域絶縁層55を備えず、第2端子領域絶縁層54、1対の第2先側ベース層50、および、1対の第2後側ベース層51のみを備えている。 On the other hand, in the second embodiment, the first base insulating layer 26 includes a main body insulating layer 31 corresponding to the main body 13 and a gimbal insulating layer 32 corresponding to the gimbal portion 14, and the second base insulating layer. 27 does not include a second peripheral region insulating layer 55, but includes only a second terminal region insulating layer 54, a pair of second front base layers 50, and a pair of second rear base layers 51. ..

そして、第1ベース絶縁層26のステージ絶縁層39において、第2端子領域絶縁層54と重なる部分が、第1端子領域絶縁層28として区画されている。言い換えると、第2端子領域絶縁層54は、第1端子領域絶縁層28の上に配置されている。また、第1ベース絶縁層26において、第1端子領域絶縁層28以外の部分が、第1周辺領域絶縁層95として区画されている。 Then, in the stage insulating layer 39 of the first base insulating layer 26, a portion overlapping with the second terminal region insulating layer 54 is partitioned as the first terminal region insulating layer 28. In other words, the second terminal region insulating layer 54 is arranged on the first terminal region insulating layer 28. Further, in the first base insulating layer 26, a portion other than the first terminal region insulating layer 28 is partitioned as a first peripheral region insulating layer 95.

なお、ベース絶縁層9において、第1端子領域絶縁層28および第2端子領域絶縁層54が形成される領域が、端子領域62として区画され、厚み方向に投影したときに、端子領域62と重ならない領域であり、ベース絶縁層9における端子領域62以外のすべての領域(第1周辺領域絶縁層95が形成される領域)が、周辺領域63として区画されている。 In the base insulating layer 9, the region where the first terminal region insulating layer 28 and the second terminal region insulating layer 54 are formed is partitioned as the terminal region 62, and when projected in the thickness direction, it overlaps with the terminal region 62. All regions (regions in which the first peripheral region insulating layer 95 is formed) other than the terminal region 62 in the base insulating layer 9 are partitioned as peripheral regions 63.

このような回路付サスペンション基板1を製造するには、上記した第1実施形態の第1ベース絶縁層26を金属支持基板8の上に形成する工程において、第2実施形態では、第1ベース絶縁層26を、本体部絶縁層31(図1参照)、および、ジンバル部絶縁層32に対応するパターンとして、金属支持基板8の上に形成する。ジンバル部絶縁層32においては、第1端子領域絶縁層28と、第1周辺領域絶縁層95と、1対の第1先側ベース層29と、1対の第1後側ベース層30と、接続端子開口部45とを備えるパターンとして形成する。 In order to manufacture such a suspension substrate 1 with a circuit, in the step of forming the first base insulating layer 26 of the first embodiment described above on the metal support substrate 8, in the second embodiment, the first base insulation The layer 26 is formed on the metal support substrate 8 as a pattern corresponding to the main body insulating layer 31 (see FIG. 1) and the gimbal insulating layer 32. In the gimbal portion insulating layer 32, the first terminal region insulating layer 28, the first peripheral region insulating layer 95, a pair of first front base layers 29, and a pair of first rear base layers 30. It is formed as a pattern including the connection terminal opening 45.

また、上記した第1実施形態の第2ベース絶縁層27を、第1ベース絶縁層26を被覆するように、金属支持基板8の上に形成する工程において、第2実施形態では、第2ベース絶縁層27を、第2端子領域絶縁層54と、1対の第2先側ベース層50と、1対の第2後側ベース層51とを備えるパターンとして、第1ベース絶縁層26の上に形成する。 Further, in the step of forming the second base insulating layer 27 of the first embodiment on the metal support substrate 8 so as to cover the first base insulating layer 26, in the second embodiment, the second base The insulating layer 27 is placed on the first base insulating layer 26 as a pattern including a second terminal region insulating layer 54, a pair of second front base layers 50, and a pair of second rear base layers 51. To form.

上記した工程以外は、第1実施形態と同様の製造方法により、回路付サスペンション基板1を製造する。 The suspension substrate 1 with a circuit is manufactured by the same manufacturing method as in the first embodiment except for the above steps.

以上により、第2実施形態の回路付サスペンション基板1が完成する。 As described above, the suspension board 1 with a circuit of the second embodiment is completed.

この回路付サスペンション基板1によれば、図7Aおよび図7Bに示すように、周辺領域63が、第1ベース絶縁層26からなる第1周辺領域絶縁層95を備えているのに対し、端子領域62が、第1ベース絶縁層26からなる第1端子領域絶縁層28と、第2ベース絶縁層27からなる第2端子領域絶縁層54とを備えている。 According to the suspension substrate 1 with a circuit, as shown in FIGS. 7A and 7B, the peripheral region 63 includes the first peripheral region insulating layer 95 composed of the first base insulating layer 26, whereas the terminal region 62 includes a first terminal region insulating layer 28 made of a first base insulating layer 26 and a second terminal region insulating layer 54 made of a second base insulating layer 27.

そのため、端子領域62を、1層のベース絶縁層9から形成する場合と比較して、端子領域62の厚みを2層、すなわち、第1端子領域絶縁層28および第2端子領域絶縁層54から形成することで、周辺領域63の厚みよりも容易に厚くすることができる。 Therefore, as compared with the case where the terminal region 62 is formed from the one-layer base insulating layer 9, the thickness of the terminal region 62 is increased from two layers, that is, from the first terminal region insulating layer 28 and the second terminal region insulating layer 54. By forming it, it can be easily made thicker than the thickness of the peripheral region 63.

その結果、ヘッド側端子58をスライダ4の磁気ヘッド3のヘッド端子65に対して近接させることができるのでヘッド側端子58とヘッド端子65とを、より確実に接続させることができる。 As a result, the head-side terminal 58 can be brought close to the head terminal 65 of the magnetic head 3 of the slider 4, so that the head-side terminal 58 and the head terminal 65 can be more reliably connected.

この回路付サスペンション基板1によれば、図7Aおよび図7Bに示すように、1対の第1先側ベース層29および1対の第1後側ベース層30が第1ベース絶縁層26からなり、1対の第2先側ベース層50および1対の第2後側ベース層51が第2ベース絶縁層27からなり、1対の先側スライダ接触層78および1対の後側スライダ接触層79がカバー絶縁層11からなるので、スライダ4を支持するための部材を別途設けることなく、配線60を被覆するようにして、1対の第1台座88および1対の第2台座89を形成することができる。 According to the suspension substrate 1 with a circuit, as shown in FIGS. 7A and 7B, the pair of the first front base layer 29 and the pair of the first rear base layer 30 are composed of the first base insulating layer 26. A pair of second front base layers 50 and a pair of second rear base layers 51 are composed of a second base insulating layer 27, a pair of front slider contact layers 78 and a pair of rear slider contact layers. Since 79 is composed of the cover insulating layer 11, a pair of first pedestal 88 and a pair of second pedestal 89 are formed so as to cover the wiring 60 without separately providing a member for supporting the slider 4. can do.

この回路付サスペンション基板1の製造方法によれば、図7Aおよび図7Bに示すように、端子領域62の厚みが、周辺領域63の厚みよりも厚く、厚み方向において、ヘッド側端子58をスライダ4の端子に対して近接させることのできる回路付サスペンション基板1を製造することができる。 According to the manufacturing method of the suspension substrate 1 with a circuit, as shown in FIGS. 7A and 7B, the thickness of the terminal region 62 is thicker than the thickness of the peripheral region 63, and the head side terminal 58 is slider 4 in the thickness direction. It is possible to manufacture a suspension substrate 1 with a circuit that can be brought close to the terminals of.

また、第1端子領域絶縁層28および第1周辺領域絶縁層95を形成する工程において、1対の第1先側ベース層29、および、1対の第1後側ベース層30を同時に形成することができる。 Further, in the step of forming the first terminal region insulating layer 28 and the first peripheral region insulating layer 95, a pair of the first front base layer 29 and a pair of the first rear base layer 30 are simultaneously formed. be able to.

そのため、ヘッド側端子58をスライダ4の端子に確実に近接させることができながら、別途工程を増やすことなく、効率よく台座を形成することができる。 Therefore, the head side terminal 58 can be surely brought close to the terminal of the slider 4, and the pedestal can be efficiently formed without increasing the number of separate steps.

<変形例>
上記した第1実施形態および第2実施形態では、回路付サスペンション基板1は、スライダ4を支持するための第1台座88および第2台座89を備えているが、第1台座88および第2台座89を備えず、接着剤層などにより、スライダ4が支持されていてもよい。
<Modification example>
In the first and second embodiments described above, the suspension board 1 with a circuit includes a first pedestal 88 and a second pedestal 89 for supporting the slider 4, but the first pedestal 88 and the second pedestal The slider 4 may be supported by an adhesive layer or the like without the 89.

このような変形例においても、第1実施形態および第2実施形態と同様の作用効果を得ることができる。 Even in such a modified example, the same effects as those of the first embodiment and the second embodiment can be obtained.

1 回路付サスペンション基板
4 スライダ
8 金属支持基板
9 ベース絶縁層
10 導体層
11 カバー絶縁層
26 第1ベース絶縁層
27 第2ベース絶縁層
28 第1端子領域絶縁層
29 第1先側ベース層
30 第1後側ベース層
50 第2先側ベース層
51 第2後側ベース層
54 第2端子領域絶縁層
55 第2周辺領域絶縁層
58 ヘッド側端子
62 端子領域
63 周辺領域
78 先側スライダ接触層
79 後側スライダ接触層
88 第1台座
89 第2台座
95 第1周辺領域絶縁層
1 Suspension board with circuit 4 Slider 8 Metal support board 9 Base insulation layer 10 Conductor layer 11 Cover insulation layer 26 1st base insulation layer 27 2nd base insulation layer 28 1st terminal area insulation layer 29 1st destination base layer 30th 1 Rear base layer 50 2nd front base layer 51 2nd rear base layer 54 2nd terminal area insulation layer 55 2nd peripheral area insulation layer 58 Head side terminal 62 Terminal area 63 Peripheral area 78 Front slider contact layer 79 Rear slider contact layer 88 1st pedestal 89 2nd pedestal 95 1st peripheral area insulation layer

Claims (2)

金属支持基板と、前記金属支持基板の厚み方向一方側に配置されるベース絶縁層と、前記ベース絶縁層の前記厚み方向一方側に配置され、スライダと電気的に接続される接続端子を備える導体層とを備える回路付サスペンション基板であり、
前記ベース絶縁層は、
前記厚み方向に投影したときに、少なくとも前記接続端子と重なる端子領域と、
前記端子領域と重ならず、かつ、前記端子領域の周辺の周辺領域と
を有し、
前記端子領域の厚みは、前記周辺領域の厚みよりも厚く、
前記ベース絶縁層は、
前記金属支持基板の前記厚み方向一方側に配置される第1ベース絶縁層と、
前記第1ベース絶縁層を被覆し、前記金属支持基板の前記厚み方向一方側に配置される第2ベース絶縁層と
を備え、
前記端子領域は、
前記第1ベース絶縁層からなり、前記金属支持基板の前記厚み方向一方側に配置される第1端子領域絶縁層と、
前記第2ベース絶縁層からなり、前記第1端子領域絶縁層の前記厚み方向一方側に配置される第2端子領域絶縁層と
を備え、
前記端子領域の厚みが、前記第1端子領域絶縁層と前記第2端子領域絶縁層との合計厚みであり、
前記周辺領域は、前記第2ベース絶縁層からなり、前記金属支持基板の前記厚み方向一方側に配置される第2周辺領域絶縁層を備え、
前記周辺領域の厚みが、前記第2周辺領域絶縁層の厚みであり、
前記回路付サスペンション基板は、前記スライダを支持する台座をさらに備え、
前記台座は、前記第1ベース絶縁層または前記第2ベース絶縁層を備え、
前記周辺領域が、前記台座を含まず、
前記導体層は、前記ベース絶縁層の全領域において、前記第1ベース絶縁層と前記第2ベース絶縁層との間に位置しないことを特徴とする、回路付サスペンション基板。
A conductor including a metal support substrate, a base insulating layer arranged on one side of the metal support substrate in the thickness direction, and a connection terminal arranged on one side of the base insulation layer in the thickness direction and electrically connected to a slider. A suspension board with a circuit that has layers.
The base insulating layer is
When projected in the thickness direction, at least the terminal area that overlaps with the connection terminal,
It does not overlap with the terminal area and has a peripheral area around the terminal area.
The thickness of the terminal region is thicker than the thickness of the peripheral region.
The base insulating layer is
A first base insulating layer arranged on one side of the metal support substrate in the thickness direction,
A second base insulating layer that covers the first base insulating layer and is arranged on one side of the metal support substrate in the thickness direction is provided.
The terminal area is
A first terminal region insulating layer composed of the first base insulating layer and arranged on one side of the metal support substrate in the thickness direction.
It is composed of the second base insulating layer, and includes a second terminal region insulating layer arranged on one side in the thickness direction of the first terminal region insulating layer.
The thickness of the terminal region is the total thickness of the first terminal region insulating layer and the second terminal region insulating layer.
The peripheral region comprises the second base insulating layer, and includes a second peripheral region insulating layer arranged on one side of the metal support substrate in the thickness direction.
The thickness of the peripheral region is the thickness of the second peripheral region insulating layer.
The suspension board with a circuit further includes a pedestal for supporting the slider.
The pedestal includes the first base insulating layer or the second base insulating layer.
The peripheral area does not include the pedestal
A suspension substrate with a circuit, wherein the conductor layer is not located between the first base insulating layer and the second base insulating layer in the entire region of the base insulating layer.
金属支持基板と、前記金属支持基板の厚み方向一方側に配置されるベース絶縁層と、前記ベース絶縁層の前記厚み方向一方側に配置され、スライダと電気的に接続される接続端子を備える導体層とを備える回路付サスペンション基板であり、
前記ベース絶縁層は、
前記厚み方向に投影したときに、少なくとも前記接続端子と重なる端子領域と、
前記端子領域と重ならず、かつ、前記端子領域の周辺の周辺領域と
を有し、
前記端子領域の厚みは、前記周辺領域の厚みよりも厚く、
前記ベース絶縁層は、
前記金属支持基板の前記厚み方向一方側に配置される第1ベース絶縁層と、
前記第1ベース絶縁層の前記厚み方向一方側に配置される第2ベース絶縁層と、
を備え、
前記端子領域は、
前記第1ベース絶縁層からなり、前記金属支持基板の前記厚み方向一方側に配置される第1端子領域絶縁層と、
前記第2ベース絶縁層からなり、前記第1端子領域絶縁層の前記厚み方向一方側に配置される第2端子領域絶縁層と
を備え、
前記端子領域の厚みが、前記第1端子領域絶縁層と前記第2端子領域絶縁層との合計厚みであり、
前記周辺領域は、前記第1ベース絶縁層からなり、前記金属支持基板の前記厚み方向一方側に配置される第1周辺領域絶縁層を備え、
前記周辺領域の厚みが、前記第1周辺領域絶縁層の厚みであり、
前記回路付サスペンション基板は、前記スライダを支持する台座をさらに備え、
前記台座は、前記第1ベース絶縁層または前記第2ベース絶縁層を備え、
前記周辺領域が、前記台座を含まず、
前記導体層は、前記ベース絶縁層の全領域において、前記第1ベース絶縁層と前記第2ベース絶縁層との間に位置しないことを特徴とする、回路付サスペンション基板。
A conductor including a metal support substrate, a base insulating layer arranged on one side of the metal support substrate in the thickness direction, and a connection terminal arranged on one side of the base insulation layer in the thickness direction and electrically connected to a slider. A suspension board with a circuit that has layers.
The base insulating layer is
When projected in the thickness direction, at least the terminal area that overlaps with the connection terminal,
It does not overlap with the terminal area and has a peripheral area around the terminal area.
The thickness of the terminal region is thicker than the thickness of the peripheral region.
The base insulating layer is
A first base insulating layer arranged on one side of the metal support substrate in the thickness direction,
A second base insulating layer arranged on one side of the first base insulating layer in the thickness direction,
With
The terminal area is
A first terminal region insulating layer composed of the first base insulating layer and arranged on one side of the metal support substrate in the thickness direction.
It is composed of the second base insulating layer, and includes a second terminal region insulating layer arranged on one side of the first terminal region insulating layer in the thickness direction.
The thickness of the terminal region is the total thickness of the first terminal region insulating layer and the second terminal region insulating layer.
The peripheral region comprises the first base insulating layer, and includes a first peripheral region insulating layer arranged on one side of the metal support substrate in the thickness direction.
The thickness of the peripheral region is the thickness of the first peripheral region insulating layer.
The suspension board with a circuit further includes a pedestal for supporting the slider.
The pedestal includes the first base insulating layer or the second base insulating layer.
The peripheral area does not include the pedestal
A suspension substrate with a circuit, wherein the conductor layer is not located between the first base insulating layer and the second base insulating layer in the entire region of the base insulating layer.
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