JP6028769B2 - 内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents

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Description

本発明は内燃機関の排気浄化装置に関する。
内燃機関から排出された排気ガスを浄化する触媒装置であって、交互に配置された排気ガス流入通路及び排気ガス流出通路と、これら排気ガス流入通路及び排気ガス流出通路を互いに隔てる多孔性の基材とを備え、排気ガス流入通路内に流入した排気ガスが基材を通って排気ガス流出通路内に流出するようになっており、粒子状物質を捕集する捕集層を基材の排気ガス流入通路側の表面上に形成し、酸素過剰のもとで還元剤によりNOxを還元するNOx選択還元触媒の層を基材の細孔内に形成し、酸化触媒の層を基材の排気ガス流出通路側の表面上に形成した、触媒装置が公知である(例えば特許文献1参照)。この触媒装置には尿素が供給されるようになっており、この尿素から生成されるアンモニアが還元剤として用いられる。
特開2012−237282号公報
特許文献1では、粒子状物質は捕集層により捕集される。しかしながら、この捕集層には酸化触媒が担持されていない。また、基材の排気ガス流出通路側の表面上に形成された酸化触媒の層は捕集層から分離されている。その結果、捕集層に捕集された粒子状物質を酸化除去することが困難であるという問題点がある。捕集層に酸化触媒を担持した場合にはこの問題は解決できるかもしれない。ところが、この場合、還元剤がNOx選択還元触媒に到達する前に、捕集層の酸化触媒により酸化ないし消費され、したがってNOxを良好に還元できないおそれがある。
本発明によれば、排気ガス中に含まれる粒子状物質を捕集するためのパティキュレートフィルタを機関排気通路内に配置し、前記パティキュレートフィルタは、交互に配置された排気ガス流入通路及び排気ガス流出通路と、これら排気ガス流入通路及び排気ガス流出通路を互いに隔てる多孔性の隔壁とを備え、前記排気ガス流入通路内に流入した排気ガスが前記隔壁を通って前記排気ガス流出通路内に流出する、内燃機関の排気浄化装置において、前記パティキュレートフィルタが更に、粒子状物質通過率があらかじめ定められた第1の通過率よりも高いNOx選択還元触媒の層と、粒子状物質通過率が前記第1の通過率よりも低い酸化触媒の層と、を有し、前記隔壁の前記排気ガス流入通路側の表面上において、前記排気ガス流入通路から前記隔壁を介し前記排気ガス流出通路に到る排気ガス流れに関し、下流側に前記酸化触媒の層を配置すると共に、上流側に前記NOx選択還元触媒の層を配置した、内燃機関の排気浄化装置が提供される。
NOxを良好に還元しつつ粒子状物質を良好に酸化除去することができる。
内燃機関の全体図である。 パティキュレートフィルタの正面図である。 パティキュレートフィルタの側面断面図である。 パティキュレートフィルタの隔壁の部分拡大断面図である。 細孔径と粒子状物質通過率との関係を説明する線図である。 本発明による実施例を説明する、隔壁の部分拡大断面図である。 本発明による別の実施例を説明する隔壁の部分拡大断面である。 NOx選択還元触媒のウィンドウ、別のNOx還元触媒のNOx還元ウィンドウ、及び、酸化触媒の還元剤酸化ウィンドウを説明する線図である。
図1を参照すると、1は圧縮着火式内燃機関の本体、2は各気筒の燃焼室、3は燃焼室2内にそれぞれ燃料を噴射するための電磁制御式燃料噴射弁、4は吸気マニホルド、5は排気マニホルドをそれぞれ示す。吸気マニホルド4は吸気ダクト6を介して排気ターボチャージャ7のコンプレッサ7cの出口に連結され、コンプレッサ7cの入口は吸気導入管8を介してエアフロメータ9及びエアクリーナ10に順次連結される。吸気ダクト6内には電気制御式スロットル弁11が配置され、更に吸気ダクト6周りには吸気ダクト6内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置12が配置される。一方、排気マニホルド5は排気ターボチャージャ7の排気タービン7tの入口に連結され、排気タービン7tの出口は排気後処理装置20に連結される。
各燃料噴射弁3は燃料供給管13を介してコモンレール14に連結され、このコモンレール14は電気制御式の吐出量可変な燃料ポンプ15を介して燃料タンク16に連結される。燃料タンク16内の燃料は燃料ポンプ15によってコモンレール14内に供給され、コモンレール14内に供給された燃料は各燃料供給管13を介して燃料噴射弁3に供給される。図1に示される実施例ではこの燃料は軽油から構成される。図示しない別の実施例では、内燃機関はリーン空燃比のもとで燃焼が行われる火花点火式内燃機関から構成される。この場合には燃料はガソリンから構成される。
排気マニホルド5と吸気マニホルド4とは排気ガス再循環(以下、EGRという。)通路17を介して互いに連結され、EGR通路17内には電気制御式EGR制御弁18が配置される。また、EGR通路17周りにはEGR通路17内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置19が配置される。
排気後処理装置20は排気タービン7tの出口に連結された排気管21を具備し、この排気管21はケーシング22に連結される。ケーシング22内には、排気ガス中の粒子状物質を捕集するためのパティキュレートフィルタ23が配置される。詳しくは後述するが、パティキュレートフィルタ23は、酸化触媒の層と、酸素過剰のもとで還元剤によりNOxを還元するNOx選択還元触媒の層とを備えている。また、パティキュレートフィルタ23上流に位置する排気管21には、還元剤を発生しうる還元剤発生物をパティキュレートフィルタ23に供給する電磁式の添加弁24が取り付けられる。添加弁24は電動ポンプ25を介してタンク26に連結される。タンク26内には還元剤発生物が例えば液体の形で貯蔵されており、タンク26内の還元剤発生物は電動ポンプ25によって添加弁24に供給され、次いで添加弁24によってパティキュレートフィルタ23に供給される。
本発明による実施例では、還元剤としてアンモニアが用いられ、還元剤発生物として、アンモニアを発生しうるアンモニア発生化合物が用いられる。アンモニア発生化合物として使用可能な化合物には種々の化合物が存在する。本発明による実施例では、アンモニア発生化合物として尿素が用いられる。この場合、尿素は尿素水溶液の形で、タンク26内に貯蔵されると共に添加弁24から噴射される。図示しない別の実施例では、タンク26内には還元剤が貯蔵され、添加弁24から還元剤が供給される。この場合、還元剤として、例えば炭化水素(燃料)が用いられる。
電子制御ユニット30はデジタルコンピュータからなり、双方向性バス31によって互いに接続されたROM(リードオンリメモリ)32、RAM(ランダムアクセスメモリ)33、CPU(マイクロプロセッサ)34、入力ポート35及び出力ポート36を具備する。パティキュレートフィルタ23下流のケーシング22内には、パティキュレートフィルタ23から流出する排気ガスの温度を検出する温度センサ27が取り付けられる。この排気ガスの温度はパティキュレートフィルタ23の温度を表している。また、ケーシング22にはパティキュレートフィルタ23の前後差圧を検出する差圧センサ28が取り付けられる。エアフロメータ9、温度センサ27及び差圧センサ28の出力電圧はそれぞれ対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル39にはアクセルペダル39の踏み込み量に比例した出力電圧を発生する負荷センサ40が接続され、負荷センサ40の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。さらに、クランクシャフトが例えば30度回転するごとに出力パルスを発生するクランク角センサ41が入力ポート35に接続される。CPU34ではクランク角センサ41からの出力パルスに基づいて機関回転数が算出される。一方、出力ポート36は対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁3、スロットル弁11の駆動装置、燃料ポンプ15、EGR制御弁18、添加弁24、及び電動ポンプ25に接続される。
図2A及び図2Bはウォールフロー型パティキュレートフィルタ23の構造を示している。なお、図2Aはパティキュレートフィルタ23の正面図を示しており、図2Bはパティキュレートフィルタ23の側面断面図を示している。図2A及び図2Bに示されるようにパティキュレートフィルタ23はハニカム構造をなしており、互いに平行をなして延びる複数個の排気流通路71i,71oと、これら排気流通路71i,71oを互いに隔てる隔壁72とを具備する。図2Aに示される実施例では、排気流通路71i,71oは、上流端が開放されかつ下流端が栓73dにより閉塞された排気ガス流入通路71iと、上流端が栓73uにより閉塞されかつ下流端が開放された排気ガス流出通路71oとにより構成される。なお、図2Aにおいてハッチングを付した部分は栓73uを示している。したがって、排気ガス流入通路71i及び排気ガス流出通路71oは薄肉の隔壁72を介して交互に配置される。云い換えると排気ガス流入通路71i及び排気ガス流出通路71oは各排気ガス流入通路71iが4つの排気ガス流出通路71oによって包囲され、各排気ガス流出通路71oが4つの排気ガス流入通路71iによって包囲されるように配置される。
隔壁72は多孔質材料、例えばコージェライト、炭化ケイ素、窒化ケイ素、ジルコニア、チタニア、アルミナ、シリカ、ムライト、リチウムアルミニウムシリケート、リン酸ジルコニウムのようなセラミックから形成される。したがって、図2Bに矢印で示されるように、排気ガスはまず排気ガス流入通路71i内に流入し、次いで周囲の隔壁72内を通って隣接する排気ガス流出通路71o内に流出する。
図示しない別の実施例では、排気流通路は、上流端及び下流端が開放された排気ガス流入通路と、上流端が栓により閉塞されかつ下流端が開放された排気ガス流出通路とにより構成される。この例でも、排気ガス流入通路71i内に流入した排気ガスの全部又は一部が隔壁72内を通って排気ガス流出通路71o内に流出する。
図3はパティキュレートフィルタ23の隔壁72の部分拡大断面図を示している。図3に示される例では、パティキュレートフィルタ23は、酸化触媒80aの層80と、NOx選択還元触媒81aの層81とを有する。隔壁72の排気ガス流入通路71i側の表面72i上において、これら酸化触媒80aの層80及びNOx選択還元触媒81aの層81は互いに積層される。この場合、排気ガス流入通路71iから隔壁72を介し排気ガス流出通路71oに到る排気ガス流れに関し、上流側にNOx選択還元触媒81aの層81が配置され、下流側に酸化触媒80aの層80が配置される。すなわち、図3に示される例では、隔壁72の排気ガス流入通路71i側の表面72i上に酸化触媒80aの層80が形成され、酸化触媒80aの層80上にNOx選択還元触媒81aの層81が形成される。図示しない別の実施例では、酸化触媒80aの層80上に少なくとも1つの中間層が形成され、中間層の上にNOx選択還元触媒81aの層81が形成される。
酸化触媒80aとして、酸化機能を有する種々の触媒が用いられる。本発明による実施例では、酸化触媒80aとして、アルミナからなる担体上に、白金Ptのような貴金属と、セリアのような活性酸素を放出しうる活性酸素放出剤とを担持させた触媒が用いられる。このようにすると、酸化触媒80aが粒子状物質を酸化できる温度を、加速運転や減速運転を含む通常の機関運転中にパティキュレートフィルタ23が達する最高温度よりも低くすることができる。すなわち、パティキュレートフィルタ23の温度を上昇させる昇温制御を行うことなく、通常運転時にパティキュレートフィルタ23上に捕集された粒子状物質を酸化除去することができる。なお、昇温制御は、例えば、パティキュレートフィルタ23に流入する排気ガス中に添加された追加の燃料を燃焼させることにより行うこともできるし、パティキュレートフィルタ23上流の排気通路内に配置された電気ヒータを作動させることにより行うこともできる。
一方、NOx選択還元触媒81aとして、添加弁24から供給された還元剤を用いてNOxを還元するか、又は、添加弁24から供給された還元剤発生物から還元剤を発生すると共に還元剤によりNOxを還元する種々の触媒が用いられる。上述したように、本発明による実施例では、添加弁24から還元剤発生物が供給され、還元剤発生物から発生する還元剤によりNOxが還元される。また、本発明による実施例では、還元剤発生物として尿素が用いられ、還元剤としてアンモニアが用いられる。この場合、NOx選択還元触媒81aとして、酸素過剰のもとでアンモニアにより排気ガス中のNOxを還元する触媒であって前記触媒に供給されたアンモニア発生化合物の少なくとも一部を前記触媒内に貯蔵すると共に前記触媒内に貯蔵されているアンモニア発生化合物からアンモニアを生成してアンモニアにより排気ガス中のNOxを還元する機能を有する触媒が用いられる。具体的には、NOx選択還元触媒81aとして、チタニアTiOからなる担体上に酸化バナジウムVを担持した触媒、又は、ゼオライトZSM5からなる担体上に銅Cuを担持した触媒が用いられる。
酸化触媒80aの層80及びNOx選択還元触媒81aの層81はそれぞれコーティングにより形成され、したがって多孔性を有している。図4は、パティキュレートフィルタ23への流入排気ガス量が一定に維持されているときの、パティキュレートフィルタ23の隔壁72、酸化触媒80aの層80及びNOx選択還元触媒81aの層81のような多孔性部材の細孔径dMP(平均径)と、多孔性部材の粒子状物質通過率RPとの関係の一例を示している。ここで、粒子状物質通過率RPは多孔性部材に流入した粒子状物質の量に対する多孔性部材から流出した粒子状物質の量の比を表している。図4からわかるように、多孔性部材の細孔径dMPが大きくなるにつれて粒子状物質通過率RPは高くなる。また、細孔径dMPが第1の細孔径dMPAよりも小さいと粒子状物質通過率RPはあらかじめ定められた第1の通過率RPAよりも低くなり、細孔径dMPが第1の細孔径dMPAよりも大きいと粒子状物質通過率RPは第1の通過率RPAよりも高くなる。更に、細孔径dMPが第2の細孔径dMPS(>dMPA)よりも小さいと粒子状物質通過率RPは第2の通過率RPS(>RPA)よりも低くなり、細孔径dMPが第2の細孔径dMPSよりも大きいと粒子状物質通過率RPは第2の通過率RPSよりも高くなる。なお、本発明による実施例では、細孔径(平均径)は水銀圧入法により得られた細孔径分布のメディアン径(50%径)を意味する。
図4に示される例では、第1の細孔径dMPAは25μm程度であり、第1の通過率RPAは10パーセント程度である。また、第2の細孔径dMPSは35μm程度であり、第2の通過率RPSは90パーセント程度である。すなわち、多孔質部材の細孔径が第1の細孔径dMPAよりも小さいと、粒子状物質の大部分が多孔質部材に捕集され、多孔質部材の細孔径が第2の細孔径dMPSよりも大きいと、粒子状物質の大部分が多孔質部材を通過する。
本発明による実施例では、パティキュレートフィルタ23の隔壁72の細孔径は第1の細孔径dMPAよりも小さく、したがって隔壁72の粒子状物質通過率は第1の通過率RPAよりも低い。具体的には、隔壁72の細孔径は20μm以下、好ましくは10から20μm程度である。
また、本発明による実施例では、酸化触媒80aの層80の細孔径は隔壁72の細孔径とほぼ同じであり、したがって酸化触媒80aの層80の粒子状物質通過率は隔壁72の粒子状物質通過率とほぼ同じである。すなわち、酸化触媒80aの層80の細孔径は第1の細孔径dMPAよりも小さく、したがって酸化触媒80aの層80の粒子状物質通過率は第1の通過率RPAよりも低い。具体的には、酸化触媒80aの層80の細孔径は20μm以下、好ましくは10から20μm程度である。図示しない別の実施例では、酸化触媒80aの層80の細孔径は隔壁72の細孔径よりも小さい。図示しない更に別の実施例では、酸化触媒80aの層80の細孔径は隔壁72の細孔径よりも大きくかつ第1の細孔径dMPAよりも小さい。図示しない更に別の実施例では、酸化触媒80aの層80の細孔径は第1の細孔径dMPAよりも大きい。
本発明による実施例では更に、NOx選択還元触媒81aの層81の細孔径は第1の細孔径dMPAよりも大きく、したがってNOx選択還元触媒81aの層81の粒子状物質通過率は第1の通過率RPAよりも高い。言い換えると、NOx選択還元触媒81aの層81の細孔径は隔壁72及び酸化触媒80aの層80の細孔径よりも大きく、したがってNOx選択還元触媒81aの層81の粒子状物質通過率は隔壁72及び酸化触媒80aの層80の粒子状物質通過率よりも高い。特に、NOx選択還元触媒81aの層81の細孔径は第2の細孔径dMPSよりも大きく、したがってNOx選択還元触媒81aの層81の粒子状物質通過率は第2の通過率RPSよりも高い。具体的には、NOx選択還元触媒81aの層81の細孔径は40μm以上、好ましくは40μm程度である。
したがって、概略的に言うと、粒子状物質がほとんど通過できないように隔壁72及び酸化触媒80aの層80の細孔径が設定され、粒子状物質がほとんど通過できるようにNOx選択還元触媒81aの層81の細孔径が設定される、ということになる。
さて、図1に示される内燃機関では酸素過剰のもとで燃焼が行われており、排気ガス中には過剰酸素が含まれている。過剰酸素を含んでいる排気ガス中に尿素水溶液を供給すると排気ガス中に含まれるNOはNOx選択還元触媒81a上において尿素CO(NHから発生するアンモニアNHにより還元される(例えば2NH+2NO+(1/2)O→2N+3HO)。
すなわち、供給された尿素水溶液中の尿素はまずNOx選択還元触媒81a上に付着する。このときNOx選択還元触媒81aの温度が例えばほぼ350℃以上のように高ければ尿素が一気に熱分解してアンモニアが発生される。
一方、NOx選択還元触媒81aの温度がほぼ132℃からほぼ350℃までのときには尿素がNOx選択還元触媒81a内にいったん貯蔵され、次いでNOx選択還元触媒81a内に貯蔵されている尿素からアンモニアが少しずつ発生され放出される。この場合のアンモニア発生はNOx選択還元触媒81a上において尿素が形態変化するためであると考えられている。すなわち、尿素はほぼ132℃においてビウレットに変化し、ビウレットはほぼ190℃においてシアヌル酸に変化し、シアヌル酸はほぼ360℃においてシアン酸又はイソシアン酸に変化する。あるいは、NOx選択還元触媒81a内に貯蔵されてからの経過時間が長くなるにつれて尿素はビウレットに変化し、ビウレットはシアヌル酸に変化し、シアヌル酸はシアン酸又はイソシアン酸に変化する。このような形態変化の過程で少しずつアンモニアが発生するものと考えられている。
NOx選択還元触媒81aの温度が尿素の熱分解温度であるほぼ132℃以下のときにNOx選択還元触媒81aに尿素水溶液を供給すると尿素水溶液中の尿素はNOx選択還元触媒81a内に貯蔵され、このとき貯蔵された尿素からはアンモニアはほとんど発生しない。しかしながら、その後に例えば機関加速運転が行われてNOx選択還元触媒81aの温度が高くなると、NOx選択還元触媒81a内に貯蔵されている尿素からアンモニアが少しずつ発生され放出される。
すなわち、NOx選択還元触媒81aでは、尿素が熱分解するか又はNOx選択還元触媒81a内にいったん貯蔵された後に形態変化することによってアンモニアが発生し、発生したアンモニアによりNOxが還元される。本発明による実施例では、このようにしてNOx選択還元触媒81aで発生されるアンモニアの量がNOx選択還元触媒81a内に流入するNOx量の全量を還元するのに必要な量にほぼ一致するように、添加弁24から尿素水溶液が供給される。
本発明による実施例では上述したように、酸化触媒80aの層80がNOx選択還元触媒81aの層81の下流に配置される。その結果、図5にRで示される尿素ないしアンモニアが酸化触媒80aにより酸化ないし消費されることなく、確実にNOx選択還元触媒81aに到達する。したがって、NOx選択還元触媒81aによりNOxを確実に浄化することができる。
一方、排気ガス中に含まれる粒子状物質はパティキュレートフィルタ23上に捕集される。本発明による実施例では上述したように、粒子状物質がほとんど通過できるようにNOx選択還元触媒81aの層81の細孔径が設定されている。その結果、図5にPで示される粒子状物質の大部分はNOx選択還元触媒81aの層81を通過する。したがって、NOx選択還元触媒81aの層81が粒子状物質により覆われるのが抑制され、NOx選択還元触媒81aの還元作用が粒子状物質により阻害されるのが抑制される。すなわち、NOx選択還元触媒81aの層81が粒子状物質により覆われると、尿素ないしアンモニアとNOxとがNOx選択還元触媒81aに接触するのが困難となり、NOxが還元されるのが困難になる。本発明による実施例では、尿素ないしアンモニアとNOxとがNOx選択還元触媒81aに確実に接触できる。
また、本発明による実施例では、これも上述したように、粒子状物質がほとんど通過できないように隔壁72及び酸化触媒80aの層80の細孔径が設定されている。その結果、図5にPで示される粒子状物質の大部分は酸化触媒80aの層80のNOx選択還元触媒81a側の表面又は細孔内に捕集される。粒子状物質が酸化触媒80aの層80を通過したとしても、粒子状物質は隔壁72の酸化触媒80a側の表面又は細孔内に捕集される。次いで、パティキュレートフィルタ23の温度が高くなると、粒子状物質は酸化触媒80aにより酸化除去される。したがって、粒子状物質が確実に捕集され、確実に酸化除去される。
図6は本発明による別の実施例を示している。図6を参照すると、パティキュレートフィルタ23は、NOx選択還元触媒81aの層81とは異なる別のNOx選択還元触媒82aの層82を更に備えている。別のNOx選択還元触媒82aとして、NOx選択還元触媒81aと同様に、チタニアTiOからなる担体上に酸化バナジウムVを担持した触媒、又は、ゼオライトZSM5からなる担体上に銅Cuを担持した触媒が用いられる。
図6に示される実施例では、別のNOx選択還元触媒82aの層82は、酸化触媒80aの層80と隔壁72の排気ガス流入通路71i側の表面72iとの間に配置される。すなわち、別のNOx選択還元触媒82aの層82は、排気ガス流入通路71iから隔壁72を介し排気ガス流出通路71oに到る排気ガス流れに関し、別のNOx選択還元触媒82aの層82は酸化触媒80aの層80の下流側でかつ隔壁72の上流側に配置される。図示しない別の実施例では、別のNOx選択還元触媒82aの層82は隔壁72の排気ガス流出通路71o側の表面上、すなわち隔壁72の下流側に配置される。
酸化触媒80aの温度、NOx選択還元触媒81aの温度、別のNOx選択還元触媒82aの温度、及び、パティキュレートフィルタ23の温度はほぼ同一であるのでこれを触媒温度と称すると、NOx選択還元触媒81aのNOx還元率は触媒温度に応じて変動する。また、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元率も触媒温度に応じて変動する。なお、NOx還元率は、NOx選択還元触媒81a又は別のNOx選択還元触媒82aに流入したNOxの量に対するNOx選択還元触媒81a又は別のNOx選択還元触媒82aにより還元されたNOxの量の比である。NOx選択還元触媒81aのNOx還元率があらかじめ定められた目標NOx還元率よりも高い触媒温度範囲をNOx選択還元触媒81aのNOx還元ウィンドウと称し、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元率が目標NOx還元率よりも高い触媒温度範囲を別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウと称すると、本発明による別の実施例では、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウがNOx選択還元触媒81aのNOx還元ウィンドウよりも低温側にある。
すなわち、図7に示されるように、NOx選択還元触媒81aのNOx還元率RR1は、触媒温度が下限温度TR1Lから上限温度TR1Uまでであると、目標NOx還元率RRTよりも高くなる。したがって、NOx選択還元触媒81aのNOx還元ウィンドウWR1は下限温度TR1Lから上限温度TR1Uまでである。一方、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元率RR2は、触媒温度が下限温度TR2Lから上限温度TR2Uまでであると、目標NOx還元率RRTよりも高くなる。したがって、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2は下限温度TR2Lから上限温度TR2Uまでである。この場合、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2の下限温度TR2LはNOx選択還元触媒81aのNOx還元ウィンドウWR1の下限温度TR1Lよりも低く、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2の上限温度TR2UはNOx選択還元触媒81aのNOx還元ウィンドウWR1の上限温度TR1Uよりも低い。したがって、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2はNOx選択還元触媒81aのNOx還元ウィンドウWR1よりも低温側にある。なお、図7に示される例では、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2の上限温度TR2UはNOx選択還元触媒81aのNOx還元ウィンドウWR1の下限温度TR1Lよりも高い。図示しない別の実施例では、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2の上限温度TR2UはNOx選択還元触媒81aのNOx還元ウィンドウWR1の下限温度TR1Lよりも低い。
一方、酸化触媒80aの還元剤酸化率も触媒温度に応じて変動する。なお、還元剤酸化率は、酸化触媒80aに流入した還元剤又は還元剤発生物の量に対する酸化触媒80aにより酸化された還元剤の量の比である。酸化触媒80aの還元剤酸化率があらかじめ定められた設定酸化率よりも高い触媒温度範囲を酸化触媒80aの還元剤還元ウィンドウと称すると、本発明による別の実施例では、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2が酸化触媒80aの還元剤酸化ウィンドウよりも低温側にある。
すなわち、図7に示されるように、酸化触媒80aの還元剤酸化率ROXは、触媒温度が下限温度TOXLよりも高いと、設定還元剤酸化率ROXAよりも高くなる。したがって、酸化触媒80aの還元剤酸化ウィンドウWOXは下限温度TOXLよりも高い温度範囲である。この場合、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2の下限温度TR2Lは酸化触媒80aの還元剤酸化ウィンドウWOXの下限温度TOXLよりも低く、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2の上限温度TR2Uも酸化触媒80aの還元剤酸化ウィンドウWOXの下限温度TOXLよりも低い。したがって、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2は酸化触媒80aの還元剤酸化ウィンドウWOXよりも低温側にある。なお、図示しない別の実施例では、別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2の上限温度TR2Uは酸化触媒80aの還元剤酸化ウィンドウWOXの下限温度TOXLよりも高い。
また、本発明による別の実施例では、別のNOx選択還元触媒82aの層82の細孔径は酸化触媒80aの層80の細孔径とほぼ同じであり、したがって別のNOx選択還元触媒82aの粒子状物質通過率は酸化触媒80aの層80の粒子状物質通過率とほぼ同じである。すなわち、別のNOx選択還元触媒82aの層82の細孔径は第1の細孔径dMPAよりも小さく、したがって別のNOx選択還元触媒82aの層82の粒子状物質通過率は第1の通過率RPAよりも低い。具体的には、別のNOx選択還元触媒82aの層82の細孔径は20μm以下、好ましくは10から20μm程度である。図示しない別の実施例では、別のNOx選択還元触媒82aの層82の細孔径は酸化触媒80aの層80の細孔径よりも大きく、例えばNOx選択還元触媒81aの層81の細孔径とほぼ同じである。図示しない更に別の実施例では、別のNOx選択還元触媒82aの層82の細孔径は酸化触媒80aの層80の細孔径よりも小さい。
このようにすると、触媒温度が低いときにもNOxを確実に還元することができる。すなわち、例えば別のNOx選択還元触媒82aのNOx還元ウィンドウWR2において、尿素ないしアンモニアの一部は、NOx選択還元触媒81aでNOx還元のために用いられず、酸化触媒80aの層80において酸化ないし消費されず、したがって別のNOx選択還元触媒82aの層82に到達する。したがって、別のNOx選択還元触媒82aにおいて、NOxはアンモニアにより良好に還元される。
また、本発明による別の実施例では上述したように、別のNOx選択還元触媒82aの層82が設けられるので、図3に示される実施例に比べて、NOx選択還元触媒81aの層81を薄くすることができる。その結果、粒子状物質が酸化触媒80aの層80に到達しやすくなる。
また、上述したように別のNOx選択還元触媒82aの層82の粒子状物質通過率は第1の通過率RPAよりも低いので、酸化触媒80aの層80を通過した粒子状物質は、別のNOx選択還元触媒82aの層82の酸化触媒80a側の表面上に捕集されうる。したがって、粒子状物質がより確実に酸化除去される。
1 機関本体
21 排気管
23 パティキュレートフィルタ
24 添加弁
71i 排気ガス流入通路
71o 排気ガス流出通路
72 隔壁
80 酸化触媒の層
81 NOx選択還元触媒の層
82 別のNOx選択還元触媒の層

Claims (11)

  1. 排気ガス中に含まれる粒子状物質を捕集するためのパティキュレートフィルタを機関排気通路内に配置し、前記パティキュレートフィルタは、交互に配置された排気ガス流入通路及び排気ガス流出通路と、これら排気ガス流入通路及び排気ガス流出通路を互いに隔てる多孔性の隔壁とを備え、前記排気ガス流入通路内に流入した排気ガスが前記隔壁を通って前記排気ガス流出通路内に流出する、内燃機関の排気浄化装置において、前記パティキュレートフィルタが更に、粒子状物質通過率があらかじめ定められた第1の通過率よりも高いNOx選択還元触媒の層と、粒子状物質通過率が前記第1の通過率よりも低い酸化触媒の層と、を有し、前記隔壁の前記排気ガス流入通路側の表面上において、前記排気ガス流入通路から前記隔壁を介し前記排気ガス流出通路に到る排気ガス流れに関し、下流側に前記酸化触媒の層を配置すると共に、最も上流側に前記NOx選択還元触媒の層を配置した、内燃機関の排気浄化装置。
  2. 前記酸化触媒の層の粒子状物質通過率は前記隔壁の粒子状物質通過率とほぼ同じである、請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  3. 前記NOx選択還元触媒の層の粒子状物質通過率は前記第1の通過率よりも高い第2の通過率よりも高い、請求項1又は2に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  4. 前記パティキュレートフィルタに還元剤又は還元剤発生物を供給する添加弁が設けられ、前記NOx選択還元触媒は、前記添加弁から供給された前記還元剤を用いてNOxを還元するか、又は、前記添加弁から供給された前記還元剤発生物から還元剤を発生すると共に前記還元剤によりNOxを還元する、請求項1から3までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  5. 前記還元剤発生物がアンモニア発生化合物から構成され、前記NOx選択還元触媒が、酸素過剰のもとでアンモニアにより排気ガス中のNOxを還元する触媒であって前記触媒に供給されたアンモニア発生化合物の少なくとも一部を前記触媒内に貯蔵すると共に前記触媒内に貯蔵されているアンモニア発生化合物からアンモニアを生成して前記アンモニアにより排気ガス中のNOxを還元する機能を有する触媒から構成される、請求項4に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  6. 前記パティキュレートフィルタが前記NOx選択還元触媒の層とは異なる別のNOx選択還元触媒の層を更に有し、前記別のNOx選択還元触媒の層が前記酸化触媒の層の下流側に配置され、前記別のNOx選択還元触媒のNOx還元ウィンドウが、前記NOx選択還元触媒のNOx還元ウィンドウよりも低温側にあると共に、前記酸化触媒の還元剤酸化ウィンドウよりも低温側にある、請求項1から5までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  7. 前記別のNOx選択還元触媒の層が前記酸化触媒の層と前記隔壁の前記排気ガス流入通路側の表面との間に配置される、請求項6に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  8. 前記別のNOx選択還元触媒の層の粒子状物質通過率が前記第1の通過率よりも低い、請求項7に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  9. 前記別のNOx選択還元触媒の層の細孔径が20μm以下である、請求項8に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  10. 前記NOx選択還元触媒の層の細孔径が40μm以上である、請求項1から9までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  11. 前記酸化触媒の層の細孔径が20μm以下である、請求項1から10までのいずれか一項に記載の内燃機関の排気浄化装置。
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