JP6026842B2 - 水処理装置の洗浄方法 - Google Patents
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Description
以上の方法により、ろ過層、砂利支持床、気液分配装置等の洗浄は概ね良好に行われるが、原水に沈降速度の大きなSS(例えば沈降速度が0.9m/分以上のもの)が含まれている場合には、SSが装置内部に滞留し、排出できない。また、水処理装置内部の液流は必ずしも均一ではないことから、局部的にSSが残留し、それらが堆積して装置性能を低下させることがある。
V1<(L/T1)
(式中、V1はフラッシング速度(m/分)、Lは粒子層の静止界面から排水ラインまでの距離(m)、T1はフラッシング時間(分)である。)
を満たすように設定することを特徴とする洗浄方法が提供される。
フラッシング速度は、前記粒子層の最小流動化速度Vfよりも小さく設定することが更に好ましい。
図1は、本発明の洗浄方法を適用することができる水処理装置で、原水通水方向が下向流の一例を示す概略説明図である。図1において、砂ろ過塔1は、底部に洗浄水供給ライン5、洗浄空気供給ライン6及びドレンライン7が接続されている集水部4を具備し、集水部4の上に粒子層(支持床3及びろ過層2)を設け、ろ過層2の静止界面から距離Lを隔てて排水ライン8を設け、装置上部に原水供給ライン9が接続されている。粒子層は、ろ過層2及び支持床(支持砂利層)3からなる。支持床3は、粒径の異なる粒子を複数層積層させてなる。図示した形態は、支持床3下部から、粒径12-20mmの砂利層3a、粒径8-12mmの砂利層3b、粒径4-8mmの砂利層3c、粒径2-4mmの砂利層3dの4層構造からなる。各砂利層の層高は50mmである。ろ過層2は、有効径0.6mm、均等係数1.4のろ過砂を高さ600mmに積層させてなる。ろ過層2の静止界面から500mm高い位置(L=500mm)に排水ライン8を設けている。集水部4は、気液分配装置(例えば水ing株式会社製商品名「トリラテラル」)である。
2:ろ過層(600mm)
3:支持砂利層(4層合計200mm)
4:集水部(気液分配装置)
5:洗浄水供給ライン
6:洗浄空気供給ライン
7:ドレンライン
8:排水ライン
9:原水供給ライン
Claims (3)
- 装置底部に洗浄水供給ライン、洗浄空気供給ライン及びドレンラインが接続されている集水部を具備し、当該集水部の上に支持床及びろ過層からなる粒子層を設け、当該ろ過層の静止界面から距離Lを隔てて排水ラインを設けてなる水処理装置の洗浄方法であって、水洗による逆洗の前に、当該逆洗の水洗速度よりも大きな速度にて水による逆洗であるフラッシングを行い、フラッシング速度は支持床の最小流動化速度V f よりも小さく且つ下記式:
V1<L/T1
(式中、V1はフラッシング速度(m/分)、Lはろ過層の静止界面から排水ラインまでの距離(m)、T1はフラッシング時間(分)である。)
を満たすように設定することを特徴とする洗浄方法。 - フラッシング後の水洗速度は、0.9m/分以下である、請求項1に記載の洗浄方法。
- 水処理装置からドレン水抜きを行った後、前記ろ過層に水を圧送して洗浄し、次いで前記条件でのフラッシングを行い、再び前記ろ過層に水を圧送して洗浄し、その後、前記水洗による逆洗を行う、請求項1又は2に記載の洗浄方法。
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