JP6012245B2 - 粒子線回転照射装置 - Google Patents
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Description
器を設置するため十分なスペースを確保することが望まれている。特許文献1の図6の回転ガントリを、特許文献1の第1の回転ガントリと区別するために、特許文献1の第2の回転ガントリと呼ぶことにする。
図1は本発明による粒子線回転照射装置を示す斜視図であり、図2は本発明による粒子線回転照射装置を示す側面図である。図3は本発明による粒子線回転照射装置を示す正面図であり、図4は本発明による粒子線回転照射装置の上面図である。粒子線回転照射装置30は、アイソセンタ(回転軸1とビーム照射軸5の交点であり、照射目標の基準である)の周りを回転する回転部20と、回転部20を回転可能に支持する回転部支持ベース25とを備える。回転部20は、荷電粒子ビーム18を輸送するビーム輸送部2と、荷電粒子ビーム18を照射対象27に照射する照射ノズル4と、ビーム輸送部2を支持するビーム輸送部支持ベース13と、ビーム輸送部支持ベース13に搭載されてビーム輸送部2と重量バランスをとるためのカウンターウェイト10を備える。
の重心から重力が働く方向に延伸して配置することができる。すなわち、支持架台12を回転部20の真下に配置することができる。このような柱を有する支持架台12は、構造がシンプル(簡略)であり、小型にできる。
する回転部支持ベース25を備え、回転部20は、ビーム輸送部2を支持すると共に照射ノズル4を回転部20の前面側にて支持するビーム輸送部支持ベース13を有し、回転部支持ベース25は、回転部20の重心から重力が働く方向に延伸して配置された支持架台12を有し、ビーム輸送部2は、回転部20の回転軸1に沿って入射される荷電粒子ビーム18を一旦外周側へ偏向し、その後回転軸の方向に偏向して照射ノズル4へ輸送する複数の偏向電磁石3を有し、ビーム輸送部2の最下流側の偏向電磁石3cは、そのビーム入射軸14が回転軸1及び照射ノズル4のビーム照射軸5を含む平面を斜めに通過するように配置されたので、ビーム輸送部2の最下流側の偏向電磁石3cを回転軸1及び照射ノズル4のビーム照射軸5を含む平面に対して斜めに配置することで、回転部20の重心から重力が働く方向に延伸して支持架台12を配置でき、粒子線治療のスループットを向上することができ、かつ回転部支持構造を小型にできる。
Claims (5)
- 加速器により加速された荷電粒子ビームを、アイソセンタを中心にした複数の角度方向から照射する粒子線回転照射装置であって、
前記荷電粒子ビームを照射する照射ノズル及び前記荷電粒子ビームを前記照射ノズルへ輸送するビーム輸送部を有し、前記アイソセンタを中心に回転可能な回転部と、前記回転部を回転可能に支持する回転部支持ベースを備え、
前記回転部は、前記ビーム輸送部を支持すると共に前記照射ノズルを前記回転部の前面側にて支持するビーム輸送部支持ベースを有し、
前記回転部支持ベースは、前記回転部の重心から重力が働く方向に延伸して配置された支持架台を有し、
前記ビーム輸送部は、前記回転部の回転軸に沿って入射される前記荷電粒子ビームを一旦外周側へ偏向し、その後前記回転軸の方向に偏向して前記照射ノズルへ輸送する複数の偏向電磁石を有し、
前記ビーム輸送部の最下流側の偏向電磁石は、そのビーム入射軸が前記回転軸及び前記照射ノズルのビーム照射軸を含む平面を斜めに通過するように配置されたことを特徴とする粒子線回転照射装置。 - 前記ビーム輸送部支持ベースは、前記回転部の前面側に配置されたフロント支持部と、前記回転部の背面側に配置されたリア支持部を備え、
前記フロント支持部は、前記照射ノズル及び前記最下流側の偏向電磁石を前記回転部の前面側にて支持し、
前記リア支持部は、前記最下流側の偏向電磁石の方向へ前記荷電粒子ビームを偏向する中間偏向電磁石を支持したことを特徴とする請求項1記載の粒子線回転照射装置。 - 前記回転部は、前記フロント支持部と前記リア支持部との間に配置され、前記回転部支持ベースに回転可能に支持される回転摺動部を有し、
前記回転部支持ベースは、前記回転摺動部を回転可能に支持する軸受部を有することを特徴とする請求項2記載の粒子線回転照射装置。 - 前記ビーム輸送部は、最上流側の偏向電磁石が前記回転摺動部の径方向の開口部を通過
するように配置されたことを特徴とする請求項3記載の粒子線回転照射装置。 - 前記ビーム輸送部支持ベースは、前記フロント支持部と前記リア支持部を接続する接続部材を有し、前記接続部材は、前記回転軸に対して前記中間偏向電磁石の側に配置されたことを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の粒子線回転照射装置。
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