JP6011850B2 - 画像表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、画像表示装置に係り、更に詳しくは、レーザ光により被走査面を走査して画像を表示する画像表示装置に関する。

特許文献１には、レーザ光によって被走査面を互いに直交する２つの走査方向に走査して画像を表示する２次元画像表示装置が開示されている。

この２次元画像表示装置では、光源から射出されたレーザ光を、ビーム振動手段で微小振動させて、光走査手段でスクリーン上に導くことで、被走査面上にスペックルノイズが発生することを抑制している。

しかしながら、近年、表示される画像に要求される画像品質の水準が高くなっており、特許文献１に開示されている２次元画像表示装置では、要求水準からの画像品質の向上を図ることが困難であった。

本発明は、レーザ光により被走査面を互いに直交する第１及び第２の走査方向に走査して画像を表示する画像表示装置であって、レーザ光を射出する少なくとも１つの光源を含む光源装置と、前記光源装置からのレーザ光の光路上に配置され、該レーザ光に、時系列的に異なる、少なくとも前記第１及び第２の走査方向の一方に対応する方向の位相分布を付与する位相分布付与手段と、前記位相分布付与手段を介したレーザ光により前記被走査面を前記第１及び第２の走査方向に走査する光走査手段と、を備え、前記位相分布付与手段は、前記第１及び第２の走査方向の一方に対応する方向に並ぶ、入射されるレーザ光の進行方向に関する光学的距離が互いに異なる複数の領域を有する光学素子と、前記光源装置と前記光学素子との間のレーザ光の光路上に配置され、前記光源装置からのレーザ光を、前記光学素子の前記第１及び第２の走査方向の一方に対応する方向の異なる位置に入射するように偏向する光偏向素子と、を有することを特徴とする画像表示装置である。

本発明によれば、画像品質の向上を図ることができる。

本発明の一実施形態に係るプロジェクタ装置の概略的構成を示す図である。 光偏向素子を説明するための図である。 位相分布付与構造素子を説明するための図である。 位相分布付与手段の動作を説明するための図である。 光走査手段を説明するための図である。 図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、第１の比較例における光走査手段の動作を説明するための図（その１及びその２）である。 図７（Ａ）〜図７（Ｃ）は、一実施形態における光走査手段、光偏向素子の動作を説明するための図（その１〜その３）である。 図８（Ａ）及び図８（Ｂ）は、第２の比較例における光走査手段の動作を説明するための図（その１及びその２）である。 図９（Ａ）〜図９（Ｄ）は、第１の変形例における光走査手段、光偏向素子の動作を説明するための図（その１〜その４）である。 第２の変形例の光走査手段を説明するための図である。

以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図７に基づいて説明する。図１には、第１の実施形態に係る画像表示装置としてのプロジェクタ装置１０の概略構成が示されている。

プロジェクタ装置１０は、一例として、水平面（ＸＹ平面）と平行な床上に設置された設置台の上面上（若しくは床上）に載置されて使用される。

プロジェクタ装置１０は、一例として、光源装置１５、位相分布付与手段２５、光走査手段４０及びこれらを収容する筐体１２などを備えている。

光源装置１５は、一例として、３つのレーザダイオードＬＤ１〜ＬＤ３、３つのコリメートレンズＣＲ１〜ＣＲ３、３つのダイクロイックミラーＤＭ１〜ＤＭ３などを含む。

レーザダイオードＬＤ１は、一例として、赤色レーザであり、赤色光（波長６４０ｎｍ）を−Ｘ方向に射出するように配置されている。

レーザダイオードＬＤ２は、一例として、青色レーザであり、青色光（波長４５０ｎｍ）を−Ｘ方向に射出するように、レーザダイオードＬＤ１の＋Ｚ側に配置されている。

レーザダイオードＬＤ３は、一例として、緑色レーザであり、緑色光（波長５２０ｎｍ）を−Ｘ方向に射出するように、レーザダイオードＬＤ２の＋Ｚ側に配置されている。

各レーザダイオードは、ＬＤ制御回路５０によって制御される。

コリメートレンズＣＲ１は、一例として、レーザダイオードＬＤ１の−Ｘ側に配置されており、レーザダイオードＬＤ１から射出された赤色光を略平行光とする。

コリメートレンズＣＲ２は、一例として、レーザダイオードＬＤ２の−Ｘ側に配置されており、レーザダイオードＬＤ２から射出された青色光を略平行光とする。

コリメートレンズＣＲ３は、一例として、レーザダイオードＬＤ３の−Ｘ側に配置されており、レーザダイオードＬＤ３から射出された緑色光を略平行光とする。

３つのダイクロイックミラーＤＭ１〜ＤＭ３は、それぞれ、例えば誘電体多層膜などの薄膜から成り、特定の波長の光を反射し、それ以外の波長の光を透過させる。

ダイクロイックミラーＤＭ１は、一例として、コリメートレンズＣＲ１の−Ｘ側に、Ｘ軸及びＹ軸に対して例えば４５°傾斜して配置されており、コリメートレンズＣＲ１を介した赤色光を＋Ｚ方向に反射させる。

ダイクロイックミラーＤＭ２は、一例として、ダイクロイックミラーＤＭ１の＋Ｚ側、かつコリメートレンズＣＲ２の−Ｘ側に、Ｘ軸及びＹ軸に対して例えば４５°傾斜して配置されており、ダイクロイックミラーＤＭ１を介した赤色光を＋Ｚ方向に透過させ、コリメートレンズＣＲ２を介した青色光を＋Ｚ方向に反射させる。

なお、ダイクロイックミラーＤＭ１を介した赤色光及びコリメートレンズＣＲ２を介した青色光は、それぞれダイクロイックミラーＤＭ２の中央付近に入射する。

ダイクロイックミラーＤＭ３は、一例として、ダイクロイックミラーＤＭ２の＋Ｚ側かつコリメートレンズＣＲ３の−Ｘ側に、Ｘ軸及びＹ軸に対して例えば４５°傾斜して配置されており、ダイクロイックミラーＤＭ２を介した赤色光及び青色光を＋Ｚ方向に透過させ、コリメートレンズＣＲ３を介した緑色光を＋Ｚ方向に反射させる。

なお、ダイクロイックミラーＤＭ２を介した赤色光及び青色光、並びにコリメートレンズＣＲ３を介した緑色光は、それぞれダイクロイックミラーＤＭ３の中央付近に入射する。

ダイクロイックミラーＤＭ３を介した３つの光（赤色光、青色光及び緑色光）は、１つの光に合成される。この場合、３つのレーザダイオードＬＤ１〜ＬＤ３の発光強度の強弱のバランスにより、合成された光の色が表現されようになっている。

結果として、光源装置１５は、３つのレーザダイオードＬＤ１〜ＬＤ３からの３つのレーザ光が合成されてなるレーザ光（合成光）を＋Ｚ方向に射出する。

位相分布付与手段２５は、一例として、光偏向素子２０、位相分布付与構造素子３０などを有する。

光偏向素子２０は、ダイクロイックミラーＤＭ３からのレーザ光（合成光）をＸ軸方向に偏向させる。

詳述すると、光偏向素子２０は、ダイクロイックミラーＤＭ３の＋Ｚ側に配置されている。光偏向素子２０は、電気光学効果を有する強誘電体結晶からなり、電圧が印加されることにより屈折率が変化する。

詳述すると、光偏向素子２０には、一例として、強誘電体材料が部分的に分極反転されてなる複数のプリズム形状の分極反転部８８がＺ軸方向に並べて形成されている。光偏向素子２０では、分極反転方向の違いにより電圧印加時の屈折率変化量が異なるため、レーザ光をＸ軸方向に偏向させることができる。以下に、光偏向素子２０の構成を、詳細に説明する。

図２には、光偏向素子２０のＹＺ断面図が示されている。光偏向素子２０は、一例として、基板８１上に、接着層８２、下部電極層８３、下部クラッド層８４、レーザ光を通過させるコア層８５、上部クラッド層８６及び上部電極層８７がＹ軸方向に順次積層された積層体を含む。

ここで、下部電極層８３、下部クラッド層８４、コア層８５、上部クラッド層８６及び上部電極層８７は、光源装置１５からのレーザ光を通過させる薄膜導波路を構成している。

コア層８５には、一例として、薄膜導波路内でレーザ光を偏向させるための、上述した分極反転部８８が形成されている。

一例として、分極反転部８８が形成されるコア層８５の材料として、ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ_３）が用いられ、基板８１の材料として、熱膨張による影響を低減させるため、同様にＬｉＮｂＯ_３が用いられている。

薄膜導波路内でのレーザ光の偏向は、コア層８５に電圧を印加することによって行う。電圧印加時に、分極反転部８８と分極反転されていない領域との間に屈折率差が生じるため、薄膜導波路に入射されたレーザ光は、薄膜導波路内で偏向されることになる。

電圧印加されるコア層８５の材料としては、ニオブ酸リチウムの他、酸化マグネシウム添加ニオブ酸リチウム、ニオブ酸タンタルなどを用いても同様の効果が得られる。

ここで、電圧による屈折率変化Δｎは、次の（１）式で与えられる。
Δｎ=−１/２×ｒ×ｎ^３×Ｖ/ｄ・・・（１）
なお、ｒは電気光学定数（ポッケルス定数）、ｎはコア層の材料の屈折率、Ｖは電圧、ｄはコア層の厚さである。

上記（１）式から分かるように、ｄを小さく、すなわちコア層８５を薄くすることで、薄膜導波路内での光偏向を低電圧で（低消費電力で）行うことができる。そこで、コア層８５は、一例として、約３０μｍの厚さに研磨されている。

また、コア層８５にレーザ光を導波させるための上部クラッド層８６及び下部クラッド層８４は、共に、膜厚が１μｍのＴａ_２Ｏ_５膜とされている。

また、コア層８５に電圧をかけるために形成される上部電極層８７及び下部電極層８３は、共に、膜厚が２００ｎｍのＴｉ膜とされている。

以上のように構成される光偏向素子２０では、上部電極層８７と下部電極層８３との間に電圧が印加されることにより、薄膜導波路内での光偏向を行うことができる。一例として、±１０Ｖの電圧印加により、結晶長１５ｍｍにおいて１．８ｍｒａｄの偏向角が得られた。

光偏向素子２０は、光偏向制御回路６０（図１参照）によって制御される。すなわち、光偏向素子２０は、光偏向制御回路６０から制御信号が出力されているときに光源装置１５からのレーザ光を偏向し、制御信号が出力されていないときに光源装置１５からのレーザ光を偏向することなく透過させる（直進させる）。光偏向素子２０の動作に関しては、後に詳述する。

以上説明したように、光偏向素子２０は、電気光学効果を有する強誘電体結晶の薄膜導波路内にＺ軸方向に並ぶ複数のプリズム形状の分極反転部８８が形成された構造を有している。光偏向素子２０に電圧が印加されると、電圧印加量に応じた屈折率変化が生じ、薄膜導波路内に入射したレーザ光がＸ軸方向に偏向される。光偏向素子２０は、このような機能を有するため、電圧印加パターンに応じた光偏向が可能となり、例えば、不連続な、任意の偏向動作も可能となる。

また、本実施形態では、印加電圧を下げるために光偏向素子２０の結晶厚を薄くし、強誘電体結晶の薄膜導波路内でレーザ光を伝搬させることとした。導波路構造を採用する場合、光偏向素子２０の前段又は後段にレーザ光を厚さ方向（Ｙ軸方向）に結合させ、射出されたレーザ光の形状を戻すためのカップリングレンズが必要になる。

また、電気光学効果を有する強誘電体結晶としては、上述したように、一例として、結晶厚３０μｍ、結晶長１５ｍｍのＬｉＮｂＯ_３が用いられており、レーザ光のビーム径が１ｍｍの場合、結晶厚さ方向（Ｙ軸方向）に±１０Ｖの電圧印加を行なうことにより１画素分の偏向角が得られる。なお、光偏向素子２０には波長が異なる３つのレーザ光が合成された１つの光（合成光）が入射されるが、偏向角の波長依存性は１０％以内であるため、特に、問題にはならない。

図１に戻り、位相分布付与構造素子３０は、一例として、光偏向素子２０の射出端から＋Ｚ側に５０ｍｍ程度離れた位置に配置されている。

位相分布付与構造素子３０は、レーザ光（合成光）を透過させる部材から成り、光偏向素子２０を介したレーザ光に、Ｘ軸方向の位相分布を付与する。ここで、「位相分布」とは、位相のばらつきを意味する。

詳述すると、位相分布付与構造素子３０は、図３に示されるように、射出面に、Ｘ軸方向に並ぶ複数の段付き凹部が形成されている。なお、図３では、２つの段付き凹部の間に１つの凹部が形成されている。すなわち、位相分布付与構造素子３０は、Ｘ軸方向に並ぶＺ軸方向の寸法（光学的距離）が互いに異なる複数の領域を有している。すなわち、位相差分布付与構造素子３０は、入射されるレーザ光の進行方向に関する光学的距離が互いに異なる複数の領域を有している。なお、位相分布付与構造素子３０は、Ｘ軸方向の位相分布に加えて、例えばＹ軸方向などのＸ軸方向以外の方向の位相分布を付与する構造を有していても良い。

この場合、光偏向素子２０からの波面が揃ったレーザ光は、位相分布付与構造素子３０を透過するとき、各領域の光学的距離に応じた位相で、すなわち波面が不揃いの（Ｘ軸方向に位相分布を有する）レーザ光として射出される。

ここで、図４に示されるように、光偏向素子２０によってＸ軸方向に偏向されたレーザ光は、位相分布付与構造素子３０の入射面のＸ軸方向の異なる位置に連続的に入射し、位相分布付与構造素子３０の射出面のＸ軸方向の異なる位置からＸ軸方向の異なる位相分布が付与された状態で連続的に射出される。

すなわち、光偏向素子２０による偏向により、位相分布付与構造素子３０から射出されるレーザ光のＸ軸方向の位相分布を時間的（時系列的）に変化させることができる。換言すると、光偏向素子２０による光偏向により、位相分布付与構造素子３０から異なるＸ軸方向の位相分布を有するレーザ光を順次（連続的に）射出することができる。

ここで、位相分布付与構造素子３０では、透過光にランダムな位相分布を付与するために、各領域のＺ軸方向の長さは、一例として、レーザ光のビーム径１ｍｍに対して、１０μｍ〜１００μｍ（例えば５０μｍ程度）とされている（図３参照）。

また、位相分布付与構造素子３０を透過することによるレーザ光の各領域間での位相のずれ量を十分に得るために、一例として、位相分布付与構造素子３０の射出面に形成されている段付き凹部の各段の深さが、最大４５０ｎｍの３段階とされている（図３参照）。

また、位相分布付与構造素子３０の材質は、各波長のレーザ光を透過させる材料であれば良い。なお、表面反射を抑えるために、位相分布付与構造素子３０の表面（例えば入射面）に無反射コート膜を形成することが好ましい。

このような位相分布付与構造素子３０をレーザ光が透過することにより、当初位相が揃っていた（位相分布がない）レーザ光にランダムなＸ軸方向の位相分布が付与されて射出されることになる。そのため、図４に示されるような光偏向角度によってＸ軸方向の位相分布が異なる射出光を得ることができる。

図１に戻り、光走査手段４０は、一例として、位相分布付与構造素子３０の＋Ｚ側に配置されており、位相分布付与構造素子３０を介したレーザ光を、スクリーンＳに向けて偏向することで、スクリーンＳ上を２次元走査する。なお、光走査手段４０で偏向されたレーザ光は、筐体１２に形成された射出窓からスクリーンＳに向けて射出される。

光走査手段４０としては、一例として、図５に示されるように、ＭＥＭＳミラーを含む２軸のスキャナが用いられている。このスキャナは、ＭＥＭＳミラーの各軸周りの振れ角を検出する角度検出器を有しており、該角度検出器は、ＭＥＭＳミラーの各軸周りの振れ角に応じた信号を、ミラー制御回路７０（図１参照）に出力する。ミラー制御回路７０は、ＭＥＭＳミラーの各軸周りの振れ角に応じた信号を、ＬＤ制御回路５０に出力する。

そして、ＬＤ制御回路５０から各レーザダイオードにＭＥＭＳミラーの振れ角に合わせた画像信号が送られ、該レーザダイオードから画像信号に応じて強度変調されたレーザ光が射出される。光走査手段４０は、ミラー制御回路７０からの駆動信号に基づいてＭＥＭＳミラーを各軸周りに揺動させ、３つのレーザダイオードから射出され合成されたレーザ光をスクリーンＳに向けて主走査方向（Ｙ軸方向）及び副走査方向（Ｚ軸方向）に偏向して、スクリーンＳ上を主走査方向及び副走査方向に２次元走査する。以下では、主走査方向に対応する方向を主走査対応方向と称し、副走査方向に対応する方向を副走査対向方向と称する。

このようにして、各レーザダイオードに対する画像信号に応じた光強度変調と光走査手段４０による光走査とを同期させることにより、スクリーンＳ上に所望のカラー画像が表示される。

また、一例として、光走査手段４０の主走査方向の全走査角度は３０°、副走査方向の全走査角度は１０°に設定されている。

また、光走査手段４０は、主走査方向（Ｙ軸方向）に関して高速に光走査を行い、副走査方向（Ｚ軸方向）に関して低速に光走査を行なう。主走査方向は、ＭＥＭＳミラーの共振を利用した約２５ｋＨｚでの正弦波による光走査であり、副走査方向は、ＭＥＭＳミラー共振を利用しない約６０Ｈｚでの鋸波による光走査である。

そこで、スクリーン上の副走査方向の画素数を１００画素とすると、副走査方向の１画素分の走査時間は、約１６０μｓｅｃとなる。主走査方向の走査時間は、片側で約２０μｓｅｃとなるため、結果的に、副走査方向の１画素分の走査時間に、主走査方向の走査が８回程度行われることになる。

ここで、図６（Ａ）に示される第１の比較例のように、光走査手段（２軸のスキャナ）のＭＥＭＳミラーの角度変化のみによってスクリーン上を光走査すると、副走査方向の１画素分を走査している間に主走査方向の走査が複数回行なわれるため、走査位置が副走査方向に連続的にずれていくことになる。

本実施形態では、光偏向素子２０の動作を光走査手段４０の動作に組み合わせて、図７（Ａ）に示されるような動作とする。

具体的には、光走査手段４０が所定の速度で角度を変えて光走査するときに、光偏向素子２０は、レーザ光をスクリーンＳ上の各画素の副走査方向の中央に位置させた状態で主走査方向の走査が行われるように、副走査対応方向に関して、光走査手段４０の走査方向とは逆の方向に光偏向する。

つまり、光偏向素子２０は、光走査手段４０による副走査方向の１画素分の走査時間に、副走査対応方向に関して、光走査手段４０の走査方向とは逆方向に連続的に光偏向する。そして、光偏向素子２０は、光走査手段４０の走査角度が隣接する画素領域に進んだときには、レーザ光がその隣接する画素内の副走査方向の中央に位置するように、不連続な光偏向を行なう。

このようにスクリーンＳ上の各画素の副走査方向の中央にレーザ光を位置させるように不連続的にレーザ光を走査するために、光偏向素子２０は、図７（Ｃ）に示されるように、１周期が副走査方向の１画素分の走査時間となる鋸波となるような動作をする。このときの光走査手段４０の動作は、図７（Ｂ）のような時間変化をしており、これらの動作を組み合わせることで、スクリーンＳ上では、図７（Ａ）に示されるような各画素の副走査方向の中央をレーザ光が跳び跳びに移っていくような光走査を行うことができる。

すなわち、本実施形態では、副走査方向の１画素分の走査時間に、副走査方向の１画素領域の中央にレーザ光が重ね合わされるように光偏向素子２０を動作させる。光走査手段４０による副走査方向の１画素分の走査角度は、副走査方向の全走査角度（例えば１０°）と画素数（例えば１００画素）から、約１．８ｍｒａｄとなる。そして、光偏向素子２０は、光走査手段４０によるスクリーンＳ上での副走査方向の走査をキャンセルするように、光走査手段４０の副走査方向の１画素分の走査角度（約１．８ｍｒａｄ）だけ光偏向させる。

このような光走査がスクリーンＳ上で行なわれることにより、以下の作用・効果が得られる。上述したように、光走査手段４０と光偏向素子２０の動作が組み合わされて、スクリーンＳ上では、所定時間、各画素の副走査方向の中央で重ねて主走査方向に光走査されている。

詳述すると、光偏向素子２０による光偏向により、位相分布付与構造素子３０へのレーザ光の入射方向がＸ軸方向（副走査対応方向）にずれる。この結果、位相分布付与構造素子３０を透過したレーザ光のＸ軸方向の位相分布が副走査方向の１画素の走査時間内に変化する。１画素内でのレーザ光の位相分布の変化の速さは人間の目で認識できる速さを超えているため、１画素内でのレーザ光は、光偏向による副走査方向（Ｚ軸方向）の位相分布が変化した複数のレーザ光の重ね合わせとなる。結果として、１画素内で形成されるスペックルパターンが平均化されるため、観察者には均一な光として認識され、スペックルノイズの低減を実現することができる。

ここで、「スペックルノイズ」は、コヒーレント光であるレーザ光が例えばスクリーンなどに照射され、その反射光が干渉することによって発生する。

スペックルノイズの発生原理について、より詳しく説明する。例えばスクリーン、コンバイナなどの画像が投影される部材の表面（被投影面）は、完全な平面ではなく小さな凹凸が形成されている。被投影面に照射されたレーザ光は、被投影面上の凹凸において散乱（乱反射）されるが、散乱による各反射光の光路差が波長の整数倍となるところでは、干渉により光の強度が高くなる。一方、散乱による各反射光の光路長が半波長ずれたところでは、干渉により光の強度が低くなる。この場合、投影された画像に強度ムラが生じ、明暗の模様が見えたり、ギラギラして見えたりする。このようなコヒーレント光（レーザ光）に起因して発生する現象がスペックルノイズであり、結果として、画像品質が低下し、見るものに不快感を与える。

以上説明した本実施形態のプロジェクタ装置１０では、レーザ光を射出する３つのレーザダイオードＬＤ１〜ＬＤ３を含む光源装置１５と、該光源装置１５からのレーザ光の光路上に配置され、該レーザ光に、時系列的に異なる副走査対応方向の位相分布を付与する位相分布付与手段２５と、該位相分布付与手段２５を介したレーザ光によりスクリーンＳの被走査面を主走査方向及び副走査方向に走査する光走査手段４０と、を備えている。

この場合、異なる位相分布を有するレーザ光を被走査面上で連続的に反射させて干渉させることで、反射光の強度を平均化できるため、被走査面上に画像の強度ムラが発生すること、すなわちスペックルノイズが発生することを抑制できる。

ところで、特許文献１に開示されている２次元画像表示装置では、レーザ光源からのビームをビーム振動手段で微小振動させることで、スペックルパターンを高速に変化させ、観察者に時間平均されたスペックルノイズのない画像を認知させることとしている。詳述すると、この２次元画像表示装置では、ビーム振動手段によりビームが微小に振動され、被走査面上の異なる場所に次々にビームが照射されるため、散乱光により発生するスペックルパターンも変動する。そのため、人間の目にはノイズパターンが時間平均されるため、スペックルノイズが低減された画像表示が可能になる。

しかしながら、この２次元画像表示装置では、被走査面上で光スポットを高速にスポットサイズ（光スポットの大きさ）以上の距離移動させる必要がある。そこで、スポットサイズを画素サイズ程度とする場合には、スペックルノイズ低減のために光スポットを高速に画素サイズ程度移動させるため、画像がぼけてしまう。また、画素サイズをスポットサイズよりも大きくする場合には、画像がぼけることはないが、被走査面上で高画素（高解像度）での表示を行なうことが難しくなる。結果として、要求水準からの画像品質の向上を図ることが困難である。

一方、プロジェクタ装置１０では、スポットサイズを画素サイズ程度とする場合であっても、スペックルノイズ低減のために、被走査面上で光スポットを高速に画素サイズ程度移動させる必要はない。このため、画素サイズをスポットサイズよりも大きくする必要もない。結果として、要求水準からの画像品質の向上を図ることができる。

また、位相分布付与手段２５は、副走査対応方向（Ｘ軸方向）に並ぶ、入射位置と射出位置との光学的距離、すなわち入射されるレーザ光の進行方向に関する光学的距離が互いに異なる複数の領域を有する位相分布付与構造素子３０と、光源装置１５と位相分布付与構造素子３０との間のレーザ光の光路上に配置され、光源装置１５からのレーザ光を、位相分布付与構造素子３０の副走査対応方向の異なる位置に入射するように偏向する光偏向素子２０と、を有している。

この場合、機械的な可動部を設けることなく、レーザ光を位相分布付与構造素子３０の副走査対応方向の異なる箇所に順次（連続的に）入射させ、異なる副走査対応方向の位相分布を有する順次（連続的に）射出させることができる。この結果、振動の発生を抑制しつつ、スペックルノイズの発生を抑制でき、ひいては画像品質の更なる向上を図ることができる。

また、光偏向素子２０は、スクリーンＳの被走査面上に主走査方向に１列に並ぶ複数の画素を含む画素列を形成するために主走査方向に走査される複数のレーザ光が、前記画素列の副走査方向の中央（所定位置）に位置するように、光源装置１５からのレーザ光を偏向する。

この場合、副走査方向の１画素分の走査時間に位相分布付与構造素子３０から連続的に射出された異なる副走査対応方向の位相分布を有するレーザ光を全て重ね合わせることができるため、スペックルパターンの発生をより確実に抑制することができる。

また、位相分布付与構造素子３０は、射出面に、副走査対応方向に並ぶ複数の段付き凹部が形成されている。

この場合、例えば、プラスチック製の透明部材を加工して、入射位置と射出位置との間の光学的距離が互いに異なる複数の領域を容易に形成することができるため、位相分布付与構造素子３０の製造が容易となる。

また、プロジェクタ装置１０では、光源としてレーザダイオードを用いている。この場合、色域が拡大され、色再現性の向上が実現できる。また、光源としてランプなどを用いる場合と比べて、消費電力の大幅な低減、及び装置の小型化を図ることができる。

また、プロジェクタ装置１０は、精密な位置調整機構や機械的な駆動部を有していないため、装置の更なる小型化を図ることが可能である。

上記実施形態では、光偏向素子２０の偏向方向、及び位相分布付与構造素子３０における複数の段付き凹部の並び方向は、副走査対応方向（Ｘ軸方向）とされているが、これに代えて、例えば、主走査対応方向（Ｙ軸方向）とされても良い。すなわち、光偏向素子２０の動作を、光走査手段４０の主走査方向の動作と組み合わせても良い。

仮に、光偏向素子２０が設けられていない場合、若しくは光偏向素子２０による偏向を行なわない場合、図８（Ａ）に示される第２の比較例のように、レーザ光は、光走査手段４０の走査角度の変化によってスクリーン上を移動する。

光偏向素子２０の動作を光走査手段４０の主走査方向の動作と組み合わせると、図９（Ａ）に示される第１の変形例のような動作となる。

すなわち、光走査手段４０によって所定の速度で角度を変えて主走査方向に光走査を行なうときに、光偏向素子２０は、スクリーンＳ上の主走査方向の１画素内の中央に位置するように、主走査対向方向に関して、光走査手段４０の走査方向とは逆の方向にレーザ光を偏向させる。

つまり、光偏向素子２０は、光走査手段４０による主走査方向の１画素分の走査の間に、光走査手段４０の走査方向と逆方向に連続的に光偏向させ、光走査手段４０の主走査方向の走査角度が隣接する画素領域に進んだときに、その隣接する画素内の中央に位置させるために不連続な光偏向動作をする。

このようにスクリーンＳ上の各画素の主走査方向の中央にレーザ光を位置させるように不連続的にレーザ光を走査するために、光偏向素子２０に、図９（Ｃ）に示されるように、周期が主走査方向の１画素分の走査時間となる鋸波となるような動作をさせている。

このときの光走査手段４０の動作は、図９（Ｂ）に示されるような時間変化をしており、これらを組み合わせることで、スクリーンＳは、図９（Ａ）に示されるような主走査方向の各画素の中央をレーザ光が跳び跳びに移っていくように光走査される。つまりスクリーンＳ上の主走査方向のレーザ光の移動は、図９（Ｄ）に示されるような階段状になる。

第１の変形例では、上記実施形態の場合（光偏向素子２０が副走査対応方向に光偏向する場合）と同様に、光偏向素子２０によりレーザ光を、複数の段付き凹部がＹ軸方向に並ぶように配置された位相分布付与構造素子３０の主走査対応方向の異なる位置に連続的に入射させ、異なる主走査対応方向の位相分布を有するレーザ光を連続的に射出させる。これにより、スクリーンＳ上の各画素は複数の異なる主走査方向の位相分布を有するレーザ光の重ね合わせとなるため、スペックルパターンが平均化され、観察者には均一なスペックルノイズのない画像として認識される。なお、位相分布付与構造素子３０は、主走査対応方向（Ｙ軸方向）の位相分布に加えて、例えば主走査対応方向以外（例えば副走査対応方向（Ｘ軸方向））の位相分布を付与する構造を有していても良い。

また、第１変形例では、複数の段付き凹部は、Ｙ軸方向に並べて配置されているが、これに限らず、要は、ＸＹ平面内の一軸方向（但し、Ｘ軸方向を除く）に離間して配置されていれば良い。この場合、上記一軸方向を含み、ＸＹ平面に直交する平面に沿ってレーザ光を偏向させて、位相分布付与構造素子３０に入射させることが好ましい。

また、第１変形例の位相分布付与構造素子では、Ｙ軸方向に並ぶ深さが互いに異なる複数の凹部をそれぞれが有する複数の段付き凹部がＹ軸方向に並べて配置されているが、これに限らず、要は、深さが互いに異なる複数の凹部が少なくともＹ軸方向に離間して配置されていれば良い。

なお、光偏向素子２０を、レーザ光が各画素の主走査方向の中央以外の所定位置に位置するように動作させても良い。

また、上記実施形態では、位相分布付与手段２５は、光偏向素子２０を有しているが、有していなくても良い。この場合、例えば、位相分布付与構造素子３０を、光源装置１５からのレーザ光の入射方向に対して交差する方向（例えば直交する方向）に振動させるようにしても良い。この場合、位相分布付与構造素子３０から異なる位相分布を有するレーザ光を連続的に射出させ、被走査面上で一部重ね合わせることができ、ひいてはスペックルノイズの発生を抑制することができる。

また、上記実施形態では、位相分布付与構造素子３０は、射出面に、複数の段付き凹部が形成されているが、これに限られない。要は、位相分布付与構造素子は、入射位置と射出位置との間の光学的距離（光路長）が互いに異なる複数領域を有していれば良い。位相分布付与構造素子としては、例えば、入射面及び射出面の少なくとも一方に、複数の段付き凸部、大きさがランダムな鋸刃形状（ギザギザ形状）等が形成されたものでも良い。また、位相分布付与構造素子としては、例えば、入射面又は射出面に、深さが同じ複数の凹部又は溝が形成され、それらの内部に屈折率が互いに異なる材料が充填されたものであっても良い。

また、上記実施形態では、位相分布付与構造素子３０は、光偏向素子２０と光走査手段４０との間の光路上に１つ配置されているが、該光路上に、該光路に平行な方向に又は交差する方向に離間して複数配置されていても良い。

また、上記実施形態では、位相分布付与構造素子３０の複数の段付き凹部は、Ｘ軸方向に並べて配置されているが、これに限らず、要は、ＸＹ平面に平行な一軸方向（但し、Ｙ軸方向を除く）に離間して配置されていれば良い。この場合、上記一軸方向を含み、ＸＹ平面に直交する平面に沿ってレーザ光を偏向させて、位相分布付与構造素子３０に入射させることが好ましい。

また、上記実施形態の位相分布付与構造素子では、Ｘ軸方向に並ぶ深さが互いに異なる複数の凹部をそれぞれが有する複数の段付き凹部がＸ軸方向に並べて配置されているが、これに限らず、要は、深さが互いに異なる複数の凹部が少なくともＸ軸方向に離間して配置されていれば良い。

また、上記実施形態では、位相分布付与手段２５において、光偏向素子２０と位相分布付与構造素子３０は、別体とされているが、一体化されても良い。

また、上記実施形態では、光走査手段４０として、ＭＥＭＳミラーを含む２軸のスキャナが採用されているが、これに限られない。例えば、図１０に示される第２の変形例のように、ＭＥＭＳミラーを含む１軸のスキャナを２つ組み合わせても良い。また、ＭＥＭＳミラーを含む１軸のスキャナ、ポリゴンスキャナ、ガルバノスキャナなどを適宜組み合わせても良い。

また、上記実施形態では、光偏向素子２０を、レーザ光が各画素の副走査方向の中央に位置するように動作させているが、これに限られない。光偏向素子２０を、例えば、レーザ光が各画素の副走査方向の中央以外の少なくとも１つの所定位置に位置するように動作させても良いし、副走査方向の中央を含む複数の所定位置に位置するように動作させても良い。

上記実施形態における光源装置１５の構成は、適宜変更可能である。例えば、上記実施形態では、光源として、３つのレーザダイオードが用いられたが、２つ以下又は４つ以上用いられても良い。すなわち、プロジェクタ装置は、カラー画像に限らず、モノクロ画像を表示するものであっても良い。そして、レーザダイオードの数に応じて、ダイクロイックミラーの数を適宜変更しても良い。なお、レーザダイオードを１つ用いる場合には、ダイクロイックミラーは、必要ない。

上記実施形態では、各レーザダイオードに対応してコリメートレンズが設けられているが、設けなくても良い。

上記実施形態では、レーザ光によりスクリーン上を走査しているが、これに限らず、例えば、レーザ光によりコンバイナ（半透過板）上、車両のフロントガラス上などを走査しても良い。

上記実施形態では、画像表示装置の一例として、プロジェクタ装置が採用されているが、これに限らず、例えば、ヘッドアップディスプレイを採用しても良い。

１０…プロジェクタ装置（画像表示装置）、１５…光源装置、２０…光偏向素子、２５…位相分布付与手段、３０…位相分布付与構造素子（光学素子）、４０…光走査手段、８８…分極反転部、ＬＤ１〜ＬＤ３…レーザダイオード（光源）、ＤＭ１〜ＤＭ３…ダイクロイックミラー（光合成手段）。

国際公開第２００５／０８３４９２号

Claims (8)

1. レーザ光により被走査面を互いに直交する第１及び第２の走査方向に走査して画像を表示する画像表示装置であって、
   レーザ光を射出する少なくとも１つの光源を含む光源装置と、
   前記光源装置からのレーザ光の光路上に配置され、該レーザ光に、時系列的に異なる、少なくとも前記第１及び第２の走査方向の一方に対応する方向の位相分布を付与する位相分布付与手段と、
   前記位相分布付与手段を介したレーザ光により前記被走査面を前記第１及び第２の走査方向に走査する光走査手段と、を備え、
   前記位相分布付与手段は、
   前記第１及び第２の走査方向の一方に対応する方向に並ぶ、入射されるレーザ光の進行方向に関する光学的距離が互いに異なる複数の領域を有する光学素子と、
   前記光源装置と前記光学素子との間のレーザ光の光路上に配置され、前記光源装置からのレーザ光を、前記光学素子の前記第１及び第２の走査方向の一方に対応する方向の異なる位置に入射するように偏向する光偏向素子と、を有することを特徴とする画像表示装置。
2. 前記光偏向素子は、前記被走査面上に前記第１及び第２の走査方向の他方に１列に並ぶ複数の画素を含む画素列を形成するために前記第１及び第２の走査方向の他方に走査される複数のレーザ光が、前記画素列の前記第１及び第２の走査方向の一方の所定位置に位置するように、前記光源装置からのレーザ光を偏向することを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
3. 前記光学素子は、入射面及び射出面の少なくとも一方に、前記第１及び第２の走査方向の一方に対応する方向に並ぶ複数の段付き凹部又は段付き凸部が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の画像表示装置。
4. 前記光走査手段は、前記第１及び第２の走査方向に関する走査速度を、互いに異ならせることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の画像表示装置。
5. 前記少なくとも１つの光源は、複数の光源であり、
   前記複数の光源は、互いに波長が異なる複数のレーザ光を射出し、
   前記光源装置は、前記複数の光源からの複数のレーザ光を合成する光合成手段を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の画像表示装置。
6. 前記光走査手段は、ＭＥＭＳミラーを含む２軸のスキャナであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の画像表示装置。
7. 前記光偏向素子における光が伝搬する領域は、電気光学効果を有する材料で形成され、
   前記光が伝搬する領域に電圧が印加されることによりレーザ光が偏向されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の画像表示装置。
8. 前記光が伝搬する領域に、プリズム形状の分極反転部が形成されていることを特徴とする請求項７に記載の画像表示装置。
   

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