JP6008676B2 - LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING LAMINATE, AND COMMUNICATION DEVICE - Google Patents

LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING LAMINATE, AND COMMUNICATION DEVICE Download PDF

Info

Publication number
JP6008676B2
JP6008676B2 JP2012217401A JP2012217401A JP6008676B2 JP 6008676 B2 JP6008676 B2 JP 6008676B2 JP 2012217401 A JP2012217401 A JP 2012217401A JP 2012217401 A JP2012217401 A JP 2012217401A JP 6008676 B2 JP6008676 B2 JP 6008676B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
aliphatic hydrocarbon
atom
silver
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2012217401A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014004815A (en
Inventor
美紀 本間
美紀 本間
久美 廣瀬
久美 廣瀬
太佑 土屋
太佑 土屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Forms Co Ltd
Original Assignee
Toppan Forms Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Forms Co Ltd filed Critical Toppan Forms Co Ltd
Priority to JP2012217401A priority Critical patent/JP6008676B2/en
Publication of JP2014004815A publication Critical patent/JP2014004815A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6008676B2 publication Critical patent/JP6008676B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)

Description

本発明は、基材上に受容層を介して導電層が設けられた積層体、その製造方法、及び該積層体を用いた通信機器に関する。   The present invention relates to a laminate in which a conductive layer is provided on a base material via a receiving layer, a manufacturing method thereof, and a communication device using the laminate.

金属銀は、記録材料や印刷刷版材料として、また、導電性に優れることから高導電性材料として幅広く使用されている。通常、金属銀をこのような用途に適用する場合には、金属銀又はその形成材料が配合された銀インク組成物を調製し、この組成物を基材上に付着させ、必要に応じて付着させた組成物を加熱(焼成)する手法が採用される。そして、金属銀の形成材料としては、これまでに酸化銀が汎用されている。この手法により、基材上に金属銀(導電体)が形成された積層体が得られ、この導電体が、上記の記録材料、印刷刷版材料又は高導電性材料として利用される。   Metallic silver is widely used as a recording material and printing plate material, and as a highly conductive material because of its excellent conductivity. In general, when metallic silver is applied to such applications, a silver ink composition containing metallic silver or a material for forming the metallic silver is prepared, and the composition is deposited on a substrate, and deposited as necessary. A method of heating (firing) the composition thus formed is employed. As a material for forming metallic silver, silver oxide has been widely used so far. By this method, a laminate in which metallic silver (conductor) is formed on a substrate is obtained, and this conductor is used as the recording material, printing plate material, or highly conductive material.

一方、このような導電体を形成するための銀インク組成物として、近年、β−ケトカルボン酸銀が配合されたものが開示されている(特許文献1参照)。かかる銀インク組成物は、これまでに汎用されていた銀インク組成物よりも良好な品質の導電体を形成でき、さらに、酸化銀が配合された銀インク組成物等とは異なり、還元剤が不要で且つ低温でも速やかに導電体を形成できることから、極めて有用性が高い。   On the other hand, as a silver ink composition for forming such a conductor, a composition containing silver β-ketocarboxylate has been disclosed in recent years (see Patent Document 1). Such a silver ink composition can form a conductor having better quality than silver ink compositions that have been widely used so far, and unlike a silver ink composition containing silver oxide, a reducing agent is used. Since the conductor can be formed quickly even at a low temperature, it is extremely useful.

国際公開第2007/004437号International Publication No. 2007/004437

しかし、β−ケトカルボン酸銀が配合された、従来の銀インク組成物から形成された銀層(導電層)については、基材との密着強度のさらなる向上が望まれている。   However, for a silver layer (conductive layer) formed from a conventional silver ink composition containing silver β-ketocarboxylate, further improvement in adhesion strength with the substrate is desired.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、基材上に該基材との密着強度が高い導電層が設けられた積層体、その製造方法、及び該積層体を用いた通信機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and a laminated body in which a conductive layer having high adhesion strength to the base material is provided on the base material, a method for manufacturing the same, and a communication device using the laminated body It is an issue to provide.

上記課題を解決するため、
本発明は、基材上に受容層を介して導電層が設けられた積層体であって、前記受容層が、下記一般式(3)で表される化合物を用いて形成されたものであり、前記導電層が、下記一般式(1)で表わされるβ−ケトカルボン酸銀を用いて形成されたものであり、JIS K 5600−5−6に準拠した、前記基材及び導電層の密着性試験において、分類0又は1を満たすことを特徴とする積層体を提供する。
To solve the above problem,
The present invention is a laminate in which a conductive layer is provided on a substrate via a receptor layer, and the receptor layer is formed using a compound represented by the following general formula (3). The conductive layer is formed using β-ketocarboxylate silver represented by the following general formula (1), and adheres to the base material and the conductive layer in accordance with JIS K 5600-5-6. Provided is a laminate characterized by satisfying classification 0 or 1 in the test.

Figure 0006008676
(式中、R11は炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシアルキル基又はアルキルカルボニル基であり;R12は炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基であり;R13は炭素数1〜10のアルキレン基であり;R14は炭素数1〜5のアルキレン基であり、該アルキレン基中の1個以上のメチレン基はカルボニル基で置換されていてもよく;Zはアミノ基、メルカプト基又は炭素数6〜12のアリール基であり;m1は2又は3であり、複数個のR11は互いに同一でも異なっていてもよく;m2及びm3はそれぞれ独立に0又は1であり、ただし、Zがアミノ基である場合には、少なくともm2は1である。)
Figure 0006008676
(式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R −CY −」、「CY −」、「R −CHY−」、「R O−」、「R N−」、「(R O) CY−」若しくは「R −C(=O)−CY −」で表される基であり;
Yはそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基であり;R は炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり;R 及びR はそれぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり;
Xはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基、又は一般式「R O−」、「R S−」、「R −C(=O)−」若しくは「R −C(=O)−O−」で表される基であり;
は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基である。)
Figure 0006008676
(Wherein R 11 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxyalkyl group or an alkylcarbonyl group; R 12 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; R 13 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms; R 14 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and one or more methylene groups in the alkylene group may be substituted with a carbonyl group; Z Is an amino group, a mercapto group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; m1 is 2 or 3, and a plurality of R 11 may be the same or different from each other; m2 and m3 are each independently 0 or 1; provided that when Z is an amino group, at least m2 is 1.)
Figure 0006008676
(In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a general formula “R 1 -CY ” in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. 2- ”, “CY 3 —”, “R 1 —CHY—”, “R 2 O—”, “R 5 R 4 N—”, “(R 3 O) 2 CY—” or “R 6 —C ”. A group represented by (= O) —CY 2 —;
Y is each independently a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or hydrogen atom; R 1 is an aliphatic hydrocarbon group or phenyl group having 1 to 19 carbon atoms; R 2 is an aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms; R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms; R 6 is carbon An aliphatic hydrocarbon group, a hydroxyl group or a group represented by the formula "AgO-" of formula 1-19;
X is independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group or benzyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a cyano group, N- A phthaloyl-3-aminopropyl group, a 2-ethoxyvinyl group, or a general formula “R 7 O—”, “R 7 S—”, “R 7 —C (═O) —” or “R 7 —C (= O) —O— ”.
R 7 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group, or a phenyl group or diphenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. )

また、本発明は、前記積層体を用い、前記基材を筐体として備えたことを特徴とする通信機器を提供する。   Moreover, this invention provides the communication apparatus characterized by using the said laminated body and having provided the said base material as a housing | casing.

また、本発明は、基材上に受容層を介して導電層が設けられた積層体の製造方法であって、前記基材上に、下記一般式(3)で表される化合物を用いて前記受容層を形成する工程と、前記受容層上に、下記一般式(1)で表わされるβ−ケトカルボン酸銀を用いて前記導電層を形成する工程と、を有することを特徴とする積層体の製造方法を提供する。 Moreover, this invention is a manufacturing method of the laminated body by which the electrically conductive layer was provided through the receiving layer on the base material, Comprising: On the said base material, using the compound represented by following General formula (3) A laminate comprising: a step of forming the receiving layer; and a step of forming the conductive layer on the receiving layer using silver β-ketocarboxylate represented by the following general formula (1) : A manufacturing method is provided.

Figure 0006008676
(式中、R11は炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシアルキル基又はアルキルカルボニル基であり;R12は炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基であり;R13は炭素数1〜10のアルキレン基であり;R14は炭素数1〜5のアルキレン基であり、該アルキレン基中の1個以上のメチレン基はカルボニル基で置換されていてもよく;Zはアミノ基、メルカプト基又は炭素数6〜12のアリール基であり;m1は2又は3であり、複数個のR11は互いに同一でも異なっていてもよく;m2及びm3はそれぞれ独立に0又は1であり、ただし、Zがアミノ基である場合には、少なくともm2は1である。)
Figure 0006008676
(式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R −CY −」、「CY −」、「R −CHY−」、「R O−」、「R N−」、「(R O) CY−」若しくは「R −C(=O)−CY −」で表される基であり;
Yはそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基であり;R は炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり;R 及びR はそれぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり;
Xはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基、又は一般式「R O−」、「R S−」、「R −C(=O)−」若しくは「R −C(=O)−O−」で表される基であり;
は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基である。)
Figure 0006008676
(Wherein R 11 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxyalkyl group or an alkylcarbonyl group; R 12 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; R 13 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms; R 14 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and one or more methylene groups in the alkylene group may be substituted with a carbonyl group; Z Is an amino group, a mercapto group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; m1 is 2 or 3, and a plurality of R 11 may be the same or different from each other; m2 and m3 are each independently 0 or 1; provided that when Z is an amino group, at least m2 is 1.)
Figure 0006008676
(In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a general formula “R 1 -CY ” in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. 2- ”, “CY 3 —”, “R 1 —CHY—”, “R 2 O—”, “R 5 R 4 N—”, “(R 3 O) 2 CY—” or “R 6 —C ”. A group represented by (= O) —CY 2 —;
Y is each independently a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or hydrogen atom; R 1 is an aliphatic hydrocarbon group or phenyl group having 1 to 19 carbon atoms; R 2 is an aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms; R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms; R 6 is carbon An aliphatic hydrocarbon group, a hydroxyl group or a group represented by the formula "AgO-" of formula 1-19;
X is independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group or benzyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a cyano group, N- A phthaloyl-3-aminopropyl group, a 2-ethoxyvinyl group, or a general formula “R 7 O—”, “R 7 S—”, “R 7 —C (═O) —” or “R 7 —C (= O) —O— ”.
R 7 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group, or a phenyl group or diphenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. )

本発明の積層体の製造方法は、前記受容層を形成する工程の前に、さらに、前記基材の前記受容層を形成する面をプラズマ処理する工程を有していてもよい。   The manufacturing method of the laminated body of this invention may have the process of carrying out the plasma process of the surface which forms the said receiving layer of the said base | substrate further before the process of forming the said receiving layer.

本発明によれば、基材上に該基材との密着強度が高い導電層が設けられた積層体、その製造方法、及び該積層体を用いた通信機器が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the laminated body by which the conductive layer with high adhesive strength with this base material was provided on the base material, its manufacturing method, and the communication apparatus using this laminated body are provided.

本発明の積層体を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the laminated body of this invention.

<積層体>
本発明の積層体は、基材上に受容層を介して導電層が設けられた積層体であって、前記受容層が、下記一般式(3)で表される化合物(以下、「化合物(3)」と略記することがある)を用いて形成されたものであり、JIS K 5600−5−6に準拠した、前記基材及び導電層の密着性試験において、分類0又は1を満たすことを特徴とする。
<Laminated body>
The laminate of the present invention is a laminate in which a conductive layer is provided on a substrate via a receptor layer, and the receptor layer is a compound represented by the following general formula (3) (hereinafter referred to as “compound ( 3) ", which is abbreviated as"), and satisfies the classification 0 or 1 in the adhesion test of the base material and conductive layer in accordance with JIS K 5600-5-6. It is characterized by.

Figure 0006008676
(式中、R11は炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシアルキル基又はアルキルカルボニル基であり;R12は炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基であり;R13は炭素数1〜10のアルキレン基であり;R14は炭素数1〜5のアルキレン基であり、該アルキレン基中の1個以上のメチレン基はカルボニル基で置換されていてもよく;Zはアミノ基、メルカプト基又は炭素数6〜12のアリール基であり;m1は2又は3であり、複数個のR11は互いに同一でも異なっていてもよく;m2及びm3はそれぞれ独立に0又は1であり、ただし、Zがアミノ基である場合には、m2及びm3の少なくとも一方は1である。)
Figure 0006008676
(Wherein R 11 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxyalkyl group or an alkylcarbonyl group; R 12 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; R 13 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms; R 14 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and one or more methylene groups in the alkylene group may be substituted with a carbonyl group; Z Is an amino group, a mercapto group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; m1 is 2 or 3, and a plurality of R 11 may be the same or different from each other; m2 and m3 are each independently 0 or 1; provided that when Z is an amino group, at least one of m2 and m3 is 1.)

前記積層体において、前記受容層は、前記導電層と前記基材との密着強度を向上させるものである。すなわち、受容層及び導電層、並びに受容層及び基材は、それぞれ密着強度が高く、受容層を介して設けられた導電層は、基材からの剥離が顕著に抑制される。このように、導電層と基材との密着強度が高いのは、受容層を形成する化合物として、特定の化合物(3)を用いたことによる。   In the laminate, the receiving layer improves the adhesion strength between the conductive layer and the substrate. That is, the receiving layer and the conductive layer, and the receiving layer and the base material each have high adhesion strength, and the conductive layer provided via the receiving layer is remarkably suppressed from peeling from the base material. Thus, the adhesive strength between the conductive layer and the substrate is high because the specific compound (3) is used as the compound forming the receptor layer.

図1は、本発明の積層体を例示する概略断面図である。
ここに示す積層体1は、基材2上に受容層3を介して導電層4を備える。すなわち、積層体1は、基材2上に受容層3及び導電層4がこの順に積層されたものである。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a laminated body of the present invention.
The laminated body 1 shown here includes a conductive layer 4 on a base material 2 with a receiving layer 3 interposed therebetween. That is, the laminate 1 is obtained by laminating the receiving layer 3 and the conductive layer 4 on the base material 2 in this order.

[基材]
基材2は、フィルム状又はシート状であることが好ましく、厚さが12〜5000μmであることが好ましく、12〜2000μmであることがより好ましい。下限値以上であることで、受容層の構造をより安定して保持でき、上限値以下であることで、受容層や導電層形成時の取り扱い性がより良好となる。
[Base material]
The substrate 2 is preferably in the form of a film or a sheet, the thickness is preferably 12 to 5000 μm, and more preferably 12 to 2000 μm. By being more than a lower limit, the structure of a receiving layer can be hold | maintained more stably, and the handling property at the time of formation of a receiving layer or a conductive layer becomes more favorable by being below an upper limit.

基材2の材質は特に限定されず、目的に応じて選択すればよいが、後述する銀インク組成物の加熱処理による導電層形成時に変質しない耐熱性を有するものが好ましい。
基材2の材質として具体的には、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリメチルペンテン(PMP)、ポリシクロオレフィン、ポリスチレン(PS)、ポリ酢酸ビニル(PVAc)、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)等のアクリル樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、ポリアミド(PA)、ポリイミド、ポリアミドイミド(PAI)、ポリアセタール、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリトリメチレンテレフタレート(PTT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンナフタレート(PBN)、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリスルホン(PSF)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリカーボネート(PC)、ポリウレタン、ポリフェニレンエーテル(PPE)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE)、ポリアリレート、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂等の合成樹脂が例示できる。
また、基材2の材質としては、上記以外にも、ガラス、シリコン等のセラミックスや、紙が例示できる。
また、基材2は、ガラスエポキシ樹脂等の、二種以上の材質からなるものでもよい。
The material of the substrate 2 is not particularly limited and may be selected according to the purpose. However, it is preferable to have heat resistance that does not change when a conductive layer is formed by heat treatment of a silver ink composition described later.
Specifically, the material of the substrate 2 is polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC), polymethylpentene (PMP), polycycloolefin, polystyrene (PS). , Acrylic resin such as polyvinyl acetate (PVAc) and polymethyl methacrylate (PMMA), AS resin, ABS resin, polyamide (PA), polyimide, polyamideimide (PAI), polyacetal, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polytrimethylene terephthalate (PTT), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene naphthalate (PBN), polyphenylene sulfide (PPS), polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES) , Polyether ketone (PEK), polyether ether ketone (PEEK), polycarbonate (PC), polyurethane, polyphenylene ether (PPE), modified polyphenylene ether (m-PPE), polyarylate, epoxy resin, melamine resin, phenol resin, A synthetic resin such as urea resin can be exemplified.
Moreover, as a material of the base material 2, in addition to the above, ceramics such as glass and silicon, and paper can be exemplified.
Moreover, the base material 2 may consist of 2 or more types of materials, such as a glass epoxy resin.

基材2は、単層からなるものでもよいし、二層以上の複数層からなるものでもよい。基材2が複数層からなる場合、これら複数層は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、すべての層が同一であってもよいし、すべての層が異なっていてもよく、一部の層のみが異なっていてもよい。そして、複数層が互いに異なる場合、これら複数層の組み合わせは特に限定されない。ここで、複数層が互いに異なるとは、各層の材質及び厚さの少なくとも一方が互いに異なることを意味する。
なお、基材2が複数層からなる場合には、各層の合計の厚さが、上記の好ましい基材2の厚さとなるようにするとよい。
The substrate 2 may be composed of a single layer, or may be composed of two or more layers. When the base material 2 consists of multiple layers, these multiple layers may be the same as or different from each other. That is, all the layers may be the same, all the layers may be different, or only some of the layers may be different. And when several layers differ from each other, the combination of these several layers is not specifically limited. Here, the plurality of layers being different from each other means that at least one of the material and the thickness of each layer is different from each other.
In addition, when the base material 2 consists of multiple layers, it is good to make it the thickness of the total of each layer be the thickness of said preferable base material 2.

[受容層]
受容層3は、化合物(3)を用いて形成されたものである。
基材2の主面(受容層3が形成されている表面)を上方から見下ろすように、積層体1を平面視したときの、受容層3の形状は、目的に応じて任意に設定でき、後述する導電層4の形状を考慮して設定すればよい。例えば、基材2の表面全面に受容層3が設けられていてもよいし、基材2の表面のうち、一部のみに受容層3が設けられていてもよく、この場合、受容層3はパターニングされていてもよい。
[Receptive layer]
The receiving layer 3 is formed using the compound (3).
The shape of the receiving layer 3 when the laminate 1 is viewed in plan so that the main surface of the substrate 2 (surface on which the receiving layer 3 is formed) is looked down from above can be arbitrarily set according to the purpose, What is necessary is just to set in consideration of the shape of the conductive layer 4 described later. For example, the receiving layer 3 may be provided on the entire surface of the base material 2, or the receiving layer 3 may be provided on only a part of the surface of the base material 2. May be patterned.

受容層3の厚さは、0.001〜20μmであることが好ましく、0.002〜5μmであることがより好ましい。下限値以上であることで、導電層4の密着強度がより向上し、上限値以下であることで、受容層の構造をより安定して保持できる。   The thickness of the receiving layer 3 is preferably 0.001 to 20 μm, and more preferably 0.002 to 5 μm. By being more than a lower limit, the adhesive strength of the conductive layer 4 improves more, and by being below an upper limit, the structure of a receiving layer can be hold | maintained more stably.

(化合物(3))
化合物(3)は、前記一般式(3)で表される。
式中、R11は炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシアルキル基又はアルキルカルボニル基である。
11における前記アルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよい。
直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基が例示できる。
環状のアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基が例示できる。
11における前記アルキル基は、直鎖状又は分枝鎖状であることが好ましく、炭素数が1〜3であることが好ましい。
(Compound (3))
The compound (3) is represented by the general formula (3).
In the formula, R 11 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxyalkyl group, or an alkylcarbonyl group.
The alkyl group for R 11 may be linear, branched or cyclic.
Examples of linear or branched alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, and n-pentyl group. , Isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1-methylbutyl group and 2-methylbutyl group.
Examples of the cyclic alkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclopentyl group.
The alkyl group for R 11 is preferably linear or branched, and preferably has 1 to 3 carbon atoms.

11における前記アルコキシアルキル基としては、これを構成するアルコキシ基が、R11としての前記アルキル基が酸素原子に結合してなる1価の基であり、前記アルコキシ基が結合しているアルキレン基が、R11としての前記アルキル基から1個の水素原子を除いてなる基であるものが例示できる。ただし、前記アルコキシ基及びアルキレン基の合計の炭素数(前記アルコキシアルキル基の炭素数)は2〜5である。
11における前記アルコキシアルキル基は、直鎖状又は分枝鎖状であることが好ましく、炭素数が3以下であることが好ましく、メトキシメチル基又は2−メトキシエチル基であることがより好ましい。
Examples of the alkoxyalkyl group at R 11, alkoxy group constituting it, a monovalent group in which the alkyl group as R 11 is bonded to an oxygen atom, an alkylene group wherein the alkoxy group is attached Is a group formed by removing one hydrogen atom from the alkyl group as R 11 . However, the total carbon number of the alkoxy group and the alkylene group (the carbon number of the alkoxyalkyl group) is 2 to 5.
The alkoxyalkyl group for R 11 is preferably linear or branched, preferably has 3 or less carbon atoms, and more preferably is a methoxymethyl group or a 2-methoxyethyl group.

11における前記アルキルカルボニル基としては、R11としての前記アルキル基がカルボニル基(−C(=O)−)の炭素原子に結合してなる1価の基が例示できる。ただし、カルボニル基の炭素原子に結合しているアルキル基の炭素数は1〜4(前記アルキルカルボニル基の炭素数は2〜5)である。
11における前記アルキルカルボニル基は、直鎖状又は分枝鎖状であることが好ましく、炭素数が3以下であることが好ましく、メチルカルボニル基(アセチル基)又はエチルカルボニル基であることがより好ましい。
Examples of the alkyl group in R 11, the alkyl group is a carbonyl group (-C (= O) -) as R 11 1 monovalent group formed by bonding to a carbon atom of may be exemplified. However, the alkyl group bonded to the carbon atom of the carbonyl group has 1 to 4 carbon atoms (the alkylcarbonyl group has 2 to 5 carbon atoms).
The alkylcarbonyl group in R 11 is preferably linear or branched, preferably has 3 or less carbon atoms, and more preferably a methylcarbonyl group (acetyl group) or an ethylcarbonyl group. preferable.

式中、R12は炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基である。
12における前記アルキル基としては、R11における前記アルキル基と同じのものが例示でき、R11と互いに同一でもよいし、異なっていてもよい。
In the formula, R 12 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
Examples of the alkyl group in R 12, wherein can be exemplified those alkyl groups same as in R 11, may be the mutually the same and R 11, may be different.

12における前記アリール基は、単環状及び多環状のいずれでもよく、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、o−トルイル基、m−トルイル基、p−トルイル基、キシリル基(ジメチルフェニル基)等が例示できる。また、これらアリール基の、1個以上の水素原子がアルキル基及び/又はアルコキシ基で置換されたものでもよい。ここで、水素原子が置換される前記アルキル基としては、R11における前記アルキル基と同じのものが例示でき、水素原子が置換される前記アルコキシ基としては、R11における前記アルキル基が酸素原子に結合してなる1価の基が例示できる。そして、これらアルキル基及び/又はアルコキシ基で置換されている場合、前記アリール基は、これらアルキル基及び/又はアルコキシ基も含めて、炭素数が12以下である。
12における前記アリール基は、単環状であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
The aryl group in R 12 may be monocyclic or polycyclic, and includes a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, o-toluyl group, m-toluyl group, p-toluyl group, xylyl group (dimethyl group). Phenyl group) and the like. In addition, one or more hydrogen atoms of these aryl groups may be substituted with an alkyl group and / or an alkoxy group. Here, examples of the alkyl group in which a hydrogen atom is substituted include the same groups as the alkyl group in R 11 , and examples of the alkoxy group in which a hydrogen atom is substituted include that the alkyl group in R 11 is an oxygen atom. A monovalent group formed by bonding to can be exemplified. And when these alkyl groups and / or alkoxy groups are substituted, the aryl group has 12 or less carbon atoms including these alkyl groups and / or alkoxy groups.
The aryl group in R 12 is preferably monocyclic, and more preferably a phenyl group.

式中、R13は炭素数1〜10のアルキレン基であり、本発明において前記「アルキレン基」は、直鎖状、分岐鎖状及び環状の2価の飽和炭化水素基を包含するものとする。
13における前記アルキレン基としては、炭素数1〜10のアルキル基から1個の水素原子を除いてなる2価の基が例示でき、かかるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチルブチル基、n−ヘキシル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、n−ヘプチル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、2,2−ジメチルペンチル基、2,3−ジメチルペンチル基、2,4−ジメチルペンチル基、3,3−ジメチルペンチル基、3−エチルペンチル基、2,2,3−トリメチルブチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、デシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、トリシクロデシル基が例示できる。
In the formula, R 13 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and in the present invention, the “alkylene group” includes linear, branched and cyclic divalent saturated hydrocarbon groups. .
Examples of the alkylene group for R 13 include a divalent group formed by removing one hydrogen atom from an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, and n-propyl group. Group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1-methylbutyl group, n-hexyl group, 2 -Methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, n-heptyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 2,2-dimethylpentyl Group, 2,3-dimethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 3,3-dimethylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 2,2,3 -Trimethylbutyl, n-octyl, isooctyl, nonyl, decyl, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl, norbornyl, isobornyl Examples thereof include a group, 1-adamantyl group, 2-adamantyl group and tricyclodecyl group.

13における前記アルキレン基は、炭素数が1〜7であることが好ましく、炭素数が1〜5であることがより好ましく、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレン基(メチルエチレン基)、トリメチレン基、テトラメチレン基、1−メチルトリメチレン基、2−メチルトリメチレン基、1,2−ジメチルエチレン基、1,1−ジメチルエチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、1−メチルテトラメチレン基、2−メチルテトラメチレン基、1,1−ジメチルトリメチレン基、1,2−ジメチルトリメチレン基、1,3−ジメチルトリメチレン基、1−エチルトリメチレン基、2−エチルトリメチレン基、1−メチル−2−エチルエチレン基、n−プロピルエチレン基等が例示できる。 The alkylene group for R 13 preferably has 1 to 7 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, and specifically includes a methylene group, an ethylene group, a propylene group (methylethylene group). ), Trimethylene group, tetramethylene group, 1-methyltrimethylene group, 2-methyltrimethylene group, 1,2-dimethylethylene group, 1,1-dimethylethylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, 1-methyl Tetramethylene group, 2-methyltetramethylene group, 1,1-dimethyltrimethylene group, 1,2-dimethyltrimethylene group, 1,3-dimethyltrimethylene group, 1-ethyltrimethylene group, 2-ethyltrimethylene group Group, 1-methyl-2-ethylethylene group, n-propylethylene group and the like.

式中、R14は炭素数1〜5のアルキレン基であり、R13における前記アルキレン基のうち、炭素数が1〜5のものと同じであり、炭素数が1〜3であることが好ましい。
また、R14における前記アルキレン基は、メチレン基であるか、又はメチレン基が2〜5個連結して構成されるが、アルキレン基を構成するこれらメチレン基(−CH−)のうちの1個以上は、カルボニル基(−C(=O)−)で置換されていてもよい。カルボニル基で置換されるメチレン基の数は、前記アルキレン基中のメチレン基の総数に依存し、特に限定されず、例えば、R14はカルボニル基のみで構成されていてもよいし、カルボニル基であってもよく、1個以上のアルキレン基と1個以上のカルボニル基とが混在したものでもよい。そして、通常は、R14中のカルボニル基の数は、2個以下であることが好ましく、1個であることがより好ましい。
In the formula, R 14 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and among the alkylene groups in R 13 , the same as those having 1 to 5 carbon atoms, and preferably having 1 to 3 carbon atoms. .
In addition, the alkylene group in R 14 is a methylene group or is formed by connecting 2 to 5 methylene groups, and one of these methylene groups (—CH 2 —) constituting the alkylene group. One or more may be substituted with a carbonyl group (—C (═O) —). The number of methylene groups substituted with a carbonyl group depends on the total number of methylene groups in the alkylene group, and is not particularly limited. For example, R 14 may be composed of only a carbonyl group, One or more alkylene groups and one or more carbonyl groups may be mixed. In general, the number of carbonyl groups in R 14 is preferably 2 or less, and more preferably 1.

式中、Zはアミノ基(−NH)、メルカプト基(−SH)又は炭素数6〜12のアリール基である。
Zにおける前記アリール基としては、R12における前記アリール基と同じものが例示でき、R12と互いに同一でもよいし、異なっていてもよい。
Wherein, Z is an amino group (-NH 2), a mercapto group (-SH) or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
Examples of the aryl group in Z, can be exemplified the same ones as the aryl group in R 12, it may be the mutually the same and R 12, may be different.

式中、m1は2又は3であり、複数個のR11は互いに同一でも異なっていてもよい。
また、m2及びm3はそれぞれ独立に0又は1である。ただし、Zがアミノ基である場合には、m2及びm3の少なくとも一方は1である(m2及びm3が共に0になることはない)。
Wherein, m1 is 2 or 3, a plurality of R 11 may be the same or different from each other.
M2 and m3 are each independently 0 or 1. However, when Z is an amino group, at least one of m2 and m3 is 1 (m2 and m3 are not 0).

特に好ましい化合物(3)としては、R11及びR12が炭素数1〜3のアルキル基であり、R13が炭素数1〜5のアルキレン基であり、R14が炭素数1〜3のアルキレン基又はカルボニル基であり、Zがアミノ基、メルカプト基又はフェニル基であるものが例示できる。 As particularly preferred compound (3), R 11 and R 12 are alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, R 13 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and R 14 is an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms. Examples thereof include a group or a carbonyl group, and Z is an amino group, a mercapto group or a phenyl group.

化合物(3)は、シランカップリング剤であり、市販品を用いてもよいし、公知の手法で合成したものを用いてもよい。   Compound (3) is a silane coupling agent, and a commercially available product may be used, or a compound synthesized by a known method may be used.

受容層3の形成に用いる化合物(3)は、一種のみでもよいし二種以上でもよく、二種以上である場合、その組み合わせ及び比率は特に限定されない。   The compound (3) used for forming the receiving layer 3 may be only one kind or two or more kinds. When there are two or more kinds, the combination and ratio are not particularly limited.

[導電層]
導電層4は、式「−COOAg」で表される基を有するカルボン酸銀を用いて形成されたものが好ましい。
基材2の主面(受容層3が形成されている表面)を上方から見下ろすように、積層体1を平面視したときの、導電層4の形状は、目的に応じて任意に設定できる。例えば、受容層3の表面全面に導電層4が設けられていてもよいし、受容層3の表面のうち、一部のみに導電層4が設けられていてもよく、導電層4はパターニングされていてもよい。
[Conductive layer]
The conductive layer 4 is preferably formed using silver carboxylate having a group represented by the formula “—COOAg”.
The shape of the conductive layer 4 when the laminate 1 is viewed in plan so that the main surface of the substrate 2 (the surface on which the receiving layer 3 is formed) is looked down from above can be arbitrarily set according to the purpose. For example, the conductive layer 4 may be provided on the entire surface of the receiving layer 3, or the conductive layer 4 may be provided on only a part of the surface of the receiving layer 3, and the conductive layer 4 is patterned. It may be.

導電層4の厚さは、目的に応じて任意に設定できるが、0.01〜10μmであることが好ましく、0.05〜2μmであることがより好ましい。下限値以上であることで、導電層4が設けられたことによる効果がより高くなり、上限値以下であることで、積層体1の構造をより安定して保持できる。   Although the thickness of the conductive layer 4 can be arbitrarily set according to the purpose, it is preferably 0.01 to 10 μm, and more preferably 0.05 to 2 μm. By being more than a lower limit, the effect by having provided the conductive layer 4 becomes higher, and the structure of the laminated body 1 can be hold | maintained more stably by being below an upper limit.

前記カルボン酸銀は、式「−COOAg」で表される基を有していれば特に限定されない。例えば、式「−COOAg」で表される基の数は1個のみでもよいし、2個以上でもよい。また、カルボン酸銀中の式「−COOAg」で表される基の位置も特に限定されない。   The silver carboxylate is not particularly limited as long as it has a group represented by the formula “—COOAg”. For example, the number of groups represented by the formula “—COOAg” may be only one, or two or more. Further, the position of the group represented by the formula “—COOAg” in the silver carboxylate is not particularly limited.

本発明において、前記カルボン酸銀は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   In this invention, the said carboxylate silver may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, the combination and ratio can be adjusted arbitrarily.

前記カルボン酸銀は、下記一般式(1)で表わされるβ−ケトカルボン酸銀(以下、「β−ケトカルボン酸銀(1)」と略記することがある)及び下記一般式(4)で表されるカルボン酸銀(以下、「カルボン酸銀(4)」と略記することがある)からなる群から選択される一種以上であることが好ましい。
なお、本明細書においては、単なる「カルボン酸銀」との記載は、特に断りの無い限り、「β−ケトカルボン酸銀(1)」及び「カルボン酸銀(4)」だけではなく、これらを包括する、「式「−COOAg」で表される基を有するカルボン酸銀」を意味するものとする。
The silver carboxylate is represented by the following general formula (1) β-ketocarboxylate silver (hereinafter sometimes abbreviated as “β-ketocarboxylate (1)”) and the following general formula (4). It is preferably one or more selected from the group consisting of silver carboxylates (hereinafter sometimes abbreviated as “silver carboxylate (4)”).
In the present specification, the simple description of “silver carboxylate” is not limited to “silver β-ketocarboxylate (1)” and “silver carboxylate (4)”, unless otherwise specified. It is intended to mean “silver carboxylate having a group represented by the formula“ —COOAg ””.

Figure 0006008676
(式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R−CY−」、「CY−」、「R−CHY−」、「RO−」、「RN−」、「(RO)CY−」若しくは「R−C(=O)−CY−」で表される基であり;
Yはそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子であり;Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基であり;Rは炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり;Rは炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり;R及びRはそれぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基であり;Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり;
Xはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基、又は一般式「RO−」、「RS−」、「R−C(=O)−」若しくは「R−C(=O)−O−」で表される基であり;
は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基である。)
Figure 0006008676
(In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a general formula “R 1 -CY” in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. “ 2- ”, “CY 3 —”, “R 1 —CHY—”, “R 2 O—”, “R 5 R 4 N—”, “(R 3 O) 2 CY—” or “R 6 —C”. A group represented by (= O) —CY 2 —;
Y is each independently a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or hydrogen atom; R 1 is an aliphatic hydrocarbon group or phenyl group having 1 to 19 carbon atoms; R 2 is an aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms; R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms; R 6 is carbon An aliphatic hydrocarbon group, a hydroxyl group or a group represented by the formula "AgO-" of formula 1-19;
X is independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group or benzyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a cyano group, N- A phthaloyl-3-aminopropyl group, a 2-ethoxyvinyl group, or a general formula “R 7 O—”, “R 7 S—”, “R 7 —C (═O) —” or “R 7 —C (= O) —O— ”.
R 7 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group, or a phenyl group or diphenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. )

Figure 0006008676
(式中、Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基又は式「−COOAg」で表される基であり、前記脂肪族炭化水素基がメチレン基を有する場合、1個以上の該メチレン基はカルボニル基で置換されていてもよい。)
Figure 0006008676
(In the formula, R 8 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a carboxy group or a group represented by the formula “—COOAg”, and when the aliphatic hydrocarbon group has a methylene group, The above methylene group may be substituted with a carbonyl group.)

(β−ケトカルボン酸銀(1))
β−ケトカルボン酸銀(1)は、前記一般式(1)で表される。
式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R−CY−」、「CY−」、「R−CHY−」、「RO−」、「RN−」、「(RO)CY−」若しくは「R−C(=O)−CY−」で表される基である。
(Silver β-ketocarboxylate (1))
The β-ketocarboxylate silver (1) is represented by the general formula (1).
In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a general formula “R 1 -CY 2 ” in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. - "," CY 3 - "," R 1 -CHY - "," R 2 O - "," R 5 R 4 N -, "" (R 3 O) 2 CY- "or" R 6 -C ( ═O) —CY 2 — ”.

Rにおける炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状(脂肪族環式基)のいずれでもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれでもよい。また、前記脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基及び不飽和脂肪族炭化水素基のいずれでもよい。そして、前記脂肪族炭化水素基は、炭素数が1〜10であることが好ましく、1〜6であることがより好ましい。Rにおける好ましい前記脂肪族炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が例示できる。   The aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R may be any of linear, branched and cyclic (aliphatic cyclic group), and when it is cyclic, it may be monocyclic or polycyclic. . Further, the aliphatic hydrocarbon group may be either a saturated aliphatic hydrocarbon group or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group. The aliphatic hydrocarbon group preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Preferred examples of the aliphatic hydrocarbon group for R include an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.

Rにおける直鎖状又は分枝鎖状の前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、2,2−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、3−エチルブチル基、1−エチル−1−メチルプロピル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、1,1−ジメチルペンチル基、2,2−ジメチルペンチル基、2,3−ジメチルペンチル基、2,4−ジメチルペンチル基、3,3−ジメチルペンチル基、4,4−ジメチルペンチル基、1−エチルペンチル基、2−エチルペンチル基、3−エチルペンチル基、4−エチルペンチル基、2,2,3−トリメチルブチル基、1−プロピルブチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、1−メチルヘプチル基、2−メチルヘプチル基、3−メチルヘプチル基、4−メチルヘプチル基、5−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、3−エチルヘキシル基、4−エチルヘキシル基、5−エチルヘキシル基、1,1−ジメチルヘキシル基、2,2−ジメチルヘキシル基、3,3−ジメチルヘキシル基、4,4−ジメチルヘキシル基、5,5−ジメチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、2−プロピルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基が例示できる。
Rにおける環状の前記アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、1−アダマンチル基、2−アダマンチル基、トリシクロデシル基が例示できる。
Examples of the linear or branched alkyl group represented by R include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, n -Pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 3-methylpentyl group, 4- Methylpentyl group, 1,1-dimethylbutyl group, 2,2-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, 3-ethylbutyl group 1-ethyl-1-methylpropyl group, n-heptyl group, 1-methylhexyl group, 2-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, -Methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 1,1-dimethylpentyl group, 2,2-dimethylpentyl group, 2,3-dimethylpentyl group, 2,4-dimethylpentyl group, 3,3-dimethylpentyl group 4,4-dimethylpentyl group, 1-ethylpentyl group, 2-ethylpentyl group, 3-ethylpentyl group, 4-ethylpentyl group, 2,2,3-trimethylbutyl group, 1-propylbutyl group, n -Octyl group, isooctyl group, 1-methylheptyl group, 2-methylheptyl group, 3-methylheptyl group, 4-methylheptyl group, 5-methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, 2-ethylhexyl group, 3-ethylhexyl Group, 4-ethylhexyl group, 5-ethylhexyl group, 1,1-dimethylhexyl group, 2,2-dimethylhexyl group, 3, -Dimethylhexyl group, 4,4-dimethylhexyl group, 5,5-dimethylhexyl group, 1-propylpentyl group, 2-propylpentyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group And pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, nonadecyl group and icosyl group.
Examples of the cyclic alkyl group in R include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, cyclononyl group, cyclodecyl group, norbornyl group, isobornyl group, 1-adamantyl group, 2- Examples thereof include an adamantyl group and a tricyclodecyl group.

Rにおける前記アルケニル基としては、ビニル基(エテニル基、−CH=CH)、アリル基(2−プロペニル基、−CH−CH=CH)、1−プロペニル基(−CH=CH−CH)、イソプロペニル基(−C(CH)=CH)、1−ブテニル基(−CH=CH−CH−CH)、2−ブテニル基(−CH−CH=CH−CH)、3−ブテニル基(−CH−CH−CH=CH)、シクロヘキセニル基、シクロペンテニル基等の、Rにおける前記アルキル基の炭素原子間の1個の単結合(C−C)が二重結合(C=C)に置換された基が例示できる。
Rにおける前記アルキニル基としては、エチニル基(−C≡CH)、プロパルギル基(−CH−C≡CH)等の、Rにおける前記アルキル基の炭素原子間の1個の単結合(C−C)が三重結合(C≡C)に置換された基が例示できる。
Examples of the alkenyl group in R include a vinyl group (ethenyl group, —CH═CH 2 ), an allyl group (2-propenyl group, —CH 2 —CH═CH 2 ), and a 1-propenyl group (—CH═CH—CH). 3 ), isopropenyl group (—C (CH 3 ) ═CH 2 ), 1-butenyl group (—CH═CH—CH 2 —CH 3 ), 2-butenyl group (—CH 2 —CH═CH—CH 3). ), 3-butenyl group (—CH 2 —CH 2 —CH═CH 2 ), cyclohexenyl group, cyclopentenyl group and the like, one single bond (C—C) between carbon atoms of the alkyl group in R Is a group in which is substituted with a double bond (C═C).
As the alkynyl group in R, one single bond (C—C) between carbon atoms of the alkyl group in R, such as ethynyl group (—C≡CH), propargyl group (—CH 2 —C≡CH) and the like. ) Is substituted with a triple bond (C≡C).

Rにおける炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が例示できる。また、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、すべての置換基が同一であってもよいし、すべての置換基が異なっていてもよく、一部の置換基のみが異なっていてもよい。   In the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in R, one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, and preferred examples of the substituent include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom. . Moreover, the number and position of substituents are not particularly limited. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other. That is, all the substituents may be the same, all the substituents may be different, or only some of the substituents may be different.

Rにおけるフェニル基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、炭素数が1〜16の飽和又は不飽和の一価の脂肪族炭化水素基、該脂肪族炭化水素基が酸素原子に結合してなる一価の基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基(−OH)、シアノ基(−C≡N)、フェノキシ基(−O−C)等が例示でき、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
置換基である前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜16である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
The phenyl group in R may have one or more hydrogen atoms substituted with a substituent, and the preferred substituent is a saturated or unsaturated monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms. , A monovalent group formed by bonding the aliphatic hydrocarbon group to an oxygen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a hydroxyl group (—OH), a cyano group (—C≡N), a phenoxy group (—O— C 6 H 5 ) and the like can be exemplified, and the number and position of substituents are not particularly limited. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group that is a substituent include the same aliphatic hydrocarbon groups as those described above for R except that the number of carbon atoms is 1 to 16.

RにおけるYは、それぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子である。そして、一般式「R−CY−」、「CY−」及び「R−C(=O)−CY−」においては、それぞれ複数個のYは、互いに同一でも異なっていてもよい。 Y in R each independently represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or a hydrogen atom. In the general formulas “R 1 —CY 2 —”, “CY 3 —” and “R 6 —C (═O) —CY 2 —”, a plurality of Y may be the same or different from each other. Good.

RにおけるRは、炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基(C−)であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるRは、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるRは、炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり、炭素数が1〜16である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるR及びRは、それぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基である。すなわち、R及びRは、互いに同一でも異なっていてもよく、炭素数が1〜18である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
RにおけるRは、炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり、Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
R 1 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms or a phenyl group (C 6 H 5 —), and the aliphatic hydrocarbon group in R 1 has 1 to 19 carbon atoms. Except for this point, the same aliphatic hydrocarbon groups as those in R can be exemplified.
R 2 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and examples thereof are the same as the aliphatic hydrocarbon group in R.
R 3 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms, and examples thereof are the same as the aliphatic hydrocarbon group in R except that the carbon number is 1 to 16.
R 4 and R 5 in R are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. That is, R 4 and R 5 may be the same as or different from each other, and examples thereof are the same as the aliphatic hydrocarbon group in R except that the number of carbon atoms is 1 to 18.
R 6 in R is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a hydroxyl group, or a group represented by the formula “AgO—”, and the aliphatic hydrocarbon group in R 6 has 1 to 1 carbon atoms. Except for being 19, the same aliphatic hydrocarbon groups as those described above for R can be exemplified.

Rは、上記の中でも、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、一般式「R−C(=O)−CY−」で表される基、水酸基又はフェニル基であることが好ましい。そして、Rは、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であることが好ましい。 Among these, R is preferably a linear or branched alkyl group, a group represented by the general formula “R 6 —C (═O) —CY 2 —”, a hydroxyl group, or a phenyl group. . R 6 is preferably a linear or branched alkyl group, a hydroxyl group, or a group represented by the formula “AgO—”.

一般式(1)において、Xはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基(C−CH−)、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基(C−O−CH=CH−)、又は一般式「RO−」、「RS−」、「R−C(=O)−」若しくは「R−C(=O)−O−」で表される基である。
Xにおける炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基としては、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。
In the general formula (1), each X independently represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, or benzyl. A group (C 6 H 5 —CH 2 —), a cyano group, an N-phthaloyl-3-aminopropyl group, a 2-ethoxyvinyl group (C 2 H 5 —O—CH═CH—), or the general formula “R 7 It is a group represented by “O—”, “R 7 S—”, “R 7 —C (═O) —” or “R 7 —C (═O) —O—”.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms in X include those similar to the aliphatic hydrocarbon group in R.

Xにおけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。
Xにおけるフェニル基及びベンジル基は、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよく、好ましい前記置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ニトロ基(−NO)等が例示でき、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
Examples of the halogen atom in X include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
In the phenyl group and benzyl group in X, one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. Preferred examples of the substituent include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom), nitro group (-NO 2) or the like can be exemplified, the number and position of the substituent is not particularly limited. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other.

XにおけるRは、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基(CS−)、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基(ビフェニル基、C−C−)である。Rにおける前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜10である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。また、Rにおけるフェニル基及びジフェニル基の前記置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)等が例示でき、置換基の数及び位置は特に限定されない。そして、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。
がチエニル基又はジフェニル基である場合、これらの、Xにおいて隣接する基又は原子(酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基)との結合位置は、特に限定されない。例えば、チエニル基は、2−チエニル基及び3−チエニル基のいずれでもよい。
R 7 in X is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group (C 4 H 3 S—), or a phenyl group or diphenyl in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. group (biphenyl group, C 6 H 5 -C 6 H 4 -) it is. Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R 7 include those similar to the aliphatic hydrocarbon group for R except that the aliphatic hydrocarbon group has 1 to 10 carbon atoms. Further, examples of the substituent of the phenyl group and a diphenyl group in R 7, halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom) can be exemplified the like, the number and position of the substituent is not particularly limited. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other.
When R 7 is a thienyl group or a diphenyl group, the bonding position of these with an adjacent group or atom (oxygen atom, sulfur atom, carbonyl group, carbonyloxy group) in X is not particularly limited. For example, the thienyl group may be a 2-thienyl group or a 3-thienyl group.

一般式(1)において、2個のXは、2個のカルボニル基で挟まれた炭素原子と二重結合を介して1個の基として結合していてもよく、このようなものとしては式「=CH−C−NO」で表される基が例示できる。 In the general formula (1), two Xs may be bonded as one group through a double bond with a carbon atom sandwiched between two carbonyl groups. A group represented by “═CH—C 6 H 4 —NO 2 ” can be exemplified.

Xは、上記の中でも、水素原子、直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル基、又はベンジル基であることが好ましく、少なくとも一方のXが水素原子であることが好ましい。   Among these, X is preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, or a benzyl group, and at least one X is preferably a hydrogen atom.

前記β−ケトカルボン酸銀(1)は、2−メチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CH)−C(=O)−OAg)、アセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−エチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CHCH)−C(=O)−OAg)、プロピオニル酢酸銀(CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、2−n−ブチルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CHCHCHCH)−C(=O)−OAg)、2−ベンジルアセト酢酸銀(CH−C(=O)−CH(CH)−C(=O)−OAg)、ベンゾイル酢酸銀(C−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、ピバロイルアセト酢酸銀((CHC−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、イソブチリルアセト酢酸銀((CHCH−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)、又はアセトンジカルボン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)であることが好ましい。これらβ−ケトカルボン酸銀(1)は、前記一般式(1)で表されるものの中でも、加熱(焼成)処理により形成された加熱処理物(導電体、金属銀)において、残存する原料や不純物の濃度をより低減できる。原料や不純物が少ない程、例えば、形成された金属銀同士の接触が良好となり、導通が容易となり、抵抗率が低下する。 The silver β-ketocarboxylate (1) is silver 2-methylacetoacetate (CH 3 —C (═O) —CH (CH 3 ) —C (═O) —OAg), silver acetoacetate (CH 3 —C ( = O) -CH 2 -C (= O) -OAg), 2- ethylacetoacetate silver (CH 3 -C (= O) -CH (CH 2 CH 3) -C (= O) -OAg), propionylacetate silver (CH 3 CH 2 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg), 2-n- Buchiruaseto silver acetate (CH 3 -C (= O) -CH (CH 2 CH 2 CH 2 CH 3) -C (= O) -OAg), 2- benzyl acetoacetate silver (CH 3 -C (= O) -CH (CH 2 C 6 H 5) -C (= O) -OAg), benzoyl acetate silver (C 6 H 5 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg), Pibaroiruaseto silver acetate ((C H 3) 3 C-C ( = O) -CH 2 -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg), isobutyryl acetoacetate silver ((CH 3) 2 CH- C (= O) —CH 2 —C (═O) —CH 2 —C (═O) —OAg), or silver acetonedicarboxylate (AgO—C (═O) —CH 2 —C (═O) —CH 2 — C (= O) -OAg) is preferred. Among these β-ketocarboxylates (1), among those represented by the general formula (1), the remaining raw materials and impurities in the heat-treated product (conductor, metallic silver) formed by the heating (firing) treatment The concentration of can be further reduced. The smaller the raw materials and impurities, for example, the better the contact between the formed metal silvers, the easier the conduction, and the lower the resistivity.

前記β−ケトカルボン酸銀(1)は、後述するように、当該分野で公知の還元剤等を使用しなくても、好ましくは60〜210℃、より好ましくは60〜200℃という低温で分解し、金属銀を形成することが可能である。   The β-ketocarboxylate (1) is decomposed at a low temperature of preferably 60 to 210 ° C., more preferably 60 to 200 ° C. without using a reducing agent known in the art as described later. It is possible to form metallic silver.

本発明において、β−ケトカルボン酸銀(1)は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   In this invention, (beta) -ketocarboxylate (1) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, the combination and ratio can be adjusted arbitrarily.

(カルボン酸銀(4))
カルボン酸銀(4)は、前記一般式(4)で表される
式中、Rは炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、カルボキシ基(−COOH)又は式「−COOAg」で表される基である。
における前記脂肪族炭化水素基としては、炭素数が1〜19である点以外は、Rにおける前記脂肪族炭化水素基と同様のものが例示できる。ただし、Rにおける前記脂肪族炭化水素基は、炭素数が1〜15であることが好ましく、1〜10であることがより好ましい。
(Silver carboxylate (4))
The carboxylate silver (4) is represented by the general formula (4). In the formula, R 8 is represented by an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, a carboxy group (—COOH) or the formula “—COOAg”. Group.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R 8 include those similar to the aliphatic hydrocarbon group for R except that the aliphatic hydrocarbon group has 1 to 19 carbon atoms. However, the aliphatic hydrocarbon group for R 8 preferably has 1 to 15 carbon atoms, and more preferably 1 to 10 carbon atoms.

における前記脂肪族炭化水素基がメチレン基(−CH−)を有する場合、1個以上の該メチレン基はカルボニル基で置換されていてもよい。カルボニル基で置換されていてもよいメチレン基の数及び位置は特に限定されず、すべてのメチレン基がカルボニル基で置換されていてもよい。ここで「メチレン基」とは、単独の式「−CH−」で表される基だけでなく、式「−CH−」で表される基が複数個連なったアルキレン基中の1個の式「−CH−」で表される基も含むものとする。 When the aliphatic hydrocarbon group for R 8 has a methylene group (—CH 2 —), one or more of the methylene groups may be substituted with a carbonyl group. The number and position of the methylene groups that may be substituted with a carbonyl group are not particularly limited, and all methylene groups may be substituted with a carbonyl group. Here, the “methylene group” is not only a single group represented by the formula “—CH 2 —” but also one alkylene group in which a plurality of groups represented by the formula “—CH 2 —” are linked. And a group represented by the formula “—CH 2 —”.

カルボン酸銀(4)は、ピルビン酸銀(CH−C(=O)−C(=O)−OAg)、酢酸銀(CH−C(=O)−OAg)、酪酸銀(CH−(CH−C(=O)−OAg)、イソ酪酸銀((CHCH−C(=O)−OAg)、2−エチルへキサン酸銀(CH−(CH−CH(CHCH)−C(=O)−OAg)、ネオデカン酸銀(CH−(CH−C(CH−C(=O)−OAg)、シュウ酸銀(AgO−C(=O)−C(=O)−OAg)、又はマロン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)であることが好ましい。また、上記のシュウ酸銀(AgO−C(=O)−C(=O)−OAg)及びマロン酸銀(AgO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)の2個の式「−COOAg」で表される基のうち、1個が式「−COOH」で表される基となったもの(HO−C(=O)−C(=O)−OAg、HO−C(=O)−CH−C(=O)−OAg)も好ましい。 Silver carboxylate (4) is silver pyruvate (CH 3 —C (═O) —C (═O) —OAg), silver acetate (CH 3 —C (═O) —OAg), silver butyrate (CH 3 - (CH 2) 2 -C ( = O) -OAg), isobutyric acid silver ((CH 3) 2 CH- C (= O) -OAg), hexane silver 2-ethylhexyl (CH 3 - (CH 2 ) 3 —CH (CH 2 CH 3 ) —C (═O) —OAg), silver neodecanoate (CH 3 — (CH 2 ) 5 —C (CH 3 ) 2 —C (═O) —OAg), Shu It is preferably silver oxide (AgO—C (═O) —C (═O) —OAg) or silver malonate (AgO—C (═O) —CH 2 —C (═O) —OAg). Also, 2 of the silver oxalate (AgO-C (= O) -C (= O) -OAg) and malonic silver (AgO-C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg) Of the groups represented by the formula “—COOAg”, one is a group represented by the formula “—COOH” (HO—C (═O) —C (═O) —OAg, HO) -C (= O) -CH 2 -C (= O) -OAg) it is also preferred.

カルボン酸銀(4)も、β−ケトカルボン酸銀(1)と同様に、加熱(焼成)処理により形成された加熱処理物(導電体、金属銀)において、残存する原料や不純物の濃度をより低減できる。   Similarly to silver β-ketocarboxylate (1), silver carboxylate (4) has a higher concentration of the remaining raw materials and impurities in the heat-treated product (conductor, metal silver) formed by the heating (firing) treatment. Can be reduced.

本発明において、カルボン酸銀(4)は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   In this invention, silver carboxylate (4) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together, the combination and ratio can be adjusted arbitrarily.

本発明の積層体は、図1に示すものに限定されず、本発明の効果を損なわない範囲内において、一部構成が適宜変更されたものでもよい。例えば、基材、受容層及び導電層以外に、その他の層が形成されていてもよい。また、ここでは、基材の主面のうち、一方の面のみに受容層及び導電層が設けられたものを示しているが、主面の両面(前記一方の面と、これとは反対側の他方の面と、の両方)に受容層及び導電層が設けられたものでもよい。   The laminated body of the present invention is not limited to that shown in FIG. 1, and a part of the structure may be appropriately changed within a range not impairing the effects of the present invention. For example, in addition to the base material, the receiving layer, and the conductive layer, other layers may be formed. In addition, here, the main surface of the base material is shown in which the receiving layer and the conductive layer are provided on only one surface, but both surfaces of the main surface (the one surface and the opposite side to the one surface) And the other side of the substrate) may be provided with a receiving layer and a conductive layer.

<積層体の製造方法>
本発明の積層体は、受容層の形成に化合物(3)を用い、導電層の形成に前記カルボン酸銀を用いること以外は、公知の積層体と同様の方法で製造できる。
前記積層体の好ましい製造方法としては、前記基材上に、化合物(3)を用いて前記受容層を形成する工程(以下、「受容層形成工程」と略記することがある)と、前記受容層上に、前記カルボン酸銀を用いて前記導電層を形成する工程(以下、「導電層形成工程」と略記することがある)と、を有することを特徴とする製造方法が例示できる。
<Method for producing laminate>
The laminate of the present invention can be produced by the same method as that of a known laminate except that the compound (3) is used for forming the receptor layer and the silver carboxylate is used for forming the conductive layer.
As a preferable method for producing the laminate, a step of forming the receptor layer on the substrate using the compound (3) (hereinafter sometimes abbreviated as “receptor layer forming step”), and the receptor A production method characterized by having a step of forming the conductive layer using the silver carboxylate (hereinafter sometimes abbreviated as “conductive layer forming step”) on the layer is exemplified.

[受容層形成工程]
受容層形成工程においては、前記基材(基材2)上に、化合物(3)を用いて前記受容層(受容層3)を形成する。
受容層は、例えば、化合物(3)が配合されてなる受容層形成用組成物を調製し、これを基材上に付着させて、加熱処理することで形成できる。
[Receptive layer forming step]
In the receiving layer forming step, the receiving layer (receiving layer 3) is formed on the base material (base material 2) using the compound (3).
The receptor layer can be formed, for example, by preparing a composition for forming a receptor layer in which the compound (3) is blended, attaching the composition to a substrate, and performing heat treatment.

受容層形成用組成物としては、化合物(3)及び溶媒が配合されてなる液状のものが例示できる。   Examples of the composition for forming a receiving layer include a liquid composition in which the compound (3) and a solvent are blended.

受容層形成用組成物の調製に用いる前記溶媒は、化合物(3)を著しく劣化させない限り、特に限定されず、好ましいものとしては、エタノール、2−プロパノール(イソプロピルアルコール)等の炭素数が2以上のアルコールが例示できる。
前記溶媒は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合で、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
The solvent used for the preparation of the composition for forming a receiving layer is not particularly limited as long as the compound (3) is not significantly deteriorated. Preferred examples include those having 2 or more carbon atoms such as ethanol and 2-propanol (isopropyl alcohol). The alcohol can be illustrated.
The said solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

受容層形成用組成物において、配合成分の総量に占める化合物(3)の配合量の比率(濃度)は、0.3〜50質量%であることが好ましく、0.7〜30質量%であることがより好ましい。下限値以上であることで、受容層をより効率的に形成でき、上限値以下であることで、前記組成物の取り扱い性がより向上する。   In the composition for forming a receiving layer, the ratio (concentration) of the compound (3) in the total amount of the compounding components is preferably 0.3 to 50% by mass, and 0.7 to 30% by mass. It is more preferable. By being more than a lower limit, a receiving layer can be formed more efficiently, and by being below an upper limit, the handleability of the said composition improves more.

受容層形成用組成物は、化合物(3)及び溶媒以外に、その他の成分が配合されてなるものでもよい。
前記その他の成分は、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されない。
受容層形成用組成物において、配合成分の総量に占める前記その他の成分の配合量の比率は、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。
前記その他の成分は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合で、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
The composition for forming the receiving layer may be one in which other components are blended in addition to the compound (3) and the solvent.
The other components can be arbitrarily selected according to the purpose and are not particularly limited.
In the composition for forming a receiving layer, the ratio of the blended amount of the other components to the total amount of the blended components is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.
One of these other components may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

受容層形成用組成物中の成分は、すべて溶解していてもよいし、一部又はすべてが溶解していなくてもよいが、溶解していない成分は、均一に分散されていることが好ましい。   All of the components in the composition for forming the receiving layer may be dissolved, or some or all of the components may not be dissolved, but the components that are not dissolved are preferably uniformly dispersed. .

受容層形成用組成物は、化合物(3)、及び化合物(3)以外の成分を配合することで得られる。
各成分の配合時には、すべての成分を添加してからこれらを混合してもよいし、一部の成分を順次添加しながら混合してもよく、すべての成分を順次添加しながら混合してもよい。
混合方法は特に限定されず、撹拌子又は撹拌翼等を回転させて混合する方法、ミキサーを使用して混合する方法、超音波を加えて混合する方法等、公知の方法から適宜選択すればよい。
The composition for forming a receiving layer is obtained by blending a component other than the compound (3) and the compound (3).
At the time of blending each component, all the components may be added and then mixed, or some components may be mixed while being added sequentially, or all components may be mixed while being added sequentially. Good.
The mixing method is not particularly limited, and may be appropriately selected from known methods such as a method of mixing by rotating a stirrer or a stirring blade, a method of mixing using a mixer, a method of adding ultrasonic waves, and the like. .

配合時の温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、−5〜30℃であることが好ましい。
また、配合時間(混合時間)は、配合成分の種類や配合時の温度に応じて適宜調節すればよいが、例えば、0.5〜15時間であることが好ましい。
The temperature at the time of blending is not particularly limited as long as each blending component does not deteriorate, but is preferably −5 to 30 ° C.
Moreover, what is necessary is just to adjust a mixing | blending time (mixing time) suitably according to the kind of mixing | blending component, and the temperature at the time of mixing | blending, For example, it is preferable that it is 0.5 to 15 hours.

液状の受容層形成用組成物は、例えば、印刷法、塗布法、浸漬法等の公知の方法で基材上に付着させることができる。
前記印刷法としては、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、ディップ式印刷法、インクジェット式印刷法、ディスペンサー式印刷法等が例示できる。
前記塗布法としては、スピンコーター、エアーナイフコーター、カーテンコーター、ダイコーター、ブレードコーター、ロールコーター、ゲートロールコーター、バーコーター、ロッドコーター、グラビアコーター等の各種コーターや、ワイヤーバー等を用いる方法が例示できる。
The liquid receptive layer forming composition can be deposited on the substrate by a known method such as a printing method, a coating method, or a dipping method.
Examples of the printing method include screen printing, offset printing, dip printing, ink jet printing, dispenser printing, and the like.
Examples of the coating method include spin coaters, air knife coaters, curtain coaters, die coaters, blade coaters, roll coaters, gate roll coaters, bar coaters, rod coaters, gravure coaters, and other methods such as wire bars. It can be illustrated.

受容層形成工程においては、基材に付着させる受容層形成用組成物の量、又は受容層形成用組成物における化合物(3)の配合量をすることで、受容層の厚さを調節できる。   In the receiving layer forming step, the thickness of the receiving layer can be adjusted by adjusting the amount of the receiving layer forming composition to be adhered to the substrate or the amount of compound (3) in the receiving layer forming composition.

基材上に付着させた受容層形成用組成物の加熱処理の条件は、前記組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよく、例えば、化合物(3)の反応と、溶媒の除去(乾燥)とが、円滑に進むように調節することが好ましい。通常は、加熱温度が50〜180℃であることが好ましく、80〜160℃であることがより好ましい。加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、3〜60分間であることが好ましく、5〜30分間であることがより好ましい。   The conditions for the heat treatment of the composition for forming a receiving layer deposited on the substrate may be adjusted as appropriate according to the type of ingredients of the composition. For example, the reaction of the compound (3) and the removal of the solvent (Drying) is preferably adjusted so as to proceed smoothly. Usually, it is preferable that heating temperature is 50-180 degreeC, and it is more preferable that it is 80-160 degreeC. Although what is necessary is just to adjust a heating time according to heating temperature, Usually, it is preferable that it is 3 to 60 minutes, and it is more preferable that it is 5 to 30 minutes.

受容層形成工程においては、受容層形成用組成物を付着させる前に、基材を加熱処理(アニール処理)してもよい。基材を加熱処理しておくことで、後述する導電層形成工程において、銀インク組成物を加熱(焼成)処理したときに、基材の収縮が抑制され、寸法安定性が向上する。
受容層形成用組成物を付着させる前の、基材の加熱処理の条件は、基材の種類に応じて適宜調節すればよく、特に限定されないが、60〜200℃で10〜60分間加熱処理することが好ましく、導電層形成工程での銀インク組成物の加熱(焼成)処理の条件と同じでもよい。
In the receiving layer forming step, the substrate may be heat-treated (annealed) before the receiving layer forming composition is adhered. By heat-treating the base material, shrinkage of the base material is suppressed and dimensional stability is improved when the silver ink composition is heat-treated (baked) in the conductive layer forming step described later.
The conditions for the heat treatment of the base material before adhering the composition for forming the receiving layer may be appropriately adjusted according to the type of the base material, and are not particularly limited, but the heat treatment is performed at 60 to 200 ° C. for 10 to 60 minutes. Preferably, the conditions may be the same as the conditions for the heating (firing) treatment of the silver ink composition in the conductive layer forming step.

また、本発明においては、受容層形成用組成物を付着させる前に、基材の受容層を形成する面をプラズマ処理してもよい。すなわち、前記製造方法は、受容層形成工程の前に、さらに、基材の受容層を形成する面をプラズマ処理する工程(以下、「プラズマ処理工程」と略記することがある)を有していてもよい。基材をプラズマ処理しておくことで、後述する導電層形成工程において、受容層上で銀インク組成物の滲みが抑制され、加熱(焼成)処理により形成された導電体(金属銀)は、表面からひげ状に伸びて生じた部位(以下、「ひげ状の滲み部位」と略記する)の発生が抑制されるか、又は当該部位の長さが短くなる。   In the present invention, the surface of the substrate on which the receiving layer is to be formed may be subjected to plasma treatment before the receiving layer forming composition is adhered. That is, the manufacturing method further includes a step of plasma-treating the surface of the base material on which the receiving layer is formed (hereinafter sometimes abbreviated as “plasma treatment step”) before the receiving layer forming step. May be. By conducting the plasma treatment on the substrate, in the conductive layer forming step described later, bleeding of the silver ink composition on the receiving layer is suppressed, and the conductor (metal silver) formed by the heating (firing) treatment is Occurrence of a portion (hereinafter abbreviated as “beard-like bleeding portion”) generated by extending in a whisker shape from the surface is suppressed, or the length of the portion is shortened.

プラズマ処理工程では、公知の方法でプラズマ処理を行えばよい。例えば、大気圧プラズマ処理の場合には、電圧290〜300W、気流速度1.0〜5.0m/分等の条件で処理を行えばよい。   In the plasma treatment step, plasma treatment may be performed by a known method. For example, in the case of atmospheric pressure plasma treatment, the treatment may be performed under conditions such as a voltage of 290 to 300 W and an air velocity of 1.0 to 5.0 m / min.

[導電層形成工程]
次いで、導電層形成工程においては、受容層上に、前記カルボン酸銀を用いて導電層を形成する。
導電層は、カルボン酸銀が配合されてなる銀インク組成物を調製し、これを受容層上に付着させて、加熱処理することで形成できる。
銀インク組成物としては、液状のものが好ましく、前記カルボン酸銀が均一に分散されたものが好ましい。
[Conductive layer forming step]
Next, in the conductive layer forming step, a conductive layer is formed on the receiving layer using the silver carboxylate.
The conductive layer can be formed by preparing a silver ink composition containing silver carboxylate, adhering it to the receiving layer, and subjecting it to a heat treatment.
As the silver ink composition, a liquid one is preferable, and one in which the silver carboxylate is uniformly dispersed is preferable.

銀インク組成物において、前記カルボン酸銀中の銀の含有量は、5質量%以上であることが好ましく、10質量%以上であることがより好ましい。このような範囲であることで、後述する方法で形成された導電層は、品質により優れたものとなる。前記銀の含有量の上限値は、本発明の効果を損なわない限り特に限定されないが、取り扱い性等を考慮すると25質量%であることが好ましい。   In the silver ink composition, the silver content in the silver carboxylate is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more. By being in such a range, the conductive layer formed by the method described later is superior in quality. The upper limit of the silver content is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, but it is preferably 25% by mass in consideration of handling properties and the like.

(アミン化合物、アンモニウム塩)
前記銀インク組成物は、前記カルボン酸銀以外に、さらにアミン化合物及び/又はアンモニウム塩が配合されてなるものが好ましい。そして、前記アミン化合物及び/又はアンモニウム塩は、炭素数が2〜25であることが好ましい。
(Amine compound, ammonium salt)
The silver ink composition preferably contains an amine compound and / or an ammonium salt in addition to the silver carboxylate. The amine compound and / or ammonium salt preferably has 2 to 25 carbon atoms.

炭素数2〜25のアミン化合物は、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンのいずれでもよい。また、炭素数2〜25のアンモニウム塩とは、かかる炭素数の第四級アンモニウム塩である。前記アミン化合物及びアンモニウム塩は、鎖状及び環状のいずれでもよい。また、アミン又はアンモニウム塩を形成している窒素原子の数は1個でもよいし、2個以上でもよい。   The amine compound having 2 to 25 carbon atoms may be any of primary amine, secondary amine and tertiary amine. Moreover, C2-C25 ammonium salt is a quaternary ammonium salt of this carbon number. The amine compound and ammonium salt may be either chain or cyclic. Further, the number of nitrogen atoms forming the amine or ammonium salt may be one, or two or more.

前記第一級アミンとしては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいモノアルキルアミン、モノアリールアミン、モノ(ヘテロアリール)アミン、ジアミン等が例示できる。   Examples of the primary amine include monoalkylamines, monoarylamines, mono (heteroaryl) amines, and diamines in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、Rにおける前記アルキル基と同様のものが例示でき、炭素数が1〜19の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。
好ましい前記モノアルキルアミンとして、具体的には、n−ブチルアミン、n−へキシルアミン、n−オクチルアミン、n−ドデシルアミン、n−オクタデシルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、3−アミノペンタン、3−メチルブチルアミン、2−アミノオクタン、2−エチルヘキシルアミン、1,2−ジメチル−n−プロピルアミンが例示できる。
The alkyl group constituting the monoalkylamine may be linear, branched or cyclic, and examples thereof are the same as the alkyl group in R, and are linear or branched having 1 to 19 carbon atoms. It is preferably a chain alkyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 7 carbon atoms.
Specific examples of preferable monoalkylamine include n-butylamine, n-hexylamine, n-octylamine, n-dodecylamine, n-octadecylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, 3-aminopentane, 3 Examples include -methylbutylamine, 2-aminooctane, 2-ethylhexylamine, and 1,2-dimethyl-n-propylamine.

前記モノアリールアミンを構成するアリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が例示でき、炭素数が6〜10であることが好ましい。   Examples of the aryl group constituting the monoarylamine include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, and the like, and preferably has 6 to 10 carbon atoms.

前記モノ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基は、芳香族環骨格を構成する原子として、ヘテロ原子を有するものであり、前記ヘテロ原子としては、窒素原子、硫黄原子、酸素原子、ホウ素原子が例示できる。また、芳香族環骨格を構成する前記へテロ原子の数は特に限定されず、1個でもよいし、2個以上でもよい。2個以上である場合、これらへテロ原子は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、これらへテロ原子は、すべて同じでもよいし、すべて異なっていてもよく、一部のみが異なっていてもよい。
前記ヘテロアリール基は、単環状及び多環状のいずれでもよく、その環員数(環骨格を構成する原子の数)も特に限定されないが、3〜12員環であることが好ましい。
The heteroaryl group constituting the mono (heteroaryl) amine has a heteroatom as an atom constituting the aromatic ring skeleton, and the heteroatom includes a nitrogen atom, a sulfur atom, an oxygen atom, and a boron atom. Can be illustrated. Moreover, the number of the said hetero atom which comprises an aromatic ring frame is not specifically limited, One may be sufficient and two or more may be sufficient. When there are two or more, these heteroatoms may be the same or different from each other. That is, these heteroatoms may all be the same, may all be different, or may be partially different.
The heteroaryl group may be monocyclic or polycyclic, and the number of ring members (the number of atoms constituting the ring skeleton) is not particularly limited, but is preferably a 3- to 12-membered ring.

前記ヘテロアリール基で、窒素原子を1〜4個有する単環状のものとしては、ピロリル基、ピロリニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピペリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペラジニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1個有する単環状のものとしては、フラニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1個有する単環状のものとしては、チエニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する単環状のものとしては、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサジアゾリル基、モルホリニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する単環状のものとしては、チアゾリル基、チアジアゾリル基、チアゾリジニル基が例示でき、3〜8員環であることが好ましく、5〜6員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、窒素原子を1〜5個有する多環状のものとしては、インドリル基、イソインドリル基、インドリジニル基、ベンズイミダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、インダゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、テトラゾロピリジル基、テトラゾロピリダジニル基、ジヒドロトリアゾロピリダジニル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜3個有する多環状のものとしては、ジチアナフタレニル基、ベンゾチオフェニル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、酸素原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する多環状のものとしては、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
前記ヘテロアリール基で、硫黄原子を1〜2個及び窒素原子を1〜3個有する多環状のものとしては、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基が例示でき、7〜12員環であることが好ましく、9〜10員環であることがより好ましい。
Examples of the monoaryl group having 1 to 4 nitrogen atoms as the heteroaryl group include pyrrolyl group, pyrrolinyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrimidyl group, pyrazinyl group, pyridazinyl group, triazolyl group, and tetrazolyl group. , A pyrrolidinyl group, an imidazolidinyl group, a piperidinyl group, a pyrazolidinyl group, and a piperazinyl group are preferable, and a 3- to 8-membered ring is preferable, and a 5- to 6-membered ring is more preferable.
Examples of the monoaryl group having one oxygen atom as the heteroaryl group include a furanyl group, preferably a 3- to 8-membered ring, and more preferably a 5- to 6-membered ring.
Examples of the monoaryl group having one sulfur atom as the heteroaryl group include a thienyl group, preferably a 3- to 8-membered ring, and more preferably a 5- to 6-membered ring.
Examples of the monoaryl group having 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms as the heteroaryl group include an oxazolyl group, an isoxazolyl group, an oxadiazolyl group, and a morpholinyl group. It is preferable that it is a 5- to 6-membered ring.
Examples of the monoaryl group having 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms as the heteroaryl group include a thiazolyl group, a thiadiazolyl group, and a thiazolidinyl group, and a 3- to 8-membered ring. Preferably, it is a 5-6 membered ring.
Examples of the polyaryl group having 1 to 5 nitrogen atoms as the heteroaryl group include indolyl group, isoindolyl group, indolizinyl group, benzimidazolyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, indazolyl group, benzotriazolyl group, tetra Examples include a zolopyridyl group, a tetrazolopyridazinyl group, and a dihydrotriazolopyridazinyl group, preferably a 7-12 membered ring, and more preferably a 9-10 membered ring.
Examples of the polyaryl group having 1 to 3 sulfur atoms as the heteroaryl group include a dithiaphthalenyl group and a benzothiophenyl group, preferably a 7 to 12 membered ring, preferably a 9 to 10 membered ring. More preferably, it is a ring.
Examples of the polyaryl group having 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms as the heteroaryl group include a benzoxazolyl group and a benzooxadiazolyl group. It is preferable that it is a 9-10 membered ring.
Examples of the polyaryl group having 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms as the heteroaryl group include a benzothiazolyl group and a benzothiadiazolyl group, and is a 7 to 12 membered ring. Preferably, it is a 9-10 membered ring.

前記ジアミンは、アミノ基を2個有していればよく、2個のアミノ基の位置関係は特に限定されない。好ましい前記ジアミンとしては、前記モノアルキルアミン、モノアリールアミン又はモノ(ヘテロアリール)アミンにおいて、アミノ基(−NH)を構成する水素原子以外の1個の水素原子が、アミノ基で置換されたものが例示できる。
前記ジアミンは炭素数が1〜10であることが好ましく、より好ましいものとしてはエチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタンが例示できる。
The diamine only needs to have two amino groups, and the positional relationship between the two amino groups is not particularly limited. As the preferred diamine, in the monoalkylamine, monoarylamine or mono (heteroaryl) amine, one hydrogen atom other than the hydrogen atom constituting the amino group (—NH 2 ) is substituted with an amino group. The thing can be illustrated.
The diamine preferably has 1 to 10 carbon atoms, and more preferable examples include ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, and 1,4-diaminobutane.

前記第二級アミンとしては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいジアルキルアミン、ジアリールアミン、ジ(ヘテロアリール)アミン等が例示できる。   Examples of the secondary amine include dialkylamine, diarylamine, di (heteroaryl) amine and the like in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記ジアルキルアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、ジアルキルアミン一分子中の2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
好ましい前記ジアルキルアミンとして、具体的には、N−メチル−n−ヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、ジ(2−エチルへキシル)アミンが例示できる。
The alkyl group that constitutes the dialkylamine is the same as the alkyl group that constitutes the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or 3 to 7 carbon atoms. A cyclic alkyl group is preferred. Two alkyl groups in one molecule of dialkylamine may be the same as or different from each other.
Specific examples of preferable dialkylamine include N-methyl-n-hexylamine, diisobutylamine, and di (2-ethylhexyl) amine.

前記ジアリールアミンを構成するアリール基は、前記モノアリールアミンを構成するアリール基と同様であり、炭素数が6〜10であることが好ましい。また、ジアリールアミン一分子中の2個のアリール基は、互いに同一でも異なっていてもよい。   The aryl group constituting the diarylamine is the same as the aryl group constituting the monoarylamine, and preferably has 6 to 10 carbon atoms. Two aryl groups in one molecule of diarylamine may be the same as or different from each other.

前記ジ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基は、前記モノ(ヘテロアリール)アミンを構成するヘテロアリール基と同様であり、6〜12員環であることが好ましい。また、ジ(ヘテロアリール)アミン一分子中の2個のヘテロアリール基は、互いに同一でも異なっていてもよい。   The heteroaryl group constituting the di (heteroaryl) amine is the same as the heteroaryl group constituting the mono (heteroaryl) amine, and is preferably a 6-12 membered ring. Two heteroaryl groups in one molecule of di (heteroaryl) amine may be the same or different from each other.

前記第三級アミンとしては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいトリアルキルアミン、ジアルキルモノアリールアミン等が例示できる。   Examples of the tertiary amine include trialkylamine and dialkylmonoarylamine in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.

前記トリアルキルアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜19の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、トリアルキルアミン一分子中の3個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、3個のアルキル基は、すべてが同じでもよいし、すべてが異なっていてもよく、一部のみが異なっていてもよい。
好ましい前記トリアルキルアミンとして、具体的には、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミンが例示できる。
The alkyl group constituting the trialkylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 19 carbon atoms, or 3 to 7 carbon atoms. The cyclic alkyl group is preferably. Further, the three alkyl groups in one molecule of trialkylamine may be the same as or different from each other. That is, all three alkyl groups may be the same, all may be different, or only a part may be different.
Preferable examples of the trialkylamine include N, N-dimethyl-n-octadecylamine and N, N-dimethylcyclohexylamine.

前記ジアルキルモノアリールアミンを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜6の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は炭素数が3〜7の環状のアルキル基であることが好ましい。また、ジアルキルモノアリールアミン一分子中の2個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。
前記ジアルキルモノアリールアミンを構成するアリール基は、前記モノアリールアミンを構成するアリール基と同様であり、炭素数が6〜10であることが好ましい。
The alkyl group constituting the dialkyl monoarylamine is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 3 to 3 carbon atoms. 7 is a cyclic alkyl group. Two alkyl groups in one molecule of dialkyl monoarylamine may be the same or different from each other.
The aryl group constituting the dialkyl monoarylamine is the same as the aryl group constituting the monoarylamine, and preferably has 6 to 10 carbon atoms.

前記第四級アンモニウム塩としては、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいハロゲン化テトラアルキルアンモニウム等が例示できる。
前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを構成するアルキル基は、前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基と同様であり、炭素数が1〜19であることが好ましい。また、ハロゲン化テトラアルキルアンモニウム一分子中の4個のアルキル基は、互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、4個のアルキル基は、すべてが同じでもよいし、すべてが異なっていてもよく、一部のみが異なっていてもよい。
前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムを構成するハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が例示できる。
好ましい前記ハロゲン化テトラアルキルアンモニウムとして、具体的には、ドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラドデシルアンモニウムブロミドが例示できる。
Examples of the quaternary ammonium salt include halogenated tetraalkylammonium, in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.
The alkyl group constituting the halogenated tetraalkylammonium is the same as the alkyl group constituting the monoalkylamine, and preferably has 1 to 19 carbon atoms. Further, the four alkyl groups in one molecule of the tetraalkylammonium halide may be the same as or different from each other. That is, all four alkyl groups may be the same, all may be different, or only a part may be different.
Examples of the halogen constituting the halogenated tetraalkylammonium include fluorine, chlorine, bromine and iodine.
Specific examples of preferable tetraalkylammonium halides include dodecyltrimethylammonium bromide and tetradodecylammonium bromide.

ここまでは、主に鎖状のアミン及びアンモニウム塩について説明したが、前記アミン化合物及びアンモニウム塩は、アミン又はアンモニウム塩を形成している窒素原子が環骨格(複素環骨格)の一部であるようなヘテロ環化合物であってもよい。すなわち、前記アミン化合物は環状アミンでもよく、前記アンモニウム塩は環状アンモニウム塩でもよい。この時の環(アミン又はアンモニウム塩を形成する窒素原子を含む環)骨格は、単環状及び多環状のいずれでもよく、その環員数(環骨格を構成する原子の数)も特に限定されず、脂肪族環及び芳香族環のいずれでもよい。
環状アミンであれば、好ましいものとして、ピリジンが例示できる。
Up to this point, mainly chain amines and ammonium salts have been described. In the amine compound and ammonium salt, the nitrogen atom forming the amine or ammonium salt is part of the ring skeleton (heterocyclic skeleton). Such a heterocyclic compound may be used. That is, the amine compound may be a cyclic amine, and the ammonium salt may be a cyclic ammonium salt. The ring (ring containing a nitrogen atom forming an amine or ammonium salt) skeleton at this time may be either monocyclic or polycyclic, and the number of ring members (number of atoms constituting the ring skeleton) is not particularly limited, Either an aliphatic ring or an aromatic ring may be used.
If it is a cyclic amine, a pyridine can be illustrated as a preferable thing.

前記第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン及び第四級アンモニウム塩において、「置換基で置換されていてもよい水素原子」とは、アミン又はアンモニウム塩を形成している窒素原子に結合している水素原子以外の水素原子である。この時の置換基の数は特に限定されず、1個でもよいし、2個以上でもよく、前記水素原子のすべてが置換基で置換されていてもよい。置換基の数が複数の場合には、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、複数個の置換基はすべて同じでもよいし、すべて異なっていてもよく、一部のみが異なっていてもよい。また、置換基の位置も特に限定されない。   In the primary amine, secondary amine, tertiary amine and quaternary ammonium salt, the “hydrogen atom optionally substituted with a substituent” refers to a nitrogen atom forming an amine or ammonium salt A hydrogen atom other than a hydrogen atom bonded to. The number of substituents at this time is not particularly limited, and may be one or two or more, and all of the hydrogen atoms may be substituted with a substituent. When the number of substituents is plural, the plural substituents may be the same as or different from each other. That is, the plurality of substituents may all be the same, may all be different, or only some may be different. Further, the position of the substituent is not particularly limited.

前記アミン化合物及びアンモニウム塩における前記置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、トリフルオロメチル基(−CF)等が例示できる。ここで、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。 Examples of the substituent in the amine compound and ammonium salt include an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, and a trifluoromethyl group (—CF 3 ). Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

前記モノアルキルアミンを構成するアルキル基が置換基を有する場合、かかるアルキル基は、置換基としてアリール基を有する、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は置換基として好ましくは炭素数が1〜5のアルキル基を有する、炭素数が3〜7の環状のアルキル基が好ましく、このような置換基を有するモノアルキルアミンとして、具体的には、2−フェニルエチルアミン、ベンジルアミン、2,3−ジメチルシクロヘキシルアミンが例示できる。
また、置換基である前記アリール基及びアルキル基は、さらに1個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよく、このようなハロゲン原子で置換された置換基を有するモノアルキルアミンとしては、2−ブロモベンジルアミンが例示できる。ここで、前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。
When the alkyl group constituting the monoalkylamine has a substituent, the alkyl group has an aryl group as a substituent, a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms, or a substituent Preferably, a cyclic alkyl group having 3 to 7 carbon atoms having an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is preferable, and specific examples of monoalkylamine having such a substituent include 2-phenylethylamine , Benzylamine, and 2,3-dimethylcyclohexylamine.
In addition, the aryl group and the alkyl group which are substituents may further have one or more hydrogen atoms substituted with halogen atoms, and as monoalkylamines having such substituents substituted with halogen atoms, And 2-bromobenzylamine. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

前記モノアリールアミンを構成するアリール基が置換基を有する場合、かかるアリール基は、置換基としてハロゲン原子を有する、炭素数が6〜10のアリール基が好ましく、このような置換基を有するモノアリールアミンとして、具体的には、ブロモフェニルアミンが例示できる。ここで、前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示できる。   When the aryl group constituting the monoarylamine has a substituent, the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms having a halogen atom as the substituent, and monoaryl having such a substituent. Specific examples of the amine include bromophenylamine. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

前記ジアルキルアミンを構成するアルキル基が置換基を有する場合、かかるアルキル基は、置換基として水酸基又はアリール基を有する、炭素数が1〜9の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、このような置換基を有するジアルキルアミンとして、具体的には、ジエタノールアミン、N−メチルベンジルアミンが例示できる。   When the alkyl group constituting the dialkylamine has a substituent, the alkyl group is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms and having a hydroxyl group or an aryl group as a substituent, Specific examples of the dialkylamine having such a substituent include diethanolamine and N-methylbenzylamine.

前記アミン化合物は、n−プロピルアミン、n−ブチルアミン、n−へキシルアミン、n−オクチルアミン、n−ドデシルアミン、n−オクタデシルアミン、sec−ブチルアミン、tert−ブチルアミン、3−アミノペンタン、3−メチルブチルアミン、2−アミノオクタン、2−エチルヘキシルアミン、2−フェニルエチルアミン、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、N−メチル−n−ヘキシルアミン、ジイソブチルアミン、N−メチルベンジルアミン、ジ(2−エチルへキシル)アミン、1,2−ジメチル−n−プロピルアミン、N,N−ジメチル−n−オクタデシルアミン又はN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンであることが好ましい。   The amine compound is n-propylamine, n-butylamine, n-hexylamine, n-octylamine, n-dodecylamine, n-octadecylamine, sec-butylamine, tert-butylamine, 3-aminopentane, 3-methyl. Butylamine, 2-aminooctane, 2-ethylhexylamine, 2-phenylethylamine, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, N-methyl-n-hexylamine, diisobutylamine, N-methylbenzylamine Di (2-ethylhexyl) amine, 1,2-dimethyl-n-propylamine, N, N-dimethyl-n-octadecylamine or N, N-dimethylcyclohexylamine is preferred.

本発明においては、アミン化合物のみを使用してもよいし、アンモニウム塩のみを使用してもよく、アミン化合物及びアンモニウム塩を併用してもよいが、アミン化合物のみを使用することが好ましい。   In the present invention, only an amine compound may be used, or only an ammonium salt may be used, and an amine compound and an ammonium salt may be used in combination, but it is preferable to use only an amine compound.

前記アミン化合物及びアンモニウム塩は、いずれも一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   Any of the amine compounds and ammonium salts may be used alone, or two or more of them may be used in combination. When using 2 or more types together, the combination and ratio can be adjusted arbitrarily.

銀インク組成物において、アミン化合物及びアンモニウム塩の総配合量は、前記カルボン酸銀の配合量1モルあたり1〜10モルであることが好ましく、1.5〜7モルであることがより好ましい。下限値以上であることで、銀インク組成物の安定性がより向上し、上限値以下であることで、導電層の品質がより向上する。   In the silver ink composition, the total compounding amount of the amine compound and the ammonium salt is preferably 1 to 10 mol, and more preferably 1.5 to 7 mol, per mol of the carboxylate silver. By being more than a lower limit, stability of a silver ink composition improves more, and the quality of an electroconductive layer improves more by being below an upper limit.

(アルコール)
前記銀インク組成物は、前記カルボン酸銀以外に、さらにアルコールが配合されてなるものでもよい。
前記アルコールは、下記一般式(2)で表されるアセチレンアルコール類(以下、「アセチレンアルコール(2)」と略記することがある)であることが好ましい。
(alcohol)
The silver ink composition may be further blended with alcohol in addition to the silver carboxylate.
The alcohol is preferably an acetylene alcohol represented by the following general formula (2) (hereinafter sometimes abbreviated as “acetylene alcohol (2)”).

Figure 0006008676
(式中、R’及びR’’は、それぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基である。)
Figure 0006008676
(In the formula, R ′ and R ″ are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.)

式中、R’及びR’’は、それぞれ独立に炭素数1〜20のアルキル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基である。
R’及びR’’における炭素数1〜20のアルキル基は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のいずれでもよく、環状である場合、単環状及び多環状のいずれでもよい。R’及びR’’における前記アルキル基としては、Rにおける前記アルキル基と同様のものが例示できる。
In the formula, R ′ and R ″ are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a phenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent.
The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in R ′ and R ″ may be linear, branched or cyclic, and when it is cyclic, it may be monocyclic or polycyclic. Examples of the alkyl group in R ′ and R ″ include the same alkyl groups as in R.

R’及びR’’におけるフェニル基の水素原子が置換されていてもよい前記置換基としては、炭素数が1〜16の飽和又は不飽和の一価の脂肪族炭化水素基、該脂肪族炭化水素基が酸素原子に結合してなる一価の基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、水酸基、シアノ基、フェノキシ基等が例示でき、Rにおけるフェニル基の水素原子が置換されていてもよい前記置換基と同様である。そして、置換基の数及び位置は特に限定されず、置換基の数が複数である場合、これら複数個の置換基は互いに同一でも異なっていてもよい。   Examples of the substituent in which the hydrogen atom of the phenyl group in R ′ and R ″ may be substituted include a saturated or unsaturated monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms, the aliphatic carbonization Examples thereof include a monovalent group formed by bonding a hydrogen group to an oxygen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, a hydroxyl group, a cyano group, a phenoxy group, and the like, and the hydrogen atom of the phenyl group in R may be substituted. This is the same as the substituent. And the number and position of a substituent are not specifically limited, When there are two or more substituents, these several substituents may mutually be same or different.

R’及びR’’は、炭素数1〜20のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であることがより好ましい。   R ′ and R ″ are preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

好ましいアセチレンアルコール(2)としては、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3−メチル−1−ペンチン−3−オールが例示できる。   Examples of preferable acetylene alcohol (2) include 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol, 3-methyl-1-butyn-3-ol, and 3-methyl-1-pentyn-3-ol.

銀インク組成物において、アセチレンアルコール(2)の配合量は、前記カルボン酸銀の配合量1モルあたり0.03〜0.7モルであることが好ましく、0.05〜0.3モルであることがより好ましい。下限値以上であることで、銀インク組成物の安定性がより向上し、上限値以下であることで、導電層の品質がより向上する。   In the silver ink composition, the blending amount of acetylene alcohol (2) is preferably 0.03 to 0.7 mole, and 0.05 to 0.3 mole per mole of the above-mentioned silver carboxylate. It is more preferable. By being more than a lower limit, stability of a silver ink composition improves more, and the quality of an electroconductive layer improves more by being below an upper limit.

前記アルコールは、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合で、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。   The said alcohol may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

銀インク組成物は、前記カルボン酸銀、アミン化合物及び/又はアンモニウム塩、並びにアルコール以外の、その他の成分が配合されてなるものでもよい。
前記その他の成分は、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されない。
銀インク組成物において、配合成分の総量に占める前記その他の成分の配合量の比率は、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下であることがより好ましい。
前記その他の成分は、一種を単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。二種以上を併用する場合で、その組み合わせ及び比率は、任意に調節できる。
The silver ink composition may contain other components other than the silver carboxylate, amine compound and / or ammonium salt, and alcohol.
The other components can be arbitrarily selected according to the purpose and are not particularly limited.
In the silver ink composition, the ratio of the blending amount of the other components to the total blending component is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less.
One of these other components may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, the combination and ratio can be arbitrarily adjusted.

銀インク組成物中の成分は、すべて溶解していてもよいし、一部又はすべてが溶解していなくてもよいが、溶解していない成分は、均一に分散されていることが好ましい。   All of the components in the silver ink composition may be dissolved, or some or all of the components may not be dissolved, but the components that are not dissolved are preferably dispersed uniformly.

銀インク組成物は、前記カルボン酸銀、及び前記カルボン酸銀以外の成分を配合することで得られる。
各成分の配合時には、すべての成分を添加してからこれらを混合してもよいし、一部の成分を順次添加しながら混合してもよく、すべての成分を順次添加しながら混合してもよい。
混合方法は特に限定されず、撹拌子又は撹拌翼等を回転させて混合する方法、ミキサーを使用して混合する方法、超音波を加えて混合する方法等、公知の方法から適宜選択すればよい。
The silver ink composition is obtained by blending the silver carboxylate and components other than the silver carboxylate.
At the time of blending each component, all the components may be added and then mixed, or some components may be mixed while being added sequentially, or all components may be mixed while being added sequentially. Good.
The mixing method is not particularly limited, and may be appropriately selected from known methods such as a method of mixing by rotating a stirrer or a stirring blade, a method of mixing using a mixer, a method of adding ultrasonic waves, and the like. .

配合時の温度は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されないが、−5〜30℃であることが好ましい。   The temperature at the time of blending is not particularly limited as long as each blending component does not deteriorate, but is preferably −5 to 30 ° C.

銀インク組成物は、受容層形成用組成物と同様の方法で、受容層上に付着させればよい。   The silver ink composition may be deposited on the receiving layer in the same manner as the receiving layer forming composition.

導電層形成工程においては、受容層に付着させる銀インク組成物の量、又は銀インク組成物における前記カルボン酸銀の配合量を調節することで、導電層の厚さを調節できる。   In the conductive layer forming step, the thickness of the conductive layer can be adjusted by adjusting the amount of the silver ink composition to be adhered to the receiving layer or the blending amount of the silver carboxylate in the silver ink composition.

受容層上に付着させた銀インク組成物の加熱(焼成)処理の条件は、銀インク組成物の配合成分の種類に応じて適宜調節すればよい。通常は、加熱温度が60〜200℃であることが好ましく、70〜180℃であることがより好ましい。加熱時間は、加熱温度に応じて調節すればよいが、通常は、0.2〜12時間であることが好ましく、0.4〜10時間であることがより好ましい。前記カルボン酸銀の中でもβ−ケトカルボン酸銀(1)は、例えば、酸化銀等の従来の金属銀形成材料とは異なり、当該分野で公知の還元剤等を使用しなくても、低温で分解する。そして、このような分解温度を反映して、前記銀インク組成物は、上記のように、従来のものより極めて低温で金属銀を形成できる。   The conditions for the heating (firing) treatment of the silver ink composition deposited on the receptor layer may be adjusted as appropriate according to the type of compounding component of the silver ink composition. Usually, it is preferable that heating temperature is 60-200 degreeC, and it is more preferable that it is 70-180 degreeC. Although what is necessary is just to adjust a heating time according to heating temperature, Usually, it is preferable that it is 0.2 to 12 hours, and it is more preferable that it is 0.4 to 10 hours. Among the silver carboxylates, silver β-ketocarboxylate (1) is decomposed at a low temperature without using a reducing agent or the like known in the art, unlike conventional metal silver forming materials such as silver oxide. To do. Reflecting such decomposition temperature, the silver ink composition can form metallic silver at an extremely lower temperature than the conventional one as described above.

銀インク組成物の加熱処理の方法は特に限定されず、例えば、電気炉による加熱、感熱方式の熱ヘッドによる加熱等で行うことができる。また、銀インク組成物の加熱処理は、大気下で行ってもよいし、不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。そして、常圧下及び減圧下のいずれで行ってもよい。   The method for heat treatment of the silver ink composition is not particularly limited, and for example, it can be performed by heating with an electric furnace or heating with a thermal head. In addition, the heat treatment of the silver ink composition may be performed in the air or in an inert gas atmosphere. And you may carry out under any of normal pressure and pressure reduction.

本発明の積層体は、受容層が化合物(3)を用いて形成されていることにより、受容層の導電層及び基材との密着強度が高く、すなわち導電層と基材との密着強度が高く、導電層の基材からの剥離が顕著に抑制されたものである。具体的には、本発明の積層体は、JIS K 5600−5−6に準拠した、基材及び導電層の密着性試験において、分類0又は1を満たす。
前記導電層は、記録材料、印刷刷版材料、高導電性材料等として幅広く利用できる。
In the laminate of the present invention, since the receiving layer is formed using the compound (3), the adhesive strength between the conductive layer and the substrate of the receiving layer is high, that is, the adhesive strength between the conductive layer and the substrate is high. It is high and the peeling of the conductive layer from the substrate is remarkably suppressed. Specifically, the laminate of the present invention satisfies classification 0 or 1 in the adhesion test of the base material and the conductive layer based on JIS K 5600-5-6.
The conductive layer can be widely used as a recording material, a printing plate material, a highly conductive material, and the like.

例えば、「特開2009−49275号公報」には、ガラスエポキシ樹脂製の基材上にシランカップリング剤で受容層を形成し、この受容層上に、金属銀コロイド微粒子が配合されてなる銀インク組成物を用いて導電層を形成した積層体の具体例が記載されている。そして、前記シランカップリング剤として、下記のシランカップリング剤(i)、(ii)、(iii)又は(iv)を用いた積層体が記載されており、いずれの積層体も、導電層と基材との密着強度が高かったことが記載されている。
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHNH(CHNH) ・・・・(i)
3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHSH) ・・・・(ii)
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHOCHCH(O)CH) ・・・・(iii)
ビニルトリメトキシシラン((CHO)SiCH=CH) ・・・・(iv)
ここで、シランカップリング剤(i)、(ii)、(iii)及び(iv)は、本明細書の後述する実施例1、実施例5、比較例2及び比較例5で、それぞれ用いたものと同じである。そして、後述するように、実施例1及び5の積層体では、導電層と基材との密着強度が高かったものの、比較例2及び5の積層体では、導電層と基材との密着強度の向上が認められていない。すなわち、シランカップリング剤(iii)及び(iv)を用いた場合には、「特開2009−49275号公報」で開示されている結果とは異なる結果が得られている。これは、積層体の製造時に、受容層上に付着させる銀インク組成物の種類が異なり、金属銀コロイド微粒子を用いた場合と、前記カルボン酸銀を用いた場合とで、導電層を形成する過程が異なるためではないかと推測される。このように、本発明の積層体における導電層(加熱処理物)は、従来の金属銀又は金属銀形成材料から形成された導電層(加熱処理物)とは異なり、特有の構成を有していると推測される。
For example, in “JP 2009-49275 A”, a silver layer is formed by forming a receiving layer with a silane coupling agent on a glass epoxy resin base material, and metallic silver colloidal fine particles are blended on the receiving layer. The specific example of the laminated body which formed the conductive layer using the ink composition is described. And as said silane coupling agent, the laminated body using the following silane coupling agent (i), (ii), (iii) or (iv) is described, and any laminated body is a conductive layer, It is described that the adhesion strength with the substrate was high.
N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 NH (CH 2 ) 2 NH 2 ) (i)
3-mercaptopropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 SH) (ii)
3-Glycidoxypropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 OCH 2 CH (O) CH 2 ) (iii)
Vinyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 SiCH═CH 2 ) (iv)
Here, the silane coupling agents (i), (ii), (iii) and (iv) were used in Example 1, Example 5, Comparative Example 2 and Comparative Example 5 described later in this specification, respectively. Is the same. As will be described later, in the laminates of Examples 1 and 5, the adhesion strength between the conductive layer and the substrate was high, but in the laminates of Comparative Examples 2 and 5, the adhesion strength between the conductive layer and the substrate was high. Improvements are not recognized. That is, when the silane coupling agents (iii) and (iv) are used, results different from the results disclosed in “JP 2009-49275 A” are obtained. This is because the type of silver ink composition to be deposited on the receiving layer is different during the production of the laminate, and the conductive layer is formed when the metal silver colloidal fine particles are used and when the silver carboxylate is used. It is presumed that the process is different. Thus, the conductive layer (heat-treated product) in the laminate of the present invention has a unique configuration, unlike a conductive layer (heat-treated product) formed from a conventional metal silver or metal silver forming material. It is estimated that

<通信機器>
本発明の通信機器は、前記積層体を用い、前記基材を筐体として備えたことを特徴とし、アンテナ部として前記積層体を用い、前記積層体中の基材で筐体を構成したこと以外は、公知の通信機器と同様の構成とすることができる。例えば、前記積層体に加え、音声入力部、音声出力部、操作スイッチ、表示部等を組み合わせることにより、携帯電話機を構成できる。
本発明の通信機器は、アンテナ部の安定性が高く、耐久性に優れる。
<Communication equipment>
The communication device according to the present invention is characterized in that the laminate is used and the base is provided as a casing, the laminate is used as an antenna portion, and the casing is configured by the base in the laminate. Other than that, the configuration can be the same as that of a known communication device. For example, a mobile phone can be configured by combining a voice input unit, a voice output unit, an operation switch, a display unit, and the like in addition to the laminate.
The communication device of the present invention has high stability of the antenna portion and excellent durability.

以下、具体的実施例により、本発明についてより詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に、何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

<積層体の製造>
[実施例1]
(銀インク組成物の製造)
2−メチルアセト酢酸銀(100質量部)、2−エチルヘキシルアミン(300質量部)、及び3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール(エアープロダクツジャパン社製「サーフィノール61」)(4質量部)を配合し、25℃以下で60分間撹拌することにより、銀インク組成物を得た。
<Manufacture of laminates>
[Example 1]
(Manufacture of silver ink composition)
Silver 2-methylacetoacetate (100 parts by mass), 2-ethylhexylamine (300 parts by mass), and 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol ("Surfinol 61" manufactured by Air Products Japan) (4 parts by mass) Part) and the mixture was stirred at 25 ° C. or lower for 60 minutes to obtain a silver ink composition.

(積層体の製造)
ポリエチレンテレフタレート製の基材(厚さ100μm)を、150℃で30分間加熱処理した。
次いで、この基材上に、受容層形成用組成物として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHNH(CHNH、化合物(3))のイソプロピルアルコール溶液(濃度5質量%)をスピンコーターにより塗布し、120℃で10分間加熱処理することにより、基材上に受容層を形成した。このとき、前記イソプロピルアルコール溶液の基材上への塗布量は、0.2〜1.3g/mとした。
次いで、受容層上に、上記で得られた銀インク組成物をスピンコーターにより塗布し、150℃で30分間加熱処理することにより、受容層上に導電層を形成し、積層体を得た。このとき、銀インク組成物の受容層上への塗布量は、6.0〜9.6g/mとした。
(Manufacture of laminates)
A base material (thickness: 100 μm) made of polyethylene terephthalate was heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes.
Next, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 NH (CH 2 ) is formed on the substrate as a receiving layer forming composition. 2 NH 2 , an isopropyl alcohol solution (concentration 5% by mass) of compound (3) was applied by a spin coater and heat-treated at 120 ° C. for 10 minutes to form a receiving layer on the substrate. At this time, the coating amount of the isopropyl alcohol solution on the base material was 0.2 to 1.3 g / m 2 .
Next, the silver ink composition obtained above was applied onto the receptor layer with a spin coater, and heat treated at 150 ° C. for 30 minutes to form a conductive layer on the receptor layer to obtain a laminate. At this time, the coating amount of the silver ink composition on the receiving layer was 6.0 to 9.6 g / m 2 .

<積層体の評価>
得られた積層体について、JIS K5600−5−6に準拠して、導電層と基材との密着強度を評価した。すなわち、面積が同等の領域が25個形成されるように、導電層において直交する2方向に表面側から切れ込みを入れてクロスカットし、このクロスカット後の導電層表面にテープを貼付した後、このテープを剥がし、25個の領域のうち、導電層の基材(受容層)からの剥離が見られる領域の数を確認した。そして、下記基準に従って、導電層と基材との密着強度を評価した。結果を表1に示す。
◎:導電層が全く剥離せず、密着強度が極めて高い。(分類0)
○:ごく一部の導電層が剥離したが実用上支障はなく、密着強度が高い。(分類1)
△:一部の導電層が剥離し、実用上問題があり、密着強度が低い。(分類2〜4)
×:相当面積の導電層が剥離し、密着強度の評価に値しない(分類5)。
<Evaluation of laminate>
About the obtained laminated body, based on JISK5600-5-6, the adhesive strength of a conductive layer and a base material was evaluated. That is, after cutting the cross-cut from the surface side in two directions orthogonal to the conductive layer so that 25 areas having the same area are formed, and pasting the tape on the surface of the conductive layer after the cross-cut, The tape was peeled off, and the number of areas where peeling of the conductive layer from the base material (receiving layer) was observed among the 25 areas. And according to the following reference | standard, the adhesive strength of a conductive layer and a base material was evaluated. The results are shown in Table 1.
A: The conductive layer does not peel at all, and the adhesion strength is extremely high. (Classification 0)
○: A part of the conductive layer was peeled off, but there was no practical problem and the adhesion strength was high. (Category 1)
(Triangle | delta): A part of conductive layer peels, there exists a problem practically, and adhesive strength is low. (Category 2-4)
X: The conductive layer of an equivalent area peels off, and is not worthy of evaluation of adhesion strength (Class 5).

<積層体の製造及び評価>
[実施例2]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン((CHO)Si(CH)(CHNH(CHNH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
<Manufacture and evaluation of laminate>
[Example 2]
As compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane ((CH 3 O) 2 Si A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (CH 3 ) (CH 2 ) 3 NH (CH 2 ) 2 NH 2 ) was used. The results are shown in Table 1.

[実施例3]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン((CHCHO)Si(CHNHC(=O)NH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Example 3]
As compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane ((CH 3 CH 2 O) 3 Si (CH 2 ) 3 NHC ( = O) A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that NH 2 ) was used. The results are shown in Table 1.

[実施例4]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHNHC)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Example 4]
As the compound (3), N-2-in place of (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2) 3 A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that NHC 6 H 5 ) was used. The results are shown in Table 1.

[実施例5]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHSH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Example 5]
As the compound (3), 3-mercaptopropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 SH) is used instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane. A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that it was not. The results are shown in Table 1.

[実施例6]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン((CHO)Si(CH)(CHSH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Example 6]
As a compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane ((CH 3 O) 2 Si (CH 3 ) (CH 2 ) 3 A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (SH) was used. The results are shown in Table 1.

[比較例1]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、メチルトリメトキシシラン((CHO)SiCH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
Example 1 except that methyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 SiCH 3 ) was used as the compound (3) instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane. A laminate was produced and evaluated in the same manner as described above. The results are shown in Table 1.

[比較例2]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHOCHCH(O)CH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
As compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 OCH 2 A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that (CH (O) CH 2 ) was used. The results are shown in Table 1.

[比較例3]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHOC(=O)C(CH)=CH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 3]
As compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 OC (= A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that O) C (CH 3 ) ═CH 2 ) was used. The results are shown in Table 1.

[比較例4]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−アミノプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHNH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 4]
As compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 NH 2 ) was used. A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that it was used. The results are shown in Table 1.

[比較例5]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、ビニルトリメトキシシラン((CHO)SiCH=CH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 5]
Implemented except that instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 SiCH═CH 2 ) was used as compound (3). A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[比較例6]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHOC(=O)CH=CH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 6]
As compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 OC (= A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that O) CH = CH 2 ) was used. The results are shown in Table 1.

[比較例7]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHCF)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 7]
As compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that 2 CF 3 ) was used. The results are shown in Table 1.

[比較例8]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン((CHCHO)Si(CHN=C=O)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 8]
As compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane ((CH 3 CH 2 O) 3 Si (CH 2 ) 3 N = A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that C = O) was used. The results are shown in Table 1.

[比較例9]
化合物(3)として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシランに代えて、3−トリエトキシシリル−N−(1,3−ジメチル−ブチリデン)プロピルアミン((CHCHO)Si(CHN=C(CH)(CHCH)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表1に示す。
[Comparative Example 9]
As compound (3), instead of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine ((CH 3 CH 2 O) 3 Si (CH 2 ) 3 N═C (CH 3 ) (CH 2 ) 3 CH 3 ) was used, and the laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 0006008676
Figure 0006008676

上記結果から明らかなように、実施例1〜6の積層体は、比較例1〜9の積層体よりも、導電層と基材との密着強度に優れていた。   As is clear from the above results, the laminates of Examples 1 to 6 were superior to the laminates of Comparative Examples 1 to 9 in adhesion strength between the conductive layer and the substrate.

<積層体の製造>
[実施例7]
(銀インク組成物の製造)
2−メチルアセト酢酸銀(100質量部)、2−エチルヘキシルアミン(300質量部)、及び3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール(エアープロダクツジャパン社製「サーフィノール61」)(4質量部)を配合し、25℃以下で60分間撹拌することにより、銀インク組成物を得た。
<Manufacture of laminates>
[Example 7]
(Manufacture of silver ink composition)
Silver 2-methylacetoacetate (100 parts by mass), 2-ethylhexylamine (300 parts by mass), and 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol ("Surfinol 61" manufactured by Air Products Japan) (4 parts by mass) Part) and the mixture was stirred at 25 ° C. or lower for 60 minutes to obtain a silver ink composition.

(積層体の製造)
ポリエチレンテレフタレート製の基材(厚さ100μm)を、150℃で30分間加熱処理した。
次いで、この基材上に、受容層形成用組成物として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン((CHO)Si(CHNH(CHNH、化合物(3))のイソプロピルアルコール溶液(濃度5質量%)をスピンコーターにより塗布し、120℃で10分間加熱処理することにより、基材上に受容層を形成した。このとき、前記イソプロピルアルコール溶液の基材上への塗布量は、0.2〜1.3g/mとした。
次いで、受容層上に、上記で得られた銀インク組成物をスピンコーターにより塗布し、150℃で1時間加熱処理することにより、受容層上に導電層を形成し、積層体を得た。このとき、銀インク組成物の受容層上への塗布量は、6.0〜9.6g/mとした。
(Manufacture of laminates)
A base material (thickness: 100 μm) made of polyethylene terephthalate was heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes.
Next, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane ((CH 3 O) 3 Si (CH 2 ) 3 NH (CH 2 ) is formed on the substrate as a receiving layer forming composition. 2 NH 2 , an isopropyl alcohol solution (concentration 5% by mass) of compound (3) was applied by a spin coater and heat-treated at 120 ° C. for 10 minutes to form a receiving layer on the substrate. At this time, the coating amount of the isopropyl alcohol solution on the base material was 0.2 to 1.3 g / m 2 .
Next, the silver ink composition obtained above was applied onto the receptor layer with a spin coater, and heat-treated at 150 ° C. for 1 hour to form a conductive layer on the receptor layer to obtain a laminate. At this time, the coating amount of the silver ink composition on the receiving layer was 6.0 to 9.6 g / m 2 .

<積層体の評価>
得られた積層体について、実施例1と同様の方法で導電層と基材との密着強度を評価した。結果を表2に示す。
<Evaluation of laminate>
About the obtained laminated body, the adhesive strength of a conductive layer and a base material was evaluated by the same method as Example 1. The results are shown in Table 2.

<積層体の製造及び評価>
[実施例8]
表2に示すように、化合物(3)のイソプロピルアルコール溶液の濃度を、5質量%に代えて10質量%としたこと以外は、実施例7と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表2に示す。
<Manufacture and evaluation of laminate>
[Example 8]
As shown in Table 2, a laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 7, except that the concentration of the isopropyl alcohol solution of compound (3) was changed to 10% by mass instead of 5% by mass. . The results are shown in Table 2.

[実施例9]
表2に示すように、化合物(3)のイソプロピルアルコール溶液の濃度を、5質量%に代えて20質量%としたこと以外は、実施例7と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表2に示す。
[Example 9]
As shown in Table 2, a laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 7, except that the concentration of the isopropyl alcohol solution of compound (3) was changed to 20% by mass instead of 5% by mass. . The results are shown in Table 2.

[実施例10]
表2に示すように、銀インク組成物の加熱処理の温度を、150℃に代えて120℃としたこと以外は、実施例7と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表2に示す。
[Example 10]
As shown in Table 2, laminates were produced and evaluated in the same manner as in Example 7 except that the temperature of the heat treatment of the silver ink composition was changed to 120 ° C. instead of 150 ° C. The results are shown in Table 2.

[実施例11]
表2に示すように、銀インク組成物の加熱処理の温度を、150℃に代えて120℃としたこと以外は、実施例8と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表2に示す。
[Example 11]
As shown in Table 2, laminates were produced and evaluated in the same manner as in Example 8 except that the temperature of the heat treatment of the silver ink composition was changed to 120 ° C. instead of 150 ° C. The results are shown in Table 2.

[実施例12]
表2に示すように、銀インク組成物の加熱処理の温度を、150℃に代えて120℃としたこと以外は、実施例9と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表2に示す。
[Example 12]
As shown in Table 2, a laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 9 except that the temperature of the heat treatment of the silver ink composition was changed to 120 ° C. instead of 150 ° C. The results are shown in Table 2.

[実施例13]
表2に示すように、銀インク組成物の加熱処理を、150℃で1時間行うのに代えて、80℃で7時間行ったこと以外は、実施例7と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表2に示す。
[Example 13]
As shown in Table 2, the laminate was prepared in the same manner as in Example 7 except that the heat treatment of the silver ink composition was performed at 80 ° C. for 7 hours instead of being performed at 150 ° C. for 1 hour. Manufactured and evaluated. The results are shown in Table 2.

[実施例14]
表2に示すように、銀インク組成物の加熱処理を、150℃で1時間行うのに代えて、80℃で7時間行ったこと以外は、実施例8と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表2に示す。
[Example 14]
As shown in Table 2, the laminate was prepared in the same manner as in Example 8 except that the heat treatment of the silver ink composition was performed at 80 ° C. for 7 hours instead of being performed at 150 ° C. for 1 hour. Manufactured and evaluated. The results are shown in Table 2.

[実施例15]
表2に示すように、銀インク組成物の加熱処理を、150℃で1時間行うのに代えて、80℃で7時間行ったこと以外は、実施例9と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表2に示す。
[Example 15]
As shown in Table 2, the laminate was prepared in the same manner as in Example 9, except that the heat treatment of the silver ink composition was performed at 80 ° C. for 7 hours instead of being performed at 150 ° C. for 1 hour. Manufactured and evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 0006008676
Figure 0006008676

上記結果から明らかなように、実施例7〜15の積層体は、化合物(3)のイソプロピルアルコール溶液の濃度や、銀インク組成物の加熱処理条件が異なるものであるが、いずれも導電層と基材との密着強度に優れていた。   As is clear from the above results, the laminates of Examples 7 to 15 differ in the concentration of the isopropyl alcohol solution of compound (3) and the heat treatment conditions of the silver ink composition. Excellent adhesion strength with the substrate.

<積層体の製造>
[実施例16]
(銀インク組成物の製造)
2−メチルアセト酢酸銀(100質量部)、2−エチルヘキシルアミン(300質量部)、及び3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール(エアープロダクツジャパン社製「サーフィノール61」)(4質量部)を配合し、25℃以下で60分間撹拌することにより、銀インク組成物を得た。
<Manufacture of laminates>
[Example 16]
(Manufacture of silver ink composition)
Silver 2-methylacetoacetate (100 parts by mass), 2-ethylhexylamine (300 parts by mass), and 3,5-dimethyl-1-hexyn-3-ol ("Surfinol 61" manufactured by Air Products Japan) (4 parts by mass) Part) and the mixture was stirred at 25 ° C. or lower for 60 minutes to obtain a silver ink composition.

(受容層形成用組成物の製造)
N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン((CHCHO)Si(CHNH(CHNH、信越化学社製「KBM−603」、化合物(3))と、イソプロピルアルコールとを混合し、室温(25℃)で1時間撹拌することにより、受容層形成用組成物として、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランのイソプロピルアルコール溶液(濃度5質量%)を得た。
(Manufacture of composition for forming receiving layer)
N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane ((CH 3 CH 2 O) 3 Si (CH 2 ) 3 NH (CH 2 ) 2 NH 2 , “KBM-603” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Compound (3)) and isopropyl alcohol were mixed and stirred at room temperature (25 ° C.) for 1 hour, whereby N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxy was obtained as a receiving layer forming composition. An isopropyl alcohol solution of silane (concentration 5% by mass) was obtained.

(積層体の製造)
卓上グラビア印刷機(K303 Multi−Coater)及び銅製グラビア版材を用いて、得られた受容層形成用組成物を、ポリエチレンテレフタレート製の基材(帝人デュポン社製「Q−83」、厚さ75μm)上に塗工した。そして、塗工された基材を120℃で10分間加熱処理することにより、基材上に受容層を形成した。
次いで、インクジェット印刷機(コニカミノルタ社製「KM−512L」)を用いて、上記で得られた銀インク組成物で、受容層上に所定のパターンを印刷した。このとき、360dpi、42pL×1dpdの条件で印刷した。そして、印刷した基材を、IR乾燥炉により270℃で100秒間、さらに熱風オーブンにより150℃で30分間加熱処理することにより、受容層上に導電層を形成し、積層体を得た。
(Manufacture of laminates)
Using a table-top gravure printing machine (K303 Multi-Coater) and a copper gravure printing plate, the obtained composition for forming a receiving layer was used as a base material made of polyethylene terephthalate (“Q-83” manufactured by Teijin DuPont, thickness 75 μm). ) Coated on top. And the receiving layer was formed on the base material by heat-processing the coated base material at 120 degreeC for 10 minute (s).
Next, a predetermined pattern was printed on the receiving layer with the silver ink composition obtained above using an inkjet printer (“KM-512L” manufactured by Konica Minolta). At this time, printing was performed under conditions of 360 dpi, 42 pL × 1 dpd. And the electrically conductive layer was formed on the receiving layer by heat-processing the printed base material at 270 degreeC for 100 second by IR drying furnace, and also for 150 minutes at 150 degreeC by hot-air oven, and the laminated body was obtained.

<積層体の評価>
得られた積層体について、実施例1と同様の方法で導電層と基材との密着強度を評価した。結果を表3に示す。
また、得られた積層体について、レーザー顕微鏡(キーエンス社製「VK−X100」)を用いて受容層の厚さを測定すると共に、マイクロスコープ(キーエンス社製「VHX−600」)を用いて導電層のパターン(配線パターン)を観察し、ひげ状の滲み部位の長さを測定し、下記基準に従って評価した。結果を表3に示す。
◎:ひげ状の滲み部位の長さが10μm未満である。
○:ひげ状の滲み部位の長さが10μm以上150μm未満である。
×:ひげ状の滲み部位の長さが150μm以上である。
<Evaluation of laminate>
About the obtained laminated body, the adhesive strength of a conductive layer and a base material was evaluated by the same method as Example 1. The results are shown in Table 3.
Moreover, about the obtained laminated body, while measuring the thickness of a receiving layer using a laser microscope (Keyence Corporation "VK-X100"), it is electrically conductive using a microscope (Keyence Corporation "VHX-600"). The layer pattern (wiring pattern) was observed, the length of the whisker-like bleeding part was measured, and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Table 3.
A: The length of the whisker-like bleeding site is less than 10 μm.
○: The length of the whisker-like bleeding site is 10 μm or more and less than 150 μm.
X: The length of the whisker-like bleeding part is 150 μm or more.

<積層体の製造及び評価>
[実施例17〜24]
表3に示すように、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシランのイソプロピルアルコール溶液の濃度、及び受容層の厚さの少なくとも一方を変えたこと以外は、実施例16と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表3に示す。
<Manufacture and evaluation of laminate>
[Examples 17 to 24]
As shown in Table 3, Example 16 and Example 16 except that at least one of the concentration of the isopropyl alcohol solution of N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane and the thickness of the receiving layer was changed. The laminated body was manufactured and evaluated by the same method. The results are shown in Table 3.

[比較例10]
表3に示すように、受容層形成用組成物を基材上に塗工せず(すなわち、銀インク組成物で基材上に直接所定のパターンを印刷し)、基材上に受容層を形成しなかったこと以外は、実施例16と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表3に示す。
[Comparative Example 10]
As shown in Table 3, the receptor layer-forming composition was not coated on the substrate (that is, a predetermined pattern was printed directly on the substrate with the silver ink composition), and the receptor layer was formed on the substrate. A laminate was manufactured and evaluated in the same manner as in Example 16 except that it was not formed. The results are shown in Table 3.

[実施例25]
表4に示すように、大気圧プラズマ発生装置(YAMATO Material社製「YAP500」)を用い、300Wの条件で、基材の受容層形成面を大気圧プラズマ処理してから、このプラズマ処理面上に受容層形成用組成物を塗工したこと以外は、実施例16と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表4に示す。
[Example 25]
As shown in Table 4, the receiving layer forming surface of the substrate was subjected to atmospheric pressure plasma treatment under the condition of 300 W using an atmospheric pressure plasma generation device (“YAP500” manufactured by YAMATO Material), and then the surface of the plasma treatment surface A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Example 16 except that the composition for forming a receiving layer was applied to the laminate. The results are shown in Table 4.

[実施例26〜33]
表4に示すように、大気圧プラズマ発生装置(YAMATO Material社製「YAP500」)を用い、300Wの条件で、基材の受容層形成面を大気圧プラズマ処理してから、このプラズマ処理面上に受容層形成用組成物を塗工したこと以外は、実施例17〜31と同様の方法で、積層体を製造及び評価した。結果を表4に示す。
[Examples 26 to 33]
As shown in Table 4, the receiving layer forming surface of the substrate was subjected to atmospheric pressure plasma treatment under the condition of 300 W using an atmospheric pressure plasma generation device (“YAP500” manufactured by YAMATO Material), and then the surface of the plasma treatment surface A laminate was produced and evaluated in the same manner as in Examples 17 to 31 except that the composition for forming a receiving layer was applied to the laminate. The results are shown in Table 4.

Figure 0006008676
Figure 0006008676

Figure 0006008676
Figure 0006008676

上記結果から明らかなように、実施例16〜33の積層体は、化合物(3)のイソプロピルアルコール溶液の濃度や、受容層の厚さが異なるものであるが、プラズマ処理の有無によらず、受容層の厚さが0.2μm以上で、導電層と基材との密着強度に優れていた。また、実施例16〜24と実施例25〜33との比較より、受容層の厚さがほぼ同じである場合には、基材の受容層形成面をプラズマ処理した積層体の方が、プラズマ処理しなかった積層体よりも、概ね導電層のパターンにおけるひげ状の滲み部位の長さが短くなっていた。これは、銀インク組成物のパターン印刷時に滲みが抑制されたからであると推測される。そして、プラズマ処理の有無によらず、ひげ状の滲み部位の長さは、受容層が厚くなるほど短くなる傾向があり、これはプラズマ処理しなかった場合の方が特に顕著であった。プラズマ処理しなかった場合、受容層の厚さが概ね0.5μm以上であると、ひげ状の滲みをほぼ完全に抑制できると考えられる。一方、プラズマ処理した場合には、受容層が薄くなるほどプラズマ処理の効果が大きくなる傾向があり、特に受容層の厚さが0.4μm以下、なかでも0.3〜0.4μmである場合に、プラズマ処理の効果がより顕著に見られた。
これに対して、比較例10の積層体は、受容層を形成しなかったことにより、導電層と基材との密着強度が低かった。
As is clear from the above results, the laminates of Examples 16 to 33 are different in the concentration of the isopropyl alcohol solution of compound (3) and the thickness of the receiving layer. The thickness of the receiving layer was 0.2 μm or more, and the adhesion strength between the conductive layer and the substrate was excellent. Further, from the comparison between Examples 16 to 24 and Examples 25 to 33, when the thickness of the receiving layer is substantially the same, the laminate in which the receiving layer forming surface of the substrate is plasma-treated is more plasma. The length of the whisker-like bleeding part in the pattern of the conductive layer was generally shorter than that of the untreated laminate. This is presumably because bleeding was suppressed during pattern printing of the silver ink composition. Regardless of the presence or absence of the plasma treatment, the length of the whisker-like bleeding portion tended to be shorter as the receiving layer was thicker, and this was particularly noticeable when the plasma treatment was not performed. When the plasma treatment is not performed, it is considered that whisker-like bleeding can be almost completely suppressed when the thickness of the receiving layer is approximately 0.5 μm or more. On the other hand, when the plasma treatment is performed, the effect of the plasma treatment tends to increase as the receiving layer becomes thinner, particularly when the thickness of the receiving layer is 0.4 μm or less, particularly 0.3 to 0.4 μm. The effect of the plasma treatment was more noticeable.
On the other hand, the laminate of Comparative Example 10 had a low adhesion strength between the conductive layer and the substrate because no receptor layer was formed.

本発明は、記録材料、印刷刷版材料若しくは高導電性材料等として導電層を備える、製品又は部材として利用可能である。   The present invention can be used as a product or member provided with a conductive layer as a recording material, a printing plate material, a highly conductive material, or the like.

1・・・積層体、2・・・基材、3・・・受容層、4・・・導電層   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated body, 2 ... Base material, 3 ... Receiving layer, 4 ... Conductive layer

Claims (4)

基材上に受容層を介して導電層が設けられた積層体であって、
前記受容層が、下記一般式(3)で表される化合物を用いて形成されたものであり、
前記導電層が、下記一般式(1)で表わされるβ−ケトカルボン酸銀を用いて形成されたものであり、
JIS K 5600−5−6に準拠した、前記基材及び導電層の密着性試験において、分類0又は1を満たすことを特徴とする積層体。
Figure 0006008676
(式中、R11は炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシアルキル基又はアルキルカルボニル基であり;R12は炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基であり;R13は炭素数1〜10のアルキレン基であり;R14は炭素数1〜5のアルキレン基であり、該アルキレン基中の1個以上のメチレン基はカルボニル基で置換されていてもよく;Zはアミノ基、メルカプト基又は炭素数6〜12のアリール基であり;m1は2又は3であり、複数個のR11は互いに同一でも異なっていてもよく;m2及びm3はそれぞれ独立に0又は1であり、ただし、Zがアミノ基である場合には、少なくともm2は1である。)
Figure 0006008676
(式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R −CY −」、「CY −」、「R −CHY−」、「R O−」、「R N−」、「(R O) CY−」若しくは「R −C(=O)−CY −」で表される基であり;
Yはそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基であり;R は炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり;R 及びR はそれぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり;
Xはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基、又は一般式「R O−」、「R S−」、「R −C(=O)−」若しくは「R −C(=O)−O−」で表される基であり;
は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基である。)
A laminate in which a conductive layer is provided on a substrate via a receiving layer,
The receiving layer is formed using a compound represented by the following general formula (3),
The conductive layer is formed using silver β-ketocarboxylate represented by the following general formula (1),
The laminated body characterized by satisfy | filling classification 0 or 1 in the adhesiveness test of the said base material and electroconductive layer based on JISK5600-5-6.
Figure 0006008676
(Wherein R 11 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxyalkyl group or an alkylcarbonyl group; R 12 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; R 13 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms; R 14 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and one or more methylene groups in the alkylene group may be substituted with a carbonyl group; Z Is an amino group, a mercapto group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; m1 is 2 or 3, and a plurality of R 11 may be the same or different from each other; m2 and m3 are each independently 0 or 1; provided that when Z is an amino group, at least m2 is 1.)
Figure 0006008676
(In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a general formula “R 1 -CY ” in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. 2- ”, “CY 3 —”, “R 1 —CHY—”, “R 2 O—”, “R 5 R 4 N—”, “(R 3 O) 2 CY—” or “R 6 —C ”. A group represented by (= O) —CY 2 —;
Y is each independently a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or hydrogen atom; R 1 is an aliphatic hydrocarbon group or phenyl group having 1 to 19 carbon atoms; R 2 is an aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms; R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms; R 6 is carbon An aliphatic hydrocarbon group, a hydroxyl group or a group represented by the formula "AgO-" of formula 1-19;
X is independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group or benzyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a cyano group, N- A phthaloyl-3-aminopropyl group, a 2-ethoxyvinyl group, or a general formula “R 7 O—”, “R 7 S—”, “R 7 —C (═O) —” or “R 7 —C (= O) —O— ”.
R 7 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group, or a phenyl group or diphenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. )
請求項1に記載の積層体を用い、前記基材を筐体として備えたことを特徴とする通信機器。   A communication device using the laminate according to claim 1, wherein the base material is provided as a casing. 基材上に受容層を介して導電層が設けられた積層体の製造方法であって、
前記基材上に、下記一般式(3)で表される化合物を用いて前記受容層を形成する工程と、
前記受容層上に、下記一般式(1)で表わされるβ−ケトカルボン酸銀を用いて前記導電層を形成する工程と、
を有することを特徴とする積層体の製造方法。
Figure 0006008676
(式中、R11は炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシアルキル基又はアルキルカルボニル基であり;R12は炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数6〜12のアリール基であり;R13は炭素数1〜10のアルキレン基であり;R14は炭素数1〜5のアルキレン基であり、該アルキレン基中の1個以上のメチレン基はカルボニル基で置換されていてもよく;Zはアミノ基、メルカプト基又は炭素数6〜12のアリール基であり;m1は2又は3であり、複数個のR11は互いに同一でも異なっていてもよく;m2及びm3はそれぞれ独立に0又は1であり、ただし、Zがアミノ基である場合には、少なくともm2は1である。)
Figure 0006008676
(式中、Rは1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基若しくはフェニル基、水酸基、アミノ基、又は一般式「R −CY −」、「CY −」、「R −CHY−」、「R O−」、「R N−」、「(R O) CY−」若しくは「R −C(=O)−CY −」で表される基であり;
Yはそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子又は水素原子であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基又はフェニル基であり;R は炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜16の脂肪族炭化水素基であり;R 及びR はそれぞれ独立に炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基であり;R は炭素数1〜19の脂肪族炭化水素基、水酸基又は式「AgO−」で表される基であり;
Xはそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、ハロゲン原子、1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはベンジル基、シアノ基、N−フタロイル−3−アミノプロピル基、2−エトキシビニル基、又は一般式「R O−」、「R S−」、「R −C(=O)−」若しくは「R −C(=O)−O−」で表される基であり;
は、炭素数1〜10の脂肪族炭化水素基、チエニル基、又は1個以上の水素原子が置換基で置換されていてもよいフェニル基若しくはジフェニル基である。)
A method for producing a laminate in which a conductive layer is provided on a substrate via a receiving layer,
Forming the receptor layer on the substrate using a compound represented by the following general formula (3);
Forming the conductive layer on the receptor layer using β-ketocarboxylate represented by the following general formula (1) ;
The manufacturing method of the laminated body characterized by having.
Figure 0006008676
(Wherein R 11 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxyalkyl group or an alkylcarbonyl group; R 12 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; R 13 is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms; R 14 is an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and one or more methylene groups in the alkylene group may be substituted with a carbonyl group; Z Is an amino group, a mercapto group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; m1 is 2 or 3, and a plurality of R 11 may be the same or different from each other; m2 and m3 are each independently 0 or 1; provided that when Z is an amino group, at least m2 is 1.)
Figure 0006008676
(In the formula, R represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group, a hydroxyl group, an amino group, or a general formula “R 1 -CY ” in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. 2- ”, “CY 3 —”, “R 1 —CHY—”, “R 2 O—”, “R 5 R 4 N—”, “(R 3 O) 2 CY—” or “R 6 —C ”. A group represented by (= O) —CY 2 —;
Y is each independently a fluorine atom, chlorine atom, bromine atom or hydrogen atom; R 1 is an aliphatic hydrocarbon group or phenyl group having 1 to 19 carbon atoms; R 2 is an aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms R 3 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms; R 4 and R 5 are each independently an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms; R 6 is carbon An aliphatic hydrocarbon group, a hydroxyl group or a group represented by the formula "AgO-" of formula 1-19;
X is independently a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group or benzyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent, a cyano group, N- A phthaloyl-3-aminopropyl group, a 2-ethoxyvinyl group, or a general formula “R 7 O—”, “R 7 S—”, “R 7 —C (═O) —” or “R 7 —C (= O) —O— ”.
R 7 is an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a thienyl group, or a phenyl group or diphenyl group in which one or more hydrogen atoms may be substituted with a substituent. )
前記受容層を形成する工程の前に、さらに、前記基材の前記受容層を形成する面をプラズマ処理する工程を有することを特徴とする請求項3に記載の積層体の製造方法。   The method for producing a laminate according to claim 3, further comprising a step of performing a plasma treatment on a surface of the base material on which the receiving layer is formed before the step of forming the receiving layer.
JP2012217401A 2012-05-29 2012-09-28 LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING LAMINATE, AND COMMUNICATION DEVICE Expired - Fee Related JP6008676B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012217401A JP6008676B2 (en) 2012-05-29 2012-09-28 LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING LAMINATE, AND COMMUNICATION DEVICE

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012121840 2012-05-29
JP2012121840 2012-05-29
JP2012217401A JP6008676B2 (en) 2012-05-29 2012-09-28 LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING LAMINATE, AND COMMUNICATION DEVICE

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014004815A JP2014004815A (en) 2014-01-16
JP6008676B2 true JP6008676B2 (en) 2016-10-19

Family

ID=50102999

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012217401A Expired - Fee Related JP6008676B2 (en) 2012-05-29 2012-09-28 LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING LAMINATE, AND COMMUNICATION DEVICE

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6008676B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6029897B2 (en) * 2012-08-31 2016-11-24 トッパン・フォームズ株式会社 Light emitting element
JP6322019B2 (en) * 2014-03-26 2018-05-09 トッパン・フォームズ株式会社 Laminate and electronic equipment
JP6346486B2 (en) * 2014-04-09 2018-06-20 トッパン・フォームズ株式会社 Laminate, data transmitter / receiver, communication device, and transparent conductive film
JP6501300B2 (en) * 2014-04-28 2019-04-17 トッパン・フォームズ株式会社 Method of manufacturing laminate
JP6432096B2 (en) * 2014-07-30 2018-12-05 トッパン・フォームズ株式会社 Laminate and electronic equipment

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4042497B2 (en) * 2002-04-15 2008-02-06 セイコーエプソン株式会社 Method for forming conductive film pattern, wiring board, electronic device, electronic device, and non-contact card medium
JP2006007519A (en) * 2004-06-24 2006-01-12 Bridgestone Corp Composite film having circuit pattern and its manufacturing method
JP4452841B2 (en) * 2005-07-04 2010-04-21 財団法人大阪産業振興機構 β-ketocarboxylate silver and method for producing the same
JP2009049275A (en) * 2007-08-22 2009-03-05 Konica Minolta Holdings Inc Ink acceptable base material and method of forming conductive pattern using the same
JP5906027B2 (en) * 2010-07-30 2016-04-20 トッパン・フォームズ株式会社 Decorative or mirror surface ink composition, base material, and method for producing a base material provided with a metallic silver layer on the surface

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014004815A (en) 2014-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2015111715A1 (en) Wiring board
JP6008676B2 (en) LAMINATE, METHOD FOR PRODUCING LAMINATE, AND COMMUNICATION DEVICE
JP6270913B2 (en) Circuit board
JP6289841B2 (en) Method for producing silver ink composition
JP2014110514A (en) Antenna structure, communication device, and method of manufacturing antenna structure
JP6278659B2 (en) Silver ink composition, conductor and electronic device
JP2014049644A (en) Antenna structure, data receiver/transmitter and communication apparatus
JP6821422B2 (en) Manufacturing method of metal thin film base material
JP6346486B2 (en) Laminate, data transmitter / receiver, communication device, and transparent conductive film
JP6472955B2 (en) Laminated body and circuit board
WO2016052292A1 (en) Silver metal, method for producing silver metal, and laminate
JP6604468B2 (en) Method for producing metallic silver
JP6762092B2 (en) Silver ink composition
JP6105352B2 (en) Laminate and communication equipment
JP6421383B2 (en) Laminate and electronic equipment
JP6289840B2 (en) Silver ink composition, conductor and communication device
JP6816982B2 (en) Silver ink composition
JP6230781B2 (en) LAMINATE, DATA TRANSMITTER / TRANSMITTER, COMMUNICATION DEVICE, AND LAMINATE MANUFACTURING METHOD
JP6081120B2 (en) Laminate, data transmitter / receiver, and communication equipment
JP6816980B2 (en) Silver ink composition
JP6432096B2 (en) Laminate and electronic equipment
JP6322019B2 (en) Laminate and electronic equipment
JP6515418B2 (en) Laminate and electronic device
JP6816981B2 (en) Treatment method of silver ink composition
JP6470512B2 (en) Laminated body and circuit board

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150828

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20150831

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160616

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160621

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160804

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20160805

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160830

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160913

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6008676

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees