JP6002095B2 - スライム抑制方法 - Google Patents
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- Paper (AREA)
Description
抄紙工程における白水循環系でのスライム抑制方法であって、
上記白水循環系に導入する水系に酸素含有ガスを曝気する工程と、
上記水系にスライムコントロール剤を添加する工程と
を有することを特徴とするスライム抑制方法である。
この測定工程で得られた測定結果に基づき、曝気工程の曝気量及び/又はスライムコントロール剤添加工程のスライムコントロール剤添加量を制御することが好ましい。上記曝気量及び/又はスライムコントロール剤添加量を調節することで、スライムの発生をより安定かつ確実に抑制することができる。
当該スライム抑制方法は、
抄紙工程における白水循環系でのスライム抑制方法であって、
上記白水循環系に導入する水系に酸素含有ガスを曝気する工程と、
上記水系にスライムコントロール剤を添加する工程と
を有する。
当該スライム抑制方法は抄紙工程における白水循環系で用いるものであり、上記白水循環系に導入する水系に酸素含有ガスを曝気し、スライムコントロール剤を添加する。ここで、「白水」とは、製紙時の抄紙工程において抄紙機等から多量に排出される水溶液をいう。白水は、通常抄紙時に使用する原料パルプに由来する微細繊維や、その他の製紙用薬剤等を含む。「白水循環系」とは、抄紙工程において循環して用いられる白水をいう。「白水循環系に導入する水系」とは、白水循環系にパルプスラリーや白水の濃度調整等に用いられる水系をいう。上記水系としては、特に限定されず、例えば製紙用の軟水、硬水等が挙げられ、本発明の効果を損なわない範囲で少量の製紙用薬剤を含んでいてもよい。
当該工程では、白水循環系に導入する水系に酸素含有ガスを曝気する。白水循環系内の多量の白水と比べて、比較的少量の上記水系を効率的に曝気することで、白水循環系全体のスライムの発生を容易に抑制することができる。具体的には、白水循環系内の酸素量を増加させたり、一定量以上に保つことで、曝気工程を行わないものと比べて、抄紙工程におけるスライムコントロール剤の添加量の低減やスライム発生の効率的な抑制を図ることができる。
当該工程では、上記水系にスライムコントロール剤を添加する。上記水系にスライムコントロール剤を添加することで、曝気を施さなかった場合と比べて、白水循環系内の細菌数をより低減することができ、その結果スライムの発生をより抑制することができる。また、スライムコントロール剤は白水中に含まれる澱粉等の有機物の分解を抑制することで、スライムの発生を抑制することもできる。
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド類、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール等のグリコール類、
メチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、
ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレート等のグリコールエステル類、
炭素数8以下のアルコール類、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、マレイン酸ジメチル、アジピン酸ジエチル、乳酸エチル、グルタル酸ジメチル、コハク酸ジメチル、フタル酸ジメチル、1,2−ジブトキシエタン、酢酸3−メトキシブチル、酢酸2−エトキシエチル、プロピレンカーボネート等のエステル類、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン等のケトン類、
トルエン、キシレン、1,2−ジメチル−4−エチルベンゼン等の芳香族系溶媒、
ジメチルスルホキシド、ジオキサン、N−メチルピロリドン等が挙げられる。
当該スライム抑制方法は、上記白水循環系の酸化還元電位、亜硫酸イオン濃度及び溶存酸素量からなる測定項目群より選択される少なくとも1種の項目を測定する工程をさらに有することが好ましい。この測定工程で得られた測定結果に基づき、曝気工程の曝気量及び/又はスライムコントロール剤添加工程のスライムコントロール剤添加量を制御することで、スライムの発生をより安定かつ確実に抑制することができる。
各工程における温度、圧力、時間、設備等のその他の工程条件は、特に限定されず、使用原料等に従って適宜設定される。各工程の段階数も、特に限定されず、1段階で行ってもよく、多段階で行ってもよい。原料や生成物の定量、定性は、NMR、IR、元素分析、マススペクトル等の公知の方法に従って行うことができる。また、使用する原料は、単独で用いてもよく、複数種の原料を組み合わせて使用してもよい。
酸化還元電位(mV)は電位差測定法を利用した酸化還元電位計(東興化学社製)を用いて測定した。
亜硫酸イオン濃度(mgSO3 −/L)はJIS K 0102:2008に準拠して測定した。具体的には、適量の試料をメスフラスコに取り、パラローズアニリン溶液、ホルムアルデヒド溶液及び塩化水銀溶液を加えて発色させた。20分放置後、別に同様に調製したブランク溶液を対照として572nmで比色し、亜硫酸イオン濃度として求めた。
溶存酸素量(mg/L)は、隔膜電極式溶存酸素計(オービスフェア社製)を用いて測定した。
生菌数(CFU/mL)は、被検水を希釈し、この一定量を栄養分含有寒天培地とよく混合し、1日平板培養した後、生成したコロニー数を計測した。
殺菌率(%)は、下記式を用いて算出した。
殺菌率(%)=((処理前の生菌数)−(処理後の生菌数))/(処理前の生菌数)×100
殺菌効果は、以下の評価基準に従って判定した。
◎:殺菌率が99.9%以上
○:殺菌率が99.5%以上99.9%未満
△:殺菌率が90%以上99.5%未満
×:殺菌率が90%未満
スライム抑制効果は、以下の評価基準に従って判定した。
◎:スライムの付着なし
○:スライムの厚さが0.1mm未満
△:スライムの厚さが0.1mm以上0.5mm未満
×:スライムの厚さが0.5mm以上
12%次亜塩素酸ナトリウムを製剤Aとして調製した。
臭化アンモニウムと次亜塩素酸ナトリウムをモル比で1:1反応させて製剤Bを調製した。
2,2−ジブロモ−3−ニトリロプロピオンアミド(DBNPA)20質量部とジエチレングリコールモノメチルエーテル80質量部を配合して製剤Cを調製した。
2,2−ジブロモ−2−ニトロエタノール(DBNE)20質量部とジエチレングリコールモノメチルエーテル80質量部を配合して製剤Dを調製した。
抄紙機より採取した白水を用いて、酸化還元電位、亜硫酸イオン濃度、溶存酸素量及び生菌数を測定した(測定工程)。処理前の白水の酸化還元電位は−387mVであり、亜硫酸イオン濃度は9.0mgSO3 −/Lであり、溶存酸素量は0.1mg/L未満であり、生菌数は4.1×108CFU/mLであった。底部に散気管を有する曝気槽内で単位面積1m2当たり2m3/時間の曝気量で10cm毎に2mmの口径を有する散気管を用い、空気で白水循環系に導入する水系を曝気槽中で曝気した(曝気工程)。水系と白水サイロからの白水を混合した後、原料パルプとして広葉樹晒クラフトパルプ及び脱墨パルプを用いたマシンタンクの原料パルプスラリーと混合した。上記曝気槽に製剤Aを100mg/Lの割合で添加し(スライムコントロール剤添加工程)、ファンポンプによりスクリーンを経由してインレットに送った。インレットに送られた原料パルプスラリーをワイヤーパートに供給し、脱水した。脱水された湿潤シートをプレスパートからドライヤーパートに送った。ワイヤーパートで分離された白水を白水サイロに貯留し、白水を循環させた(白水循環系)。14日後、白水の酸化還元電位、亜硫酸イオン濃度、溶存酸素量、生菌数を測定した。また、白水循環系の配管内のスライム付着量を目視で確認した。一方、スライムコントロール剤(製剤)を添加しなかったこと以外は実施例1と同様にして、酸化還元電位、亜硫酸イオン濃度、溶存酸素量、生菌数を測定した(比較例5)。処理前の生菌数と実施例1の生菌数から実施例1の殺菌率を算出した。
曝気量、スライムコントロール剤(製剤)の種類、添加濃度を表1の通りとしたこと以外は、実施例1と同様にして酸化還元電位、亜硫酸イオン濃度、溶存酸素量、生菌数及び殺菌率を測定した。また、白水循環系の配管内のスライム付着量を目視で確認した。
曝気処理しなかったこと及びスライムコントロール剤(製剤)の種類、添加濃度を表1の通りとしたこと以外は、実施例1と同様にして酸化還元電位、亜硫酸イオン濃度、溶存酸素量、生菌数を測定した。また、白水循環系の配管内のスライム付着量を目視で確認した。曝気処理をせず、処理前の生菌数と比較例1〜4の生菌数から比較例1〜4の殺菌率を算出した。
2 マシンタンク
3 ファンポンプ
4 スクリーン
5 インレット
6 ワイヤーパート
7 湿潤シート
8 プレスパート
9 ドライヤーパート
10 白水
11 白水サイロ
12 スライムコントロール剤
13 曝気槽
14 スライムコントロール剤
15 固液分離装置
16 固形分を排出又は原料系統に回収
17 曝気槽
18 スライムコントロール剤
19 白水循環系に導入する水系
20 曝気槽
21 スライムコントロール剤
22 白水循環系
23 ファンポンプ
24 ファンポンプ
25 ファンポンプ
26 ファンポンプ
Claims (6)
- 抄紙工程における白水循環系でのスライム抑制方法であって、
上記白水循環系に導入する水系に酸素含有ガスを曝気する工程と、
上記水系にスライムコントロール剤を添加する工程と
を有することを特徴とするスライム抑制方法。 - 上記白水循環系の酸化還元電位、亜硫酸イオン濃度及び溶存酸素量からなる測定項目群より選択される少なくとも1種の項目を測定する工程をさらに有し、
この測定工程で得られた測定結果に基づき、曝気工程の曝気量及び/又はスライムコントロール剤添加工程のスライムコントロール剤添加量を制御する請求項1に記載のスライム抑制方法。 - 上記曝気工程の曝気量及び/又はスライムコントロール剤添加工程のスライムコントロール剤添加量を白水循環系の酸化還元電位が−150mV以上、亜硫酸イオン濃度が2.0mgSO3 −/L以下、及び溶存酸素量が1mg/L以上のいずれか1つ以上になるよう調整する請求項2に記載のスライム抑制方法。
- 上記曝気工程における曝気に底部に散気管を有する曝気槽を用い、その散気管による曝気量が曝気槽の単位底面積1m2当たり0.5m3/時間以上10m3/時間以下である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のスライム抑制方法。
- 上記白水循環系に酸素含有ガスを曝気する工程をさらに有する請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のスライム抑制方法。
- 上記白水循環系にスライムコントロール剤を添加する工程をさらに有する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のスライム抑制方法。
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