JP5999908B2 - 端面実装センサ - Google Patents
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Description
[0006]本発明の他の態様では、センサデバイスは加速度計である。
[形態1]
第1のガラス層(24)に結合されるシリコンの機械層(25)中に少なくとも1つのセンサデバイスを作るステップと、
第2のガラス層(26)をシリコンの前記機械層に付着させてウェーハを作るステップと、
シリコンの前記機械層の表面の予め定められた領域を露出させるために、前記第1または第2のガラス層の少なくとも1つに少なくとも1つの第1のビア(30)を作るステップと、
前記少なくとも1つの第1のビアの深さ寸法よりも小さな深さ寸法を有する少なくとも1つの第2のビア(30)を、前記第1または第2のガラス層の少なくとも1つに作るステップと、
シリコンの前記機械層の前記露出領域と前記少なくとも1つの第2のビアの少なくとも一部との間に金属トレース(70、72)を付けるステップと、
前記少なくとも1つの第2のビアが2つの部分に分けられるように前記ウェーハをスライスして、第1のセンサダイを作るステップと、
前記スライスされたセンサダイの第1のものを、前記スライスされた第2のビアの壁の残りの一部のところで回路基板に電気的かつ機械的に結合するステップと
を含む方法。
[形態2]
形態1に記載の方法であって、前記センサデバイスが、第1または第2のガラス層の間に気密封止され、前記少なくとも1つのセンサデバイスが加速度計を含み、さらに、1つまたは複数の他のセンサダイを、前記1つまたは複数の他のセンサダイの感知軸が前記第1のセンサダイの感知軸に対して垂直であるように、前記回路基板に付着させるステップをさらに含む方法。
[形態3]
第1のガラス層(94)に結合された、センサデバイスを含むシリコンの機械層(92)、
シリコンの前記機械層に付着された第2のガラス層(96)、
シリコンの前記機械層の表面の予め定められた領域を露出させるように構成された、前記第1または第2のガラス層の少なくとも1つの中の少なくとも1つの第1のビア(100)、
前記少なくとも1つの第1のビアの深さ寸法よりも小さな深さ寸法を有する、前記第1または第2のガラス層の少なくとも1つ中の少なくとも1つの第2のビア(102)、および
シリコンの前記機械層の前記露出された領域と前記少なくとも1つの第2のビアの少なくとも一部との間に位置する金属トレース(104)
を備える第1のセンサダイと、
回路基板(22)と、
前記第1のセンサダイを作るために使用されたウェーハから形成された、それぞれセンサデバイスを含む第2および第3のセンサダイと、
前記センサデバイスの各々の感知軸が直角を成すように前記第1、第2、および第3のダイを前記回路基板に機械的かつ電気的に結合するように構成された複数の金属ビーズとを備える加速度計パッケージ。
22 回路基板
24、26 ハンドル層
25 機械層
28 垂直面内の動き
30 ビア
32 トレース
34 電導性ビーズ
50 ウェーハ
52 機械加工されたシリコン層
54、56 ガラス層
60、62 ビア
70、72 トレース
66、68 第2のビア
80 軸
90 パッケージ
92 シリコン層
94 第1のガラス層
96 第2のガラス層
100、102 ビア
Claims (4)
- センサダイパッケージであって、
第1のガラス層に結合された、センサデバイスを含むシリコンの機械層、
シリコンの前記機械層に付着された第2のガラス層、
シリコンの前記機械層の表面の予め定められた領域を露出させるように構成された、前記第1または第2のガラス層の少なくとも1つの中の少なくとも1つの第1のビア、
第1または第2のガラス層の少なくとも1つ中の少なくとも1つの第2のビアであって、前記第1または第2のガラス層の少なくとも1つをシリコンの前記機械層まで貫通しておらず、前記第1または第2のガラス層の少なくとも1つの、前記機械層から離れた側にある外面に露出する、前記少なくとも1つの第2のビア、および
シリコンの前記機械層の前記露出された領域と前記少なくとも1つの第2のビアの少なくとも一部との間に位置する金属トレース
を備えるセンサダイパッケージ。 - 請求項1に記載のセンサダイパッケージにおいて、
前記センサダイパッケージは、前記少なくとも1つの第2のビアを通る端面を有し、前記第2のビアの壁のところで回路基板または同等なデバイスに電気的かつ機械的に結合されることによって、当該端面の側で回路基板または同等なデバイスに端面実装可能に構成されている、センサダイパッケージ。 - 請求項1に記載のセンサダイパッケージにおいて、前記少なくとも1つのセンサデバイスは、加速度センサ又はジャイロのうち少なくとも1つである、センサダイパッケージ。
- 第1のガラス層に結合されるシリコンの機械層中に少なくとも1つのセンサデバイスを作るステップと、
第2のガラス層をシリコンの前記機械層に付着させてウェーハを作るステップと、
シリコンの前記機械層の表面の予め定められた領域を露出させるために、前記第1または第2のガラス層の少なくとも1つに少なくとも1つの第1のビアを作るステップと、
少なくとも1つの第2のビアを、前記第1または第2のガラス層の少なくとも1つに作るステップであり、前記少なくとも1つの第2のビアは、該第1または第2のガラス層の少なくとも1つをシリコンの前記機械層まで貫通しない前記ステップと、
シリコンの前記機械層の前記露出領域と前記少なくとも1つの第2のビアの少なくとも一部との間に金属トレースを付けるステップと、
前記少なくとも1つの第2のビアが2つの部分に分けられるように前記ウェーハをスライスして、第1のセンサダイを作るステップと、
前記第1のセンサダイを、前記スライスされた第2のビアの壁の残りの一部のところで回路基板または同等なデバイスに電気的かつ機械的に結合し、前記第1のセンサダイを端面実装するステップと
を含む方法。
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