JP5973724B2 - 真空環境用のリニアモータシステムおよびその設計方法 - Google Patents
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Description
本発明は、真空環境用のリニアモータを対象とする。本明細書は本発明の特徴を組み入れた1つまたは複数の実施形態を開示する。開示された実施形態は本発明の例示に過ぎない。本発明の範囲は開示された実施形態には限定されない。本発明は添付の請求項により定義される。
A.例示的な反射型および透過型リソグラフィシステム
図1Aおよび図1Bは、リソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’をそれぞれ模式的に示す図である。リソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’はそれぞれ、放射ビームB(例えばDUV放射またはEUV放射)を調整する照明系(イルミネータ)ILと、パターニングデバイス(例えばマスク、レチクル、または動的パターニングデバイス)MAを支持するよう構成されるとともに、パターニングデバイスを正確に位置決めするよう構成された第1ポジショナPMに接続されている支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、基板(例えば、レジストでコーティングされたウェーハ)Wを保持するよう構成されるとともに、基板を正確に位置決めするよう構成された第2ポジショナPWに接続されている基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、を備える。リソグラフィ装置100およびリソグラフィ装置100’は、パターニングデバイスMAにより放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの(例えば1つまたは複数のダイを含む)目標部分Cに投影するように構成された投影系PSも備える。リソグラフィ装置100では、パターニングデバイスMAおよび投影系PSが反射型であり、リソグラフィ装置100’では、パターニングデバイスMAおよび投影系PSが透過型である。
1.ステップモードにおいては、放射ビームBに付与されたパターンの全体が1回の照射で1つの目標部分Cに投影される間、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは実質的に静止状態とされる(すなわち1回の静的な露光)。そして基板テーブルWTがX方向及び/またはY方向に移動されて、異なる目標部分Cが露光される。
2.スキャンモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは同期して走査される(すなわち1回の動的な露光)。支持構造(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影系PSの拡大(縮小)特性及び像反転特性により定められる。
3.別のモードにおいては、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影される間、支持構造(例えばマスクテーブル)MTはプログラム可能パターニングデバイスを保持して実質的に静止状態とされ、基板テーブルWTは移動または走査される。パルス放射源SOが用いられ、プログラム可能パターニングデバイスは走査中に基板テーブルWTが移動するたびに、または連続するパルスとパルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、本明細書のプログラム可能ミラーアレイなどのプログラム可能パターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに適用可能である。
図2は、本発明の一実施形態に係るEUVリソグラフィ装置200を模式的に示す図である。図2において、EUVリソグラフィ装置100は、放射系42、照明光学ユニット44、及び投影系PSを含む。放射系42は、放電プラズマにより放射ビームが形成される放射源SOを含む。一実施形態においては、EUV放射は例えばXeガス、Li蒸気、またはSn蒸気等の気体または蒸気により生成される。この気体または蒸気中に高温プラズマが形成されてEUV領域の電磁放射スペクトルの放射が発せられる。この高温プラズマは、例えば放電により少なくとも部分的にイオン化されたプラズマを生成することにより形成される。効率的に放射を生成するためには、Xe、Li、Sn蒸気またはその他の適する気体または蒸気の例えば10Paの分圧が必要である。放射源SOが発する放射はソースチャンバ47からガスバリアまたは汚染物質トラップ49を通じてコレクタチャンバ48へと向かう。ガスバリアまたは汚染物質トラップ49は、ソースチャンバ47の開口またはその後方に配置されている。一実施例においてはガスバリア49はチャネル構造を含んでもよい。
図3Aないし3Dは、従来のXYモータアセンブリを示す。図3AのXYモータアセンブリ300は、X磁気回路およびY磁気回路によって発生する高磁束領域内に配置された、2つのレーストラック形状の平坦なコイルを備える。XYモータコイルアセンブリ300は、封止されたコイルハウジングおよび冷却ジャケット301、冷却水マニホールド303、流出入接続部305、Oリング真空シール307、およびカバープレート309を備える。
「発明の概要」および「要約」の部分ではなく、「発明を実施するための形態」が特許請求の範囲の解釈に使用されるよう意図されていることが認められるべきである。「発明の概要」および「要約」の部分は、発明者によって考案された本発明の実施形態のうち1つまたは複数について述べているが、全ての例示的な実施形態について述べている訳ではない。したがって、本発明および添付の特許請求の範囲をいかなる方法によっても限定する意図はない。
Claims (15)
- 複数の冷却板と、
前記複数の冷却板の間に挟まれた複数の電気コイルと、
前記複数の電気コイルと前記複数の冷却板との間に位置する複数の熱伝導性エポキシ層と、
前記複数の電気コイルと前記複数の冷却板との間に設置されそれらの間の距離を定める複数のシムと、
を備えるコアと、
前記コアと組み付けられるハウジングであって、前記コアを包囲するように構成され、本体と複数の供給口と蓋とを備えるハウジングと、
を備えることを特徴とするシステム。 - 前記複数の熱伝導性エポキシ層と前記複数の冷却板との間に設置される複数のカプトン(登録商標)層をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記複数のカプトン層が、複数の熱硬化性エポキシ接着層を用いて前記複数の冷却板に機械的に接続されることを特徴とする請求項2に記載のシステム。
- 前記コアが複数のセンサをさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記複数のセンサが、
前記コアの温度を測定するように構成された複数の温度センサと、
前記コアの温度がしきい値を越えるときに前記システムの動作を停止するように構成された複数の安全センサと、
をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載のシステム。 - 前記複数の電気コイルが、少なくとも1つのXコイルと少なくとも1つのYコイルとを備え、XコイルとYコイルのそれぞれが上部構造と下部構造とを有することを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記ハウジングと前記コアとの間に設置される複数の接着層と、
前記ハウジング内で前記コアと前記蓋との間に設置される充填片と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 前記ハウジングと前記コアとの間に設置される複数の接着層が、機械的強度の高いエポキシ層であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記ハウジングの前記複数の供給口が、コアの電線と水接続部のための供給口を含み、前記複数の供給口が封止されることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 前記複数の冷却板が、
互いにろう付けされた複数のステンレス鋼板と、
複数の冷却流路と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1に記載のシステム。 - 前記複数の電気コイルと前記複数の冷却板との間の距離が、前記複数の電気コイルと前記複数の冷却板との間の様々な場所で異なる距離であることを特徴とする請求項1に記載のシステム。
- 複数の冷却板の間に複数の電気コイルを配置し、
前記複数の電気コイルと前記複数の冷却板との間に複数の熱伝導性エポキシ層を配置し、
前記複数の電気コイルと前記複数の冷却板との間に複数のシムを配置してそれらの間の距離を決定し、
前記複数の熱伝導性エポキシ層を硬化すること
を含む、コアの組み立てと、
前記コアをハウジング内に挿入することを含む、モータの製造方法であって、
前記ハウジング内に挿入する前に前記コアを試験することを特徴とするモータの製造方法。 - 前記コアの組み立てが、前記複数の熱伝導性エポキシ層と前記複数の冷却板との間に複数のカプトン層を配置することをさらに含むことを特徴とする請求項12に記載の方法。
- 前記複数のカプトン層が、複数の熱硬化性エポキシ接着層を用いて前記複数の冷却板に機械的に接続されることを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 放射ビームを供給する照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与するパターニングデバイスを支持する支持構造と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板の目標部分上にパターン付与された放射ビームを投影する投影システムと、
複数の冷却板と、
前記複数の冷却板の間に挟まれた複数の電気コイルと、
前記複数の電気コイルと前記複数の冷却板との間に位置する複数の熱伝導性エポキシ層と、
前記複数の電気コイルと前記複数の冷却板との間に設置されそれらの間の距離を定める複数のシムと、
を有するコアと、前記コアと組み付けられるハウジングであって、前記コアを包囲するように構成され、本体と複数の供給口と蓋とを備えるハウジングと、を備えるモータと、
を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
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