JP5972400B2 - 透明板の容積内で欠陥を特定する装置及び方法、並びにこの装置の使用 - Google Patents
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- 230000007547 defect Effects 0.000 title claims description 114
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 60
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 49
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 45
- 238000003909 pattern recognition Methods 0.000 claims description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 4
- 238000004590 computer program Methods 0.000 claims description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000003385 sodium Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000000109 continuous material Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/958—Inspecting transparent materials or objects, e.g. windscreens
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/49—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8806—Specially adapted optical and illumination features
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/892—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
- G01N21/896—Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N2021/4704—Angular selective
- G01N2021/4709—Backscatter
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/89—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles
- G01N21/892—Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles characterised by the flaw, defect or object feature examined
- G01N21/896—Optical defects in or on transparent materials, e.g. distortion, surface flaws in conveyed flat sheet or rod
- G01N2021/8967—Discriminating defects on opposite sides or at different depths of sheet or rod
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/41—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
- G01N21/45—Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
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Description
−欠陥に起因して、干渉画像において引き起こされる撹乱は、欠陥よりも、例えば10倍又は12倍大きい。したがって、欠陥を検出するのに、低い光学分解能で十分である。
−複数の干渉画像を比較するとき、材料における欠陥と対照的に、物体の表面上の汚れは撹乱を引き起こさない。これによって材料欠陥を表面上の汚れと区別することが可能になる。
−光学分解能との関係で小さい撹乱は、複数の観察、及び撹乱されていない領域における信号変化と比較して大きい信号変化によって特定することができる。
−マトリックスカメラ、
−ラインスキャンカメラ、
−擬似マトリックスカメラとして動作する時間遅延積分(TDI)センサーを有するラインスキャンカメラ、又は
−ビデオカメラ、
として構成されるイメージセンサーを備えることができる。マトリックスカメラ、ラインスキャンカメラ、又はTDIセンサーを有するラインスキャンカメラを用いて、異なる検出角を容易に実現することができる。イメージセンサーは、少なくとも2つの電子干渉画像又はデジタル干渉画像を生成するように構成される。
−板10を照明するために、入射光20を、板10の表面の少なくとも一部分に向ける照明手段12と、
−板10を撮像するために、板10から後方散乱された光22が向けられる画像検出手段16と、
を備える。
l 波長
D(x,y) 位置x,yにおける板10の厚み
I0 輝度
Rs,p s偏光及びp偏光を有するフレネル反射係数
Δ 板10の上面及び下面において反射された波間の経路差
−図5a、図5bのそれぞれが、0.060×0.005mm2の大きさの含有物を有するガラス板を示している。
−図6a及び図6bのそれぞれが、0.090×0.020mm2の大きさの気泡を有するガラス板を示している。
−図5a、図6aは干渉画像である。
−図5b、図6bは、100倍の倍率における明視野顕微鏡画像である。
1)約0.150mmのコアサイズを有する金属含有物(図7a〜図7d)、及び
2)0.06mmの大きさの気泡(図8a〜図8d)。
11 透明板の容積内の欠陥を特定するための装置
12 照明手段、光源
14 スクリーン
16 イメージセンサー、センサーライン、カメラ
18 コンピューターユニット
20 入射光
22 板から後方散乱又は反射された光
22a 板の上面から反射された光
22b 板の下面から反射された光
24 コンベヤー手段
25 ローラー
26 ビームスプリッター
Claims (17)
- 透明板(10)、好ましくはガラス板の容積内の材料欠陥を特定するための装置であって、該装置(11)は、
前記板(10)を照明するために、該板(10)の表面の少なくとも一部に入射光(20)を向けるための照明手段(12)と、
前記板(10)を撮像するために、該板(10)からの後方散乱光(22)が向けられる画像検出手段(14、16)と、
を備え、
該装置(11)は、前記板(10)からの後方散乱光(22)の成分の重ね合わせのみにより干渉パターンを生成するように構成されており、前記干渉パターンに基づいて、異なる捕捉条件下で、少なくとも2つの干渉画像を生成し、該少なくとも2つの干渉画像を評価することにより、前記欠陥の特定を可能にするか又は実行するように構成され、
前記画像は、同じ前記画像検出手段(14、16)によってすべて検出され、
前記板(10)からの後方散乱光の成分の重ね合わせのみにより生成される干渉画像のうちの1つの干渉パターンを基準パターンとし、
前記干渉画像を評価することは、前記干渉パターンと前記基準パターンとを比較することを含む、
透明板、好ましくはガラス板の容積内の欠陥を特定するための装置。 - 該装置(11)は、前記干渉画像間の差分を求めることによって前記欠陥を特定するか、又は該欠陥の特定を可能にするように構成され、前記干渉画像は、特に、時間的に連続して又はオプションで同時に生成することができる、請求項1に記載の装置。
- 異なる捕捉条件下で少なくとも2つの干渉画像を生成するために、
前記照明手段(12)は、少なくとも2つの異なる波長及び/又は波形の入射光(20)を生成するように構成され、及び/又は
前記照明手段(12)は、少なくとも2つの照射角の下で、入射光(20)を前記板(10)に向けるように構成され、及び/又は
前記画像検出手段(14、16)は、少なくとも2つの検出角の下で、前記後方散乱光(22)を捕捉するように構成され、及び/又は
前記照明手段(12)は、少なくとも2つの異なる位相の入射光(20)を生成するように構成される、
請求項1又は2に記載の装置。 - 前記照明手段は、ナトリウムランプ又はレーザーの形態の少なくとも1つの光源(12)を備え、該光源(12)は好ましくは、前記板(10)の厚みの2倍よりも長いか又は3mmよりも長いコヒーレンス長を有し、及び/又は
前記画像検出手段は、前記干渉画像を表示するために前記後方散乱光(22)が向けられるスクリーン(14)を備え、及び/又は
前記画像検出手段は、前記光(22)又はオプションで前記スクリーン(14)上に表示される前記干渉画像を捕捉するための少なくとも1つのイメージセンサー(16)であって、前記光(22)は前記板(10)から該イメージセンサー(16)上に後方散乱される、少なくとも1つのイメージセンサー(16)を備え、及び/又は
該装置(11)は、前記画像検出手段(14、16)及び/又は前記照明手段(12)に接続されたコンピューターユニット(18)を備え、及び/又は
該装置(11)は、前記照明手段(12)及び/又は前記画像検出手段(14、16)に対し前記板(10)を動かすためのコンベヤー手段(24)を備える、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置。 - 前記イメージセンサー(16)は、少なくとも2つの検出角の下で前記後方散乱光(22)を捕捉するために、
マトリックスカメラとして、及び/又は
1つ又は複数のラインスキャンカメラとして、及び/又は
マトリックスカメラとして動作する時間遅延積分(TDI)センサーを有するラインスキャンカメラとして、
構成される、
請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。 - 前記コンベヤー手段(24)はローラー(25)を備え、該ローラー上を前記板(10)が誘導される、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。 - 前記干渉画像間の差分を評価するためのパターン認識システムを備える、
請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。 - 前記照明手段(12)は、
時間的に連続して複数の異なる波長を有する入射光(20)を生成するための調整可能な光源(12)、及び/又は
前記時間的に連続して複数の異なる波長を有する入射光(20)を生成するための、定義されたスペクトル幅及び調整可能なフィルターを有する光源(12)、及び/又は
前記複数の異なる波長の入射光(20)を同時に又はほぼ同時に生成するための複数の離間された光源(12)、及び/又は
少なくとも、2つ、又は5つ、又は10個又は50個の光源(12)、
を備える、請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。 - 欠陥を有する、薄ガラス、すなわち200μm未満の厚みを有するガラスを選別するための、請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置(11)の使用。
- 透明板(10)、好ましくはガラス板の容積内の材料欠陥を特定するための方法であって、該方法は、
入射光(20)を生成し、前記板(10)の表面の少なくとも一部に向ける、照明手段(12)と、
前記板(10)からの後方散乱光(22)を捕捉するための画像検出手段(14、16)と、
を用い、
以下のステップ
a)前記照明手段(12)によって前記板(10)を照明するステップであって、干渉パターンを生成するために前記板(10)からの前記後方散乱光(22)の成分を重ね合わせて、前記板(10)からの前記後方散乱光(22)のみを前記画像検出手段(14、16)に向ける、ステップと、
b)前記画像検出手段(14、16)によって前記後方散乱光(22)を捕捉するステップと、
c)前記板(10)からの後方散乱光の成分の重ね合わせのみにより生成される干渉画像のうちの1つの干渉パターンは基準パターンであって、前記画像検出手段(14、16)によって、異なる捕捉条件下で、少なくとも2つの干渉画像を生成するステップと、
d)前記干渉パターンと前記基準パターンとを比較することにより干渉画像を評価し、前記欠陥を特定するステップと、
を含む、透明板、好ましくはガラス板の容積内の欠陥を特定するための方法。 - 前記欠陥を特定するために、前記干渉画像間の差分が求められ、及び/又は
前記干渉画像は、時間的に連続して又はオプションで同時に生成される、請求項10に記載の方法。 - 前記干渉画像は、1つの干渉画像の干渉パターンからの期待値を求め、この期待値を他の各干渉画像の干渉パターンと比較することによって互いに比較され、干渉画像の比較は好ましくは、前記期待値と他の干渉画像の前記それぞれの干渉パターンとの、差分を求めること、相関付け、又は類似性若しくは差分をチェックすることを含む、請求項10又は11に記載の方法。
- 前記異なる捕捉条件は、
前記照明手段(12)によって、少なくとも2つの異なる波長及び/又は波形を有する前記入射光(20)を生成するステップ、及び/又は
前記照明手段(12)によって、少なくとも2つの照射角の下で前記板(10)に向けられる前記入射光(20)を生成するステップ、及び/又は
前記画像検出手段(14、16)によって、異なる検出角の下で前記後方散乱光(22)を捕捉するステップ、及び/又は
前記照明手段(12)によって、少なくとも2つの異なる位相を有する前記入射光(20)を生成するステップ、
のうちの少なくとも1つを実行することによって提供される、請求項10〜12のいずれか1項に記載の方法。 - 欠陥によって撹乱されていない画像領域を有する干渉画像を生成するステップであって、前記画像領域において、前記入射光(20)の前記波長の適切な定義に起因して弱め合う干渉が生じる、ステップと、
干渉画像の重み付き重ね合わせによって重ね合わせ画像を生成するステップであって、前記干渉画像を生成するのに用いられる前記波長及び重み係数は、前記欠陥によって撹乱されていない前記重ね合わせ画像の画像領域において波が弱め合って重なり合うように選択される、ステップと、
欠陥を特定するためのパターン認識システムを用いて、干渉画像及び/又は前記重ね合わせ画像を評価又はチェックするステップと、
のうちの少なくとも1つが実行される、請求項10〜13のいずれか1項に記載の方法。 - 前記照明手段(12)及び/又は前記画像検出手段(14、16)に対し前記板(10)が動かされ、及び/又は
前記板(10)は、ローラー(25)上を誘導されながら動かされ、好ましくは前記板(10)を曲げることによって、該板(10)上に外部張力が加わり、該外部張力が内部応力を補償する、請求項10〜14のいずれか1項に記載の方法。 - コンピューター内にロードされるか、又はコンピューター上で実行されると、請求項10〜15のいずれか1項に記載の方法を実行することが可能なコンピュータープログラム。
- 請求項16に記載のプログラムを含むプログラム記憶媒体又はコンピュータープログラム製品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102012002174.7 | 2012-02-07 | ||
DE102012002174.7A DE102012002174B4 (de) | 2012-02-07 | 2012-02-07 | Vorrichtung und Verfahren zum Erkennen von Fehlstellen innerhalb des Volumens einer transparenten Scheibe und Verwendung der Vorrichtung |
PCT/EP2012/076976 WO2013117282A1 (de) | 2012-02-07 | 2012-12-27 | Vorrichtung und verfahren zum erkennen von fehlstellen innerhalb des volumens einer transparenten scheibe und verwendung der vorrichtung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015511315A JP2015511315A (ja) | 2015-04-16 |
JP5972400B2 true JP5972400B2 (ja) | 2016-08-17 |
Family
ID=47522629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014555958A Active JP5972400B2 (ja) | 2012-02-07 | 2012-12-27 | 透明板の容積内で欠陥を特定する装置及び方法、並びにこの装置の使用 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9546967B2 (ja) |
JP (1) | JP5972400B2 (ja) |
KR (1) | KR20140117613A (ja) |
CN (1) | CN104094104B (ja) |
DE (2) | DE102012002174B4 (ja) |
TW (1) | TWI504884B (ja) |
WO (1) | WO2013117282A1 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9588056B2 (en) * | 2014-05-29 | 2017-03-07 | Corning Incorporated | Method for particle detection on flexible substrates |
CN104568989A (zh) * | 2014-12-30 | 2015-04-29 | 湖北优尼科光电技术股份有限公司 | 玻璃基板的缺陷检测方法 |
DE102015106050A1 (de) | 2015-04-21 | 2016-10-27 | Schott Ag | Glasrolle, Erzeugnis mit einer Glasrolle, Vorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung |
CN107771281A (zh) * | 2015-06-19 | 2018-03-06 | 康宁股份有限公司 | 采用光学技术以三个尺度来检测基材的缺陷和定位此类缺陷的方法和设备 |
CN105675617B (zh) * | 2016-04-06 | 2020-05-01 | 东旭科技集团有限公司 | 用于测量平板玻璃表面颗粒度的方法及设备 |
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-
2012
- 2012-02-07 DE DE102012002174.7A patent/DE102012002174B4/de active Active
- 2012-12-27 KR KR1020147023581A patent/KR20140117613A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-12-27 CN CN201280069284.9A patent/CN104094104B/zh active Active
- 2012-12-27 DE DE112012005554.3T patent/DE112012005554A5/de not_active Withdrawn
- 2012-12-27 WO PCT/EP2012/076976 patent/WO2013117282A1/de active Application Filing
- 2012-12-27 JP JP2014555958A patent/JP5972400B2/ja active Active
-
2013
- 2013-01-04 TW TW102100259A patent/TWI504884B/zh active
-
2014
- 2014-08-07 US US14/453,732 patent/US9546967B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104094104B (zh) | 2017-06-20 |
WO2013117282A1 (de) | 2013-08-15 |
CN104094104A (zh) | 2014-10-08 |
US9546967B2 (en) | 2017-01-17 |
JP2015511315A (ja) | 2015-04-16 |
KR20140117613A (ko) | 2014-10-07 |
TWI504884B (zh) | 2015-10-21 |
TW201333451A (zh) | 2013-08-16 |
DE112012005554A5 (de) | 2014-09-18 |
DE102012002174A1 (de) | 2013-08-08 |
US20140347664A1 (en) | 2014-11-27 |
DE102012002174B4 (de) | 2014-05-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150821 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150825 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151125 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160112 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160511 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160614 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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