JP5963992B1 - 処理対象の平坦材料を湿式化学処理する装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
2、3 アクティブモジュール
4 洗浄構成
5〜7 洗浄モジュール
8 処理対象の材料
9 搬送方向
10 搬送面
11 処理領域
12 貯留領域
13 ポンプ
14 分散構成
15 液面
16 搬送ローラー対
17 処理領域
18 貯留領域
19 ポンプ
20 分散構成
21 液面
22a、22b、22c 基部
23、23’、24 隔壁
25、26 洗浄液の流れ
27、28 越流堰
31、41、51 処理領域
32、42、52 貯留領域
33、43、53 ポンプ
34、44、54 分散構成
35、45、55 液面
36 隔離構成
37 ローラー対
38、48、58 隔離構成
39、49、59 洗浄液の流れ
36 隔離構成
62、63 間隙形成要素
64 間隙
65 壁部
66、67 間隙形成要素
69 間隙
68 壁部
71、72 隔壁
73 液面
81 処理装置
84 洗浄構成
87 洗浄モジュール
87a、87b 処理領域の部分
91 処理領域
92 貯留領域
93 ポンプ
94 分散構成
95 ローラー対
96、97 液面
98、99 洗浄液の流れ
81’ 処理装置
2’、3’ アクティブモジュール
84’ 洗浄構成
87’ 洗浄モジュール
87a’、87b’ 処理領域の部分
101〜106 液面
107〜109 洗浄液の流れ
112〜114 液面
117、118 洗浄液の流れ
124 洗浄カスケード
125〜127 洗浄モジュール
131 処理領域
132 貯留領域
133 ポンプ
134 分散構成
135 液面
136、138 隔離構成
139 基部
141〜146 ローラー
151 処理領域
152、153 ローラー
154 処理領域
155、156 ローラー
161〜163 液面
164、165 洗浄液の流れ
166、167 洗浄液の流れ
Claims (10)
- 水平な通口システム用の処理対象の平坦材料(8)を湿式化学処理する装置であって、
前記処理対象の材料(8)を第1の液体で処理する第1の処理モジュール(2、3、6;2’、3’、6’)と、
前記処理対象の材料(8)を第2の液体で処理する第2の処理モジュール(5、7;5、87;5’、87’)、特に、洗浄モジュールと、
前記処理対象の材料(8)を洗浄液で処理する少なくとも1つの別の洗浄モジュール(6、7;6、87;6、87’)と、
少なくとも搬送面(10)まで、前記第1の処理モジュール(2、3、6;2’、3’、6’)の第1の処理領域(11、17、41)に前記第1の液体を滞留させ、前記第2の処理モジュール(5、7;5、87;5’、87’)の第2の処理領域(31、51;31、91)に前記第2の液体を滞留させ、前記少なくとも1つの別の洗浄モジュールの少なくとも1つの別の処理領域(41、51;41、91)に前記洗浄液を滞留させるように設計された滞留手段(22a、22b、22c、36、38、48、58)と、
隣接する洗浄モジュール間に設けられ、少なくとも一方側で、前記処理対象の材料(8)を通過させる間隙(68)の範囲を定める隔離構成(38、48)と、
水平な搬送面(10)内で前記第1の処理領域(11、17、41)および前記第2の処理領域(31、51;31、91)を通って前記処理対象の材料(8)を搬送する搬送構成(16)と、を備え、
前記搬送構成(16)が前記第1の処理領域(11、17、41)と前記第2の処理領域(31、51;31、91)との間で前記処理対象の材料(8)を直接移送するように設計され、前記第2の処理領域(31)と前記少なくとも1つの別の処理領域(41)との間で前記処理対象の材料(8)を直接移送するように設計され、前記隔離構成(38、48)により範囲が定められた前記間隙(69)において、前記処理対象の材料(8)の搬送方向(9)の反対方向に前記洗浄液の流れ(107、108)を設定するように設計された、装置(1;81;81’)。 - 前記滞留手段が、少なくとも前記搬送面(10)まで、前記第1の処理領域(11、17、41)の全長にわたって前記第1の液体を滞留させるとともに前記第2の処理領域(31、51;31、91)の全長にわたって前記第2の液体を滞留させるように設計された、請求項1に記載の装置。
- 前記処理対象の材料(8)の搬送方向(9)に、前記第1の処理領域(11、17、41)と前記第2の処理領域(31、51;31、91)との間で横方向に延びた少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)を備え、
前記少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)において、前記第1の液体が当該少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)の一方側で直接待機するとともに前記第2の液体が当該少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)の反対側で直接待機するように、前記滞留手段(22a、22b、22c、36、38、48、58)が前記第1の液体および前記第2の液体を滞留させるように設計された、請求項1または2に記載の装置。 - 前記少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)が、少なくとも一方側で、前記処理対象の材料(8)を通過させる水平延伸間隙(64)の範囲を定め、当該装置(1;81;81’)が、前記間隙(64)を通る前記第1の液体および前記第2の液体の流れを防止するように設計された、請求項3に記載の装置。
- 前記搬送構成(16)により搬送された処理対象の材料(8)が、前記第1の処理モジュール(2;2’)、前記第2の処理モジュール(5;5’)、および前記少なくとも1つの別の洗浄モジュール(6、7;6、87;6、87’)を通って搬送された場合に、全長にわたって、前記第1の液体、前記第2の液体、または前記洗浄液のうちの少なくとも1つにより絶えず覆われるように、前記滞留手段(22a、22b、22c、36、38、48、58)が前記第1の液体、前記第2の液体、および前記洗浄液を滞留させるように設計された、請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第1または第2の処理領域(87;87’)が、前記搬送方向(9)に隣接するとともに液面が異なる2つの部分(87a、87b;87a’、87b’)を有するように、前記滞留手段(22a、22b、22c、36、38、48、58)が前記処理領域(87;87’)の少なくとも一方に前記第1または第2の液体を滞留させるように設計された、請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- 水平な通口システムにおいて処理対象の平坦材料(8)を湿式化学処理する方法であって、
前記処理対象の材料(8)が、第1の処理モジュール(2、3、6;2’、3’、6’)において第1の液体で処理されるとともに第2の処理モジュール(5、7;5、87;5’、87’)において第2の液体、特に、洗浄液で処理され、水平な搬送面(10)内で前記第1の処理モジュール(2、3、6;2’、3’、6’)および前記第2の処理モジュール(5、7;5、87;5’、87’)を通って搬送され、前記処理対象の材料(8)が、少なくとも1つの別の洗浄モジュール(6、7;6、87;6、87’)において洗浄液で処理され、
前記処理対象の材料(8)が、前記第1の液体が滞留した前記第1の処理モジュール(2、3、6;2’、3’、6’)の第1の処理領域(11、17、41)と前記第2の液体が滞留した前記第2の処理モジュール(5、7;5、87;5’、87’)の第2の処理領域(31、51;31、91)との間で直接移送され、前記処理対象の材料(8)が、前記第2の処理領域(31、51;31、91)と前記少なくとも1つの別の洗浄モジュール(6、7;6、87;6、87’)の前記洗浄液が滞留した少なくとも1つの別の処理領域(41、51;41、91)との間で直接搬送され、
前記処理対象の材料(8)が、少なくとも一方側で、2つの洗浄モジュール間に設けられた隔離構成(38、48)により範囲が定められた間隙(68)を通過し、前記間隙(69)において、前記処理対象の材料(8)の搬送方向(9)の反対方向に前記洗浄液の流れ(107、108)が設定される、方法。 - 前記第1の処理領域(11、17、41)と前記第2の処理領域(31、51;31、91)との間に、前記処理対象の材料(8)の搬送方向(9)に対して横方向に延びた少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)が設けられ、
前記第1の液体が、前記少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)において、当該少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)の一方側で直接待機するとともに、前記第2の液体が、前記少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)において、当該少なくとも1つの隔離要素(37;37a、37b;62、63、66、67)の反対側で直接待機する、請求項7に記載の方法。 - 前記処理対象の材料(8)が、前記第1の処理モジュール(2;2’)、前記第2の処理モジュール(5;5’)、および前記少なくとも1つの別の洗浄モジュール(6、7;6、87;6、87’)を備えた前記通口システムの一部分を通って搬送されることにより、当該部分で全長にわたって、前記第1の液体、前記第2の液体、または前記洗浄液のうちの少なくとも1つにより常に覆われる、請求項7に記載の方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置(1;81;81’)によって可撓性のパネル状基板が処理される、請求項7〜9のいずれか1項に記載の方法。
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