JP5957592B2 - 触媒の調製方法 - Google Patents
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Description
本発明は、下記の工程1、工程2及び工程3を有する触媒の調製方法である。
工程1:活性炭にPtを担持させた触媒の水分散液を調製する工程
工程2:Biをイオンの状態で含む水溶液を調製する工程
工程3:工程2で得られた水溶液に、工程1で得られた水分散液を添加する工程
工程1:活性炭にPtを担持させた触媒の水分散液を調製する工程
工程2:Biをイオンの状態で含む水溶液を調製する工程
工程3:工程2で得られた水溶液に、工程1で得られた水分散液を添加する工程
但し、一般式(1)においてR1は炭素数2以上40以下の脂肪族炭化水素基である。
但し、一般式(2)においてR2は炭素数2以上40以下の炭化水素基、AOは炭素数2以上4以下のアルキレンオキシ基を表し、nはアルキレンオキシ基の付加モル数であり、1以上30以下の整数である。
<1>下記の工程1、工程2及び工程3を有する触媒の調製方法。
工程1:活性炭にPtを担持させた触媒(Pt/C触媒)の水分散液を調製する工程
工程2:Biをイオンの状態で含む水溶液(Bi水溶液)を調製する工程
工程3:工程2で得られた水溶液に、工程1で得られた水分散液を添加する工程
R1O−H (1)
但し、一般式(1)においてR1は炭素数2以上40以下の脂肪族炭化水素基である。
R2O−(AO)n−H (2)
但し、一般式(2)においてRは炭素数2以上40以下の炭化水素基、AOは炭素数2以上4以下のアルキレンオキシ基を表し、nはアルキレンオキシ基の付加モル数であり、1以上30以下の整数である。
R1が、好ましくは直鎖又は分岐鎖の、1級又は2級の脂肪族炭化水素基、より好ましくは直鎖若しくは分岐鎖の、1級若しくは2級のアルキル基又はアルケニル基、さらに好ましくは直鎖の、1級若しくは2級のアルキル基である、<46>に記載の酸化物の製造方法。
R1の炭素数が、6以上、8以上、10以上又は12以上であり、好ましくは36以下、より好ましくは22以下、さらに好ましくは18以下、よりさらに好ましくは14以下である、<46>又は<47>に記載の酸化物の製造方法。
R2が、好ましくは脂肪族炭化水素基、より好ましくは直鎖又は分岐鎖の、1級又は2級の脂肪族炭化水素基、さらに好ましくは直鎖若しくは分岐鎖の、1級若しくは2級のアルキル基又はアルケニル基、よりさらに好ましくは直鎖の、1級若しくは2級のアルキル基である、<46>〜<48>の何れか1に記載の酸化物の製造方法。
R2の炭素数が、6以上、8以上、10以上又は12以上であり、好ましくは36以下、より好ましくは22以下、さらに好ましくは18以下、よりさらに好ましくは14以下である、<46>〜<49>の何れか1に記載の酸化物の製造方法。
<10%Pt−1%Bi/C触媒の調製>
工程1:Pt/Cスラリー(以下、液Aという)の調製:
1Lのビーカーに、10% Pt/C(Evonik Japan社製、Pt粒径14nm、水分含量59.2%)40gとイオン交換水500gを仕込み、固体がビーカーの底に沈殿しないように「FineスターラーF−202」(東京硝子器械株式会社製)を用いて約100rpmの条件にて撹拌した。
メカニカルスターラー「テフロン(登録商標)製撹拌羽根三日月形」(ASONE社製、撹拌翼の幅75mm×高さ20mm×厚さ4mm)を備えた2Lのセパラブルフラスコに、硝酸ビスマス五水和物(和光純薬工業株式会社製)0.38gと2%酢酸水溶液808mLを仕込んだ。2%酢酸水溶液中のBi濃度は0.001Mである。ビスマス塩を完全に溶解させるため、超音波洗浄機「Fine超音波洗浄器FU−9H」(東京硝子器械株式会社製)で周波数38kHzの条件下にて5分間超音波をあてた。
その後、撹拌及び水素流通下で酢酸を2mL添加した。酢酸添加後の溶液のpHは3であった。
セパラブルフラスコ内の液Bへの水素流通及び撹拌を継続しながら、ぜん動ポンプを用いてビーカー内の液Aを、セパラブルフラスコ内の液Bへ滴下した。滴下する液Aの滴下速度、滴下時間及び滴下を受ける液Bの温度は表1記載の通りであった。また、滴下後の溶液のpHは3であった。
<10%Pt−1%Bi/C触媒の調製2>
工程1:Pt/Cスラリー(以下、液Aという)の調製:
メカニカルスターラー「テフロン(登録商標)製撹拌羽根三日月形」(ASONE社製、撹拌翼の幅75mm×高さ20mm×厚さ4mm)を備えた2Lのセパラブルフラスコに、10% Pt/C(Evonik Japan社製、水分含量59.2%)40gとイオン交換水500gを仕込んだ。
1Lのビーカーに、硝酸ビスマス五水和物(和光純薬工業株式会社製)0.38gと2%酢酸水溶液808mLを仕込んだ。2%酢酸水溶液中のBi濃度は0.001Mである。ビスマス塩を完全に溶解させるため、超音波洗浄機「Fine超音波洗浄器FU−9H」(東京硝子器械株式会社製)で周波数38kHzの条件下にて5分間超音波をあてた。
セパラブルフラスコ内の液Aへの水素流通及び撹拌を継続しながら、ぜん動ポンプを用いてビーカー内の液Bを、セパラブルフラスコ内の液Aへ滴下した。滴下する液Bの滴下速度、滴下時間及び滴下を受ける液Aの温度は表1記載の通りであった。また、滴下後の溶液のpHは4であった。
Pt担持量が5%のPt/C触媒を用い、また、IPA添加、濾過後に、中和、洗浄及び濾過をした以外は、実施例1と同様の工程を行って触媒を得た。なお、濾過は実施例1に記載の方法で行った。また、中和及び洗浄は次のように行った。
Pt担持量が5%のPt/C触媒を用い、また、IPA添加、濾過後に、中和、洗浄及び濾過をした以外は、比較例1と同様の工程を行って触媒を得た。なお、濾過は比較例1に記載の方法で行った。また、中和及び洗浄は実施例2と同様の工程を行った。
触媒中の含水率は、次のように触媒を乾燥して乾燥前後の触媒の重量を測定して求める。
触媒3g程度をシャーレ「フラットシャーレFS−90B」(VIDREX社製)に入れて重量を測る。その後、「VACUUM DRYING OVEN DRR420DA」(ADVANTEC社製)を使用して−80kPa〜−100kPaまで減圧し、70℃で4時間減圧乾燥を行い、再び重量を測定する。重量減少分は触媒に含まれている水分であると仮定し、次式により含水率を求める。
(触媒中の含水率%)=100×(重量減少分g)/(乾燥前の触媒重量g)
還流管、pHメーター「デジタルpHコントローラーFD−02」(東京硝子器械株式会社製)、溶存酸素濃度計「InPro6850i/12/220」(METTLER TOLEDO社製)及びメカニカルスターラー「テフロン(登録商標)製撹拌羽根三日月形」(ASONE社製、撹拌翼の幅75mm×高さ20mm×厚さ4mm)を備えた500mLの7つ口フラスコに、原料であるポリオキシエチレンアルキルエーテル(ラウリルアルコールにエチレンオキシドを平均3.6mol付加したもの)265g、触媒を原料100質量部に対して触媒中のPt及びBiの金属量の合計が、実施例1と比較例1では6.4質量部、実施例2と比較例2では3.2質量部となる量、及びイオン交換水を下記の計算方法で得られる水仕込み量g、仕込んだ。
原料に対する水の量が80.9:19.1となるようにして、次のように計算する。
(水仕込み量g)=191×(原料仕込み量g)/809−(触媒中の含水率%)×(触媒仕込み量g)
下記の測定条件にてICP分析によりを行い、触媒からのPt及びBiの溶出量を測定した。
試薬
塩酸:原子吸光分析用、関東化学株式会社製
硝酸:原子吸光分析用、関東化学株式会社製
硫酸:精密分析用、和光純薬工業株式会社製
プラチナ標準液:原子吸光分析用標準液1000mg/L、関東化学株式会社製
ビスマス標準液:原子吸光分析用標準液1000mg/L、関東化学株式会社製
超純水 :ミリQ水、ミリポア社製
(1)試料0.1gを磁器るつぼに採取しヒーターで焼成後、王水(塩酸:硝酸=3:1)8mLを添加し、加熱溶解する。冷却後、濾過し、超純水で100mLにメスアップする。
(2)濾過残渣を濾紙ごと灰化し(途中で硫酸を適宜添加し550℃で完全に灰化)、(1)と同様に王水で溶解し、冷却後、濾過し、メスアップする。
(3)(1)で調製した液と(2)で調製した液のBi量及びPt量を測定して、それぞれ、合算する。
(4)(2)の濾過残渣は蛍光X線で定性分析を行い、Pt、Biが残っていないことを確認する。
原子吸光分析用標準液(Pt及びBi:1000mg/L)を用いて、0.1〜2.0mg/Lの検量線溶液を調製した。それぞれの溶液には試料と同程度(約8%)となるように王水を添加した。
分析装置:サーモフィッシャーサイエンティフィック社製 iCAP 6500Duo
波長:Pt 214.423nm、Bi 223.061nm
RFパワー:1150W
クーラントガス流量:12L/min
ネブライザー流量:0.70L/min
補助ガス:0.5L/min
ポンプ流量:50rpm
下記の測定条件にて、ガスクロマトグラフィー(GC)分析により、原料、中間体であるアルデヒド及びエーテルカルボキシレートのピーク面積を求めた。これら3成分のピーク面積の合計に対するエーテルカルボキシレートのピーク面積の割合をエーテルカルボキシレートの収率として求め、百分率で示した。
(1)濾液0.22gをスクリュー管に測り取り、イオン交換水と飽和食塩水をそれぞれ3mLずつ添加し、さらにジエチルエーテル10mLを添加し分層する。
(2)そのエーテル層2.5mLをスクリュー管に測り取ってジアゾメタンでメチルエステル化する。
(3)窒素を流通させてジアゾメタンを留去する。
(4)溶液を1.5 mLに濃縮してGC分析に使用する溶液とする。
装置:Agilent Technologies 19091A−102E(Agilent Technologies社製)
カラム:Ultra1 Methyl Siloxane(25.0m×200μm×0.33μm)
Injection temp.325℃
Detector temp.300℃
Initial temp.100℃
Initial time.5min.
Increasing rate 5℃/min.
Final temp.300℃
Final time.45min.
Injection volume 1.0μL
Split ratio 25:1
Total flow rate 28.1mL/min.(He)
それぞれ表3に記載した条件に変えた以外は、実施例1と同様に工程を行って触媒を得た。また、実施例1と同様の方法でエーテルカルボキシレートを製造し、触媒からの金属溶出量及びエーテルカルボキシレートの収率を測定した。測定結果を表3に示す。
実施例1と同様に工程を行って触媒を調製した。また、反応時間を14時間とした以外は実施例1と同様の方法でエーテルカルボキシレートを製造し、触媒からの金属溶出量及びエーテルカルボキシレートの収率を測定した。測定結果を表3に示す。なお、金属溶出量の測定は、下記の(1)および(2)以外は実施例1と同様に行った。
(1)実施例1の試料溶液調製(1)において、磁性るつぼを用いて試料を酸で加熱溶解する代わりに、専用の密閉容器を用いてマイクロウェーブ法にて試料を酸で処理した。
(2)ICP測定において、PerkinElmer, Inc.製のICP質量分析装置ELAN DRC IIを用いた。
実施例1で製造した触媒を用い、下記の方法でXPS(X−ray Photoelectron Spectroscopy)測定を行った。その結果を図1に示す。
結合エネルギー162〜155eVの範囲のピークトップの結合エネルギー値は157.8eVであった。
比較例1で製造した触媒を用いた以外は実施例7と同様にXPS測定を行った。そのBi4f軌道の光電子スペクトルを図1に示す。
結合エネルギー162〜155eVの範囲のピークトップの結合エネルギー値は158.7 eVであった。
触媒を銅プレートに接着したカーボン両面テープ上に散布したものを分析サンプルとした。分析に使用した装置と条件は以下の通りである。
・装置:PHI Quantera SXM (ULVAC-PHI Inc.)
・X線源:単色化AlKα 1486.6 eV, 25W, 15kV
・ビーム径:100μm
・測定範囲:500×500μm2
・Pass energy:280.0 eV (survey) 112.0 eV (narrow)
・Step:1.00 eV (survey) 0.20 eV (narrow)
・帯電補正:NeutralizerおよびAr+照射
・光電子取り出し角度:45°
・検出元素:C1s (5), O1s (10), Na1s (20), Pt4f (30), Bi4f (30)
・結合エネルギー値の補正は、炭素のCHに由来するC1s 284.8 eVで行った
Claims (15)
- 下記の工程1、工程2及び工程3を有する触媒の調製方法。
工程1:活性炭にPtを担持させた触媒の水分散液を調製する工程
工程2:Biをイオンの状態で含む水溶液を調製する工程
工程3:工程2で得られた水溶液に、工程1で得られた水分散液を添加する工程 - 工程3を還元雰囲気下に行う、請求項1の調製方法。
- 工程2で得られた水溶液が酸を含有する、請求項1又は2記載の触媒の調製方法。
- 酸が酢酸及び硝酸から選ばれる1種である、請求項3に記載の触媒の調製方法。
- 工程3における添加が連続添加又は分割添加で行われる、請求項1〜4の何れか1項に記載の触媒の調製方法。
- 工程3において、添加を受けるBi水溶液の温度が10℃以上60℃以下である、請求項5記載の触媒の調製方法。
- 工程3において、添加速度が活性炭にPtを担持させた触媒の水分散液として1mL/分以上10mL/分以下である、請求項5又は6記載の触媒の調製方法。
- 工程3において、添加に要する時間が15分以上10時間以下である、請求項5〜7の何れか1項に記載の触媒の調製方法。
- 水分散液中の活性炭にPtを担持させた触媒の濃度が、4質量%以上12質量%以下である、請求項1〜8の何れか1項に記載の触媒の調製方法。
- 使用する酸の量が、Bi水溶液中、1質量%以上5質量%以下である、請求項3又は3を引用する請求項4〜9の何れか1項に記載の触媒の調製方法。
- Bi水溶液中のBiの配合量が、0.0001M以上0.1M以下である、請求項1〜10の何れか1項に記載の触媒の調製方法。
- Biイオンのイオン源が、硝酸ビスマス五水和物、酸化ビスマス、炭酸ビスマス及び水酸化ビスマスから選ばれる少なくとも1種である、請求項1〜11の何れか1項に記載の触媒の調製方法。
- 請求項1〜12の何れか1項に記載の調製方法により得られた触媒。
- 請求項13に記載の触媒の存在下、アルコール又はポリオキシアルキレンアルキルエーテルと水を含有する組成物に酸素を供給して、前記アルコール又はポリオキシアルキレンアルキルエーテルを脱水素酸化する、アルコールの酸化物又はポリオキシアルキレンアルキルエーテルの酸化物の製造方法。
- アルコール又はポリオキシアルキレンアルキルエーテルが下記一般式(1)又は一般式(2)で表される1種又は2種以上である、請求項14に記載の酸化物の製造方法。
R1O−H (1)
但し、一般式(1)においてR 1 は炭素数2以上40以下の脂肪族炭化水素基である。
R2O−(AO)n−H (2)
但し、一般式(2)においてR2は炭素数2以上40以下の炭化水素基、AOは炭素数2以上4以下のアルキレンオキシ基を表し、nはアルキレンオキシ基の付加モル数であり、1以上30以下の整数である。
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