JP5956611B2 - スパッタリング方法および機能素子の製造方法 - Google Patents
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Description
なお本発明においてパーティクルとは、金属あるいは金属を含む材質からなり、その直径が概ね0.01ミクロン以上、1ミクロン以下の微粒子のことを言う。
図1を参照して、本実施形態に係るスパッタリング装置の全体構成について説明する。図1は、本実施形態に係るスパッタリング装置1を模式的に示した図である。スパッタリング装置1は、基板処理室としての真空容器2を備える。真空容器2は、排気ポート8を通じて真空容器2を排気するターボ分子ポンプ48とドライポンプ49とを有する真空排気装置と接続される。また、スパッタリング装置1は、真空容器2へ放電用のガスを導入することのできるガス導入機構15を備えている。
そこで、隣り合うターゲットにスパッタ粒子が回り込むのを防止するために、一般にターゲット周辺に防着部材が設けられる。
このターゲット周辺に設けられた防着部材3(以下チムニー3ともいう)は、ターゲットから横方向に飛び出すスパッタ粒子を着膜する構造を有する。本実施形態ではチムニー3は円筒型であり、チムニー3上に飛来した粒子が強固に付着して剥がれ落ちないように、内部の面はターゲットの方向を向くように設計されている。
またターゲットホルダ6と基板ホルダ7の間にはターゲットシャッター13が設けられても良い。ターゲットシャッター13はターゲットシャッター駆動機構14により制御され、ターゲット4と基板10が対向する開状態、またはターゲット4と基板10を互いに遮蔽する閉状態とを切り替え可能に構成される。
また、放電用ガスに反応性ガスを混合した混合ガスがガス導入機構15から導入されても良い。反応性ガスを導入するための他の導入機構が設けられても良い。
ターゲット4は、バッキングプレート(ターゲットホルダ)6上に固定部17により取り付けられる。さらにターゲット4の周囲を取り囲むチムニー3を有する。固定部17は、ターゲット4をバッキングプレート6に押し付けるように螺子等の締結部品によってバッキングプレート6に固定される。バッキングプレート6は熱伝導性の観点から導電性のシート等を有してもよい。ターゲット4は、放電によって発生するプラズマに晒されるので、その温度が上昇し膨張しうる。そこで、固定部17は、ターゲット4が膨張することを許容するようにターゲット4を固定することが望ましい。チムニー3は、固定部17を覆うようにターゲット4の周囲に配置される。これにより固定部17の温度の上昇を抑制できる。バッキングプレート6は、絶縁部材20を介してチャンバ壁に固定されうる。バッキングプレート6は、チャンバ壁とともに真空容器2を構成してもよい。チムニー3はターゲット4の法線方向に円筒状に延び、ターゲット4から飛散したスパッタ粒子が、基板上以外に被着することを低減している。
図3は本実施形態で用いられる防着部材40の一片を拡大した様子を示す。401は防着部材の基材であり、402は基材上に溶射された溶射膜である。基材401は表面にブラスト処理が施され粗面化されている。基材401の表面を粗面化することで、溶射膜402との密着性を向上させている。
溶射膜402の表面も、防着部材40に被着した膜の膜剥がれを低減すべく所定の面粗さを有する。
なお、溶射処理を施した防着部材表面の分析は以下の通り行った。まずAlのテストピース(5cm角)を用意し、その上に防着部材表面に施した溶射処理と同様の方法で溶射膜を形成した。次に得られた溶射膜の中心部(開口径30mm)をテフロン(登録商標)製冶具で挟み込んでマスキングし、際表面を酸で接液した。接液により、得られた液を全量蒸発皿に採取し、加熱・蒸発乾固後、残渣を酸溶解したものを測定供試液として、ICP−MS法により溶射膜中の不純物量を測定した。
このようなブラスト処理が施された防着部材表面のNaやAlは、該防着部材の上に溶射膜が形成されている場合においても、不純物が溶射膜中に付着、拡散することにより基板上に成膜された膜中に混入するものと考えられる。
図1の成膜装置に本発明に係る防着部材を用いて磁気抵抗効果膜を成膜する例を以下に示す。
図5は本実施形態に係るTMR素子の積層構造の一例を示している。このTMR素子500は、基板501の上に積層された例えば8層の多層膜を備えている。この8層の多層膜では、最下層の第1層から最上層の第8層に向かって、Ta層502、PtMn層503、CoFe層504、Ru層505、CoFeB層506、MgO層507、CoFeB層508、Ta層509の順序で磁性膜等が積層されている。
これらの膜は全て、本発明に係る防着部材40およびチムニー3を図1に示す成膜装置に設けた状態で成膜が行われる。
磁化固定層(第5層のCoFeB層506)は、CoFeB組成比60/20/20at%のターゲットを用い、マグネトロンDCスパッタにより成膜する。続いて、トンネルバリア層(第6層のMgO層507)は、MgOのターゲットを用いたRFスパッタにより成膜を行う。さらに続けて、磁化自由層(第7層のCoFeB層508)を磁化固定層(第5層のCoFeB層506)と同じ成膜条件で成膜する。
図6は垂直磁化型TMR素子(以下、P−TMR素子ともいう)700の積層構造の模式図を示している。P−TMR素子は、まず、基板701の上に、下地層としてRuCoFe層702、Ta層703を成膜する。その上に、磁化自由層(フリー層)としてCoFeB層704を成膜し、バリア層としてのMgO層705を形成する。バリア層は高いMR比を得るためにMgOが好適である。その他、マグネシウム(Mg)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、亜鉛(Zn)、ハフニウム(Hf)、ゲルマニウム(Ge)の少なくとも1つまたは2つ以上を含有する酸化物でも良い。その上に第1の磁化固定層としてCoFe層706、第2の磁化固定層としてCoFeB層707、配向分離層としてTa層708、第3の磁化固定層709を成膜した。第3の磁化固定層はCoとPdの積層構造からなり、本実施例ではCo/Pdが交互に各々4層積層された後、Coが成膜されている。
次に非磁性中間層としてRu層710、第4の磁化固定層711、キャップ層としてTa層712を成膜した。第4の磁化固定層711はCo/Pdの積層構造からなり、CoとPdが交互に各々14層積層されている。CoFe層706からTa層712までを含む積層構造をリファレンス層ともいう。
これらの膜は全て、本発明に係る防着部材40およびチムニー3を図1に示す成膜装置に設けた状態で成膜を行う。これによりP−TMR素子700に含まれる不純物を低減することが可能となる。
図7は、機能素子の他の例としての相変化素子、および相変化素子を用いた相変化メモリの要部構造を例示的に示す図である。相変化メモリを用いたRAMは、例えば、複数のワード線と複数のビット線との交点位置に相変化メモリセルを配置して構成される。ドレイン801a、ソース801bを有した選択トランジスタ803が基板800の表面に形成される。ここで、選択トランジスタ803は、相変化メモリ素子を構成するカルコゲナイド材料層807(相変化記録材料層)を、所望の温度に加熱することが可能な制御手段として機能する。ここでは、MOSFETを用いているが、バイポーラトランジスタでもよい。
Claims (10)
- 処理室内でターゲットを用いて、基板ホルダに配置された基板上に成膜を行うスパッタリング方法であって、
基材と、前記基材上に形成された溶射膜と、前記溶射膜上に形成された窒化チタンおよび酸化タンタルの少なくとも一方を含む拡散防止膜とを備えるとともに、前記ターゲットと前記基板ホルダとの間の空間の側方を囲むように設けられている防着部材が前記処理室内に配置された状態で、前記ターゲットをスパッタリングすることと、
前記スパッタリングすることによって前記基板上に前記拡散防止膜と異なる膜の成膜を行うことと、
を備えることを特徴とするスパッタリング方法。 - 前記防着部材の前記ターゲットに面する部分に前記拡散防止膜が形成されている請求項1に記載のスパッタリング方法。
- 前記溶射膜が形成されている前記基材の表面はブラスト処理が施されたものである請求項1に記載のスパッタリング方法。
- 処理室内でターゲットを用いたスパッタリング処理により、基板ホルダに配置された基板上に成膜を行う工程を有する機能素子の製造方法であって、
基材と、前記基材上に形成された溶射膜と、前記溶射膜上に形成された窒化チタンおよび酸化タンタルの少なくとも一方を含む拡散防止膜とを備えるとともに、前記ターゲットと前記基板ホルダとの間の空間の側方を囲むように設けられている防着部材が前記処理室内に配置された状態で、前記ターゲットをスパッタリングすることと、
前記スパッタリングすることによって前記基板上に前記拡散防止膜と異なる膜の成膜を行うことと、
を備えることを特徴とする機能素子の製造方法。 - 前記防着部材の前記ターゲットに面する部分に前記拡散防止膜が形成されている請求項4に記載の機能素子の製造方法。
- 前記溶射膜が形成されている前記基材の表面はブラスト処理が施されたものである請求項4に記載の機能素子の製造方法。
- 前記機能素子は、磁気抵抗効果素子であることを特徴とする請求項4に記載の機能素子の製造方法。
- 前記ターゲットは金属ターゲットであり、
前記金属ターゲットをスパッタリングすることで、前記基板上に金属膜を成膜することを特徴とする請求項1に記載のスパッタリング方法。 - 前記ターゲットは金属ターゲットであり、
前記金属ターゲットをスパッタリングすることで、前記基板上に金属膜を成膜することを特徴とする請求項4に記載の機能素子の製造方法。 - 前記ターゲットはCoFeBターゲットであり、
前記CoFeBターゲットをスパッタリングすることで、前記基板上に磁性膜を成膜することを特徴とする請求項7に記載の機能素子の製造方法。
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