JP5953445B2 - プラズマ処置システム - Google Patents

Description

本発明は、プラズマ処置具とともに用いられるプラズマ処置システムに関する。

一般的に、半導体製造技術等では、真空雰囲気内で電極間に発生させたプラズマ等の放電により、所望する領域をエッチング処理する技術が広く知られている。近年、医療技術においても、この放電技術を利用した高周波処置具に属する種々の医療機器が実現されている。例えば、非特許文献１においては、プローブ先端にアクティブ電極とリターン電極が配置されたプラズマを利用する処置具（以下、プラズマ処置具と称する）に関するプローブの技術が開示されている。この処置具は、電極構成からみるとバイポーラ処置具であり、モノポーラに比べて生体組織に流れる電流を少なくすることができる。具体的には、プローブの先端面の中央側に配置される複数の円筒形状のアクティブ（チタニウム）電極と、それらの周囲を取り囲むように配置される複数のリターン（ステンレス鋼）電極とが設けられている。

この処置は、低温アブレーションと称し、低熱侵襲処置に含まれている。具体的には、プラズマが発生している生理食塩水を生体組織に接して、そのプラズマのエネルギで生体組織の表面を蒸散させる処置である。この低温アブレーション処置は、例えば、扁桃摘出に好適するものとされ、従来の電気メスと同等の処置を行った場合、患者に対する術後の痛みの減少や腫れや合併症を軽減させる作用があるとされている。

プローブの形状は、バイポーラタイプであれば、共に先端側に電極対が設けられているが、例えば、生体組織の表面を切除するものや切開するものなど、生体組織に対する処置の用途に応じて種々の形状が実現されている。
また、把持した生体組織同士を接合する手術具が特許文献１に提案されている。この手術器具は、生体組織を把持した状態で、先端の把持部に生理食塩水を供給する機構が開示されている。

このプローブの先端面を電気伝導度が高い導電性溶液、例えば、生理食塩水に浸漬して、任意の高周波数の交流電圧（電流）電源をアクティブ電極に供給することで放電させて、プラズマを発生させる技術が提案されている。

特開２０１０−４２２４９号公報

「Plasma Characteristics of Repetitively-Pulsed Electrical Discharges in Saline Solutions Used for Surgical Procedures」Jean Woloszko et.al : IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE ,VOL. 30, NO.3,JUNE 2002

前述したプラズマ処置具は、プラズマを発生させる際に、電気伝導度（電気導電性）が高い生理食塩水等の導電性溶液を利用している。このプラズマで生体組織を蒸散させる処置を行った場合、蒸散された不要な生体組織片が微小サイズで不純物として生理食塩水中に混入している状態となる。このように生理食塩水に不純物が混入すると、インピーダンス等の特性が変化してしまうため、条件によってはプラズマを消滅させる事態が生じる。

プラズマ発生状態を安定的に継続させるには、生理食塩水を常にプラズマ発生時に近い環境下に維持させることが好ましく、新たに純粋な生理食塩水を供給すると共に、不純物が含まれている生理食塩水を排除（吸引）する必要がある。

公知なプラズマ処置具としては、プローブ先端側に供給口と共に、吸引口を設けて、処置具内にチューブを通して外部のポンプ装置に連結する構成が実現されている。このプラズマ処置具のプローブは、電極（アクティブ電極及びリターン電極）が配置される先端面又は、その先端面近傍に、生理食塩水を供給する供給口と、生理食塩水を吸引除去する吸引口が設けられた構成である。これらの供給口と吸引口により、プラズマ発生領域に対して、新たな生理食塩水を供給し、供給された生理食塩水を吸引することが継続して行われている。

一般的に、生理食塩水の供給は、支柱アーム部に吊り下げられた生理食塩水バッグの供給口に設けられたバルブを手動で調整して、自重により適量と思われる供給量を供給している。
手動によるバルブ調整は、処置中のプローブから液適される実際の水量を測定しているものではなく、目視又は、表示画面に表示されている画像を観て調整しているため、実際の供給量及び吸引量は把握できていない。つまり、生理食塩水の供給量を、目分量によるバルブの手動操作で必要最小限の供給量に制御することは、容易なことではない。

また、生理食塩水の供給量を制御する流量制御部は存在しているが、プラズマを発生させて適正な処置を行うために生理食塩水の供給量と吸引量を考慮して制御する装置は実現されていない。
そこで本発明は、２つの電極間に供給される導電性溶液に高周波電流を流すことで電極付近にプラズマを発生させて生体組織に対して処置を行う処置具に対して、必要最小限の導電性溶液を供給及び吸引可能なプラズマ処置システムを提供することを目的とする。

本発明に従う実施形態に従うプラズマ処置システムは、第１の電極と、該第１の電極と対を成す第２の電極を有し、前記第１の電極と前記第２の電極の間に供給される高周波エネルギにより、前記第１の電極と前記第２の電極を浸漬する導電性溶液にプラズマを発生させることによって、生体組織を処置する処置部と、前記第１の電極、前記第２の電極及び、前記生体組織の処置対象表層との間に形成される灌流層の水量が前記プラズマを発生させるための必要最小限の水量となるように、前記導電性溶液を供給する供給部からの供給量と、前記導電性溶液を吸引する吸引部からの吸引量と、の所定の比率を設定する設定部と、前記供給部から供給される前記導電性溶液の供給量と、前記吸引部へ吸引される前記導電性溶液の吸引量とを検出する検出部と、前記検出部で検出された前記供給量及び前記吸引量に基づいて、前記供給量及び前記吸引量を前記設定部で設定された前記比率に制御する制御部と、を備える。

本発明によれば、導電性溶液内にプラズマを発生させて生体組織に処置を行う処置具に対して、必要最小限の導電性溶液を供給及び吸引する供給吸引ユニットを含むプラズマ処置システムを提供することができる。

図１は、供給吸引ユニットを含むプラズマ処置システムの全体構成を示すブロック図である。 図２は、プラズマ処置装置のプローブの先端部の部分的配置構成を示す断面構成図である。 図３は、第１の実施形態に係る供給吸引ユニットの構成を示す図である。 図４は、処置中のプローブに供給及び吸引する生理食塩水の水量を示す図である。 図５は、プラズマ処置システムにおける処置方法を説明するためのフローチャートである。 図６は、第２の実施形態に係るプラズマ処置具システムによる生理食塩水の供給量及び吸引量の比の例を示す図である。 図７は、第３の実施形態に係るプラズマ処置システムの構成例を示す図である。 図８は、第４の実施形態に係るｐＨセンサを備えるプラズマ処置システムの構成例を示す図である。 図９Ａは、第４の実施形態のプラズマ処置具のプローブの先端部分の外観構成を示す図である。 図９Ｂは、図９Ａに示すプローブの先端側の断面構成を示す図である。

以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。
［第１の実施形態］
第１の実施形態について説明する。図１は、供給吸引部を含むプラズマ処置システム全体のブロック構成を示している。このプラズマ処置システム１は、プラズマを発生させ、このプラズマによって処置対象である生体組織を蒸散させる処置に用いられる。プラズマを利用した生体組織の切除により、切除組織周辺への熱損傷は比較的小さくなり、低侵襲な処置が実現される。プラズマ処置システム１は、例えば耳鼻咽喉科分野において、扁桃組織の切除術などに用いられる。また、このプラズマ処置システム１は、例えば、整形外科分野において滑膜の切除、軟骨の切除などに用いても良いし、開腹手術全般において臓器（特に肝臓）の切除などに用いても良い。

プラズマ処置システム１は、大別して、全体を制御する制御部２と、高周波（ＲＦ）電力を出力する電源部３と、導電性溶液（又は、導電性流体）である生理食塩水が充填された生理食塩水バッグ４と、後述する生理食塩水の供給と吸引を行う供給吸引部５と、吸引した生理食塩水を収容する排水タンク６と、生体組織に対してプラズマによる処置を施すプラズマ処置具７とで構成されている。

システム全体を制御する制御部２は、図示していないが、演算処理機能を有する処理部と、処理プログラム及び予め設定された又は適宜設定した数値情報や制御テーブル等を格納するメモリとを備え、パーソナルコンピュータと同様な機能を有している。さらに、情報の入力及び設定を行う入力パネルやキーボード等からなる入力部と、処置に関する情報や、設定または検出された情報等を表示する表示部９を備えている。さらに、制御部２は、後述するプラズマ処置を実行するための複数のスイッチ８、例えば、給水スイッチ、排水スイッチ、フットスイッチ等が接続されている。複数のフットスイッチは、それぞれに異なる出力レベルの高周波電力を印加するためのスイッチで有り、処置内容に応じて術者が選択して操作を行っている。

また、プラズマ処置具にＩＤ（個別識別番号）を格納するメモリを設けて、制御部２へのケーブル接続時に、そのＩＤを制御部２へ読み出す構成にしてもよい。この場合には、制御部２内には、ＩＤに関連づけられた仕様が異なる複数のプラズマ処置具の設定条件（例えば、供給する電源電圧レベルや、生理食塩水の供給量及び吸引量等）が格納されたテーブルを設定しておく。この構成により、ケーブル接続時にＩＤが指定されて、テーブルからプラズマ処置具の設定条件が選択され、オペレータの入力操作無しで装置システム（制御部２及び電源部３）に設定される。

電源部３は、正弦波またはパルス波等による高周波電流（電圧）からなる高周波エネルギー（以下、高周波電力とする）を出力する。電源部３は、高周波電力の印加対象物の負荷（インピーダンス）により発生する反射波に対するチューニング機能を備えている。このチューニング機能を有することで、複数の出力レベルの高周波電力を選択可に設定されており、制御部２の制御により切り換え可能である。例えば、処置対象又はプラズマ処置の種別ごとに必要とする駆動電力が異なっていた場合には、その実施する処置に好適する出力レベルを選択し設定する。また、プラズマ処置具の種別（例えば、アクティブ電極の形状の違い）により、供給すべき駆動電力に設定することも可能である。さらに、例えば、蒸散及び凝固モードと、凝固モード等の処置の種別に応じて、異なる出力レベルに設定することも可能である。

また、プラズマ処置具にＩＤ情報を格納するメモリを搭載し、電源部３に連結した際に、制御部２側で処置具からＩＤ情報を読み取り、術者の入力パネルによる設定操作無しに自動的に出力レベルが設定されてもよい。生理食塩水バッグ４は、一般的に市販されているものを利用できる。

ここで、プラズマ処置具７について説明する。
プラズマ処置具７は、基本的には、使用後使い捨てるタイプ（ディスポーザブルタイプ）の処置具であり、図１に示すように、把持部７ａとプローブ７ｂとで処置具本体（７）を構成し、ペン型形状を成している。本実施形態のプラズマ処置具７は、処置時の電源投入を前述したフットスイッチのオン・オフにより行う構成であるが、他に、把持部７ａに操作スイッチ（ハンドスイッチ）（図示せず）を設けて、処置時の電源投入のオン・オフを行ってもよい。

また、把持部７ａの後端には、電源部３からの高周波エネルギである高周波電力を取り入れるための端子１２ａ，１２ｂが配置されて、これらの端子１２に着脱可能に電源ケーブル１３が接続されている。さらに、電源ケーブル１３は、電源部３に対しても、コネクタ１４により着脱可能にコネクタ接続されている。尚、この電源ケーブル１３は、外部に高周波が漏れ出ないように及び、外部からケーブルにノイズが重畳しないようにするために、電磁シールドケーブル等の使用が好適する。

本実施形態では、使用後のプラズマ処置具７を一体的に廃棄する例であるが、把持部７ａとプローブ７ｂが別体で着脱可能な構成であれば、外したプローブ７ｂのみを廃棄することができる。さらに、処置具本体と電源ケーブル１３が分離する構造であれば、電源ケーブル１３を再利用することができる。

また、図１に示すように、本実施形態の例では、プラズマ処置具７のプローブ７ｂが円筒形状を成し、その先端面７ｃ内には、それぞれに少なくとも１つのアクティブ電極（第１の電極）１５とリターン電極（第２の電極）１６が並設されている。これらの電極１５，１６は、内部配線１７ａ，１７ｂにより端子１２ａ，１２ｂと電気的に接続される。ここでは、いわゆる、バイポーラ電極の構成例を示している。このプラズマ処置におけるバイポーラ電極は、モノポーラのように処置対象となる生体組織の体内体外に電極対を配置するのではなく、体腔内で生体組織の一面に対して、各電極が対向するように配置される。

本実施形態におけるバイポーラ電極の構成は、処置具の先端面でアクティブ電極とリターン電極とが至近距離で対峙する又は、近接する位置に配置される。これらの電極は、電極間に絶縁材料により形成された部材を介在させることで、電気的に分離される構成である。よって、発生させたプラズマが生体組織の表面のみに接するため、患者に対する術後の痛みの減少や腫れや合併症を軽減させるように作用する。

後述するように、アクティブ電極１５とリターン電極１６が灌流（irrigation）する生理食塩水に浸漬された状態で高周波電力が供給された場合、即ち、スイッチ８のＯＮ時には、アクティブ電極１５に高周波電力が印加されて、アクティブ電極１５とリターン電極１６の間にプラズマが発生する。より詳細には、２つの電極１５，１６間に存在する生理食塩水に高周波電流を流すことで、生理食塩水を蒸発させて電極１５付近に蒸気層を作り出す。プラズマは、この蒸気層に電界を加えることで発生するものと考えられる。
尚、プラズマを生体組織に近づけると、プラズマ内のＯＨラジカル等の作用により、生体組織を蒸散させることができる。

また、それぞれの電極を設ける際に、アクティブ電極１５とリターン電極１６が生理食塩水に浸漬する電極表面積のうち、アクティブ電極１５よりもリターン電極１６の方が大きくなるように形成することが重要である。これは、アクティブ電極１５よりもリターン電極１６の面積が小さいと、リターン電極１６がアクティブ電極１５の役目を行ってしまい、所望するような良好なプラズマ発生しない場合があることに起因する。

また、プローブ７ｂの先端面７ｃの円周の縁部分には、連続的に配置された円弧形状を成す複数の供給口１８が開口され、アクティブ電極１５の下方に、吸引口１９が開口している。尚、プラズマ処置具７は、プローブ７ｂの先端面７ｃを除き、高周波電力が外部に漏れ出ないように、電気的に絶縁被覆されている。プラズマ処置具７内のアクティブ電極及びリターン電極に接続される配線は、共に、高周波がシールドされ、電気的に絶縁される高周波シールドケーブル等を用いている。

また、供給口１８と吸引口１９の配置位置は、アクティブ電極１５とリターン電極１６を間に挟む位置であることが好ましい。供給口１８と吸引口１９には、内部チューブ２０，２１の一端が繋がれ、プローブ７ｂ内を通過している。内部チューブ２０，２１は、外部チューブ２２，２３にそれぞれ分離可能に繋がれている。本実施形態では、内部チューブ２０，２１と外部チューブ２２，２３を連結した例を示しているが、内部チューブ２０，２１と外部チューブ２２，２３とは、１本のチューブであってもよい。内部チューブ２０，２１と外部チューブ２２，２３とを別体とすることで、プローブ処置具７本体のみを廃棄することができる。尚、リターン電極１６及び供給口１８は、必ずしも先端面７ｃ上に配置される必要はなく、プローブ７ｂの円筒側面上に配置されてもよい。少なくとも供給口１８は、リターン電極１６よりも外周側又は把持部７ａ側に配置され、アクティブ電極１５とリターン電極１６を生理食塩水で浸漬できれば、特に限定される必要はない。

尚、図１に示すプローブ７ｂは、概念的に先端面７ｃを外周面に対して垂直な面で示している。しかし実際には、図２及び図３に示すように、術者が把持部を把持して処置しやすいように操作性を考慮して、外周面に対して、斜めにカットされた面に形成されている。つまり、プラズマ処置具７をペンのように持った際に、プローブ７ｂの先端面７ｃが、処置対象の生体組織の面と平行に対向するように形成されている。

図２及び図３に示すように、チューブ２０を通じて供給された生理食塩水４０は、供給口１８から灌流して、プローブ７ｂの先端面７ｃと生体組織４１との間に灌流層が形成される。さらに、生理食塩水は、吸引口１９から吸い取られて、吸引チューブ２１を通じて生理食塩水が排水される。このとき、供給口１８から流れ出た生理食塩水４０は、アクティブ電極１５とリターン電極１６を通り過ぎて、蒸散させた生体組織と共に、吸引口１９に吸い込まれる。

アクティブ電極（第１の電極）１５とリターン電極（第２の電極）１６が生理食塩水４０の灌流層により浸漬した状態において、アクティブ電極１５に高周波電力を印加すると、放電が起き、プラズマ発生領域が生成される。現在の推測されている１つの原理においては、プラズマ発生領域で生理食塩水４０を分子サイズに分離させて、高エネルギを有する陽イオンを生成し、この陽イオンが生体組織に衝突（例えば、大気圧プラズマにおけるエッチング現象）して、組織表面を破壊して削り取り、分子サイズで生体組織４１から分離させる。同時に、削り取られた組織表面は凝固される。削り取られて分離された生体組織は、生理食塩水内に浮遊した状態となり、生理食塩水４０と共に吸引口１９に吸い込まれて排出される。尚、プラズマの発生条件は、アクティブ電極１５及びリターン電極１６の形状や電極間距離等の構造的仕様と、利用する導電性溶液（例えば、生理食塩水）の特性等により、高周波電力の印加電圧・電流が異なり、設計時に固有の仕様が見いだされているものとする。

次に、供給吸引部５について詳細に説明する。
図１に示す供給吸引部５は、プラズマ処置具７に対して、生理食塩水（導電性溶液）の供給と排水（吸引）を行う。具体的には、プラズマ処置具７には、生理食塩水をプラズマ処置具７に供給する供給ライン３１と、プラズマ処置具７のプローブ７ｂから蒸散された生体組織を含む生理食塩水を吸引する吸引ライン３２との２つの流路が設けられている。
供給ライン３１は、プラズマ処置具７に生理食塩水を供給するラインで有り、流路上で上流側から供給ポンプ（供給部）３３、温度調整部３４及び供給量センサ３５が連設され、供給用チューブ３９により連結されている。尚、供給ライン３１及び吸引ライン３２はプラズマ処置具７とは別体であっても良い。

供給ポンプ３３は、生理食塩水バッグ４から新たな生理食塩水を取り出し、プラズマ処置具７のプローブ７ｂへ制御部２に指示された供給量を供給する。この供給ポンプ３３は、特に限定されるものではないが、衛生面で管理維持が容易な構造であり、ローラの回転により弾性チューブを押しつぶしながら内部の液体を輸送する、いわゆるローラーポンプが好適する。
生理食塩水を供給するものは、生理食塩水バッグ４に限定されるものではなく、製造時に生理食塩水の計量が可能な容器（例えば、目盛りがつけられた容器）に装填されていてもよい。一方、吸引ポンプ（吸引部）３６の上流側に吸引量センサ（流量センサ）を配置して、吸引ポンプ（吸引部）３６により、吸引チューブ２１を通じてプローブ７ｂから吸引した生理食塩水を通過させて吸引量を測定する。吸引量センサ以外では、吸引ポンプ（吸引部）３６により吸引した生理食塩水を計量可能な容器に収納してもよい。制御部２は、この容器内の生理食塩水の水面高さを、浮かべたフロートの移動又は、光学的センサにより検出して、回収された生理食塩水の体積として算出する。又は、容器の重量から生理食塩水の体積として算出する。これらの生理食塩水の体積の変化から供給される供給量及び吸引される吸引量を検出することができる。

温度調整部３４は、供給ポンプ３３から送り出された生理食塩水を冷却又は加温して、手術に適した所定範囲の温度に調整する。また、生理食塩水は、電極１５，１６を含むプローブ先端部を冷却する作用も有している。
供給量センサ（検出部）３５は、公知な流量センサの１つであり、プローブ７ｂに供給される生理食塩水の供給量を検出し、その供給値信号を制御部２に送信する。尚、本実施形態では、流路上で上流側から温度調整部３４と供給量センサ３５の順に配置した構成例であるが、供給量センサ３５を上流側に配置して、温度調整部３４との位置を逆に入れ替えて、より生理食塩水の温度に重点を置いた構成であってもよい。

吸引ライン３２は、上流側のプローブ７ｂから吸引量センサ３８、温度センサ３７及び吸引ポンプ３６の順に配置され、吸引ポンプ（吸引部）３６によりプローブ７ｂから吸引した生理食塩水を排水タンク６へ収容する。
吸引ポンプ３６は、プラズマ処置具７と吸引用チューブ４０により連結され、プローブ７ｂの先端に灌流し蒸散された生体組織を含む生理食塩水の灌流層を吸引する。吸引量センサ３８は、吸引ポンプ３６の吸引により排水された生理食塩水の吸引量を検出し、吸引値信号として制御部２に送信する。

すなわち、センサ（検出部）３５，３８は、供給口（供給部）１８から供給される生理食塩水（導電性溶液）の供給量と、吸引口（吸引部）１９へ吸引される生理食塩水の吸引量とを検出して、制御部２に信号を出力する。尚、温度センサ３７は、その吸引値信号の検出後の生理食塩水の温度を検出し、温度信号として制御部２に送信する。

次に、プラズマ処置システム１における生理食塩水の供給及び吸引について説明する。
まず、プラズマ処置に必要な生理食塩水の水量は、図３に示す生体組織４１の表面とプローブ７ｂの先端面７ｃとの間の距離Ｌに、両方の電極１５，１６を含む先端面７ｃの面積Ａを掛け合わせた水量であり、プローブ７ｂの先端に灌流層を形成する水量をＭ１とする。即ち、水量Ｍ１は、プラズマ発生時に、アクティブ電極１５が生体組織４１には接触せずに近接して、且つプラズマ発生領域が生体組織４１に近接して蒸散が行われる距離に規定された水量である。

すなわち、供給量または吸引量は、発生されたプラズマが作用する、プローブ７ｂの先端面（先端部）７ｃから生体組織の表層までの距離Ｌと、アクティブ電極１５とリターン電極１６の配置により生理食塩水（導電性溶液）が形成する灌流層の面積Ａとの積により決まる。距離Ｌは、光照射による測定器を用いても良い。さらに、アクティブ電極１５とリターン電極１６の外側の位置で、これらの電極よりも突き出たアーチ形のカードを設けても良い。このカードは、プラズマ領域よりも外側に形成され、その高さをプラズマ放電を発生させるのに必要とされる距離に設定する。または、距離Ｌの実測ではないが、処置開始後で良好なプラズマ発生時に得られたインピーダンス値は、最適な距離である時に得られるものと想定する。そのインピーダンス値を適正な距離の基準値として読み替えて設定し、その後の処置中に検出されるインピーダンス値が距離の基準値に近づくように、プローブ７ｂにおける処置対象と電極の間の距離を移動させてもよい。実施に当たっては、設定された基準値にある範囲を設定しておき、検出された値がその範囲内であれば、緑色ランプ表示し、範囲外であれば赤色ランプ表示で術者等に告知してもよい。

アクティブ電極１５が生体組織４１に最も近づきつつ、プラズマを用いて生体組織を蒸散処置可能な距離のときに、必要最小限の水量Ｍminとなる。この必要最小限の水量Ｍminを供給量と吸引量により調整される水量の目標量Ｍとする。この目標量Ｍは上述した面積（又は、浸漬範囲）Ａ及び距離（プラズマが作用する最短距離）Ｌに基づいて、制御部２により設定される。すなわち、制御部２は、設定部としても機能する。すなわち、制御部２の設定部はリターン電極１６からアクティブ電極１５に向かい、各電極１５，１６を共に浸漬するように、生理食塩水（導電性溶液）を灌流する供給口（供給部）１８から供給される生理食塩水の供給量と、各電極１５，１６を灌流して通過した生理食塩水を吸引して排出する吸引口（吸引部）１９へ吸引される生理食塩水の吸引量とを所定の比率に設定することができる。

図４は、生理食塩水の水量の目標量Ｍとして、生理食塩水の供給量と吸引量の関係について示す図である。
図４に示すように、本実施形態の生理食塩水の供給量の変化は、まず目標量Ｍになるまで、生理食塩水を供給（送水）して増やし、その後、目標量Ｍ時点で、徐々に吸引を開始して、目標量Ｍを維持する。この目標量Ｍを維持した以降に、プラズマ処置を開始する。プラズマ処置終了後に、プローブ７ｂに形成されている灌流層の生理食塩水を完全に吸引する。

具体的には、図４に示す期間（１），（２）が生理食塩水を供給する供給ポンプ３３を駆動する供給ポンプ駆動期間（４）になり、期間（２），（３）が生理食塩水を吸引する吸引ポンプ３６を駆動する吸引ポンプ駆動期間（５）になる。これらのうち、期間（１）は、０から目標量Ｍまでの立ち上がりが早いほど、処置の開始タイミングが早まる。さらに、共有する期間（２）が両方のポンプを駆動して、プローブ先端部に形成される生理食塩水の灌流層の水量を目標量に維持する供給・吸引期間（６）となる。この供給・吸引期間（６）に、アクティブ電極１５にプラズマを発生させてプラズマ処置を行う。プラズマ停止後に、供給ポンプ３３を停止し、吸引ポンプ３６の駆動を継続して、プローブ７ｂの先端部に残った全ての生理食塩水を吸引して、プラズマ処置が終了する。

尚、制御部２は、高周波エネルギにより電極１５，１６の近傍に生理食塩水を介在させた状態でプラズマを発生させているとき、第１及び第２の電極１５，１６の間に生理食塩水（導電性溶液）を灌流させながら、供給量と吸引量とが略同一となるように供給ポンプ３３及び吸引ポンプ３６を制御している。つまり、後述するように、制御部２において、第１の情報と第２の情報との係数（比率）は、１：１となっている。この係数（比率）は、導電性溶液である生理食塩水がプラズマ発生のために必要最小限の水量になるように設定されている。

そして、第２の電極１６から第１の電極１５に向かい、第１，第２の電極１５，１６を共に浸漬するように、生理食塩水（導電性溶液）を灌流する供給ポンプ（供給部）３３から供給される生理食塩水の供給量と、第１，第２の電極１５，１６を灌流して通過した生理食塩水を吸引して排出する吸引ポンプ（吸引部）３６へ吸引される生理食塩水の吸引量とを所定の比率に設定する設定部と、供給ポンプ３３から供給される生理食塩水の供給量と、吸引ポンプ３６へ吸引される生理食塩水の吸引量とを検出する検出部３５，３８と、検出部３５，３８で検出された供給量（送水量）及び吸引量に基づいて、供給量及び吸引量を設定部で設定された比率に制御する制御部２とは、制御システムを構成する。言い換えると、制御システムは、供給量センサ３５により検出された供給量と、吸引量センサ３８により検出された吸引量とを比較して帰還制御し、供給量及び吸引量が予め定めた目標量Ｍとなるように制御する制御部２を備える。

図５に示すフローチャートを参照して、本実施形態のプラズマ処置具７におけるプラズマ処置の手順について説明する。
処置開始に当たって、まず、プラズマ処置具７の先端面７ｃを処置対象の近接位置（narrow gap）に配置し、スイッチ８のうちの給水スイッチを操作して、供給ポンプ３３を駆動し、生理食塩水をプローブ７ｂの先端部に滞留する（ステップＳ１）。その後、滞留される水量が目標量Ｍに維持されているか否かを判断する（ステップＳ２）。水量が目標量Ｍに達しない場合には（ＮＯ）、生理食塩水の供給を継続し、水量が目標量Ｍに達した場合には（ＹＥＳ）、吸引ポンプ３６を駆動して、後述するように生理食塩水がプローブ７ｂの先端面７ｃから溢れ出ないように、供給量と吸引量のバランスを取って灌流させて、目標量Ｍの水量を維持させる（ステップＳ３）。

次に、術者はフットスイッチを操作して、プローブ７ｂの先端のアクティブ電極１５に電源部３から高周波電力を印加し、プラズマを発生させて、所望生体組織を蒸散する処置を実行する（ステップＳ４）。制御部２は術者が処置を終了させたか否かを判断して（ステップＳ５）、即ち、フットスイッチをオフしたか否かを判断して、オフされたならば（ＹＥＳ）、高周波電力の印加を停止させてプラズマ処置を終了し、プラズマを消滅させると共に、供給ポンプ３３を停止し（ステップＳ６）、吸引ポンプ３６のみを駆動させて、プローブ７ｂの先端に灌流する生理食塩水の吸引完了のタイミング（所定時間）を見計らった後、吸引ポンプ３６を停止させる（ステップＳ７）。

このような操作が、プラズマ処置を行う都度、繰り返し行われる。尚、生理食塩水の灌流は、処置が完了するまで、継続して目標量Ｍを維持するように供給を制御してもよいし、又は、通常は、灌流を停止して、プラズマを発生させる毎に、直前に生理食塩水の灌流量を目標量Ｍに設定する制御であってもよい。更に、術者のフットスイッチが給水スイッチの代わりとなり、目標量Ｍの水量に達したら、高周波電力を印加するような構成にしてもよい。

次に、第１の実施形態における生理食塩水の供給量と吸引量の流量制御について説明する。以下の説明を容易にするために、供給量センサと吸引量センサは、同仕様の流量センサを用いて、同じ流量であれば、同じ値の検出信号が得られるものとしている。勿論、通過する流量に対する検出信号値が規定されていれば、信号値の補正により、供給される水量と吸引される水量との比較は、容易に行うことができる。

本実施形態では、プローブ７ｂの先端面７ｃに形成される灌流層の水量が目標量Ｍとなるように、まず、供給ポンプ３３を駆動して生理食塩水を供給する。その供給量（累積量）が目標量Ｍに達したときに、吸引ポンプ３６の駆動を開始して、供給量と同じ吸引量を吸引することで流量調整を行う。具体的には、供給量センサの出力を流量信号Ａ（供給した水量）、吸引量センサの出力を流量信号Ｂ（吸引された水量：帰還信号）として、流量信号Ａに対する流量信号Ｂとの差分信号をとり、差分信号が常にゼロに近づくように繰り返しフィードバック制御（帰還制御）を行う。具体的には、一定の流量信号Ａが取得できるように、吸引ポンプ３６の駆動を変化させて、流量信号Ｂの出力を調整すれば、供給ポンプ３３の同じ駆動状態が維持される。

また、供給ポンプの駆動状態（供給量）が変化した場合には、同期するように吸引ポンプの吸引量を同等に変化させることとなる。このような制御の場合、プラズマ状態が維持できる範囲内で、目標量Ｍが一定量を維持するならば、供給ポンプの供給量を上げた場合、比例して吸引ポンプの吸引量を上げることとなる。その結果、生理食塩水の灌流の流速が速まる、つまり、プローブ先端に滞留する期間が短くなり、処置後の不純物（蒸散された生体組織）を含む生理食塩水の回収を早めることができる。

以上のことから本実施形態は、供給ポンプ３３からプラズマ処置具７に供給される生理食塩水の供給量と、プラズマ処理具７から処置後の生理食塩水から回収される吸引量とが、常に同量になるように、供給と吸引の流量を独立して調整することができる。従って、所望する供給量を供給し、その供給した水量を吸引する水量調整により、プローブ７ｂの先端上に灌流する水量を任意に設定でき、必要最小限の水量Ｍminに調整することができる。

したがって、この実施形態に係るシステム１によれば、例えば扁桃腺の蒸散処置において、供給された生理食塩水のほぼ全てを吸引することができるので、生理食塩水が吸引されずに気管支等に入り込んでしまう誤嚥を極力防止することができる。
なお、この実施形態では、面積Ａを上述したように採用する例について説明した。面積Ａは適宜に設定可能である。例えば、プローブ７ｂの先端面７ｃの面積をそのまま面積Ａとしても良い。

［第１の実施形態の変形例］
次に、第１の実施形態の変形例について説明する。
本変形例は、前述した第１の実施形態の図１乃至図３に示したプラズマ処置システム１の構成を利用して、吸引口詰まりの検出を行う例である。

プラズマ処置具７のプローブ７ｂの先端面７ｃに設けられた吸引口１９は、吸引ポンプ３６により先端面７ｃを灌流する生理食塩水を吸引して、排水タンク６へ排出している。前述したように、吸引口１９から吸引される生理食塩水は、プラズマにより蒸散された生体組織を含んだ状態である。通常は、プラズマにより生体組織を破壊して蒸散されているため、微小サイズの生体組織が浮遊した状態であるが、蒸散の仕方によっては、小片状の生体組織が含まれる場合がある。この小片状の生体組織のサイズが吸引口１９の口径よりも大きい場合や多数の小片状の生体組織を同時に吸引してしまう場合、又は、内部のチューブ内径やチューブの曲がり具合によって引っかかる場合など、吸引ライン３２に詰まりを発生することが想定される。

このとき、流れる生理食塩水の水量が低下すれば、吸引量センサが出力する流量信号Ｂの信号値も低下する。制御部２において、流量信号Ｂに対して、予め閾値（判断値）を設けておき、通常の水量が供給され、且つ吸引ポンプが正常に駆動する状態で、流量信号Ｂの信号値が、その閾値を下回った場合には、通過する生理食塩水の水量が減少するため、吸引ライン３２に詰まりが発生したと判断する。

本変形例によれば、吸引量センサが出力する流量信号Ｂの信号値に対して、閾値を設定することにより、この閾値を下回った流量信号Ｂが発生した場合には、高周波電力の印加を停止した後、供給ポンプ３３の駆動を停止して生理食塩水の供給を止め、安全にプラズマ処置を停止させることができる。また、図示しない警報機能を搭載しておくことで、スイッチ８がオン状態の時に、供給ポンプ３３が停止した場合には、術者に対して異常が発生したことを告知することができる。この告知が術者に届くことにより、処置具の異常事態に対して注意喚起を促すことができる。

［第２の実施形態］
次に、第２の実施形態について説明する。
図６は、第１，２のプラズマ処置具における生理食塩水の供給量及び吸引量のそれぞれの水量の比である係数Ｋによる２つの特性線（Ｋ１，Ｋ２）と、高周波電力の出力レベルとの関係を示す図である。係数Ｋは、制御部２に設けられた設定部に予め記録されており、ここでは、直線的な１次の式からなる特性を例として示している。但し、２次の式からなる曲線的な特性、若しくは、ステップ状に変化する特性を有していてもよい。この係数Ｋの値は、処置具の設計段階において、プローブの仕様（先端形状や電極形状、供給口及び吸引口の口径や配置位置、印加される高周波電力値等々の設計仕様）によって、試験的又は経験的に得ることができる。

プラズマ処置に印加される高周波電力の出力レベルに応じて、必要となる生理食塩水の使用量は異なっている。また、供給量が必ずしも吸引量と等しくなるものではない。前述したプローブの先端部に灌流する生理食塩水の灌流層がアクティブ電極１５とリターン電極を好ましい状態で浸漬している際に、発生したプラズマにより蒸発して消費され、全部を吸引したとしても供給量（制御部２における第１の情報）に比べて、吸引量（制御部２における第２の情報）が少なくなる場合がある。図６に示す例の特性Ｋ１の第１のプラズマ処置具では、出力レベルがＰ１の時に係数Ｋ１＝１となり、即ち、供給量と吸引量とが等しい。つまり、制御部２において、第１の情報と第２の情報との係数（比率）は、１：１となっている。この係数（比率）は、導電性溶液である生理食塩水がプラズマ発生のために必要最小限の水量になるように設定されている。

この比率を用いることにより、第１の制御方式として、術者等に選択されたプラズマ処置を実現するために印加する高周波電力の出力レベルから制御部２に記憶されている比率の情報を読み出して、必要とする生理食塩水の供給量と吸引量を供給吸引部５に設定することができる。また、第２の制御方式としては、実際にプローブ７ｂに灌流された生理食塩水の供給量と吸引量から検出された比率の情報を、制御部２に記憶されている比率の情報に当てはめて、プローブ７ｂのアクティブ電極１５に印加する高周波電力の値を設定することができる。

さらに、このシステム１は、途中で高周波電力の出力レベルが増減した制御にも利用することができる。すなわち、比率は、高周波エネルギのエネルギ量に基づいて変更可能である。例えば、出力レベルが増加し、Ｐ１の２倍となるＰ２の時には、係数Ｋに照会して、設定されている供給量と吸引量に変更することができる。例えば、係数Ｋ１＝２、即ち、供給量が吸引量の２倍となっている。このように、ある１つの特性Ｋ１下において、出力レベルＰの変化により、予め定めた傾きの直線や曲線に従った係数Ｋが得られて、その係数Ｋによる供給量と吸引量の比で生理食塩水が供給され、且つ吸引される。特性Ｋ２は、特性Ｋ１とは、電極形状の違いから印加される高周波電力の出力レベルや生理食塩水の供給量が異なるだけで有り、基本的には、同等の制御が行われる。

以上のことから本実施形態によれば、プローブの先端部における生理食塩水の供給量と吸引量に応じて、プラズマ処置具のプローブへ印加する高周波電力の出力レベルが制御される。さらに、術者がプラズマ処置に応じた高周波電力の出力レベルをスイッチ等で選択するだけで、導電性溶液である生理食塩水の供給量と吸引量の比率が設定されて、プローブ７ｂの先端面７ｃを灌流されて、処置対象との間に、必要最小限の水量による灌流層が形成され、プラズマ処置が実施される。

［第３の実施形態］
次に、第３の実施形態について説明する。
図７は、図１に示したプラズマ処置具システムの構成に、術中神経モニタリングシステム（Nerve Integrity Monitor system）５１を加えた本実施形態の構成例を示している。

術中神経モニタリングシステム５１は、公知なシステムで有る。一般的には、手術中に処置対象となる生体組織の近くの神経支配筋肉にモニタ電極（図示せず）を装着して、刺激装置（図示せず）から定電流出力の刺激信号を随時、印加して、モニタ電極から得られた信号に基づく、音又は画像（波形）により、手術や処置により神経が影響を受けるか否か判断する。この判断に基づき、正常な神経に損傷を与えないように確認しながら、プラズマ処置具７のプローブ７ｂを操作して、処置対象の蒸散処置を行う。

この判断の際に、神経の存在が確認された場合、術中神経モニタリングシステム５１から制御部２に警告信号が送信されると共に、警告音又は警告表示が行われる。制御部２は、この警告信号を受けて、電源部３からプローブ７ｂへの高周波電力の印加を停止し、及び供給ポンプ３３を停止させて生理食塩水の供給を停止する。さらに、所定時間後に吸引ポンプ３６を停止させて、処置を中断させる。

以上説明したように、本実施形態によれば、プラズマ処置中に、処置対象の近傍にある神経に対して、随時モニタリングすることで、プラズマ処置に影響を受ける神経が確認された場合には、警告すると共に、術者の停止操作無しでプラズマ処置を中断させることにより、神経への熱侵襲を防止することができるため、術後の痛みを低減できる。

［第４の実施形態］
次に、第４の実施形態について説明する。
図８は、図１に示したプラズマ処置具システムの構成に、公知な検出構成を有するｐＨ（水素イオン濃度指数）センサを加えた本実施形態の構成例を示している。図９Ａは、第４の実施形態のプラズマ処置具のプローブ６１（７ｂ）の先端部分の外観構成を示し、図９Ｂは、プローブ６１の先端側の断面構成を示している。

一般的に、プラズマ処置後には、生理食塩水の中に蒸散された生体組織（粘膜や粘液等）が混入するため、処置前の純粋な生理食塩水に対して、ｐＨ度が変化する。本実施形態は、そのｐＨ変化を検出して、処置状態を把握し、生理食塩水の供給量及び吸引量の増減やプラズマ発生状態に対する高周波電力の制御等を行う。

このプローブ６１は、円筒形状を成し、その先端面は、凹型に窪み、この例では、周囲に連続的に続く波形状の４つの突起部６１ａが延び出るように形成されている。図９Ｂに示すように、これらの突起部６１ａは、先端面から突起頂部までの高さ（距離）ｔが、プラズマ発生領域で規定された第１の実施形態で説明した距離Ｌと同じ長さに設定している。先端面の中央には、吸引口１９が開口している。突起部６１ａは、内周側面に複数の供給口１８が連続的に開口している。吸引口１９の周囲には、複数の支柱部で先端面から離間するように支持されるリング状のアクティブ電極６２が設けられている。さらに、支柱部の外側で先端面上には、リング状のリターン電極６３が設けられている。生理食塩水は、複数の供給口１８から先端面中央の吸引口１９に向けて灌流されて、第１の実施形態と同様な灌流層を形成する。
尚、突起部６１ａにより、アクティブ電極６２と生体組織との間に距離を取ることができる。このため、アクティブ電極６２が直接生体組織に接触した状態で高周波エネルギが生体組織に入力されることが防止される。また、突起部６１ａが凹型に形成された部分を有するので、プローブ先端面と突起部６１ａと生体組織とにより閉じた空間が形成されるのを防止できる。このため、吸引口１９による吸引により、生体組織がアクティブ電極６２に接触するのを防止できる。

ｐＨセンサは、アクティブ電極６２の近傍に配置してもよいが、プローブ６１の移動する方向によって、ｐＨセンサ上を、生体組織が混入する生理食塩水が灌流しない場合も想定される。本実施形態では、図９Ｂに示すように、吸引口１９から内部に入り込んだ位置で吸引管周囲を取り巻くように、ｐＨセンサ６４を設けている。通常、生理食塩水のｐＨは５．５〜６程度の酸性の特性を有している。これを基準として、プラズマ処置によって生理食塩水に不純物としての生体組織（例えば、体液や血液等は、ｐＨ７．４程度）が混ざると、ｐＨの値が上昇する、即ち、アルカリ性に近づく。このため、生理食塩水の純正化（ｐＨの基準値に戻す）を図るために、供給量や吸引量を増やすように対処する。また、削り取った生体組織をより細分化し、吸引しやすくするため、プラズマ密度を上げるように、高周波出力のレベルを上げてもよい。

本実施形態では、吸引口１９から内部チューブに連結するまでの間をガラスで作成し、その途中に周囲がガラスにより生成されるｐＨセンサと一体的に形成した例を示している。この配置により、吸引の際に、生体組織が混入する生理食塩水がｐＨセンサを確実に通過するため、確実に検出を行うことができる。制御部２は、ｐＨの度合いに応じて、高周波電力の出力レベルの増減又は、生理食塩水の増減のパターンを記憶するテーブルを備えており、ｐＨセンサが検出したｐＨ度により、予め設定されたパターンが選択され、それぞれの制御が行われる。

以上説明したように、本実施形態によれば、ｐＨセンサを吸引口１９から内部に入り込んだ位置に設けたことにより、処置された生体組織を含む生理食塩水を通過させてｐＨ度を測定することができる。この測定値から現在のプラズマ処置の状態を把握することができ、生理食塩水の供給量及び吸引量の増減やプラズマ発生状態に対する高周波電力の制御等を行うことができる。また、予め検出が想定されるｐＨ度に対して、処置具側の生理食塩水の供給量及び吸引量の増減値や、高周波電力の出力レベルを切り換えさせるための設定値を制御部２内のテーブル等に決めておいてもよい。

また、プローブにおいては、先端面の周囲に所定水量の灌流層を形成可能な高さで突起部６１ａを形成しているため、術者はプローブ先端を押しつけるだけで、処置のためのスペース（プラズマ発生領域）を確保することができる。また、突起部によりプラズマ発生領域が制限できるため、処置対象箇所の近傍に神経等が存在した場合でも、その神経近くまで処置を実施することができる。

以上説明した各実施形態及び変形例は、以下の発明の要旨を含んでいる。
１．高周波エネルギを生体組織に供給するプラズマ処置システムにおいて、
前記高周波エネルギを前記生体組織に供給する１対のバイポーラ電極を有する処置具と、
前記処置具に設けられて、前記処置具から前記生体組織の処置する表層に向けて、プラズマを発生させるための導電性溶液を供給する供給部と、
前記処置具に設けられて、前記導電性溶液を吸引する吸引部と、
前記供給部から供給される前記導電性溶液の予め決められた第１情報と、前記吸引部へ吸引される前記導電性溶液の予め決められた第２情報との割合となる所定の比率を設定する設定部と、
前記供給部から供給される前記導電性溶液の供給量と、前記吸引部へ吸引される前記導電性溶液の吸引量を検出する検出部と、
前記検出部で検出された前記供給量と前記吸引量の比率から、前記所定の比率に基づいて前記生体組織への前記高周波エネルギの供給を制御する制御部と、
を備えたプラズマ処置システム。

２．前記検出部は、電気的に接続されて、前記供給量または前記吸引量に対する重量や前記導電性溶液が、測定するための計器内の液面の高さから体積として算出する算出部と連動していることを特徴とする（１）項に記載のプラズマ処置システム。
３．前記供給量または前記吸引量は、処置対象の前記生体組織の表層面積と前記バイポーラ電極との間の距離により決まる量であることを特徴とする（１）項に記載のプラズマ処置システム。

４．前記制御部は、前記生体組織の表層下に神経組織の有無を検知する第１センサと電気的に接続されて、
前記神経組織があった場合、制御部は、前記供給部、前記吸引部及び前記高周波エネルギの供給の少なくとも１つを停止するように制御することを特徴とする（１）項に記載のプラズマ処置システム。

５．前記制御部は、前記吸引部の先端部に設けられた開口又は、前記開口から前記処置具の基端部へ連通するチャンネル内が前記溶液及び前記処置物で閉塞された状態になったことを示す情報を検出する第２センサと電気的に接続されて、
前記制御部は、前記開口が閉塞されたことを前記第２センサの情報に基づいて、前記供給部、前記吸引部及び前記高周波エネルギの供給の少なくとも１つを停止するように制御することを特徴とする（１）に記載のプラズマ処置システム。
６．前記制御部は、前記供給量と前記吸引量の比率が１対１になるように前記供給部と前記吸引部を制御することを特徴とする（１）項に記載のプラズマ処置システム。

７．高周波エネルギを生体組織に付加するプラズマ処置システムにおいて、
基端部から先端部に延出して、前記高周波エネルギを前記生体組織に供給する１対のバイポーラ電極を前記先端部に設けることによって、前記生体組織を処置する処置具と、
前記処置具に設けられて、前記先端部から前記生体組織の処置する表層に向けて、導電性溶液を供給する供給部と、
前記供給された導電性溶液を前記処置具の前記先端部から前記基端部へ吸引する吸引部と、
前記吸引部で吸引した前記導電性溶液のｐＨを検出する検出部と、
前記吸引部で吸引した際の前記導電性溶液の予め決められた所定のｐＨを設定する設定部と、
前記処置具に設けられて、前記供給部で供給される前記導電性溶液の温度の加温または減温するために前記導電性溶液の温度を調整する温度調整部と、
前記検出部で得られた前記導電性溶液のｐＨと、前記導電性溶液の所定のｐＨの閾値とを比較して、前記所定のｐＨに応じた前記導電性溶液の温度になるように前記温度調整部を制御する第１制御部と、
前記第１制御部によって制御された前記導電性溶液の温度から、前記生体組織への前記高周波エネルギの供給量を制御する第２制御部と、
を備えるプラズマ処置システム。

８．前記第２制御部は、前記供給部からの前記導電性溶液の供給量または、前記吸引部へ前記導電性溶液の吸引量を制御することを特徴とする（７）項に記載のプラズマ処置システム。
９．前記検出部は、前記先端部から前記基端部に連通する前記吸引部のチャンネル内に設けられた第１センサによって前記導電性溶液のｐＨを検出することを特徴とする（７）項に記載のプラズマ処置システム。

１０．前記第２制御部は、前記発熱部において、前記吸引部への吸引による前記導電性溶液の温度が、前記所定の温度を超えたら、前記供給量、前記吸引量の付加及び、前記生体組織へ供給する前記高周波エネルギの付加を停止するように制御することを特徴とする（８）項に記載のプラズマ処置システム。

１１．第１の電極と、
供給される高周波エネルギによりプラズマを発生させるために対を成し、前記第１の電極の周囲に配置される第２の電極と、
を具備するプラズマ処置具とともに用いられる制御システムにおいて、
前記第２の電極から前記第１の電極に向かい、前記第１，第２の電極を共に浸漬するように、供給部から供給される前記導電性溶液の供給量と、前記第１，第２の電極を灌流して吸引された前記導電性液体の吸引量とを所定の比率に設定する設定部と、
前記供給部から供給される前記導電性溶液の供給量と、前記吸引部へ吸引される前記導電性溶液の吸引量とを検出する検出部と、
前記検出部で検出された前記供給量及び前記吸引量に基づいて、前記供給量及び前記吸引量を前記設定部で設定された前記比率に制御する制御部と、
を備えた制御システム。

１…プラズマ処置システム、２…制御部、３…電源部、４…生理食塩水バッグ、５…供給吸引部、６…排水タンク、７…プラズマ処置具、７ａ…把持部、７ｂ…プローブ、７ｃ…先端面、８…スイッチ、９…表示部、１０…吸引用チューブ、１２ａ．１２ｂ…端子、１３…電源ケーブル、１４…コネクタ、１５…アクティブ電極、１６…リターン電極、１７ａ．１７ｂ…内部配線、１８…供給口、１９…吸引口、２０，２１…内部チューブ、２２，２３…外部チューブ、３１…供給ライン、３２…吸引ライン、３３…供給ポンプ、３４…温度調整部、３５…供給量センサ、３６…吸引ポンプ、３７…温度センサ、３８…吸引量センサ、４０…生理食塩水、４１…生体組織、５１…術中神経モニタリングシステム、６１…プローブ、６１ａ…突起部、６２…アクティブ電極、６３…リターン電極、６４…ｐＨセンサ。

Claims (7)

1. 第１の電極と、該第１の電極と対を成す第２の電極を有し、前記第１の電極と前記第２の電極の間に供給される高周波エネルギにより、前記第１の電極と前記第２の電極を浸漬する導電性溶液にプラズマを発生させることによって、生体組織を処置する処置部と、
   前記第１の電極、前記第２の電極及び、前記生体組織の処置対象表層との間に形成される灌流層の水量が前記プラズマを発生させるための必要最小限の水量となるように、前記導電性溶液を供給する供給部からの供給量と、前記導電性溶液を吸引する吸引部からの吸引量と、の所定の比率を設定する設定部と、
   前記供給部から供給される前記導電性溶液の供給量と、前記吸引部へ吸引される前記導電性溶液の吸引量とを検出する検出部と、
   前記検出部で検出された前記供給量及び前記吸引量に基づいて、前記供給量及び前記吸引量を前記設定部で設定された前記比率に制御する制御部と、
   を備えたプラズマ処置システム。
2. 前記処置部の先端に灌流層を形成するのに必要な水量は、発生されたプラズマが作用する、前記第１の電極と前記第２の電極が設けられた前記処置部のプローブの先端部から前記生体組織の表層までの距離と、前記第１の電極と前記第２の電極の配置により前記導電性溶液が形成する灌流層の面積との積により決まる量であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処置システム。
3. 前記比率は、前記高周波エネルギのエネルギ量に基づいて変更可能であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処置システム。
4. 前記制御部は、前記高周波エネルギにより前記プラズマを発生させているとき、前記第１の電極及び前記第２の電極の間に導電性溶液を灌流させながら、前記検出部によって前記供給量の第１情報と前記吸引量の第２情報の係数が１対１になるように制御することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処置システム。
5. 高周波エネルギからプラズマを発生させるための第１の電極と第２の電極を先端に備える処置部を有するプラズマ処置具と、
   前記第１の電極及び前記第２の電極に高周波エネルギを供給する高周波電源と、
   前記処置部に設けられて前記処置部の先端と、該先端と近接する生体組織の処置対象表層との間に導電性溶液を供給する供給部と、
   前記処置部に吸引口が設けられて前記導電性溶液を吸引する吸引部と、
   前記第１の電極と前記第２の電極が共に、導電性溶液内に浸漬するように灌流する前記導電性溶液の供給量を検出する供給量センサと、
   前記吸引口から前記第１の電極及び前記第２の電極を灌流して通過した前記導電性溶液の吸引量を検出する吸引量センサと、共に用いられる制御システムであって、
   前記供給量センサにより検出された供給量と、前記吸引量センサにより検出された吸引量とを比較して帰還制御し、前記処置部の先端に形成される灌流層の水量が前記プラズマを発生させるための必要最小限の水量とする目標量になるように前記供給量及び前記吸引量を制御する制御部を具備するプラズマ処置システム。
6. 前記処置部の先端に灌流層を形成するのに必要な水量は、前記供給量または前記吸引量を発生されたプラズマが作用する、前記処置部の先端から処置対象となる生体組織の表層までの距離と、前記第１の電極と前記第２の電極の配置により前記導電性溶液が形成する灌流層の面積との積により決まる量であることを特徴とする請求項５に記載のプラズマ処置システム。
7. 前記処置部の前記吸引口の内部に入った位置に配置され、前記吸引口から吸引された処置後の導電性溶液の水素イオン濃度指数ｐＨを検出するｐＨセンサを具備することを特徴とする請求項５に記載のプラズマ処置システム。

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