JP5952130B2 - 光素子の製造方法 - Google Patents
光素子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5952130B2 JP5952130B2 JP2012180038A JP2012180038A JP5952130B2 JP 5952130 B2 JP5952130 B2 JP 5952130B2 JP 2012180038 A JP2012180038 A JP 2012180038A JP 2012180038 A JP2012180038 A JP 2012180038A JP 5952130 B2 JP5952130 B2 JP 5952130B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rare earth
- layer
- oxide
- silicon
- erbium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
はじめに、本発明の実施の形態1について、図1A〜図1Fを用いて説明する。図1A〜図1Fは、本発明の実施の形態1における光素子の製造方法を説明する各工程における状態を示す断面図および平面図である。図1A〜図1Eは断面図、図1Fは平面図である。
次に、本発明の実施の形態2について図2A〜図2Fを用いて説明する。図2A〜図2Fは、本発明の実施の形態2における光素子の製造方法を説明する各工程における状態を示す断面図および平面図である。図2A〜図2C,図2E,図2Fは断面図、図2Dは平面図である。
次に、本発明の実施の形態3について図3A〜図3Fを用いて説明する。図3A〜図3Fは、本発明の実施の形態3における光素子の製造方法を説明する各工程における状態を示す断面図および平面図である。図3A,図3B,図3D,図3Eは断面図、図3C,図3Fは平面図である。
次に、本発明の実施の形態4について図4A〜図4Fを用いて説明する。図4A〜図4Fは、本発明の実施の形態4における光素子の製造方法を説明する各工程における状態を示す断面図および平面図である。図4A,図4B,図4D〜図4Fは断面図、図4Cは平面図である。
Claims (4)
- 第1希土類の酸化物からなる第1希土類酸化物層および前記第1希土類とは異なる第2希土類の酸化物からなる第2希土類酸化物層の積層構造からなる希土類含有層を物理蒸着法により下部シリコン層の上に形成する工程と、
前記希土類含有層を加熱して凝集させて前記第1希土類の酸化物に前記第2希土類を添加した第1結晶,前記第1希土類のシリケイトに前記第2希土類を添加した第2結晶からなる光機能層を形成する工程と
を少なくとも備えることを特徴とする光素子の製造方法。 - 請求項1記載の光素子の製造方法において、
前記光機能層を形成した後、前記光機能層の上に上部シリコン層を形成する工程を備え、
前記下部シリコン層と前記上部シリコン層とは異なる導電型とし、
前記希土類含有層を加熱して前記下部シリコン層の上に前記第1結晶,前記第2結晶から構成された複数の微細構造体からなる発光層となる前記光機能層を形成する
ことを特徴とする光素子の製造方法。 - 請求項1記載の光素子の製造方法において、
前記下部シリコン層の表面に凹凸を形成する工程を備え、
前記凹凸を形成した前記下部シリコン層の上に前記希土類含有層を形成することを特徴とする光素子の製造方法。 - 請求項3記載の光素子の製造方法において、
前記凹凸は溝部であり、
前記希土類含有層を加熱して前記溝部に凝集させて光導波路のコアとなる前記光機能層を形成することを特徴とする光素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012180038A JP5952130B2 (ja) | 2012-08-15 | 2012-08-15 | 光素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012180038A JP5952130B2 (ja) | 2012-08-15 | 2012-08-15 | 光素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014038927A JP2014038927A (ja) | 2014-02-27 |
JP5952130B2 true JP5952130B2 (ja) | 2016-07-13 |
Family
ID=50286834
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012180038A Active JP5952130B2 (ja) | 2012-08-15 | 2012-08-15 | 光素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5952130B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106057641A (zh) * | 2016-05-27 | 2016-10-26 | 清华大学 | 半导体结构以及制备半导体结构的方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2668464B1 (fr) * | 1990-10-25 | 1993-01-08 | Commissariat Energie Atomique | Silicates mixtes d'yttrium et de lanthanide et laser utilisant des monocristaux de ces silicates. |
JP3425734B2 (ja) * | 1995-07-10 | 2003-07-14 | 日本電信電話株式会社 | 光導波路の製造方法 |
JPH10284800A (ja) * | 1997-04-04 | 1998-10-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JPH1117217A (ja) * | 1997-06-27 | 1999-01-22 | Res Dev Corp Of Japan | 発光素子材料の製造方法 |
JP3872327B2 (ja) * | 2000-12-04 | 2007-01-24 | 日本碍子株式会社 | 半導体発光素子 |
JP2004037990A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Nec Corp | 光導波路及びその製造方法 |
JP2004250251A (ja) * | 2003-02-18 | 2004-09-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 蛍光性ガラス、光増幅用導波路および光増幅モジュール |
US7292766B2 (en) * | 2003-04-28 | 2007-11-06 | 3M Innovative Properties Company | Use of glasses containing rare earth oxide, alumina, and zirconia and dopant in optical waveguides |
JP2005217007A (ja) * | 2004-01-28 | 2005-08-11 | Nec Corp | 光増幅器用平面型光導波路 |
JP3939313B2 (ja) * | 2004-06-03 | 2007-07-04 | 三星電子株式会社 | 空気調和機及び空気調和機の運転方法 |
JP5384133B2 (ja) * | 2009-02-12 | 2014-01-08 | 三菱電線工業株式会社 | Bf3を添加した希土類元素ドープファイバおよびその製造方法 |
JP5600086B2 (ja) * | 2011-08-29 | 2014-10-01 | 日本電信電話株式会社 | 光素子およびその製造方法 |
-
2012
- 2012-08-15 JP JP2012180038A patent/JP5952130B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014038927A (ja) | 2014-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Khriachtchev | Silicon Nanophotonics: Basic Principles, Present Status, and Perspectives | |
Pavesi | Routes toward silicon-based lasers | |
JP3944246B2 (ja) | 光学導波路内の高伝導埋込層 | |
US20070114628A1 (en) | Light emitting slot-waveguide device | |
TW200530645A (en) | Integration of rare-earth doped amplifiers into semiconductor structures and uses of same | |
TWI398061B (zh) | Semiconductor device | |
US8619358B2 (en) | Electrically pumped extrinsic semiconductor optical amplifier with slot waveguide | |
JP5600086B2 (ja) | 光素子およびその製造方法 | |
US9748736B1 (en) | Waveguide embedded plasmon laser with multiplexing and electrical modulation | |
JP2009238902A (ja) | 半導体発光素子 | |
US7738756B2 (en) | Energy coupled superlattice structures for silicon based lasers and modulators | |
JP5952130B2 (ja) | 光素子の製造方法 | |
ITTO20010424A1 (it) | Dispositivo laser a base di nanostrutture di silicio. | |
Isshiki et al. | Toward small size waveguide amplifiers based on erbium silicate for silicon photonics | |
Kenyon | Quantum confinement in rare-earth doped semiconductor systems | |
WO2007067165A1 (en) | Enhanced electrical characteristics of light-emitting si-rich nitride films | |
JP5947148B2 (ja) | 光素子の製造方法 | |
JPWO2007141956A1 (ja) | 光増幅器 | |
US8130442B2 (en) | Optical amplifying medium, method of manufacturing the optical amplifying medium, and optical device comprising the optical amplifying medium | |
Vasdekis et al. | Silicon based organic semiconductor laser | |
JP2015032722A (ja) | 光素子およびその製造方法 | |
US20100034232A1 (en) | Electrically pumped nd3+ doped solid laser | |
Daldosso et al. | Low-dimensional silicon as a photonic material | |
JP6319806B2 (ja) | 光素子 | |
Matsui et al. | Photonic integrated device of highly-stacked quantum dot using quantum dot intermixing by ion implantation |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140624 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150310 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150501 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151020 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160607 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160609 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Ref document number: 5952130 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |