JP5917299B2 - 現像処理装置 - Google Patents
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Description
第1の実施形態として、フォトマスクを作製するためにレジストが塗布され、電子線を用いてパターンが露光された被処理基板を現像処理する場合を説明する。本実施形態では、現像ノズルから現像液の吐出・吸引及びリンス液の吐出を同時に行いつつ、ノズルを被処理基板に対して略水平に走査して現像処理する現像方法・装置を使用する場合を例に挙げて説明する。但し、被露光部のレジストが膜厚方向に一部残るように現像することができる現像方法・装置であれば、例に挙げた現像方法・装置に限定されるものではない。
図7は、第2の実施形態に係わる現像処理装置を示す概略構成図である。なお、図1と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
図8は、第3の実施形態に係わる現像処理装置を示す概略構成図である。なお、図1と同一部分には同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。
11…CCDカメラ(膜厚測定部)
12…パターン情報取得部
13…ギャップ調整機構
14…移動機構
20…現像ヘッド
21…現像液吐出ノズル
22…現像液吸引ノズル
23…リンス液吐出ノズル
24a,24b…電磁バルブ
25…ポンプ
30…制御部
31…膜減り量算出部
32…寸法予測部
33…寸法補正量算出部
34…現像所受け件算出部
35…膜減り量・予測寸法テーブル
36…寸法補正量・補正現像条件テーブル
37…補正テーブル選択部
41…寸法差確認部
42…寸法補正量調整部
51…仕上がり寸法取得部
52…補正テーブル更新部
100…被処理基板
101…レジスト膜
102…補助板
Claims (7)
- 被処理基板上に形成された感光膜に露光され、パターン種別、パターン寸法、及び描画率を含むパターン情報を取得するパターン情報取得部と、
前記基板のモニタ領域を、前記感光膜の被露光部が膜厚方向に一部残るように半現像処理された状態で、該被露光部の膜減り量を算出する膜減り量算出部と、
予め取得された膜減り量と予測パターン寸法との関係を、パターン種に対応させて記憶した複数の膜減り量・予測寸法テーブルと、
予め取得されたパターン寸法補正量と補正現像条件との関係を、パターン種別、パターン寸法、及び描画率に対応させて記憶した複数の寸法補正量・補正現像条件テーブルと、
前記取得されたパターン情報から前記膜減り量・予測寸法テーブルの何れかと前記複数の寸法補正量・補正現像条件テーブルの何れかとを選択する補正テーブル選択機構と、
前記選択された前記膜減り量・予測寸法テーブルを参照し、前記算出された膜減り量から、標準現像条件で現像処理した場合の予測パターン寸法を算出する寸法予測部と、
前記算出された予測パターン寸法を所望の値に補正するためのパターン寸法補正量を算出する寸法補正量算出部と、
前記選択された寸法補正量・補正現像条件テーブルを参照し、前記算出されたパターン寸法補正量から、該パターン寸法補正量分の寸法変動を生じさせる補正現像条件を算出する補正現像条件算出部と、
前記被処理基板を略水平に保持する基板保持機構と、現像液吐出開口及び現像液吸引開口を有する現像液吐出吸引機構と、前記被処理基板と前記現像液吐出吸引機構とを相対的に略水平移動させる走査機構とを具備し、前記算出された補正現像条件で前記被処理基板のパターン領域を現像する現像機構と、
を具備したことを特徴とする、現像処理装置。 - 被処理基板上に形成された感光膜に露光され、パターン種別、パターン寸法、及び描画率を含むパターン情報を取得するパターン情報取得部と、
前記基板の少なくとも一部を、前記感光膜の被露光部が膜厚方向に一部残るように半現像処理された状態で、該被露光部の膜減り量を算出する膜減り量算出部と、
予め取得された膜減り量と予測パターン寸法との関係を記憶した膜減り量・予測寸法テーブルと、
前記膜減り量・予測寸法テーブルを参照し、前記算出された膜減り量から、標準現像条件で現像処理した場合の予測パターン寸法を算出する寸法予測部と、
前記算出された予測パターン寸法を所望の値に補正するためのパターン寸法補正量を算出する寸法補正量算出部と、
予め取得されたパターン寸法補正量と補正現像条件との関係を、パターン種別、パターン寸法、及び描画率に対応させて記憶した複数の寸法補正量・補正現像条件テーブルと、
前記取得されたパターン情報から前記複数の寸法補正量・補正現像条件テーブルの何れかを選択する補正テーブル選択機構と、
前記選択された寸法補正量・補正現像条件テーブルを参照し、前記算出されたパターン寸法補正量から、該パターン寸法補正量分の寸法変動を生じさせる補正現像条件を算出する補正現像条件算出部と、
前記算出された補正現像条件で前記被処理基板を現像する現像機構と、
を具備したことを特徴とする、現像処理装置。 - 前記膜減り量・予測寸法テーブルはパターン種に応じて複数設けられ、前記テーブル選択機構により、前記取得されたパターン情報に応じて何れかが選択されるものであることを特徴とする、請求項2記載の現像処理装置。
- 前記半現像処理された領域は前記基板上のモニタ領域であり、前記補正現像条件で現像する領域は前記基板上のパターン領域であることを特徴とする、請求項2又は3に記載の現像処理装置。
- 予め取得された補正現像条件とパターン間寸法分布との関係と、該補正現像条件とから、標準現像条件におけるパターン間寸法分布と補正現像条件におけるパターン間寸法分布との差が、許容パターン間寸法差を満足するか否かを判定するパターン間寸法差確認部と、許容パターン間寸法差を満足しない場合に、許容パターン間寸法差を満足する補正現像条件で、且つ許容パターン寸法を同時に満たすパターン寸法補正量を再算出する寸法補正量調整部と、を更に具備したことを特徴とする、請求項2〜4の何れかに記載の現像処理装置。
- 前記算出された補正現像条件で現像処理された前記被処理基板のパターン寸法測定結果を取得する仕上り寸法取得部と、
前記選択された寸法補正量・補正現像条件テーブルを、前記取得されたパターン寸法測定結果により更新する補正テーブル更新機構と、
を更に具備したことを特徴とする、請求項2〜4の何れかに記載の現像処理装置。 - 前記現像機構は、
前記被処理基板を略水平に保持する基板保持機構と、現像液吐出開口及び現像液吸引開口を有する現像液吐出吸引機構と、前記被処理基板と前記現像液吐出吸引機構とを相対的に略水平移動させる走査機構と、を具備したものであることを特徴とする、請求項2〜6の何れかに記載の現像処理装置。
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