JP5911012B2 - 温度計測装置、および温度計則方法 - Google Patents
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Description
ΔL=LA−L0=n0*d(T0)*(α+β)*ΔT・・・(1)
で表わされる。したがって、n0、d(T0)、α、β、T0をあらかじめ初期値として測定しておけば、温度センサプローブ14AによるSC光照射位置での、フィルム状基板15の温度TAは、干渉ピーク位置の変化からΔLを計測することにより、
TA=ΔT+T0=(LA−L0)/(n0*d(T0)*(α+β))+T0・・・(2)
によって測定することができる。n0、d(T0)をそれぞれ測定するのに替えて、T0における光路長L0(=n0*d(T0))を干渉ピーク位置からあらかじめ測定しておいても、同様にしてTAを測定することができる。つまり、
TA=(LA−L0)/(L0*(α+β))+T0・・・(3)
によっても温度TAを測定することができる。
TA=(LA−LB)/(LB*(α+β))+T0・・・(4)
によってTAをより精度よく測定することができる。もちろん、位置Bにおけるフィルム状基板15の光路長LBの測定に替えて、位置Bにおけるフィルム状基板15の厚さdBを測定し、式(4)におけるLBとしてn0*dBを用いるようにしてもよい。同様に、位置Aにおけるフィルム状基板15の温度TAをより精度よく測定することができる。
11:光ファイバカプラ
12:光スイッチ
13:光スペクトルアナライザ
14A、B:温度センサプローブ
15:フィルム状基板
16:プラズマ装置
17:コンピュータ
Claims (5)
- 測定物に低コヒーレンス光を照射し、その反射光から干渉波形を得て、干渉ピーク位置の変化から前記測定物の温度を計測する温度計測装置において、
前記測定物は、ロールツーロールプロセスにより移動させつつ温度変化を伴う処理をされるものであり、
前記測定物の前記処理位置と、および前記処理位置直前の位置と、に前記低コヒーレンス光を照射する照射手段と、
前記測定物の前記処理位置に前記低コヒーレンス光を照射した場合の前記干渉波形と、前記処理位置直前の位置に前記低コヒーレンス光を照射した場合の前記干渉波形とをそれぞれ取得する干渉波形取得手段と、
前記測定物の前記処理位置における光路長LAと、前記処理位置直前の位置での前記測定物の光路長LBを、前記干渉波形取得手段により得た干渉波形の干渉ピーク位置から求め、前記測定物の前記処理位置における温度を光路長LAから算出するに際し、光路長の初期値として光路長LBを用いて、前記測定物の前記処理位置における温度を算出する算出手段と、
を有することを特徴とする温度計測装置。 - 前記処理はプラズマ処理、または熱処理であることを特徴とする請求項1に記載の温度計測装置。
- 前記干渉波形取得手段は、前記測定物により反射された反射光のスペクトルを測定し、そのスペクトルを逆フーリエ変換して前記干渉波形を算出する、ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の温度計測装置。
- 前記低コヒーレンス光は、スーパーコンティニューム光であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の温度計測装置。
- 測定物に低コヒーレンス光を照射し、その反射光から干渉波形を得て、干渉ピーク位置の変化から前記測定物の温度を計測する温度計測方法において、
前記測定物は、ロールツーロールプロセスにより移動させつつ温度変化を伴う処理をされるものであり、
前記測定物の前記処理位置と、および前記処理位置直前の位置と、に前記低コヒーレンス光を照射し、
測定物の前記処理位置に前記低コヒーレンス光を照射した場合の前記干渉波形と、前記処理位置直前の位置に前記低コヒーレンス光を照射した場合の前記干渉波形とをそれぞれ取得し、
前記測定物の前記処理位置における光路長LAと、前記処理位置直前の位置での前記測定物の光路長LBを、前記干渉波形取得手段により得た干渉波形の干渉ピーク位置から求め、前記測定物の前記処理位置における温度を光路長LAから算出するに際し、光路長の初期値として光路長LBを用いて、前記測定物の前記処理位置における温度を算出する、
ことを特徴とする温度計測方法。
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