JP5889583B2 - 低濃度ガス供給装置 - Google Patents
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Description
(1)本発明の低濃度ガス供給装置は、特定の揮発成分からなる揮発成分ガスを供給する揮発成分ガス供給手段と、該揮発成分ガスを希釈する希釈ガスを供給する希釈ガス供給手段と、該揮発成分ガスと該希釈ガスを混合した混合ガスを供給する混合ガス供給手段とを備え、該混合ガスに基づいて該揮発成分の低濃度ガスが供給され得る低濃度ガス供給装置であって、前記揮発成分ガス供給手段は、前記揮発成分の発生源である揮発源を封入できる容器と、該容器内へ前記希釈ガスを導入する希釈ガス導入管と、該希釈ガスの導入により該容器内に発生した該揮発成分ガスを該容器から導出する揮発成分ガス導出管とを有し、前記混合ガス供給手段は、前記希釈ガスを送入する第一希釈ガス送入管と、該第一希釈ガス送入管と前記揮発成分ガス導出管に接続され、前記希釈ガスと前記揮発成分ガスを混合する一次混合器と、該一次混合器で得られた一次混合ガスを送出する一次混合ガス送出管と、該一次混合ガス送出管に接続され上流側と下流側のガス圧力差に基づいて該一次混合ガスの分取量が調整される一次混合ガス調整管と、該希釈ガスを送入する第二希釈ガス送入管と、該第二希釈ガス送入管と該一次混合ガス調整管に接続され、該希釈ガスと該一次混合ガス調整管により分取された一次混合ガスとを混合する二次混合器と、該二次混合器で得られた二次混合ガスを送出する二次混合ガス送出管とを有し、該二次混合ガスに基づき前記低濃度ガスが得られ、該混合ガス供給手段を構成する配管の接続部は着脱自在であり、該一次混合器から該低濃度ガスの供給口へ至るガス流路中に、弁および測定機器が配置されておらず、該混合ガス供給手段を構成する配管の接続部はワンタッチコネクターからなることを特徴とする。
(1)本発明では、揮発成分ガスの種類や供給源数、希釈ガスの種類や供給源数、それらによる希釈段数(混合段数)等は問わない。例えば、本発明に係る低濃度ガスは、希釈段数が異なる複数種の揮発成分ガスが混合したものでもよい。なお、本願明細書では、n回希釈に係るガスや配管に、適宜「n次」(n:自然数)を付して呼称する。
希釈ガス供給手段は、例えば、空気や不活性ガス等からなる加圧ガス源からなる。この加圧ガス源から供給される希釈ガスは、例えば、圧力調整器によりそのガス圧力が調整されたり、フィルターで不純物が除去されたりして、揮発成分ガス供給手段や混合ガス供給手段へ供給される。ちなみに、このフィルターとして、希釈ガス中に含まれる水分(水蒸気)を除去する除湿用シリカゲルフィルター、希釈ガス中に含まれる揮発成分を除去する揮発成分除去用活性炭フィルターなどがある。なお、本明細書では、不純物を除去された希釈ガスを、適宜、「清浄ガス」という。
(1)揮発成分ガス供給手段は、例えば、図1に示すように、揮発成分の発生源である揮発源Vを封入できる容器21と、容器21内へ希釈ガス(清浄ガス)Goを導入する希釈ガス導入管22と、希釈ガスGoの導入により容器21内に発生した揮発成分ガス(ヘッドスペースガス)Gvを容器21から導出する揮発成分ガス導出管23から構成される。
(1)混合ガス供給手段は、例えば、図3に示すように、希釈ガスGoを送入する第一希釈ガス送入管311と、第一希釈ガス送入管311と揮発成分ガス導出管23に接続され希釈ガスGoと揮発成分ガスGvを混合する一次混合器313と、一次混合器313で得られた一次混合ガスGm1を送出する一次混合ガス送出管314とから構成される。そして一次混合ガスGm1に基づき所望の低濃度ガスGsが調製される。
本発明の低濃度ガス供給装置は、各種の臭気分析、排気ガス分析、揮発成分分析等に必要な基準ガスの提供等に利用することができる。また臭いの調合、気相における複数成分の相互作用評価等にも利用できる。
〈設定条件〉
一次希釈混合ラインL1に供給される希釈ガスGo ・・・999ml/min
二次希釈混合ラインL2に供給される希釈ガスGo ・・・949ml/min
三次希釈混合ラインL3に供給される希釈ガスGo ・・・948ml/min
揮発成分ガスGvaの一次混合器313への導入量 ・・・ 1ml/min
揮発成分ガスGvbの二次混合器3230への導入量・・・ 50ml/min
揮発成分ガスGvcの三次混合器3330への導入量・・・ 50ml/min
抵抗管315cの流量 ・・・ 1ml/min
抵抗管325bの流量 ・・・ 2ml/min
上記の設定条件の場合、各揮発成分ガスの希釈倍率は次のように算出される。
揮発成分ガスGvaの希釈倍率
{(999+1)/1}×{(949+1+50)/1}
×{(948+2+50)/2}=5×108
揮発成分ガスGvbの希釈倍率
{(949+1+50)/50}×{(948+2+50)/2}=1×104
揮発成分ガスGvcの希釈倍率
(948+2+50)/50=20
2 希釈ガス供給部
3 混合ガス供給部
100 低濃度ガス供給装置
Go 希釈ガス
Gv 揮発成分ガス
Claims (4)
- 特定の揮発成分からなる揮発成分ガスを供給する揮発成分ガス供給手段と、
該揮発成分ガスを希釈する希釈ガスを供給する希釈ガス供給手段と、
該揮発成分ガスと該希釈ガスを混合した混合ガスを供給する混合ガス供給手段とを備え、該混合ガスに基づいて該揮発成分の低濃度ガスが供給され得る低濃度ガス供給装置であって、
前記揮発成分ガス供給手段は、
前記揮発成分の発生源である揮発源を封入できる容器と、
該容器内へ前記希釈ガスを導入する希釈ガス導入管と、
該希釈ガスの導入により該容器内に発生した該揮発成分ガスを該容器から導出する揮発成分ガス導出管とを有し、
前記混合ガス供給手段は、
前記希釈ガスを送入する第一希釈ガス送入管と、
該第一希釈ガス送入管と前記揮発成分ガス導出管に接続され、前記希釈ガスと前記揮発成分ガスを混合する一次混合器と、
該一次混合器で得られた一次混合ガスを送出する一次混合ガス送出管と、
該一次混合ガス送出管に接続され上流側と下流側のガス圧力差に基づいて該一次混合ガスの分取量が調整される一次混合ガス調整管と、
該希釈ガスを送入する第二希釈ガス送入管と、
該第二希釈ガス送入管と該一次混合ガス調整管に接続され、該希釈ガスと該一次混合ガス調整管により分取された一次混合ガスとを混合する二次混合器と、
該二次混合器で得られた二次混合ガスを送出する二次混合ガス送出管とを有し、該二次混合ガスに基づき前記低濃度ガスが得られ、
該混合ガス供給手段を構成する配管の接続部は着脱自在であり、
該一次混合器から該低濃度ガスの供給口へ至るガス流路中に、弁および測定機器が配置されておらず、
該混合ガス供給手段を構成する配管の接続部はワンタッチコネクターからなることを特徴とする低濃度ガス供給装置。 - 前記揮発成分ガス供給手段は、前記揮発成分ガスの濃度を測定できる揮発成分濃度測定器を備える請求項1に記載の低濃度ガス供給装置。
- 前記混合ガス供給手段は、さらに、
前記二次混合ガス送出管に接続され上流側と下流側のガス圧力差に基づいて前記二次混合ガスの分取量が調整される二次混合ガス調整管と、
前記希釈ガスを送入する第三希釈ガス送入管と、
該第三希釈ガス送入管と前記二次混合ガス調整管に接続され該希釈ガスと該二次混合ガス調整管により分取された二次混合ガスとを混合する三次混合器と、
該三次混合器で得られた三次混合ガスを送出する三次混合ガス送出管とを有し、
該三次混合ガスに基づき前記低濃度ガスが得られる請求項1または2に記載の低濃度ガス供給装置。 - 前記揮発成分ガス供給手段は、複数種の揮発成分ガスを別個に供給可能である請求項1〜3のいずれかに記載の低濃度ガス供給装置。
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