JP5888691B2 - 有機薄膜太陽電池 - Google Patents
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Description
色素増感太陽電池における有機色素には、様々な色素が適用されているが、その作用が光合成に似ていることから、光合成色素であるクロロフィルやその誘導体を用いたものも多く提案されている(例えば、特許文献1参照)。
また、有機薄膜太陽電池においても、天然クロロフィルであるバクテリオクロロフィルcを用いたバルクヘテロ接合型の太陽電池が報告されている(例えば、非特許文献1参照。)
すなわち、本発明は、有機薄膜太陽電池の実用化を図るべく、クロロフィル誘導体を用いて光電変換効率を向上させた有機薄膜太陽電池を提供することを目的とするものである。
また、前記p型有機半導体からなる層と前記n型有機半導体からなる層とが積層された平面ヘテロ接合構造であってもよい。
前記クロロフィル誘導体は、バルクヘテロ接合及び平面ヘテロ接合のいずれの構造の有機薄膜太陽電池においても、p型半導体として好適に機能し得る。
したがって、本発明に係る有機薄膜太陽電池によれば、実用レベルの光電変換効率を実現することが可能となり、軽量で、フレキシブルであり、また、着色性に優れ、製造コストが低い等の利点を活かした身近なエネルギー源としての利用が期待される。
本発明に係る有機薄膜太陽電池は、一対の電極間にp型半導体とn型半導体とが含まれており、前記p型半導体として上記一般式(1)で表されるクロロフィル誘導体が用いられているものである。
上記一般式(1)において、Mは、2H、Ni、Zn及びCuのうちのいずれかである。すなわち、金属は配位していないか、あるいはまた、配位金属はNi、Zn又はCuである。
このように、本発明に係るクロロフィル誘導体は、天然クロロフィルと同様に、テトラピロール環を基本構造としているが、テトラピロール環中心にMgは配位しておらず、また、クロロフィルaのような長鎖アルコールは結合していない。
したがって、天然クロロフィルに比べて、安定であり、有機薄膜太陽電池の光電変換効率を図る上で好適な電子供与性(ドナー)材料である。
このように、前記クロロフィル誘導体をp型半導体とし、n型半導体との混合層を形成させることにより、バルクヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池を好適に構成することができる。
この光電変換層3の膜厚は、光透過性や光電変換能、膜抵抗等を考慮し、10〜300nmであることが好ましい。
前記基板は、有機薄膜太陽電池の支持体となるものであり、基板側が受光面となる場合、太陽光の透光性を有する透明基板を用いることが好ましい。光透過率は80%以上であることが好ましく、85%以上であることが好ましい。より好ましくは、90%以上である。
前記透明基板としては、一般に、BK7、BaK1、F2等の光学ガラス、石英ガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス等のガラス基板、PMMA等のアクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルスルフォネート、ポリスチレン、ポリオレフィン、エポキシ樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル等のポリマー基板が用いられる。
前記基板の厚さは、通常、0.1〜10mm程度のものが用いられるが、機械的強度、重量等を考慮して、0.3〜5mmであることが好ましく、0.5〜2mmであることがより好ましい。
この透明電極には、酸化インジウム錫(ITO)、酸化インジウム亜鉛、酸化亜鉛等の金属酸化物が一般的に用いられ、特に、透明性や導電性等の観点から、ITOが好適に用いられる。
この透明電極の膜厚は、透明性及び導電性の確保のため、50〜250nmであることが好ましく、100〜200nmであることがより好ましい。
正極の形成は、通常、スパッタリング法、真空蒸着法等により行われ、透明導電性薄膜として形成されることが好ましい。
前記ホール輸送層は、具体的には、三酸化モリブデンの場合には、真空蒸着法により、膜厚2〜20nmで形成し、また、PEDOT:PSSの場合には、スピンコート法により、膜厚20〜150nmで形成することが好ましい。
前記負極の膜厚は、導電性の確保のため、10〜500nmであることが好ましく、50〜200nmであることがより好ましい。
このように、前記クロロフィル誘導体をp型半導体とし、n型半導体とを別個の層として積層させた、平面ヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池も好適に構成することができる。
また、図2に示すように、n型半導体層32と負極2との間には、電子輸送層5を形成しておくことが好ましい。なお、図1に示すようなバルクヘテロ接合構造の場合にも、同様に、光電変換層3と負極2との間に、電子輸送層を形成してもよい。
使用される電子輸送性材料は、特に限定されるものではなく、公知のものから適宜選択して用いることができる。例えば、Ca、バソクプロイン(BCP)、LiF等を真空蒸着法やスピンコート法等により形成することができる。膜厚は5〜400nmであることが好ましい。
このp型半導体層31の膜厚は、光透過性や光電変換能、膜抵抗等を考慮して、5〜100nmであることが好ましい。
この場合は、クロロフィル誘導体によるp型半導体層31とは別個の層であるため、スピンコート法に限らず、真空蒸着法によっても好適な薄膜を形成することができる。
このn型半導体層32の膜厚は、光透過性や光電変換能、膜抵抗等を考慮し、10〜300nmであることが好ましい。
[実施例1]
図1に示すようなバルクヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池セルを、以下のようにして作製した。
まず、正極1としてITO電極が膜厚140nmで形成されたガラス基板を用い、この表面に、ホール輸送層2としてMoO3を膜厚5nmで真空蒸着法により成膜した。
その上に、光電変換層3として(化1)に示すクロロフィル誘導体(Chl-1;M=2H,R=CHCH2)と、n型半導体としてフラーレン化合物であるPC70BMとが重量比1:4で混合された膜厚100nmの薄膜を形成した。この成膜は、クロロベンゼン溶液としてスピンコート法により行った。
そして、負極2としてCa層及びAl層からなる2層電極を、真空蒸着法により膜厚120nmで成膜した。
図2に示すような平面ヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池セルを、以下のようにして作製した。
まず、正極1としてITO電極が膜厚140nmで形成されたガラス基板を用い、この表面に、ホール輸送層2としてMoO3を膜厚5nmで真空蒸着法により成膜した。
その上に、p型半導体層31として(化1)に示すクロロフィル誘導体(Chl-1;M=2H,R=CHCH2)を膜厚20nmで成膜した。この成膜は、ジクロロメタン溶液としてスピンコート法により行った。さらに、n型半導体層32としてフラーレン化合物であるC60を膜厚40nmで真空蒸着法により成膜した。
その上に、電子輸送層5として、BCPを膜厚6nmでスピンコート法により成膜した。
そして、負極2としてAlを、真空蒸着法により膜厚100nmで成膜した。
実施例1において、光電変換層3として(化1)に示すクロロフィル誘導体(Chl-2;M=2H,R=CHO)を用い、それ以外については実施例1と同様にして、バルクヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池セルを作製した。
実施例1において、光電変換層3として(化1)に示すクロロフィル誘導体(Chl-3;M=Zn、R=CH2OH)を用い、それ以外については実施例1と同様にして、バルクヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池セルを作製した。
実施例1において、光電変換層3として(化1)に示すクロロフィル誘導体(Chl-4;M=Cu,R=CHCH2)を用い、それ以外については実施例1と同様にして、バルクヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池セルを作製した。
実施例1において、光電変換層3として(化1)に示すクロロフィル誘導体(Chl-5;M=Zn,R=CHCH2)を用い、それ以外については実施例1と同様にして、バルクヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池セルを作製した。
実施例1において、光電変換層3として(化1)に示すクロロフィル誘導体(Chl-6;M=Ni,R=CHCH2)を用い、それ以外については実施例1と同様にして、バルクヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池セルを作製した。
実施例2において、p型半導体層31として(化1)に示すクロロフィル誘導体(Chl-4;M=Cu,R=CHCH2)及びPC60BMの混合層を用い、それ以外については実施例2と同様にして、平面ヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池セルを作製した。
実施例1において、ホール輸送層2としてPEDOT:PSSを膜厚40nmでスピンコート法により成膜し、また、光電変換層3として(化4)に示すクロロフィル誘導体(Chl-7)を用い、それ以外については実施例1と同様にして、バルクヘテロ接合構造の有機薄膜太陽電池セルを作製した。
短絡電流密度JSC、開放電圧VOC、曲線因子FF、エネルギー変換効率PCEの評価結果を表1にまとめて示す。
なお、比較例1においては、測定下限未満であり、太陽電池特性の評価は困難であった。
2 負極
3 光電変換層
31 p型有機半導体層
32 n型有機半導体層
4 ホール輸送層
5 電子輸送層
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