JP5887940B2 - Touch panel sensor and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、最表面にオーバーコート層を有するタッチパネルセンサに関するものである。 The present invention relates to a touch panel sensor having an overcoat layer on the outermost surface.
今日、入力手段として、タッチパネルが広く用いられている。タッチパネルは、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等(例えば、券売機、ATM装置、携帯電話、ゲーム機)に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置において、タッチパネルは表示装置の表示面に配置され、これにより、タッチパネルは表示装置に対する極めて直接的な入力を可能にする。 Today, touch panels are widely used as input means. In many cases, a touch panel is used together with a display device as an input means for various devices in which a display device such as a liquid crystal display or a plasma display is incorporated (for example, a ticket vending machine, an ATM device, a mobile phone, a game machine). Yes. In such a device, the touch panel is arranged on the display surface of the display device, which allows the touch panel to make a very direct input to the display device.
タッチパネルを構成するタッチパネルセンサにおいては、一般的に、表面保護のために最表面には樹脂を含有するオーバーコート層が形成されている(例えば特許文献1参照)。タッチパネルセンサにおけるオーバーコート層は、通常、透明基板上に透明電極や配線等に接して設けられるため、透明基板、透明電極、配線等との密着性が求められる。また、配線に含まれる金属によりイオンマイグレーションが起こり、配線間で短絡が発生するおそれがあることから、オーバーコート層にはマイグレーション抑制機能を有することが求められる。さらに、タッチパネルセンサの破損等を防ぐため、オーバーコート層には高硬度であることも要求される。このようなことから、オーバーコート層には、硬度、密着性およびマイグレーション抑制機能のすべてを満たすことが要求される。
しかしながら、硬度、密着性およびマイグレーション抑制機能のすべてを満たす材料を調製するのは非常に困難である。
In a touch panel sensor constituting a touch panel, an overcoat layer containing a resin is generally formed on the outermost surface for surface protection (see, for example, Patent Document 1). Since the overcoat layer in a touch panel sensor is usually provided on a transparent substrate in contact with a transparent electrode, wiring, or the like, adhesion with the transparent substrate, transparent electrode, wiring, or the like is required. Further, since ion migration occurs due to the metal contained in the wiring and a short circuit may occur between the wirings, the overcoat layer is required to have a migration suppressing function. Furthermore, the overcoat layer is also required to have high hardness in order to prevent damage to the touch panel sensor. For this reason, the overcoat layer is required to satisfy all of hardness, adhesion, and migration suppressing function.
However, it is very difficult to prepare a material satisfying all of hardness, adhesion, and migration suppressing function.
最近では、透明基板の両面に透明電極および配線を形成する検討がなされている。透明基板は光透過性を有するため、透明基板の両面に透明電極をパターン状に形成する際には、フォトリソグラフィ法により両面同時にパターニング可能であり、両面の透明電極のパターンの位置精度を高めることが可能となる。
このような場合、オーバーコート層も透明基板の両面に形成されることになるので、透明基板の表面に形成したオーバーコート層は、保護フィルムの貼付等により、透明基板の裏面にオーバーコート層を形成する際に保護する必要がある。ここで、オーバーコート層を形成する際には、透明基板上にオーバーコート層用樹脂組成物を塗布し、加熱乾燥させるのが一般的である。透明基板の裏面へのオーバーコート層用樹脂組成物の塗布時には、保護フィルムによって透明基板の表面に形成したオーバーコート層を保護することができるが、塗布後の加熱乾燥時には、保護フィルムの熱収縮でカールが発生するおそれがあるため、保護フィルムを剥がして加熱乾燥する場合がある。この場合、透明基板の表面に形成したオーバーコート層は装置治具と接触することになるため、オーバーコート層の硬度が低いと、傷が付いてしまう。
したがって、透明基板の両面に透明電極、配線およびオーバーコート層を形成する場合には、オーバーコート層の硬度が特に重要となる。
Recently, studies have been made on forming transparent electrodes and wiring on both sides of a transparent substrate. Since the transparent substrate is light transmissive, when forming transparent electrodes on both sides of the transparent substrate in a pattern, both sides can be patterned simultaneously by the photolithography method, and the position accuracy of the pattern of the transparent electrodes on both sides is increased. Is possible.
In such a case, since the overcoat layer is also formed on both surfaces of the transparent substrate, the overcoat layer formed on the surface of the transparent substrate is formed by applying an overcoat layer on the back surface of the transparent substrate by attaching a protective film or the like. It needs to be protected when forming. Here, when forming an overcoat layer, it is common to apply the resin composition for overcoat layers on a transparent substrate, and to heat-dry. When the resin composition for the overcoat layer is applied to the back surface of the transparent substrate, the overcoat layer formed on the surface of the transparent substrate can be protected by the protective film. In some cases, curling may occur, and the protective film may be peeled off and dried by heating. In this case, since the overcoat layer formed on the surface of the transparent substrate comes into contact with the apparatus jig, if the hardness of the overcoat layer is low, the overcoat layer is damaged.
Therefore, when forming a transparent electrode, wiring, and an overcoat layer on both surfaces of the transparent substrate, the hardness of the overcoat layer is particularly important.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、硬度および密着性に優れ、マイグレーションの抑制が可能なオーバーコート層を最表面に有するタッチパネルセンサを提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and a main object of the present invention is to provide a touch panel sensor having an overcoat layer on the outermost surface, which is excellent in hardness and adhesion and can suppress migration.
上記課題を解決するために、本発明は、透明フィルムと、上記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成された第1透明電極と、上記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成され、上記第1透明電極に接続された第1配線と、上記透明フィルムの一方の面に上記第1透明電極および上記第1配線を覆うように形成された第1オーバーコート層と、上記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成された第2透明電極と、上記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成され、上記第2透明電極に接続された第2配線と、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように形成された第2オーバーコート層とを有するタッチパネルセンサであって、上記第1オーバーコート層は、上記透明フィルムの一方の面に上記第1透明電極および上記第1配線を覆うように形成され、第1密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第1密着層と、上記第1密着層上に形成され、第1硬度層用樹脂を含有する第1硬度層とを有し、上記第2オーバーコート層は、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように形成され、第2密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第2密着層と、上記第2密着層上に形成され、第2硬度層用樹脂を含有する第2硬度層とを有することを特徴とするタッチパネルセンサを提供する。 In order to solve the above problems, the present invention is formed in a pattern on a transparent film, a first transparent electrode formed in a pattern on one surface of the transparent film, and on one surface of the transparent film, A first wiring connected to the first transparent electrode, a first overcoat layer formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring, and the transparent film. A second transparent electrode formed in a pattern on the other surface, a second wiring formed in a pattern on the other surface of the transparent film and connected to the second transparent electrode, and the other of the transparent film A touch panel sensor having a second overcoat layer formed on a surface so as to cover the second transparent electrode and the second wiring, wherein the first overcoat layer is one of the transparent films. Formed on the first adhesive layer, covering the first transparent electrode and the first wiring, containing a first adhesive layer resin and having a migration suppressing function, A first hardness layer containing a resin for one hardness layer, and the second overcoat layer is formed on the other surface of the transparent film so as to cover the second transparent electrode and the second wiring, A second adhesion layer containing a second adhesion layer resin and having a migration suppressing function, and a second hardness layer formed on the second adhesion layer and containing a second hardness layer resin. A touch panel sensor is provided.
本発明によれば、第1オーバーコート層が第1密着層と第1硬度層とが積層されたものであり、第2オーバーコート層が第2密着層と第2硬度層とが積層されたものであることにより、第1密着層および第2密着層には密着性に優れ、マイグレーションの抑制が可能な材料、第1硬度層および第2硬度層には硬度に優れる材料を用いることができ、第1オーバーコート層および第2オーバーコート層を硬度および密着性に優れ、マイグレーションの抑制が可能なものとすることができる。したがって、傷、剥れ、短絡等の発生を防ぎ、安定的な動作が可能なタッチパネルセンサを得ることが可能である。 According to the present invention, the first overcoat layer is a laminate of the first adhesion layer and the first hardness layer, and the second overcoat layer is the laminate of the second adhesion layer and the second hardness layer. Therefore, the first adhesion layer and the second adhesion layer can be made of materials having excellent adhesion and capable of suppressing migration, and the first hardness layer and the second hardness layer can be made of materials having excellent hardness. The first overcoat layer and the second overcoat layer can be excellent in hardness and adhesion and can suppress migration. Therefore, it is possible to obtain a touch panel sensor capable of preventing the occurrence of scratches, peeling, short circuits and the like and capable of stable operation.
上記発明においては、上記第1密着層用樹脂および上記第2密着層用樹脂が熱硬化性樹脂であり、上記第1硬度層用樹脂および上記第2硬度層用樹脂が紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。第1密着層および第2密着層の密着性を向上させることができ、また第1硬度層および第2硬度層の硬度を高めることができるからである。 In the above invention, the first adhesion layer resin and the second adhesion layer resin are thermosetting resins, and the first hardness layer resin and the second hardness layer resin are ultraviolet curable resins. It is preferable. This is because the adhesion of the first adhesion layer and the second adhesion layer can be improved, and the hardness of the first hardness layer and the second hardness layer can be increased.
また本発明は、上述のタッチパネルセンサの製造方法であって、上記透明フィルムの一方の面に上記第1透明電極および上記第1配線を覆うように、第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、第1密着層を形成する第1密着層形成工程と、上記第1密着層形成工程後、上記第1密着層上に第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、光硬化させ、第1硬度層を形成する第1硬度層形成工程と、上記第1硬度層形成工程後、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように、第2熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、第2密着層を形成する第2密着層形成工程と、上記第2密着層形成工程後、上記第2密着層上に第2紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、光硬化させ、第2硬度層を形成する第2硬度層形成工程とを有することを特徴とするタッチパネルセンサの製造方法を提供する。 Moreover, this invention is a manufacturing method of the above-mentioned touchscreen sensor, Comprising: The coating film of a 1st thermosetting resin composition so that the said 1st transparent electrode and said 1st wiring may be covered on one surface of the said transparent film. A first adhesion layer forming step for forming a first adhesion layer, and a coating film of the first ultraviolet curable resin composition on the first adhesion layer after the first adhesion layer formation step. A first hardness layer forming step of forming a first hardness layer, and after the first hardness layer forming step, the second transparent electrode and the second wiring on the other surface of the transparent film A second adhesion layer forming step of forming a second adhesion layer, forming a second adhesion layer, and forming a second adhesion layer after the second adhesion layer formation step, 2 A second UV curable resin composition film is formed on the adhesive layer, photocured, and second hardness Having a second hardness layer forming step of forming a to provide a method for manufacturing a touch panel sensor characterized by.
本発明によれば、第1密着層および第1硬度層を順に積層して第1オーバーコート層を形成し、第2密着層および第2硬度層を順に積層して第2オーバーコート層を形成するので、各層に適した材料を用いることができ、硬度および密着性に優れ、マイグレーションの抑制が可能な第1オーバーコート層および第2オーバーコート層を得ることができる。また本発明によれば、第1密着層および第2密着層に熱硬化性樹脂組成物を用い、第1密着層形成工程、第1硬度層形成工程、第2密着層形成工程および第2硬度層形成工程の順に行うので、第1密着層、第1硬度層および第2密着層に対する硬化のための露光回数を減らすことができ、紫外線による第1密着層、第1硬度層および第2密着層の黄変、密着性の低下、カールの発生等を抑制することができる。したがって、傷、剥れ、短絡等の発生を防ぎ、安定的な動作が可能であるとともに、光学特性の良好なタッチパネルセンサを得ることが可能である。 According to the present invention, the first adhesion layer and the first hardness layer are sequentially laminated to form the first overcoat layer, and the second adhesion layer and the second hardness layer are sequentially laminated to form the second overcoat layer. Therefore, a material suitable for each layer can be used, and a first overcoat layer and a second overcoat layer that are excellent in hardness and adhesion and can suppress migration can be obtained. According to the invention, the thermosetting resin composition is used for the first adhesion layer and the second adhesion layer, and the first adhesion layer forming step, the first hardness layer forming step, the second adhesion layer forming step, and the second hardness. Since the layers are formed in this order, the number of times of exposure for curing the first adhesion layer, the first hardness layer, and the second adhesion layer can be reduced, and the first adhesion layer, the first hardness layer, and the second adhesion by ultraviolet rays. It is possible to suppress yellowing of the layer, deterioration of adhesion, curling, and the like. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of scratches, peeling, short circuits, etc., and to obtain a touch panel sensor that can operate stably and has good optical characteristics.
さらに本発明は、上述のタッチパネルセンサの製造方法であって、上記透明フィルムの一方の面に上記第1透明電極および上記第1配線を覆うように、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して半硬化させる第1硬化工程と、上記第1硬化工程後、半硬化させた上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜上に第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して硬化させる第2硬化工程と、上記第2硬化工程後、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して半硬化させる第3硬化工程と、上記第3硬化工程後、半硬化させた上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜上に第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して硬化させる第4硬化工程とを有し、上記第1硬化工程、上記第2硬化工程、上記第3硬化工程および上記第4硬化工程での露光量を、上記第1硬化工程、上記第2硬化工程、上記第3硬化工程および上記第4硬化工程の合計露光量が上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、上記第2硬化工程、上記第3硬化工程および上記第4硬化工程の合計露光量が上記第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、上記第3硬化工程および上記第4硬化工程の合計露光量が上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、上記第4硬化工程の露光量が上記第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となるように、調整することを特徴とするタッチパネルセンサの製造方法を提供する。 Furthermore, this invention is a manufacturing method of the above-mentioned touch panel sensor, Comprising: The ultraviolet curable resin composition for 1st contact | adherence layers so that the said 1st transparent electrode and said 1st wiring may be covered on one surface of the said transparent film. A first curing step in which the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer is exposed and semi-cured, and the first adhesion that is semi-cured after the first curing step. Forming a coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer on the coating film of the UV curable resin composition for the layer, and semi-curing the coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer; A second curing step of exposing and curing the coating film of the first adhesive layer ultraviolet curable resin composition; and after the second curing step, the second transparent electrode and the second transparent electrode on the other surface of the transparent film. UV curable resin group for the second adhesion layer so as to cover the second wiring A third curing step of forming a coating film of the product and exposing and semi-curing the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer, and the second curing step of semi-curing after the third curing step A coating film of the UV curable resin composition for the second hardness layer is formed on the coating film of the UV curable resin composition for the adhesion layer, and the coating film and the semi-curing of the UV curable resin composition for the second hardness layer are formed. A fourth curing step of exposing and curing the coated film of the ultraviolet curable resin composition for the second adhesion layer, the first curing step, the second curing step, the third curing step, and The exposure amount in the fourth curing step is the total amount of exposure in the first curing step, the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step. More than the complete curing exposure amount of the coating film of the product, the second curing step, the third curing step and The total exposure amount of the fourth curing step is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer, and the total exposure amount of the third curing step and the fourth curing step is the above. Complete curing exposure of the coating film of the UV curable resin composition for the second hardness layer, the exposure amount of the UV curing resin composition for the second hardness layer is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer. Provided is a method for manufacturing a touch panel sensor, which is adjusted so as to be equal to or greater than the amount.
本発明によれば、第1密着層および第1硬度層を順に積層して第1オーバーコート層を形成し、第2密着層および第2硬度層を順に積層して第2オーバーコート層を形成するので、各層に適した材料を用いることができ、硬度および密着性に優れ、マイグレーションの抑制が可能な第1オーバーコート層および第2オーバーコート層を得ることができる。また本発明によれば、透明フィルムが光透過性を有するため、透明フィルムの片面から露光する際には、透明フィルムの露光面とは反対側の面に形成された層も露光されることになるが、第1硬化工程、第2硬化工程、第3硬化工程および第4硬化工程での露光量を上述のように調整するので、紫外線による第1密着層、第1硬度層および第2密着層の黄変、密着性の低下、カールの発生等を抑制することができる。したがって、傷、剥れ、短絡等の発生を防ぎ、安定的な動作が可能であるとともに、光学特性の良好なタッチパネルセンサを得ることが可能である。 According to the present invention, the first adhesion layer and the first hardness layer are sequentially laminated to form the first overcoat layer, and the second adhesion layer and the second hardness layer are sequentially laminated to form the second overcoat layer. Therefore, a material suitable for each layer can be used, and a first overcoat layer and a second overcoat layer that are excellent in hardness and adhesion and can suppress migration can be obtained. Further, according to the present invention, since the transparent film has light transparency, when the exposure is performed from one side of the transparent film, the layer formed on the surface opposite to the exposure surface of the transparent film is also exposed. However, since the exposure amounts in the first curing step, the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step are adjusted as described above, the first adhesion layer, the first hardness layer, and the second adhesion layer using ultraviolet rays are adjusted. It is possible to suppress yellowing of the layer, deterioration of adhesion, curling, and the like. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of scratches, peeling, short circuits, etc., and to obtain a touch panel sensor that can operate stably and has good optical characteristics.
本発明は、最表面に硬度および密着性に優れ、マイグレーションの抑制が可能なオーバーコート層を有するタッチパネルセンサを提供できるといった効果を奏する。 The present invention has an effect that it can provide a touch panel sensor having an overcoat layer that is excellent in hardness and adhesion on the outermost surface and can suppress migration.
以下、本発明のタッチパネルセンサおよびその製造方法について詳細に説明する。 Hereinafter, the touch panel sensor of the present invention and the manufacturing method thereof will be described in detail.
A.タッチパネルセンサ
本発明のタッチパネルセンサは、透明フィルムと、上記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成された第1透明電極と、上記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成され、上記第1透明電極に接続された第1配線と、上記透明フィルムの一方の面に上記第1透明電極および上記第1配線を覆うように形成された第1オーバーコート層と、上記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成された第2透明電極と、上記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成され、上記第2透明電極に接続された第2配線と、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように形成された第2オーバーコート層とを有するタッチパネルセンサであって、上記第1オーバーコート層は、上記透明フィルムの一方の面に上記第1透明電極および上記第1配線を覆うように形成され、第1密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第1密着層と、上記第1密着層上に形成され、第1硬度層用樹脂を含有する第1硬度層とを有し、上記第2オーバーコート層は、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように形成され、第2密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第2密着層と、上記第2密着層上に形成され、第2硬度層用樹脂を含有する第2硬度層とを有することを特徴とするものである。
A. Touch Panel Sensor The touch panel sensor of the present invention is formed in a pattern on the transparent film, the first transparent electrode formed in a pattern on one surface of the transparent film, and the first film on the one surface of the transparent film. A first wiring connected to the transparent electrode; a first overcoat layer formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring; and the other surface of the transparent film. The second transparent electrode formed in a pattern, the second wiring formed in a pattern on the other surface of the transparent film and connected to the second transparent electrode, and the other surface of the transparent film A touch panel sensor having a second transparent electrode and a second overcoat layer formed so as to cover the second wiring, wherein the first overcoat layer includes the transparent film. A first adhesive layer formed on one surface of the rum so as to cover the first transparent electrode and the first wiring, containing a first adhesive layer resin, and having a migration suppressing function; and on the first adhesive layer And the first overcoat layer covers the second transparent electrode and the second wiring on the other surface of the transparent film. A second adhesion layer containing a second adhesion layer resin and having a migration suppressing function, and a second hardness layer formed on the second adhesion layer and containing a second hardness layer resin; It is characterized by having.
まず、本発明のタッチパネルセンサについて図面を参照して説明する。
図1(a)、(b)は本発明のタッチパネルセンサの一例を示す概略平面図であり、図1(a)は透明フィルムの一方の面側から見た平面図、図1(b)透明フィルムの他方の面側から見た平面図、図2は図1(a)、(b)のA−A線断面図である。
図1(a)および図2に例示するように、タッチパネルセンサ1においては、透明フィルム2の一方の面に、第1透明電極3aがストライプ状に形成され、第1透明電極3aの片方の端部に第1配線4aが接続され、第1透明電極3aおよび第1配線4aを覆うように第1オーバーコート層5aが形成されている。この第1オーバーコート層5aは、第1透明電極3aおよび第1配線4aを覆うように形成された第1密着層6aと、第1密着層6a上に形成された第1硬度層7aとを有している。また、第1オーバーコート層5aは、第1配線4aの外部接続領域14aが露出するように透明フィルム2の一方の面にパターン状に形成されている。
同様に、図1(b)および図2に例示するように、透明フィルム2の他方の面には、第2透明電極3bがストライプ状に形成され、第2透明電極3bの片方の端部に第2配線4bが接続され、第2透明電極3bおよび第2配線4bを覆うように第2オーバーコート層5bが形成されている。この第2オーバーコート層5bは、第2透明電極3bおよび第2配線4bを覆うように形成された第2密着層6bと、第2密着層6b上に形成された第2硬度層7bとを有している。また、第2オーバーコート層5bは、第2配線4bの外部接続領域14bが露出するように透明フィルム2の他方の面にパターン状に形成されている。
なお、図1(a)、(b)においては、説明の容易のため、第1オーバーコート層5aおよび第2オーバーコート層5bを一点鎖線で示している。
First, the touch panel sensor of the present invention will be described with reference to the drawings.
1A and 1B are schematic plan views showing an example of a touch panel sensor of the present invention. FIG. 1A is a plan view seen from one surface side of a transparent film, and FIG. 1B is transparent. The top view seen from the other surface side of the film, FIG. 2 is the sectional view on the AA line of FIG. 1 (a), (b).
As illustrated in FIGS. 1A and 2, in the
Similarly, as illustrated in FIGS. 1B and 2, the second
In FIGS. 1A and 1B, the
本願明細書においては、便宜上、透明フィルムの一方の面に形成された透明電極、配線、オーバーコート層、密着層および硬度層をそれぞれ、第1透明電極、第1配線、第1オーバーコート層、第1密着層および第1硬度層と称し、透明フィルムの他方の面に形成された透明電極、配線、オーバーコート層、密着層および硬度層をそれぞれ、第2透明電極、第2配線、第2オーバーコート層、第2密着層および第2硬度層と称する。
なお、本願明細書において、第1透明電極および第2透明電極を単に透明電極、第1配線および第2配線を単に配線、第1オーバーコート層および第2オーバーコート層を単にオーバーコート層、第1密着層および第2密着層を単に密着層、第1硬度層および第2硬度層を単に硬度層と称する場合がある。
In the present specification, for the sake of convenience, the transparent electrode, the wiring, the overcoat layer, the adhesion layer and the hardness layer formed on one surface of the transparent film are respectively the first transparent electrode, the first wiring, the first overcoat layer, The first adhesion layer and the first hardness layer are referred to as the transparent electrode, the wiring, the overcoat layer, the adhesion layer and the hardness layer formed on the other surface of the transparent film, respectively. It is called an overcoat layer, a second adhesion layer, and a second hardness layer.
In the present specification, the first transparent electrode and the second transparent electrode are simply transparent electrodes, the first wiring and the second wiring are simply wirings, the first overcoat layer and the second overcoat layer are simply overcoat layers, In some cases, the first adhesion layer and the second adhesion layer are simply referred to as an adhesion layer, and the first hardness layer and the second hardness layer are simply referred to as a hardness layer.
本発明によれば、オーバーコート層が密着層と硬度層とが積層されたものであるので、密着層には透明フィルム、透明電極および配線との密着性に優れ、マイグレーションの抑制が可能な材料を用いることができ、硬度層には硬度に優れる材料を用いることができる。したがって、オーバーコート層が単一層である場合と比較して、容易に硬度および密着性に優れ、マイグレーションの抑制が可能なオーバーコート層とすることが可能である。 According to the present invention, since the overcoat layer is formed by laminating the adhesion layer and the hardness layer, the adhesion layer has excellent adhesion to the transparent film, the transparent electrode, and the wiring, and can suppress migration. A material having excellent hardness can be used for the hardness layer. Therefore, compared to the case where the overcoat layer is a single layer, it is possible to easily form an overcoat layer that is excellent in hardness and adhesion and can suppress migration.
例えば、オーバーコート層が単一層である場合、硬度を高めるために硬化性に優れた材料を用いると、硬化収縮によって透明フィルム、透明電極または配線との密着性が低下する。一方、密着性を高めようとすると、十分な硬度を得ることが困難となる。
これに対し本発明においては、上述のように、オーバーコート層が密着層と硬度層とが積層されたものであるので、各層に適した材料を用いることができる。したがって、硬度および密着性に優れ、マイグレーションの抑制が可能なオーバーコート層とすることが可能となる。
また、密着層および硬度層の両者は樹脂を含有するので、密着層および硬度層の密着性も十分に高いものとすることができる。
For example, when the overcoat layer is a single layer, if a material having excellent curability is used to increase the hardness, the adhesiveness with the transparent film, the transparent electrode, or the wiring is lowered due to curing shrinkage. On the other hand, when it is going to improve adhesiveness, it will become difficult to obtain sufficient hardness.
On the other hand, in the present invention, as described above, since the overcoat layer is formed by laminating the adhesion layer and the hardness layer, a material suitable for each layer can be used. Therefore, it is possible to provide an overcoat layer that is excellent in hardness and adhesion and can suppress migration.
Moreover, since both the adhesion layer and the hardness layer contain a resin, the adhesion between the adhesion layer and the hardness layer can be sufficiently high.
ここで、タッチパネルセンサにおいては、配線に含まれる金属によりイオンマイグレーションが起こり、配線間で短絡が発生するおそれがある。また、水蒸気等の存在によりイオンマイグレーションを起こす場合があるため、湿度に弱く、電位等により金属イオンが発生しマイグレーションが起こる金属、例えば銀等が配線に含まれる場合、あるいは高湿度環境でタッチパネルセンサの使用が予定される場合等においては、特にイオンマイグレーションが懸念される。
これに対し本発明においては、マイグレーション抑制機能を有する密着層で配線を覆うことによって、イオンマイグレーション現象を良好に防止することができる。さらには、密着層および硬度層が積層されたオーバーコート層で配線を覆うことによって、配線を保護することができ、配線の劣化等を抑制する効果も期待される。
Here, in the touch panel sensor, ion migration may occur due to the metal contained in the wiring, and a short circuit may occur between the wirings. In addition, since ion migration may occur due to the presence of water vapor, etc., the touch panel sensor is sensitive to humidity, and when metal such as silver is generated in the wiring due to the generation of metal ions due to electric potential, etc., or in a high humidity environment In particular, there is a concern about ion migration in cases where the use of is scheduled.
On the other hand, in the present invention, the ion migration phenomenon can be satisfactorily prevented by covering the wiring with an adhesion layer having a migration suppressing function. Furthermore, by covering the wiring with an overcoat layer in which an adhesion layer and a hardness layer are laminated, the wiring can be protected, and an effect of suppressing deterioration of the wiring or the like is also expected.
また、本発明のタッチパネルセンサは、このようなオーバーコート層を有することにより、例えば、タッチパネルセンサの使用時や搬送時、タッチパネルセンサ上に任意の部材を形成する際等に、傷や剥れ等の発生を防ぐことができる。その結果、タッチパネルセンサを構成する透明電極等に傷等が発生するのを防ぐことができ、断線や感度不良の発生を抑制することが可能である。 In addition, the touch panel sensor of the present invention has such an overcoat layer, so that, for example, when the touch panel sensor is used or transported, or when an arbitrary member is formed on the touch panel sensor, scratches, peeling, etc. Can be prevented. As a result, it is possible to prevent scratches or the like from being generated on the transparent electrode or the like that constitutes the touch panel sensor, and it is possible to suppress the occurrence of disconnection or poor sensitivity.
さらに、オーバーコート層を構成する密着層および硬度層が樹脂を含有することにより、オーバーコート層をパターン状に形成することが容易となり、例えば、配線の外部接続領域が露出するようにオーバーコート層を容易にパターン状に形成することができ、配線の外部接続等が容易なタッチパネルセンサとすることができる。 Furthermore, since the adhesion layer and the hardness layer constituting the overcoat layer contain a resin, it becomes easy to form the overcoat layer in a pattern, for example, the overcoat layer so that the external connection region of the wiring is exposed. Can be easily formed in a pattern, and a touch panel sensor can be provided which can be easily connected to an external wiring.
また本発明においては、透明フィルムが光透過性を有するため、透明フィルムの両面にそれぞれパターン状に形成されている第1透明電極および第2透明電極は、フォトリソグラフィ法により同時に形成可能であるので、第1透明電極および第2透明電極のパターンの位置精度が良好であり、微細なパターンを精度良く形成可能である。
さらに、透明フィルムの両面に透明電極および配線がパターン状に形成されているので、従来のように透明フィルムの片面のみに透明電極、配線および絶縁層を積層する場合と比較して層構成を簡素化することができ、タッチパネルセンサの光学特性を高めることができる。
また、透明フィルムを用いるので、タッチパネルセンサにフレキシブル性を付与可能であり、ロールツーロールによる高い生産性を実現可能である。
In the present invention, since the transparent film has optical transparency, the first transparent electrode and the second transparent electrode that are formed in a pattern on both surfaces of the transparent film can be simultaneously formed by photolithography. The position accuracy of the patterns of the first transparent electrode and the second transparent electrode is good, and a fine pattern can be formed with high accuracy.
Furthermore, since the transparent electrodes and wiring are formed in a pattern on both sides of the transparent film, the layer structure is simplified compared to the case where the transparent electrode, wiring and insulating layer are laminated on only one side of the transparent film as in the past. And the optical characteristics of the touch panel sensor can be enhanced.
Moreover, since a transparent film is used, flexibility can be imparted to the touch panel sensor, and high productivity by roll-to-roll can be realized.
以下、本発明のタッチパネルセンサにおける各構成について説明する。 Hereinafter, each structure in the touch-panel sensor of this invention is demonstrated.
1.オーバーコート層
本発明に用いられるオーバーコート層は、透明フィルムの両面に透明電極および配線を覆うように形成されるものであり、透明フィルム上に透明電極および配線を覆うように形成され、密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する密着層と、密着層上に形成され、硬度層用樹脂を含有する硬度層とを有するものである。
以下、オーバーコート層を構成する密着層および硬度層に分けて説明する。
1. Overcoat layer The overcoat layer used in the present invention is formed so as to cover the transparent electrode and the wiring on both surfaces of the transparent film, and is formed on the transparent film so as to cover the transparent electrode and the wiring. The adhesive layer contains a resin for use and has a migration suppressing function, and the hardness layer is formed on the adhesive layer and contains the resin for the hardness layer.
Hereinafter, the adhesion layer and the hardness layer constituting the overcoat layer will be described separately.
(1)密着層
本発明に用いられる密着層は、透明フィルム上に透明電極および配線を覆うように形成されるものであり、密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有するものである。
(1) Adhesion layer The adhesion layer used in the present invention is formed on the transparent film so as to cover the transparent electrode and the wiring, contains an adhesion layer resin, and has a migration suppressing function.
密着層の透明フィルム、透明電極および配線に対する密着力としては、本発明のタッチパネルセンサの使用時や搬送時、タッチパネルセンサ上に任意の部材を形成する際等に、密着層が透明フィルム、透明電極または配線から剥離しない程度であれば特に限定されるものではないが、ASTM D3359で規定する碁盤目テープ法、すなわちカッターで隙間1mmの碁盤目傷を100個付け、粘着テープによる剥離試験を行う方法において、評価結果が4Bもしくは5Bであることが好ましい。密着層の密着力が上述の範囲内であることにより、透明フィルム、透明電極または配線からの剥れをより確実に防ぐことができるからである。 As the adhesion force of the adhesion layer to the transparent film, the transparent electrode and the wiring, the adhesion layer is formed of the transparent film, the transparent electrode, when using the touch panel sensor of the present invention or when transporting, or when forming an arbitrary member on the touch panel sensor. Or, it is not particularly limited as long as it does not peel from the wiring, but a cross-cut tape method defined by ASTM D3359, that is, a method of attaching 100 cross-cuts having a gap of 1 mm with a cutter and performing a peel test with an adhesive tape The evaluation result is preferably 4B or 5B. It is because peeling from a transparent film, a transparent electrode, or wiring can be prevented more reliably when the adhesion strength of the adhesion layer is within the above range.
密着層はマイグレーション抑制機能を有するものであるが、本願明細書において、「マイグレーション抑制機能を有する」とは、イオンマイグレーションが発生しないことをいう。
ここで、イオンマイグレーションの発生の有無は、次の試験方法により評価する。すなわち、(1)タッチパネルセンサを、楠本化成株式会社製の絶縁劣化評価システムSIR−12に接続し、電圧を印加した状態で恒温恒湿槽(恒温恒湿試験機 楠本化成株式会社製 HIFLEX FH14PH)に投入する。この際、恒温恒湿槽は、温度60℃、相対湿度90%RHとする。(2)タッチパネルセンサの表示面側に形成された配線において、互いに隣接する配線間に電位差(3.3V)が発生するように直流電流を印加する。すなわち、互いに隣接する配線に対して、一方端位置の配線から、それぞれ0V、3.3V、0V、3.3V、…の順に、交互に直流電圧を印加する。(3)この状態で、タッチパネルセンサを240時間放置し、上記絶縁劣化評価システムで配線間の絶縁抵抗値をモニタリングする。なお、モニタリングのパターンは、原則、毎秒1回ずつ絶縁抵抗値を測定し、絶縁抵抗値が1.0×106Ω(閾値)を下回ると、0.2秒毎に1回ずつ絶縁抵抗値を測定するようなパターンとする。
イオンマイグレーションが生じれば、配線間の絶縁抵抗値が下がるため、このモニタリングにより、イオンマイグレーションの発生を確認することができる。
上述の試験方法において、(a)絶縁抵抗値が1.0×106Ωを下回った値として測定された場合に、イオンマイグレーションが1回発生したと判定する。(b)絶縁抵抗値が1.0×106Ω以下の測定が積算200回となったときに、測定を中止する。(c)327μA以上の電流(1.0×104Ω以下)が計測され、配線間でショートが確認された場合、測定を中止する。
これらの(a)、(b)および(c)のいずれもが確認されなかった場合を、イオンマイグレーションが発生しないと判定し、すなわち密着層がマイグレーション抑制機能を有することとする。
Although the adhesion layer has a migration suppression function, in this specification, “having a migration suppression function” means that ion migration does not occur.
Here, the presence or absence of the occurrence of ion migration is evaluated by the following test method. That is, (1) a touch panel sensor is connected to an insulation deterioration evaluation system SIR-12 manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., and a constant temperature and humidity chamber is applied with a voltage applied (constant temperature and humidity tester HIFLEX FH14PH manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.) In At this time, the temperature and humidity chamber is set to a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% RH. (2) In the wiring formed on the display surface side of the touch panel sensor, a direct current is applied so that a potential difference (3.3 V) is generated between adjacent wirings. That is, DC voltages are alternately applied to wirings adjacent to each other in the order of 0 V, 3.3 V, 0 V, 3.3 V,. (3) In this state, the touch panel sensor is left for 240 hours, and the insulation resistance value between the wirings is monitored by the insulation deterioration evaluation system. In principle, the monitoring pattern is that the insulation resistance value is measured once every second. If the insulation resistance value falls below 1.0 × 10 6 Ω (threshold), the insulation resistance value is once every 0.2 seconds. The pattern is such that is measured.
If ion migration occurs, the insulation resistance value between the wirings decreases, so that the occurrence of ion migration can be confirmed by this monitoring.
In the test method described above, when (a) the insulation resistance value is measured as a value lower than 1.0 × 10 6 Ω, it is determined that ion migration has occurred once. (B) When the measurement with an insulation resistance value of 1.0 × 10 6 Ω or less reaches a total of 200 times, stop the measurement. (C) When a current of 327 μA or more (1.0 × 10 4 Ω or less) is measured and a short circuit is observed between the wires, the measurement is stopped.
When none of these (a), (b), and (c) is confirmed, it is determined that ion migration does not occur, that is, the adhesion layer has a migration suppressing function.
密着層は光透過性を有するものである。密着層の可視光領域における透過率としては、所望の光透過性を有するオーバーコート層を形成可能であれば特に限定されるものではないが、具体的には、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。上記透過率が上記範囲内であることにより、光透過性に優れたオーバーコート層を形成することができるからである。
ここで、密着層の透過率は、ガラス上に形成した密着層を、JIS K 7105で規定する方法により測定した全光線透過率とする。
The adhesion layer is light transmissive. The transmittance in the visible light region of the adhesion layer is not particularly limited as long as an overcoat layer having a desired light transmittance can be formed. Specifically, it is preferably 80% or more. 90% or more is more preferable. This is because, when the transmittance is within the above range, an overcoat layer excellent in light transmittance can be formed.
Here, let the transmittance | permeability of a contact | adherence layer be the total light transmittance which measured the contact | adherence layer formed on glass by the method prescribed | regulated by JISK7105.
密着層に用いられる密着層用樹脂としては、所望の密着性および光透過性を有する密着層をパターン状に形成できるものであれば特に限定されるものではなく、熱あるいは紫外線や電子線等の放射線の照射により硬化する硬化性樹脂が挙げられる。 The resin for the adhesion layer used for the adhesion layer is not particularly limited as long as the adhesion layer having desired adhesion and light transmittance can be formed in a pattern, and is not limited to heat, ultraviolet rays, electron beams, etc. Examples thereof include curable resins that are cured by irradiation with radiation.
硬化性樹脂としては、分子または単体構造内にアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基等の不飽和二重結合、あるいはエポキシ基等の重合性官能基を含むものを例示することができる。 Examples of the curable resin include those containing an unsaturated double bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group or a vinyl group, or a polymerizable functional group such as an epoxy group in a molecule or a single structure.
また、硬化性樹脂としては、例えば、(1)フルオレン骨格を有するエポキシアクリレート樹脂と多塩基酸無水物との付加生成物、(2)多官能アクリレートモノマー、(3)重合開始剤、および(4)エポキシ基を1分子中に2個以上有するエポキシ樹脂を必須成分とするカルド樹脂(カルドポリマーともいう。)を挙げることができる。カルドポリマーからなる密着層は、例えば透明フィルムの表面に酸化ケイ素等からなる無機層が形成されている場合には、スパッタリング法、イオンプレーティング法もしくは化学気相蒸着法等で形成した際に生じる、無機層の微細なピンホール等の欠陥をカバーし、望ましい水蒸気透過率を維持する効果が期待される。カルドポリマーは、ビスフェノール化合物から誘導されるフルオレン骨格を有する樹脂を含有することが好ましい。カルドポリマーの構造に関する詳細は、特開2005−324406に記載されているため、ここでの説明は省略する。 Examples of the curable resin include (1) an addition product of an epoxy acrylate resin having a fluorene skeleton and a polybasic acid anhydride, (2) a polyfunctional acrylate monomer, (3) a polymerization initiator, and (4) ) A cardo resin (also called a cardo polymer) containing an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule as an essential component can be given. An adhesion layer made of a cardo polymer is produced when formed by sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, or the like, for example, when an inorganic layer made of silicon oxide or the like is formed on the surface of a transparent film. The effect of covering the defects such as fine pinholes in the inorganic layer and maintaining a desirable water vapor transmission rate is expected. The cardo polymer preferably contains a resin having a fluorene skeleton derived from a bisphenol compound. Details regarding the structure of the cardo polymer are described in JP-A-2005-324406, and a description thereof is omitted here.
中でも、密着層用樹脂は、熱硬化性樹脂および紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。
熱硬化性樹脂としては、例えば、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂等が挙げられる。
ウレタン系樹脂およびエポキシ系樹脂は、マイグレーションを効果的に抑制することができるという利点を有する。また、ウレタン系樹脂およびアクリル系樹脂は、黄変しにくいという利点を有する。
Among them, the adhesive layer resin is preferably a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin.
Examples of the thermosetting resin include urethane resins, epoxy resins, melamine resins, polyester resins, and the like.
As an ultraviolet curable resin, acrylic resin etc. are mentioned, for example.
Urethane resins and epoxy resins have the advantage that migration can be effectively suppressed. Urethane resins and acrylic resins have the advantage that they are difficult to yellow.
熱硬化性樹脂を含有する密着層は、熱硬化性樹脂組成物を用い、熱硬化させて形成することができる。熱硬化性樹脂組成物には、硬化剤を含有させることができる。硬化剤としては、公知の硬化剤を用いることができ、例えば、アミン系、ポリアミノアミド系、酸および酸無水物、イミダゾール、メルカプタン、フェノール樹脂等の硬化剤が挙げられる。中でも、耐溶剤性、光学特性、熱特性等の観点から、酸無水物および酸無水物構造を含むポリマーまたは脂肪族アミン類が汎用される。さらに、公知の第三アミン類やイミダゾール類等の硬化触媒を適量加えてもよい。 The adhesion layer containing a thermosetting resin can be formed by thermosetting using a thermosetting resin composition. The thermosetting resin composition can contain a curing agent. As the curing agent, known curing agents can be used, and examples thereof include amine-based, polyaminoamide-based, acid and acid anhydrides, imidazole, mercaptan, and phenol resin. Among these, from the viewpoints of solvent resistance, optical properties, thermal properties, and the like, polymers containing acid anhydrides and acid anhydride structures or aliphatic amines are widely used. Further, an appropriate amount of a curing catalyst such as a known tertiary amine or imidazole may be added.
一方、紫外線硬化性樹脂を含有する密着層は、紫外線硬化性樹脂組成物を用い、光硬化させて形成することができる。紫外線硬化性樹脂組成物には、光反応開始剤等の公知の添加剤を適量含有させることが一般的である。 On the other hand, the adhesion layer containing an ultraviolet curable resin can be formed by photocuring using an ultraviolet curable resin composition. The ultraviolet curable resin composition generally contains an appropriate amount of a known additive such as a photoreaction initiator.
密着層に用いられる硬化性樹脂組成物には、さらにポリマー分子との相互作用を強めるために、アルコキシシランの加水分解物やシランカップリング剤を含有させてもよい。シランカップリング剤としては、分子の一端にメトキシ基、エトキシ基、アセトキシ基等の加水分解可能な反応基を備え、他端にエポキシ基、ビニル基、アミノ基、ハロゲン基、メルカプト基を備えるものが、樹脂硬化反応へ好ましく関与する。具体的には、信越化学工業株式会社製のKBM−503、KBM−803、日本ユニカー株式会社製のA−187等が好ましく用いられる。 The curable resin composition used for the adhesion layer may further contain an alkoxysilane hydrolyzate or a silane coupling agent in order to further enhance the interaction with the polymer molecules. As a silane coupling agent, one having a hydrolyzable reactive group such as methoxy group, ethoxy group or acetoxy group at one end of the molecule and an epoxy group, vinyl group, amino group, halogen group or mercapto group at the other end Is preferably involved in the resin curing reaction. Specifically, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBM-503, KBM-803, Nippon Unicar Co., Ltd. A-187, etc. are used preferably.
中でも、密着層用樹脂は熱硬化性樹脂であることが好ましい。硬化収縮による密着性の低下やカールの発生を抑制することができ、密着性を向上させることができるからである。また、密着層に熱硬化性樹脂を用いることにより、密着層および硬度層を形成する際の硬化のための露光回数を減らすことができ、紫外線照射による密着層および硬度層の黄変や密着性の低下、さらにはカールの発生を抑制することができるからである。 Among these, the adhesive layer resin is preferably a thermosetting resin. This is because a decrease in adhesion and curling due to curing shrinkage can be suppressed, and the adhesion can be improved. In addition, by using a thermosetting resin for the adhesion layer, the number of times of exposure for curing when forming the adhesion layer and the hardness layer can be reduced, and yellowing and adhesion of the adhesion layer and the hardness layer due to ultraviolet irradiation can be reduced. This is because it is possible to suppress the decrease in the thickness and the occurrence of curling.
特に、密着層用樹脂はウレタン系樹脂であることが好ましい。密着層がウレタン系樹脂を含むことで、マイグレーションを効果的に抑制することができるとともに、密着層を黄変しにくくすることができるからである。 In particular, the adhesive layer resin is preferably a urethane resin. This is because, when the adhesion layer contains a urethane-based resin, migration can be effectively suppressed and the adhesion layer can be made difficult to yellow.
また、第1密着層と第2密着層とは、互いに同種の硬化性樹脂から構成されていてもよく、異種の硬化性樹脂が用いられていてもよい。 Moreover, the 1st contact | adherence layer and the 2nd contact | adherence layer may be comprised from the mutually same kind of curable resin, and a different kind of curable resin may be used.
密着層の配置としては、本発明のタッチパネルセンサにおいて接触位置を安定的に検出でき、かつ、透明フィルム、透明電極および配線を安定的に保護することができれば特に限定されるものではないが、後工程の実施容易化の観点から、配線の外部接続領域が露出するように、密着層が透明フィルム上にパターン状に形成されていることが好ましい。このような構成とすることにより、透明フィルム、透明電極および配線を安定的に保護し、本発明のタッチパネルセンサを安定的に動作させることが容易だからである。 The arrangement of the adhesion layer is not particularly limited as long as it can stably detect the contact position in the touch panel sensor of the present invention and can stably protect the transparent film, the transparent electrode, and the wiring. From the viewpoint of facilitating the implementation of the process, it is preferable that the adhesion layer is formed in a pattern on the transparent film so that the external connection region of the wiring is exposed. This is because, with such a configuration, it is easy to stably protect the transparent film, the transparent electrode, and the wiring, and to stably operate the touch panel sensor of the present invention.
密着層の厚みとしては、所望の密着性を発揮することが可能であれば特に限定されるものではなく、例えば0.5μm〜20μm程度とすることができる。
なお、密着層の厚みとは、透明電極表面から密着層の表面までの距離をいう。
The thickness of the adhesion layer is not particularly limited as long as desired adhesion can be exhibited, and can be, for example, about 0.5 μm to 20 μm.
The thickness of the adhesion layer refers to the distance from the surface of the transparent electrode to the surface of the adhesion layer.
密着層の形成方法としては、密着層をパターン状に形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、例えば、透明フィルム上に上記密着層用樹脂を含有する密着層用樹脂組成物をパターン状に塗布し、硬化させる方法を適用することができる。密着層用樹脂組成物をパターン状に塗布する方法としては、例えば、スクリーン印刷法や、密着層を形成しない領域をマスキングして、スプレイ法、マイクログラビア法等により塗布する方法等が挙げられる。また、密着層用樹脂組成物が感光性を有する場合には、透明フィルムの略全面に上記密着層用樹脂を含有する密着層用樹脂組成物を塗布した後、フォトリソグラフィ法によりパターニングすることができる。密着層用樹脂組成物を略全面に塗布する方法としては、例えば、スピンコート法等が挙げられる。 The method for forming the adhesion layer is not particularly limited as long as the adhesion layer can be formed in a pattern. For example, the adhesion layer resin composition containing the adhesion layer resin is patterned on a transparent film. The method of apply | coating to a shape and hardening can be applied. Examples of the method for applying the resin composition for the adhesion layer in a pattern include a screen printing method, a method in which a region where the adhesion layer is not formed is masked, and a coating method using a spray method, a microgravure method, or the like. When the adhesive layer resin composition has photosensitivity, the adhesive layer resin composition containing the adhesive layer resin is applied to substantially the entire surface of the transparent film, and then patterned by a photolithography method. it can. Examples of the method of applying the adhesive layer resin composition on substantially the entire surface include a spin coating method.
(2)硬度層
本発明に用いられる硬度層は、上記密着層上に形成され、硬度層用樹脂を含有するものである。
(2) Hardness layer The hardness layer used for this invention is formed on the said contact | adherence layer, and contains resin for hardness layers.
硬度層の鉛筆硬度としては、本発明のタッチパネルセンサの使用時や搬送時、タッチパネルセンサ上に任意の部材を形成する際等に、タッチパネルセンサを傷および剥離の少ないものとすることができれば特に限定されるものではないが、HB以上であることが好ましく、中でも2H以上であることが好ましい。鉛筆硬度が上述の範囲であることにより、硬度により優れたものとすることができ、本発明のタッチパネルセンサを傷、剥れの少ないものとすることができるからである。なお、硬度層の鉛筆硬度の上限としては特に限定されないが、通常6H以下である。
ここで、鉛筆硬度の測定方法としては、JIS K 5600−5−4の規格に則り、ガラス上に製膜したレジストについて測定を行う方法を適用することができる。
The pencil hardness of the hardness layer is particularly limited as long as the touch panel sensor can be less scratched and peeled when the touch panel sensor of the present invention is used or transported, or when an arbitrary member is formed on the touch panel sensor. However, it is preferably HB or higher, and more preferably 2H or higher. This is because when the pencil hardness is in the above range, the hardness can be improved, and the touch panel sensor of the present invention can be less scratched and peeled. In addition, although it does not specifically limit as an upper limit of the pencil hardness of a hardness layer, Usually, it is 6H or less.
Here, as a method for measuring the pencil hardness, a method for measuring a resist formed on glass in accordance with the standard of JIS K 5600-5-4 can be applied.
硬度層は光透過性を有するものである。硬度層の可視光領域における透過率としては、所望の光透過性を有するオーバーコート層を形成可能であれば特に限定されるものではないが、具体的には、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。上記透過率が上記範囲であることにより、光透過性に優れたオーバーコート層を形成することができるからである。
なお、硬度層の透過率の測定方法については、上記密着層の透過率の測定方法と同様とすることができる。
The hardness layer is light transmissive. The transmittance in the visible light region of the hardness layer is not particularly limited as long as an overcoat layer having a desired light transmittance can be formed. Specifically, it is preferably 80% or more. 90% or more is more preferable. This is because when the transmittance is in the above range, an overcoat layer having excellent light transmittance can be formed.
The method for measuring the transmittance of the hardness layer can be the same as the method for measuring the transmittance of the adhesion layer.
硬度層に用いられる硬度層用樹脂としては、所望の硬度および光透過性を有する硬度層をパターン状に形成できるものであれば特に限定されるものではなく、熱あるいは紫外線や電子線等の放射線の照射により硬化する硬化性樹脂が挙げられる。
なお、硬化性樹脂については、上記密着層の項に記載したものと同様とすることができる。
The resin for the hardness layer used for the hardness layer is not particularly limited as long as it can form a hardness layer having desired hardness and light transmittance in a pattern, and heat, radiation such as ultraviolet rays and electron beams, etc. A curable resin that is cured by irradiation of the above.
The curable resin can be the same as that described in the section of the adhesion layer.
中でも、硬度層用樹脂は紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。より硬度に優れた硬度層を形成できるからである。また、パターン状の硬度層を容易に形成することができるからである。 Especially, it is preferable that resin for hardness layers is an ultraviolet curable resin. This is because a hardness layer having higher hardness can be formed. Moreover, it is because a pattern-like hardness layer can be formed easily.
特に、硬度層用樹脂はアクリル系樹脂であることが好ましい。硬度層がアクリル系樹脂を含むことで、硬度層を黄変しにくくすることができるからである。また、アクリロイル基を含むアクリル系樹脂は、硬化反応に優れ好ましい。 In particular, the hardness layer resin is preferably an acrylic resin. It is because a hardness layer can make it hard to yellowing because a hardness layer contains acrylic resin. An acrylic resin containing an acryloyl group is excellent in curing reaction and is preferable.
また、第1硬度層と第2硬度層とは、互いに同種の硬化性樹脂から構成されていてもよく、異種の硬化性樹脂が用いられていてもよい。 Further, the first hardness layer and the second hardness layer may be made of the same kind of curable resin, or different kinds of curable resins may be used.
硬度層の配置としては、本発明のタッチパネルセンサにおいて接触位置を安定的に検出でき、かつ、透明フィルム、透明電極および配線を安定的に保護することができれば特に限定されるものではないが、上記密着層と同様に、配線の外部接続領域が露出するように、硬度層がパターン状に形成されていることが好ましい。 The arrangement of the hardness layer is not particularly limited as long as the contact position can be stably detected in the touch panel sensor of the present invention and the transparent film, the transparent electrode and the wiring can be stably protected. Similar to the adhesion layer, the hardness layer is preferably formed in a pattern so that the external connection region of the wiring is exposed.
硬度層の厚みとしては、所望の硬度を発揮することが可能であれば特に限定されるものではなく、例えば0.5μm〜20μm程度とすることができる。
なお、硬度層の厚みとは、密着層の表面から硬度層の表面までの距離をいう。
The thickness of the hardness layer is not particularly limited as long as a desired hardness can be exhibited, and can be, for example, about 0.5 μm to 20 μm.
The thickness of the hardness layer refers to the distance from the surface of the adhesion layer to the surface of the hardness layer.
硬度層の形成方法としては、硬度層をパターン状に形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、上記密着層の形成方法と同様とすることができる。 The method for forming the hardness layer is not particularly limited as long as the hardness layer can be formed in a pattern, and can be the same as the method for forming the adhesion layer.
(3)オーバーコート層
本発明に用いられるオーバーコート層の配置としては、本発明のタッチパネルセンサにおいて接触位置を安定的に検出でき、かつ、透明フィルム、透明電極および配線を安定的に保護することができれば特に限定されるものではないが、上述したように、配線の外部接続領域が露出するように、オーバーコート層がパターン状に形成されていることが好ましい。
(3) Overcoat layer As an arrangement of the overcoat layer used in the present invention, it is possible to stably detect the contact position in the touch panel sensor of the present invention and to stably protect the transparent film, the transparent electrode and the wiring. However, as described above, it is preferable that the overcoat layer is formed in a pattern so that the external connection region of the wiring is exposed.
2.透明フィルム
本発明に用いられる透明フィルムは、透明電極、配線およびオーバーコート層を支持するものである。
2. Transparent film The transparent film used for this invention supports a transparent electrode, wiring, and an overcoat layer.
透明フィルムとしては、一般的にタッチパネルに用いられる透明フィルムと同様とすることができ、例えば樹脂フィルムが挙げられる。樹脂フィルムでは、軽量化が可能であり、また本発明のタッチパネルセンサにフレキシブル性を付与可能である。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)等のポリエチレンフィルム、あるいはポリエーテルサルフォンフィルム(PESフィルム)等のポリエステルフィルムの他、ポリメチルメタクリレート等のアクリル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、もしくはシンジオタクティック・ポリスチレン等、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、フッ素樹脂、もしくはポリエーテルニトリル等、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリシクロヘキセン、もしくはポリノルボルネン系樹脂等、または、ポリサルホン、ポリサルホン、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、もしくは熱可塑性ポリイミド等からなるフィルムを挙げることができる。また、TACフィルムやCOPフィルムを用いてもよい。 As a transparent film, it can be made to be the same as that of the transparent film generally used for a touchscreen, for example, a resin film is mentioned. With the resin film, the weight can be reduced, and flexibility can be imparted to the touch panel sensor of the present invention. Examples of the resin film include polyethylene films such as polyethylene terephthalate film (PET film), polyester films such as polyethersulfone film (PES film), acrylics such as polymethyl methacrylate, polyamide, polyacetal, and polybutylene terephthalate. , Polyethylene naphthalate, triacetyl cellulose, syndiotactic polystyrene, etc., polyphenylene sulfide, polyether ketone, polyether ether ketone, fluororesin, polyether nitrile, etc., polycarbonate, modified polyphenylene ether, polycyclohexene, or polynorbornene Resin, polysulfone, polysulfone, polyarylate, polyamide Bromide, polyetherimide, or can be given a film made of a thermoplastic polyimide. Further, a TAC film or a COP film may be used.
また、透明フィルムは、樹脂フィルムの表面に、有機層からなるアンダーコート層や、酸化ケイ素、酸化ニオブ等からなる屈折率調整層等が形成されたものであってもよい。 Further, the transparent film may be formed by forming an undercoat layer made of an organic layer, a refractive index adjusting layer made of silicon oxide, niobium oxide, or the like on the surface of the resin film.
透明フィルムの光透過性としては、適宜決定することができる。
透明フィルムの厚みは、透明電極、配線およびオーバーコート層を支持できれば特に限定されないが、一般的には20μm〜1500μm程度である。
The light transmittance of the transparent film can be appropriately determined.
Although the thickness of a transparent film will not be specifically limited if a transparent electrode, wiring, and an overcoat layer can be supported, Generally it is about 20 micrometers-about 1500 micrometers.
3.透明電極
本発明に用いられる透明電極は、透明フィルムの両面にパターン状に形成されるものである。
3. Transparent electrode The transparent electrode used for this invention is formed in a pattern form on both surfaces of a transparent film.
透明電極は、一般的には、タッチパネルセンサの使用者から視認されるアクティブエリア内に形成される。したがって、透明電極は、光透過性の導電性材料で形成される。光透過性の導電性材料としては、例えば、インジウム錫オキサイド(ITO)、酸化インジウム、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)等の酸化インジウム系材料、あるいは、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の金属酸化物、ポリアニリン、ポリアセチレン等の導電性高分子材料等を用いることができる。また、第1透明電極と第2透明電極とは、互いに同種の導電性材料から構成されていてもよく、異種の導電性材料が用いられていてもよい。 The transparent electrode is generally formed in an active area visually recognized by a user of the touch panel sensor. Therefore, the transparent electrode is formed of a light transmissive conductive material. Examples of the light-transmitting conductive material include indium oxide-based materials such as indium tin oxide (ITO), indium oxide, and indium zinc oxide (IZO), or tin oxide (SnO 2 ) and zinc oxide (ZnO). Conductive polymer materials such as metal oxides, polyaniline, and polyacetylene can be used. The first transparent electrode and the second transparent electrode may be made of the same type of conductive material, or different types of conductive materials may be used.
透明電極のパターン形状としては、タッチパネルセンサとして機能しうる透明電極のパターン形状を適宜選択することができ、例えば、ストライプ形状、菱形形状等の任意のパターン形状とすることができる。 As the pattern shape of the transparent electrode, a pattern shape of the transparent electrode that can function as a touch panel sensor can be appropriately selected, and for example, an arbitrary pattern shape such as a stripe shape or a rhombus shape can be used.
透明電極の配置としては、一般的なタッチパネルセンサに用いられる透明電極と同様とすることができ、上述のように透明電極はアクティブエリア内に形成される。また、第1透明電極および第2透明電極の配置としては、タッチパネルセンサとして機能しうる配置であればよく、例えば、第1透明電極の延在方向と第2透明電極の延在方向とが略垂直になるように、透明フィルムの両面に透明電極を形成することができる。 The arrangement of the transparent electrode can be the same as the transparent electrode used in a general touch panel sensor, and the transparent electrode is formed in the active area as described above. Further, the arrangement of the first transparent electrode and the second transparent electrode may be any arrangement that can function as a touch panel sensor. For example, the extending direction of the first transparent electrode and the extending direction of the second transparent electrode are substantially the same. Transparent electrodes can be formed on both sides of the transparent film so as to be vertical.
透明電極の厚みは、特に限定されるものではなく、透明電極の形成方法等に応じて適宜選択される。例えば、透明電極をフォトリソグラフィ法によりパターニングする場合には、厚みは10nm〜500nm程度とすることができる。 The thickness of the transparent electrode is not particularly limited, and is appropriately selected according to the method for forming the transparent electrode. For example, when the transparent electrode is patterned by photolithography, the thickness can be about 10 nm to 500 nm.
透明電極の形成方法としては、一般的なタッチパネルセンサに用いられる透明電極と同様とすることができる。本発明においては、透明フィルムが光透過性を有するため、透明フィルムの両面に透明電極をパターン状に形成する際には、フォトリソグラフィ法により両面同時にパターニング可能である。そのため、第1透明電極および第2透明電極のパターンの位置精度が良好であり、微細なパターンを精度良く形成可能である。 The method for forming the transparent electrode can be the same as the transparent electrode used in a general touch panel sensor. In the present invention, since the transparent film has light transmittance, when the transparent electrodes are formed in a pattern on both surfaces of the transparent film, both surfaces can be patterned simultaneously by a photolithography method. Therefore, the positional accuracy of the patterns of the first transparent electrode and the second transparent electrode is good, and a fine pattern can be formed with high accuracy.
4.配線
本発明に用いられる配線は、透明フィルムの両面にパターン状に形成され、透明電極に接続されるものである。
配線は、透明電極および外部回路間において電気的流通を可能とする配線であり、通常、透明電極からの電流を外部に取り出すための配線であり、一般的なタッチパネルセンサにおける取り出し配線や金属配線等を含むものである。
4). Wiring The wiring used for this invention is formed in a pattern form on both surfaces of a transparent film, and is connected to a transparent electrode.
The wiring is a wiring that enables electrical distribution between the transparent electrode and the external circuit, and is usually a wiring for taking out the current from the transparent electrode to the outside. Is included.
配線は、一般的には、タッチパネルセンサの使用者から視認されるアクティブエリアの外側に形成される。したがって、配線を構成する材料は、導電性材料であればよく、光透過性の有無は問わない。具体的には、高い導電性を有する銀や銅等の金属材料が好ましく用いられる。より具体的には、配線を構成する金属材料としては、金属単体、金属の複合体、金属と金属化合物の複合体、金属合金を挙げることができる。金属単体としては、銀、銅、金、クロム、プラチナ、アルミニウムの単体等を例示することができる。金属の複合体としては、MAM(Mo−Al−Mo、すなわちモリブデン・アルミニウム・モリブデンの3層構造体)等を挙げることができる。金属と金属化合物の複合体としては、酸化クロム/クロム積層体等を例示することができる。金属合金としては、銀合金や銅合金が汎用される。また、金属合金としては、APC(Au・Pd・Cu、すなわち銀・パラジウム・銅)等を例示することができる。
また、配線を構成する金属材料には、適宜、樹脂組成物が混在してもよい。
また、スクリーン印刷等の印刷方法により配線を形成する場合には、配線の形成材料として、数十nm〜数μmの粒径の銀や銅等の金属粒子と樹脂バインダとを含有し、溶媒を用いて適度に調製された金属粒子含有ペーストが汎用される。樹脂バインダとしては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン等の単体あるいは混合物が用いられる。
The wiring is generally formed outside an active area that is visually recognized by a user of the touch panel sensor. Therefore, the material constituting the wiring may be a conductive material, and may or may not be light transmissive. Specifically, a metal material such as silver or copper having high conductivity is preferably used. More specifically, examples of the metal material constituting the wiring include a simple metal, a composite of metal, a composite of metal and metal compound, and a metal alloy. Examples of the simple metal include silver, copper, gold, chromium, platinum, and aluminum. Examples of the metal composite include MAM (Mo—Al—Mo, that is, a three-layer structure of molybdenum, aluminum, and molybdenum). Examples of the composite of metal and metal compound include a chromium oxide / chromium laminate. As the metal alloy, a silver alloy or a copper alloy is generally used. Moreover, APC (Au * Pd * Cu, ie, silver * palladium * copper) etc. can be illustrated as a metal alloy.
In addition, a resin composition may be appropriately mixed in the metal material constituting the wiring.
In addition, when wiring is formed by a printing method such as screen printing, it contains metal particles such as silver or copper having a particle diameter of several tens of nanometers to several μm and a resin binder as a wiring forming material, and a solvent is used. A metal particle-containing paste appropriately prepared by use is widely used. As the resin binder, for example, a single substance or a mixture of acrylic resin, epoxy resin, polyester resin, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polystyrene, or the like is used.
なお、湿度の影響を受けやすく、電位等により金属イオンが発生してマイグレーションが起こりやすい材料、例えば、銅、銀、アルミニウム、モリブデン、タンタル、チタン、タングステン等が配線に含まれる場合には、上述したように水蒸気等の存在によりイオンマイグレーションが起こるおそれがあるが、本発明においては、密着層がマイグレーション抑制機能を有するので、効果的にマイグレーションの発生を抑制することができる。 Note that when the wiring includes a material that is easily affected by humidity and is likely to undergo migration due to potential generation of metal ions, such as copper, silver, aluminum, molybdenum, tantalum, titanium, tungsten, etc. As described above, ion migration may occur due to the presence of water vapor or the like, but in the present invention, since the adhesion layer has a migration suppressing function, the occurrence of migration can be effectively suppressed.
配線は、その表面がUVオゾンや酸素プラズマ等の表面処理等が施されたものであってもよいが、上述のように本発明における密着層は配線との間で高い密着性を発揮するので、これらの処理を不要とすることができる。 The wiring may have a surface that has been subjected to surface treatment such as UV ozone or oxygen plasma, but as described above, the adhesion layer in the present invention exhibits high adhesion to the wiring. These processes can be made unnecessary.
配線の配置としては、一般的なタッチパネルセンサに用いられる配線と同様とすることができ、上述のように配線はアクティブエリアの外側に形成される。 The arrangement of the wiring can be the same as that used for a general touch panel sensor, and the wiring is formed outside the active area as described above.
配線の厚みおよび幅寸法は、特に限定されるものではなく、配線の形成方法等に応じて適宜調整される。例えば、配線をフォトリソグラフィ法によりパターニングする場合には、厚みは10nm〜500nm程度、幅寸法は5μm〜200μm程度とすることができる。また、配線をスクリーン印刷等の印刷法によりパターン状に形成する場合には、厚みは5μm〜20μm程度、幅寸法は20μm〜300μm程度とすることができる。 The thickness and width dimension of the wiring are not particularly limited, and are appropriately adjusted depending on the wiring forming method and the like. For example, when the wiring is patterned by photolithography, the thickness can be about 10 nm to 500 nm, and the width can be about 5 μm to 200 μm. When the wiring is formed in a pattern by a printing method such as screen printing, the thickness can be about 5 μm to 20 μm and the width can be about 20 μm to 300 μm.
配線の形成方法としては、一般的なタッチパネルセンサに用いられる配線と同様とすることができる。例えば、まず、透明フィルム上に透明電極用導電層および配線用導電層が順に積層された積層体上にレジスト層を形成し、パターン露光および現像した後、配線用導電層および透明電極用導電層を一括でエッチングし、レジスト層を除去し、次いで、アクティブエリア以外の領域にさらにレジスト層を形成し、アクティブエリア内の透明電極用導電層上に残存する配線用導電層をエッチングする方法が挙げられる。 The wiring formation method can be the same as the wiring used for a general touch panel sensor. For example, first, a resist layer is formed on a laminate in which a transparent electrode conductive layer and a wiring conductive layer are sequentially stacked on a transparent film, and after pattern exposure and development, a wiring conductive layer and a transparent electrode conductive layer are formed. Are etched at once, the resist layer is removed, a resist layer is further formed in a region other than the active area, and the conductive layer for wiring remaining on the transparent electrode conductive layer in the active area is etched. It is done.
5.用途
本発明のタッチパネルセンサの用途としては、例えば、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置を挙げることができる。
5. Uses Examples of the use of the touch panel sensor of the present invention include display devices such as liquid crystal display devices and organic electroluminescence display devices.
B.タッチパネルセンサの製造方法
本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、オーバーコート層の形成工程に応じて2つの実施態様を有する。以下、各実施態様に分けて説明する。
B. Manufacturing method of touch panel sensor The manufacturing method of the touch panel sensor of the present invention has two embodiments according to the formation process of an overcoat layer. In the following, each embodiment will be described separately.
1.第1実施態様
本実施態様のタッチパネルセンサの製造方法は、上述のタッチパネルセンサの製造方法であって、上記透明フィルムの一方の面に上記第1透明電極および上記第1配線を覆うように、第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、第1密着層を形成する第1密着層形成工程と、上記第1密着層形成工程後、上記第1密着層上に第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、光硬化させ、第1硬度層を形成する第1硬度層形成工程と、上記第1硬度層形成工程後、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように、第2熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、第2密着層を形成する第2密着層形成工程と、上記第2密着層形成工程後、上記第2密着層上に第2紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、光硬化させ、第2硬度層を形成する第2硬度層形成工程とを有することを特徴とする。
1. 1st embodiment The manufacturing method of the touch-panel sensor of this embodiment is a manufacturing method of the above-mentioned touch-panel sensor, Comprising: 1st surface of the said transparent film is covered so that the said 1st transparent electrode and the said 1st wiring may be covered. A first adhesive layer forming step of forming a first adhesive layer by forming a coating film of 1 thermosetting resin composition, thermosetting, and after the first adhesive layer forming step, the first adhesive layer is formed on the first adhesive layer; (1) A first hardness layer forming step of forming a coating film of an ultraviolet curable resin composition, photocuring and forming a first hardness layer; and after the first hardness layer forming step, on the other surface of the transparent film A second adhesion layer forming step of forming a second adhesion layer by forming a coating film of the second thermosetting resin composition so as to cover the second transparent electrode and the second wiring, and thermosetting the coating film; After the second adhesion layer forming step, the second ultraviolet curable resin is formed on the second adhesion layer. And a second hardness layer forming step of forming a second hardness layer by forming a coating film of the composition and photocuring the coating film.
本実施態様のタッチパネルセンサの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図3(a)〜(e)は、本実施態様のタッチパネルセンサの製造方法の一例を示す工程図である。
まず、図3(a)に示すように、一方の面に第1透明電極3aおよび第1配線4aがパターン状に形成され、他方の面に第2透明電極3bおよび第2配線(図示なし)がパターン状に形成された透明フィルム2を準備する。
次に、図示しないが、透明フィルム2の一方の面に第1透明電極3aおよび第1配線4aを覆うように、第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、図3(b)に示すように、第1密着層6aを形成する(第1密着層形成工程)。次いで、図3(c)に示すように、第1密着層6a上に第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜17Aを形成し、紫外線21を照射して光硬化させ、第1硬度層を形成する(第1硬度層形成工程)。これにより、図3(d)に示すように、透明フィルム2の一方の面に第1密着層6aおよび第1硬度層7aが順に積層された第1オーバーコート層5aが形成される。
次に、図示しないが、透明フィルム2の他方の面に第2透明電極3bおよび第2配線(図示なし)を覆うように、第2熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、図3(d)に示すように、第2密着層6bを形成する(第2密着層形成工程)。次いで、図3(e)に示すように、第2密着層6b上に第2紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜17Bを形成し、紫外線21を照射して光硬化させ、第2硬度層を形成する(第2硬度層形成工程)。これにより、図2に例示するように、透明フィルム2の他方の面に第2密着層6bおよび第2硬度層7bが順に積層された第2オーバーコート層5bが形成される。
The manufacturing method of the touch panel sensor of this embodiment will be described with reference to the drawings. 3A to 3E are process diagrams showing an example of a method for manufacturing a touch panel sensor according to the present embodiment.
First, as shown in FIG. 3A, the first
Next, although not shown in the drawing, a coating film of the first thermosetting resin composition is formed on one surface of the
Next, although not shown, a coating film of the second thermosetting resin composition is formed on the other surface of the
本実施態様においては、第1密着層および第2密着層を熱硬化性樹脂組成物を用いて形成し、第1密着層形成工程、第1硬度層形成工程、第2密着層形成工程および第2硬度層形成工程の順に行うので、第1密着層、第1硬度層および第2密着層に対する硬化のための露光回数を減らすことができる。したがって、紫外線照射による第1密着層、第1硬度層および第2密着層の黄変や密着性の低下、さらにはカールの発生を抑制することができる。 In this embodiment, the first adhesion layer and the second adhesion layer are formed using the thermosetting resin composition, and the first adhesion layer forming step, the first hardness layer forming step, the second adhesion layer forming step, and the first Since it performs in order of 2 hardness layer formation process, the frequency | count of exposure for hardening with respect to a 1st adhesion layer, a 1st hardness layer, and a 2nd adhesion layer can be reduced. Therefore, yellowing of the first adhesion layer, the first hardness layer, and the second adhesion layer due to ultraviolet irradiation, a decrease in adhesion, and the occurrence of curling can be suppressed.
ここで、仮に、第1硬度層および第2硬度層だけでなく、第1密着層および第2密着層も紫外線硬化性樹脂組成物を用いて形成する場合には、第1密着層、第1硬度層、第2密着層および第2硬度層をそれぞれ形成する際に硬化のための露光が行われることになる。この際、透明フィルムが光透過性を有するため、透明フィルムの片面から露光する際には、透明フィルムの露光面とは反対側の面に形成された層も露光されることになる。したがって、このような場合には、第1密着層には露光が4回行われ、第1硬度層および第2密着層の形成順によって、第1硬度層には露光が2回もしくは3回、第2密着層には露光が2回もしくは3回行われることになる。そのため、紫外線照射による第1密着層、第1硬度層および第2密着層の劣化が懸念される。
これに対し本実施態様においては、密着層を熱硬化性樹脂組成物を用いて形成するので、密着層および硬度層を形成する際の露光回数を減らすことができ、第1密着層への露光は2回、第1硬度層への露光は2回、第2密着層への露光は1回のみとなり、紫外線照射による黄変や密着性の低下、カールの発生を抑制することができるのである。
Here, if not only the first hardness layer and the second hardness layer but also the first adhesion layer and the second adhesion layer are formed using the ultraviolet curable resin composition, the first adhesion layer, the first adhesion layer, When the hardness layer, the second adhesion layer, and the second hardness layer are formed, exposure for curing is performed. At this time, since the transparent film has light transmittance, when the exposure is performed from one side of the transparent film, the layer formed on the surface opposite to the exposure surface of the transparent film is also exposed. Therefore, in such a case, the first adhesion layer is exposed four times, and depending on the order of formation of the first hardness layer and the second adhesion layer, the first hardness layer is exposed twice or three times, The second adhesion layer is exposed twice or three times. Therefore, there is a concern about deterioration of the first adhesion layer, the first hardness layer, and the second adhesion layer due to ultraviolet irradiation.
On the other hand, in this embodiment, since the adhesion layer is formed using the thermosetting resin composition, the number of exposures when forming the adhesion layer and the hardness layer can be reduced, and exposure to the first adhesion layer is performed. Is twice, the exposure to the first hardness layer is twice, and the second adhesion layer is only exposed once, and it is possible to suppress yellowing, decrease in adhesion and curling due to ultraviolet irradiation. .
また、仮に、第1密着層形成工程、第2密着層形成工程、第1硬度層形成工程および第2硬度層形成工程の順に行う場合には、第2密着層には硬化のための露光が2回行われることになる。
これに対し本実施態様においては、第1密着層形成工程、第1硬度層形成工程、第2密着層形成工程および第2硬度層形成工程の順に行うので、第2密着層には硬化のための露光が1回のみとなり、紫外線照射による第2密着層の黄変や密着性の低下、カールの発生をより一層抑制することができるのである。
Also, if the first adhesion layer forming step, the second adhesion layer forming step, the first hardness layer forming step, and the second hardness layer forming step are performed in this order, the second adhesion layer is exposed for curing. It will be done twice.
On the other hand, in this embodiment, since the first adhesion layer forming step, the first hardness layer forming step, the second adhesion layer forming step, and the second hardness layer forming step are performed in this order, the second adhesion layer is cured. This exposure is performed only once, and it is possible to further suppress the yellowing of the second adhesion layer, the decrease in adhesion, and the occurrence of curling due to ultraviolet irradiation.
また本実施態様においては、密着層に熱硬化性樹脂組成物を用いるので、硬化収縮による密着性の低下やカールの発生を抑制することができ、密着性を向上させることができる。さらに、硬度層に紫外線硬化性樹脂組成物を用いるので、硬度を高めることができる。 Moreover, in this embodiment, since a thermosetting resin composition is used for the adhesion layer, it is possible to suppress adhesion degradation and curling due to curing shrinkage, and to improve adhesion. Furthermore, since the ultraviolet curable resin composition is used for the hardness layer, the hardness can be increased.
さらに本実施態様においては、密着層および硬度層を順に積層するので、優れた硬度および密着性を有し、マイグレーションの抑制が可能なオーバーコート層を形成することができ、安定的な動作が可能なタッチパネルセンサを得ることができる。 Furthermore, in this embodiment, since the adhesion layer and the hardness layer are sequentially laminated, an overcoat layer having excellent hardness and adhesion and capable of suppressing migration can be formed, and stable operation is possible. A touch panel sensor can be obtained.
以下、本実施態様のタッチパネルセンサの製造方法における各工程について説明する。
なお、透明フィルム、透明電極およびその形成方法、ならびに配線およびその形成方法については、上記「A.タッチパネルセンサ」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
Hereinafter, each process in the manufacturing method of the touch panel sensor of this embodiment is explained.
Since the transparent film, the transparent electrode and the formation method thereof, and the wiring and the formation method thereof are described in the above section “A. Touch panel sensor”, description thereof is omitted here.
(1)第1密着層形成工程
本実施態様における第1密着層形成工程は、上記透明フィルムの一方の面に上記第1透明電極および上記第1配線を覆うように、第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、第1密着層を形成する工程である。
(1) 1st adhesion layer formation process The 1st adhesion layer formation process in this embodiment is the 1st thermosetting resin so that the 1st transparent electrode and the 1st wiring may be covered on one side of the transparent film. In this step, a coating film of the composition is formed and thermally cured to form a first adhesion layer.
なお、第1熱硬化性樹脂組成物については、上記「A.タッチパネルセンサ 1.オーバーコート層」の項に記載した熱硬化性樹脂組成物と同様であるので、ここでの説明は省略する。
Since the first thermosetting resin composition is the same as the thermosetting resin composition described in the above section “A.
第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法としては、第1密着層をパターン状に形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、例えば、透明フィルム上に第1熱硬化性樹脂組成物をパターン状に塗布する方法が挙げられる。第1熱硬化性樹脂組成物をパターン状に塗布する方法としては、例えば、スクリーン印刷法や、第1密着層を形成しない領域をマスキングして、スプレイ法、マイクログラビア法等により塗布する方法等が挙げられる。 The method for forming the coating film of the first thermosetting resin composition is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the first adhesion layer in a pattern. For example, the first thermosetting property is formed on a transparent film. The method of apply | coating a resin composition in pattern shape is mentioned. As a method of applying the first thermosetting resin composition in a pattern, for example, a screen printing method, a method in which a region where the first adhesion layer is not formed is masked, and a spray method, a microgravure method, or the like is applied. Is mentioned.
第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜を熱硬化させる際には、例えば、オーブン、ホットプレート等を用いることができる。 When thermosetting the coating film of the first thermosetting resin composition, for example, an oven, a hot plate, or the like can be used.
第1密着層形成工程および後述の第1硬度層形成工程では、透明フィルムの他方の面に形成された第2透明電極および第2配線を保護するために、透明フィルムの他方の面に保護フィルムを貼付することができる。 In the first adhesion layer forming step and the first hardness layer forming step described later, in order to protect the second transparent electrode and the second wiring formed on the other surface of the transparent film, a protective film is formed on the other surface of the transparent film. Can be affixed.
(2)第1硬度層形成工程
本実施態様における第1硬度層形成工程は、上記第1密着層形成工程後、上記第1密着層上に第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、光硬化させ、第1硬度層を形成する工程である。
(2) First Hardness Layer Formation Step The first hardness layer formation step in this embodiment forms a coating film of the first ultraviolet curable resin composition on the first adhesion layer after the first adhesion layer formation step. And photocuring to form the first hardness layer.
なお、第1紫外線硬化性樹脂組成物については、上記「A.タッチパネルセンサ 1.オーバーコート層」の項に記載した紫外線硬化性樹脂組成物と同様であるので、ここでの説明は省略する。
The first ultraviolet curable resin composition is the same as the ultraviolet curable resin composition described in the above section “A.
第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法としては、第1硬度層をパターン状に形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、上記第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法と同様とすることができる。 The method for forming the coating film of the first ultraviolet curable resin composition is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the first hardness layer in a pattern, and the coating of the first thermosetting resin composition is not limited. It can be the same as the film formation method.
第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を光硬化させる際には、半硬化させてもよく、完全硬化させてもよい。中でも、第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜に対して、第1硬度層形成工程では半硬化させ、後述の第2硬度層工程にて完全硬化させることが好ましい。紫外線照射による第1硬度層の黄変や密着性の低下、さらにはカールの発生を抑制することができるからである。
露光量としては、第1紫外線硬化性樹脂組成物の組成や硬化状態等に応じて適宜選択される。
When the coating film of the first ultraviolet curable resin composition is photocured, it may be semi-cured or fully cured. Especially, it is preferable to make it semi-harden in the 1st hardness layer formation process with respect to the coating film of a 1st ultraviolet curable resin composition, and to harden it completely in the below-mentioned 2nd hardness layer process. This is because yellowing of the first hardness layer, lowering of adhesion, and further curling can be suppressed by ultraviolet irradiation.
The exposure amount is appropriately selected according to the composition of the first ultraviolet curable resin composition, the cured state, and the like.
(3)第2密着層形成工程
本実施態様における第2密着層形成工程は、上記第1硬度層形成工程後、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように、第2熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、第2密着層を形成する工程である。
(3) Second adhesion layer forming step The second adhesion layer forming step in this embodiment covers the second transparent electrode and the second wiring on the other surface of the transparent film after the first hardness layer forming step. Thus, it is the process of forming the coating film of the 2nd thermosetting resin composition, making it thermoset, and forming a 2nd contact | adherence layer.
なお、第2熱硬化性樹脂組成物については、上記「A.タッチパネルセンサ 1.オーバーコート層」の項に記載した熱硬化性樹脂組成物と同様であるので、ここでの説明は省略する。
また、第2熱硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法および熱硬化については、上記第1密着層形成工程での第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法および熱硬化と同様とすることができる。
Since the second thermosetting resin composition is the same as the thermosetting resin composition described in the above section “A.
Moreover, about the formation method and thermosetting of the coating film of the 2nd thermosetting resin composition, it is the same as the forming method and thermosetting of the coating film of the 1st thermosetting resin composition in the said 1st contact | adherence layer formation process. It can be.
第2密着層形成工程および後述の第2硬度層形成工程では、透明フィルムの一方の面に形成された第1透明電極、第1配線、第1密着層および第1硬度層を保護するために、透明フィルムの一方の面に保護フィルムを貼付することができる。 In the second adhesion layer forming step and the second hardness layer forming step described later, in order to protect the first transparent electrode, the first wiring, the first adhesion layer, and the first hardness layer formed on one surface of the transparent film. A protective film can be attached to one side of the transparent film.
(4)第2硬度層形成工程
本実施態様における第2硬度層形成工程は、上記第2密着層形成工程後、上記第2密着層上に第2紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、光硬化させ、硬度層を形成する工程である。
(4) Second hardness layer forming step In the second hardness layer forming step in the present embodiment, after the second adhesive layer forming step, a coating film of the second ultraviolet curable resin composition is formed on the second adhesive layer. And photocuring to form a hardness layer.
なお、第2紫外線硬化性樹脂組成物については、上記「A.タッチパネルセンサ 1.オーバーコート層」の項に記載した紫外線硬化性樹脂組成物と同様であるので、ここでの説明は省略する。
また、第2紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法については、上記第1硬度層形成工程での第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法と同様とすることができる。
The second ultraviolet curable resin composition is the same as the ultraviolet curable resin composition described in the above section “A.
Moreover, about the formation method of the coating film of a 2nd ultraviolet curable resin composition, it can be made to be the same as the formation method of the coating film of the 1st ultraviolet curable resin composition in the said 1st hardness layer formation process.
第2紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を光硬化させる際、上記第1硬度層形成工程において第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を半硬化させた場合には、第2硬度層形成工程にて、第2紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜だけでなく、第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜も完全硬化させる。
露光量としては、第1紫外線硬化性樹脂組成物の組成や硬化状態および第2紫外線硬化性樹脂組成物の組成等に応じて適宜選択される。
When the coating film of the second ultraviolet curable resin composition is photocured, the second hardness layer is formed when the coating film of the first ultraviolet curable resin composition is semi-cured in the first hardness layer forming step. In the process, not only the coating film of the second ultraviolet curable resin composition but also the coating film of the first ultraviolet curable resin composition is completely cured.
The amount of exposure is appropriately selected according to the composition and cured state of the first ultraviolet curable resin composition, the composition of the second ultraviolet curable resin composition, and the like.
2.第2実施態様
本実施態様のタッチパネルセンサの製造方法は、上述のタッチパネルセンサの製造方法であって、上記透明フィルムの一方の面に上記第1透明電極および上記第1配線を覆うように、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して半硬化させる第1硬化工程と、上記第1硬化工程後、半硬化させた上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜上に第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して硬化させる第2硬化工程と、上記第2硬化工程後、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して半硬化させる第3硬化工程と、上記第3硬化工程後、半硬化させた上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜上に第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して硬化させる第4硬化工程とを有し、上記第1硬化工程、上記第2硬化工程、上記第3硬化工程および上記第4硬化工程での露光量を、上記第1硬化工程、上記第2硬化工程、上記第3硬化工程および上記第4硬化工程の合計露光量が上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、上記第2硬化工程、上記第3硬化工程および上記第4硬化工程の合計露光量が上記第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、上記第3硬化工程および上記第4硬化工程の合計露光量が上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、上記第4硬化工程の露光量が上記第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となるように、調整することを特徴とする。
2. 2nd embodiment The manufacturing method of the touch panel sensor of this embodiment is a manufacturing method of the above-mentioned touch panel sensor, Comprising: 1st surface of the said transparent film is covered so that the said 1st transparent electrode and the said 1st wiring may be covered. 1st hardening process which forms the coating film of the ultraviolet curable resin composition for 1 adhesion layer, exposes the coating film of the said ultraviolet curable resin composition for 1st adhesion layers, and semi-hardens, The said 1st curing process After that, a coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer is formed on the semi-cured coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer, and the UV curable property for the first hardness layer is formed. A second curing step of exposing and curing the coating film of the resin composition and the semi-cured ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer, and the other of the transparent film after the second curing step Covering the second transparent electrode and the second wiring on the surface of As described above, a third curing step of forming a coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second adhesion layer and exposing and semi-curing the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second adhesion layer; After the third curing step, a coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second hardness layer is formed on the semi-cured coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second adhesion layer, and the second hardness A fourth curing step of exposing and curing the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the layer and the semi-cured coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second adhesion layer, and the first curing. The exposure amount in the step, the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step is the sum of the first curing step, the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step. The exposure amount is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer The total exposure amount of the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer, and the third curing step. And the total exposure amount of the fourth curing step is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer, and the exposure amount of the fourth curing step is the UV light for the second hardness layer. It adjusts so that it may become more than the complete curing exposure amount of the coating film of curable resin composition, It is characterized by the above-mentioned.
本実施態様のタッチパネルセンサの製造方法について、図面を参照しながら説明する。図4(a)〜(e)は、本実施態様のタッチパネルセンサの製造方法の一例を示す工程図である。
まず、図4(a)に示すように、一方の面に第1透明電極3aおよび第1配線4aがパターン状に形成され、他方の面に第2透明電極3bおよび第2配線(図示なし)がパターン状に形成された透明フィルム2を準備する。
次に、図4(b)に示すように、透明フィルム2の一方の面に第1透明電極3aおよび第1配線4aを覆うように、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜16aを形成し、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜16aに紫外線21を照射して半硬化させる(第1硬化工程)。次いで、図4(c)に示すように、半硬化させた第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜16a上に第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜17aを形成し、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜16aおよび第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜17aに紫外線22を照射して硬化させる(第2硬化工程)。
次に、図4(d)に示すように、透明フィルム2の他方の面に第2透明電極3bおよび第2配線(図示なし)を覆うように、第2密着層用熱硬化性樹脂組成物の塗膜16bを形成し、第2密着層用熱硬化性樹脂組成物の塗膜16bに紫外線23を照射して半硬化させる(第3硬化工程)。次いで、図4(e)に示すように、半硬化させた第2密着層用熱硬化性樹脂組成物の塗膜16b上に第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜17bを形成し、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜16bおよび第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜17bに紫外線24を照射して硬化させる(第4硬化工程)。
第1硬化工程、第2硬化工程、第3硬化工程および第4硬化工程では、露光量を、第1硬化工程、第2硬化工程、第3硬化工程および第4硬化工程の合計露光量が第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、第2硬化工程、第3硬化工程および第4硬化工程の合計露光量が第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、第3硬化工程および第4硬化工程の合計露光量が第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、第4硬化工程の露光量が第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となるように、調整する。これにより、図2に例示するように、透明フィルム2の一方の面に第1密着層6aおよび第1硬度層7aが順に積層された第1オーバーコート層5aが形成され、透明フィルム2の他方の面に第2密着層6bおよび第2硬度層7bが順に積層された第2オーバーコート層5bが形成される。
The manufacturing method of the touch panel sensor of this embodiment will be described with reference to the drawings. 4A to 4E are process diagrams showing an example of a method for manufacturing a touch panel sensor according to the present embodiment.
First, as shown in FIG. 4A, the first
Next, as shown in FIG. 4B, the coating film of the first adhesive layer ultraviolet curable resin composition so as to cover the first
Next, as shown in FIG.4 (d), the thermosetting resin composition for 2nd contact | adherence layers so that the 2nd
In the first curing step, the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step, the exposure amount is the total exposure amount of the first curing step, the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step. The UV curable resin composition for the first hardness layer is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for one adhesion layer, and the total exposure amount in the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step. The total curing exposure amount of the coating film of the product, and the total exposure amount of the third curing step and the fourth curing step is equal to or more than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer. It adjusts so that the exposure amount of a hardening process may become more than the complete hardening exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for 2nd hardness layers. Thereby, as illustrated in FIG. 2, the
なお、「完全硬化露光量」とは、紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化後の鉛筆硬度と露光量との関係を示す曲線において、鉛筆硬度が所定の値以上となるために必要な最小の露光量をいう。
紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の硬化後の鉛筆硬度については、上記「A.タッチパネルセンサ 1.オーバーコート層 (2)硬度層」の項に記載した硬度層の鉛筆硬度と同様である。
In addition, the “completely cured exposure amount” is a curve showing the relationship between the pencil hardness after the coating of the ultraviolet curable resin composition and the exposure amount, and is necessary for the pencil hardness to be a predetermined value or more. The minimum exposure amount.
About the pencil hardness after hardening of the coating film of an ultraviolet curable resin composition, it is the same as that of the hardness layer described in the above-mentioned item of "A.
本実施態様においては、透明フィルムが光透過性を有するため、透明フィルムの片面から露光する際には、透明フィルムの露光面とは反対側の面に形成された層も露光されることになるが、第1硬化工程、第2硬化工程、第3硬化工程および第4硬化工程での露光量を上述のように調整するので、過剰な露光による第1密着層、第1硬度層および第2密着層の黄変や密着性の低下、さらにはカールの発生を抑制することができる。 In this embodiment, since the transparent film has light transparency, when the exposure is performed from one side of the transparent film, the layer formed on the surface opposite to the exposure surface of the transparent film is also exposed. However, since the exposure amounts in the first curing step, the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step are adjusted as described above, the first adhesion layer, the first hardness layer, and the second due to excessive exposure are adjusted. It is possible to suppress yellowing of the adhesion layer, deterioration of adhesion, and further curling.
ここで、上述のように、透明フィルムが光透過性を有するため、透明フィルムの片面から露光する際には、透明フィルムの露光面とは反対側の面に形成された層も露光されることになる。したがって、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜は、第1硬化工程だけでなく、第2硬化工程、第3硬化工程および第4硬化工程でも露光される、すなわち4回も露光されることになる。そのため、仮に、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を1回の露光で完全硬化させる場合には、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜への露光量は、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量よりも多くなり、過剰になる。同様に、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜は、第2硬化工程だけでなく、第3硬化工程および第4硬化工程でも露光されるため、仮に、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を1回の露光で完全硬化させる場合には、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜への露光量は、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量よりも多くなる。同様に、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜は、第3硬化工程だけでなく、第4硬化工程でも露光されるため、仮に、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を1回の露光で完全硬化させる場合には、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜への露光量は、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量よりも多くなる。そのため、過剰な露光による第1密着層、第1硬度層および第2密着層の劣化が懸念される。
これに対し本実施態様においては、第1硬化工程、第2硬化工程、第3硬化工程および第4硬化工程での露光量を上述のように調整するので、第1密着層、第1硬度層および第2密着層への過剰な露光を抑え、第1密着層、第1硬度層および第2密着層の黄変や密着性の低下、カールの発生を抑制することができるのである。
Here, as described above, since the transparent film has light transmittance, when the exposure is performed from one side of the transparent film, the layer formed on the surface opposite to the exposure surface of the transparent film is also exposed. become. Therefore, the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer is exposed not only in the first curing step but also in the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step, that is, exposed four times. Will be. Therefore, if the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer is completely cured by one exposure, the exposure amount to the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer is More than the completely cured exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer, it becomes excessive. Similarly, since the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer is exposed not only in the second curing step but also in the third curing step and the fourth curing step, the ultraviolet ray for the first hardness layer is assumed. When the coating film of the curable resin composition is completely cured by one exposure, the amount of exposure to the coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer is the UV curable resin for the first hardness layer. More than the fully cured exposure amount of the coating film of the composition. Similarly, since the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer is exposed not only in the third curing process but also in the fourth curing process, the UV curable resin composition for the second adhesion layer is temporarily assumed. When the coating film is completely cured by one exposure, the exposure amount of the UV curable resin composition for the second adhesion layer to the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer is More than the fully cured exposure amount. Therefore, there is a concern about deterioration of the first adhesion layer, the first hardness layer, and the second adhesion layer due to excessive exposure.
On the other hand, in this embodiment, since the exposure amount in the first curing step, the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step is adjusted as described above, the first adhesion layer, the first hardness layer In addition, excessive exposure to the second adhesion layer can be suppressed, and yellowing of the first adhesion layer, the first hardness layer, and the second adhesion layer, a decrease in adhesion, and the occurrence of curling can be suppressed.
また本実施態様においては、第1密着層、第1硬度層、第2密着層および第2硬度層に紫外線硬化性樹脂組成物を用いるので硬度を高めることができる。 In this embodiment, since the ultraviolet curable resin composition is used for the first adhesion layer, the first hardness layer, the second adhesion layer, and the second hardness layer, the hardness can be increased.
さらに本実施態様においては、密着層および硬度層を順に積層するので、優れた硬度および密着性を有し、マイグレーションの抑制が可能なオーバーコート層を形成することができ、安定的な動作が可能なタッチパネルセンサを得ることができる。 Furthermore, in this embodiment, since the adhesion layer and the hardness layer are sequentially laminated, an overcoat layer having excellent hardness and adhesion and capable of suppressing migration can be formed, and stable operation is possible. A touch panel sensor can be obtained.
以下、本実施態様のタッチパネルセンサの製造方法における各工程について説明する。
なお、透明フィルム、透明電極およびその形成方法、ならびに配線およびその形成方法については、上記「A.タッチパネルセンサ」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。
Hereinafter, each process in the manufacturing method of the touch panel sensor of this embodiment is explained.
Since the transparent film, the transparent electrode and the formation method thereof, and the wiring and the formation method thereof are described in the above section “A. Touch panel sensor”, description thereof is omitted here.
(1)第1硬化工程
本実施態様における第1硬化工程は、透明フィルムの一方の面に第1透明電極および第1配線を覆うように、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して半硬化させる工程である。
(1) 1st hardening process The 1st hardening process in this embodiment is the application of the ultraviolet curable resin composition for 1st contact | adherence layers so that the 1st transparent electrode and 1st wiring may be covered on one surface of a transparent film. It is a step of forming a film and exposing and semi-curing the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer.
なお、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物については、上記「A.タッチパネルセンサ 1.オーバーコート層」の項に記載した紫外線硬化性樹脂組成物と同様であるので、ここでの説明は省略する。
In addition, about the ultraviolet curable resin composition for 1st contact | adherence layers, since it is the same as that of the ultraviolet curable resin composition described in the above-mentioned "A.
第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法としては、第1密着層をパターン状に形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、上記第1実施態様の第1密着層形成工程における第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法と同様とすることができる。 The method for forming the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the first adhesion layer in a pattern, and the first of the first embodiment is not limited. This can be the same as the method for forming the coating film of the first thermosetting resin composition in the adhesion layer forming step.
第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を半硬化させる際には、露光量を第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量未満となるように調整する。
露光量としては、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量未満であればよく、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の組成や半硬化状態等に応じて適宜選択される。具体的には、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜が、硬化収縮による剥離が発生しない程度の半硬化状態となるように、露光量を調整することが好ましい。
When semi-curing the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer, the exposure amount is adjusted to be less than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer. To do.
The exposure amount may be less than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer, depending on the composition, semi-cured state, etc. of the UV curable resin composition for the first adhesion layer. Are appropriately selected. Specifically, it is preferable to adjust the exposure amount so that the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer is in a semi-cured state in which peeling due to curing shrinkage does not occur.
第1硬化工程および後述の第2硬化工程では、透明フィルムの他方の面に形成された第2透明電極および第2配線を保護するために、透明フィルムの他方の面に保護フィルムを貼付することができる。 In the first curing step and the second curing step described later, a protective film is applied to the other surface of the transparent film in order to protect the second transparent electrode and the second wiring formed on the other surface of the transparent film. Can do.
(2)第2硬化工程
本実施態様における第2硬化工程は、上記第1硬化工程後、半硬化させた上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜上に第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して硬化させる工程である。
(2) Second curing step The second curing step in this embodiment is for the first hardness layer on the coating film of the first adhesive layer UV-curable resin composition semi-cured after the first curing step. A coating film of the UV curable resin composition is formed, and the coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer and the semi-cured coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer are exposed. And curing.
なお、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物については、上記「A.タッチパネルセンサ 1.オーバーコート層」の項に記載した紫外線硬化性樹脂組成物と同様であるので、ここでの説明は省略する。
In addition, about the ultraviolet curable resin composition for 1st hardness layers, since it is the same as that of the ultraviolet curable resin composition described in the above-mentioned item of "A.
第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法としては、第1硬度層をパターン状に形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法と同様とすることができる。 The method for forming the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the first hardness layer in a pattern, and the ultraviolet curing for the first adhesion layer is not limited. The method can be the same as the method for forming the coating film of the conductive resin composition.
第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させる際には、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を半硬化させてもよく、完全硬化させてもよい。中でも、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜に対して、第2硬化工程では半硬化させ、後述の第3硬化工程および第4硬化工程にて完全硬化させることが好ましい。紫外線照射による第1密着層および第1硬度層の黄変や密着性の低下、カールの発生を抑制することができるからである。 When curing the coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer and the semi-cured coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer, the UV curable resin composition for the first hardness layer is cured. The coating film of the product and the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer may be semi-cured or may be completely cured. Among them, the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer and the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer are semi-cured in the second curing step, and a third curing step described later. It is preferable to completely cure in the fourth curing step. This is because yellowing of the first adhesion layer and the first hardness layer, lowering of adhesion, and curling can be suppressed by ultraviolet irradiation.
露光量としては、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させる状態に応じて適宜選択される。中でも、紫外線照射による第1密着層および第1硬度層の黄変等を抑制するには、露光量を、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量未満となり、かつ、第1硬化工程および第2硬化工程での合計露光量が第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量未満となるように、調整することが好ましい。具体的には、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜が、硬化収縮による剥離が発生しない程度の半硬化状態となるように、かつ、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜が、粘着性を有さず、硬化収縮による剥離が発生しない程度の半硬化状態となるように、露光量を調整することが好ましい。 The amount of exposure is appropriately selected according to the state of curing the coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer and the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer. Among them, in order to suppress yellowing of the first adhesion layer and the first hardness layer due to ultraviolet irradiation, the exposure amount is less than the complete curing exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer, And it is preferable to adjust so that the total exposure amount in a 1st hardening process and a 2nd hardening process may become less than the complete hardening exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for 1st contact | adherence layers. Specifically, the UV curable resin composition for the first hardness layer is such that the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer is in a semi-cured state to the extent that peeling due to curing shrinkage does not occur. It is preferable to adjust the exposure amount so that the coating film of the product is in a semi-cured state that does not have adhesiveness and does not cause peeling due to curing shrinkage.
(3)第3硬化工程
本実施態様における第3硬化工程は、上記第2硬化工程後、上記透明フィルムの他方の面に上記第2透明電極および上記第2配線を覆うように、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して半硬化させる工程である。
(3) Third curing step In the third curing step in the present embodiment, after the second curing step, the second adhesion is performed so as to cover the second transparent electrode and the second wiring on the other surface of the transparent film. It is the process of forming the coating film of the ultraviolet curable resin composition for layers and exposing the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second adhesion layer to semi-curing.
なお、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物については、上記「A.タッチパネルセンサ 1.オーバーコート層」の項に記載した紫外線硬化性樹脂組成物と同様であるので、ここでの説明は省略する。
In addition, about the ultraviolet curable resin composition for 2nd contact | adherence layers, since it is the same as that of the ultraviolet curable resin composition described in the above-mentioned "A.
第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法としては、第2密着層をパターン状に形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法と同様とすることができる。 The method for forming the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second adhesion layer is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the second adhesion layer in a pattern, and the ultraviolet curing for the first adhesion layer is performed. The method can be the same as the method for forming the coating film of the conductive resin composition.
第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を半硬化させる際には、露光量を第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量未満となるように調整する。
この際、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜が半硬化状態である場合には、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を半硬化させてもよく、完全硬化させてもよい。中でも、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜に対して、第3硬化工程では半硬化させ、後述の第4硬化工程にて完全硬化させることが好ましい。紫外線照射による第1密着層および第1硬度層の黄変や密着性の低下、カールの発生を抑制することができるからである。
When semi-curing the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer, the exposure amount is adjusted to be less than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer. To do.
At this time, when the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer and the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer are in a semi-cured state, the ultraviolet curable resin for the first hardness layer is used. The coating film of the resin composition and the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer may be semi-cured or may be completely cured. Among these, the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer and the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer are semi-cured in the third curing step, and will be described later as a fourth curing step. It is preferable to completely cure by. This is because yellowing of the first adhesion layer and the first hardness layer, lowering of adhesion, and curling can be suppressed by ultraviolet irradiation.
露光量としては、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量未満であればよく、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の組成や半硬化状態、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させる状態に応じて適宜選択される。中でも、紫外線照射による第1密着層および第1硬度層の黄変等を抑制するには、露光量を、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量未満となり、第2硬化工程および第3硬化工程での合計露光量が第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量未満となり、かつ、第1硬化工程、第2硬化工程および第3硬化工程での合計露光量が第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量未満となるように、調整することが好ましい。具体的には、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜が、硬化収縮による剥離が発生しない程度の半硬化状態となるように、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜が、硬化収縮による剥離が発生しない程度の半硬化状態となるように、かつ、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜が、粘着性を有さず、硬化収縮による剥離が発生しない程度の半硬化状態となるように、露光量を調整することが好ましい。 The exposure amount may be less than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer, and the composition or semi-cured state of the UV curable resin composition for the second adhesion layer, the first It is appropriately selected according to the state of curing the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the hardness layer and the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer. Among them, in order to suppress yellowing of the first adhesion layer and the first hardness layer due to ultraviolet irradiation, the exposure amount is less than the complete curing exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second adhesion layer, The total exposure amount in the second curing step and the third curing step is less than the complete curing exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer, and the first curing step, the second curing step, and the second curing step. It is preferable to adjust so that the total exposure amount in the 3 curing step is less than the complete curing exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer. Specifically, the UV curable resin composition for the first adhesion layer is formed so that the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer is in a semi-cured state to the extent that peeling due to curing shrinkage does not occur. The coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer has no tackiness so that the coating film is in a semi-cured state that does not cause peeling due to curing shrinkage. It is preferable to adjust the exposure amount so that the semi-cured state is such that no generation occurs.
第3硬化工程および後述の第4硬化工程では、透明フィルムの一方の面に形成された第1透明電極、第1配線、第1密着層および第1硬度層を保護するために、透明フィルムの一方の面に保護フィルムを貼付することができる。 In the third curing step and the fourth curing step described later, in order to protect the first transparent electrode, the first wiring, the first adhesion layer, and the first hardness layer formed on one surface of the transparent film, A protective film can be attached to one side.
(4)第4硬化工程
本実施態様における第4硬化工程は、上記第3硬化工程後、半硬化させた上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜上に第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、上記第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた上記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して硬化させる工程である。
(4) Fourth curing step The fourth curing step in this embodiment is for the second hardness layer on the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer semi-cured after the third curing step. Forming a coating film of the UV curable resin composition, exposing the coating film of the UV curable resin composition for the second hardness layer and the semi-cured coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer. And curing.
なお、第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物については、上記「A.タッチパネルセンサ 1.オーバーコート層」の項に記載した紫外線硬化性樹脂組成物と同様であるので、ここでの説明は省略する。
In addition, about the ultraviolet curable resin composition for 2nd hardness layers, since it is the same as that of the ultraviolet curable resin composition described in the above-mentioned item of "A.
第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法としては、第2硬度層をパターン状に形成できる方法であれば特に限定されるものでなく、上記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の形成方法と同様とすることができる。 The method for forming the coating film of the UV curable resin composition for the second hardness layer is not particularly limited as long as it is a method capable of forming the second hardness layer in a pattern, and the UV curing for the first adhesion layer is not limited. The method can be the same as the method for forming the coating film of the conductive resin composition.
第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させる際、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜が半硬化状態である場合には、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を完全硬化させる。 When the coating film of the UV curable resin composition for the second hardness layer and the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesive layer that has been semi-cured are cured, the UV curable resin composition for the first hardness layer When the coating film and the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer are in a semi-cured state, the coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer and the UV curable composition for the first adhesion layer The coating film of the resin composition is completely cured.
露光量としては、第1硬化工程、第2硬化工程、第3硬化工程および第4硬化工程の合計露光量が第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、第2硬化工程、第3硬化工程および第4硬化工程の合計露光量が第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、第3硬化工程および第4硬化工程の合計露光量が第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、第4硬化工程の露光量が第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となるように、調整されていればよい。第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の組成、ならびに第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物、第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物および第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の組成や硬化状態等に応じて適宜選択される。 As the exposure amount, the total exposure amount of the first curing step, the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer. The total exposure amount of the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first hardness layer, and the third curing step and the fourth curing step. The total exposure amount of the process is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer, and the exposure amount of the fourth curing process is the coating film of the UV curable resin composition for the second hardness layer. It may be adjusted so as to be equal to or greater than the complete curing exposure amount. Composition of UV curable resin composition for second hardness layer, UV curable resin composition for first adhesion layer, UV curable resin composition for first hardness layer, and UV curable resin composition for second adhesion layer It is suitably selected according to the composition and the cured state of the.
第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜への露光量を調整する際には、透明フィルム、第1透明電極および第2透明電極等の透過率等を考慮して適宜決定することができる。 When adjusting the exposure amount to the coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer and the coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer, the transparent film, the first transparent electrode, and the second It can be appropriately determined in consideration of the transmittance of the transparent electrode and the like.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.
以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。 The following examples illustrate the present invention in more detail.
[参考例1]
(透明フィルムの準備)
樹脂基材として、300mm×400mm、厚み100μmのPET基材(東レ(株)製、ルミラーT60)を準備し、表面を清浄となるよう水洗処理した。
[Reference Example 1]
(Preparation of transparent film)
A 300 mm × 400 mm, 100 μm thick PET substrate (manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirror T60) was prepared as a resin substrate, and washed with water so that the surface was cleaned.
次いで、アクリレート化合物(4官能アクリレート)(東亞合成株式会社製、アロニックスM405)100重量部、イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)5重量部をイソブチルアルコールに溶解させたアンダーコート層形成用塗工液を準備した。上記アンダーコート層形成用塗工液をバーコート法(松尾産業株式会社製、K303マルチコーター)により上記樹脂基材上に塗布して塗膜を形成し、塗膜に紫外線(波長365nm、照射エネルギー300mJ/m2)を照射して、塗膜を硬化させることにより、アンダーコート層(厚さ1μm)を形成した。
Next, an undercoat layer-forming coating in which 100 parts by weight of an acrylate compound (tetrafunctional acrylate) (Aronix M405, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 5 parts by weight of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were dissolved in isobutyl alcohol A working solution was prepared. The undercoat layer-forming coating solution is applied onto the resin substrate by the bar coating method (manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd., K303 Multicoater) to form a coating film, and ultraviolet (wavelength 365 nm, irradiation energy) is applied to the coating film. The undercoat layer (
次に、アンダーコート層上に、二酸化ケイ素(SiO2)をスパッタリング(株式会社アルバック製、小型スパッタ装置)して、二酸化ケイ素膜を形成し、これを密着性向上層とした。二酸化ケイ素膜からなる密着性向上層の厚みは30nmであった。 Next, silicon dioxide (SiO 2 ) was sputtered on the undercoat layer (manufactured by ULVAC, Inc., a small sputtering device) to form a silicon dioxide film, which was used as an adhesion improving layer. The thickness of the adhesion improving layer made of the silicon dioxide film was 30 nm.
このようにして樹脂基材の片面にアンダーコート層および密着性向上層が形成された透明フィルムを得た。 Thus, the transparent film in which the undercoat layer and the adhesion improving layer were formed on one side of the resin base material was obtained.
(透明電極および配線の形成)
透明電極および配線は、図1(a)に示すパターンで形成した。
まず、上記透明フィルムの密着性向上層側の略全面に、ITOを用いて、スパッタにより厚み30nmの透明電極用導電層を製膜した。続いて、銀・パラジウム・銅を含むAPC材料を準備し、透明電極用導電層の略全面に厚み100nmの配線用導電層をスパッタにより製膜した。
(Formation of transparent electrodes and wiring)
The transparent electrode and the wiring were formed in the pattern shown in FIG.
First, a transparent electrode conductive layer having a thickness of 30 nm was formed on almost the entire surface of the transparent film on the adhesion improving layer side by sputtering using ITO. Subsequently, an APC material containing silver, palladium, and copper was prepared, and a conductive layer for wiring having a thickness of 100 nm was formed on almost the entire surface of the conductive layer for transparent electrode by sputtering.
次いで、上記配線用導電層の略全面に、ポジ型感光性材料(AZマテリアルズ社製)を塗布して、厚み1μmのレジスト層を形成した。そして、透明電極のパターンおよびこれに連続する配線のパターンに対応したフォトマスクをレジスト層上に配置した。続いて、紫外線(波長365nm、照射エネルギー100mJ/m2)を照射し、レジスト層をパターン露光した。その後、フォトマスクを取り除き、レジスト層を現像し、透明電極および配線の形成パターンでレジスト層をパターニングし、不要なレジスト層を除去した。続いて、パターニングされたレジスト層を型にして、配線用導電層および透明電極用導電層を酸性溶剤でエッチングした。その後、レジスト層を除去した。 Next, a positive photosensitive material (manufactured by AZ Materials) was applied to substantially the entire surface of the conductive layer for wiring to form a resist layer having a thickness of 1 μm. And the photomask corresponding to the pattern of a transparent electrode and the pattern of wiring following this was arrange | positioned on the resist layer. Subsequently, ultraviolet rays (wavelength 365 nm, irradiation energy 100 mJ / m 2 ) were irradiated to pattern-expose the resist layer. Thereafter, the photomask was removed, the resist layer was developed, the resist layer was patterned with a transparent electrode and wiring formation pattern, and unnecessary resist layers were removed. Subsequently, using the patterned resist layer as a mold, the conductive layer for wiring and the conductive layer for transparent electrode were etched with an acidic solvent. Thereafter, the resist layer was removed.
次に、アクティブエリア以外の領域をレジスト層で覆い、配線用導電層をエッチングし、アクティブエリア内の透明電極用導電層上に残る配線用導電層を除去した。このようにして、透明電極および配線を形成した。 Next, a region other than the active area was covered with a resist layer, and the wiring conductive layer was etched to remove the wiring conductive layer remaining on the transparent electrode conductive layer in the active area. In this way, transparent electrodes and wirings were formed.
(オーバーコート層の形成)
(密着層の形成)
次に、外部接続領域以外のアクティブエリアを含む領域に、上記の配線および透明電極を覆うように、スクリーン印刷法によりパターン状に密着層を形成した。密着層には、オーブン加熱で硬化し、UV照射によって少し物性が変化するが、透明フィルムとの密着性が高いエポキシ系樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物を使用した。UV照射による色変化は、密着層を厚さ1μm以下に薄膜化することで透明性を確保した。
(Formation of overcoat layer)
(Formation of adhesion layer)
Next, an adhesion layer was formed in a pattern by a screen printing method in a region including the active area other than the external connection region so as to cover the wiring and the transparent electrode. For the adhesion layer, a thermosetting resin composition mainly composed of an epoxy resin which is cured by oven heating and changes its physical properties slightly by UV irradiation but has high adhesion to a transparent film was used. The color change due to UV irradiation was ensured by reducing the thickness of the adhesion layer to 1 μm or less.
(硬度層の形成)
次に、密着層上に、スクリーン印刷法により密着層と同様のパターンで硬度層を形成した。硬度層には、UV照射で硬化し、表面硬度の高いUV硬化型アクリル系樹脂を主成分としたUV硬化性樹脂組成物を使用した。硬化の際、露光量は、硬化収縮による剥離が発生せず、また表面硬度が高くなる量とした。
このようにしてタッチパネルセンサを作製した。
(Formation of hardness layer)
Next, a hardness layer was formed on the adhesion layer in the same pattern as the adhesion layer by screen printing. For the hardness layer, a UV curable resin composition which was cured by UV irradiation and was mainly composed of a UV curable acrylic resin having a high surface hardness was used. At the time of curing, the exposure amount was set such that peeling due to curing shrinkage did not occur and the surface hardness was increased.
In this way, a touch panel sensor was produced.
[比較例1]
オーバーコート層の形成において、密着層のみを形成し、硬度層を形成しなかったこと以外は、参考例1と同様にして、タッチパネルセンサを作製した。
[Comparative Example 1]
In the formation of the overcoat layer, a touch panel sensor was produced in the same manner as in Reference Example 1 except that only the adhesion layer was formed and the hardness layer was not formed.
[比較例2]
オーバーコート層の形成において、硬度層のみを形成し、密着層を形成しなかったこと以外は、参考例1と同様にして、タッチパネルセンサを作製した。
[Comparative Example 2]
In the formation of the overcoat layer, a touch panel sensor was produced in the same manner as in Reference Example 1 except that only the hardness layer was formed and no adhesion layer was formed.
[評価1]
(密着性)
参考例1、比較例1、2のタッチパネルセンサについて、ASTM D3359で規定する碁盤目テープ法、すなわちカッターで隙間1mmの碁盤目傷を100個付け、粘着テープによる剥離試験を行った。
[Evaluation 1]
(Adhesion)
For the touch panel sensors of Reference Example 1 and Comparative Examples 1 and 2, 100 cross-cuts with a 1 mm gap were attached with a cross-cut tape method specified by ASTM D3359, that is, a cutter, and a peel test was performed using an adhesive tape.
(硬度)
参考例1、比較例1、2のタッチパネルセンサについて、JIS K 5600−5−4の規格に則り、鉛筆硬度を測定した。測定条件は、荷重:750g、速度:1mm/secとした。
(hardness)
About the touch panel sensor of the reference example 1 and the comparative examples 1 and 2, pencil hardness was measured according to the specification of JISK5600-5-4. The measurement conditions were a load: 750 g and a speed: 1 mm / sec.
(イオンマイグレーション)
参考例1、比較例1、2のタッチパネルセンサについて、イオンマイグレーションの発生の有無を測定し、評価した。
すなわち、タッチパネルセンサを、楠本化成株式会社製の絶縁劣化評価システムSIR−12に接続し、電圧を印加した状態で恒温恒湿槽(恒温恒湿試験機 楠本化成(株)品ETAC事業部 HIFLEX FH14PH)に投入した。この際、恒温恒湿槽は、温度60℃、相対湿度90%RHとした。タッチパネルセンサには、表示面側上に形成された配線において、互いに隣接する配線間に電位差(3.3V)が発生するように直流電流が印加された。すなわち、互いに隣接する配線に対して、一方端位置の配線から、それぞれ0V、3.3V、0V、3.3V、…の順に、交互に直流電圧が印加された。この状態で、タッチパネルセンサを240時間放置し、上記絶縁劣化評価システムで配線間の絶縁抵抗値をモニタリングした。なお、モニタリングのパターンは、原則、毎秒1回ずつ絶縁抵抗値を測定し、絶縁抵抗値が1.0×106(Ω)(閾値)を下回ると、0.2秒毎に1回ずつ絶縁抵抗値を測定するようなパターンとした。
イオンマイグレーションが生じれば、配線間の絶縁抵抗値が下がるため、このモニタリングにより、イオンマイグレーションの発生を確認することができる。
(Ion migration)
About the touch panel sensor of the reference example 1 and the comparative examples 1 and 2, the presence or absence of generation | occurrence | production of ion migration was measured and evaluated.
That is, the touch panel sensor is connected to an insulation deterioration evaluation system SIR-12 manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., and a constant temperature and humidity chamber (constant temperature and humidity tester ETAC Division HIFLEX FH14PH) ). At this time, the temperature and humidity chamber was set to a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% RH. A direct current was applied to the touch panel sensor so that a potential difference (3.3 V) was generated between adjacent wirings in the wiring formed on the display surface side. That is, direct-current voltages were alternately applied to wirings adjacent to each other in the order of 0 V, 3.3 V, 0 V, 3.3 V,. In this state, the touch panel sensor was left for 240 hours, and the insulation resistance value between the wirings was monitored by the insulation deterioration evaluation system. In principle, the monitoring pattern is to measure the insulation resistance value once every second. If the insulation resistance value falls below 1.0 × 10 6 (Ω) (threshold), insulation is performed once every 0.2 seconds. The pattern was such that the resistance value was measured.
If ion migration occurs, the insulation resistance value between the wirings decreases, so that the occurrence of ion migration can be confirmed by this monitoring.
上述の試験において、(1)絶縁抵抗値が1.0×106(Ω)を下回った値として測定された場合に、イオンマイグレーションが1回発生したと判定した。また、(2)絶縁抵抗値が1.0×106(Ω)以下の測定が積算200回となったときに、測定を中止した。(3)327μA以上の電流(1.0×104(Ω)以下)が計測され、配線間でショートが確認された場合、測定を中止した。
上記(1)、(2)および(3)のいずれもが確認されなかったものを良好と評価し、上記(1)、(2)および(3)のいずれかが確認されたものを不良と評価した。
結果を表1に示す。
In the above test, (1) when the insulation resistance value was measured as a value lower than 1.0 × 10 6 (Ω), it was determined that ion migration occurred once. In addition, (2) when the measurement with an insulation resistance value of 1.0 × 10 6 (Ω) or less reached 200 times in total, the measurement was stopped. (3) When a current of 327 μA or more (1.0 × 10 4 (Ω) or less) was measured and a short circuit was observed between the wires, the measurement was stopped.
A case where none of the above (1), (2) and (3) was confirmed was evaluated as good, and a case where any of the above (1), (2) and (3) was confirmed as poor. evaluated.
The results are shown in Table 1.
密着層および硬度層が積層されている参考例1のタッチパネルセンサでは、オーバーコート層は密着性が良好で表面硬度が高く、マイグレーションの発生もなかった。 In the touch panel sensor of Reference Example 1 in which the adhesion layer and the hardness layer were laminated, the overcoat layer had good adhesion, high surface hardness, and no occurrence of migration.
[参考例2]
参考例1、比較例1、2のタッチパネルセンサに対して、露光量を変えて紫外線を照射し、密着性、硬度、黄色度を評価した。
なお、密着性および硬度の評価については、上述と同様の方法とした。
[Reference Example 2]
The touch panel sensors of Reference Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 were irradiated with ultraviolet rays with different exposure amounts, and evaluated for adhesion, hardness, and yellowness.
In addition, it was set as the method similar to the above about evaluation of adhesiveness and hardness.
(黄色度)
島津製作所製の装置UV3100、MPC3100を用いて、スペクトルを計測し、黄色度を算出した。
結果を表2に示す。
(Yellowness)
Using the devices UV3100 and MPC3100 manufactured by Shimadzu Corporation, the spectrum was measured and the yellowness was calculated.
The results are shown in Table 2.
[実施例1]
(透明フィルムの準備)
樹脂基材として、300mm×400mm、厚み100μmのPET基材(東レ(株)製、ルミラーT60)を準備し、表面を清浄となるよう水洗処理した。
[Example 1]
(Preparation of transparent film)
A 300 mm × 400 mm, 100 μm thick PET substrate (manufactured by Toray Industries, Inc., Lumirror T60) was prepared as a resin substrate, and washed with water so that the surface was cleaned.
次いで、アクリレート化合物(4官能アクリレート)(東亞合成株式会社製、アロニックスM405)100重量部、イルガキュア184(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)5重量部をイソブチルアルコールに溶解させたアンダーコート層形成用塗工液を準備した。上記アンダーコート層形成用塗工液をバーコート法(松尾産業株式会社製、K303マルチコーター)により上記樹脂基材の一方の面に塗布して塗膜を形成し、塗膜に紫外線(波長365nm、照射エネルギー300mJ/m2)を照射して、塗膜を硬化させることにより、アンダーコート層(厚さ1μm)を形成した。アンダーコート層は、樹脂基材の片面側に形成した後、反対面側についても同様にして形成した。
Next, an undercoat layer-forming coating in which 100 parts by weight of an acrylate compound (tetrafunctional acrylate) (Aronix M405, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 5 parts by weight of Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were dissolved in isobutyl alcohol A working solution was prepared. The undercoat layer forming coating solution is applied to one surface of the resin base material by a bar coating method (manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd., K303 Multicoater) to form a coating film, and ultraviolet (wavelength 365 nm) is applied to the coating film. The undercoat layer (
次に、アンダーコート層が形成された樹脂基材の両面に、二酸化ケイ素(SiO2)をスパッタリング(株式会社アルバック製、小型スパッタ装置)して、二酸化ケイ素膜を形成し、これを密着性向上層とした。二酸化ケイ素膜からなる密着性向上層の厚みは30nmであった。 Next, silicon dioxide (SiO 2 ) is sputtered on both sides of the resin base material on which the undercoat layer is formed (manufactured by ULVAC, Inc., a small sputtering device) to form a silicon dioxide film, which improves adhesion. Layered. The thickness of the adhesion improving layer made of the silicon dioxide film was 30 nm.
このようにして樹脂基材の両面にアンダーコート層および密着性向上層が形成された透明フィルムを得た。なお、透明フィルムにおいては、タッチパネルセンサが12面取りできるよう設計して以下のとおり作製し、そのうちの任意の一面を実施例1に用いるタッチパネルセンサとした。 Thus, the transparent film in which the undercoat layer and the adhesion improving layer were formed on both surfaces of the resin base material was obtained. In addition, in the transparent film, it designed so that a touch panel sensor could take 12 surfaces, and it produced it as follows, and made the arbitrary one of them into the touch panel sensor used for Example 1.
(第1透明電極、第2透明電極、第1配線および第2配線の形成)
第1透明電極、第2透明電極、第1配線および第2配線は、図1(a)、(b)に示すパターンで形成した。第1透明電極および第2透明電極はそれぞれストライプ状であり、平面視互いに略直交する方向に伸長するようパターニングした。
(Formation of first transparent electrode, second transparent electrode, first wiring and second wiring)
The 1st transparent electrode, the 2nd transparent electrode, the 1st wiring, and the 2nd wiring were formed with the pattern shown in Drawing 1 (a) and (b). Each of the first transparent electrode and the second transparent electrode has a stripe shape, and was patterned so as to extend in a direction substantially orthogonal to each other in plan view.
まず、上記透明フィルムの両面の略全面に、ITOを用いて、スパッタにより厚み30nmの透明電極用導電層を製膜した。続いて、銀・パラジウム・銅を含むAPC材料を準備し、透明電極用導電層の略全面に厚み100nmの配線用導電層をスパッタにより製膜した。 First, a transparent electrode conductive layer having a thickness of 30 nm was formed on almost the entire surface of the transparent film by sputtering using ITO. Subsequently, an APC material containing silver, palladium, and copper was prepared, and a conductive layer for wiring having a thickness of 100 nm was formed on almost the entire surface of the conductive layer for transparent electrode by sputtering.
次いで、上記配線用導電層の略全面に、ポジ型感光性材料(AZマテリアルズ社製)を塗布して、厚み1μmのレジスト層を形成した。そして、透明フィルムの一方の面側では、第1透明電極のパターンおよびこれに連続する第1配線のパターンに対応したフォトマスクをレジスト層上に配置した。また、透明フィルムの他方の面側では、第2透明電極のパターンおよびこれに連続する第2配線のパターンに対応したフォトマスクをレジスト層上に配置した。続いて、透明フィルムの両面から露光光として紫外線(波長365nm、照射エネルギー100mJ/m2)を照射し、透明フィルムの両面において同時にレジスト層をパターン露光した。その後、フォトマスクを取り除き、レジスト層を現像し、第1透明電極、第2透明電極、第1配線および第2配線の形成パターンでレジスト層をパターニングし、不要なレジスト層を除去した。続いて、パターニングされたレジスト層を型にして、配線用導電層および透明電極用導電層を酸性溶剤でエッチングした。その後、レジスト層を除去した。 Next, a positive photosensitive material (manufactured by AZ Materials) was applied to substantially the entire surface of the conductive layer for wiring to form a resist layer having a thickness of 1 μm. Then, on one surface side of the transparent film, a photomask corresponding to the pattern of the first transparent electrode and the pattern of the first wiring continuous therewith was disposed on the resist layer. Further, on the other surface side of the transparent film, a photomask corresponding to the pattern of the second transparent electrode and the pattern of the second wiring continuous thereto was disposed on the resist layer. Subsequently, ultraviolet light (wavelength 365 nm, irradiation energy 100 mJ / m 2 ) was irradiated from both sides of the transparent film as exposure light, and the resist layer was pattern-exposed simultaneously on both sides of the transparent film. Thereafter, the photomask was removed, the resist layer was developed, the resist layer was patterned with the formation pattern of the first transparent electrode, the second transparent electrode, the first wiring, and the second wiring, and the unnecessary resist layer was removed. Subsequently, using the patterned resist layer as a mold, the conductive layer for wiring and the conductive layer for transparent electrode were etched with an acidic solvent. Thereafter, the resist layer was removed.
次に、アクティブエリア以外の領域をレジスト層で覆い、配線用導電層をエッチングし、アクティブエリア内の透明電極用導電層上に残る配線用導電層を除去した。このようにして、第1透明電極、第2透明電極、第1配線および第2配線を形成した。
なお、第1透明電極および第2透明電極のパターンは、図1(a)、(b)に示すようにストライプ状のパターンがX方向とY方向とに伸長し、平面視上、第1透明電極および第2透明電極が略直交するパターンとした。
Next, a region other than the active area was covered with a resist layer, and the wiring conductive layer was etched to remove the wiring conductive layer remaining on the transparent electrode conductive layer in the active area. Thus, the 1st transparent electrode, the 2nd transparent electrode, the 1st wiring, and the 2nd wiring were formed.
As shown in FIGS. 1A and 1B, the first transparent electrode and the second transparent electrode have a stripe-shaped pattern extending in the X direction and the Y direction. A pattern in which the electrode and the second transparent electrode are substantially orthogonal is used.
(第2保護フィルムの貼り合わせ)
次に、第2透明電極側の面の略全面に、保護フィルム(フジコピアン社製フィックスフィルム)をローラーを用いて貼り合わせた。
(Lamination of second protective film)
Next, a protective film (fixed film manufactured by Fuji Copian) was bonded to substantially the entire surface on the second transparent electrode side using a roller.
(第1オーバーコート層の形成)
(第1密着層の形成)
次に、外部接続領域以外のアクティブエリアを含む領域に、上記の第1配線および第1透明電極を覆うように、スクリーン印刷法によりパターン状に第1密着層を形成した。第1密着層には、オーブン加熱で硬化し、UV照射によって少し物性が変化するが、透明フィルムとの密着性が高いエポキシ系樹脂を主成分とした熱硬化性樹脂組成物を使用した。UV照射による色変化は、第1密着層を厚さ1μm以下に薄膜化することで透明性を確保した。
(Formation of first overcoat layer)
(Formation of first adhesion layer)
Next, a first adhesion layer was formed in a pattern by a screen printing method in a region including the active area other than the external connection region so as to cover the first wiring and the first transparent electrode. For the first adhesion layer, a thermosetting resin composition mainly composed of an epoxy resin that is cured by oven heating and slightly changes in physical properties by UV irradiation but has high adhesion to a transparent film was used. The color change due to UV irradiation was ensured by reducing the thickness of the first adhesion layer to 1 μm or less.
(第1硬度層の形成)
次に、第1密着層上に、スクリーン印刷法により第1密着層と同様のパターンで第1硬度層を形成した。第1硬度層には、UV照射で硬化し、表面硬度の高いUV硬化型アクリル系樹脂を主成分としたUV硬化性樹脂組成物を使用した。第1硬度層の硬化は、表面の粘着性が無くなる程度にUV照射し、硬化収縮による剥離が発生しない程度で表面硬度が低い状態とした。なお、露光量は、上記参考例2における表2の結果をもとに決定した。
(Formation of the first hardness layer)
Next, a first hardness layer was formed on the first adhesion layer in the same pattern as the first adhesion layer by screen printing. For the first hardness layer, a UV curable resin composition which was cured by UV irradiation and mainly composed of a UV curable acrylic resin having a high surface hardness was used. The first hardness layer was cured by UV irradiation to such an extent that surface tackiness disappeared, and the surface hardness was low enough to prevent peeling due to curing shrinkage. The exposure amount was determined based on the results shown in Table 2 in Reference Example 2.
(第2保護フィルムの剥離および第1保護フィルムの貼り合わせ)
続いて、第1透明電極側に、上記第2保護フィルムの貼り合わせと同様にして、保護フィルムを貼り合せた。そして、透明フィルムを反転させて、第2保護フィルムの端部を、透明フィルム面に対し略垂直方向に持ち上げて、第2保護フィルムを剥離した。なお、第1保護フィルムは、第1透明電極側に形成された第1オーバーコート層の後工程における損傷を防止するために形成した。
(Peeling of the second protective film and bonding of the first protective film)
Subsequently, a protective film was bonded to the first transparent electrode side in the same manner as the bonding of the second protective film. And the transparent film was reversed, the edge part of the 2nd protective film was lifted in the substantially perpendicular direction with respect to the transparent film surface, and the 2nd protective film was peeled. In addition, the 1st protective film was formed in order to prevent the damage in the post process of the 1st overcoat layer formed in the 1st transparent electrode side.
(第2オーバーコート層の形成)
上記第1保護フィルムを下面にして、第2透明電極側に、上記第1密着層および第1硬度層と同様にして第2密着層および第2硬度層を形成し、第2オーバーコート層とした。その際、第2硬度層形成時の露光量は、硬化収縮による剥離が発生せず、また表面硬度が高くなる量とした。このとき、先に形成した第1硬度層もUV照射され、硬化収縮による剥離が発生せず、また表面硬度が高い状態になった。
(Formation of second overcoat layer)
The second adhesive layer and the second hardness layer are formed on the second transparent electrode side in the same manner as the first adhesive layer and the first hardness layer on the second transparent electrode side, and the second overcoat layer did. At that time, the exposure amount at the time of forming the second hardness layer was set such that peeling due to curing shrinkage did not occur and the surface hardness was increased. At this time, the previously formed first hardness layer was also irradiated with UV, no peeling due to curing shrinkage occurred, and the surface hardness was high.
(第1保護フィルムの剥離)
続いて、第1保護フィルムの端部を、透明フィルム面に対し略垂直方向に持ち上げて、第1保護フィルムを剥離した。
このようにしてタッチパネルセンサを作製した。
(Peeling of the first protective film)
Then, the edge part of the 1st protective film was lifted in the substantially perpendicular direction with respect to the transparent film surface, and the 1st protective film was peeled off.
In this way, a touch panel sensor was produced.
[評価2]
実施例1のタッチパネルセンサについて、上述の方法により密着性、硬度、黄色度を評価した。
結果を表3に示す。
[Evaluation 2]
About the touchscreen sensor of Example 1, adhesiveness, hardness, and yellowness were evaluated by the above-mentioned method.
The results are shown in Table 3.
実施例1のタッチパネルセンサでは、オーバーコート層は密着性が良好で表面硬度が高く、黄変も少なかった。 In the touch panel sensor of Example 1, the overcoat layer had good adhesion, high surface hardness, and little yellowing.
1 … タッチパネルセンサ
2 … 透明フィルム
3a … 第1透明電極
3b … 第2透明電極
4a … 第1配線
4b … 第2配線
5a … 第1オーバーコート層
5b … 第2オーバーコート層
6a … 第1密着層
6b … 第2密着層
7a … 第1硬度層
7b … 第2硬度層
16a … 第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜
16b … 第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜
17a … 第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜
17b … 第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜
17A … 第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜
17B … 第2紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜
21、22、23、24 … 紫外線
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成された第1透明電極と、
前記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成され、前記第1透明電極に接続された第1配線と、
前記透明フィルムの一方の面に前記第1透明電極および前記第1配線を覆うように形成された第1オーバーコート層と、
前記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成された第2透明電極と、
前記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成され、前記第2透明電極に接続された第2配線と、
前記透明フィルムの他方の面に前記第2透明電極および前記第2配線を覆うように形成された第2オーバーコート層と
を有するタッチパネルセンサであって、
前記第1オーバーコート層は、前記透明フィルムの一方の面に前記第1透明電極および前記第1配線を覆うように形成され、第1密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第1密着層と、前記第1密着層上に形成され、第1硬度層用樹脂を含有する第1硬度層とを有し、
前記第2オーバーコート層は、前記透明フィルムの他方の面に前記第2透明電極および前記第2配線を覆うように形成され、第2密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第2密着層と、前記第2密着層上に形成され、第2硬度層用樹脂を含有する第2硬度層とを有し、
前記第1硬度層および前記第2硬度層の厚みが、それぞれ0.5μm〜20μmの範囲内であることを特徴とするタッチパネルセンサ。 A transparent film,
A first transparent electrode formed in a pattern on one surface of the transparent film;
A first wiring formed in a pattern on one surface of the transparent film and connected to the first transparent electrode;
A first overcoat layer formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring;
A second transparent electrode formed in a pattern on the other surface of the transparent film;
A second wiring formed in a pattern on the other surface of the transparent film and connected to the second transparent electrode;
A second overcoat layer formed on the other surface of the transparent film so as to cover the second transparent electrode and the second wiring,
The first overcoat layer is formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring, contains a first adhesion layer resin, and has a migration suppressing function. An adhesion layer, and a first hardness layer formed on the first adhesion layer and containing a first hardness layer resin;
The second overcoat layer is formed on the other surface of the transparent film so as to cover the second transparent electrode and the second wiring, contains a second adhesion layer resin, and has a migration suppressing function. an adhesion layer, is formed on the second adhesion layer, have a second hardness layer containing a resin for the second hardness layer,
The touch panel sensor, wherein the first hardness layer and the second hardness layer each have a thickness in the range of 0.5 μm to 20 μm .
前記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成された第1透明電極と、
前記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成され、前記第1透明電極に接続された第1配線と、
前記透明フィルムの一方の面に前記第1透明電極および前記第1配線を覆うように形成された第1オーバーコート層と、
前記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成された第2透明電極と、
前記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成され、前記第2透明電極に接続された第2配線と、
前記透明フィルムの他方の面に前記第2透明電極および前記第2配線を覆うように形成された第2オーバーコート層と
を有し、
前記第1オーバーコート層は、前記透明フィルムの一方の面に前記第1透明電極および前記第1配線を覆うように形成され、第1密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第1密着層と、前記第1密着層上に形成され、第1硬度層用樹脂を含有する第1硬度層とを有し、
前記第2オーバーコート層は、前記透明フィルムの他方の面に前記第2透明電極および前記第2配線を覆うように形成され、第2密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第2密着層と、前記第2密着層上に形成され、第2硬度層用樹脂を含有する第2硬度層とを有するタッチパネルセンサの製造方法であって、
前記透明フィルムの一方の面に前記第1透明電極および前記第1配線を覆うように、第1熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、第1密着層を形成する第1密着層形成工程と、
前記第1密着層形成工程後、前記第1密着層上に第1紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、光硬化させ、第1硬度層を形成する第1硬度層形成工程と、
前記第1硬度層形成工程後、前記透明フィルムの他方の面に前記第2透明電極および前記第2配線を覆うように、第2熱硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、熱硬化させ、第2密着層を形成する第2密着層形成工程と、
前記第2密着層形成工程後、前記第2密着層上に第2紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、光硬化させ、第2硬度層を形成する第2硬度層形成工程と
を有することを特徴とするタッチパネルセンサの製造方法。 A transparent film,
A first transparent electrode formed in a pattern on one surface of the transparent film;
A first wiring formed in a pattern on one surface of the transparent film and connected to the first transparent electrode;
A first overcoat layer formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring;
A second transparent electrode formed in a pattern on the other surface of the transparent film;
A second wiring formed in a pattern on the other surface of the transparent film and connected to the second transparent electrode;
A second overcoat layer formed on the other surface of the transparent film so as to cover the second transparent electrode and the second wiring;
Have
The first overcoat layer is formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring, contains a first adhesion layer resin, and has a migration suppressing function. An adhesion layer, and a first hardness layer formed on the first adhesion layer and containing a first hardness layer resin;
The second overcoat layer is formed on the other surface of the transparent film so as to cover the second transparent electrode and the second wiring, contains a second adhesion layer resin, and has a migration suppressing function. A method for manufacturing a touch panel sensor having an adhesion layer and a second hardness layer formed on the second adhesion layer and containing a second hardness layer resin ,
A first thermosetting resin composition coating film is formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring, and thermally cured to form a first adhesion layer. 1 adhesion layer forming step;
After the first adhesion layer forming step, a first hardness layer forming step of forming a first hardness layer by forming a coating film of the first ultraviolet curable resin composition on the first adhesion layer, photocuring, and
After the first hardness layer forming step, a coating film of the second thermosetting resin composition is formed on the other surface of the transparent film so as to cover the second transparent electrode and the second wiring, and is thermally cured. A second adhesion layer forming step of forming a second adhesion layer;
After the second adhesion layer forming step, a second hardness layer forming step of forming a second hardness layer by forming a coating film of the second ultraviolet curable resin composition on the second adhesion layer and photocuring it. A method for manufacturing a touch panel sensor, comprising:
前記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成された第1透明電極と、
前記透明フィルムの一方の面にパターン状に形成され、前記第1透明電極に接続された第1配線と、
前記透明フィルムの一方の面に前記第1透明電極および前記第1配線を覆うように形成された第1オーバーコート層と、
前記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成された第2透明電極と、
前記透明フィルムの他方の面にパターン状に形成され、前記第2透明電極に接続された第2配線と、
前記透明フィルムの他方の面に前記第2透明電極および前記第2配線を覆うように形成された第2オーバーコート層と
を有し、
前記第1オーバーコート層は、前記透明フィルムの一方の面に前記第1透明電極および前記第1配線を覆うように形成され、第1密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第1密着層と、前記第1密着層上に形成され、第1硬度層用樹脂を含有する第1硬度層とを有し、
前記第2オーバーコート層は、前記透明フィルムの他方の面に前記第2透明電極および前記第2配線を覆うように形成され、第2密着層用樹脂を含有し、マイグレーション抑制機能を有する第2密着層と、前記第2密着層上に形成され、第2硬度層用樹脂を含有する第2硬度層とを有するタッチパネルセンサの製造方法であって、
前記透明フィルムの一方の面に前記第1透明電極および前記第1配線を覆うように、第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、前記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して半硬化させる第1硬化工程と、
前記第1硬化工程後、半硬化させた前記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜上に第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、前記第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた前記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して硬化させる第2硬化工程と、
前記第2硬化工程後、前記透明フィルムの他方の面に前記第2透明電極および前記第2配線を覆うように、第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、前記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して半硬化させる第3硬化工程と、
前記第3硬化工程後、半硬化させた前記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜上に第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を形成し、前記第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜および半硬化させた前記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜を露光して硬化させる第4硬化工程と
を有し、前記第1硬化工程、前記第2硬化工程、前記第3硬化工程および前記第4硬化工程での露光量を、前記第1硬化工程、前記第2硬化工程、前記第3硬化工程および前記第4硬化工程の合計露光量が前記第1密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、前記第2硬化工程、前記第3硬化工程および前記第4硬化工程の合計露光量が前記第1硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、前記第3硬化工程および前記第4硬化工程の合計露光量が前記第2密着層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となり、前記第4硬化工程の露光量が前記第2硬度層用紫外線硬化性樹脂組成物の塗膜の完全硬化露光量以上となるように、調整することを特徴とするタッチパネルセンサの製造方法。 A transparent film,
A first transparent electrode formed in a pattern on one surface of the transparent film;
A first wiring formed in a pattern on one surface of the transparent film and connected to the first transparent electrode;
A first overcoat layer formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring;
A second transparent electrode formed in a pattern on the other surface of the transparent film;
A second wiring formed in a pattern on the other surface of the transparent film and connected to the second transparent electrode;
A second overcoat layer formed on the other surface of the transparent film so as to cover the second transparent electrode and the second wiring;
Have
The first overcoat layer is formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring, contains a first adhesion layer resin, and has a migration suppressing function. An adhesion layer, and a first hardness layer formed on the first adhesion layer and containing a first hardness layer resin;
The second overcoat layer is formed on the other surface of the transparent film so as to cover the second transparent electrode and the second wiring, contains a second adhesion layer resin, and has a migration suppressing function. A method for manufacturing a touch panel sensor having an adhesion layer and a second hardness layer formed on the second adhesion layer and containing a second hardness layer resin ,
A coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer is formed on one surface of the transparent film so as to cover the first transparent electrode and the first wiring, and the UV curable property for the first adhesion layer is formed. A first curing step of exposing and semi-curing the coating film of the resin composition;
After the first curing step, a coating film of the UV curable resin composition for the first hardness layer is formed on the semi-cured coating film of the UV curable resin composition for the first adhesion layer, and the first hardness A second curing step of exposing and curing the coating film of the ultraviolet curable resin composition for layers and the semi-cured coating film of the ultraviolet curable resin composition for the first adhesion layer;
After the second curing step, a coating film of an ultraviolet curable resin composition for a second adhesion layer is formed on the other surface of the transparent film so as to cover the second transparent electrode and the second wiring, A third curing step of exposing and semi-curing the coating film of the ultraviolet curable resin composition for two adhesion layers;
After the third curing step, a coating film of the UV curable resin composition for the second hardness layer is formed on the semi-cured coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer, and the second hardness And a fourth curing step of exposing and curing the coating film of the ultraviolet curable resin composition for layers and the semi-cured coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second adhesion layer, and the first curing The amount of exposure in the process, the second curing process, the third curing process, and the fourth curing process is the sum of the first curing process, the second curing process, the third curing process, and the fourth curing process. The exposure amount is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the first adhesive layer ultraviolet curable resin composition, and the total exposure amount of the second curing step, the third curing step, and the fourth curing step is the first exposure amount. 1 It is more than the complete curing exposure of UV curable resin composition for hardness layer The total exposure amount of the third curing step and the fourth curing step is equal to or greater than the complete curing exposure amount of the coating film of the UV curable resin composition for the second adhesion layer, and the exposure amount of the fourth curing step is the above A method for producing a touch panel sensor, which is adjusted so as to be equal to or greater than a complete curing exposure amount of the coating film of the ultraviolet curable resin composition for the second hardness layer.
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