JP5883519B2 - 潤滑油組成物 - Google Patents

Description

本発明は、潤滑油組成物に関し、さらに詳しくは、低リン分、低硫黄分、低硫酸灰分であっても耐摩耗性、高温清浄性、塩基価維持性に優れる潤滑油組成物に関する。

従来、ガソリンエンジン、ディーゼルエンジン、ガスエンジンなどに用いる内燃機関用潤滑油の耐摩耗剤兼酸化防止剤として、ジチオリン酸亜鉛（Ｚｎ−ＤＴＰ）が長年使用されており、現在も内燃機関用潤滑油の重要な必須添加剤と考えられている。
しかし、このジチオリン酸亜鉛は、分子中に金属分（亜鉛）とともに、リン分および硫黄分を多量に含んでいることから、ジチオリン酸亜鉛の分解物は硫酸やリン酸を発生する。そのため、ジチオリン酸亜鉛は、エンジン油中の塩基性化合物を消耗して潤滑油の劣化を促進し、更油期間を極端に短くすることがある（この現象は、いわゆる塩基価維持性が不十分であることを意味する）。また、ジチオリン酸亜鉛は高温条件でスラッジ化し、エンジン内部の清浄性を悪化することがあることも問題視されている。
このような状況から、ジチオリン酸亜鉛に替わる内燃機関用潤滑油に使用できる耐摩耗添加剤の出現が望まれている。

一方、現在の自動車のエンジンには、排出ガスを清浄化するために酸化触媒、三元触媒、ＮＯｘ吸蔵型還元触媒、ディーゼルパティキュレートフィルター（ＤＰＦ）等が使用されている。これらの排出ガス浄化装置は、エンジン油中の金属分、リン分、硫黄分によって悪影響を受けることが知られており、これらの成分を低減することが装置の劣化対策の上からも必要とされている。
したがって、低金属分（すなわち、低硫酸灰分）、低リン分、さらには低硫黄分であっても内燃機関用潤滑油に要求される基本的な性能（耐摩耗性、清浄性、塩基価維持性など）を具備する内燃機関用潤滑油が切望されている。

このような問題を解決する目的で、従来から各種潤滑油用添加剤や潤滑油組成物が提案されている。例えば、特定のリン含有フェノール系酸化防止剤を含有する潤滑油組成物が提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかし、このようなリン含有フェノール系酸化防止剤は、基油に対する溶解性が不十分なことがあるなど、上記の問題を解決するには、さらに改良する余地があった。

また、基油の分散性を向上させて油交換期間を長期化させることを目的として、基油に対してスルホンアミド結合を介して特定の芳香族基を分子結合させることにより、基油を直接改質する技術も開示されている（例えば、特許文献２参照）。

特開平１１−３５９６２号公報 特開平６−２２０４７３号公報

しかしながら、これまでの各種潤滑油用添加剤や改質潤滑油組成物では、ある程度の油交換期間の長期化等を達成できるものの、内燃機関用潤滑油に要求される基本的な性能である耐摩耗性、清浄性、塩基価維持性などをバランスよく、かつ十分に向上させることができなかった。

本発明は、このような状況下で、低リン分、低硫黄分、低金属分（低硫酸灰分）であっても耐摩耗性、高温清浄性及び塩基価維持性に優れる潤滑油組成物を低コストで提供することを目的とするものである。

本発明者らは、前記の好ましい性質を有する潤滑油組成物を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のスルホンアミド化合物を配合することにより、その目的を達成し得ることを見出した。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち、本発明は、
＜１＞ 基油に、下記の一般式（１）で表されるスルホンアミド化合物を配合してなる潤滑油組成物である。

（式中、Ｒ^１は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基及び置換もしくは無置換のヘテロアリール基から選択される１種であり、Ｒ^２、Ｒ^３は、それぞれ独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基及び置換もしくは無置換のヘテロアリール基から選択される１種であり、またＲ^２及びＲ^３は結合して環構造または縮合環構造を形成していてもよい。）

＜２＞ 前記一般式（１）におけるＲ^２及びＲ^３の少なくともいずれかが、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基及び置換もしくは無置換のヘテロアリール基から選択される１種である＜１＞に記載の潤滑油組成物である。

＜３＞ 前記一般式（１）におけるＲ^２及びＲ^３の少なくともいずれかが置換基を有する場合、該置換基が、それぞれ独立に炭素数が１〜２０の炭化水素基である＜１＞または＜２＞に記載の潤滑油組成物である。

＜４＞ 前記一般式（１）におけるＲ^２及びＲ^３の少なくともいずれかが、無置換のアルキル基、無置換のシクロアルキル基、無置換のアルケニル基、無置換のアルキニル基、無置換のアリール基及び無置換のヘテロアリール基から選択される１種である＜１＞または＜２＞に記載の潤滑油組成物である。

＜５＞ 前記一般式（１）におけるＲ^１が、無置換のアルキル基、無置換のシクロアルキル基、無置換のアルケニル基、無置換のアルキニル基、無置換のアリール基及び無置換のヘテロアリール基から選択される１種である＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の潤滑油組成物である。

＜６＞ リン含有量が組成物基準で０．１２質量％以下であり、かつ硫酸灰分が１．２質量％以下である＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の潤滑油組成物である。

＜７＞ 内燃機関用潤滑油組成物である＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の潤滑油組成物である。

本発明によれば、低リン分、低硫黄分、低金属分（低硫酸灰分）であっても耐摩耗性、高温清浄性及び塩基価維持性に優れる潤滑油組成物を低コストで提供することができる。

以下、本発明を実施形態により説明する。
本実施形態の潤滑油組成物は、基油に、前記一般式（１）で表されるスルホンアミド化合物を配合してなることを特徴とする。

（基油）
本実施形態において用いる基油としては、特に制限はなく、従来、内燃機関用潤滑油の基油として使用されている鉱油や合成油の中から任意のものを適宜選択して用いることができる。
前記鉱油としては、例えば、原油を常圧蒸留して得られる常圧残油を減圧蒸留して得られた潤滑油留分を、溶剤脱れき、溶剤抽出、水素化分解、溶剤脱ろう、接触脱ろう、水素化精製等のうちの１つ以上の処理を行って精製した鉱油、あるいはワックス、ＧＴＬ ＷＡＸを異性化することによって製造される鉱油等が挙げられる。

一方、前記合成油としては、例えば、ポリブテン、ポリオレフィン［α−オレフィン単独重合体や共重合体（例えばエチレン−α−オレフィン共重合体）など］、各種のエステル（例えば、ポリオールエステル、二塩基酸エステル、リン酸エステルなど）、各種のエーテル（例えば、ポリフェニルエーテルなど）、ポリグリコール、アルキルベンゼン、アルキルナフタレンなどが挙げられる。これらの合成油のうち、特にポリオレフィン、ポリオールエステルが好ましい。
本実施形態においては、基油として、前記鉱油は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、前記合成油を一種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。更には、鉱油一種以上と合成油一種以上とを組み合わせて用いてもよい。

基油の粘度については特に制限はないが、１００℃における動粘度が、２〜３０ｍｍ^２／ｓの範囲であることが好ましく、より好ましくは３〜１５ｍｍ^２／ｓの範囲、さらに好ましくは４〜１０ｍｍ^２／ｓの範囲である。
１００℃における動粘度が２ｍｍ^２／ｓ以上であると蒸発損失が少なく、また３０ｍｍ^２／ｓ以下であると、粘性抵抗による動力損失が抑制され、燃費改善効果が得られる。

また、基油としては、環分析による％Ｃ_Ａが３．０以下で硫黄分の含有量が５０質量ｐｐｍ以下のものが好ましく用いられる。ここで、環分析による％Ｃ_Ａとは、環分析ｎ−ｄ−Ｍ法にて算出した芳香族分の割合（百分率）を示す。また、硫黄分はＪＩＳ Ｋ ２５４１に準拠して測定した値である。
％Ｃ_Ａが３．０以下で、硫黄分が５０質量ｐｐｍ以下の基油は、良好な酸化安定性を有し、酸価の上昇やスラッジの生成を抑制しうる潤滑油組成物を提供することができる。より好ましい％Ｃ_Ａは１．０以下、さらには０．５以下であり、またより好ましい硫黄分は３０質量ｐｐｍ以下である。

さらに、基油の粘度指数は、７０以上が好ましく、より好ましくは１００以上、さらに好ましくは１２０以上である。この粘度指数が７０以上の基油は、温度の変化による粘度変化が小さい。

（スルホンアミド化合物）
本実施形態の潤滑油組成物には、下記一般式（１）で表されるスルホンアミド化合物が配合される。該スルホンアミド化合物を潤滑油組成物の成分として用いることにより、リン分、硫黄分及び金属分を低減しても、耐摩耗性、高温清浄性及び塩基価維持性を高める効果を得ることができる。

上記式中、Ｒ^１は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基及び置換もしくは無置換のヘテロアリール基から選択される１種であり、Ｒ^２、Ｒ^３は、それぞれ独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基及び置換もしくは無置換のヘテロアリール基から選択される１種であり、またＲ^２及びＲ^３は結合して環構造または縮合環構造を形成していてもよい。

前記アルキル基は直鎖状及び分岐状アルキル基を含む。好ましいアルキル基は１〜２０の炭素原子を含むものであり、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びその他同様のものを含む。加えて前記アルキル基は、置換基で置換されていてもよい。前記アルキル基の炭素原子数は４〜１８であることがより好ましい。
上記置換基としては具体的には、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、アラルキル基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、フッ素化アルキル基、フッ素化アリール基、カルボキシル基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、イミノ基、スルホン基、チオカルボキシル基、カルボニル基、チオカルボニル基、ホルミル基、チオホルミル基、シラノール基、ヒドロカルビルオキシ基、ニトリル基、ピリジル基、アミド基、イミド基、イミダゾリル基、アンモニウム基、ヒドラゾ基、アゾ基、ジアゾ基、ケチミン基、エポキシ基、チオエポキシ基、オキシカルボニル基（エステル結合）、カルボニルチオ基（チオエステル結合）、オキシ基（エーテル結合）、グリシドキシ基、スルフィド基（チオエーテル結合）、ジスルフィド基、メルカプト基、ヒドロカルビルチオ基、スルホニル基、スルフィニル基、イミン残基、ヒドロカルビルオキシシリル基、有機スズ基などが挙げられる。
また前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。

前記置換もしくは無置換のアルキル基としては、具体的に例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシイソブチル基、１，２−ジヒドロキシエチル基、１，３−ジヒドロキシイソプロピル基、１，１−ジ（ヒドロキシメチル）エチル基、１，２，３−トリヒドロキシプロピル基、クロロメチル基、１−クロロエチル基、２−クロロエチル基、２−クロロイソブチル基、１，２−ジクロロエチル基、１，３−ジクロロイソプロピル基、１，１−ジ（クロロメチル）エチル基、１，２，３−トリクロロプロピル基、ブロモメチル基、１−ブロモエチル基、２−ブロモエチル基、２−ブロモイソブチル基、１，２−ジブロモエチル基、１，３−ジブロモイソプロピル基、１，１−ジ（ブロモメチル）エチル基、１，２，３−トリブロモプロピル基、ヨードメチル基、１−ヨードエチル基、２−ヨードエチル基、２−ヨードイソブチル基、１，２−ジヨードエチル基、１，３−ジヨードイソプロピル基、１，１−ジ（ヨードメチル）エチル基、１，２，３−トリヨードプロピル基、アミノメチル基、１−アミノエチル基、２−アミノエチル基、２−アミノイソブチル基、１，２−ジアミノエチル基、１，３−ジアミノイソプロピル基、１，１−ジ（アミノメチル）エチル基、１，２，３−トリアミノプロピル基、シアノメチル基、１−シアノエチル基、２−シアノエチル基、２−シアノイソブチル基、１，２−ジシアノエチル基、１，３−ジシアノイソプロピル基、１，１−ジ（シアノメチル）エチル基、１，２，３−トリシアノプロピル基、ニトロメチル基、１−ニトロエチル基、２−ニトロエチル基、２−ニトロイソブチル基、１，２−ジニトロエチル基、１，３−ジニトロイソプロピル基、１，１−ジ（ニトロメチル）エチル基、１，２，３−トリニトロプロピル基等が挙げられる。

前記シクロアルキル基は多環系環式アルキル基を含む。好ましいシクロアルキル基は環が３〜７の炭素原子で構成される構造を含むものであり、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、及びその他同様のものが含まれる。加えて前記シクロアルキル基は、置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、前記アルキル基において説明したものと同様である。

前記置換もしくは無置換のシクロアルキル基としては、例えば、メチルシクロペンチル基、ジメチルシクロペンチル基、メチルエチルシクロペンチル基、ジエチルシクロペンチル基、フェニルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、メチルエチルシクロヘキシル基、ジエチルシクロヘキシル基、フェニルシクロヘキシル基、メチルシクロヘプチル基、ジメチルシクロヘプチル基、メチルエチルシクロヘプチル基、ジエチルシクロヘプチル基等の炭素数６〜１１のアルキルシクロアルキル基（アルキル基のシクロアルキル基への置換位置も任意である）、ビシクロ[２,２,１]ヘプチル基、デカヒドロナフチル基を挙げることができる。

前記アルケニル基は直鎖状及び分岐状アルケニル基の両者を含む。好ましいアルケニル基は２〜２０の炭素原子を含むものである。加えて前記アルケニル基は、置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、前記アルキル基において説明したものと同様である。なお、前記アルケニル基の炭素原子数は４〜１８であることが好ましい。

前記置換もしくは無置換のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１，３−ブタンジエニル基、１−メチルビニル基、スチリル基、２，２−ジフェニルビニル基、１，２−ジフェニルビニル基、１−メチルアリル基、１，１−ジメチルアリル基、２−メチルアリル基、１−フェニルアリル基、２−フェニルアリル基、３−フェニルアリル基、３，３−ジフェニルアリル基、１，２−ジメチルアリル基、１−フェニル−１−ブテニル基、３−フェニル−１−ブテニル基等が挙げられる。

前記アルキニル基は直鎖状及び分岐状アルキニル基の両者を含む。好ましいアルキニル基は２〜４０の炭素原子を含むものである。加えて前記アルキニル基は、置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、前記アルキル基において説明したものと同様である。なお、前記アルキニル基の炭素原子数は４〜１８であることがより好ましい。

前記置換もしくは無置換のアルキニル基としては、具体的に例えば、エチニル基、メチルエチニル基、２−プロピニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基、フェニルエチニル基などが挙げられる。

前記アリール基は単環式基及び多環式基を含む。多環式基は２つの炭素が２つの隣接している環（これらの環は縮合している）によって共有されており、少なくとも１つの環が芳香族環であって、例えば、他方の環はシクロアルキル環、シクロアルケニル環、アリール環、ヘテロ環、及びヘテロ芳香族環である。加えて前記アリール基は、置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、前記アルキル基において説明したものと同様である。

前記無置換のアリール基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基、１−ナフタセニル基、２−ナフタセニル基、９−ナフタセニル基、１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基等を挙げることができる。
また前記置換のアリール基としては、例えば、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、デシルフェニル基、ウンデシルフェニル基、ドデシルフェニル基等の炭素数７〜１８のアルキルアリール基（アルキル基は直鎖状でも分枝状でもよく、またアリール基への置換位置も任意である）等や、さらには２−ビフェニルイル基、３−ビフェニルイル基、４−ビフェニルイル基、ｐ−ターフェニル−４−イル基、ｐ−ターフェニル−３−イル基、ｐ−ターフェニル−２−イル基、ｍ−ターフェニル−４−イル基、ｍ−ターフェニル−３−イル基、ｍ−ターフェニル−２−イル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基、ｐ−（２−フェニルプロピル）フェニル基、３−メチル−２−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、４−メチル−１−アントリル基、４’−メチルビフェニルイル基、４”−ｔ−ブチル−ｐ−ターフェニル−４−イル基等が挙げられる。

前記ヘテロアリール基としては、１〜３のヘテロ原子を含みうる単環ヘテロ芳香族基、例えば、ピロール、フラン、チオフェン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、及びピリミジン等の基が挙げられる。ヘテロアリール基は、２つの隣接する環（これらの環は縮合している）に２つの原子が共有されている２以上の環を有する多環式ヘテロ芳香族基を含み、ここで少なくとも１つの環はヘテロアリールであり、例えば、その他の環はシクロアルキル環、シクロアルケニル環、アリール環、ヘテロ環、及び／又はヘテロ芳香族環であることができる。加えて前記アリール基は、置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、前記アルキル基において説明したものと同様である。

前記置換もしくは無置換のヘテロアリール基としては、具体的に例えば、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、ピラジニル基、２−ピリジニル基、３−ピリジニル基、４−ピリジニル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、３−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、６−イソインドリル基、７−イソインドリル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、３−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、６−イソベンゾフラニル基、７−イソベンゾフラニル基、２−キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、１−カルバゾリル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、４−カルバゾリル基、９−カルバゾリル基、１−フェナンスリジニル基、２−フェナンスリジニル基、３−フェナンスリジニル基、４−フェナンスリジニル基、６−フェナンスリジニル基、７−フェナンスリジニル基、８−フェナンスリジニル基、９−フェナンスリジニル基、１０−フェナンスリジニル基、１−アクリジニル基、２−アクリジニル基、３−アクリジニル基、４−アクリジニル基、９−アクリジニル基、１，７−フェナンスロリン−２−イル基、１，７−フェナンスロリン−３−イル基、１，７−フェナンスロリン−４−イル基、１，７−フェナンスロリン−５−イル基、１，７−フェナンスロリン−６−イル基、１，７−フェナンスロリン−８−イル基、１，７−フェナンスロリン−９−イル基、１，７−フェナンスロリン−１０−イル基、１，８−フェナンスロリン−２−イル基、１，８−フェナンスロリン−３−イル基、１，８−フェナンスロリン−４−イル基、１，８−フェナンスロリン−５−イル基、１，８−フェナンスロリン−６−イル基、１，８−フェナンスロリン−７−イル基、１，８−フェナンスロリン−９−イル基、１，８−フェナンスロリン−１０−イル基、１，９−フェナンスロリン−２−イル基、１，９−フェナンスロリン−３−イル基、１，９−フェナンスロリン−４−イル基、１，９−フェナンスロリン−５−イル基、１，９−フェナンスロリン−６−イル基、１，９−フェナンスロリン−７−イル基、１，９−フェナンスロリン−８−イル基、１，９−フェナンスロリン−１０−イル基、１，１０−フェナンスロリン−２−イル基、１，１０−フェナンスロリン−３−イル基、１，１０−フェナンスロリン−４−イル基、１，１０−フェナンスロリン−５−イル基、２，９−フェナンスロリン−１−イル基、２，９−フェナンスロリン−３−イル基、２，９−フェナンスロリン−４−イル基、２，９−フェナンスロリン−５−イル基、２，９−フェナンスロリン−６−イル基、２，９−フェナンスロリン−７−イル基、２，９−フェナンスロリン−８−イル基、２，９−フェナンスロリン−１０−イル基、２，８−フェナンスロリン−１−イル基、２，８−フェナンスロリン−３−イル基、２，８−フェナンスロリン−４−イル基、２，８−フェナンスロリン−５−イル基、２，８−フェナンスロリン−６−イル基、２，８−フェナンスロリン−７−イル基、２，８−フェナンスロリン−９−イル基、２，８−フェナンスロリン−１０−イル基、２，７−フェナンスロリン−１−イル基、２，７−フェナンスロリン−３−イル基、２，７−フェナンスロリン−４−イル基、２，７−フェナンスロリン−５−イル基、２，７−フェナンスロリン−６−イル基、２，７−フェナンスロリン−８−イル基、２，７−フェナンスロリン−９−イル基、２，７−フェナンスロリン−１０−イル基、１−フェナジニル基、２−フェナジニル基、１−フェノチアジニル基、２−フェノチアジニル基、３−フェノチアジニル基、４−フェノチアジニル基、１０−フェノチアジニル基、１−フェノキサジニル基、２−フェノキサジニル基、３−フェノキサジニル基、４−フェノキサジニル基、１０−フェノキサジニル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、２−オキサジアゾリル基、５−オキサジアゾリル基、３−フラザニル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２−メチルピロール−１−イル基、２−メチルピロール−３−イル基、２−メチルピロール−４−イル基、２−メチルピロール−５−イル基、３−メチルピロール−１−イル基、３−メチルピロール−２−イル基、３−メチルピロール−４−イル基、３−メチルピロール−５−イル基、２−ｔ−ブチルピロール−４−イル基、３−（２−フェニルプロピル）ピロール−１−イル基、２−メチル−１−インドリル基、４−メチル−１−インドリル基、２−メチル−３−インドリル基、４−メチル−３−インドリル基、２−ｔ−ブチル１−インドリル基、４−ｔ−ブチル１−インドリル基、２−ｔ−ブチル３−インドリル基、４−ｔ−ブチル３−インドリル基等が挙げられる。

なお、以上説明した基がＲ^２、Ｒ^３である場合、Ｒ^２及びＲ^３は結合して環構造または縮合環構造を形成していてもよい。前記環構造を形成する場合の環としては、例えばシクロヘキサン環、シクロペンタン環などが挙げられ、前記縮合環構造を形成する場合の縮合環としては、ナフタリン環、フルオレン環、アセナフテン環、キノリン環、プリン環、キヌクリジン環などが挙げられる。

また本実施形態では、以上説明した基がＲ^２及びＲ^３の場合、これらの少なくともいずれかが、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基及び置換もしくは無置換のヘテロアリール基から選択される１種であること、すなわちＲ^２及びＲ^３が共に水素原子でないことが好ましい。具体的な態様としては、Ｒ^２及びＲ^３がともに上記の基のいずれかである場合、Ｒ^２及びＲ^３のいずれか一方が水素原子で他の一方が上記の基のいずれかである場合が挙げられる。
Ｒ^２及びＲ^３が共に水素原子であると、スルホンアミド化合物の極性が比較的大きくなると考えられ、基油への分散性あるいは溶解性が低下する等の好ましくない場合がある。

また本実施形態では、前記説明した基がＲ^２及びＲ^３が置換基を有する場合における該置換基が、それぞれ独立に炭素数が１〜２０の炭化水素基であることが好ましい。ここで該炭化水素基とは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、及びアラルキル基のいずれかを意味する。
Ｒ^２及びＲ^３における置換基が、上記炭化水素基でなく炭素、水素以外の他の原子を含むと、構造上複雑となり、製造プロセス、製造コストの面で問題となるだけでなく、化合物自体の安定性も低下する場合がある。
前記炭化水素の炭素数は４〜１８であることがより好ましい。

また本実施形態では、前記説明した基がＲ^２及びＲ^３の場合、これらの少なくともいずれかが、無置換のアルキル基、無置換のシクロアルキル基、無置換のアルケニル基、無置換のアルキニル基、無置換のアリール基及び無置換のヘテロアリール基から選択される１種であることが好ましい。
Ｒ^２及びＲ^３がアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基及びヘテロアリール基のいずれかであると、スルホンアミド化合物の基油への分散性が向上するため好ましいが、これらが置換基を有する場合には、化合物の製造上不利であるだけでなく、全体として化合物が大きくなり、効果が低減する場合がある。

この場合、前記無置換とする基としては、酸化安定性の観点から、アリール基、ヘテロアリール基、アルキル基とすることがより好ましく、アリール基とすることがさらに好ましい。

さらに本実施形態では、前記説明したＲ^１が、無置換のアルキル基、無置換のシクロアルキル基、無置換のアリール基及び無置換のヘテロアリール基から選択される１種であることが好ましい。
Ｒ^１が置換基を有する場合には、化合物の製造上不利であるだけでなく、全体として化合物が大きくなり、効果が低減する場合がある。
またこの場合、前記無置換とする基としては、製造コストの観点から、アリール基、ヘテロアリール基とすることがより好ましい。

以下に、本実施形態で使用可能なスルホンアミド化合物を例示する。
上記スルホンアミド化合物としては、ベンゼンスルホンアミド、２−メチルベンゼンスルホンアミド、４−メチルベンゼンスルホンアミド、２−クロロベンゼンスルホンアミド、４−クロロベンゼンスルホンアミド、２，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、３，５−ジクロロベンゼンスルホンアミド、２−ブロモベンゼンスルホンアミド、４−ブロモベンゼンスルホンアミド、２−ニトロベンゼンスルホンアミド、３−ニトロベンゼンスルホンアミド、４−ニトロベンゼンスルホンアミド、４−ヒドロキシベンゼンスルホンアミド、ナフタレンスルホンアミド、５−ヒドロキシナフタレンスルホンアミド、ベンゼンスルホンメチルアミド、ベンゼンスルホンエチルアミド、ベンゼンスルホンアニリド、ベンゼンスルホン−４−クロロアニリド、４−メチルベンゼンスルホンメチルアミド、４−メチルベンゼンスルホンエチルアミド、４−メチルベンゼンスルホンアニリド、４−メチルベンゼンスルホン−４−クロロアニリド、２−ニトロベンゼンスルホンメチルアミド、２−ニトロベンゼンスルホンエチルアミド、２−ニトロベンゼンスルホンアニリド、２−ニトロベンゼンスルホン−４−クロロアニリド、メタンスルホンアニリド、エタンスルホンアニリド、トリクロロメタンスルホンアニリド、トリフロロメタンスルホンアニリド、メタンスルホン−４−クロロアニリド、エタンスルホン−４−クロロアニリド、トリクロロメタンスルホン−４−クロロアニリド、トリフロロメタンスルホン−４−クロロアニリド、メタンスルホンナフタレンアミド、エタンスルホンナフタレンアミド、トリクロロメタンスルホンナフタレンアミド、トリフロロメタンスルホンナフタレンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ブチル−４−メチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−フェニル−４−ヒドロキシベンゼンスルホンアミド、５−ジメチルアミノ−１−ナフタレンスルホンアミド、２−アミノ−Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（４−アミノフェニル）−４−メチルベンゼンスルホンアミド、４−（２−アミノエチル）ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−（３−アミノフェニル）メタンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジオクチルメタンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジオクチルエタンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジブテニルメタンスルホンアミドなどを挙げることができる。

これらの具体的なスルホンアミド化合物の中では、前記一般式（１）におけるＲ^１、Ｒ^２及びＲ^３の少なくともいずれかが芳香族基であるものが好ましく、特にN−ブチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ブチル−４−メチルベンゼンスルホンアミドなどが、性能及びコストの観点から好ましく用いられる。

本実施形態においては、これら一般式（１）で表されるスルホンアミド化合物を一種単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。また、一般式（１）で表されるスルホンアミド化合物の配合量は、組成物基準で０．０１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以上３質量％以下であることがより好ましく、０．１質量％以上２質量％以下であることが特に好ましい。
一般式（１）で表されるスルホンアミド化合物の配合量が０．０１質量％未満であると、耐摩耗性、高温清浄性及び塩基価維持性などの性能が十分に発現されない場合があり、一方、配合量が５質量％を越えると、組成物中の硫黄含有量の増大に伴う自動車排出ガス浄化触媒の劣化を抑制することができない場合がある。

本実施形態の潤滑油組成物においては、さらに、酸化防止剤、無灰系分散剤、金属系清浄剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、金属不活性化剤、防錆剤、及び消泡剤の中から選ばれる少なくとも一種の添加剤を配合することが好ましい。

前記酸化防止剤としては、リンを含まない酸化防止剤が好ましく、例えば、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、モリブデンアミン錯体系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤等が挙げられる。
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ビス（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ノニルフェノール）、２，２’−イソブチリデンビス（４，６−ジメチルフェノール）；２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，４−ジメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−アミル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノメチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルベンジル）スルフィド、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、ｎ−オクチル−３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、ｎ−オクタデシル−３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、２，２’−チオ［ジエチル−ビス−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］などが挙げられる。
これらの中で、特にビスフェノール系及びエステル基含有フェノール系のものが好適である。

また、前記アミン系酸化防止剤としては、例えば、モノオクチルジフェニルアミン、モノノニルジフェニルアミンなどのモノアルキルジフェニルアミン系；４，４’−ジブチルジフェニルアミン、４，４’−ジペンチルジフェニルアミン、４，４’−ジヘキシルジフェニルアミン、４，４’−ジヘプチルジフェニルアミン、４，４’−ジオクチルジフェニルアミン、４，４’−ジノニルジフェニルアミンなどのジアルキルジフェニルアミン系；テトラブチルジフェニルアミン、テトラヘキシルジフェニルアミン；テトラオクチルジフェニルアミン、テトラノニルジフェニルアミンなどのポリアルキルジフェニルアミン系；及びα−ナフチルアミン、フェニル−α−ナフチルアミン、更にはブチルフェニル−α−ナフチルアミン、ペンチルフェニル−α−ナフチルアミン、ヘキシルフェニル−α−ナフチルアミン、ヘプチルフェニル−α−ナフチルアミン、オクチルフェニル−α−ナフチルアミン、ノニルフェニル−α−ナフチルアミンなどのアルキル置換フェニル−α−ナフチルアミン；などが挙げられる。
これらの中で、ジアルキルジフェニルアミン系及びナフチルアミン系のものが好適である。

前記モリブデンアミン錯体系酸化防止剤としては、６価のモリブデン化合物、具体的には三酸化モリブデン及び／又はモリブデン酸とアミン化合物とを反応させてなるもの、例えば、特開２００３−２５２８８７号公報に記載の製造方法で得られる化合物を用いることができる。
前記６価のモリブデン化合物と反応させるアミン化合物としては特に制限されないが、具体的には、モノアミン、ジアミン、ポリアミン及びアルカノールアミンが挙げられる。より具体的には、メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、メチルエチルアミン、メチルプロピルアミン等の炭素数１〜３０のアルキル基（これらのアルキル基は直鎖状でも分枝状でもよい）を有するアルキルアミン；エテニルアミン、プロペニルアミン、ブテニルアミン、オクテニルアミン、及びオレイルアミン等の炭素数２〜３０のアルケニル基（これらのアルケニル基は直鎖状でも分枝状でもよい）を有するアルケニルアミン；メタノールアミン、エタノールアミン、メタノールエタノールアミン、メタノールプロパノールアミン等の炭素数１〜３０のアルカノール基（これらのアルカノール基は直鎖状でも分枝状でもよい）を有するアルカノールアミン；メチレンジアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、及びブチレンジアミン等の炭素数１〜３０のアルキレン基を有するアルキレンジアミン；ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン等のポリアミン；ウンデシルジエチルアミン、ウンデシルジエタノールアミン、ドデシルジプロパノールアミン、オレイルジエタノールアミン、オレイルプロピレンジアミン、ステアリルテトラエチレンペンタミン等の上記モノアミン、ジアミン、ポリアミンに炭素数８〜２０のアルキル基又はアルケニル基を有する化合物やイミダゾリン等の複素環化合物；これらの化合物のアルキレンオキシド付加物；及びこれらの混合物等が例示できる。
また、特公平３−２２４３８号公報及び特開２００４−２８６６号公報に記載されているコハク酸イミドの硫黄含有モリブデン錯体等が例示できる。

前記硫黄系酸化防止剤としては、例えばフェノチアジン、ペンタエリスリトール−テトラキス−（３−ラウリルチオプロピオネート）、ジドデシルサルファイド、ジオクタデシルサルファイド、ジドデシルチオジプロピオネート、ジオクタデシルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ドデシルオクタデシルチオジプロピオネート、２−メルカプトベンゾイミダゾールなどが挙げられる。

このような酸化防止剤の中でも、金属分や硫黄分を低減する観点から、フェノール系酸化防止剤とアミン系酸化防止剤が好ましい。また、前記酸化防止剤は、一種を単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。中でも、酸化安定性の効果の観点から、フェノール系酸化防止剤一種又は二種以上とアミン系酸化防止剤一種又は二種以上との混合物が好ましい。
酸化防止剤の配合量は、組成物全量基準で、通常０．１〜５質量％の範囲が好ましく、０．１〜３質量％の範囲がより好ましい。

また、前記無灰分散剤としては、潤滑油に用いられる任意の無灰分散剤を用いることができるが、例えば、下記一般式（２）で表されるモノタイプのコハク酸イミド化合物、又は下記一般式（３）で表されるビスタイプのコハク酸イミド化合物が挙げられる。

上記一般式（２）、（３）において、Ｒ^６、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ、数平均分子量５００〜４，０００のアルケニル基もしくはアルキル基で、Ｒ^８及びＲ^９は同一でも異なっていてもよい。Ｒ^６、Ｒ^８及びＲ^９の数平均分子量は、好ましくは１，０００〜４，０００である。
上記Ｒ^６、Ｒ^８及びＲ^９の数平均分子量が５００以上であれば、基油への溶解性が良好であり、４，０００以下であれば清浄性が低下する恐れがない。

また、Ｒ^７、Ｒ^１０及びＲ^１１は、それぞれ、炭素数２〜５のアルキレン基で、Ｒ^１０及びＲ^１１は同一でも異なっていてもよく、ｒは１〜１０の整数を示し、ｓは０又は１〜１０の整数を示す。また、上記ｒは、好ましくは２〜５、より好ましくは３〜４である。ｒが１以上であると、清浄性が良好であり、ｒが１０以下であると、基油に対する溶解性も良好である。
さらに一般式（３）において、ｓは好ましくは１〜４、より好ましくは２〜３である。ｓが上記範囲内であれば、清浄性及び基油に対する溶解性の点で好ましい。

前記アルケニル基としては、ポリブテニル基、ポリイソブテニル基、エチレン−プロピレン共重合体を挙げることができ、アルキル基としてはこれらを水添したものである。好適なアルケニル基の代表例としては、ポリブテニル基又はポリイソブテニル基が挙げられる。該ポリブテニル基は、１−ブテンとイソブテンの混合物あるいは高純度のイソブテンを重合させたものとして得られる。
また、好適なアルキル基の代表例は、ポリブテニル基又はポリイソブテニル基を水添したものである。

上記アルケニルコハク酸イミド化合物若しくはアルキルコハク酸イミド化合物は、通常、ポリオレフィンと無水マレイン酸との反応で得られるアルケニルコハク酸無水物、又はそれを水添して得られるアルキルコハク酸無水物を、ポリアミンと反応させることによって製造することができる。また、前記モノタイプのコハク酸イミド化合物及びビスタイプのコハク酸イミド化合物は、上記アルケニルコハク酸無水物若しくはアルキルコハク酸無水物とポリアミンとの反応比率を変えることによって製造することができる。

前記ポリオレフィンを形成するオレフィン単量体としては、炭素数２〜８のα−オレフィンの一種又は二種以上を混合して用いることができるが、イソブテンとブテン−１との混合物を好適に用いることができる。
また、前記ポリアミンとしては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミン、ペンチレンジアミン等の単一ジアミン；ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、ジ（メチルエチレン）トリアミン、ジブチレントリアミン、トリブチレンテトラミン、ペンタペンチレンヘキサミン等のポリアルキレンポリアミン；アミノエチルピペラジン等のピペラジン誘導体；などを挙げることができる。

また、無灰分散剤としては、前記アルケニル若しくはアルキルコハク酸イミド化合物の他に、そのホウ素誘導体、及び／又はこれらを有機酸で変性したものを用いてもよい。
アルケニル若しくはアルキルコハク酸イミド化合物のホウ素誘導体は、常法により製造したものを使用することができる。例えば、前記ポリオレフィンを無水マレイン酸と反応させてアルケニルコハク酸無水物とした後、更に上記のポリアミンと酸化ホウ素、ハロゲン化ホウ素、ホウ酸、ホウ酸無水物、ホウ酸エステル、ホウ素酸のアンモニウム塩等のホウ素化合物を反応させて得られる中間体と反応させてイミド化させることによって得られる。
このホウ素誘導体中のホウ素含有量には、特に制限はないが、ホウ素として、通常、０．０５〜５質量％の範囲、好ましくは０．１〜３質量％の範囲である。

また、前記無灰分散剤の配合量は、潤滑油組成物全量基準で、０．５〜１５質量％の範囲が好ましく、より好ましくは１〜１０質量％の範囲、さらに好ましくは３〜７質量％の範囲である。
配合量が０．５質量％未満の場合は、高温下における塩基価維持性に対する効果が少なく、一方、１５質量％を越える場合は、潤滑油組成物の低温流動性が大幅に悪化するため、それぞれ好ましくない。

前記金属系清浄剤としては、潤滑油に用いられる任意のアルカリ土類金属系清浄剤が使用可能であり、例えば、アルカリ土類金属スルホネート、アルカリ土類金属フェネート、アルカリ土類金属サリシレート及びこれらの中から選ばれる二種類以上の混合物等が挙げられる。

上記アルカリ土類金属スルホネートとしては、分子量３００〜１，５００、好ましくは４００〜７００のアルキル芳香族化合物をスルホン化することによって得られるアルキル芳香族スルホン酸のアルカリ土類金属塩、特にマグネシウム塩及び／又はカルシウム塩等が挙げられ、中でもカルシウム塩が好ましく用いられる。

前記アルカリ土類金属フェネートとしては、アルキルフェノール、アルキルフェノールサルファイド、アルキルフェノールのマンニッヒ反応物のアルカリ土類金属塩、特にマグネシウム塩及び／又はカルシウム塩等が挙げられ、中でもカルシウム塩が特に好ましく用いられる。

前記アルカリ土類金属サリシレートとしては、アルキルサリチル酸のアルカリ土類金属塩、特にマグネシウム塩及び／又はカルシウム塩等が挙げられ、中でもカルシウム塩が好ましく用いられる。

前記アルカリ土類金属系清浄剤を構成するアルキル基としては、炭素数４〜３０のものが好ましく、より好ましくは６〜１８の直鎖又は分枝アルキル基であり、これらは直鎖でも分枝でもよい。
これらはまた１級アルキル基、２級アルキル基又は３級アルキル基でもよい。

また、アルカリ土類金属スルホネート、アルカリ土類金属フェネート及びアルカリ土類金属サリシレートとしては、前記のアルキル芳香族スルホン酸、アルキルフェノール、アルキルフェノールサルファイド、アルキルフェノールのマンニッヒ反応物、アルキルサリチル酸等を、直接マグネシウム及び／又はカルシウムのアルカリ土類金属の酸化物や水酸化物等のアルカリ土類金属塩基と反応させたり、又は一度ナトリウム塩やカリウム塩等のアルカリ金属塩としてからアルカリ土類金属塩と置換させること等により得られる中性アルカリ土類金属スルホネート、中性アルカリ土類金属フェネート及び中性アルカリ土類金属サリシレートだけでなく、中性アルカリ土類金属スルホネート、中性アルカリ土類金属フェネート及び中性アルカリ土類金属サリシレートと過剰のアルカリ土類金属塩やアルカリ土類金属塩基を水の存在下で加熱することにより得られる塩基性アルカリ土類金属スルホネート、塩基性アルカリ土類金属フェネート及び塩基性アルカリ土類金属サリシレートや、炭酸ガスの存在下で中性アルカリ土類金属スルホネート、中性アルカリ土類金属フェネート及び中性アルカリ土類金属サリシレートをアルカリ土類金属の炭酸塩又はホウ酸塩を反応させることにより得られる過塩基性アルカリ土類金属スルホネート、過塩基性アルカリ土類金属フェネート及び過塩基性アルカリ土類金属サリシレートも含まれる。

本実施形態に用いる金属系清浄剤としては、組成物中の硫黄分を低減する目的から、アルカリ土類金属サリシレートやアルカリ土類金属フェネートが好ましく、中でも過塩基性サリシレートや過塩基性フェネートが好ましく、特に過塩基性カルシウムサリシレートが好ましい。

本実施形態に用いる金属系清浄剤の全塩基価は、１０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲が好ましく、より好ましくは１５〜４５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であり、これらの中から選ばれる一種又は二種以上併用することができる。
なお、ここでいう全塩基価とは、ＪＩＳ Ｋ ２５０１「石油製品及び潤滑油−中和価試験方法」の７．に準拠して測定される電位差滴定法（塩基価・過塩素酸法）による全塩基価を意味する。

また、本実施形態に用いる金属系清浄剤としては、その金属比に特に制限はなく、通常２０以下のものを一種又は二種以上混合して使用できるが、好ましくは、金属比が３以下、より好ましく１．５以下、特に好ましくは１．２以下の金属系清浄剤を用いることが、酸化安定性や塩基価維持性及び高温清浄性等により優れるため特に好ましい。
なお、ここでいう金属比とは、金属系清浄剤における金属元素の価数×金属元素含有量（モル％）／せっけん基含有量（モル％）で表され、金属元素とはカルシウム、マグネシウム等、せっけん基とは、スルホン酸基、フェノール基及びサリチル酸基等を意味する。

前記金属系清浄剤の配合量は、潤滑油組成物全量基準で、０．０１〜２０質量％の範囲が好ましく、０．１〜１０質量％の範囲がより好ましく、０．５〜５質量％の範囲がさらに好ましい。
配合量が０．０１質量％未満の場合、高温清浄性や酸化安定性、塩基価維持性などの性能が得られにくくなるため好ましくない。一方、２０質量％以下であれば、通常その添加量に見合った効果が得られるが、当該金属系清浄剤の配合量の上限については、上記の範囲に関わらず、配合量を可能な限り低くすることが肝要である。それによって、潤滑油組成物の金属分、すなわち硫酸灰分を少なくして、自動車の排出ガス浄化装置の劣化を防止することができる。
また、金属系清浄剤は、上記の規定量を含有する限り、単独又は二種以上を組み合わせて用いてもよい。

本実施形態においては、前記スルホンアミド化合物を基油中に均一に分散あるいは溶解させることが前述の効果を発揮させるために有効である。その観点から、本実施形態においては、さらにスルホンアミド化合物の分散性向上剤として、前記金属系清浄剤、無灰系分散剤などを用いてもよい。
具体的には、前記金属系清浄剤の中では過塩基性カルシウムサリシレートまたは過塩基性カルシウムフェネートが、前記無灰系分散剤の中では前記ポリブテニルコハク酸ビスイミドが特に好ましい。なお、上記過塩基性カルシウムサリシレート及び過塩基性カルシウムフェネートの全塩基価は１００〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であることが好ましく、２００〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲がより好ましい。

前記粘度指数向上剤としては、例えば、ポリメタクリレート、分散型ポリメタクリレート、オレフィン系共重合体（例えば、エチレン−プロピレン共重合体など）、分散型オレフィン系共重合体、スチレン系共重合体（例えば、スチレン−ジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体など）などが挙げられる。
粘度指数向上剤の配合量は、配合効果の点から、潤滑油組成物全量基準で、０．５〜１５質量％の範囲が好ましく、より好ましくは１〜１０質量％の範囲である。

前記流動点降下剤としては、例えば、重量平均分子量が５０００〜５０，０００程度のポリメタクリレートなどが挙げられる。
流動点降下剤の配合量は、配合効果の点から、潤滑油組成物全量基準で、０．１〜２質量％の範囲が好ましく、より好ましくは０．１〜１質量％の範囲である。

前記金属不活性化剤としては、例えばベンゾトリアゾール系、トリルトリアゾール系、チアジアゾール系、及びイミダゾール系化合物等が挙げられる。
金属不活性剤の配合量は、潤滑油組成物全量基準で、０．０１〜３質量％の範囲が好ましく、より好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。

前記防錆剤としては、例えば石油スルホネート、アルキルベンゼンスルホネート、ジノニルナフタレンスルホネート、アルケニルコハク酸エステル、多価アルコールエステル等が挙げられる。
これら防錆剤の配合量は、配合効果の点から、潤滑油組成物全量基準で、０．０１〜１質量％の範囲が好ましく、より好ましくは０．０５〜０．５質量％である。

前記消泡剤としては、例えばシリコーン油、フルオロシリコーン油及びフルオロアルキルエーテル等が挙げられ、配合量は、消泡効果及び経済性のバランスなどの点から、潤滑油組成物全量基準で、０．００５〜０．５質量の範囲が好ましく、より好ましくは０．０１〜０．２質量％の範囲である。

本実施形態の潤滑油組成物においては、さらに必要に応じて摩擦調整剤、耐摩耗剤、極圧剤を配合してもよい。
前記摩擦低減剤としては、潤滑油用の摩擦低減剤として通常用いられている任意の化合物が使用可能であり、例えば、炭素数６〜３０のアルキル基又はアルケニル基を分子中に少なくとも１個有する、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、脂肪酸、脂肪族アルコール、脂肪族アミン、脂肪族エーテル等の無灰摩擦低減剤が挙げられる。
摩擦低減剤の配合量は、潤滑油組成物全量基準で０．０１〜２質量％の範囲が好ましく、より好ましくは０．０１〜１質量％の範囲である。

前記耐摩耗剤又は極圧剤としては、ジチオリン酸亜鉛、リン酸亜鉛、ジチオカルバミン酸亜鉛、ジチオカルバミン酸モリブデン、ジチオリン酸モリブデン、ジスルフィド類、硫化オレフィン類、硫化油脂類、硫化エステル類、チオカーボネート類、チオカーバメート類、ポリサルファイド類等の硫黄含有化合物；亜リン酸エステル類、リン酸エステル類、ホスホン酸エステル類、及びこれらのアミン塩又は金属塩等のリン含有化合物；チオ亜リン酸エステル類、チオリン酸エステル類、チオホスホン酸エステル類、及びこれらのアミン塩又は金属塩等の硫黄及びリン含有耐摩耗剤；などが挙げられる。

耐摩耗剤又は極圧剤を配合する場合、その配合量は、耐摩耗剤又は極圧剤を配合することによる潤滑油中のリン分や硫黄分並びに金属分の含有量が過大にならないように留意する必要がある。

本実施形態の潤滑油組成物は、以上の組成からなるものであるが、その性状として以下を満たすことが好ましい。
（１）硫酸灰分（ＪＩＳ Ｋ２２７２）が、１．２質量％以下、より好ましくは１．０質量％以下、特に好ましくは０．８質量％以下であること。かつ、
（２）リン含有量（ＪＩＳ−５Ｓ−３８−９２）が、０．１２質量％以下、より好ましくは０．１０質量％以下、特に好ましくは０．０９質量％以下であること。
さらに、上記に加えて以下を満たすことがより好ましい。
（３）硫黄含有量（ＪＩＳ Ｋ２５４１）が、０．１２質量％以下、より好ましくは０．１０質量％以下、特に好ましく０．０８質量％以下であること。
このような性状を満たす本実施形態の潤滑油組成物は、自動車エンジンの酸化触媒、三元触媒、ＮＯｘ吸蔵型還元触媒、ディーゼルパティキュレートフィルター（ＤＰＦ）等の劣化を抑制できる。また、本実施形態の潤滑油組成物は、このような性状であっても、耐摩耗性、高温清浄性、塩基価維持性などの内燃機関用潤滑油に要求される基本的性能を高めることができる。

本実施形態の潤滑油組成物は、耐摩耗性、塩基価維持性、高温清浄性に優れ、このため油交換期間をより長期化できるものである。そのため、二輪車、四輪車、発電用、舶用等のガソリンエンジン、ディーゼルエンジン、ガスエンジン等の内燃機関用潤滑油として好ましく使用することができ、低硫黄、低灰分のため、特に排ガス後処理装置を装着した内燃機関用に好適である。

また、本実施形態の潤滑性組成物は、酸化安定性が要求されるような潤滑油、例えば、自動又は手動変速機等の駆動系用潤滑油、グリース、湿式ブレーキ油、油圧作動油、タービン油、圧縮機油、軸受け油、冷凍機油等の潤滑油としても好適に使用することができる。

次に、実施例及び比較例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
＜性状、性能の測定方法＞
以下の実施例、比較例における潤滑油組成物の性状及び性能は、次の方法によって求めた。
（１）動粘度
ＪＩＳ Ｋ ２２８３に準拠して測定した。
（２）カルシウム、及びリンの含有量
ＪＰＩ−５Ｓ−３８−９２に準拠して測定した。
（３）亜鉛の含有量
ＪＰＩ−５Ｓ−３８−９２に準拠して測定した。
（４）硫黄含有量
ＪＩＳ Ｋ ２５４１に準拠して測定した。
（５）硫酸灰分
ＪＩＳ Ｋ ２２７２に準拠して測定した。
（６）銅溶出量
ＪＰＩ−５Ｓ−３８−９２に準拠して測定した。
（７）塩基価
ＪＩＳ Ｋ ２５０１に準拠して測定した。

（６）往復動摩擦試験
往復動摩擦試験機にて、試験板として硬度（ＨＲＣ）が６１、表面の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．００４μｍで、大きさが３．９ｍｍ×３８ｍｍ×５８ｍｍのＳＵＪ−２製板、試験球として直径が１０ｍｍのＳＵＪ−２製ボールを用い、下記の試験条件で摩耗試験を行った。摩耗試験後、試験球の摩耗痕径を測定した。摩耗試験後の試験球の摩耗痕径が小さいほど、耐摩耗性が優れていることを示す。
−試験条件−
・試験温度：１００℃
・荷重：２００Ｎ
・振幅１５ｍｍ
・振動数：１０Ｈｚ
・試験時間：３０分

（７）ホットチューブ試験
試験温度は３００℃に設定し、その他の条件については、ＪＰＩ−５Ｓ−５５−９９に準拠して測定した。試験後の評点はＪＰＩ−５Ｓ−５５−９９に準拠してテストチューブに付着したラッカーを０点（黒色）〜１０点（無色）の１１段階にて評価した。なお、数字が大きいほど堆積物が少なく高温清浄性が良好であることを示す。

（８）酸化安定度試験
ＪＩＳ Ｋ２５１４−１９９６に準拠して内燃機関用潤滑油酸化安定度試験（Ｉｎｄｉａｎａ Ｓｔｉｒｒｉｎｇ Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ Ｔｅｓｔ）を、下記の試験条件で実施した。
−試験条件−
・試験温度：１６５．５℃
・回転数：１３００ｒｐｍ
・試験時間：９６時間
・触媒：銅板及び鉄板
上記試験後、油の塩基価、銅量（銅溶出量）を測定した。塩基価残存率は以下の式で算出した。なお、塩基価残存率が大きいほどロングドレン性に優れており、更油交換期間が長いことを示す。また、銅溶出量は多いほど、銅含有金属への影響が大きく、金属が腐食し易いことを表す。
塩基価残存率（％）＝（試験後の潤滑油組成物の塩基価／試験前の潤滑油組成物の塩基価）×１００

＜実施例１、比較例１＞
第１表に示した基油及び添加剤を第１表に示す割合で配合して、内燃機関用潤滑油組成物を調製し、その組成物の性状・組成及び性能を第１表に示す。

［注］
＊１：水素化精製基油（４０℃動粘度＝２１ｍｍ^２／ｓ、１００℃動粘度＝４．５ｍｍ^２／ｓ、粘度指数＝１２７、％Ｃ_Ａ＝０、硫黄分２０質量ｐｐｍ未満、ＮＯＡＣＫ試験蒸発量＝１３．３質量％）
＊２：ポリメタクリレート（重量平均分子量＝４２００００、樹脂量３９質量％）
＊３：ポリアルキルメタクリレート（重量平均分子量＝６０００）
＊４：過塩基性カルシウムサリシレート（塩基価（過塩素酸法）＝２２５ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｃａ含有量＝７．８質量％、硫黄含有量＝０．３質量％
＊５：ポリブテニルコハク酸ビスイミド（ポリブテニル基の平均分子量＝２０００、窒素含有量＝０．９９質量％）
＊６：ｎ−オクタデシル−３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート
＊７：ジアルキルジフェニルアミン（窒素含有量＝４．６２質量％）
＊８：亜鉛含有量＝９．０質量％、リン含有量＝８．２質量％、硫黄含有量＝１７．１質量％、アルキル基：第２級ブチル基及び第２級ヘキシル基の混合物
＊９：Ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド（大八化学社製、商品名「ＢＭ−４」）
＊１０：シリコーン系消泡剤

第１表に示すように、スルホンアミド化合物Ａを配合した実施例の潤滑油組成物は、低リン分、低硫酸灰分であっても、耐摩耗性、高温清浄性、及び塩基価残存性が良好であることが分る（実施例１）。
これに対して、実施例のスルホンアミド化合物Ａに替えてジアルキルジチオリン酸亜鉛を用い、かつ金属系清浄剤の配合量を変更して調製した比較例１の潤滑油組成物は、実施例１の内燃機関用潤滑油組成物に比べて、耐摩耗性は同等であるが、高温清浄性（ホットチューブ試験の評点）及び塩基価残存率が著しく劣っている。また、比較例１の潤滑油組成物は、実施例の組成物と比較して、硫黄分含有量も高いことがわかる。

本発明は、低リン分、低硫黄分、低金属分（低硫酸灰分）であっても耐摩耗性、高温清浄性及び塩基価維持性に優れる潤滑油組成物を低コストで提供することができる。また、本発明は、従来、不可欠な添加剤として用いられていたジチオリン酸亜鉛を配合することなく、より優れた性能を有する潤滑油組成物を提供することができる。
したがって、ガソリンエンジン、ディーゼルエンジン、ガスエンジンなど、内燃機関用潤滑油組成物として広くかつ有効に利用することができる。

Claims (13)

1. 基油に、下記の一般式（１）で表されるスルホンアミド化合物と、金属系清浄剤とを配合してなる潤滑油組成物。
   

   

   
   （式中、Ｒ^１ は置換のアリール基であり、Ｒ^２、Ｒ^３は、それぞれ独立に水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基及び置換もしくは無置換のヘテロアリール基から選択される１種であり、またＲ^２及びＲ^３は結合して環構造または縮合環構造を形成していてもよく、置換基としてはハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基（但し、アルキル基を置換する場合を除く）、アルケニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、芳香族炭化水素基（但し、アリール基を置換する場合を除く）、芳香族複素環基、アラルキル基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、スルホン基、チオカルボキシル基、ホルミル基、チオホルミル基、シラノール基、ニトリル基、ピリジル基、イミダゾリル基、ジアゾ基、グリシドキシ基、メルカプト基のいずれか１種以上である。）
2. 前記一般式（１）におけるＲ^２及びＲ^３の少なくともいずれかが、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のシクロアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアリール基及び置換もしくは無置換のヘテロアリール基から選択される１種である請求項１に記載の潤滑油組成物。
3. 前記一般式（１）におけるＲ^２及びＲ^３の少なくともいずれかが置換基を有する場合、該置換基が、それぞれ独立に炭素数が１〜２０の炭化水素基である請求項１または２に記載の潤滑油組成物。
4. 前記一般式（１）におけるＲ^２及びＲ^３の少なくともいずれかが、無置換のアルキル基、無置換のシクロアルキル基、無置換のアルケニル基、無置換のアルキニル基、無置換のアリール基及び無置換のヘテロアリール基から選択される１種である請求項１または２に記載の潤滑油組成物。
5. 前記一般式（１）におけるＲ ^２ 及びＲ ^３ のいずれか一方が水素原子である請求項１〜４のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
6. 前記一般式（１）におけるＲ ^１ 、Ｒ ^２ 及びＲ ^３ の少なくともいずれかが芳香族基である請求項１〜５のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
7. リン含有量が組成物基準で０．１２質量％以下であり、かつ硫酸灰分が１．２質量％以下である請求項１〜６のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
8. 前記基油の％Ｃ _Ａ が３．０以下で、硫黄分が５０質量ｐｐｍ以下である請求項１〜７のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
9. 前記スルホンアミド化合物の配合量が組成物基準で０．０１質量％以上５質量％以下である請求項１〜８のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
10. 酸化防止剤、無灰分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、金属不活性化剤、防錆剤、及び消泡剤の中から選ばれる一種の添加剤を配合する請求項１〜９のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
11. 前記酸化防止剤は、リンを含有しない請求項１０に記載の潤滑油組成物。
12. 硫黄含有量が組成物基準で０．１２質量％以下である請求項１〜１１のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。
13. 内燃機関用潤滑油組成物である請求項１〜１２のいずれか１項に記載の潤滑油組成物。