JP5878439B2 - 等間隔パターン評価装置及び等間隔パターン評価方法 - Google Patents
等間隔パターン評価装置及び等間隔パターン評価方法 Download PDFInfo
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Description
3 被検体フイルム
4 照明装置
6 エリアセンサカメラ
7 第1偏光板
8 第2偏光板
9 基準マスク
11 カメラ制御部
12 画像処理部
15 平行モアレ評価部
16 回転モアレ評価部
17 データ処理部
31,32,33 被検体フイルム
41,42,43 平行モアレ画像
51,52,53 回転モアレ画像
51A,52A,53A 包絡線
Claims (12)
- 互いに異なる位相差特性を有するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列された被検体フイルムのパターンを評価する等間隔パターン評価装置であって、
発光面からの光を前記被検体フイルムの一方の面に向けて照射する照明装置と、
前記被検体フイルムを挟むように設けられ、前記被検体フイルムの第1位相差領域の輝度と第2位相差領域の輝度とを識別できるようにそれぞれの第1及び第2透過軸が設定された第1及び第2偏光板と、
前記第1及び第2位相差領域の設計幅及び設計間隔と同じ幅及び間隔でストライプ状の2つの領域が交互に複数並べて配列され、前記2つの領域の輝度が同様に識別できるように設定された基準マスクと、
前記被検体フイルムを透過した検査光を撮像して画像化する撮像装置と、
前記撮像装置で撮像された撮像画像における前記被検体フイルムのパターンと前記基準マスクのパターンとで生じる平行モアレ又は回転モアレを評価する画像処理部と
を有することを特徴とする等間隔パターン評価装置。 - 前記被検体フイルムのパターンが複数本以上含まれる所定のエリアに仮想的に分割するエリア分割部を有し、
前記撮像装置は前記所定のエリアごとに画像を撮像し、前記画像処理部はエリアごとに得られた複数の画像のそれぞれについて前記所定のエリアの平均輝度を算出することを特徴とする請求項1記載の等間隔パターン評価装置。 - 前記撮像装置は、前記基準マスクのパターン方向に対して前記被検体フイルムのパターン方向をゼロでない微小角度だけ相対的に傾けて生じる回転モアレを撮像し、前記画像処理部は得られた回転モアレ画像の包絡線の方向及び角度を算出し、前記包絡線の方向及び角度と前記微小角度の方向及び角度とを比較することを特徴とする請求項1記載の等間隔パターン評価装置。
- 前記基準マスクの2つの領域のうち、一方の領域は略不透明とし、他方は略透明とすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の等間隔パターン評価装置。
- 前記基準マスクは、前記被検体フイルムと同じ材料及び構成を有するもののうちそのパターンの幅及び間隔が正常なものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の等間隔パターン評価装置。
- 前記撮像装置は、テレセントリック受光系を持つカメラであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の等間隔パターン評価装置。
- 互いに異なる位相差特性を有するストライプ状の第1及び第2位相差領域が交互に複数並べて配列された被検体フイルムのパターンを評価する等間隔パターン評価方法であって、
照明装置の発光面から光を前記被検体フイルムの一方の面に向けて照射し、
前記被検体フイルムを挟むように、前記被検体フイルムの第1位相差領域の輝度と第2位相差領域の輝度とを識別できるようにそれぞれの第1及び第2透過軸が設定された第1及び第2偏光板とを設け、
前記第1及び第2位相差領域の設計幅及び設計間隔と同じ幅及び間隔でストライプ状の2つの領域が交互に複数並べて配列され、前記2つの領域の輝度が同様に識別できるように設定された基準マスクを設け、
前記被検体フイルムを透過した検査光を撮像し、
前記撮像装置で撮像された撮像画像における前記被検体フイルムのパターンと前記基準マスクのパターンとで生じる平行モアレ又は回転モアレを評価することを特徴とする等間隔パターン評価方法。 - 前記被検体フイルムのパターンが複数本以上含まれる所定のエリアに仮想的に分割し、
前記所定のエリアごとに画像を撮像し、エリアごとに得られた複数の画像のそれぞれについて前記所定のエリアの平均輝度を算出することを特徴とする請求項7記載の等間隔パターン評価方法。 - 前記基準マスクのパターン方向に対して前記被検体フイルムのパターン方向をゼロでない微小角度だけ相対的に傾けて生じる回転モアレを撮像し、
得られた回転モアレ画像の包絡線の方向及び角度を算出し、前記包絡線の方向及び角度と前記微小角度の方向及び角度とを比較することを特徴とする請求項7記載の等間隔パターン評価方法。 - 前記基準マスクの2つの領域のうち、一方の領域は略不透明とし、他方は略透明とすることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項記載の等間隔パターン評価方法。
- 前記基準マスクは、前記被検体フイルムと同じ材料及び構成を有するもののうちそのパターンの幅及び間隔が正常なものであることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項記載の等間隔パターン評価方法。
- 前記撮像は、テレセントリック受光系を持つカメラで行われることを特徴とする請求項7〜11のいずれか1項記載の等間隔パターン評価方法。
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