JP5864945B2 - X線導波路 - Google Patents
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Description
n=1−δ−iβ’=n’−iβ’ (1)
δは物質の電子密度ρeに比例するため電子密度の大きい物質ほど屈折率の実部が小さくなることになる。また、屈折率実部n’は、1−δとなる。さらに、電子密度ρeは原子密度ρaと原子番号Zに比例する。このようにX線に対する物質の屈折率は複素数で表される。その実部n’を本明細書中では屈折率実部または屈折率の実部と称し、虚部β’を屈折率虚部または屈折率の虚部と称する。
θB<θC−total (4)
これはコアとクラッドの界面の全反射臨界角θc−totalが、コアである多層膜のX線に対するブラッグ角θBより大きいということである。すなわち、コアである多層膜のX線に対するブラッグ角θBが、コアとクラッドの界面の全反射臨界角θc−totalより小さいということである。この条件により、多層膜であるコアがもつ1次元周期性に起因するブラッグ角付近の有効伝搬角度をもつ導波モードを、常にクラッドとコアとの界面における全反射によりコアに閉じ込め、X線の伝搬に寄与させることができる。ここで、有効伝搬角度θ’(°)は、膜の面に平行な方向から測られる角度であり、導波モードの伝搬方向の波数ベクトル(伝搬定数)kz、真空中の波数ベクトルk0を用いて、式(5)で定義される。
102 クラッド
103 クラッド
104 要素構造
105 高屈折率実部をもつ物質の層
106 低屈折率実部をもつ物質の層
107 全反射臨界角
108 ブラッグ角
109 全反射臨界角
301 クラッド
302 クラッド
303 コア
401 周期共鳴導波モードの損失を表す点
402 フォトニックバンドギャップ(ブラッグ反射)を表す角度域
403 導波モードが存在可能な角度域
404 導波モードが存在できない(放射モードとなる)角度域
501 クラッドの領域
502 クラッドの領域
503 コアの領域
Claims (11)
- X線を導波させるコアと、前記コアにX線を閉じ込めるクラッドと、を有するX線導波路であって、
前記コアは、屈折率実部が互いに異なる無機物質からなる複数の層が、前記コアと前記クラッドの界面に垂直な方向に、周期的に積層された1次元周期構造を有し、
X線波長範囲内のいずれかの波長において、前記コアと前記クラッドは、前記コアと前記クラッドとの界面での前記X線の前記界面に平行な方向からの全反射臨界角が前記コアの1次元周期構造の周期性に起因する前記界面に平行な方向からのブラッグ角よりも大きく、前記1次元周期構造の各層間の界面におけるX線の前記界面に平行な方向からの全反射臨界角が、前記ブラッグ角よりも小さいことを特徴とするX線導波路。 - 8キロエレクトロンボルトの光子エネルギーをもつX線に対して、前記コアと前記クラッドは、前記コアと前記クラッドとの界面での前記X線の前記界面に平行な方向からの全反射臨界角が前記コアの1次元周期構造の周期性に起因する前記界面に平行な方向からのブラッグ角よりも大きく、前記1次元周期構造の各層間の界面におけるX線の前記界面に平行な方向からの全反射臨界角が、前記ブラッグ角よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載のX線導波路。
- 前記複数の層は、第一の無機物質から成る第一の層と、前記第一の無機物質よりも屈折率実部の低い第二の無機物質から成る第二の層とが交互に積層され、前記第一の層の周期方向の厚さが、前記第二の層の周期方向の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項1又は2に記載のX線導波路。
- 前記1次元周期構造は、3種類以上の互いに異なる屈折率実部の物質の層から成り、前記1次元周期構造の各層間の界面における前記界面に平行な方向からの全反射臨界角のうち最も大きい全反射臨界角が前記ブラッグ角よりも小さいことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のX線導波路。
- 更に、前記コアと前記クラッドとの間に、これらの密着性を向上させるための密着層を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のX線導波路。
- 前記クラッドは、前記コアの上部に位置する上部クラッドと下部に位置する下部クラッドとを備え、前記クラッドは、X線の導波方向に沿って厚さが変化することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のX線導波路。
- 前記コアを導波するX線の位相が揃っていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のX線導波路。
- X線が前記1次元周期構造の周期に共鳴する周期共鳴導波モードのみ導波されることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のX線導波路。
- 前記1次元周期構造の周期数が20以上であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のX線導波路。
- 前記コアを形成する屈折率実部が異なる無機物質が、Be、B、C、B4C、BN、SiC、Si3N4、SiN、Al2O3、MgO、TiO2、SiO2、Pから選ばれる少なくとも2種以上であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載のX線導波路。
- 前記クラッドを形成する物質が、Au、W、Ta、Pt、Ir、Osから選ばれる少なくとも1種以上であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載のX線導波路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011171132A JP5864945B2 (ja) | 2010-09-02 | 2011-08-04 | X線導波路 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010196522 | 2010-09-02 | ||
JP2010196522 | 2010-09-02 | ||
JP2011171132A JP5864945B2 (ja) | 2010-09-02 | 2011-08-04 | X線導波路 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012073232A JP2012073232A (ja) | 2012-04-12 |
JP2012073232A5 JP2012073232A5 (ja) | 2014-09-18 |
JP5864945B2 true JP5864945B2 (ja) | 2016-02-17 |
Family
ID=44720082
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011171132A Expired - Fee Related JP5864945B2 (ja) | 2010-09-02 | 2011-08-04 | X線導波路 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9129718B2 (ja) |
EP (1) | EP2612330B1 (ja) |
JP (1) | JP5864945B2 (ja) |
CN (1) | CN103081025A (ja) |
WO (1) | WO2012029676A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5864945B2 (ja) * | 2010-09-02 | 2016-02-17 | キヤノン株式会社 | X線導波路 |
JP2012226081A (ja) * | 2011-04-19 | 2012-11-15 | Canon Inc | X線導波路 |
JP2013064713A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-04-11 | Canon Inc | X線導波路及びx線導波システム |
US20130064352A1 (en) * | 2011-09-09 | 2013-03-14 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray waveguide, process of producing x-ray waveguide, and x-ray guiding system |
JP2013064628A (ja) * | 2011-09-16 | 2013-04-11 | Canon Inc | X線導波路システム |
US20140294158A1 (en) * | 2013-03-26 | 2014-10-02 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray waveguide |
CN111048226B (zh) * | 2019-12-27 | 2022-04-26 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种超反射镜 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1996011516A1 (en) * | 1994-10-05 | 1996-04-18 | Massachusetts Institute Of Technology | Resonant microcavities employing one-dimensional periodic dielectric waveguides |
US6847700B1 (en) * | 2001-01-19 | 2005-01-25 | Florida Institute Of Technology | Method and apparatus for delivery of x-ray irradiation |
WO2004005986A1 (ja) * | 2002-07-08 | 2004-01-15 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | フォトニック結晶光導波路 |
JPWO2004081625A1 (ja) * | 2003-03-04 | 2006-06-15 | 日本板硝子株式会社 | フォトニック結晶を用いた導波路素子 |
US7266284B2 (en) * | 2003-04-17 | 2007-09-04 | University Of Rochester | Method for controlling one or more temperature dependent optical properties of a structure and a system and product thereof |
JP4875094B2 (ja) * | 2005-10-21 | 2012-02-15 | 01 コミュニーク ラボラトリー インコーポレイテッド | デジタル信号をコンピュータに遠隔的に送信するためのシステム、方法、及びコンピュータプログラム |
JP2012014152A (ja) * | 2010-06-02 | 2012-01-19 | Canon Inc | X線導波路 |
JP2012013679A (ja) * | 2010-06-02 | 2012-01-19 | Canon Inc | X線導波路 |
JP5864892B2 (ja) * | 2010-06-02 | 2016-02-17 | キヤノン株式会社 | X線導波路 |
JP5864945B2 (ja) * | 2010-09-02 | 2016-02-17 | キヤノン株式会社 | X線導波路 |
JP2012068125A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Canon Inc | X線導波路 |
JP2012226081A (ja) * | 2011-04-19 | 2012-11-15 | Canon Inc | X線導波路 |
JP2012237718A (ja) * | 2011-05-13 | 2012-12-06 | Canon Inc | X線ホログラフィ光源素子及びそれを用いたx線ホログラフィシステム |
JP2013036893A (ja) * | 2011-08-09 | 2013-02-21 | Canon Inc | X線光学系 |
JP2013064713A (ja) * | 2011-08-30 | 2013-04-11 | Canon Inc | X線導波路及びx線導波システム |
US20130064352A1 (en) * | 2011-09-09 | 2013-03-14 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray waveguide, process of producing x-ray waveguide, and x-ray guiding system |
US20130156162A1 (en) * | 2011-12-02 | 2013-06-20 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray waveguide and x-ray waveguide system |
US20130142312A1 (en) * | 2011-12-02 | 2013-06-06 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray waveguide and x-ray waveguide system |
US20130182827A1 (en) * | 2011-12-02 | 2013-07-18 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray waveguide and x-ray waveguide system |
-
2011
- 2011-08-04 JP JP2011171132A patent/JP5864945B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-08-23 WO PCT/JP2011/069369 patent/WO2012029676A1/en active Application Filing
- 2011-08-23 EP EP20110763785 patent/EP2612330B1/en not_active Not-in-force
- 2011-08-23 US US13/820,072 patent/US9129718B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-08-23 CN CN2011800412453A patent/CN103081025A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2612330B1 (en) | 2015-03-04 |
CN103081025A (zh) | 2013-05-01 |
WO2012029676A1 (en) | 2012-03-08 |
US9129718B2 (en) | 2015-09-08 |
JP2012073232A (ja) | 2012-04-12 |
EP2612330A1 (en) | 2013-07-10 |
US20130163727A1 (en) | 2013-06-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140804 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140804 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150605 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150623 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |