JP2014059294A - X線導波路及びx線測定システム - Google Patents

X線導波路及びx線測定システム Download PDF

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Abstract


【課題】 湾曲構造を有し、曲率半径を小さくX線導波路およびX線測定システムを提供する。
【解決手段】 コアと、該コアを狭持して対向して存在する二つのクラッドと、で形成される湾曲構造を有するX線導波路であって、
前記二つのクラッドのうちの前記湾曲構造の内周側に存在するクラッドAと前記コアとの界面の曲率半径を規定する円の中心を原点として、前記界面の任意の点Sにおける接線に垂直かつ前記原点から前記界面に向かう方向にy軸を定義した時に、以下の式(7)を満たす任意のyにおいて、前記コアの屈折率実部n(y)が、以下の式(5)および式(6)を満たすことを特徴とするX線導波路。
【選択図】 図1

Description

本発明は、X線を導波するX線導波路、特に、湾曲する構造のX線導波路およびX線測定システムに関する。
数10nm以下の短い波長の電磁波を扱う際、異物質間における電磁波に対する屈折率実部の差が10−4以下と非常に小さいため、全反射臨界角も非常に小さくなることなどにより、X線を含めたこのような電磁波をコントロールするために、大型の空間光学系が用いられてきており、今でもなお主流となっている。例えば、X線を伝搬させ、ビーム形状を制御する素子として、ポリキャピラリなどが用いられている。
主流であるこのような空間光学系に対し、クラッドに囲まれたコア中に電磁波を閉じ込めて伝搬させる、X線導波路の研究が行われている。具体的にはクラッド層がコア層を挟み込んだ1次元閉じ込め構造の薄膜導波路や、クラッド材料中にファイバー状のコアを貫通させた2次元閉じ込め構造のX線導波路などの研究が行われている。ポリキャピラリとは異なり、X線導波路は、X線が導波する断面積が極めて小さいため、導波路断面でX線の位相が制御された空間的コヒーレンスを有するX線ビームを提供することができる。その特長ゆえ、X線導波路は、X線を用いたホログラフィを実施するためのX線光源を提供する素子として利用されることが多い。ホログラフィの一形態であるoff−axisホログラフィを実施するためには、互いにコヒーレントな2つのX線ビームが必要となり、非特許文献1及び2は、それらを提供するためのX線を曲げることのできる湾曲したX線導波路(以下、湾曲X線導波路)を開示している。
C.Fuhse,C.Ollinger,et al.,"Waveguide−based off−axis holography with hard x rays.",Physical Review Letters 97 254801(2006). C.Fuhse,"X−ray waveguides and waveguide−based lensless imaging",Ph.D thesis(2006).
しかしながら、このような湾曲したX線導波路では、X線導波路の曲率半径を小さくすることができないため、X線の振れ角が最大でも2°に制限されていた。これは、振れ角を大きくするには、小さい曲率半径ゆえ、湾曲X線湾曲X線導波路の長さを3mm以上と長くする必要があり、導波X線の損失が大きくなってしまうためである。
そこで、本発明では、コアと、該コアを狭持して対向して存在する二つのクラッドと、で形成される湾曲構造を有するX線導波路であって、
前記二つのクラッドのうちの前記湾曲構造の内周側に存在するクラッドAと前記コアとの界面の曲率半径を規定する円の中心を原点として、前記界面の任意の点Sにおける接線に垂直かつ前記原点から前記界面に向かう方向にy軸を定義した時に、以下の式(7)を満たす任意のyにおいて、前記コアの屈折率実部n(y)が、以下の式(5)および式(6)を満たすことを特徴とするX線導波路を提供する。

式(5)

式(6)

式(7)
(式(5)において、yは前記コアと前記クラッドAとの界面のy座標であり、yは前記コアと二つのクラッドのうちの外周側に存在するクラッドBとの界面のy座標である。また、n(y)は、前記yにおけるコアの屈折率実部を示し、n(y)は、前記yにおけるコアの屈折率実部を示す。)
本発明によれば、湾曲するX線導波路における、X線の導波損失を抑制するX線導波路およびX線測定システムを提供することができる。
本実施形態の湾曲構造を有するX線導波路を示す図である。 (a)従来の湾曲構造を有するX線導波路の近似した屈折率分布および従来の湾曲構造を有さないX線導波路の屈折率分布を示すグラフ(b)本実施形態の湾曲構造を有するX線導波路の近似した屈折率分布および従来の湾曲構造を有さないX線導波路の屈折率分布を示すグラフ 屈折率実部の小さい部分の領域サイズを変えた場合の本発明の例である。 本実施形態のX線システムまたは装置を示す図である。 実施例1を説明する図である。 曲率半径y0及び湾曲X線導波路の長さLと振れ角の関係を示す図である。 実施例2を説明する図である。 実施例3を説明する図である。
以下、本実施形態について図面に基づき説明する。
まずは、以下に本明細書における用語の説明をする。
(X線)
X線とは、物質(コア材料等)の屈折率実部が1以下となる波長帯域の電磁波であり、具体的には、本明細書におけるX線とは、極端紫外光(ExtremeUltra Violet(EUV)光)を含む100nm以下の波長の電磁波を指す。
このような短い波長の電磁波の周波数は非常に高いために、物質の最外殻電子が応答できないため、紫外光の波長以上の波長をもつ電磁波(可視光や赤外線)の周波数帯域と異なった性質を示す。例えば、上記説明した通り、X線に対しては、ほとんどの物質の屈折率の実部が1より小さくなることが知られている。
このようなX線に対する物質の屈折率nは、一般的に、下記の式(1)
n=1−δ−iβ 式(1)
で表されるように、実部の1からのずれ量δ、吸収に関係する虚部のβを用いて表される。
また、屈折率実部は、下記の式(2)

式(2)
となる。
このようにX線に対する物質の屈折率は複素数で表されるが、その実部を本発明および本明細書においては、屈折率実部または屈折率の実部と称し、虚部を屈折率虚部または屈折率の虚部と称する。
X線の波長帯域では、屈折率実部が最大の1となる物質は真空であり、空気に代表される気体は真空とほぼ同じ屈折率を持つが、気体以外のほぼすべての物質の屈折率実部は、1よりも小さい値となる。なお、本発明および本明細書において、「物質」、「成分」、「材料」と表現する際には、固体などの形があるのもののみならず、真空や、空気などの気体も含まれるものとする。
X線に対する物質の屈折率実部は、物質を構成する元素の組成から、以下の式(3)を用いて計算することができる。

式(3)
ここで、rは古典的電子半径、λはX線の波長、Nは物質を構成するi番目の元素の単位体積あたりの原子数(原子数の密度)、及びfは物質を構成するi番目の元素の原子散乱因子の実部である。
なお、式(3)内に示される式(4)は、

式(4)
は、各元素の単位体積あたりの原子数(原子数の密度)にその元素の原子散乱因子の実部をかけた値の総和を意味する。
本発明および本明細書においては、X線光電子分光などの元素分析から得られるコアの各元素の組成分布から、式3における物質を、X線導波路のコアの物質として式(3)に適用し、X線に対するコアの屈折率実部を計算することができる。
(X線導波路の概略構成)
図1は、本実施形態のX線導波路の概略構成を示す図で、X線導波路をX線の導波方向に切断した際の断面を示している。
本実施形態の湾曲構造を有するX線導波路は、コア101と、コアを挟持して対向して存在する2つのクラッドA102、クラッドB103と、を有する。
ここで、湾曲構造を有するX線導波路は、二つのクラッドであるクラッドA102とクラッドB103、およびコア103によって形成される湾曲構造を有する領域を有しており、通常、クラッドA102とクラッドB103、およびコア101が湾曲構造を有している。
なお、ここで、コア101が気体であっても、クラッドA102およびクラッドB103によって形成される空間(すなわちコア101)が湾曲構造を有している場合には、コア101が湾曲構造を有していると表現しており、言い換えれば、例えば高分子材料などの形を有する材料でコア101を完全に充填した場合に、充填された形を有する材料によって形成される物体が湾曲構造を有する場合にはコア101が湾曲構造を有しているとも表現できる。
また、本実施形態の湾曲構造を有するX線導波路は、クラッドA102とクラッドB103、およびコア103によって形成される湾曲構造を有する領域を有していれば、その他の領域として湾曲構造を有さない領域を有していても良い。
本実施形態の湾曲構造を有するX線導波路は、コアと、該コアを狭持して対向して存在する二つのクラッドと、で形成される湾曲構造を有するX線導波路であって、前記二つのクラッドのうちの前記湾曲構造の内周側に存在するクラッドAと前記コアとの界面の曲率半径を規定する円の中心を原点として、前記界面の任意の点S104における接線105に垂直かつ前記原点から前記界面に向かう方向にy軸を定義した時に、以下の式(7)を満たす任意のyにおいて、前記コアの屈折率実部n(y)が、以下の式(5)および式(6)を満たすことを特徴とするX線導波路である。

式(5)

式(6)

式(7)
(式(5)において、yは前記コアと前記クラッドAとの界面のy座標であり、yは前記コアと二つのクラッドのうちの外周側に存在するクラッドBとの界面のy座標である。また、n(y)は、前記yにおけるコアの屈折率実部を示し、n(y)は、前記yにおけるコアの屈折率実部を示す。)
これは、すなわち、コア101の屈折率実部が、y軸上のy以上y以下の範囲内にあるいずれかの領域でyの増加とともに減少することを意味する。
コア101の屈折率実部は、y軸上のy以上y以下の範囲内にあるいずれかの領域でyの増加とともに減少さえしていれば、その他の領域の屈折率実部はyが増加しても等しくても構わない。
また、「コア101の屈折率実部が、y軸上のy以上y以下の範囲内にあるいずれかの領域でyの増加とともに減少する」には、連続的に減少する(単調減少)場合および段階的に減少する場合が存在する。ここで記載する「段階的に減少する」とは、例えばyがA以上B以下の範囲では屈折率実部がCであり、yがBより大きくD以下である場合には屈折率実部がEである場合などである。
さらに、二つのクラッドのうち外周側に存在するクラッドとは、二つのクラッドの各々に接する内接円を設定した時に内接円の半径が大きい方を示すものとし、内周側に存在するクラッドとは、二つのクラッドの各々に接する内接円を設定した時に内接円の半径が小さい方を示すものとする。
後述のように、本実施形態のX線導波路の特性は、X線導波路を規定する波動方程式から有限要素法などの計算手法で得られる導波モードの計算(固有値の算出)をすることで、導波路内でのX線強度の分布や伝搬損失を得ることができる。この導波モードの計算から、適宜、本実施形態のX線導波路を構成するコア101の屈折率実部の分布、及びクラッドA102とクラッドB103の屈折率実部を設計することができる。
コア101の屈折率実部が段階的に減少する構成としては、例えば、コア101がy軸の正の方向に複数の領域を有し、前記領域の屈折率実部が前記y軸の正の方向に沿って小さくなる順に位置している構成が挙げられる。
コア101が有する複数の領域が二つである場合には、二つの領域がコアの中心軸(言い換えれば、y軸が(y−y)/2である点を、前述点Sを動かして結んだ軸)を境に存在しても良いし、中心軸を境界とせずに、例えば、コアのクラッドAとの界面からコア全体の厚みの1/4までの領域を一方の領域としてその他の領域を他方の領域としても良いし、コアのクラッドAとの界面からコア全体の厚みの3/4までの領域を一方の領域としてその他の領域を他方の領域としても良い。
このような構成は、例えば、前述の複数の領域を屈折率実部が異なる材料によって形成することなどにより実現できる。
また、コア101が、第一の材料と前記第一の材料よりも屈折率実部の小さい第二の材料との混合物で構成され、第二の材料の単位体積当たりの物質量(物質量の密度)がコア101内でyの増加関数で示される分布をなしていて、かつ第一の材料の単位体積あたりの物質量がコア101内でyの減少関数で示される分布をなしている場合には、コア101の屈折率が、y軸上のy以上y以下の範囲内にあるいずれかの領域でyの増加とともに連続的に減少する構成にすることもできる。
さらに、「式(7)を満たす任意のyにおいて、前記コアの屈折率実部n(y)が、以下の式(5)および式(6)を満たす」とは、式(7)を満たすすべてのyにおいて、コアの屈折率実部n(y)が、式(5)および式(6)を満たすことを意味する。
なお、ここで記載する曲率半径とは、コア101とクラッドA102の界面の曲率半径であり、図1におけるyである。
本実施形態の湾曲構造を有するX線導波路のように、湾曲した光学素子を考える場合、円筒座標系(rθz座標系)を用いてX線導波路の波動方程式を記述し、それを直交座標系(xyz座標系)に変換して考えることが便利である。円筒座標系で記述される波動方程式を直交座標系に変換すると、式(8)のようになる。

(式8)
ここで、kはX線の波数、nは屈折率、βはX線導波路の伝搬定数、EはX線の電場である。
また、円筒座標系及び直交座標系の配置は図1に示す通りであり、両座標系とも、点Oを原点とする座標系である。yがy−yに比べて十分大きい場合には、式(8)の右辺のexp[(y−y)/y]を1に近似することができるため、湾曲したX線導波路は、屈折率nが以下の式(9)のように変調された湾曲していないX線導波路(x軸に沿ってX線を伝搬し、X線導波路の断面がyz面となるX線導波路)と等価となる。

(式9)
X線導波路の場合、曲率半径yが最小でも1mmオーダーである一方、コア101の幅(y−y)は最大でも100nmオーダーであるため、ここでの近似の適用範囲となっている。
図2(a)に、式(9)によって湾曲構造を有さない直交座標系に変換されたコアの屈折率が均一である従来の湾曲構造を有するX線導波路の屈折率実部の分布と、従来の湾曲構造を有さずコアの屈折率が均一であるX線導波路の屈折率実部の分布を示す。破線106が直交座標系に変換されたコアの屈折率が均一である従来の湾曲構造を有するX線導波路の屈折率実部の分布であり、実線107湾曲構造を有さずコアの屈折率が均一であるX線導波路の屈折率実部の分布である。
湾曲構造を有するX線導波路のコアの屈折率実部の値は、y<y<yの範囲において、湾曲構造を有さないX線導波路と比較して大きくなっており、更に、yが大きくなるにしたがって屈折率実部の値が大きくなる。このように、屈折率実部の値がコア内で分布を有するときには、一般にX線がコアの屈折率実部が大きい(導波損失が小さい)領域に集中する特性を有するため、湾曲構造を有するX線導波路ではコアと外周側のクラッドとの界面近傍にX線が集中して漏れ出てしまうことがある。
すなわち、湾曲構造を有する導波路の曲率半径を小さくすると、式(9)にしたがって、外周側のコアの屈折率実部がより大きくなってしまい、外周側のクラッドの方にX線が漏れ出てしまうことがあるため、ある程度曲率半径を大きくする必要があった。従来は曲率半径を0.1m以上にする必要があり、それによって、振れ角(図6参照、α)を大きくするために、X線導波路を長くする必要があり、振れ角が2°に制限されていた。
次に、図2(b)に、式(9)によって湾曲構造を有さない直交座標系に変換された、前述のコアが屈折率分布を有する湾曲構造を有するX線導波路の屈折率実部の分布と、コアが同様の屈折率分布を有するものの湾曲構造を有さないX線導波路の屈折率実部の分布を示す。
破線108が湾曲構造を有さない直交座標系に変換された、前述のコアが屈折率分布を有する湾曲構造を有するX線導波路の屈折率実部の分布であり、実線109がコアが屈折率分布を有するものの湾曲構造を有さないX線導波路の屈折率実部の分布である。
図2(b)の破線108に示すように、yが大きい領域の屈折率実部をyが小さい領域の屈折率実部よりも小さくすることによって、湾曲構造を有するX線導波路のコアと外周側のクラッドの界面に導波するX線が誘導されるため外周側のクラッドからX線が漏れにくくなる。すなわち、従来よりも伝搬損失係数(式(8)の伝搬定数の虚部)の小さいX線導波路となる。
X線の振れ角αは、図6に記載の式の通り、X線導波路の長さLの増加関数、かつ曲率半径yの減少関数となる。一方で、Lが大きくなるとX線の伝搬損失が大きくなってしまう。
本実施形態のX線導波路では、湾曲構造を有するX線導波路であっても、導波損失係数を小さく抑えながら、曲率半径を小さくすることができるため、X線導波路の長さLを長くする必要がなく、従来よりもX線の振れ角を大きくすることができる。
次に、本実施形態のX線導波路の各部分について説明する。
(コア)
コアは、その屈折率実部n(y)が、前述した式(7)を満たす任意のyにおいて、前述の式(5)および式(6)を満たす。
屈折率実部が段階的に減少する場合には、屈折率実部の減少率や、その減少した領域のサイズを調整する必要がある。これには、有限要素法などの計算手法によって得られる理論的な導波モードの伝搬損失(線吸収係数)や導波路内に形成されるX線強度分布などを検討することによって、曲率半径などに応じて適切な屈折率実部の減少率や、その領域のサイズを決定することができる。
このようなコアには、できる限りX線の吸収損失の小さい材料を用いることが好ましく、例えば、真空、空気等の気体、及び高分子等の有機物により形成することができる。
コアは、従来公知の方法によって形成することができる。例えば、スパッタや蒸着や化学気相成長法(CVD)などのドライプロセスにより形成することができる。また、ポリイミドやポリスチレンなどの高分子からなるコアを作製する際には、それらを溶媒に溶かした溶液を、スピンコートやディップコートなどの方法で付与する方法を用いることもできる。コアの屈折率実部が連続的に減少するX線導波路を形成する場合には、スパッタや蒸着やCVDを用いることが好ましい。
また、空気等の気体をコアに用いる場合には、ピエゾアクチュエータなどによって、コアの幅を適切な値に設定するようにクラッドAまたはクラッドBの位置を調整すればよい。
(クラッド)
クラッドは、その屈折率実部が、コアとクラッドとの界面におけるコアの屈折率実部よりも小さい材料で構成される。
例えば、コアとクラッドの界面におけるコアに、カーボンや高分子等の有機物や気体を用いた場合、タンタル、タングステン、金、シリコンなどをクラッドに用いることができる。
クラッドの形成方法には、コアと同様、従来公知のいずれの方法を用いることができるが、コアとの平坦な界面を形成できる観点から、スパッタや蒸着などのドライプロセスによって形成することが好ましい。
本発明において、クラッドA及びBは図1(a)のように対向している限り、両者が連結した構造であっても構わない。例えば、後述する2次元閉じ込め型導波路の場合には、クラッドが連続的にコアを取り囲むが、クラッドAを定義した際に対面(対向)する部分をクラッドBと定義する。このような場合にはクラッドは円筒形状、楕円筒形状などとすることができる。
(コアとクラッドとの関係)
本実施形態のX線導波路は、コアとクラッドとの界面における全反射によりX線をコアに閉じ込めてX線を導波させるものである。全反射を実現するために、X線導波路は、コアの屈折率実部がクラッドの屈折率実部より大きい。この条件は、湾曲構造を有するX線導波路を、湾曲構造を有さないX線導波路に変換した際にも満たさなければならない。
本実施形態においては、本発明の効果を失わない限り、コアとクラッドとの界面部分に、コアの主な材料とは異なり、コアの主な材料の屈折率実部よりも屈折率実部が大きい、あるいは小さい材料からなる層が存在しても良い。このような層の例としては、空気層や平坦化層が挙げられる。このような層は、コアに含めることとし、このような層とクラッドA102との界面をy、このような層とクラッドB103との界面をyと、それぞれ定義することとする。
(閉じ込め次元)
本実施形態の湾曲構造を有するX線導波路のX線を閉じ込める次元は、膜状のコアをクラッドで挟み込む1次元構造のものであっても、導波方向に垂直な断面が円や方形等の形状のコアをクラッドで取り囲む2次元構造のものであっても構わない。2次元構造のX線導波路では、X線が2次元的に導波路内に閉じ込められることから、1次元構造よりX線の発散性が抑制され、小さなビームサイズのスポット状のX線を取り出すことができる。
2次元閉じ込め型のX線導波路の作製には、リソグラフィプロセスなどを用いることができる。
図3には、クラッドA102及びクラッドB103がともにシリコンで、コアがcalixareneとポリイミドで構成される本発明の湾曲X線導波路の導波モード、及びのその伝搬損失係数に関して、式(8)の波動方程式の固有値計算を行ったシミュレーション実験の結果を例として、示す。屈折率実部の大きいcalixareneをコア101とクラッドA102の界面に配置し、屈折率実部の小さいポリイミドをコア101とクラッドB103の界面に配置し、更にコア101の全体の厚さを60nmとした曲率半径0.05mの湾曲X線導波路の例である(X線エネルギー:12keV)。ポリイミドの厚さを変えることで、導波路内に形成されるX線強度分布が変化し、また、伝搬損失が変化することがわかる。ポリイミドが10nmでcalixareneが50nmである場合には、伝搬損失が他の場合に比べて低いことがわかり、X線強度分布もクラッドB103にX線が比較的漏れ出ていないことがわかる。
以上のように、X線導波路の波動方程式の固有値計算を有限要素法などの計算手法で実施することで、コアの屈折率分布や、その屈折率分布を有する材料選定など、好ましい形態の本発明のX線導波路を適宜設計することができる。
(X線システム、及び装置)
図4に本実施形態のX線測定システム、及びX線測定装置を示す。X線源から入射X線が湾曲X線導波路に照射され、X線が本実施形態の湾曲X線導波路内を導波し、その終端面から出射X線として測定物であるX線照射対象物に照射される。X線源にはシンクロトロンやクーリッジ管などのX線発生装置や物質からの蛍光X線などを用いることができる。X線照射対象物には、X線による分析対象材料や、ホログラフィ等でのイメージング対象物を例示することができる。
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。
以下、実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
(実施例1)
本実施例は、クラッドA102及びクラッドB103にタングステン、コア101にカーボンとB4Cを用いた本発明の湾曲X線導波路である。また、本実施例は、シンクロトロンをX線源、2次元X線検出器をX線照射対象物とするX線システムである。
本実施例の湾曲X線導波路の作製方法は、スパッタ法による以下のような工程が挙げられる(図5)。
(a)クラッドA102の形成
曲率半径が0.01mの円筒形状の湾曲凸面を有するガラス基板501上にマグネトロンスパッタリングを用いてタングステン(クラッドA)102を20nmの厚さで形成する(図5(a))。
(b)コア101の形成
マグネトロンスパッタリングによって、タングステン(クラッドA)102の上にカーボン502を80nm形成し(図5(b))、続いて、10keVのX線の屈折率実部がカーボンよりも小さいB4C503を20nm形成する(図5(c))。カーボンとB4C両者を合わせた部分がコア101となる。
コア101を形成したガラス基板501の一部を切断し、コア101にアルゴンイオンビームを照射してその表面を徐々に削りながら、X線光電子分光装置でコア101のy軸方向の元素分布を分析する。得られる元素分布から式5を用いて得られるコア101の屈折率実部の分布がy=y0+80nmの所でyの増加とともに減少していることを確認できる。
(c)クラッドB103の形成
マグネトロンスパッタリングによってタングステン(クラッドB)103を20nmの厚さで形成し、コア101を覆い、1次元閉じ込め型X線導波路を作製する(図5(d))。
(d)湾曲X線導波路の長さの決定
ダイシング装置を用いて導波路を形成したガラス基板501を切断する。その際、湾曲X線導波路の長さが異なる複数の試料を得る。
得られる湾曲X線導波路の導波特性をシンクロトロンから得られる10keVの入射X線と2次元X線検出器を用いて評価する。10keVの入射X線を前記湾曲X線導波路の端部から入射し、導波路終端部から出射される導波するX線(出射X線)を導波路の後方(カメラ長:1500mm)で形成する干渉パターンを2次元X線検出器で測定する。
図6のように定義されるX線の振れ角α を、曲率半径0.01mで湾曲X線導波路の長さが0.9mmの試料を用いることで5°にして、導波するX線(出射X線)を検出することができる。これは、従来よりも曲率半径の小さな湾曲X線導波路であっても、十分な低損失でのX線導波を実現できるためである。
(実施例2)
本実施例は、クラッドA102及びクラッドB103にタングステン、コア101にポリスチレンと空気を用いた本発明の湾曲X線導波路である。また、本実施例は、シンクロトロンをX線源、2次元X線検出器をX線照射対象物とするX線システムである。
本実施例の湾曲X線導波路の作製方法は、スパッタ法、及びディップコート法による以下のような工程が挙げられる(図7)。
(a)クラッドA102の形成
曲率半径が0.01mの円筒形状の湾曲凹面を有するガラス基板701上にマグネトロンスパッタリングを用いてタングステン(クラッドA)102を20nmの厚さで形成する(図7(a))。
(b)コア101の一部の形成
ポリスチレンが溶解した溶液をタングステン(クラッドA)102の上にディップコートによって塗布し、ポリスチレン702を15nm形成する(図7(b))。ポリスチレン702がコア101の一部となる。
(c)クラッドB103の形成
曲率半径が0.01mの円筒形状の湾曲凸面を有するガラス基板703上にマグネトロンスパッタリングによってタングステン(クラッドB)103を20nmの厚さで形成する((図7(c))。
(d)導波路構造の作製と湾曲X線導波路の長さの決定
ダイシング装置を用いてタングステン102及びポリスチレン702を形成したガラス基板701、及びタングステン103を形成したガラス基板703を切断する。その際、湾曲した部分の長さが異なる複数の試料を得る。
湾曲した部分の長さが同じガラス基板701とガラス基板703を対向させて湾曲X線導波路を作製する(図7(d))。ガラス基板701を試料台705に固定し、ガラス基板703をピエゾアクチュエータによる駆動が可能なステージ706に固定する。ピエゾアクチュエータをコントローラ707で動かして角度と位置を調整し、タングステン103とポリスチレン702の間のギャップ(間隔)704を45nmにして固定する。ポリスチレン702とギャップ704を構成する空気を合わせて厚さ60nmのコア101となる。
得られる湾曲X線導波路の導波特性をシンクロトロンから得られる10keVの入射X線と2次元X線検出器を用いて評価する。10keVの入射X線を前記湾曲X線導波路の端部から入射し、導波路終端部から出射される導波するX線(出射X線)を導波路の後方(カメラ長:1500mm)で形成する干渉パターンを2次元X線検出器で測定する。
図6のように定義されるX線の振れ角αを、曲率半径0.01mで湾曲X線導波路の長さが3.5mmの試料を用いることで20°にして、導波するX線(出射X線)を検出することができる。これは、従来よりも曲率半径の小さな湾曲X線導波路であっても、十分な低損失でのX線導波を実現できるためである。また、本実施例では、他の実施例よりもX線の吸収損失の小さいポリスチレン及び空気をコア101に用いているため、極めて導波X線の損失の小さい導波路となっており、X線導波路を比較的長くできるため、X線の振れ角αを大きくできる。
(実施例3)
本実施例は、クラッドA102及びクラッドB103にシリコン、コア101にcalixareneとカーボンを用いた本発明の湾曲X線導波路である。また、本実施例は、シンクロトロンをX線源、2次元X線検出器をX線照射対象物とするX線システムである。
本実施例の湾曲X線導波路の作製方法は、蒸着法、スパッタ法、及びスピンコート法による以下のような工程が挙げられる。
(a)クラッドA102の形成
曲率半径が0.05mの円筒型の湾曲凸面を有するガラス基板801上に蒸着によってシリコン(クラッドA)102を50nmの厚さで形成する(図8(a))。
(b)コア101の形成
calixareneが溶解した溶液をシリコン(クラッドA)102の上にスピンコートによって塗布し、calixarene802を50nm形成する。その上に、マグネトロンスパッタリングによって、12keVのX線の屈折率実部がcalixarene802よりも小さいカーボン803を10nm形成する。calixarene802とカーボン803がコア101を構成する(図8(b))。
コア101を形成したガラス基板801の一部を切断し、コア101にアルゴンイオンビームを照射してその表面を徐々に削りながら、X線光電子分光装置でコア101のy軸方向の元素分布を分析する。得られる元素分布から式5を用いて得られるコア101の屈折率実部の分布がy=y0+50nmの所でyの増加とともに減少していることを確認できる。
(c)コア101の加工
非特許文献2で開示されているリソグラフィ方法を用いて、ガラス基板の湾曲方向に沿って幅60nmのラインパターンのコア101を、500nmの間隔で形成する(図8(c))。
(d)クラッドB103の形成
蒸着によってシリコン(クラッドB)103を50nm以上の厚さで形成し、コア101及びクラッドA102を覆い、2次元閉じ込め型X線導波路を作製する(図8(d))。
(e)湾曲X線導波路の長さの決定
ダイシング装置を用いて導波路を形成したガラス基板801を切断する。その際、湾曲X線導波路の長さが異なる複数の試料を得る。
得られる湾曲X線導波路の導波特性をシンクロトロンから得られる12keVの入射X線と2次元X線検出器を用いて評価する。12keVの入射X線を前記湾曲X線導波路の端部から入射し、導波路終端部から出射される導波するX線(出射X線)を導波路の後方(カメラ長:1500mm)で形成する干渉パターンを2次元X線検出器で測定する。
図6のように定義されるX線の振れ角αを、曲率半径0.05mで湾曲X線導波路の長さが3mmの試料を用いることで3.4°にして、導波するX線(出射X線)を検出することができる。これは、従来よりも曲率半径が小さくても導波X線の損失が小さく維持でき、長い導波路を用いることができるためである。コア101が60nm四方の断面のcalixareneのみとした導波路では、曲率半径0.05mで湾曲X線導波路の長さが3mmの試料では導波X線を検出することができない。
本発明にかかるX線導波路は、位相の揃ったX線を提供することが可能となり、さらにX線を曲げてその方向を調整することができ、X線を用いた分析技術やイメージング手法等で有用である。
101 コア
102 クラッド
103 クラッド
104 点S
105 接線
501 基板
502 カーボン
503 B4C
701 ガラス基板
702 ポリスチレン
703 ガラス基板
704 タングステンとポリスチレンとのギャップ
705 試料台
706 ステージ
707 コントローラ
801 ガラス基板
802 calixarene
803 カーボン

Claims (8)

  1. コアと、該コアを狭持して対向して存在する二つのクラッドと、で形成される湾曲構造を有するX線導波路であって、
    前記二つのクラッドのうちの前記湾曲構造の内周側に存在するクラッドAと前記コアとの界面の曲率半径を規定する円の中心を原点として、前記原点から前記界面における任意の点Sにおける接線に垂直かつ前記原点から前記界面に向かう方向にy軸を定義した時に、以下の式(7)を満たす任意のyにおいて、前記コアの屈折率実部n(y)が、以下の式(5)および式(6)を満たすことを特徴とするX線導波路。

    式(5)

    式(6)

    式(7)
    (式(5)において、yは前記コアと前記クラッドAとの界面のy座標であり、yは前記コアと二つのクラッドのうちの外周側に存在するクラッドBとの界面のy座標である。また、n(y)は、前記yにおけるコアの屈折率実部を示し、n(y)は、前記yにおけるコアの屈折率実部を示す。)
  2. 前記コアが、第一の材料と前記第一の材料よりも屈折率実部の小さい第二の材料との混合物で構成され、前記第二の材料の物質量の密度が前記コア内で前記yの増加関数で示される分布をなしており、前記第一の材料の物質量の密度が前記コア内で前記yの減少関数で示される分布をなしていることを特徴とする請求項1に記載のX線導波路。
  3. 前記二つのクラッドが連結して、円筒形状もしくは楕円筒形状を形成していることを特徴とする請求項1または2に記載のX線導波路。
  4. コアと、該コアを狭持して対向して存在する二つのクラッドと、で形成される湾曲構造を有するX線導波路であって、
    前記二つのクラッドが、前記湾曲構造の内周側に存在するクラッドAと前記湾曲構造の外周側に存在するクラッドBで構成され、前記クラッドAから前記クラッドBに向かう方向に沿って、前記コアが複数の領域を有し、前記複数の領域が前記方向に沿って屈折率が小さくなる順に位置していることを特徴とするX線導波路。
  5. 前記複数の領域が2つの領域であることを特徴とする請求項4に記載のX線導波路。
  6. 前記2つの領域が、異なる材料で構成されていることを特徴とする請求項5に記載のX線導波路。
  7. X線を発生するX線源と、測定物に向けて該X線を導波させる請求項1〜6のいずれか一項に記載のX線導波路と、を有するX線測定システム。
  8. X線を発生するX線源と、測定物に向けて該X線を導波させる請求項4に記載のX線導波路と、を有するX線測定装置。
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