JP5859951B2 - 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Description
本実施の形態の荷電粒子ビーム描画装置は、試料を載置可能なステージと、試料に照射する荷電粒子ビームを出射する照射部と、第1の開口部を有し荷電粒子ビームを成形するアパーチャとを備え、アパーチャが第1の部材と第2の部材との積層構造を備えている。そして、第2の部材の第1の開口部端部の位置が、第1の部材の第1の開口部端部の位置に対し後退している。
本実施の形態は、第1の部材と第2の部材が異なる材料で形成されること以外は、第1の実施の形態と同様である。したがって、第1の実施の形態と重複する内容については、記述を省略する。
本実施の形態は、第1の部材と第2の部材が同様の製造方法で形成されること以外は、第1の実施の形態と同様である。したがって、第1の実施の形態と重複する内容については、記述を省略する。
本実施の形態は、第1の開口部端部において、第1の部材と第2の部材との境界に空隙があること以外は、第1の実施の形態と同様である。したがって、第1の実施の形態と重複する内容については、記述を省略する。
本実施の形態は、第1の開口部よりも面積が小さい第2の開口部と、第2の開口部と同一形状の第3の開口部をさらに備え、第2の部材の第2および第3の開口部端部の位置が、それぞれ第1の部材の第2および第3の開口部端部の位置に対し後退していること以外は、第1の実施の形態と同様である。したがって、第1の実施の形態と重複する内容については、記述を省略する。
本実施の形態は、開口部の形状が異なる以外は第1の実施の形態と同様である。したがって、第1の実施の形態と重複する内容については、記述を省略する。
本実施の形態の荷電粒子ビーム描画装置は、試料を載置可能なステージと、試料に照射する荷電粒子ビームを出射する照射部と、複数の開口部を有し、複数の開口部全体が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャとを備える。そして、上記アパーチャが第1の部材と第2の部材との積層構造を有し、第2の部材の開口部端部の位置が、第1の部材の開口部端部の位置に対し後退していることを特徴とする。
12 第1の開口部
14a−f 第1の部材
16a−f 第2の部材
22 第2の開口部
24 第3の開口部
30 アパーチャ
40 アパーチャ
50 アパーチャ
60 アパーチャ
100 描画装置
101 試料
105 XYステージ
200 電子ビーム(荷電粒子ビーム)
201 電子銃(照射部)
203 第1のアパーチャ
206 第2のアパーチャ
Claims (9)
- 試料を載置可能なステージと、
試料に照射する荷電粒子ビームを出射する照射部と、
第1の開口部を有し前記荷電粒子ビームを成形するアパーチャとを備え、
前記アパーチャが第1の部材と前記第1の部材と貼り合わせた第2の部材との積層構造を有し、前記第2の部材の前記第1の開口部端部の位置が、前記第1の部材の前記第1の開口部端部の位置に対し0.5μm以上、5μm以下後退しており、
前記第2の部材の前記第1の開口部端に対し突出した前記第1の部材の前記第1の開口部端部は略一定の厚さを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 試料を載置可能なステージと、
試料に照射する荷電粒子ビームを出射する照射部と、
複数の開口部を有し、前記複数の開口部全体が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャとを備え、
前記アパーチャが第1の部材と前記第1の部材と貼り合わせた第2の部材との積層構造を有し、前記第2の部材の前記開口部端部の位置が、前記第1の部材の前記開口部端部の位置に対し0.5μm以上、5μm以下後退しており、
前記第2の部材の前記開口部端に対し突出した前記第1の部材の前記開口部端部は略一定の厚さを有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記第2の部材の荷電粒子ビーム透過率が前記第1の部材よりも小さいことを特徴とする請求項1または請求項2記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 試料を載置可能なステージと、
試料に照射する荷電粒子ビームを出射する照射部と、
第1の開口部を有し前記荷電粒子ビームを成形するアパーチャと、
前記第1の開口部よりも面積が小さい第2の開口部と、前記第2の開口部と同一形状の第3の開口部と、を備え、
前記アパーチャが第1の部材と第2の部材との積層構造を有し、前記第2の部材の前記第1の開口部端部の位置が、前記第1の部材の前記第1の開口部端部の位置に対し後退し、
前記第2の部材の前記第2および第3の開口部端部の位置が、それぞれ前記第1の部材の前記第2および第3の開口部端部の位置に対し後退していることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 試料を載置可能なステージと、
試料に照射する荷電粒子ビームを出射する照射部と、
第1の開口部を有し前記荷電粒子ビームを成形するアパーチャとを備え、
前記アパーチャが第1の部材と第2の部材との積層構造を有し、前記第2の部材の前記第1の開口部端部の位置が、前記第1の部材の前記第1の開口部端部の位置に対し後退し、
前記第1の開口部端部において、前記第1の部材と前記第2の部材との境界に空隙があることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記第1の部材および前記第2の部材が同一の材料であることを特徴とする請求項1ないし請求項5いずれか一項記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記第1および第2の部材がシリコンであることを特徴とする請求項6記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記第1の部材と前記第2の部材が異なる材料であることを特徴とする請求項1ないし請求項5いずれか一項記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記第1の部材がシリコンであり、前記第2の部材が高融点金属であることを特徴とする請求項8記載の荷電粒子ビーム描画装置。
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