JP5849494B2 - Electronic device manufacturing method, electronic device, and electronic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、およびそれらを用いた電子機器に関する。
The present invention relates to a method of manufacturing an electronic device, an electronic device, about your and electronic equipment using them.

従来から、電子デバイスの製造方法として、銅(Cu)などの導電素材から形成された
リードフレームに、電子デバイスパッケージの配線部(配線パターンとも言う)複数個を
一定の規則で配列形成し、このリードフレームに、例えば半導体素子を搭載し、電気的接
続(例えば、ワイヤーボンディング)を行った後に、全体を樹脂で封止し、その後ダイシ
ングブレードなどによって切断を行い、電子デバイスパッケージ毎に個片化する方式が用
いられていた(例えば、特許文献1参照)。
また、特許文献2には、上述と同様な製造方法を用いた圧電デバイスの一例として、デ
バイスパッケージの内部に圧電振動子とICチップ(半導体素子)とを収納し、個片化さ
れた圧電発振器の製造方法が開示されている。
Conventionally, as a manufacturing method of an electronic device, a plurality of wiring portions (also referred to as wiring patterns) of an electronic device package are arranged and formed on a lead frame formed of a conductive material such as copper (Cu) according to a certain rule. For example, a semiconductor element is mounted on the lead frame, electrical connection (for example, wire bonding) is performed, the whole is sealed with resin, and then cut with a dicing blade, etc., and separated into individual electronic device packages. The system which performs is used (for example, refer patent document 1).
Further, in Patent Document 2, as an example of a piezoelectric device using the same manufacturing method as described above, a piezoelectric vibrator and an IC chip (semiconductor element) are housed in a device package and separated into pieces. A manufacturing method is disclosed.

特開2003−37236号公報JP 2003-37236 A 特開2007−43462号公報JP 2007-43462 A

上述のいずれの製造方法においても、リードフレームに半導体素子、圧電振動子などの
素子を搭載した後、全体を樹脂で封止して成形固化し、その後ダイシングブレードなどに
よってリードフレームおよび樹脂の切断を行う。このため、リードフレーム切断面はリー
ドフレームの素材(下地金属)が露出することになる。リードフレームの素材が露出した
切断面(露出面)は、その後空気中の酸素などと反応し、その表面に酸化膜などの変質層
が形成されてしまう。このリードフレームの切断面(露出面)は、電子デバイスなどを実
装基板にハンダ付けする際のハンダフィレット(ハンダの裾引き形状)を形成する面とな
る。しかしながら、変質層が形成された面はハンダの濡れ性が悪いため、ハンダ付け強度
を高めるためのハンダフィレットが形成し難く、電子デバイスなどの実装基板に対するハ
ンダ付け強度が弱くなってしまう虞があった。
In any of the above manufacturing methods, after mounting elements such as semiconductor elements and piezoelectric vibrators on the lead frame, the whole is sealed with resin and molded and solidified, and then the lead frame and resin are cut by a dicing blade or the like. Do. Therefore, the lead frame material (underlying metal) is exposed on the cut surface of the lead frame. The cut surface (exposed surface) from which the lead frame material is exposed reacts with oxygen in the air, and an altered layer such as an oxide film is formed on the surface. The cut surface (exposed surface) of the lead frame is a surface that forms a solder fillet (soldering shape) when an electronic device or the like is soldered to a mounting substrate. However, the surface on which the deteriorated layer is formed has poor solder wettability, so that it is difficult to form a solder fillet for increasing the soldering strength, and there is a possibility that the soldering strength to a mounting substrate such as an electronic device may be weakened. It was.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の
形態または適用例として実現することが可能である。
SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[形態1]本形態に係る電子デバイスの製造方法は、パッド部と、平面視で前記パッド部に囲まれている凹部および貫通穴の少なくともいずれか一方が設けられている実装電極部と、前記凹部および前記貫通孔の少なくとも一方の領域に面する前記実装電極部の表面に配置されている金属膜と、を有するリードフレームを用意するステップと、前記リードフレームに電子部品を接続するステップと、前記パッド部および前記金属膜を型で覆うステップと、前記パッド部および前記金属膜を覆わないとともに、前記実装電極部の少なくとも一部および前記電子部品の少なくとも一部を覆うように、封止部を形成するステップと、前記パッド部、前記実装電極部、および前記封止部を切断して、平面視で前記パッド部の一方のみが開放している凹部および貫通穴の少なくともいずれか一方を形成するするステップと、を有することを特徴とする。
本形態の電子デバイスの製造方法によれば、パッド部と、パッド部に囲まれた凹部または貫通穴の少なくともいずれか一方が設けられた実装電極部が形成され、凹部および貫通穴の少なくとも一方の領域に面する実装電極部の表面に金属膜が形成されたリードフレームを用意した後、電子部品を接続する。なお、上述のパッド部の表面とは、電子デバイスの実装電極部が実装基板にハンダ付けされる際に実装基板と対向する面のことであり、以下ではパッド面ともいう。
また、凹部とは有底の穴形状の窪みであり、貫通穴とはパッド面から実装電極部の裏面まで貫通した形状の窪みである。パッド部に設けられている凹部および貫通穴は、双方を組み合わせて備えてもよい。
その後、その電子部品の少なくとも一部を内包するとともに、実装電極部のパッド面および金属膜を露出するように封止材により電子部品と実装電極部を覆い、封止部を形成した後、実装電極部、パッド部、および封止部を切断する。
実装電極部、パッド部、および封止部の切断は、金属膜がパッド面と交差する方向(側面)に露出するように行うことにより、平面視で凹部および貫通穴の少なくとも一方を囲むパッド部のうちの一方のみが切除される。その結果、電子デバイスの側面には、リードフレームを形成する際に形成された金属膜と下地金属板の断面が露出している。そして、電子デバイスなどを実装基板にハンダ付けする際には、この金属膜がハンダ付け面となり、換言すれば、ハンダフィレット(ハンダの裾引き形状)を形成する面となる。
したがって、本形態の電子デバイスの製造方法によって得られた電子デバイスは、実装電極部の表面に設けられた金属膜には切断されることによる変質層は存在しない。また、凹部および貫通穴の少なくとも一方の領域に面する実装電極部の表面には、予め金属膜が形成されているためハンダの濡れ性もよくハンダフィレットを容易に形成することが可能となる。これにより、電子デバイスの実装基板に対するハンダ付け強度を向上するとともに、ハンダ付けの安定性を高めることが可能となる
[形態]上記形態に記載の電子デバイスの製造方法において、前記パッド部および前記金属膜を型で覆うステップは、前記型が弾性部材であるとともに、前記型を前記パッド部および前記金属膜の少なくとも一方に対して押圧するステップを含むことを特徴とする。
本形態によれば、弾性部材の型をパッド部および前記金属膜の少なくとも一方に対して押圧しながら封止部を形成する。これにより、封止材がパッド部および金属膜の少なくとも一方の表面に流れ込むことをより確実に防止することができる。また、パッド部を被った弾性部材が変形した状態、換言すると弾性部材にパッド部が食い込んだ状態で封止部が形成されるため、パッド部と封止部との間に段差を生じさせることができ、パッド部に、所謂スタンドオフの機能を持たせることが可能となる。これらにより、電子デバイスの実装基板へのハンダ付けをより確実、安定的に行うことが可能となる。
[形態]上記形態に記載の電子デバイスの製造方法において、前記凹部および前記貫通穴の少なくとも一方は、エッチング加工によって形成することを特徴とする。
本形態によれば、凹部および貫通穴の少なくとも一方の形成がエッチング加工によってなされる。エッチング加工は、例えば、プレス加工などと比較して加工応力の発生が少なく、パッド部の平坦度を維持しつつ凹部および貫通穴の少なくとも一方の加工を行うことができる。これにより、封止部を形成するステップでパッド部と型との密着度を高めることができるため、パッド部への封止材の流れ込みをより確実に防止することが可能となる。
[形態]本形態に記載の電子デバイスは、パッド部、平面視で前記パッド部に隣り合う領域に前記パッド部の一方のみが開放されている凹部を有する実装電極部、および前記凹部に面する前記実装電極部の表面に配置されている金属膜、を有するリードフレームと、前記実装電極部に電気的に接続されている電子部品と、前記パッド部および前記金属膜の全体を覆わないとともに、前記実装電極部の少なくとも一部および前記電子部品の少なくとも一部を覆う封止部と、を有することを特徴とする。
本形態の電子デバイスは、その側面に、リードフレームを形成する際に形成された凹部に面する実装電極の表面に配置されている金属膜が露出している。そして、電子デバイスを実装基板にハンダ付けする際には、この金属膜がハンダ付け面となり、換言すれば、ハンダフィレット(ハンダの裾引き形状)を形成する面となる。
したがって、実装電極部の金属膜には、切断されることによる変質層は存在しないため、ハンダの濡れ性もよくハンダフィレットを容易に形成することが可能となる。これにより、電子デバイスの実装基板に対するハンダ付け強度を向上するとともに、ハンダ付けの安定性を高めることが可能となる。
また、本形態の電子デバイスは、金属膜がリードフレーム形成時に、リードフレーム外表面と同時に形成されるため、改めて金属膜を形成する工程が不要となり、コスト低減を図ることが可能である。
[形態]上記形態に記載の電子デバイスにおいて、前記凹部は、平面視で前記実装電極部に複数並んでいることを特徴とする。
本形態によれば、一つのパッド部に凹部が複数存在するため、凹部に面する実装電極部の表面積が大きくなりハンダ付け性をさらに向上させることが可能となる。
[形態]本形態の電子デバイスは、上記形態に記載の電子デバイスにおいて、振動子と、前記振動子を発振させる機能を少なくとも有している回路素子とを備えていることを特徴とする。
本形態の電子デバイスの側面には、リードフレームを形成する際に形成された金属膜がそのまま備えられた凹部に面する実装電極の表面が露出している。そして、圧電デバイスを実装基板にハンダ付けする際には、この金属膜がハンダ付け面となり、換言すれば、ハンダフィレット(ハンダの裾引き形状)を形成する面となる。
したがって、凹部に面する実装電極部の表面に設けられた金属膜には、切断されることによる変質層は存在しないため、ハンダの濡れ性もよくハンダフィレットを容易に形成することが可能となる。これにより、電子デバイスの実装基板に対するハンダ付け強度を向上するとともに、ハンダ付けの安定性を高めることが可能となる。
また、本形態の電子デバイスは、金属膜がリードフレーム形成時に、リードフレーム表面と同時に形成することが可能なため、改めて凹部に面する実装電極部の表面に金属膜を形成する工程が不要となり、コスト低減を図ることが可能である。
また、振動子の一面に回路素子と実装電極部とを接続し、封止体で覆う構造であるため、小型薄型化の電子デバイスを提供することができる。
[形態]本形態に記載の電子機器は、上述の電子デバイスを用いていることを特徴とする。
本形態に記載の電子機器によれば、凹部に面する実装電極部の表面に、予め設けられた金属膜が存在しているため、ハンダ付けによって回路基板に実装される場合にハンダフィレットが形成され易く、ハンダ付け強度が向上するとともに接続の信頼性も向上することができる。
従って、上述の電子デバイスを用いている電子機器は、安定した接続信頼性を有するとともに、耐衝撃特性を向上させることが可能となる。
[適用例1]本適用例に係る電子デバイスの製造方法は、パッド部と、前記パッド部に囲まれている凹部および貫通穴の少なくともいずれか一方が設けられている実装電極部と、前記凹部および前記貫通孔の少なくとも一方の領域に面する前記実装電極部の表面に配置されている金属膜と、を有するリードフレームを用意するステップと、前記リードフレームに電子部品を接続するステップと、前記パッド部および前記金属膜を覆わないとともに、前記実装電極部の少なくとも一部および前記電子部品の少なくとも一部を覆うように、封止部を形成するステップと、前記パッド部、と前記実装電極部、および前記封止部を切断するステップと、を有することを特徴とする。

[Mode 1] A method of manufacturing an electronic device according to the present mode includes a pad part, a mounting electrode part provided with at least one of a recess and a through hole surrounded by the pad part in plan view, Preparing a lead frame having a recess and a metal film disposed on a surface of the mounting electrode portion facing at least one region of the through hole; and connecting an electronic component to the lead frame; a step of covering the pad portion contact and said metal layer in the mold, with not covering the pad portion and the metal film, so as to cover at least a portion of at least a portion and the electronic component of the mounting electrode portion, the sealing forming a part, concave to the pad portion, the mounting electrode portion, and cutting the sealing portions, only one of the pad portions in a plan view is open And characterized by having a, a step of forming at least one of the through holes.
According to the manufacturing method of the electronic device of the present embodiment, the mounting electrode portion provided with the pad portion and at least one of the concave portion or the through hole surrounded by the pad portion is formed, and at least one of the concave portion and the through hole is formed. After preparing a lead frame in which a metal film is formed on the surface of the mounting electrode part facing the region, an electronic component is connected. The surface of the above-described pad portion is a surface that faces the mounting substrate when the mounting electrode portion of the electronic device is soldered to the mounting substrate, and is also referred to as a pad surface below.
Moreover, a recessed part is a hollow with a bottomed hole shape, and a through hole is a hollow with a shape penetrating from the pad surface to the back surface of the mounting electrode part. The concave portion and the through hole provided in the pad portion may be provided in combination.
After that, the electronic component and the mounting electrode part are covered with a sealing material so as to expose at least a part of the electronic component and the pad surface of the mounting electrode part and the metal film are exposed, and after the sealing part is formed, the mounting is performed. The electrode part, the pad part, and the sealing part are cut.
Mounting the electrode portion, pad portions, and cutting the sealing portion by performing so as to expose the direction (side surface) of the metal film crosses the pad surface, it surrounds at least hand recess and the through hole in plan view the pad Only one of the parts is excised. As a result, the cross section of the metal film and base metal plate formed when forming the lead frame is exposed on the side surface of the electronic device. When the electronic device or the like is soldered to the mounting substrate, this metal film becomes a soldering surface, in other words, a surface on which a solder fillet (soldering shape) is formed.
Therefore, the electronic device obtained by the manufacturing method of the electronic device of this embodiment does not have a deteriorated layer due to being cut in the metal film provided on the surface of the mounting electrode portion. Further, since a metal film is formed in advance on the surface of the mounting electrode portion facing at least one region of the recess and the through hole, solder wettability is good and a solder fillet can be easily formed. As a result, it is possible to improve the soldering strength of the electronic device with respect to the mounting substrate and to improve the soldering stability .
[Mode 2 ] In the method of manufacturing an electronic device according to the above mode, the step of covering the pad part and the metal film with a mold includes the mold being an elastic member, and the mold being covered with the pad part and the metal film. It includes a step of pressing against at least one.
According to this embodiment, the sealing portion is formed while pressing the mold of the elastic member against at least one of the pad portion and the metal film. Thereby, it can prevent more reliably that a sealing material flows into the surface of at least one of a pad part and a metal film. Further, since the sealing portion is formed in a state where the elastic member covering the pad portion is deformed, in other words, the pad portion is biting into the elastic member, a step is generated between the pad portion and the sealing portion. Thus, the pad portion can have a so-called stand-off function. Accordingly, it is possible to more reliably and stably solder the electronic device to the mounting substrate.
[Mode 3 ] In the method for manufacturing an electronic device according to the above mode, at least one of the recess and the through hole is formed by etching.
According to this embodiment, at least one of the recess and the through hole is formed by etching. For example, the etching process generates less processing stress as compared to press processing and the like, and can process at least one of the concave portion and the through hole while maintaining the flatness of the pad portion. Thereby, since the degree of adhesion between the pad portion and the mold can be increased in the step of forming the sealing portion, it is possible to more reliably prevent the sealing material from flowing into the pad portion.
The electronic device according to [Embodiment 4] This embodiment, pad portion, mounting the electrode portions that have a recess only one of the pad portion in a region adjacent to the pad portion in a plan view is open, and the recess A lead frame having a metal film disposed on a surface of the mounting electrode portion facing the semiconductor device, an electronic component electrically connected to the mounting electrode portion, and the pad portion and the entire metal film are covered. And a sealing portion that covers at least a part of the mounting electrode part and at least a part of the electronic component.
In the electronic device of this embodiment, the metal film disposed on the surface of the mounting electrode facing the recess formed when the lead frame is formed is exposed on the side surface. When the electronic device is soldered to the mounting substrate, this metal film becomes a soldering surface, in other words, a surface on which a solder fillet (soldering shape) is formed.
Therefore, the metal film of the mounting electrode portion does not have a deteriorated layer due to cutting, so that solder wettability is good and a solder fillet can be easily formed. As a result, it is possible to improve the soldering strength of the electronic device with respect to the mounting substrate and to improve the soldering stability.
Further, in the electronic device of this embodiment, since the metal film is formed at the same time as the outer surface of the lead frame when the lead frame is formed, a process for forming the metal film again is not required, and the cost can be reduced.
[Embodiment 5] An electronic device according to the above embodiment, the recess is a plurality alongside Dei wherein Rukoto the mounting electrode portion in a plan view.
According to this embodiment, since there are a plurality of concave portions in one pad portion, the surface area of the mounting electrode portion facing the concave portion is increased, and the solderability can be further improved.
[Mode 6 ] An electronic device according to the present mode is characterized in that the electronic device according to the above mode includes a vibrator and a circuit element having at least a function of causing the vibrator to oscillate.
On the side surface of the electronic device of the present embodiment, the surface of the mounting electrode facing the recess provided with the metal film formed when forming the lead frame is exposed. When the piezoelectric device is soldered to the mounting substrate, this metal film becomes a soldering surface, in other words, a surface on which a solder fillet (soldering shape of solder) is formed.
Therefore, the metal film provided on the surface of the mounting electrode portion facing the recess does not have a deteriorated layer due to cutting, so that solder wettability is good and a solder fillet can be easily formed. . As a result, it is possible to improve the soldering strength of the electronic device with respect to the mounting substrate and to improve the soldering stability.
In addition, the electronic device of this embodiment can form the metal film simultaneously with the surface of the lead frame when forming the lead frame, so that the process of forming the metal film on the surface of the mounting electrode part facing the recess is unnecessary. Cost reduction can be achieved.
In addition, since the circuit element and the mounting electrode portion are connected to one surface of the vibrator and covered with a sealing body, a small and thin electronic device can be provided.
[Mode 7 ] The electronic device described in this mode is characterized by using the above-described electronic device.
According to the electronic device described in this embodiment, a solder fillet is formed when mounted on a circuit board by soldering because the metal film provided in advance exists on the surface of the mounting electrode part facing the recess. As a result, the soldering strength can be improved and the connection reliability can be improved.
Therefore, an electronic apparatus using the above-described electronic device has stable connection reliability and can improve impact resistance.
Application Example 1 An electronic device manufacturing method according to this application example includes a pad portion, a mounting electrode portion provided with at least one of a recess and a through hole surrounded by the pad portion, and the recess. And preparing a lead frame having a metal film disposed on a surface of the mounting electrode portion facing at least one region of the through hole, connecting an electronic component to the lead frame, Forming a sealing part so as not to cover the pad part and the metal film, and to cover at least a part of the mounting electrode part and at least a part of the electronic component; the pad part; and the mounting electrode part And cutting the sealing portion.

本適用例の電子デバイスの製造方法によれば、パッド部と、パッド部に囲まれた凹部ま
たは貫通穴の少なくともいずれか一方を備えた窪み部が備えられた実装電極部が形成され
、窪み部の内面に金属膜が形成されたリードフレームを用意した後、電子部品を接続する
。なお、上述のパッド部の表面とは、電子デバイスの実装電極部が実装基板にハンダ付け
される際に実装基板と対向する面のことであり、以下ではパッド面ともいう。
また、凹部とは有底の穴形状の窪みであり、貫通穴とはパッド面から実装電極部の裏面
まで貫通した形状の窪みである。上記窪み部は、凹部または貫通穴のどちらでもよく、ま
たは双方を組み合わせて備えてもよい。
その後、その電子部品を内包するとともに、実装電極部のパッド面および窪み部を露出
するように封止材により電子部品と実装電極部の側面を覆い、封止部を形成した後、パッ
ド面に形成された窪み部とパッド部および封止部を切断する。
パッド部と窪み部および封止部の切断は、窪み部の内面がパッド面と交差する方向(側
面)に露出するように行うことにより、窪み部の四方を囲むパッド部のうちの一方が切除
される。その結果、電子デバイスの側面には、リードフレームを形成する際に形成された
金属膜がそのまま備えられた窪み部の内面と下地金属板の断面が露出している。そして、
電子デバイスなどを実装基板にハンダ付けする際には、この窪み部の内面に設けられてい
る金属膜がハンダ付け面となり、換言すれば、ハンダフィレット(ハンダの裾引き形状)
を形成する面となる。
したがって、本適用例の電子デバイスの製造方法によって得られた電子デバイスは、実
装電極部の表面に設けられた窪み部の内面には切断されることによる変質層は存在しない
。また、窪み部の内面には、予め金属膜が形成されているためハンダの濡れ性もよくハン
ダフィレットを容易に形成することが可能となる。これにより、電子デバイスの実装基板
に対するハンダ付け強度を向上するとともに、ハンダ付けの安定性を高めることが可能と
なる。
According to the manufacturing method of the electronic device of this application example, the mounting electrode part including the pad part and the recessed part provided with at least one of the recessed part or the through hole surrounded by the pad part is formed, and the recessed part is formed. After preparing a lead frame having a metal film formed on the inner surface, electronic components are connected. The surface of the above-described pad portion is a surface that faces the mounting substrate when the mounting electrode portion of the electronic device is soldered to the mounting substrate, and is also referred to as a pad surface below.
Moreover, a recessed part is a hollow with a bottomed hole shape, and a through hole is a hollow with a shape penetrating from the pad surface to the back surface of the mounting electrode part. The recess may be either a recess or a through hole, or a combination of both.
Thereafter, the electronic component is encapsulated, and the side surface of the electronic component and the mounting electrode part is covered with a sealing material so as to expose the pad surface and the recessed part of the mounting electrode part, and the sealing part is formed. The formed dent part, pad part and sealing part are cut.
Cutting the pad portion, the recessed portion, and the sealing portion is performed so that the inner surface of the recessed portion is exposed in the direction (side surface) intersecting the pad surface, so that one of the pad portions surrounding the four sides of the recessed portion is excised. Is done. As a result, on the side surface of the electronic device, the inner surface of the hollow portion where the metal film formed when forming the lead frame is provided as it is and the cross section of the base metal plate are exposed. And
When soldering an electronic device or the like to a mounting board, the metal film provided on the inner surface of the recess serves as a soldering surface, in other words, a solder fillet (solder skirt shape).
It becomes the surface which forms.
Therefore, the electronic device obtained by the manufacturing method of the electronic device of this application example does not have a deteriorated layer due to being cut on the inner surface of the recess portion provided on the surface of the mounting electrode portion. Further, since a metal film is formed in advance on the inner surface of the recess, the solder has good wettability and a solder fillet can be easily formed. As a result, it is possible to improve the soldering strength of the electronic device with respect to the mounting substrate and to improve the soldering stability.

[適用例2]上記適用例に記載の電子デバイスの製造方法において、前記封止部を形成
するステップに先立って、前記パッド部の表面および窪み部を型で覆うことを特徴とする
Application Example 2 In the method for manufacturing an electronic device according to the application example described above, the surface of the pad portion and the recess portion are covered with a mold prior to the step of forming the sealing portion.

本適用例によれば、パッド部の表面および窪み部に型を密着させるように覆った後に封
止部を形成するため、封止材がパッド部の表面および窪み部に流れ込むことを防止するこ
とができる。これにより、パッド部の表面の露出を確保できるため、電子デバイスの実装
基板へのハンダ付けをより安定的に行うことが可能となる。
According to this application example, the sealing portion is formed after covering the surface of the pad portion and the recess portion so as to adhere the mold, so that the sealing material is prevented from flowing into the surface of the pad portion and the recess portion. Can do. Thereby, since the exposure of the surface of a pad part is securable, it becomes possible to perform soldering to the mounting board | substrate of an electronic device more stably.

[適用例3]上記適用例に記載の電子デバイスの製造方法において、前記封止部を形成
するステップでは、前記パッド部の表面および窪み部を弾性部材で覆い、前記弾性部材に
前記パッド部が食い込むように押圧しながら前記封止部を形成することを特徴とする。
Application Example 3 In the electronic device manufacturing method according to the application example described above, in the step of forming the sealing portion, the surface of the pad portion and the recess portion are covered with an elastic member, and the pad portion is covered with the elastic member. The sealing part is formed while pressing so as to bite.

本適用例によれば、パッド部の表面を被った弾性部材にパッド部が食い込むように押圧
しながら封止部を形成する。これにより、封止材がパッド部の表面および窪み部に流れ込
むことをより確実に防止することができる。また、パッド部の表面を被った弾性部材にパ
ッド部が食い込んだ状態で封止部を形成するため、パッド部の表面と封止部との間に段差
を生じさせることができ、パッド部に、所謂スタンドオフの機能を持たせることが可能と
なる。これらにより、電子デバイスの実装基板へのハンダ付けをより確実、安定的に行う
ことが可能となる。
According to this application example, the sealing portion is formed while pressing so that the pad portion bites into the elastic member covering the surface of the pad portion. Thereby, it can prevent more reliably that a sealing material flows into the surface of a pad part, and a hollow part. Further, since the sealing portion is formed with the pad portion biting into the elastic member covering the surface of the pad portion, a step can be generated between the surface of the pad portion and the sealing portion. In other words, a so-called stand-off function can be provided. Accordingly, it is possible to more reliably and stably solder the electronic device to the mounting substrate.

[適用例4]上記適用例に記載の電子デバイスの製造方法において、前記窪み部は、エ
ッチング加工によって形成されることを特徴とする。
Application Example 4 In the method for manufacturing an electronic device according to the application example, the recess is formed by etching.

本適用例によれば、窪み部の形成がエッチング加工によってなされる。エッチング加工
は、例えば、プレス加工などと比較して加工応力の発生が少なく、パッド部の表面の平坦
度を維持しつつ、窪み部の加工を行うことができる。これにより、封止部を形成するステ
ップでパッド部の表面と型との密着度を高めることができるため、パッド部の表面への封
止材の流れ込みをより確実に防止することが可能となる。
According to this application example, the depression is formed by etching. In the etching process, for example, the processing stress is less generated than in the press process, and the recess part can be processed while maintaining the flatness of the surface of the pad part. Accordingly, since the degree of adhesion between the surface of the pad portion and the mold can be increased in the step of forming the sealing portion, it becomes possible to more reliably prevent the sealing material from flowing into the surface of the pad portion. .

[適用例5]本適用例に記載の電子デバイスは、パッド部と、四方のうち三方が前記パ
ッド部に囲まれ残る一方が開放した凹部が備えられた実装電極部が形成され、前記凹部に
金属膜が形成されたリードフレームを用いた電子デバイスであって、前記実装電極部に接
続された電子部品と、前記パッド部の表面および前記凹部を露出させつつ、前記電子部品
と前記実装電極部の側面を覆う封止部と、を有し、前記凹部の内面と下地金属板の断面と
が露出していることを特徴とする。
Application Example 5 In the electronic device described in this application example, a mounting electrode part including a pad part and a recessed part in which three of four sides are surrounded by the pad part and the remaining one is opened is formed in the concave part. An electronic device using a lead frame in which a metal film is formed, the electronic component connected to the mounting electrode portion, and the electronic component and the mounting electrode portion while exposing a surface of the pad portion and the concave portion And a sealing portion that covers the side surface of the concave portion, wherein the inner surface of the recess and the cross section of the base metal plate are exposed.

本適用例の電子デバイスは、その側面に、リードフレームを形成する際に形成された金
属膜がそのまま備えられた凹部の内面と下地金属板の断面が露出している。そして、電子
デバイスを実装基板にハンダ付けする際には、この凹部の内面の設けられている金属膜が
ハンダ付け面となり、換言すれば、ハンダフィレット(ハンダの裾引き形状)を形成する
面となる。
したがって、実装電極部の表面に設けられた凹部の内面には、切断されることによる変
質層は存在しないため、ハンダの濡れ性もよくハンダフィレットを容易に形成することが
可能となる。これにより、電子デバイスの実装基板に対するハンダ付け強度を向上すると
ともに、ハンダ付けの安定性を高めることが可能となる。
また、本適用例の電子デバイスは、凹部内面の金属膜がリードフレーム形成時に、リー
ドフレーム外表面と同時に形成されるため、改めて凹部内面に金属膜を形成する工程が不
要となり、コスト低減を図ることが可能である。
In the electronic device of this application example, the inner surface of the recess provided with the metal film formed when forming the lead frame as it is and the cross section of the base metal plate are exposed on the side surface. When the electronic device is soldered to the mounting substrate, the metal film provided on the inner surface of the recess serves as a soldering surface, in other words, a surface that forms a solder fillet (soldering shape). Become.
Therefore, since there is no deteriorated layer due to cutting on the inner surface of the concave portion provided on the surface of the mounting electrode portion, the solder wettability is good and the solder fillet can be easily formed. As a result, it is possible to improve the soldering strength of the electronic device with respect to the mounting substrate and to improve the soldering stability.
Further, in the electronic device of this application example, the metal film on the inner surface of the recess is formed at the same time as the outer surface of the lead frame when the lead frame is formed. It is possible.

[適用例6]上記適用例に記載の電子デバイスにおいて、前記凹部は、前記パッド部に
複数並んで設けられていることを特徴とする。
Application Example 6 In the electronic device according to the application example described above, a plurality of the recesses are provided side by side in the pad portion.

本適用例によれば、一つのパッド部に凹部が複数存在するため、その表面積が大きくな
りハンダ付け性をさらに向上させることが可能となる。
According to this application example, since there are a plurality of recesses in one pad portion, the surface area is increased, and the solderability can be further improved.

[適用例7]本適用例の圧電デバイスは、上記適用例に記載の電子デバイスにおいて、
圧電振動子と、前記圧電振動子を発振させる機能を少なくとも有した回路素子とを有する
ことを特徴とする。
Application Example 7 A piezoelectric device according to this application example is the electronic device according to the application example described above.
It has a piezoelectric vibrator and a circuit element having at least a function of causing the piezoelectric vibrator to oscillate.

本適用例の圧電デバイスの側面には、リードフレームを形成する際に形成された金属膜
がそのまま備えられた凹部の内面と下地金属板の断面が露出している。そして、圧電デバ
イスを実装基板にハンダ付けする際には、この凹部の内面の設けられている金属膜がハン
ダ付け面となり、換言すれば、ハンダフィレット(ハンダの裾引き形状)を形成する面と
なる。
したがって、実装電極部の表面に設けられた凹部の内面には、切断されることによる変
質層は存在しないため、ハンダの濡れ性もよくハンダフィレットを容易に形成することが
可能となる。これにより、圧電デバイスの実装基板に対するハンダ付け強度を向上すると
ともに、ハンダ付けの安定性を高めることが可能となる。
また、本適用例の圧電デバイスは、凹部内面の金属膜がリードフレーム形成時に、リー
ドフレーム表面と同時に形成することが可能なため、改めて凹部内面に金属膜を形成する
工程が不要となり、コスト低減を図ることが可能である。
また、圧電振動子の一面に回路素子と実装電極部とを接続し、封止体で覆う構造である
ため、小型薄型化の圧電デバイスを提供することができる。
On the side surface of the piezoelectric device of this application example, the inner surface of the recess provided with the metal film formed when the lead frame is formed as it is and the cross section of the base metal plate are exposed. When the piezoelectric device is soldered to the mounting substrate, the metal film provided on the inner surface of the recess serves as a soldering surface, in other words, a surface that forms a solder fillet (soldering shape). Become.
Therefore, since there is no deteriorated layer due to cutting on the inner surface of the concave portion provided on the surface of the mounting electrode portion, the solder wettability is good and the solder fillet can be easily formed. Accordingly, it is possible to improve the soldering strength of the piezoelectric device with respect to the mounting substrate and to improve the soldering stability.
In addition, since the metal film on the inner surface of the recess can be formed at the same time as the lead frame surface when forming the lead frame, the piezoelectric device of this application example eliminates the need to form a metal film on the inner surface of the recess again, reducing costs. Can be achieved.
In addition, since the circuit element and the mounting electrode portion are connected to one surface of the piezoelectric vibrator and covered with a sealing body, a small and thin piezoelectric device can be provided.

[適用例8]本適用例に記載の電子機器は、上述の電子デバイスを用いていることを特
徴とする。
Application Example 8 The electronic apparatus described in this application example uses the above-described electronic device.

本適用例に記載の電子機器によれば、実装電極部の側面(凹部内面)に、予め設けられ
た金属膜が存在しているため、ハンダ付けによって回路基板に実装される場合にハンダフ
ィレットが形成され易く、ハンダ付け強度が向上するとともに接続の信頼性も向上するこ
とができる。
従って、上述の電子デバイス、あるいは圧電デバイスを用いている電子機器は、安定し
た接続信頼性を有するとともに、耐衝撃特性を向上させることが可能となる。
According to the electronic apparatus described in this application example, since the metal film provided in advance exists on the side surface (inner surface of the recess) of the mounting electrode portion, when the solder fillet is mounted on the circuit board by soldering, It is easy to form, and the soldering strength can be improved, and the connection reliability can be improved.
Therefore, an electronic device using the above-described electronic device or piezoelectric device has stable connection reliability and can improve impact resistance.

電子デバイスとしての半導体装置の概略構成を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A断面図(第1実施形態)。The schematic structure of the semiconductor device as an electronic device is shown, (a) is a top view, (b) is AA sectional drawing of (a) (1st Embodiment). 第1実施形態の半導体装置に用いるリードフレームの概略を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のA1−A1断面図。The outline of the lead frame used for the semiconductor device of a 1st embodiment is shown, (a) is a top view and (b) is an A1-A1 sectional view of (a). (a)〜(c)は、第1実施形態の半導体装置の製造方法の概略を示す工程説明図。(A)-(c) is process explanatory drawing which shows the outline of the manufacturing method of the semiconductor device of 1st Embodiment. 第1実施形態の個片化ステップ(切断工程)を説明する図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA2−A2断面図。It is a figure explaining the individualization step (cutting process) of 1st Embodiment, (a) is a top view, (b) is A2-A2 sectional drawing of (a). 圧電デバイスとしての水晶発振器を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図(第2実施形態)。The crystal oscillator as a piezoelectric device is shown, (a) is a top view, (b) is BB sectional drawing of (a) (2nd Embodiment). (a)〜(d)は、第2実施形態の水晶発振器の製造方法の概略を示す工程説明図。(A)-(d) is process explanatory drawing which shows the outline of the manufacturing method of the crystal oscillator of 2nd Embodiment. 第2実施形態の水晶発振器の実装基板へのハンダ付け強度を示すグラフ。The graph which shows the soldering intensity | strength to the mounting board | substrate of the crystal oscillator of 2nd Embodiment. 変形例1の封止工程に用いる押圧型を示し、(a)は上型を2層構造にした正断面図、(b)は上型および下型をそれぞれ2層構造にした正断面図。The press type | mold used for the sealing process of the modification 1 is shown, (a) is a front sectional view in which the upper die has a two-layer structure, and (b) is a front sectional view in which the upper die and the lower die each have a two-layer structure. 封止工程の変形例2を示す正断面図。FIG. 6 is a front sectional view showing a second modification of the sealing process. 変形例1または変形例2によって形成された封止部を説明する図であり、(a)は押し圧状態を示す正断面図、(b)は形成された封止部と実装電極部との相関を示す正断面図。It is a figure explaining the sealing part formed by the modification 1 or the modification 2, (a) is a front sectional view which shows a pressing pressure state, (b) is the formed sealing part and mounting electrode part Front sectional view showing correlation. 実装電極部に形成される凹部の応用例を示す平面図。The top view which shows the application example of the recessed part formed in a mounting electrode part. 変形例3の実装電極部間を接続する実装電極接続リードの一例を示す平面図。The top view which shows an example of the mounting electrode connection lead which connects between the mounting electrode parts of the modification 3. FIG. 変形例4の実装電極部間を接続する実装電極接続リードの一例を示す平面図。The top view which shows an example of the mounting electrode connection lead which connects between the mounting electrode parts of the modification 4. FIG. 本発明に係る電子機器の一例としての携帯電話機の概略を示す斜視図。1 is a perspective view illustrating an outline of a mobile phone as an example of an electronic apparatus according to the invention. 本発明に係る電子機器の一例としての携帯電話機の回路ブロック図。1 is a circuit block diagram of a mobile phone as an example of an electronic apparatus according to the invention. 本発明に係る電子機器の一例としてのパーソナルコンピューターの概略を示す斜視図。1 is a perspective view showing an outline of a personal computer as an example of an electronic apparatus according to the invention.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面を参照して説明する。第1実施形態で
は、電子デバイスとしての半導体装置の構成、およびその製造方法について説明し、第2
実施形態では、圧電デバイスとしての水晶発振器の構成、およびその製造方法について説
明する。
なお、実施形態においては、窪み部として凹部を備えた構成であるが、これに限定され
ず、窪み部として貫通穴、または凹部と貫通穴を組み合わせた構成でもよい。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. In the first embodiment, a configuration of a semiconductor device as an electronic device and a manufacturing method thereof will be described.
In the embodiment, a configuration of a crystal oscillator as a piezoelectric device and a manufacturing method thereof will be described.
In addition, in embodiment, although it is the structure provided with the recessed part as a hollow part, it is not limited to this, The structure which combined the through hole or the recessed part and the through hole as a hollow part may be sufficient.

(第1実施形態)
図1〜図4を用いて第1実施形態について説明する。図1は、電子デバイスとしての半
導体装置の概略構成を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のA−A断面図である。図
2は、半導体装置に用いるリードフレームの概略を示し、(a)は平面図、(b)は(a
)のA1−A1断面図である。図3(a)〜図3(c)は、半導体装置の製造方法の概略
を示す工程説明図であり、それぞれ図2(b)のA1−A1断面図に対応した断面図で示
している。図4は、半導体装置の製造方法の内の個片化ステップ(切断工程)を説明する
図であり、(a)は平面図、(b)は(a)のA2−A2断面図である。
(First embodiment)
The first embodiment will be described with reference to FIGS. 1A and 1B show a schematic configuration of a semiconductor device as an electronic device, in which FIG. 1A is a plan view and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 2 shows an outline of a lead frame used in a semiconductor device, (a) is a plan view, and (b) is (a).
It is A1-A1 sectional drawing of). FIG. 3A to FIG. 3C are process explanatory views showing the outline of the method for manufacturing a semiconductor device, and are shown in cross-sectional views corresponding to the A1-A1 cross-sectional view of FIG. 4A and 4B are diagrams for explaining a singulation step (cutting process) in the method for manufacturing a semiconductor device, where FIG. 4A is a plan view and FIG. 4B is a cross-sectional view taken along line A2-A2 of FIG.

[構成]
先ず、図1を用いて電子デバイスとしての半導体装置の概略構成について説明する。
半導体装置10は、実装電極部11と、実装電極部11に接続された電子部品としての
半導体素子14と、実装電極部11の一部および半導体素子14を内包するように設けら
れた封止材として例えば樹脂による封止部16を有している。なお、封止材としては、樹
脂の他に、ガラスなど絶縁性の材料であればよい。
[Constitution]
First, a schematic configuration of a semiconductor device as an electronic device will be described with reference to FIG.
The semiconductor device 10 includes a mounting electrode unit 11, a semiconductor element 14 as an electronic component connected to the mounting electrode unit 11, a part of the mounting electrode unit 11, and a sealing material provided so as to enclose the semiconductor element 14. For example, it has the sealing part 16 by resin. In addition to the resin, the sealing material may be an insulating material such as glass.

実装電極部11は、後述するリードフレームの一部であり、本例では4箇所に設けられ
ている。なお、リードフレームは、銅(Cu)或いは銅を主成分とする銅合金などの厚さ
0.25mm程度の板から構成される下地金属板を備えている。実装電極部11は、その
一面が封止部16から露出するパッド部12を有している。
パッド部12は、後に半導体装置10が実装される実装基板(図示せず)にハンダ付け
などで接続される際に、実装基板と対峙してハンダ付けなどが行われる機能を有している
The mounting electrode portion 11 is a part of a lead frame described later, and is provided at four locations in this example. The lead frame includes a base metal plate made of a plate having a thickness of about 0.25 mm, such as copper (Cu) or a copper alloy containing copper as a main component. The mounting electrode part 11 has a pad part 12 whose one surface is exposed from the sealing part 16.
The pad portion 12 has a function of performing soldering or the like so as to face the mounting substrate when connected to a mounting substrate (not shown) on which the semiconductor device 10 is mounted later by soldering or the like.

実装電極部11には、パッド部12の平面視略中央部から水晶発振器50の側面にかけ
て凹部17が設けられている。凹部17は、パッド部12の表面から0.18mm程度の
段差を有し、その内側には封止部16が設けられていない、換言すれば、内表面が外部に
露出している。さらに、実装電極部11には、平面視で凹部17よりパッド部12を介し
た反対側にパッド部12の表面から0.18mm程度の段差を有する段部18が設けられ
ている。
The mounting electrode portion 11 is provided with a concave portion 17 from the substantially central portion of the pad portion 12 in plan view to the side surface of the crystal oscillator 50. The concave portion 17 has a step of about 0.18 mm from the surface of the pad portion 12, and the sealing portion 16 is not provided inside thereof, in other words, the inner surface is exposed to the outside. Further, the mounting electrode portion 11 is provided with a step portion 18 having a step of about 0.18 mm from the surface of the pad portion 12 on the opposite side of the recessed portion 17 via the pad portion 12 in plan view.

実装電極部11は、段部18或いは凹部17も含む表面に、金属膜13を備える。金属
膜13は、下地金属よりも長期間ハンダ濡れ性を維持できる材料が表層に形成されたもの
が好ましく、例えば、金などが考えられる。具体的には、下地金属板の表面に、下地層と
してニッケル(Ni)が、下地層の表面に中間層としてパラジウム(Pd)が、更に中間
層の表面に表面層として金(Au)が、それぞれ無電界メッキにて形成されたメッキ層と
して構成されている。なお、ここで示した金属膜13の構成は一例であり、電極層、ハン
ダ付け層などとしての機能を有していれば他の金属を用いてもよい。
The mounting electrode portion 11 includes a metal film 13 on the surface including the step portion 18 or the recess portion 17. The metal film 13 is preferably formed of a surface layer of a material that can maintain solder wettability for a longer period of time than the base metal, for example, gold. Specifically, on the surface of the base metal plate, nickel (Ni) as the base layer, palladium (Pd) as the intermediate layer on the surface of the base layer, and gold (Au) as the surface layer on the surface of the intermediate layer, Each is configured as a plating layer formed by electroless plating. Note that the structure of the metal film 13 shown here is an example, and other metals may be used as long as they have a function as an electrode layer, a soldering layer, or the like.

なお、本例では実装電極部11の厚さを0.25mm、凹部17および段部18の段差
を0.18mmの例で説明したが、この寸法値は一例であり、リードフレームの剛性を保
持できる寸法値であれば他の寸法値を用いることも可能である。
In this example, the thickness of the mounting electrode portion 11 is 0.25 mm, and the steps of the recess 17 and the step portion 18 are 0.18 mm. However, this dimension value is an example and the rigidity of the lead frame is maintained. Other dimension values can be used as long as the dimension values can be used.

半導体素子14は、実装電極部11のパッド部12となる一面と反対側の面に接続され
ている。半導体素子14は、その一面である能動面の内部に電子回路(図示せず)が構成
されている。半導体素子14の能動面には、その電子回路と電気的に接続された金属バン
プ15が設けられている。
The semiconductor element 14 is connected to a surface opposite to the one surface that becomes the pad portion 12 of the mounting electrode portion 11. The semiconductor element 14 includes an electronic circuit (not shown) inside an active surface which is one surface thereof. The active surface of the semiconductor element 14 is provided with metal bumps 15 electrically connected to the electronic circuit.

金属バンプ15は、金(Au)などで形成されている。半導体素子14は、金属バンプ
15と実装電極部11の表面に設けられている金属膜13とが接合されることによって実
装電極部11と電気的に接続される。
The metal bump 15 is made of gold (Au) or the like. The semiconductor element 14 is electrically connected to the mounting electrode unit 11 by bonding the metal bump 15 and the metal film 13 provided on the surface of the mounting electrode unit 11.

封止部16は、前述のパッド部12(詳細に説明すれば、パッド部12の表面に形成さ
れた金属膜13であるが、以下の説明では特に断りの無い場合はパッド部12の表面と記
載する)と凹部17を露出させ、実装電極部11、半導体素子14などを封止している。
本例の封止部16は、略直方体形状をなしており、例えば、トランスファーモールド法を
用いた熱硬化性の樹脂などによって形成されている。
The sealing portion 16 is the above-described pad portion 12 (more specifically, the metal film 13 formed on the surface of the pad portion 12, but in the following description, the surface of the pad portion 12 unless otherwise specified. And the recessed portion 17 is exposed, and the mounting electrode portion 11 and the semiconductor element 14 are sealed.
The sealing portion 16 of this example has a substantially rectangular parallelepiped shape, and is formed of, for example, a thermosetting resin using a transfer molding method.

次に、図2〜図4を用いて半導体装置の製造方法の概略を説明する。
[リードフレームの構成]
製造方法の説明に先立って、図2を用いてリードフレームの構成について説明する。な
お、図2(a)では、構成を解り易くするため、図2(b)で示す金属膜13の記載を省
略している。
図2(a)、(b)に示すように、リードフレーム20は、銅(Cu)或いは銅を主成
分とする銅合金などの薄板(厚さ0.25mm程度)から抜き出された、パッド部12と
、パッド部12の表面と段差を有する段部18、および凹部17と、を含む実装電極部1
1が、配列形成されている。なお、段部18および凹部17は、パッド部12の表面から
0.18mm程度の段差を持って形成される。したがって、段部18および凹部17の厚
さは、0.07mm程度となっている。
Next, an outline of a method for manufacturing a semiconductor device will be described with reference to FIGS.
[Lead frame configuration]
Prior to the description of the manufacturing method, the configuration of the lead frame will be described with reference to FIG. In FIG. 2A, the metal film 13 shown in FIG. 2B is omitted for easy understanding of the configuration.
As shown in FIGS. 2A and 2B, the lead frame 20 is a pad extracted from a thin plate (thickness of about 0.25 mm) such as copper (Cu) or a copper alloy containing copper as a main component. Mounting electrode portion 1 including a portion 12, a step portion 18 having a step from the surface of the pad portion 12, and a concave portion 17.
1 are arranged. The step portion 18 and the recess portion 17 are formed with a step of about 0.18 mm from the surface of the pad portion 12. Therefore, the thickness of the step part 18 and the recessed part 17 is about 0.07 mm.

本例では、4つの実装電極部11が1セットとして図1に示す半導体装置10の構成部
材を形成し、本例のリードフレーム20は、一つのリードフレーム20上に、1120個
の半導体装置10が形成できるセットが配列形成されたシート状になっている。
隣り合う実装電極部11は、継ぎリード19で互いに繋がっている。継ぎリード19は
、段部18から延在されており、段部18と同じ厚さで形成されている。本例では、Y方
向に隣り合う一対の実装電極11(11a,11b)が2本の継ぎリード19で互いに繋
がっており、X方向に隣り合う実装電極部11(11a,11c、および11b,11d
)がそれぞれ1本の継ぎリード19で繋がっている。
なお、継ぎリード19の厚さは、必ずしも段部18の厚さと同じでなくてもよく、実装
電極部11の配列が維持できる厚さであればよい。
In this example, four mounting electrode portions 11 form one set and form the constituent members of the semiconductor device 10 shown in FIG. 1, and the lead frame 20 of this example has 1120 semiconductor devices 10 on one lead frame 20. Is a sheet in which sets that can be formed are arranged.
Adjacent mounting electrode portions 11 are connected to each other by joint leads 19. The joint lead 19 extends from the step portion 18 and has the same thickness as the step portion 18. In this example, a pair of mounting electrodes 11 (11a, 11b) adjacent in the Y direction are connected to each other by two joint leads 19, and the mounting electrode portions 11 (11a, 11c, and 11b, 11d) adjacent in the X direction are connected.
) Are connected by one splicing lead 19.
It should be noted that the thickness of the joint lead 19 is not necessarily the same as the thickness of the stepped portion 18 as long as the arrangement of the mounting electrode portions 11 can be maintained.

前述した半導体装置10は、4つの実装電極部11(11a,11b,11c,11d
)が1セットとして構成されている。
The semiconductor device 10 described above includes four mounting electrode portions 11 (11a, 11b, 11c, 11d).
) Are configured as one set.

なお、図示しないが、リードフレーム20の外周部分にはフレーム枠が設けられており
、そのフレーム枠を介することも含めて、継ぎリード19によって全ての実装電極部11
が繋がっている。
また、本例では実装電極部11の厚さを0.25mm、凹部17および段部18の段差
を0.18mmの例で説明したが、この寸法値は一例であり、リードフレーム20の剛性
を保持できる寸法値であれば他の寸法値を用いることも可能である。
Although not shown, a frame frame is provided on the outer peripheral portion of the lead frame 20, and all the mounting electrode portions 11 are connected by the joint leads 19 including the frame frame.
Are connected.
In this example, the mounting electrode portion 11 has a thickness of 0.25 mm, and the steps of the recess 17 and the step portion 18 are 0.18 mm. However, this dimension value is an example, and the rigidity of the lead frame 20 is increased. Other dimension values can be used as long as they can be maintained.

[製造方法]
図3および図4を用いて半導体装置10の製造方法について説明する。
<リードフレームを用意するステップ>
図3(a)を用いてリードフレーム20を用意するステップについて説明する。
先ず、銅(Cu)或いは銅合金などの薄板を用意し、後に実装電極部11が形成される
部位の中央部に凹部17、凹部17を挟んだ両側に段部18を形成する。なお、同時に継
ぎリード19に相当する部分も形成されるが、ここでの説明は省略する。
凹部17および段部18は、底部と、底部と交差する方向の側面(底部と側面を含め内
面ということもある)とを含み構成され、その底部と、底部と対向する面(リードフレー
ム素材の裏面)との厚さが、パッド部12の表面と、表面と対向する面(リードフレーム
素材の裏面)との厚さより薄くなるように形成する。すなわち、凹部17および段部18
は、パッド部12の表面と段差を有するように、ハーフエッチング加工により形成される
[Production method]
A method for manufacturing the semiconductor device 10 will be described with reference to FIGS.
<Steps for preparing the lead frame>
The steps for preparing the lead frame 20 will be described with reference to FIG.
First, a thin plate such as copper (Cu) or a copper alloy is prepared, and a concave portion 17 is formed in the central portion of a portion where the mounting electrode portion 11 will be formed later, and step portions 18 are formed on both sides of the concave portion 17. A portion corresponding to the joint lead 19 is also formed at the same time, but the description thereof is omitted here.
The concave portion 17 and the stepped portion 18 are configured to include a bottom portion and a side surface in a direction intersecting the bottom portion (also referred to as an inner surface including the bottom portion and the side surface). The bottom portion and a surface facing the bottom portion (of the lead frame material) The back surface is formed so as to be thinner than the thickness of the surface of the pad portion 12 and the surface facing the surface (the back surface of the lead frame material). That is, the recess 17 and the step 18
Is formed by half-etching so as to have a step with the surface of the pad portion 12.

このハーフエッチング加工(エッチング加工)は、他の加工方法、例えばプレス加工な
どと比較して加工応力の発生が少なく、パッド部12の表面の平坦度を維持しつつ、凹部
17および段部18の加工を行うことができる。これにより、後述する封止部16を形成
するステップで、パッド部12の表面と型との密着度を高めることができるため、パッド
部12の表面への樹脂の流れ込みをより確実に防止することが可能となる。
This half-etching process (etching process) generates less processing stress compared to other processing methods such as press processing, and maintains the flatness of the surface of the pad portion 12 while maintaining the recesses 17 and the step portions 18. Processing can be performed. Thereby, in the step of forming the sealing portion 16 to be described later, since the adhesion between the surface of the pad portion 12 and the mold can be increased, the flow of the resin to the surface of the pad portion 12 can be more reliably prevented. Is possible.

その後、実装電極部11、継ぎリード19、および図示しないフレーム枠などを残す、
いわゆる外形エッチング加工を行いリードフレーム素材の外形形状を形成する。
外形形状が形成されたリードフレーム素材には、その外表面に、例えば下地層としてニ
ッケル(Ni)を、下地層の表面に中間層としてパラジウム(Pd)を、更に中間層の表
面に表面層として金(Au)で構成される金属膜13を無電解メッキ法などによって形成
する。このような構成の金属膜13は、半導体素子などとの接続に用いられる金バンプと
の接合性、あるいは実装時のハンダ付け性の双方に優れていて好ましい。
Thereafter, the mounting electrode portion 11, the joint lead 19, and a frame frame (not shown) are left.
A so-called outer shape etching process is performed to form the outer shape of the lead frame material.
The lead frame material formed with the outer shape has, for example, nickel (Ni) as an underlayer on its outer surface, palladium (Pd) as an intermediate layer on the surface of the underlayer, and a surface layer on the surface of the intermediate layer. A metal film 13 made of gold (Au) is formed by an electroless plating method or the like. The metal film 13 having such a configuration is preferable because it is excellent in both the bonding property with a gold bump used for connection to a semiconductor element or the like, or the solderability during mounting.

これらによって、図3(a)に示すリードフレーム20を形成する。
なお、この金属膜13は、この金属膜13を必要とする部位、例えばパッド部12の表
面、凹部17の底部と側面を含む内表面、段部18の表面、および実装電極部11の半導
体素子14(図1参照)との接続部位などに少なくとも設けられていればよい。
As a result, the lead frame 20 shown in FIG.
The metal film 13 is a part that requires the metal film 13, for example, the surface of the pad portion 12, the inner surface including the bottom and side surfaces of the recess 17, the surface of the stepped portion 18, and the semiconductor element of the mounting electrode portion 11. 14 (see FIG. 1) may be provided at least at the connection site.

<半導体素子接続ステップ>
図3(b)を用いて、電子部品としての半導体素子14をリードフレーム20に形成さ
れた実装電極部11に接続するステップについて説明する。
半導体素子14と実装電極部11との接続は、半導体素子14の能動面に形成された金
バンプ15を、パッド部12の裏面の実装電極部11に形成された金属膜13に、例えば
金と金との共晶接合などを用いて接合する。本例の半導体素子14は、4つの実装電極部
11に跨って接合したものを用いて説明したが、用いられる実装電極部11の数は特に問
わず幾つであってもよい。
<Semiconductor element connection step>
A step of connecting the semiconductor element 14 as an electronic component to the mounting electrode portion 11 formed on the lead frame 20 will be described with reference to FIG.
The connection between the semiconductor element 14 and the mounting electrode part 11 is achieved by connecting a gold bump 15 formed on the active surface of the semiconductor element 14 to a metal film 13 formed on the mounting electrode part 11 on the back surface of the pad part 12, for example with gold. Join using eutectic bonding with gold. Although the semiconductor element 14 of the present example has been described by using the semiconductor element 14 joined across the four mounting electrode portions 11, the number of the mounting electrode portions 11 used may be any number.

<封止部形成ステップ>
図3(c)を用いて、樹脂による封止部16を形成するステップについて説明する。
本例では、リードフレーム(接続された素子も含む)20を金型で挟み込んで形成され
た空間に樹脂を押し込んで成形するトランスファーモールド法による成形を説明する。
<Sealing part formation step>
The step of forming the sealing portion 16 made of resin will be described with reference to FIG.
In this example, a description will be given of molding by a transfer molding method in which a lead frame (including connected elements) 20 is sandwiched between molds and a resin is pressed into a space.

先ず、前述したステップで半導体素子14が所定の部位に配列接続されたリードフレー
ム20を、加熱された下型25と上型27とによって挟み込む。
下型25には、リードフレーム20を挟み込んだ際に凹部17の中央部に対向する位置
の実装電極部11の裏面に当接するようにリードフレーム受け部26が設けられている。
また、図示しないが、窪み部を凹部ではなく貫通穴で形成した場合、実装電極部11の
裏面側の貫通穴の開口部を、リードフレーム受け部26で覆うように、リードフレーム受
け部26の受け面の面積を調整し、貫通穴に樹脂が流れ込まないようにして形成する。
リードフレーム20は、パッド部12の表面が上型27に接し、実装電極部11の裏面
が下型25のリードフレーム受け部26によって、押圧された状態となる。なお、リード
フレーム20の他の部位、例えば図示しないフレーム枠なども下型25と上型27とによ
って押圧しながら挟み込まれるが、ここでの説明は省略する。
また、図示しないが、下型25としてリードフレーム受け部26が無く封止面が平面状
の金型を使用することもできる。
First, the lead frame 20 in which the semiconductor elements 14 are arrayed and connected to a predetermined part in the above-described steps is sandwiched between the heated lower mold 25 and the upper mold 27.
The lower die 25 is provided with a lead frame receiving portion 26 so as to come into contact with the back surface of the mounting electrode portion 11 at a position facing the central portion of the recess 17 when the lead frame 20 is sandwiched.
Although not shown, when the recess is formed by a through hole instead of a recess, the lead frame receiving portion 26 covers the opening of the through hole on the back surface side of the mounting electrode portion 11 with the lead frame receiving portion 26. The area of the receiving surface is adjusted so that the resin does not flow into the through hole.
In the lead frame 20, the surface of the pad portion 12 is in contact with the upper die 27 and the back surface of the mounting electrode portion 11 is pressed by the lead frame receiving portion 26 of the lower die 25. Although other parts of the lead frame 20, such as a frame frame (not shown), are sandwiched while being pressed by the lower mold 25 and the upper mold 27, description thereof is omitted here.
Although not shown, a die having a flat sealing surface without the lead frame receiving portion 26 may be used as the lower die 25.

そして、下型25と上型27とによって挟み込まれて形成された空間に、加熱されて液
状となった熱硬化性の樹脂を加圧しながら注入し硬化させた後、下型25と上型27とを
離脱させモールド樹脂16Mを形成する。このとき、パッド部12の表面は上型27と密
着している。これにより、凹部17の内部には樹脂が流入しないため、凹部17の内面の
金属膜13が露出した状態となっている。
また、パッド部12の表面を上型27で被った後に樹脂を注入し、モールド樹脂16M
を形成するため、注入された樹脂がパッド部12の表面に流れ込むことを防止することが
できる。すなわち、パッド部12の表面は、金属膜13が露出した状態となる。
Then, a thermosetting resin that is heated and liquefied is injected into a space formed by being sandwiched between the lower mold 25 and the upper mold 27 while being pressed and cured, and then the lower mold 25 and the upper mold 27 are cured. And mold resin 16M is formed. At this time, the surface of the pad portion 12 is in close contact with the upper mold 27. Thereby, since the resin does not flow into the concave portion 17, the metal film 13 on the inner surface of the concave portion 17 is exposed.
Further, after covering the surface of the pad portion 12 with the upper mold 27, a resin is injected, and a mold resin 16M is injected.
Therefore, the injected resin can be prevented from flowing into the surface of the pad portion 12. That is, the surface of the pad portion 12 is in a state where the metal film 13 is exposed.

これらにより、実装電極部11のパッド部12の表面および凹部17を露出させつつ、
半導体素子14、実装電極部11の段部18、継ぎリード19などがモールド樹脂16M
によって被われたシート状の封止部形成リードフレーム21(図4参照)が形成される。
なお、モールド樹脂16Mは、封止部16と同じ構成部位であるが説明を解り易くするた
め、モールド樹脂16Mが個片化されたものを封止部16と呼ぶ。
Thus, while exposing the surface of the pad portion 12 and the concave portion 17 of the mounting electrode portion 11,
The semiconductor element 14, the stepped portion 18 of the mounting electrode portion 11, the joint lead 19, etc. are molded resin 16M.
The sheet-like sealing part forming lead frame 21 (see FIG. 4) covered with the above is formed.
The mold resin 16M is the same component as the sealing portion 16, but in order to make the explanation easy to understand, the mold resin 16M that is separated into pieces is referred to as a sealing portion 16.

<切断個片化ステップ>
図4(a)、(b)を用いて、リードフレーム20およびモールド樹脂16M(封止部
16)を切断して個片化するステップ、換言すれば、電子デバイスとしての半導体装置1
0が配列形成されたシート状の封止部形成リードフレーム21を切断し、個片の半導体装
置10とするステップを説明する。
前述したように、本例のリードフレーム20は、1120個の半導体装置10が配列形
成されたシート状である。このリードフレーム20にモールド樹脂16Mを形成した封止
部形成リードフレーム21を切断して、1120個の個片の半導体装置10とする。
<Cutting step>
4A and 4B, the lead frame 20 and the mold resin 16M (sealing portion 16) are cut into pieces, in other words, the semiconductor device 1 as an electronic device.
A step of cutting the sheet-like sealing portion forming lead frame 21 in which 0s are arranged to form individual semiconductor devices 10 will be described.
As described above, the lead frame 20 of this example has a sheet shape in which 1120 semiconductor devices 10 are arranged. The lead frame 20 in which the molding resin 16M is formed on the lead frame 20 is cut to form 1120 individual semiconductor devices 10.

先ず、図4(a)に示す縦方向第1切断部22axに沿って、図4(b)に示す切断砥
石であるダイヤモンドホイール23を回転させながら移動して縦方向一番目の切断部位を
切断する。
次に、縦方向第2切断部22bxに沿ってダイヤモンドホイール23を回転させながら
移動して縦方向二番目の切断部位を切断する。この後同様に実装電極部11の配列に沿っ
て縦方向の切断を継続する。
このとき、縦方向の切断位置、例えば縦方向第1切断部22axは、凹部17の内面が
パッド部12の表面と交差する方向(側面)に露出するように、凹部17の中央部を横断
し、パッド部12などを含むリードフレーム20およびモールド樹脂16Mを切断する。
この縦方向の切断によって、個片化された半導体装置10の側面に、パッド部12の表面
と繋がった状態で凹部17の内面と下地金属板の切断面が露出することになる。
First, along the longitudinal first cutting portion 22ax shown in FIG. 4 (a), the diamond wheel 23, which is the cutting grindstone shown in FIG. 4 (b), is moved while rotating to cut the first cutting portion in the longitudinal direction. To do.
Next, it moves while rotating the diamond wheel 23 along the vertical second cutting portion 22bx to cut the second vertical cutting site. Thereafter, similarly, the cutting in the vertical direction is continued along the arrangement of the mounting electrode portions 11.
At this time, the vertical cutting position, for example, the vertical first cutting portion 22ax crosses the central portion of the concave portion 17 so that the inner surface of the concave portion 17 is exposed in a direction (side surface) intersecting the surface of the pad portion 12. Then, the lead frame 20 including the pad portion 12 and the like and the mold resin 16M are cut.
By this vertical cutting, the inner surface of the recess 17 and the cut surface of the base metal plate are exposed on the side surface of the separated semiconductor device 10 while being connected to the surface of the pad portion 12.

続いて、X方向に延在する継ぎリード19(図2(a)参照)に重なる横方向第1切断
部22ayに沿って同様に横方向一番目の切断を行い、引き続き横方向第2切断部22b
yから順次横方向の切断を行う。
これらの切断処理によって、パッド部12の表面と凹部17の内面が封止部16から露
出された半導体装置10が形成される。
Subsequently, the first cut in the horizontal direction is similarly performed along the first horizontal cut portion 22ay that overlaps the joint lead 19 (see FIG. 2A) extending in the X direction, and the second horizontal cut portion is subsequently continued. 22b
Cut in the horizontal direction sequentially from y.
By these cutting processes, the semiconductor device 10 in which the surface of the pad portion 12 and the inner surface of the concave portion 17 are exposed from the sealing portion 16 is formed.

本実施形態の半導体装置10によれば、半導体装置10を個片化する際の縦方向の切断
が凹部17の内面がパッド部12の表面と交差する方向(側面)に露出するように行われ
るため、半導体装置10の側面には、リードフレーム20を形成する際にその表面に形成
された金属膜13がそのまま備えられた凹部17の内面と、下地金属板の切断面とが露出
している。そして、半導体装置10を実装基板にハンダ付けする際には、この凹部17の
内面に設けられている金属膜13がハンダ付け面となり、換言すれば、ハンダフィレット
(ハンダの裾引き形状)を形成する面となる。
したがって、上述の製造方法によって得られた半導体装置10は、例え上述した下地金
属板の切断面が酸化等の影響によってハンダ濡れ性が低下しても、金属膜13によってハ
ンダの濡れ性の良い面を確保できるので、ハンダフィレットを確実かつ容易に形成するこ
とが可能となる。これにより、電子デバイスとしての半導体装置10の実装基板に対する
ハンダ付け強度を向上するとともに、ハンダ付けの安定性を高めることが可能となる。
According to the semiconductor device 10 of this embodiment, the vertical cutting when the semiconductor device 10 is singulated is performed so that the inner surface of the recess 17 is exposed in a direction (side surface) intersecting the surface of the pad portion 12. Therefore, on the side surface of the semiconductor device 10, the inner surface of the recess 17 in which the metal film 13 formed on the surface of the lead frame 20 is provided as it is and the cut surface of the base metal plate are exposed. . When the semiconductor device 10 is soldered to the mounting substrate, the metal film 13 provided on the inner surface of the recess 17 becomes a soldering surface, in other words, a solder fillet (soldering shape of the solder) is formed. It becomes the surface to do.
Therefore, in the semiconductor device 10 obtained by the above-described manufacturing method, even if the solder wettability of the cut surface of the base metal plate is reduced due to the influence of oxidation or the like, the metal film 13 provides good solder wettability. Therefore, it is possible to reliably and easily form a solder fillet. As a result, it is possible to improve the soldering strength of the semiconductor device 10 as an electronic device with respect to the mounting substrate and to improve the soldering stability.

上述の第1実施形態では、電子デバイスの一例として半導体装置を用いて説明したがこ
れに限らず、同様な構成を有する、例えばセンサー装置、制御回路装置、電源装置などで
あってよい。
In the first embodiment described above, the semiconductor device has been described as an example of the electronic device. However, the present invention is not limited thereto, and may be a sensor device, a control circuit device, a power supply device, or the like having the same configuration.

(第2実施形態)
図5および図6を用いて第2実施形態について説明する。図5は、圧電デバイスとして
の水晶発振器の概略構成を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のB−B断面図である
。図6(a)〜図6(d)は、水晶発振器の製造方法の概略を示す工程説明図であり、そ
れぞれ図2(b)のA1−A1断面線に対応した位置の断面図で示している。なお、前述
の第1実施形態と同様な構成、および製造方法については説明および図示を省略すること
もある。
(Second Embodiment)
The second embodiment will be described with reference to FIGS. 5 and 6. 5A and 5B show a schematic configuration of a crystal oscillator as a piezoelectric device, in which FIG. 5A is a plan view and FIG. 5B is a sectional view taken along line BB in FIG. 6 (a) to 6 (d) are process explanatory views showing an outline of a method of manufacturing a crystal oscillator, and are shown in cross-sectional views at positions corresponding to the A1-A1 cross-sectional line in FIG. 2 (b). Yes. Note that description and illustration of the same configuration and manufacturing method as those of the first embodiment may be omitted.

[構成]
先ず、図5を用いて圧電デバイスとしての水晶発振器の概略構成について説明する。
水晶発振器50は、実装電極部51と、実装電極部51に接続された圧電振動子として
の水晶振動子60と、水晶振動子60を発振させる機能を少なくとも有する回路素子とし
ての半導体素子54と、実装電極部51の一部および水晶振動子60の一面を露出し、当
該露出部を除く実装電極部51および水晶振動子60、半導体素子54などを内包するよ
うに設けられた樹脂による封止部56を有している。
[Constitution]
First, a schematic configuration of a crystal oscillator as a piezoelectric device will be described with reference to FIG.
The crystal oscillator 50 includes a mounting electrode portion 51, a crystal resonator 60 as a piezoelectric vibrator connected to the mounting electrode portion 51, a semiconductor element 54 as a circuit element having at least a function of oscillating the crystal resonator 60, A part of the mounting electrode unit 51 and one surface of the crystal unit 60 are exposed, and a sealing unit made of resin provided so as to include the mounting electrode unit 51 excluding the exposed unit, the crystal unit 60, the semiconductor element 54, and the like. 56.

実装電極部51は、前述した第1実施形態の実装電極部11と同じ構成であるため詳細
な説明は省略し、概略を説明する。
実装電極部51は、その一面が封止部56から露出するパッド部52と、パッド部52
の平面視略中央部から水晶発振器50の側面にかけて設けられた凹部57と、平面視で凹
部57とパッド部52を介した反対側にパッド部52の表面と段差を有する段部58とが
設けられている。そして、実装電極部51は、段部58或いは凹部57も含む表面に、金
属膜53が形成されている。
Since the mounting electrode unit 51 has the same configuration as the mounting electrode unit 11 of the first embodiment described above, a detailed description thereof will be omitted and an outline will be described.
The mounting electrode portion 51 includes a pad portion 52 whose one surface is exposed from the sealing portion 56, and a pad portion 52.
And a stepped portion 58 having a step and a surface of the pad portion 52 on the opposite side through the recessed portion 57 and the pad portion 52 in a plan view. It has been. The mounting electrode portion 51 has a metal film 53 formed on the surface including the step portion 58 or the concave portion 57.

水晶振動子60は、パッケージ側壁62を含むパッケージ61と、パッケージ側壁62
に気密に接続された蓋体65とで形成された空間内に、パッケージ61に導電性接着剤6
4によって接続された水晶振動片63を有する構成となっている。
そして、水晶振動子60は、パッケージ61の裏面66に設けられた図示しない外部電
極と、実装電極部51のパッド部52と反対側の面と、が接続されている。
The crystal unit 60 includes a package 61 including a package side wall 62 and a package side wall 62.
The conductive adhesive 6 is attached to the package 61 in the space formed by the lid 65 hermetically connected to the package 61.
4 has a crystal vibrating piece 63 connected by 4.
In the crystal resonator 60, an external electrode (not shown) provided on the back surface 66 of the package 61 and a surface opposite to the pad portion 52 of the mounting electrode portion 51 are connected.

半導体素子54は、能動面の裏面が水晶振動子60のパッケージ61の裏面66に接続
されている。そして、半導体素子54の能動面に設けられた図示しないボンディングパッ
ドと、パッケージ61の裏面66に設けられた図示しない外部電極と、がボンディングワ
イヤー55によって電気的に接続されている。また、半導体素子54の図示しない別のボ
ンディングパッドと段部58と、がボンディングワイヤー55によって電気的に接続され
ている。
In the semiconductor element 54, the back surface of the active surface is connected to the back surface 66 of the package 61 of the crystal unit 60. A bonding pad (not shown) provided on the active surface of the semiconductor element 54 and an external electrode (not shown) provided on the back surface 66 of the package 61 are electrically connected by a bonding wire 55. Further, another bonding pad (not shown) of the semiconductor element 54 and the step portion 58 are electrically connected by a bonding wire 55.

封止部56は、前述のパッド部52(詳細に説明すれば、パッド部52の表面に形成さ
れた金属膜53であるが、以下の説明では特に断りの無い場合はパッド部52の表面と記
載する)、凹部57、および水晶振動子60の蓋体65の一面を露出させ、実装電極部5
1、半導体素子54、水晶振動子60などを内包するように封止している。本例の封止部
56は、略直方体形状をなしており、例えば、トランスファーモールド法を用いた熱硬化
性の樹脂などによって形成されている。
The sealing portion 56 is the above-described pad portion 52 (more specifically, the metal film 53 formed on the surface of the pad portion 52, but in the following description, the surface of the pad portion 52 unless otherwise specified. 1), the concave portion 57, and one surface of the lid body 65 of the crystal resonator 60 are exposed, and the mounting electrode portion 5 is exposed.
1. The semiconductor element 54, the crystal resonator 60, and the like are sealed. The sealing portion 56 of this example has a substantially rectangular parallelepiped shape, and is formed of, for example, a thermosetting resin using a transfer molding method.

次に、図6を用いて半導体装置の製造方法の概略を説明する。
[リードフレームの構成]
図6(a)に示すリードフレーム70は、前述した第1実施形態のリードフレーム20
と同じ構成であるため説明は省略する。
Next, an outline of a semiconductor device manufacturing method will be described with reference to FIG.
[Lead frame configuration]
The lead frame 70 shown in FIG. 6A is the lead frame 20 of the first embodiment described above.
Since it is the same structure as, description is omitted.

[製造方法]
<リードフレームを用意するステップ>
先ず、図6(a)に示すリードフレーム70を用意するが、このステップは、前述した
第1実施形態のリードフレーム20を用意するステップと同じであるため説明を省略する
[Production method]
<Steps for preparing the lead frame>
First, a lead frame 70 shown in FIG. 6A is prepared. Since this step is the same as the step of preparing the lead frame 20 of the first embodiment described above, description thereof is omitted.

<水晶振動子接続ステップ>
図6(b)を用いて、水晶振動子60をリードフレーム70に形成された実装電極部5
1に接続するステップについて説明する。
なお、水晶振動子60は、パッケージ61の内部に水晶振動片63を内蔵して蓋体65
によって気密に封止されたものを用意する。
水晶振動子60と実装電極部51との接続は、パッケージ61の裏面66に設けられた
図示しない外部電極と、実装電極部51のパッド部52と反対側の面と、に接続する。な
お、水晶振動子60は、2つの実装電極部51に跨って接合されても良いし、3つ以上の
実装電極部51に跨って接合されても良い。
<Quartz crystal connection step>
6B, the mounting electrode unit 5 in which the crystal unit 60 is formed on the lead frame 70 is used.
The step of connecting to 1 will be described.
The crystal unit 60 includes a crystal vibrating piece 63 in a package 61 and a lid 65.
Prepare an airtightly sealed product.
The crystal resonator 60 and the mounting electrode unit 51 are connected to an external electrode (not shown) provided on the back surface 66 of the package 61 and a surface of the mounting electrode unit 51 opposite to the pad unit 52. The crystal resonator 60 may be bonded across the two mounting electrode portions 51 or may be bonded across the three or more mounting electrode portions 51.

<半導体素子接続ステップ>
図6(c)を用いて、半導体素子54を水晶振動子60の裏面66に接続するステップ
について説明する。
半導体素子54と水晶振動子60のパッケージ61の裏面66との接続は、半導体素子
54の裏面に接着剤などを用いて行う。そして、半導体素子54の能動面に設けられた図
示しないボンディングパッドと、パッケージ61の裏面66に設けられた図示しない外部
電極とをボンディングワイヤー55によって電気的に接続する。また、半導体素子54の
図示しない別のボンディングパッドと段部58と、がボンディングワイヤー55によって
電気的に接続されている。
<Semiconductor element connection step>
A step of connecting the semiconductor element 54 to the back surface 66 of the crystal resonator 60 will be described with reference to FIG.
The connection between the semiconductor element 54 and the back surface 66 of the package 61 of the crystal unit 60 is performed using an adhesive or the like on the back surface of the semiconductor element 54. Then, a bonding pad (not shown) provided on the active surface of the semiconductor element 54 and an external electrode (not shown) provided on the back surface 66 of the package 61 are electrically connected by a bonding wire 55. Further, another bonding pad (not shown) of the semiconductor element 54 and the step portion 58 are electrically connected by a bonding wire 55.

<封止部形成ステップ>
図6(d)を用いて、樹脂による封止部(モールド樹脂56M)を形成するステップに
ついて説明する。本例では、リードフレーム(接続された素子も含む)70を金型で挟み
込んで形成された空間に樹脂を押し込んで成形するトランスファーモールド法による成形
を説明する。
先ず、前述したステップで水晶振動子60、半導体素子54などが所定の部位に配列接
続されたリードフレーム70を、加熱された下型75と上型77とによって押圧(加圧)
しながら挟み込む。
<Sealing part formation step>
With reference to FIG. 6D, a step of forming a sealing portion (mold resin 56M) with resin will be described. In this example, a description will be given of molding by a transfer molding method in which a lead frame (including connected elements) 70 is sandwiched between molds and a resin is pressed into a space.
First, the lead frame 70 in which the crystal resonator 60, the semiconductor element 54, and the like are arrayed and connected to predetermined portions in the above-described steps is pressed (pressed) by the heated lower die 75 and the upper die 77.
While sandwiching.

下型75には、リードフレーム70を挟み込んだ際に凹部57の中央部に対向する位置
の実装電極部51の裏面に当接するようにリードフレーム受け部76が設けられている。
また、図示しないが、窪み部を凹部ではなく貫通穴で形成した場合、実装電極部51の
裏面側の貫通穴の開口部を、リードフレーム受け部76で覆うように、リードフレーム受
け部76の受け面の面積を調整し、貫通穴に樹脂が流れ込まないようにして形成する。
リードフレーム70は、パッド部52の表面が上型77に接し、実装電極部51の裏面が
下型75のリードフレーム受け部76によって、押圧された状態となる。なお、リードフ
レーム70の他の部位、例えば図示しないフレーム枠なども下型75と上型77とによっ
て押圧しながら挟み込まれるが、ここでの説明は省略する。
また、図示しないが、下型75としてリードフレーム受け部76が無く封止面が平面状
の金型を使用することもできる。
The lower die 75 is provided with a lead frame receiving portion 76 so as to come into contact with the back surface of the mounting electrode portion 51 at a position facing the central portion of the recess 57 when the lead frame 70 is sandwiched.
Although not shown, when the recess is formed by a through hole instead of a recess, the lead frame receiving portion 76 has an opening in the through hole on the back surface side of the mounting electrode portion 51 so that the lead frame receiving portion 76 covers the opening. The area of the receiving surface is adjusted so that the resin does not flow into the through hole.
In the lead frame 70, the surface of the pad portion 52 is in contact with the upper die 77, and the back surface of the mounting electrode portion 51 is pressed by the lead frame receiving portion 76 of the lower die 75. It should be noted that other parts of the lead frame 70, such as a frame frame (not shown), are also sandwiched while being pressed by the lower mold 75 and the upper mold 77, but description thereof is omitted here.
Although not shown, a die having no lead frame receiving portion 76 and a flat sealing surface can be used as the lower die 75.

そして、下型75と上型77とによって挟み込まれて形成された空間に、加熱されて液
状となった熱硬化性の樹脂を加圧しながら注入し、硬化させた後、下型75と上型77と
を離脱させモールド樹脂56Mを形成する。このとき、パッド部52の表面は上型77と
密着している。このことにより、パッド部52の表面、および凹部57の内部には樹脂が
流入しないため、パッド部52の表面、および凹部57の内面の金属膜53が露出した状
態となっている。また、水晶振動子60の蓋体65は下型75と密着している。
Then, a thermosetting resin that is heated and liquefied is injected into a space formed by being sandwiched between the lower die 75 and the upper die 77 while being pressurized and cured, and then the lower die 75 and the upper die are cured. 77 is released to form a mold resin 56M. At this time, the surface of the pad portion 52 is in close contact with the upper mold 77. As a result, since the resin does not flow into the surface of the pad portion 52 and the inside of the recess 57, the metal film 53 on the surface of the pad portion 52 and the inner surface of the recess 57 is exposed. The lid body 65 of the crystal unit 60 is in close contact with the lower mold 75.

これらにより、水晶振動子60の蓋体65と実装電極部51のパッド部52の表面およ
び凹部57とを露出させつつ、半導体素子54、実装電極部51の段部58、図示しない
継ぎリードなどがモールド樹脂56Mによって被われたシート状の部材(封止部材形成リ
ードフレーム)が形成される。なお、モールド樹脂56Mは、封止部56と同じ構成部位
であるが説明を解り易くするため、モールド樹脂56Mが個片化されたものを封止部56
と呼ぶ。
本実施例においては、型として金型を使用したが、ある程度の剛性があれば型の材質は
問わず、例えば、シリコーン樹脂、耐熱性ゴム、ポリイミド樹脂、フッ素系樹脂などから
形成されるテープ状の弾性部材を使用することもできる。
As a result, the semiconductor element 54, the stepped portion 58 of the mounting electrode portion 51, the joint lead (not shown), etc. are exposed while exposing the lid 65 of the crystal resonator 60 and the surface of the pad portion 52 of the mounting electrode portion 51 and the recess 57. A sheet-like member (sealing member forming lead frame) covered with the mold resin 56M is formed. The mold resin 56M is the same component as the sealing portion 56. However, in order to make the explanation easy to understand, the mold resin 56M is separated into pieces of the sealing portion 56.
Call it.
In this embodiment, a mold is used as a mold, but any material of the mold may be used as long as it has a certain degree of rigidity. For example, a tape shape formed from a silicone resin, a heat resistant rubber, a polyimide resin, a fluorine resin, or the like. The elastic member can also be used.

<切断個片化ステップ>
このステップでは、リードフレーム70およびモールド樹脂56M(封止部56)を切
断して個片化するステップ、換言すれば、圧電デバイスとしての水晶発振器50が配列形
成されたシート状の部材(封止部材形成リードフレーム)を切断し、個片の水晶発振器5
0とする。
このステップは、前述した第1実施形態の封止部を切断して個片化するステップと同じ
であるため説明を省略する。
<Cutting step>
In this step, the lead frame 70 and the mold resin 56M (sealing portion 56) are cut into individual pieces, in other words, a sheet-like member (sealing member) in which the crystal oscillators 50 as piezoelectric devices are arrayed. The member forming lead frame) is cut, and the individual crystal oscillator 5 is cut.
0.
Since this step is the same as the step of cutting and sealing the sealing portion of the first embodiment described above, description thereof is omitted.

本実施形態の水晶発振器50によれば、水晶発振器50を個片化する際の縦方向の切断
が凹部17の内面がパッド部12の表面と交差する方向(側面)に露出するように行われ
るため、水晶発振器50の側面には、リードフレーム70を形成する際にその表面に形成
された金属膜53がそのまま備えられ凹部17の内面と下地金属板の切断面が露出してい
る。そして、水晶発振器50を実装基板にハンダ付けする際には、この凹部57の内面に
設けられている金属膜53がハンダ付け面となり、換言すれば、ハンダフィレット(ハン
ダの裾引き形状)を形成する面となる。
したがって、上述の製造方法によって得られた水晶発振器50は、ハンダの濡れ性が向
上し、ハンダフィレットを容易に形成することが可能となる。これにより、圧電デバイス
としての水晶発振器50の実装基板に対するハンダ付け強度を向上するとともに、ハンダ
付けの安定性を高めることが可能となる。
According to the crystal oscillator 50 of the present embodiment, the vertical cutting when the crystal oscillator 50 is singulated is performed so that the inner surface of the recess 17 is exposed in the direction (side surface) intersecting the surface of the pad portion 12. Therefore, the metal film 53 formed on the surface of the crystal oscillator 50 when the lead frame 70 is formed is provided as it is, and the inner surface of the recess 17 and the cut surface of the base metal plate are exposed. When the crystal oscillator 50 is soldered to the mounting substrate, the metal film 53 provided on the inner surface of the recess 57 becomes the soldering surface, in other words, a solder fillet (solder skirt shape) is formed. It becomes the surface to do.
Therefore, the crystal oscillator 50 obtained by the above-described manufacturing method has improved solder wettability, and can easily form a solder fillet. As a result, it is possible to improve the soldering strength of the crystal oscillator 50 as a piezoelectric device to the mounting substrate, and to improve the soldering stability.

上述の第2実施形態では、圧電デバイスの一例として水晶発振器50を用いて説明した
がこれに限らず、同様な構成を有する、例えば電圧制御水晶発振器(VCXO)、温度補
償水晶発振器(TCXO)、恒温槽付水晶発振器(OCXO)等の圧電発振器、ジャイロ
センサー、圧力センサー、加速度センサーなどの物理量センサー、回路素子が内包されな
い水晶振動子、SAWデバイスなどに適用することが可能である。
In the second embodiment described above, the crystal oscillator 50 has been described as an example of the piezoelectric device. However, the present invention is not limited to this. For example, a voltage controlled crystal oscillator (VCXO), a temperature compensated crystal oscillator (TCXO), The present invention can be applied to a piezoelectric oscillator such as a crystal oscillator with a thermostatic chamber (OCXO), a physical quantity sensor such as a gyro sensor, a pressure sensor, and an acceleration sensor, a crystal resonator that does not contain circuit elements, and a SAW device.

図7に、前述の第2実施形態の態様で形成された水晶発振器50の、実装基板へのハン
ダ付け強度を示すグラフを示す。図7は、第2実施形態の態様で形成された水晶発振器5
0(図中において実施例と示す)と、前述の背景技術で説明した圧電発振器(以下、従来
例の圧電発振器(図中において従来品と示す)という。)と、の実装基板へのハンダ付け
固着強度および引き剥がし強度を比較するグラフである。
FIG. 7 is a graph showing the soldering strength of the crystal oscillator 50 formed in the above-described aspect of the second embodiment to the mounting board. FIG. 7 shows a crystal oscillator 5 formed in the aspect of the second embodiment.
Soldering to a mounting substrate of 0 (shown as an example in the drawing) and the piezoelectric oscillator described in the background art (hereinafter referred to as a conventional piezoelectric oscillator (shown as a conventional product in the drawing)) It is a graph which compares fixation strength and peeling strength.

図7に示すように、第2実施形態の態様で形成された水晶発振器50の実装基板へのハ
ンダ付け強度は、固着強度では従来例の圧電発振器の2倍強の強度(Ave:約60ニュ
ートン(N))を得ることができた。また、引き剥がし強度においても、20%強の強度
(Ave:約45ニュートン(N))を得ることができた。
図7に示すように、本第2実施形態の態様の水晶発振器50の実装基板へのハンダ付け
強度を向上させる効果は明らかであり、同様な態様の第1実施形態の半導体装置10にお
いても同様な効果を得ることが可能であると推測できる。
As shown in FIG. 7, the soldering strength of the crystal oscillator 50 formed in the mode of the second embodiment to the mounting substrate is more than twice the strength of the conventional piezoelectric oscillator (Ave: about 60 Newtons). (N)) could be obtained. Moreover, also in peeling strength, the intensity | strength (Ave: about 45 Newton (N)) of just over 20% was able to be obtained.
As shown in FIG. 7, the effect of improving the soldering strength of the crystal oscillator 50 according to the second embodiment to the mounting substrate is obvious, and the same applies to the semiconductor device 10 according to the first embodiment having the same aspect. It can be inferred that an advantageous effect can be obtained.

(封止部形成ステップの変形例)
ここで、前述した実施形態の封止部形成ステップの変形例について、図8〜図10を用
いて説明する。図8は、変形例1の封止工程に用いる押圧型を示し、(a)は上型を2層
構造にした正断面図、(b)は上型および下型をそれぞれ2層構造にした正断面図である
。図9は、封止工程の変形例2を示す正断面図である。図10は、変形例1、変形例2に
よって形成された封止部を説明する図であり、(a)は押し圧状態を示す正断面図、(b
)は形成された封止部と実装電極部との相関を示す正断面図である。
(Modification of sealing part forming step)
Here, the modification of the sealing part formation step of embodiment mentioned above is demonstrated using FIGS. 8-10. 8A and 8B show a pressing die used in the sealing process of Modification Example 1. FIG. 8A is a front sectional view in which the upper die has a two-layer structure, and FIG. 8B has a two-layer structure in each of the upper die and the lower die. It is a front sectional view. FIG. 9 is a front sectional view showing a second modification of the sealing step. FIG. 10 is a diagram for explaining a sealing portion formed by the first modification and the second modification, in which (a) is a front sectional view showing a pressing state, (b)
) Is a front sectional view showing the correlation between the formed sealing portion and the mounting electrode portion.

<変形例1>
変形例1の封止工程に用いる押圧型について図8(a)、(b)および図10(a)を
用いて説明する。なお、本変形例1では、前述の第1実施形態の構成を例示して説明する
が、第2実施形態の構成にも適用可能である。
<Modification 1>
The pressing mold used in the sealing process of Modification 1 will be described with reference to FIGS. 8A, 8B, and 10A. In addition, although this modification 1 illustrates and demonstrates the structure of the above-mentioned 1st Embodiment, it is applicable also to the structure of 2nd Embodiment.

図8(a)および図10(a)に示すように、本変形例1の押圧型は、上型27の構成
が前述の実施形態と異なっている。下型25は、前述の実施形態と同様のリードフレーム
受け部26を有した構成である。
変形例1に示す押圧型の上型27は、2層構成になっており、ベース金型27aと、ベ
ース金型27aのパッド部12(金属膜13)の表面に当接する側に設けられたパッド押
さえ部27bとを有している。
ベース金型27aは、加圧されても変形しないように金属で形成されている。パッド押
さえ部27bは、加圧された際に変形し、加圧が解除された際には元の形状に戻る弾性部
材、いわゆる可撓性を有する材料、例えばシリコーン樹脂、耐熱性ゴム、ポリイミド樹脂
、フッ素系樹脂などで形成されることが望ましい。また、これらの材料からなるテープ状
の弾性部材、例えば、ポリイミドテープ等を使用することもできる。
As shown in FIGS. 8 (a) and 10 (a), the pressing mold of the first modification is different from the above-described embodiment in the configuration of the upper mold 27. The lower mold 25 has a configuration having a lead frame receiving portion 26 similar to that of the above-described embodiment.
The upper die 27 of the pressing die shown in the modified example 1 has a two-layer structure, and is provided on the side that contacts the surface of the base die 27a and the pad portion 12 (metal film 13) of the base die 27a. And a pad pressing portion 27b.
The base mold 27a is made of metal so that it does not deform even when pressed. The pad pressing portion 27b is an elastic member that deforms when pressed and returns to its original shape when the pressure is released, so-called flexible material such as silicone resin, heat resistant rubber, polyimide resin. It is desirable to be formed of fluorine resin or the like. A tape-like elastic member made of these materials, for example, a polyimide tape or the like can also be used.

本変形例1の押圧型を用いて封止部(モールド樹脂16M)を形成する際には、モール
ド樹脂16Mを形成するステップに先立って、実装電極部11のパッド部12(金属膜1
3)の表面を押圧型としての上型27を構成するパッド押さえ部27bで圧力(図10(
a)に示す矢印Pの方向)をかけながら覆う。
この際、パッド押さえ部27bが弾性部材で形成されているため、パッド部12(金属
膜13)の表面が、パッド押さえ部27bに食い込む状態となる。その後、樹脂を注入し
モールド樹脂16Mを形成する、換言すれば、パッド部12(金属膜13)の表面が、押
圧型としてのパッド押さえ部27bに食い込んだ状態で樹脂を注入し、モールド樹脂16
Mを形成する。
また、図8(b)に示すように、下型25についても、ベース金型25aと、半導体素
子と当接する側に設けられた弾性部材からなる型25bとから構成される2層構造として
もよい。
あるいは、弾性部材にある程度の剛性があれば、ベース金型27a、25aは必要なく
、弾性部材から形成される型27b、25bのみで押圧型を形成することもできる。
When forming the sealing portion (mold resin 16M) using the pressing die of the first modification, the pad portion 12 (metal film 1) of the mounting electrode portion 11 is formed prior to the step of forming the mold resin 16M.
3) With the surface of 3) as the pressing mold, pressure is applied by the pad pressing portion 27b constituting the upper mold 27 (FIG. 10 (
Cover while applying the direction of arrow P) shown in a).
At this time, since the pad pressing portion 27b is formed of an elastic member, the surface of the pad portion 12 (metal film 13) is in a state of biting into the pad pressing portion 27b. Thereafter, the resin is injected to form the mold resin 16M. In other words, the resin is injected in a state where the surface of the pad portion 12 (metal film 13) bites into the pad pressing portion 27b as a pressing mold.
M is formed.
Further, as shown in FIG. 8B, the lower mold 25 also has a two-layer structure composed of a base mold 25a and a mold 25b made of an elastic member provided on the side in contact with the semiconductor element. Good.
Alternatively, if the elastic member has a certain degree of rigidity, the base molds 27a and 25a are not necessary, and the pressing mold can be formed only by the molds 27b and 25b formed from the elastic member.

<変形例2>
変形例2の封止工程に用いる押圧型について図9を用いて説明する。なお、本変形例2
では、変形例1と同様に前述の第1実施形態の構成を例示して説明するが、第2実施形態
の構成にも適用可能である。
<Modification 2>
A pressing mold used in the sealing step of Modification 2 will be described with reference to FIG. In addition, this modification 2
The configuration of the first embodiment will be described by way of example in the same manner as in the first modification. However, the configuration of the second embodiment can also be applied.

図9に示すように、本変形例2の押圧型は、第1実施形態と同様な上型27とリードフ
レーム受け部26を有する下型25とを有する構成である。
本変形例2では、樹脂を注入するに先立って、パッド部12(金属膜13)の表面を、
テープ状の弾性部材としてのポリイミドテープ28で覆う。このポリイミドテープ28は
、パッド部12(金属膜13)の表面と当接する側に粘着材(図示せず)が付着されてお
り、この粘着材によってポリイミドテープ28がパッド部12(金属膜13)の表面に貼
り付けられる。
As shown in FIG. 9, the pressing die according to the second modification has a configuration including an upper die 27 and a lower die 25 having a lead frame receiving portion 26 similar to those in the first embodiment.
In the second modification, prior to injecting the resin, the surface of the pad portion 12 (metal film 13) is
Covered with polyimide tape 28 as a tape-like elastic member. An adhesive material (not shown) is attached to the polyimide tape 28 on the side in contact with the surface of the pad portion 12 (metal film 13), and the polyimide tape 28 is attached to the pad portion 12 (metal film 13) by this adhesive material. Affixed to the surface.

なお、ポリイミドテープ28は、粘着材の設けられていないものでもよい。粘着材の設
けられていないポリイミドテープ28を用いる場合は、上型27と下型25との間にパッ
ド部12(金属膜13)が挟まれる前に、ポリイミドテープ28をパッド部12(金属膜
13)の表面を覆うように載置すればよい。
また、前述では弾性部材としてポリイミドテープ28を例に説明したがこれに限らず、
例えば、シリコーン樹脂テープ、耐熱性ゴムシート、フッ素系樹脂シートなどを用いても
よい。
The polyimide tape 28 may not be provided with an adhesive material. When the polyimide tape 28 without the adhesive material is used, the polyimide tape 28 is attached to the pad portion 12 (metal film) before the pad portion 12 (metal film 13) is sandwiched between the upper die 27 and the lower die 25. It may be placed so as to cover the surface of 13).
Moreover, although the polyimide tape 28 was demonstrated to the example as an elastic member in the above, it is not restricted to this,
For example, a silicone resin tape, a heat resistant rubber sheet, a fluorine resin sheet, or the like may be used.

本変形例2の構成を用いて封止部(モールド樹脂16M)を形成する際には、モールド
樹脂16Mを形成するステップに先立って、弾性部材としてのポリイミドテープ28でパ
ッド部12(金属膜13)の表面を覆う。その後、押圧型としての上型27と下型25に
よってリードフレームを加圧する。この際、パッド部12(金属膜13)の表面にポリイ
ミドテープ28があるため、パッド部12(金属膜13)の表面が、上型27で押された
ポリイミドテープ28に食い込む状態となる。
When the sealing portion (mold resin 16M) is formed using the configuration of the second modification, the pad portion 12 (metal film 13) is formed with polyimide tape 28 as an elastic member prior to the step of forming the mold resin 16M. ) Cover the surface. Thereafter, the lead frame is pressurized by the upper die 27 and the lower die 25 as pressing dies. At this time, since the polyimide tape 28 is present on the surface of the pad portion 12 (metal film 13), the surface of the pad portion 12 (metal film 13) is in a state of biting into the polyimide tape 28 pressed by the upper mold 27.

その後、樹脂を注入してモールド樹脂16Mを形成する、換言すれば、パッド部12(
金属膜13)の表面が、ポリイミドテープ28に食い込んだ状態で樹脂を注入し、モール
ド樹脂16Mを形成する。
Thereafter, the resin is injected to form the mold resin 16M. In other words, the pad portion 12 (
Resin is injected with the surface of the metal film 13) biting into the polyimide tape 28 to form a mold resin 16M.

変形例1、変形例2によれば、モールド樹脂16Mを形成するために注入された樹脂が
凹部17には注入されず、且つパッド部12(金属膜13)の表面に流れ込むことをより
確実に防止することができる。
また、パッド部12(金属膜13)の表面を被ったパッド押さえ部27bまたはポリイ
ミドテープ28にパッド部12(金属膜13)が食い込んだ状態でモールド樹脂16Mが
形成されるため、図10(b)に示すように、パッド部12(金属膜13)の表面とモー
ルド樹脂16Mの表面16aとの間に段差dを生じさせることができる。この段差dは、
パッド部12(金属膜13)に、所謂スタンドオフの機能を持たせることが可能となり、
よりハンダ付け性を向上させることができる。
これらにより、モールド樹脂の表面に多少の凹凸があったとしても、スタンドオフ機能
によりパッド部がモールド樹脂の表面よりも突出しているため、電子デバイスの実装基板
へのハンダ付けをより確実、安定的に行うことが可能となる。
According to the first and second modifications, the resin injected to form the mold resin 16M is not injected into the recess 17 and more reliably flows into the surface of the pad portion 12 (metal film 13). Can be prevented.
Further, since the mold resin 16M is formed with the pad portion 12 (metal film 13) biting into the pad pressing portion 27b or the polyimide tape 28 covering the surface of the pad portion 12 (metal film 13), FIG. ), A step d can be generated between the surface of the pad portion 12 (metal film 13) and the surface 16a of the mold resin 16M. This step d is
The pad portion 12 (metal film 13) can be provided with a so-called standoff function,
The solderability can be further improved.
As a result, even if there is some unevenness on the surface of the mold resin, the pad part protrudes from the surface of the mold resin due to the standoff function, so soldering to the mounting board of the electronic device is more reliable and stable. Can be performed.

(凹部の応用例)
前述の実施形態で説明した実装電極部11,51に形成された凹部17,57の応用例
について図11を用いて説明する。図11は、実装電極部11,51に形成される凹部1
7,57の応用例を示す平面図である。
(Application examples of recesses)
An application example of the recesses 17 and 57 formed in the mounting electrode portions 11 and 51 described in the above embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 11 shows the recess 1 formed in the mounting electrode portions 11 and 51.
7 is a plan view showing an application example of FIG.

図11に示す凹部の応用例は、実装電極部11のパッド部12の表面から段差を有した
3つの凹部17a,17b,17cが、切断個片化ステップにおける切断方向に並んで設
けられた構成である。切断個片化ステップでは、3つの凹部17a,17b,17cのそ
れぞれの中央部を横切ってパッド部12などを含むリードフレームおよびモールド樹脂(
同図では図示せず)を切断する。
なお、本例では3つの凹部17a,17b,17cが設けられた例で説明したが、設け
られる凹部の数は限定されず、いくつであってもよい。
11 is a configuration in which three concave portions 17a, 17b, and 17c having a step from the surface of the pad portion 12 of the mounting electrode portion 11 are provided side by side in the cutting direction in the cutting singulation step. It is. In the cutting singulation step, a lead frame and a mold resin (including a pad portion 12 and the like) across the center of each of the three recesses 17a, 17b, and 17c (
(Not shown in the figure).
In addition, although the example provided with the three recessed parts 17a, 17b, and 17c was demonstrated in this example, the number of the provided recessed parts is not limited and how many may be sufficient.

本応用例のように凹部を複数存在させることにより、その表面積が大きくなりハンダ付
け性をさらに向上させることが可能となる。
By providing a plurality of recesses as in this application example, the surface area is increased and the solderability can be further improved.

(リードフレームの変形例)
次に、リードフレームの変形例について、図12〜図13を用いて説明する。図12は
、変形例3の実装電極部間を接続する実装電極接続リードの一例を示す平面図であり、図
13は、変形例4の実装電極部間を接続する実装電極接続リードの一例を示す平面図であ
る。なお、前述の実施形態と同様な構成については同一符号を付けて説明を省略すること
もある。
(Lead frame modification)
Next, modified examples of the lead frame will be described with reference to FIGS. FIG. 12 is a plan view illustrating an example of mounting electrode connection leads that connect between the mounting electrode portions of Modification 3. FIG. 13 illustrates an example of mounting electrode connection leads that connect between the mounting electrode portions of Modification 4. FIG. In addition, about the structure similar to the above-mentioned embodiment, the same code | symbol may be attached | subjected and description may be abbreviate | omitted.

<変形例3>
本変形例3は、前述の実施形態で説明した電子デバイスとしての半導体装置10が個片
化された際に、一つの半導体装置10に構成される複数の実装電極部11を図示Y方向に
接続する実装電極接続リード29aをリードフレーム20に設けた構成である。なお、本
変形例3では、2つの実装電極部11a,11bで説明する。
<Modification 3>
In the third modification, when the semiconductor device 10 as the electronic device described in the above-described embodiment is singulated, a plurality of mounting electrode portions 11 configured in one semiconductor device 10 are connected in the Y direction in the drawing. The mounting electrode connection lead 29a is provided on the lead frame 20. In addition, in this modification 3, it demonstrates with the two mounting electrode parts 11a and 11b.

図12に示すように、リードフレーム20に設けられた実装電極部11aと実装電極部
11bとが、図示Y方向に実装電極接続リード29aによって接続されている。同図で示
すY方向とは、切断個片化ステップにおいて、凹部17の中央部を横切って切断する方向
を示している。
実装電極接続リード29aは、実装電極11bの実装電極部11aと向かい合う側の辺
から一旦Y方向に延伸した後、Y方向に直交する方向であるX方向に延伸し、再びY方向
に延伸して実装電極部11aに繋がっている。なお、実装電極接続リード29aの厚さは
、凹部17と同程度の厚さで形成されている。
As shown in FIG. 12, the mounting electrode portion 11a and the mounting electrode portion 11b provided on the lead frame 20 are connected by the mounting electrode connection lead 29a in the Y direction in the drawing. The Y direction shown in the figure indicates the direction of cutting across the central portion of the recess 17 in the cutting singulation step.
The mounting electrode connection lead 29a is once extended in the Y direction from the side of the mounting electrode 11b facing the mounting electrode portion 11a, then extended in the X direction, which is a direction orthogonal to the Y direction, and extended in the Y direction again. It is connected to the mounting electrode part 11a. Note that the mounting electrode connection lead 29 a is formed to have the same thickness as the recess 17.

本変形例3のような実装電極接続リード29aを有するリードフレーム20を用いれば
、図示Y方向に設けられた複数の実装電極部11a,11bが接続されるため、Y方向の
リードフレーム20の剛性を高めることができる。
また、切断個片化ステップにおいて、凹部17の中央部を横切って切断する際に、狭い
幅の実装電極接続リード29aを切断することから、切断に用いるダイヤモンドホイール
の目詰まりなどに対する影響を抑制することが可能となる。
If the lead frame 20 having the mounting electrode connection lead 29a as in the third modification is used, the plurality of mounting electrode portions 11a and 11b provided in the Y direction in the figure are connected, so that the rigidity of the lead frame 20 in the Y direction is increased. Can be increased.
Further, in the cutting singulation step, when cutting across the central portion of the recess 17, the mounting electrode connection lead 29 a having a narrow width is cut, so that the influence on clogging of the diamond wheel used for cutting is suppressed. It becomes possible.

<変形例4>
本変形例4は、前述の実施形態で説明した電子デバイスとしての半導体装置10が個片
化された際に、一つの半導体装置10に構成される複数の実装電極部11を図示Y方向に
接続する実装電極接続リード29bをリードフレーム20に設けた構成である。なお、本
変形例4では、2つの実装電極部11a,11bで説明する。
<Modification 4>
In the fourth modification, when the semiconductor device 10 as the electronic device described in the above-described embodiment is singulated, a plurality of mounting electrode portions 11 configured in one semiconductor device 10 are connected in the Y direction in the drawing. The mounting electrode connection lead 29b is provided on the lead frame 20. In addition, in this modification 4, it demonstrates with the two mounting electrode parts 11a and 11b.

図13に示すように、リードフレーム20に設けられた実装電極部11aと実装電極部
11bとが、図示Y方向に実装電極接続リード29bによって接続されている。同図で示
すY方向とは、切断個片化ステップにおいて、凹部17の中央部を横切って切断する方向
を示している。
実装電極接続リード29bは、それぞれの実装電極部11a,11bが向かい合う辺か
らY方向に直線的に延出して接続する。
また、実装電極接続リード29bの厚さは、凹部17と同程度の厚さで形成され、その
幅は、後の切断時における切断代よりも小さいことが望ましい。換言すれば、切断に用い
るダイヤモンドホイールの幅より実装電極接続リード29bの幅の方が小さく形成される
ことが望ましい。
As shown in FIG. 13, the mounting electrode portion 11a and the mounting electrode portion 11b provided on the lead frame 20 are connected by the mounting electrode connection lead 29b in the Y direction in the drawing. The Y direction shown in the figure indicates the direction of cutting across the central portion of the recess 17 in the cutting singulation step.
The mounting electrode connection lead 29b extends linearly in the Y direction from the side where the mounting electrode portions 11a and 11b face each other.
Further, it is desirable that the mounting electrode connection lead 29b is formed to have the same thickness as that of the concave portion 17, and its width is smaller than a cutting allowance at the time of subsequent cutting. In other words, it is desirable that the width of the mounting electrode connection lead 29b be smaller than the width of the diamond wheel used for cutting.

本変形例4のような実装電極接続リード29bを有するリードフレーム20を用いれば
、図示Y方向に設けられた複数の実装電極部11a,11bが接続されるため、Y方向の
リードフレーム20の剛性を高めることができる。
また、切断個片化ステップにおいて、凹部17の中央部を横切って切断する際に、実装
電極接続リード29bの幅が、後の切断時における切断代よりも小さいことから、実装電
極接続リード29bが全て切り落とされてしまうため、実装電極接続リード29bが封止
部に露出することがなく、水分浸入防止を高めることが可能となる。
If the lead frame 20 having the mounting electrode connection lead 29b as in the fourth modification is used, a plurality of mounting electrode portions 11a and 11b provided in the Y direction shown in the figure are connected, so that the rigidity of the lead frame 20 in the Y direction is increased. Can be increased.
Further, in the cutting singulation step, when cutting across the central portion of the recess 17, the width of the mounting electrode connection lead 29 b is smaller than the cutting allowance at the time of subsequent cutting. Since all of them are cut off, the mounting electrode connection lead 29b is not exposed to the sealing portion, and it becomes possible to enhance prevention of moisture intrusion.

(電子機器)
上記で説明した各実施形態の電子デバイスまたは圧電デバイスは、各種の電子機器に適
用することができ、得られる電子機器は、信頼性の高いものとなる。
図14、および図15は、本発明にかかる電子機器の一例としての携帯電話機を示す。
図14は、携帯電話機の外観の概略を示す斜視図であり、図15は、携帯電話機の回路部
を説明する回路ブロック図である。
(Electronics)
The electronic device or the piezoelectric device of each embodiment described above can be applied to various electronic apparatuses, and the obtained electronic apparatus has high reliability.
14 and 15 show a mobile phone as an example of an electronic apparatus according to the present invention.
FIG. 14 is a perspective view showing an outline of the appearance of a mobile phone, and FIG. 15 is a circuit block diagram for explaining a circuit portion of the mobile phone.

この携帯電話機300は、上述の電子デバイスまたは圧電デバイスを使用することがで
きる。本例では、圧電デバイスを用いた例で説明する。また、圧電デバイスの構成、作用
については、同一符号を用いるなどして、その説明を省略する。
図14に示すように携帯電話機300は、表示部であるLCD(Liquid Cry
stal Display)301、数字等の入力部であるキー302、マイクロフォン
303、スピーカー311、図示しない回路部などが設けられている。これらの構成部材
の一部および回路部などは、回路配線パターンが形成された実装基板に、例えばハンダ付
けを用いて接続される。
図15に示すように、携帯電話機300で送信する場合は、使用者が、自己の声をマイ
クロフォン303に入力すると、信号はパルス幅変調・符号化ブロック304と変調器/
復調器ブロック305を経てトランスミッター306、アンテナスイッチ307を開始ア
ンテナ308から送信されることになる。
The mobile phone 300 can use the electronic device or the piezoelectric device described above. In this example, an example using a piezoelectric device will be described. Further, the configuration and operation of the piezoelectric device will be omitted by using the same reference numerals.
As shown in FIG. 14, the mobile phone 300 includes an LCD (Liquid Cry) as a display unit.
(Stal Display) 301, a key 302 as an input unit for numbers, a microphone 303, a speaker 311, a circuit unit (not shown), and the like. A part of these constituent members, a circuit portion, and the like are connected to a mounting substrate on which a circuit wiring pattern is formed by using, for example, soldering.
As shown in FIG. 15, when transmitting by the mobile phone 300, when the user inputs his / her voice to the microphone 303, the signal is transmitted to the pulse width modulation / coding block 304 and the modulator /
The transmitter 306 and the antenna switch 307 are transmitted from the start antenna 308 via the demodulator block 305.

一方、他の電話機から送信された信号は、アンテナ308で受信され、アンテナスイッ
チ307、受信フィルター+アンプ309を経て、レシーバー310から変調器/復調器
ブロック305に入力される。そして、変調又は復調された信号がパルス幅変調・符号化
ブロック304を経てスピーカー311に声として出力されるようになっている。
このうち、アンテナスイッチ307や変調器/復調器ブロック305等を制御するため
のコントローラー312が設けられている。
このコントローラー312は、上述の他に表示部であるLCD301や数字等の入力部
であるキー302、更にはRAM313やROM314等も制御するため、高精度である
ことが求められる。また、携帯電話機300の小型化の要請もある。
このような要請に合致するものとして上述の圧電デバイスが用いられている。
なお、携帯電話機300は、他の構成ブロックとして、温度補償水晶発振器315、レ
シーバー用シンセサイザー316、トランスミッター用シンセサイザー317などを有し
ているが説明を省略する。
On the other hand, a signal transmitted from another telephone is received by the antenna 308, and is input from the receiver 310 to the modulator / demodulator block 305 through the antenna switch 307 and the reception filter + amplifier 309. The modulated or demodulated signal is output as a voice to the speaker 311 via the pulse width modulation / coding block 304.
Among these, a controller 312 for controlling the antenna switch 307, the modulator / demodulator block 305, and the like is provided.
In addition to the above, the controller 312 controls the LCD 301 which is a display unit, the key 302 which is an input unit for numbers and the like, and further the RAM 313, the ROM 314 and the like. There is also a demand for miniaturization of the mobile phone 300.
The piezoelectric device described above is used to meet such requirements.
The mobile phone 300 includes a temperature-compensated crystal oscillator 315, a receiver synthesizer 316, a transmitter synthesizer 317, and the like as other constituent blocks, but a description thereof is omitted.

この携帯電話機300に用いられている上記圧電デバイスは、実装電極部の側面に予め
設けられた金属膜が存在しているため、ハンダ付けによって回路基板に実装される場合に
ハンダフィレットが形成され易く、ハンダ付け強度が向上するとともに接続の信頼性も向
上することができる。
従って、上記圧電デバイスを用いている電子機器(携帯電話機300)は、安定した接
続信頼性を有するとともに、耐衝撃特性を向上させることが可能となる。
Since the piezoelectric device used in the cellular phone 300 has a metal film provided in advance on the side surface of the mounting electrode portion, a solder fillet is easily formed when mounted on a circuit board by soldering. In addition, the soldering strength can be improved and the connection reliability can be improved.
Therefore, the electronic device (mobile phone 300) using the piezoelectric device has stable connection reliability and can improve impact resistance.

本発明にかかる電子デバイスまたは圧電デバイスを備える電子機器としては、図16に
示すパーソナルコンピューター(モバイル型パーソナルコンピューター)400も挙げら
れる。パーソナルコンピューター400は、表示部401、入力キー部402などを備え
ており、その電気的制御のための電子デバイス、あるいは基準クロックとして上述の圧電
デバイスが用いられている。
また、本発明の電子デバイスまたは圧電デバイスを備える電子機器としては、前述に加
え、例えばディジタルスチールカメラ、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェッ
トプリンター)、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、ビデオカメラ、ビ
デオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳(通信機能付も
含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、
テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体
温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、
各種測定機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシミュレータ
ー等が挙げられる。
As an electronic apparatus including the electronic device or the piezoelectric device according to the present invention, a personal computer (mobile personal computer) 400 shown in FIG. The personal computer 400 includes a display unit 401, an input key unit 402, and the like, and the above-described piezoelectric device is used as an electronic device for electrical control thereof or a reference clock.
In addition to the above, the electronic apparatus including the electronic device or the piezoelectric device of the present invention includes, for example, a digital still camera, an ink jet ejection device (for example, an ink jet printer), a laptop personal computer, a television, a video camera, and a video tape recorder. , Car navigation devices, pagers, electronic notebooks (including those with communication functions), electronic dictionaries, calculators, electronic game devices, word processors, workstations,
TV phone, crime prevention TV monitor, electronic binoculars, POS terminal, medical equipment (eg, electronic thermometer, blood pressure monitor, blood glucose meter, electrocardiogram measuring device, ultrasonic diagnostic device, electronic endoscope), fish finder,
Examples include various measuring devices, instruments (for example, vehicles, aircraft, and ship instruments), flight simulators, and the like.

以上、本発明の電子機器を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限
定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換する
ことができる。
As mentioned above, although the electronic device of the present invention has been described based on the illustrated embodiment, the present invention is not limited to this, and the configuration of each part is replaced with an arbitrary configuration having the same function. be able to.

10…電子デバイスとしての半導体装置、11,51…実装電極部、12,52…パッ
ド部、13,53…金属膜、14…電子部品としての半導体素子、15…金属バンプ、1
6,56…封止部、16M,56M…モールド樹脂、17,57…凹部、18,58…段
部、19,59…継ぎリード、20,70…リードフレーム、21…封止部形成リードフ
レーム、22ax…縦方向第1切断部、22bx…縦方向第2切断部、22ay…横方向
第1切断部、22by…横方向第2切断部、23…ダイヤモンドホイール、25,75…
下型、25a…ベース金型、25b…弾性部材からなる型、26,76…リードフレーム
受け部、27,77…押圧型としての上型、27a…ベース金型、27b…パッド押え部
、28…弾性部材としてのポリイミドテープ、50…圧電デバイスとしての水晶発振器、
54…回路素子としての半導体素子、55…ボンディングワイヤー、60…水晶振動子、
61…パッケージ、62…パッケージ側壁、63…水晶振動片、64…導電性接着剤、6
5…蓋体、66…水晶振動子の一面としてのパッケージ裏面、300…電子機器としての
携帯電話機、400…電子機器としてのパーソナルコンピューター。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Semiconductor device as an electronic device 11, 51 ... Mounting electrode part, 12, 52 ... Pad part, 13, 53 ... Metal film, 14 ... Semiconductor element as electronic component, 15 ... Metal bump, 1
6, 56 ... Sealing part, 16M, 56M ... Mold resin, 17, 57 ... Recess, 18, 58 ... Step part, 19, 59 ... Joint lead, 20, 70 ... Lead frame, 21 ... Sealing part forming lead frame , 22ax: longitudinal first cutting portion, 22bx: longitudinal second cutting portion, 22ay ... lateral first cutting portion, 22by ... lateral second cutting portion, 23 ... diamond wheel, 25, 75 ...
Lower die, 25a ... Base die, 25b ... Mold made of elastic member, 26,76 ... Lead frame receiving portion, 27,77 ... Upper die as pressing die, 27a ... Base die, 27b ... Pad holding portion, 28 ... polyimide tape as elastic member, 50 ... crystal oscillator as piezoelectric device,
54 ... Semiconductor element as a circuit element, 55 ... Bonding wire, 60 ... Crystal oscillator,
61 ... Package, 62 ... Package side wall, 63 ... Crystal vibrating piece, 64 ... Conductive adhesive, 6
5 ... Lid, 66 ... Back side of package as one surface of crystal resonator, 300 ... Mobile phone as electronic device, 400 ... Personal computer as electronic device.

Claims (7)

パッド部と、平面視で前記パッド部に囲まれている凹部および貫通穴の少なくともいずれか一方が設けられている実装電極部と、前記凹部および前記貫通穴の少なくとも一方の領域に面する前記実装電極部の表面に配置されている金属膜と、を有するリードフレームを用意するステップと、
前記リードフレームに電子部品を接続するステップと、
前記パッド部および前記金属膜を型で覆うステップと、
前記パッド部および前記金属膜を覆わないとともに、前記実装電極部の少なくとも一部および前記電子部品の少なくとも一部を覆うように、封止部を形成するステップと、
前記パッド部、前記実装電極部、および前記封止部を切断するステップと、を有することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
A pad portion; a mounting electrode portion provided with at least one of a recess and a through hole surrounded by the pad portion in plan view; and the mounting facing at least one region of the recess and the through hole. Preparing a lead frame having a metal film disposed on the surface of the electrode portion;
Connecting an electronic component to the lead frame;
Covering the pad portion and the metal film with a mold;
Forming a sealing part so as not to cover the pad part and the metal film, and to cover at least a part of the mounting electrode part and at least a part of the electronic component;
Cutting the pad portion, the mounting electrode portion, and the sealing portion. An electronic device manufacturing method comprising:
請求項1に記載の電子デバイスの製造方法において、
前記パッド部および前記金属膜を型で覆うステップは、前記型が弾性部材であるとともに、前記型を前記パッド部および前記金属膜の少なくとも一方に対して押圧するステップを含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
In the manufacturing method of the electronic device of Claim 1,
The step of covering the pad part and the metal film with a mold includes the step of pressing the mold against at least one of the pad part and the metal film, while the mold is an elastic member. Device manufacturing method.
請求項1または2に記載の電子デバイスの製造方法において、
前記凹部および前記貫通穴の少なくとも一方は、エッチング加工によって形成することを特徴とする電子デバイスの製造方法。
In the manufacturing method of the electronic device of Claim 1 or 2 ,
At least one of the said recessed part and the said through hole is formed by an etching process, The manufacturing method of the electronic device characterized by the above-mentioned.
パッド部、平面視で前記パッド部に隣り合う領域に前記パッド部の一方のみが開放されている凹部を有する実装電極部、および前記凹部に面する前記実装電極部の表面に配置されている金属膜、を有するリードフレームと、
前記実装電極部に電気的に接続されている電子部品と、
前記パッド部および前記金属膜の全体を覆わないとともに、前記実装電極部の少なくとも一部および前記電子部品の少なくとも一部を覆う封止部と、を有することを特徴とする電子デバイス。
Pad portion is disposed on the one mounting electrode portion that only have a recess that is open of the pad portion in a region adjacent to the pad portion, and a surface of the mounting electrode portion facing the recess in plan view A lead frame having a metal film,
An electronic component electrically connected to the mounting electrode portion;
An electronic device comprising: a sealing portion that does not cover the entire pad portion and the metal film, and covers at least a portion of the mounting electrode portion and at least a portion of the electronic component.
請求項に記載の電子デバイスにおいて、
前記凹部は、平面視で前記実装電極部に複数並んでいることを特徴とする電子デバイス。
The electronic device according to claim 4 .
The recess, electronic devices with multiple parallel Dei wherein Rukoto the mounting electrode portion in a plan view.
請求項または記載の電子デバイスにおいて、
振動子と、前記振動子を発振させる機能を少なくとも有している回路素子とを備えていることを特徴とする電子デバイス。
The electronic device according to claim 4 or 5 ,
An electronic device comprising: a vibrator; and a circuit element having at least a function of causing the vibrator to oscillate.
請求項またはに記載の電子デバイスを用いていることを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus using the electronic device according to claim 4 or 5 .
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