JP5842502B2 - Glass substrate transport method, glass substrate laminate forming method using the glass substrate transport method, glass substrate transport device, glass substrate laminate forming system having the glass substrate transport device, and further using the glass substrate transport method Manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium, and manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium using the glass substrate laminate forming method - Google Patents
Glass substrate transport method, glass substrate laminate forming method using the glass substrate transport method, glass substrate transport device, glass substrate laminate forming system having the glass substrate transport device, and further using the glass substrate transport method Manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium, and manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium using the glass substrate laminate forming method Download PDFInfo
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 377
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 339
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 84
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 139
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 46
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims description 35
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 30
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 27
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 claims description 20
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 9
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 15
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000003280 down draw process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000011359 shock absorbing material Substances 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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Description
本発明は、ガラス基板搬送方法、及び、該ガラス基板搬送方法を用いたガラス基板積層体形成方法、ガラス基板搬送装置、前記ガラス基板搬送装置を有するガラス基板積層体形成システム、さらに、前記ガラス基板搬送方法を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、前記ガラス基板積層体形成方法を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。 The present invention provides a glass substrate transport method, a glass substrate laminate forming method using the glass substrate transport method, a glass substrate transport device, a glass substrate laminate forming system having the glass substrate transport device, and the glass substrate The present invention relates to a method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium using a conveying method and a method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium using the glass substrate laminate forming method.
ガラス基板を製造する際には、ガラス基板の形状が所定の条件を満たすようにガラス基板の端面や主平面に、研削、研磨等の加工が行われる。ガラス基板を製造する工程において、ガラス基板を加工又は前処理する際、ガラス基板を搬送する必要がある。 When manufacturing a glass substrate, processing, such as grinding and polishing, is performed on an end face or a main plane of the glass substrate so that the shape of the glass substrate satisfies a predetermined condition. In the process of producing a glass substrate, when the glass substrate is processed or pretreated, it is necessary to transport the glass substrate.
従来、ガラス基板を搬送する方法としては、例えば特許文献1に開示されているように、ガラス基板を保持具であるガラスチャックの吸着面に直接接触、吸着させて搬送する方法がとられていた。 Conventionally, as a method of transporting a glass substrate, for example, as disclosed in Patent Document 1, a method of transporting a glass substrate by directly contacting and adsorbing the glass substrate to a suction surface of a glass chuck that is a holder has been taken. .
特許文献1に開示されているように、保持具をガラス基板の主平面に直接吸着させて搬送すると、保持具と接触するガラス基板の表面に傷が生じる場合があり問題であった。特に加工精度が要求される用途においてはガラス基板の表面に傷が生じることは好ましくなく、その改善が求められていた。 As disclosed in Patent Document 1, when the holder is directly adsorbed to the main plane of the glass substrate and conveyed, the surface of the glass substrate in contact with the holder may be scratched, which is a problem. In particular, in applications where processing accuracy is required, it is not preferable that scratches occur on the surface of the glass substrate, and improvements have been demanded.
そこで、本発明は従来技術が有する問題に鑑み、ガラス基板を搬送する際にガラス基板に傷を生じにくいガラス基板搬送方法を提供することを目的とする。 Then, in view of the problem which the prior art has, this invention aims at providing the glass substrate conveyance method which is hard to produce a damage | wound in a glass substrate when conveying a glass substrate.
上記課題を解決するため本発明は、スペーサとガラス基板とを同時に搬送する前に前記ガラス基板と前記スペーサの位置決めを行ない、スペーサを介してガラス基板を保持具である吸着治具又は静電治具によって保持し、前記ガラス基板と前記スペーサはその間に配置された液体、又は、静電気によって吸着され、スペーサとガラス基板とを同時に搬送するガラス基板搬送方法を提供する。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention performs positioning of the glass substrate and the spacer before simultaneously transporting the spacer and the glass substrate, and the glass substrate is held via the spacer by an adsorption jig or electrostatic treatment. A glass substrate transport method is provided in which the glass substrate and the spacer are held by a tool , and the glass substrate and the spacer are adsorbed by a liquid disposed between them or static electricity, and the spacer and the glass substrate are transported simultaneously.
本発明によれば、ガラス基板を搬送する際に、ガラス基板を保持する保持具とガラス基板との間にスペーサを配置し、スペーサを介してガラス基板を保持するため、ガラス基板の表面に傷が生じることを抑制できる。 According to the present invention, when the glass substrate is transported, the spacer is disposed between the holder for holding the glass substrate and the glass substrate, and the glass substrate is held via the spacer. Can be suppressed.
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and the following embodiments are not departed from the scope of the present invention. Various modifications and substitutions can be made.
[第1の実施形態]
本実施の形態では、スペーサを介してガラス基板を保持具によって保持し、スペーサとガラス基板とを同時に搬送するガラス基板搬送方法について説明する。
[First Embodiment]
In this embodiment, a glass substrate transport method in which a glass substrate is held by a holder via a spacer and the spacer and the glass substrate are transported simultaneously will be described.
ここで、まず、上記方法で用いるスペーサ、ガラス基板について説明する。 Here, first, the spacer and glass substrate used in the above method will be described.
スペーサの形状については限定されるものではなく、少なくとも保持具で保持する部分を有し、ガラス基板を保持する際に保持具とガラス基板の間に配置できるものであれば足りる。このため、緩衝材としての性能や、質量、製造工程での操作上の要求等に応じて適宜選択できるが、特にガラス基板を搬送した後の工程でスペーサを使用する場合、その後工程で使用するスペーサを用いることが好ましい。これは、ガラス基板を搬送した後の工程で使用するスペーサを用いることにより、搬送後にスペーサを配置、入れ替え等する必要なく、そのまま後工程を実施することができ、工程数を少なくできるためである。 The shape of the spacer is not limited, and any spacer may be used as long as it has at least a portion to be held by a holder and can be disposed between the holder and the glass substrate when holding the glass substrate. For this reason, although it can select suitably according to the performance as a shock absorbing material, mass, the operational request | requirement in a manufacturing process, etc., when using a spacer in the process after conveying a glass substrate especially, it uses it at a subsequent process. It is preferable to use a spacer. This is because by using the spacer used in the process after transporting the glass substrate, it is possible to carry out the post-process as it is without arranging or replacing the spacer after transport, thereby reducing the number of processes. .
例えば、ガラス基板として円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板を用いる場合、ガラス基板の形状にあわせて円盤形状のスペーサを使用することが好ましい。そして、外周端面を研磨する際に配置するスペーサであれば、スペーサの外径はガラス基板の外径よりも小さいことが好ましく、内周端面を研磨する際に配置するスペーサであれば、スペーサの内径はガラス基板の内径よりも大きいことが好ましい。 For example, when a disk-shaped glass substrate for a magnetic recording medium is used as the glass substrate, it is preferable to use a disk-shaped spacer in accordance with the shape of the glass substrate. And if it is a spacer arrange | positioned when grind | polishing an outer peripheral end surface, it is preferable that the outer diameter of a spacer is smaller than the outer diameter of a glass substrate, and if it is a spacer arrange | positioned when grind | polishing an inner peripheral end surface, The inner diameter is preferably larger than the inner diameter of the glass substrate.
スペーサの材質は限定されるものではなく、合成樹脂など各種材料を使用できるが、例えばポリプロピレン、ポリエチレン、ポリウレタン等のフィルム状材料を用いることが好ましい。これらの材料は軽量であり、ガラス基板とスペーサを同時に搬送する際に保持具に大きな負荷がかからず、また、緩衝材としての機能を果たすことができるからである。 The material of the spacer is not limited, and various materials such as a synthetic resin can be used. For example, it is preferable to use a film-like material such as polypropylene, polyethylene, or polyurethane. This is because these materials are lightweight, and a large load is not applied to the holder when the glass substrate and the spacer are transported at the same time, and a function as a cushioning material can be achieved.
搬送時にガラス基板と対向するスペーサ表面の表面粗さRa(算術平均粗さ)は2.0μm以下であることが好ましく、1.7μm以下であることがより好ましい。さらに好ましくは1.4μm以下である。 The surface roughness Ra (arithmetic mean roughness) of the spacer surface facing the glass substrate during transport is preferably 2.0 μm or less, and more preferably 1.7 μm or less. More preferably, it is 1.4 μm or less.
これは、スペーサ表面の表面粗さが上記範囲よりも大きいと搬送時にガラス基板とスペーサとの位置がずれ易くなるためである。 This is because if the surface roughness of the spacer surface is larger than the above range, the positions of the glass substrate and the spacer are liable to shift during transportation.
また、搬送時に、ガラス基板とスペーサとの間は、後述するように、その間に配置された液体や静電気等により吸着していることが好ましく、その吸着力が高いことが特に好ましい。このため、ガラス基板とスペーサの両者が安定して吸着し、その吸着力を高めるためにもガラス基板と対向するスペーサ表面、すなわち、スペーサ表面のうち搬送時にガラス基板と接する面の表面粗さが上記範囲を充足していることが好ましい。 Moreover, it is preferable to adsorb | suck with the liquid arrange | positioned between them, static electricity, etc. between the glass substrate and a spacer at the time of conveyance, and it is especially preferable that the adsorption power is high. Therefore, both the glass substrate and the spacer are stably adsorbed, and the surface roughness of the spacer surface facing the glass substrate, that is, the surface of the spacer surface that comes into contact with the glass substrate during transportation is also increased in order to increase the adsorbing power. It is preferable that the above range is satisfied.
そして、スペーサの厚みは0.5mm以下であることが好ましい。これは、スペーサが厚くなると、保持具に係る荷重が高くなるため、設備が大きくなり好ましくないためである。また、特に、後述するように、保持具として吸着治具、静電治具を用いる場合、スペーサが厚くなると吸着力が低下しやすくなるため、上記範囲を有することが好ましい。 And it is preferable that the thickness of a spacer is 0.5 mm or less. This is because if the spacer is thicker, the load on the holding tool becomes higher, and the equipment becomes larger, which is not preferable. In particular, as will be described later, when an adsorption jig or an electrostatic jig is used as a holder, it is preferable to have the above range because the adsorption force tends to decrease as the spacer becomes thicker.
ただし、スペーサがあまり薄くなると、緩衝材としての機能を果たしにくくなり、ガラス基板の表面に傷を生じるおそれがあることから、その厚さは0.05mm以上0.5mm以下であることがより好ましく、0.1mm以上0.4mm以下であることが特に好ましい。 However, if the spacer is too thin, it will be difficult to perform the function as a cushioning material, and the surface of the glass substrate may be scratched. Therefore, the thickness is more preferably 0.05 mm or more and 0.5 mm or less. Particularly preferably, the thickness is 0.1 mm or more and 0.4 mm or less.
ガラス基板についても、特に限定されるものではなく、本発明のガラス基板搬送方法によれば、形状等を問わず、各種ガラス基板を搬送できる。中でも主平面に傷が生じることが好ましくないガラス基板、例えば磁気記録媒体用ガラス基板等に本発明のガラス基板搬送方法を好適に使用できる。 Also about a glass substrate, it is not specifically limited, According to the glass substrate conveyance method of this invention, various glass substrates can be conveyed regardless of a shape. Among them, the glass substrate transport method of the present invention can be suitably used for glass substrates in which scratches are not preferred on the main plane, such as glass substrates for magnetic recording media.
そして、ガラス基板の主平面のうち、搬送時にスペーサと対向する面(接する面)の表面粗さRaは1.5μm以下であることが好ましい。 And it is preferable that surface roughness Ra of the surface (surface which touches) at the time of conveyance among the main planes of a glass substrate is 1.5 micrometers or less.
これは搬送時、ガラス基板とスペーサとが吸着していることが好ましいところ、スペーサの場合と同様にガラス基板の主平面の表面粗さが粗いと、両者の吸着力が低下し、剥離しやすくなるためである。係る事態を避けるために、搬送する際に保持具によりスペーサを介して保持される側のガラス基板主平面の表面粗さが上記範囲を充足していることが好ましい。また、特にその吸着力を高いものとするために、上記表面粗さRaは1.3μm以下であることがより好ましく、1.0μm以下であることがさらに好ましい。 This is because it is preferable that the glass substrate and the spacer are adsorbed at the time of conveyance. If the surface roughness of the main surface of the glass substrate is rough as in the case of the spacer, the adsorbing power of the both decreases, and it is easy to peel off. Because it becomes. In order to avoid such a situation, it is preferable that the surface roughness of the glass substrate main plane on the side held by the holder via the spacer when transporting satisfies the above range. Moreover, in order to make the adsorption power particularly high, the surface roughness Ra is more preferably 1.3 μm or less, and further preferably 1.0 μm or less.
ガラス基板とスペーサとは、搬送時に接触していれば足りるが、搬送時に両者がずれたり、落下したりすることを防止するため両者が強く吸着していることが好ましい。特に、ガラス基板とスペーサはその間に配置された液体、又は、静電気によって吸着されていることが好ましい。 It is sufficient that the glass substrate and the spacer are in contact with each other at the time of transportation, but it is preferable that both of them are strongly adsorbed in order to prevent them from shifting or dropping at the time of transportation. In particular, the glass substrate and the spacer are preferably adsorbed by a liquid disposed between them or by static electricity.
これは、例えば、ガラス基板とスペーサの間に液体を配置した場合には、液体の表面張力により両者が吸着することになる。また、静電気を配した場合にも同様に静電気による電荷の吸引力により両者は吸着することとなる。 For example, when a liquid is arranged between the glass substrate and the spacer, both are adsorbed by the surface tension of the liquid. Similarly, when static electricity is provided, both are adsorbed due to the attraction of charges due to static electricity.
ここで、用いる液体としては、搬送後の工程や、ガラス基板、スペーサとの反応性等により選択されるものであり特に限定されるものではない。 Here, the liquid to be used is not particularly limited and is selected depending on the process after the conveyance, the reactivity with the glass substrate and the spacer, and the like.
液体としては具体例を挙げると、ガラス基板、スペーサと反応することのない、水、アルコール、油、クーラント、研磨液等が使用できるが、搬送後に行う工程で使用する材料、機材と反応せず、性能に影響を与えないものであることが好ましい。例えば、搬送後に研磨工程を行う場合、研磨液の性能に影響を与える液体は使用しないことが好ましく、液体としては例えば水や研磨液を使用することが好ましい。また、上記した液体の中でもガラス基板表面の乾燥を防止し、塵等の付着を防止することが可能であることから、水を用いることが特に好ましい。 Specific examples of liquids include water, alcohol, oil, coolant, polishing liquid, etc. that do not react with glass substrates and spacers, but do not react with materials and equipment used in the process performed after transport It is preferable that it does not affect the performance. For example, when the polishing process is performed after conveyance, it is preferable not to use a liquid that affects the performance of the polishing liquid, and it is preferable to use, for example, water or a polishing liquid as the liquid. Further, among the liquids described above, it is particularly preferable to use water because it is possible to prevent the glass substrate surface from being dried and to prevent adhesion of dust and the like.
次に、静電気をガラス基板とスペーサの間に配置する場合に、静電気をガラス基板の表面に配置(帯電)する方法、程度については特に限定されるものではなく、例えばガラス基板の表面に電圧を印加して帯電させた後にスペーサを配置し、吸着させることもできる。また、保持具として静電治具を用い、ガラス基板とスペーサとを保持するとともに、ガラス基板とスペーサとの間に静電気を生じさせることもできる。 Next, when static electricity is arranged between the glass substrate and the spacer, the method and degree of arranging (charging) the static electricity on the surface of the glass substrate are not particularly limited. For example, a voltage is applied to the surface of the glass substrate. After applying and charging, a spacer can be arranged and adsorbed. Further, an electrostatic jig can be used as a holder to hold the glass substrate and the spacer, and static electricity can be generated between the glass substrate and the spacer.
次に、搬送時に用いる保持具について説明する。 Next, the holder used at the time of conveyance is demonstrated.
スペーサを介してガラス基板を保持する保持具については特に限定されるものではなく、スペーサを介してガラス基板を保持できるものであれば足りる。具体的には、例えば、吸着治具や、静電治具等が挙げられる。 The holding tool that holds the glass substrate via the spacer is not particularly limited, and any holding device that can hold the glass substrate via the spacer is sufficient. Specifically, an adsorption jig, an electrostatic jig, etc. are mentioned, for example.
ここで、吸着治具とは、対象物を吸着治具の吸着部に貼り付けたパッド部の表面に吸着して保持するものである。例えば、対象物の表面に吸着治具を設置し、吸着治具内を真空ポンプ等で吸引することによりパッド部に対象物を保持する装置が挙げられる。 Here, the suction jig is used to suck and hold the object on the surface of the pad portion attached to the suction portion of the suction jig. For example, there is an apparatus that holds a target object on a pad portion by installing a suction jig on the surface of the target object and sucking the suction jig with a vacuum pump or the like.
そして、静電治具とは、静電気力によってパッド部の表面に対象物を保持するものである。例えば電極表面に誘電体板を貼り付けた構成を有するもので、電極に電圧を印加することによりチャック表面を帯電させ、誘電体板表面に対象物を保持するものである。 And an electrostatic jig hold | maintains a target object on the surface of a pad part with an electrostatic force. For example, it has a configuration in which a dielectric plate is attached to the electrode surface, and the chuck surface is charged by applying a voltage to the electrode to hold the object on the surface of the dielectric plate.
上記した保持具の中でも保持(吸着)、脱離工程が容易に行えることから、保持具が吸着治具であることが特に好ましい。 Among the above-mentioned holders, it is particularly preferable that the holder is an adsorption jig because the holding (adsorption) and desorption processes can be easily performed.
また、ガラス基板の質量とスペーサの質量の合計値をm(kg)、重力加速度g(m/s2)としたとき、前記保持具の保持力F(N)は、F>mgを満足することが好ましい。
これは、搬送時にガラス基板やスペーサが落下することを防ぐためである。特に、保持力Fは、F>2mgを満たしていることが好ましく、F>10mgを満たしていることがより好ましい。これは搬送工程において、機器の回転等によって保持具にガラス基板等の質量以上の負荷がかかる場合があり、そのような場合にもガラス基板やスペーサが落下しないようにするためである。
Further, when the total value of the glass substrate mass and the spacer mass is m (kg) and the gravitational acceleration g (m / s 2 ), the holding force F (N) of the holder satisfies F> mg. It is preferable.
This is to prevent the glass substrate and the spacer from dropping during transportation. In particular, the holding force F preferably satisfies F> 2 mg, and more preferably satisfies F> 10 mg. This is to prevent the glass substrate or the spacer from falling in such a case where a load exceeding the mass of the glass substrate or the like is applied to the holder due to the rotation of the device in the transport process.
なお、ここでいう保持力Fとは例えば吸着治具であれば吸着力を意味している。 In addition, the holding force F here means an adsorption force in the case of an adsorption jig, for example.
ここで、保持具がスペーサを介してガラス基板を保持する例を図1(A)〜(C)に示す。これは、吸着冶具12が、1組のガラス基板10とスペーサ11の積層体(ガラス基板−スペーサ対)を保持する様子の断面図である。
Here, an example in which the holder holds the glass substrate via the spacer is shown in FIGS. This is a cross-sectional view of a state in which the
吸着治具は、例えば、(A)のように、ガラス基板10上面側にスペーサ11を配置し、上面から吸着することもできるし、(B)のようにガラス基板10下面側にスペーサ11を配置して下面から支えることもできる。また、(A)、(B)のようにガラス基板10、吸着治具12を水平に保持する必要はなく、例えば(C)のように鉛直方向に保持することも可能であるし、ガラス基板が傾斜した状態で保持することも可能である。
For example, as shown in (A), the adsorption jig can be arranged such that the
なお、ここでは、吸着治具の例で説明したが、例えば静電治具を保持具として使用した場合でも同様である。 Although the example of the suction jig has been described here, the same applies to the case where an electrostatic jig is used as a holder, for example.
このように本発明はスペーサ、ガラス基板を保持具により同時に保持、搬送するものであり、保持具とガラス基板との間にスペーサが配置されていれば足りるが、搬送時にガラス基板とスペーサとが適切な配置になっていることが好ましい。このため、ガラス基板とスペーサとを同時に搬送する前に、ガラス基板とスペーサの位置決めを行う位置決め工程を有することが好ましい。 As described above, the present invention is to hold and transport the spacer and the glass substrate simultaneously by the holder, and it is sufficient if the spacer is arranged between the holder and the glass substrate. It is preferable that the arrangement is appropriate. For this reason, it is preferable to have the positioning process which positions a glass substrate and a spacer, before conveying a glass substrate and a spacer simultaneously.
これは、スペーサがガラス基板の主平面において適切な位置にない場合、保持具でスペーサ越しにガラス基板を保持できないおそれがあるためである。また、スペーサとガラス基板の位置が適正な配置からずれると、重心位置がずれることになり、搬送時に落下するおそれもある。さらに、ガラス基板を搬送した後の工程において、スペーサが操作や加工を邪魔するおそれもある。 This is because if the spacer is not in an appropriate position on the main plane of the glass substrate, the holder may not be able to hold the glass substrate over the spacer. Further, if the positions of the spacer and the glass substrate are deviated from the proper arrangement, the position of the center of gravity is deviated, and there is a possibility that the spacer and the glass substrate may fall during conveyance. Furthermore, in the process after conveying the glass substrate, the spacer may interfere with the operation and processing.
このため、ガラス基板とスペーサとを搬送する前に位置決め工程を設けることが好ましい。 For this reason, it is preferable to provide a positioning process before conveying a glass substrate and a spacer.
位置決め方法としては特に限定されるものではなく、ガラス基板とスペーサの位置を検出し、その検出信号に基づいて両者の位置を調整できるものであれば足りる。ガラス基板とスペーサの位置検出手段としては、撮像機(カメラ)等の各種検出器、目視等が用いられる。また、位置を調整する手段としては、スペーサを搬送、配置する際に前記検出信号に基づきスペーサの位置を補正する方法や、ガラス基板上にスペーサを配置した後、前記検出信号により各種アーム等によりスペーサの位置を補正する方法等が挙げられる。 The positioning method is not particularly limited as long as it can detect the positions of the glass substrate and the spacer and adjust the positions of both based on the detection signal. As the glass substrate and spacer position detecting means, various detectors such as an image pickup device (camera), visual observation, and the like are used. As a means for adjusting the position, a method of correcting the position of the spacer based on the detection signal when the spacer is transported and arranged, or after arranging the spacer on the glass substrate, the detection signal is used by various arms. For example, a method for correcting the position of the spacer may be used.
以上に説明したガラス基板搬送方法によれば、ガラス基板の主平面を傷つけることなくガラス基板を搬送できる。また、ガラス基板を搬送した後の工程でスペーサを使用する場合、スペーサをガラス基板に積層した状態で搬送するため、ガラス基板とスペーサとを積層する工程を減らすことが可能になる。 According to the glass substrate transport method described above, the glass substrate can be transported without damaging the main plane of the glass substrate. Moreover, when using a spacer in the process after conveying a glass substrate, since it conveys in the state which laminated | stacked the spacer on the glass substrate, it becomes possible to reduce the process of laminating | stacking a glass substrate and a spacer.
そして、本発明のガラス基板搬送方法は、各種のガラス基板を搬送する際に用いることができるが、ガラス基板表面部分に傷が生じると問題となるガラス基板の搬送に、特に好適に適用できる。 The glass substrate transport method of the present invention can be used when transporting various glass substrates, but can be particularly suitably applied to transport of glass substrates that are problematic when scratches occur on the glass substrate surface.
このようなガラス基板としては、例えば磁気記録媒体用のガラス基板が挙げられる。磁気ディスクにおいては近年、記録密度の向上に伴いそのガラス基板には高い加工精度が求められており、搬送時に微細な傷でも生じることは好ましくない。 An example of such a glass substrate is a glass substrate for a magnetic recording medium. In recent years, high processing accuracy is required for the glass substrate of a magnetic disk with an increase in recording density, and it is not preferable that even a fine scratch occurs during transportation.
磁気記録媒体用ガラス基板は、ガラス素基板から、中心に円孔を有する円盤形状のガラス基板を形成し、端面部分に面取り加工を行う形状付与工程、端面部分の研磨を行う端面研磨工程、ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程、ガラス基板の洗浄工程等を行うことによって製造される。本実施形態で説明したガラス基板搬送方法は、上記磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法のいずれの工程でも採用できる。 A glass substrate for a magnetic recording medium is formed by forming a disk-shaped glass substrate having a circular hole in the center from a glass substrate, a shape imparting step for chamfering the end surface portion, an end surface polishing step for polishing the end surface portion, glass It is manufactured by performing a main flat surface polishing step for polishing the main flat surface of the substrate, a glass substrate cleaning step, and the like. The glass substrate transport method described in the present embodiment can be employed in any step of the above-described method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium.
本実施の形態で説明したガラス基板搬送方法を用いたガラス基板搬送工程を、上記端面研磨工程、主平面研磨工程、洗浄工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法に適用することにより、従来よりも特に主平面部分に傷が生じにくく、より高品質のガラス基板を提供できる。
[第2の実施形態]
本実施の形態では、第1の実施形態で説明したガラス基板搬送方法を用いて、スペーサとガラス基板とを同時に搬送し、ガラス基板積層体を形成することを特徴とするガラス基板積層体形成方法について説明する。
By applying the glass substrate transporting process using the glass substrate transporting method described in this embodiment to the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium having the above-described end surface polishing process, main surface polishing process, and cleaning process, In particular, scratches are less likely to occur in the main plane portion, and a higher quality glass substrate can be provided.
[Second Embodiment]
In the present embodiment, the glass substrate laminate forming method, wherein the glass substrate laminate is formed by simultaneously conveying the spacer and the glass substrate using the glass substrate carrying method described in the first embodiment. Will be described.
ここでは、ガラス基板として磁気記録媒体用ガラス基板を用い、中央部に円孔を有する円盤形状のスペーサを用いた例により説明を行う。 Here, a description will be given using an example in which a glass substrate for a magnetic recording medium is used as a glass substrate and a disk-shaped spacer having a circular hole in the center is used.
ガラス基板積層体形成方法について、図2を用いて説明する。なお、ここでは保持具として、吸着治具を用いた例で説明するが、係る例に限定されるものではなく、第1の実施形態で説明した各種保持具を使用できる。 The glass substrate laminate forming method will be described with reference to FIG. Here, although an example using a suction jig will be described as the holder, the invention is not limited to this example, and various holders described in the first embodiment can be used.
ガラス基板は互いに接触しないように例えばガラス基板カセット21にセットしてある。 The glass substrates are set in, for example, a glass substrate cassette 21 so as not to contact each other.
そして、図2中(a)で表わされる第1の工程として、ガラス基板カセット21から所定の場所にガラス基板22を取り出しセットする。 Then, as a first step represented by (a) in FIG. 2, the glass substrate 22 is taken out from the glass substrate cassette 21 to a predetermined place and set.
次いで、図2中(b)で表わされる第2の工程として、ガラス基板とスペーサとを吸着させるため、ガラス基板の表面に液体供給手段23から液体24を供給する。この際、滴下する液体の量、範囲については特に限定されるものではなくガラス基板とスペーサが吸着できる程度に、均一に供給、滴下されることが好ましい。 Next, as a second step represented by (b) in FIG. 2, the liquid 24 is supplied from the liquid supply means 23 to the surface of the glass substrate in order to adsorb the glass substrate and the spacer. At this time, the amount and range of the liquid to be dropped are not particularly limited, and it is preferable to supply and drop uniformly so that the glass substrate and the spacer can be adsorbed.
なお、例えば保持具として静電治具を使用している場合には、この第2の工程を行う必要はない。この第2の工程は保持具の種類によってその実施を決めることができる。また、第2の工程で用いる液体については、第1の実施形態で説明したように、各種液体を用いることができるが、特に水を用いることが好ましい。 For example, when an electrostatic jig is used as a holder, it is not necessary to perform the second step. The implementation of this second step can be determined according to the type of the holder. As the liquid used in the second step, various liquids can be used as described in the first embodiment, but water is particularly preferable.
図2中(c)で表わされる第3の工程において、前記液体が滴下されたガラス基板の表面にスペーサ25を配置して、ガラス基板−スペーサ対を形成する。 In a third step represented by (c) in FIG. 2, a spacer 25 is disposed on the surface of the glass substrate on which the liquid has been dropped to form a glass substrate-spacer pair.
係る工程において、ガラス基板とスペーサとを密着させるために、スペーサを配置した後、ガラス基板とスペーサとを押圧するなどの工程を併せて行っても良い。 In this process, in order to bring the glass substrate and the spacer into close contact with each other, a process such as pressing the glass substrate and the spacer may be performed after the spacer is arranged.
また、スペーサとガラス基板が所定の配置になるように、第3の工程又は、第4の工程でスペーサの位置を調整する位置決め工程を行うことが好ましい。位置決め工程を有することによって、ガラス基板積層体を形成した後に端面研磨等の加工を行う際、ガラス基板を精度良く加工できる。また、ガラス基板−スペーサ対を安定した状態で搬送することもできる。 Moreover, it is preferable to perform the positioning process which adjusts the position of a spacer by a 3rd process or a 4th process so that a spacer and a glass substrate may become predetermined | prescribed arrangement | positioning. By having the positioning step, the glass substrate can be processed with high accuracy when processing such as end face polishing is performed after the glass substrate laminate is formed. Further, the glass substrate-spacer pair can be transported in a stable state.
図2中(d)で表わされる第4の工程では、第3の工程で作成したガラス基板−スペーサ対を保持具により保持し、積層治具26に搬送して載置する。なお、積層治具26にガラス基板積層体が形成されている場合、ガラス基板積層体の上にガラス基板−スペーサ対を積層する。ここでは、保持具については図示していないが、第1の実施形態で説明した各種保持具を用いることができ、特に吸着治具を用いることが好ましい。 In the fourth step represented by (d) in FIG. 2, the glass substrate-spacer pair created in the third step is held by a holder, conveyed to the stacking jig 26 and placed. In addition, when the glass substrate laminated body is formed in the lamination jig | tool 26, a glass substrate-spacer pair is laminated | stacked on a glass substrate laminated body. Here, although not shown about a holder, the various holders demonstrated in 1st Embodiment can be used, and it is preferable to use especially a suction jig.
そして積層治具26としては、特に限定されるものではなく、ガラス基板積層体を保持できるものであれば足りる。例えば、図2に示したような磁気記録媒体用ガラス基板の円孔を挿通して内周端面部を支持するセンタリングシャフトを用いてガラス基板を積層してもよい。また、ガラス基板の外周端面部を保持するホルダを用いてガラス基板を積層してもよい。 The lamination jig 26 is not particularly limited as long as it can hold the glass substrate laminate. For example, the glass substrate may be laminated using a centering shaft that supports the inner peripheral end surface portion through the circular hole of the glass substrate for a magnetic recording medium as shown in FIG. Moreover, you may laminate | stack a glass substrate using the holder holding the outer peripheral end surface part of a glass substrate.
また、積層治具26には、ガラス基板−スペーサ対が適切な場所に載置されるよう、その位置を検出し、調整、制御できる機構を有していることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the stacking jig 26 has a mechanism capable of detecting, adjusting, and controlling the position of the glass substrate-spacer pair so that the glass substrate-spacer pair is placed at an appropriate place.
係る機構としては特に限定されるものではないが、位置を検出する手段としては、例えばカメラ等の撮像機や、赤外線等による位置検出器が挙げられる。そして、検出器からの信号に応じて、ガラス基板−スペーサ対搬送機構がガラス基板−スペーサ対を載置する場所を調整、制御する。 Such a mechanism is not particularly limited, but examples of the means for detecting the position include an imaging device such as a camera and a position detector using infrared rays. And according to the signal from a detector, the place which a glass substrate-spacer pair conveyance mechanism mounts a glass substrate-spacer pair is adjusted and controlled.
上記第1〜第4の工程を繰り返し行うことでガラス基板積層体27を形成できる。
The
本発明の搬送方法を用いたガラス基板積層体形成方法においては、搬送時に既にガラス基板とスペーサとが対になった形態で搬送することができるため、ガラス基板とスペーサとを別個に搬送し、積層する従来の方法よりも効率よくガラス基板積層体を形成できる。また、ガラス基板の搬送時にガラス基板の表面に傷が発生することが抑制され、高い品質のガラス基板及びガラス基板積層体を提供できる。 In the method for forming a glass substrate laminate using the transport method of the present invention, since the glass substrate and the spacer can be transported in a paired state at the time of transport, the glass substrate and the spacer are transported separately, A glass substrate laminate can be formed more efficiently than the conventional method of laminating. Moreover, it is suppressed that a damage | wound generate | occur | produces on the surface of a glass substrate at the time of conveyance of a glass substrate, and can provide a high quality glass substrate and a glass substrate laminated body.
以上、本実施の形態では、ガラス基板積層体形成方法について説明してきたが、ガラス基板積層体形成方法を用いたガラス基板積層体形成工程と、端面研磨工程、主平面研磨工程、洗浄工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法とすることができる。 As mentioned above, although this Embodiment has demonstrated the glass substrate laminated body formation method, it has a glass substrate laminated body formation process using the glass substrate laminated body formation method, an end surface grinding | polishing process, a main plane grinding | polishing process, and a washing | cleaning process. It can be set as the manufacturing method of the glass substrate for magnetic recording media.
ここで、磁気記録媒体用ガラス基板、および磁気ディスクの製造方法について説明する。 Here, a method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium and a magnetic disk will be described.
まず、磁気記録媒体用ガラス基板は以下の工程を含む製造方法により、製造することができる。
(工程1)ガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工した後、内周端面と外周端面を面取り加工する形状付与工程。
(工程2)ガラス基板の端面(内周端面及び外周端面)を研磨する端面研磨工程。
(工程3)前記ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程。
(工程4)前記ガラス基板を精密洗浄して乾燥する洗浄工程
そして、上記各工程を含む製造方法により得られた磁気記録媒体用ガラス基板はその上に磁性層などの薄膜を形成する工程をさらに行うことによって、磁気ディスクとすることができる。
First, the glass substrate for magnetic recording media can be manufactured by a manufacturing method including the following steps.
(Step 1) A shape imparting step of chamfering the inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface after processing the glass base substrate into a disk-shaped glass substrate having a circular hole in the center.
(Step 2) An end surface polishing step for polishing the end surfaces (the inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface) of the glass substrate.
(Step 3) A main flat surface polishing step for polishing the main flat surface of the glass substrate.
(Step 4) Washing step of precisely washing and drying the glass substrate And the glass substrate for a magnetic recording medium obtained by the manufacturing method including the above steps further includes a step of forming a thin film such as a magnetic layer on the glass substrate. By doing so, a magnetic disk can be obtained.
ここで、(工程1)の形状付与工程は、フロート法、フュージョン法、プレス成形法、ダウンドロー法またはリドロー法で成形されたガラス素基板を、中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工するものである。なお、用いるガラス素基板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよく、ガラス基板の表層に強化層を有する強化ガラスでもよい。 Here, the shape imparting step of (Step 1) includes a glass substrate having a circular shape in the center, and a glass substrate formed by a float method, a fusion method, a press forming method, a down draw method or a redraw method. To be processed. The glass substrate used may be amorphous glass, crystallized glass, or tempered glass having a tempered layer on the surface of the glass substrate.
そして、(工程2)の端面研磨工程は、ガラス基板の端面(側面部と面取り部)を端面研磨するものである。 And the end surface grinding | polishing process of (process 2) end-polishes the end surface (a side surface part and a chamfering part) of a glass substrate.
端面研磨工程は、磁気記録媒体用ガラス基板の外周及び/又は内周の側面部や面取り部のキズと凹凸を除去して平滑な鏡面に仕上げるために施される。ガラス基板の側面部や面取り部を平滑な鏡面に仕上げることにより、ガラス基板の機械的強度が向上する。また、側面部や端面部の凹凸に捕捉される異物の数が低減し、磁気記録媒体として使用する際に、側面部や端面部の凹凸がカセットの樹脂部材を削ることにより発生するパーティクルが低減する。 The end surface polishing step is performed in order to remove scratches and irregularities on the outer peripheral surface and / or the inner peripheral side surface portion and chamfered portion of the glass substrate for a magnetic recording medium and finish it to a smooth mirror surface. By finishing the side surface and chamfered portion of the glass substrate into a smooth mirror surface, the mechanical strength of the glass substrate is improved. In addition, the number of foreign substances trapped by the irregularities on the side surfaces and end surfaces is reduced, and when used as a magnetic recording medium, particles generated by the irregularities on the side surfaces and end surfaces are scraped off the resin member of the cassette. To do.
磁気記録媒体用ガラス基板の外周端面と内周端面を研磨する場合、通常、複数のガラス基板を、径方向の位置をあわせて重ね合わせて、ガラス基板積層体を形成し、ガラス基板積層体を端面研磨装置に装着し、研磨ブラシ又は研磨パッドと研磨液を用いて端面研磨する。 When polishing the outer peripheral end face and the inner peripheral end face of the glass substrate for magnetic recording medium, usually, a plurality of glass substrates are overlapped in the radial direction to form a glass substrate laminate, and the glass substrate laminate is It is mounted on an end surface polishing apparatus, and end surface polishing is performed using a polishing brush or a polishing pad and a polishing liquid.
この時、隣り合うガラス基板の間には、例えば、スペーサを挿入しても良い。スペーサを挿入することで、主表面と面取り部との間の境界部に、ブラシ毛や研磨液が届きやすくなるため、外周端面や内周端面をより均一に研磨できる。また、ガラス基板の主表面への加傷を防止できる。 At this time, for example, a spacer may be inserted between adjacent glass substrates. By inserting the spacer, the brush hair and the polishing liquid can easily reach the boundary portion between the main surface and the chamfered portion, so that the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface can be more uniformly polished. Moreover, the damage to the main surface of a glass substrate can be prevented.
(工程3)の主平面研磨工程については、研磨装置を用い、ガラス基板の主平面に研磨液を供給しながらガラス基板の上下主平面を同時に研磨するものである。研磨工程は、1次研磨のみでもよく、1次研磨と2次研磨を行ってもよく、2次研磨の後に3次研磨を行ってもよい。 About the main plane polishing step of (Step 3), the upper and lower main planes of the glass substrate are simultaneously polished using a polishing apparatus while supplying a polishing liquid to the main plane of the glass substrate. The polishing step may be primary polishing only, primary polishing and secondary polishing may be performed, or tertiary polishing may be performed after secondary polishing.
上記(工程2)の端面研磨工程の前後のうち少なくとも一方で主平面のラップ(例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど)を実施してもよい。また、各工程間にガラス基板の洗浄(工程間洗浄)やガラス基板表面のエッチング(工程間エッチング)を実施してもよい。なお、主平面のラップとは広義の主平面の研磨である。 At least one of the above-described (Step 2) before and after the end face polishing step may be performed with a main plane lapping (for example, loose abrasive lapping, fixed abrasive lapping, etc.). In addition, glass substrate cleaning (inter-process cleaning) and glass substrate surface etching (inter-process etching) may be performed between the processes. The main plane lapping is polishing of the main plane in a broad sense.
さらに、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程(例えば、化学強化工程)を研磨工程前、または研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施してもよい。 Furthermore, when high mechanical strength is required for the glass substrate for magnetic recording media, a strengthening step (for example, a chemical strengthening step) for forming a reinforcing layer on the surface layer of the glass substrate is performed before the polishing step, after the polishing step, or the polishing step. You may carry out between.
以上に説明した、磁気記録媒体用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法において、本実施の形態のガラス基板積層体形成方法を用いることによって、ガラス基板を搬送する際に、その主平面に傷が生じにくいため、高い品質の磁気記録媒体用ガラス基板を製造できる。 In the manufacturing method of the glass substrate for magnetic recording media and the magnetic disk described above, the main plane is damaged when the glass substrate is transported by using the glass substrate laminate forming method of the present embodiment. Since it is difficult, a high quality glass substrate for magnetic recording media can be manufactured.
上記磁気記録媒体用ガラス基板、磁気ディスクの製造方法において、本実施の形態のガラス基板積層体形成方法を実施するタイミングは限定されるものではなく、積層体とする必要がある工程の前に行うことができる。例えば端面研磨工程の前に行い、ガラス基板積層体を端面研磨することができる。 In the method for manufacturing the glass substrate for magnetic recording medium and the magnetic disk, the timing for carrying out the glass substrate laminate forming method of the present embodiment is not limited, and is performed before the step that needs to be a laminate. be able to. For example, it can be performed before the end surface polishing step to polish the end surface of the glass substrate laminate.
なお、本実施の形態では、ガラス基板として磁気記録媒体用ガラス基板を例に説明したが、ガラス基板の種類はこれに限定されるものではなく、ガラス基板であればあらゆるものに適用することができる。好ましく適用できるガラス基板としては例えば、磁気記録媒体用、フォトマスク用、液晶や有機EL等のディスプレイ用、光ピックアップ素子や光学フィルタ等の光学部品用などのガラス基板を挙げられる。
[第3の実施形態]
本実施の形態では、ガラス基板搬送装置について説明を行う。
In this embodiment, the glass substrate for a magnetic recording medium has been described as an example of the glass substrate. However, the type of the glass substrate is not limited to this, and any glass substrate can be applied. it can. Examples of the glass substrate that can be preferably applied include glass substrates for magnetic recording media, photomasks, displays such as liquid crystal and organic EL, and optical components such as optical pickup elements and optical filters.
[Third Embodiment]
In this embodiment, a glass substrate transfer device will be described.
本実施の形態でのガラス基板搬送装置は、第1の実施形態で説明したガラス基板搬送方法を用いてスペーサとガラス基板を同時に搬送するガラス基板搬送装置であって、以下の部材を有することを特徴とする。 The glass substrate transport apparatus in the present embodiment is a glass substrate transport apparatus that transports the spacer and the glass substrate simultaneously using the glass substrate transport method described in the first embodiment, and has the following members. Features.
ガラス基板が載置されているガラス基板載置部
スペーサが載置されているスペーサ載置部
ガラス基板の表面にスペーサを配置するガラス基板−スペーサ対形成部
前記ガラス基板載置部からガラス基板を前記ガラス基板−スペーサ対形成部に搬送するガラス基板搬送機構
前記スペーサ載置部から前記ガラス基板−スペーサ対形成部にスペーサを搬送するスペーサ搬送機構
ガラス基板−スペーサ対形成部で形成したガラス基板−スペーサ対を搬送する、ガラス基板−スペーサ対搬送機構
上記ガラス基板搬送装置について図3を用いて説明する。
Glass substrate placement portion on which a glass substrate is placed Spacer placement portion on which a spacer is placed Glass substrate-spacer pair forming portion on which a spacer is placed on the surface of the glass substrate A glass substrate is placed from the glass substrate placement portion Glass substrate transport mechanism for transporting the glass substrate to the spacer pair forming portion Spacer transport mechanism for transporting the spacer from the spacer mounting portion to the glass substrate-spacer pair forming portion Glass substrate-Glass substrate formed by the spacer pair forming portion Glass substrate-spacer pair transport mechanism for transporting a spacer pair The glass substrate transport apparatus will be described with reference to FIG.
図3に示すガラス基板搬送装置30は、ガラス基板321が載置されているガラス基板載置部31を備えている。図3においては、ガラス基板載置部31としてはガラス基板カセット21にガラス基板が保持されたものを示しているが、係る形態に限定されるものではなく、ガラス基板に傷がつかないように載置されていれば足りる。
The glass
そして、ガラス基板は、ガラス基板載置部31からガラス基板搬送機構32によって取り出される。
Then, the glass substrate is taken out from the glass substrate mounting portion 31 by the glass
次いで、ガラス基板搬送機構32上に設置されたガラス基板321は、次の液体供給工程部322で、その表面に液体供給部323から液体324が供給される。なお、第2の実施形態で述べたように、本工程は必須のものではなく保持具の種類によって適宜設けることができる。
Next, the
そして、次にガラス基板はガラス基板−スペーサ形成部325まで搬送され、スペーサ載置部326から、スペーサ搬送機構327によってガラス基板の表面にスペーサを配置する。スペーサ搬送機構については、スペーサをスペーサ載置部326からガラス基板上の所定の位置に搬送できるものであれば足り、特に限定されるものではない。例えば後述するガラス基板搬送装置と同様に各種保持具を備えたものを使用できる。
Then, the glass substrate is transported to the glass substrate-
なお、スペーサをガラス基板上に搬送する前、又は、搬送後、ガラス基板とスペーサの位置を合わせるための位置あわせ工程を設けても良い。例えば、ガラス基板−スペーサ形成部の上部にカメラ等の撮像機を設置しておき、ガラス基板とスペーサの位置を確認し、スペーサ搬送機構327によって、ガラス基板とスペーサの位置を調整することが好ましい。また、ガラス基板とスペーサの位置を別に調整するスペーサ位置調整機構を有してもよい。
In addition, you may provide the positioning process for aligning the position of a glass substrate and a spacer before conveying a spacer on a glass substrate, or after conveyance. For example, it is preferable to install an imaging device such as a camera on the glass substrate-spacer forming unit, confirm the positions of the glass substrate and the spacer, and adjust the positions of the glass substrate and the spacer by the
そして、以上の工程によって得られたガラス基板−スペーサ対328をガラス基板−スペーサ対搬送機構329により所定の位置に搬送する。
Then, the glass substrate-
ガラス基板−スペーサ対搬送機構は、第1の実施形態で説明した、ガラス基板搬送方法を用いるものであり、スペーサを介してガラス基板を保持具によって保持し、スペーサとガラス基板とを同時に搬送する機構である。 The glass substrate-spacer pair transport mechanism uses the glass substrate transport method described in the first embodiment, holds the glass substrate with a holder through the spacer, and transports the spacer and the glass substrate at the same time. Mechanism.
以上に説明したガラス基板搬送装置によれば、ガラス基板上にスペーサを配置し、ガラス基板−スペーサ対としたものを、スペーサを介して保持具によって保持し搬送するため、ガラス基板の表面に傷が生じることを抑制できる。 According to the glass substrate transport apparatus described above, a spacer is disposed on the glass substrate, and the glass substrate-spacer pair is held and transported by the holder via the spacer. Can be suppressed.
ここで、上記したガラス基板搬送装置に加えて、ガラス基板積層体形成部を近傍に設けておき、ガラス基板積層体形成システムとすることもできる。 Here, in addition to the glass substrate transport device described above, a glass substrate laminate forming system may be provided by providing a glass substrate laminate forming portion in the vicinity.
これは、上記ガラス基板搬送装置を用いて搬送したガラス基板−スペーサ対をガラス基板積層体形成部で積層することによってガラス基板積層体を形成するガラス基板積層体形成システムである。 This is a glass substrate laminate forming system in which a glass substrate laminate is formed by laminating glass substrate-spacer pairs conveyed using the glass substrate conveyer in a glass substrate laminate forming section.
ここで、ガラス基板積層体形成部の構成としては、例えば、ガラス基板が中心部に円孔を有する磁気記録媒体用ガラス基板の場合、第2の実施形態で説明した、円柱状のセンタリングシャフトを用いることができる。また、ガラス基板の外周端面側を保持し、積層体を形成する構成とすることもできる。 Here, as a configuration of the glass substrate laminate forming portion, for example, in the case where the glass substrate is a glass substrate for a magnetic recording medium having a circular hole at the center, the cylindrical centering shaft described in the second embodiment is used. Can be used. Moreover, it can also be set as the structure which hold | maintains the outer peripheral end surface side of a glass substrate and forms a laminated body.
なお、上記したガラス基板−スペーサ対搬送機構329がガラス基板積層体形成部にガラス基板−スペーサ対を載置する際、その位置を調整、制御する機構を、ガラス基板−スペーサ対搬送機構329及び/又はガラス基板積層体形成部に備えていることが好ましい。
When the glass substrate-spacer
これは、形成したガラス基板積層体に加工等を行う場合、ガラス基板積層体を構成するガラス基板とスペーサの位置がずれていると加工精度が低下するおそれがあるためである。 This is because, when processing or the like is performed on the formed glass substrate laminate, the processing accuracy may decrease if the positions of the glass substrate and the spacer constituting the glass substrate laminate are shifted.
ガラス基板とスペーサとの位置を調整する機構としては、特に限定されるものではなく各種機構を採用することができる。例えば、ガラス基板積層体形成部の上部に、ガラス基板−スペーサ対の位置検出できるカメラ等の検出機を設置しておき、その信号に基づいてガラス基板−スペーサ対搬送機構329が所定の場所にこれを搬送、載置できるよう調整、制御する機構が考えられる。
The mechanism for adjusting the positions of the glass substrate and the spacer is not particularly limited, and various mechanisms can be employed. For example, a detector such as a camera capable of detecting the position of the glass substrate-spacer pair is installed above the glass substrate laminate forming portion, and the glass substrate-spacer
このようなガラス基板積層体形成部と本実施形態で説明したガラス基板搬送装置を組み合わせることにより、ガラス基板積層体形成システムとすることができる。係るシステムによれば、ガラス基板とスペーサとを一緒に搬送するため、ガラス基板積層体を形成する際に別途スペーサを搬送する必要がなく、効率よくガラス基板積層体を形成できる。また、ガラス基板搬送時にガラス基板の表面に傷が生じることを抑制するため、より高品質のガラス基板、及び、ガラス基板積層体を提供できる。
By combining such a glass substrate laminate forming unit and the glass substrate transport apparatus described in the present embodiment, a glass substrate laminate forming system can be obtained. According to such a system, since the glass substrate and the spacer are transported together, it is not necessary to transport the spacer separately when forming the glass substrate stack, and the glass substrate stack can be formed efficiently. Moreover, since it suppresses that a damage | wound arises on the surface of a glass substrate at the time of glass substrate conveyance, a higher quality glass substrate and a glass substrate laminated body can be provided.
10、22、321 ガラス基板
11、25 スペーサ
12 吸着治具
24、324 液体
27 ガラス基板積層体
30 ガラス基板搬送装置
31 ガラス基板載置部
32 ガラス基板搬送機構
326 スペーサ載置部
325 ガラス基板−スペーサ対形成部
327 スペーサ搬送機構
329 ガラス基板−スペーサ対搬送機構
10, 22, 321
Claims (9)
前記保持具の保持力F(N)は、F>mgを満足するものである請求項1乃至3いずれか一項に記載のガラス基板搬送方法。 When the total value of the mass of the glass substrate and the mass of the spacer is m (kg) and the gravitational acceleration g (m / s 2 ),
The glass substrate carrying method according to any one of claims 1 to 3, wherein the holding force F (N) of the holder satisfies F> mg.
前記ガラス基板が載置されているガラス基板載置部と、
前記スペーサが載置されているスペーサ載置部と、
前記ガラス基板の表面に前記スペーサを配置するガラス基板−スペーサ対形成部と、
前記ガラス基板載置部から前記ガラス基板を前記ガラス基板−スペーサ対形成部に搬送するガラス基板搬送機構と、
前記スペーサ載置部から前記ガラス基板−スペーサ対形成部に前記スペーサを搬送するスペーサ搬送機構と、
前記ガラス基板−スペーサ対形成部で形成したガラス基板−スペーサ対を搬送する、ガラス基板−スペーサ対搬送機構と、
を有することを特徴とするガラス基板搬送装置。 A glass substrate transfer device for transferring simultaneously the glass substrate and the spacer by using a glass substrate transfer method according to any one of claims 1 to 4,
A glass substrate mounting portion on which the glass substrate is mounted;
A spacer placement portion on which the spacer is placed;
A glass substrate-spacer pair forming portion for disposing the spacer on the surface of the glass substrate;
A glass substrate transport mechanism for transporting the glass substrate from the glass substrate placement unit to the glass substrate-spacer pair forming unit;
A spacer transport mechanism for transporting the spacer from the spacer placement section to the glass substrate-spacer pair forming section;
A glass substrate-spacer pair transport mechanism for transporting the glass substrate-spacer pair formed in the glass substrate-spacer pair forming section;
A glass substrate transport apparatus comprising:
ガラス基板積層体形成部を有することを特徴とするガラス基板積層体形成システム。 A glass substrate laminate forming system for forming a glass substrate laminate by laminating the glass substrate-spacer pairs conveyed using the glass substrate conveyer according to claim 6 ,
A glass substrate laminate forming system comprising a glass substrate laminate forming portion.
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
ガラス基板の洗浄工程と、
を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
請求項1乃至4いずれか一項に記載のガラス基板搬送方法を用いたガラス基板搬送工程を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 An end surface polishing step for polishing the end surface of the glass substrate;
A main surface polishing step for polishing the main surface of the glass substrate;
A glass substrate cleaning process;
A method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium, comprising:
Method of manufacturing a glass substrate for a magnetic recording medium characterized by having a glass substrate transfer process using the glass substrate transfer method according to any one of claims 1 to 4.
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程と、
ガラス基板の洗浄工程と、
を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
請求項5に記載のガラス基板積層体形成方法を用いたガラス基板積層体形成工程を有することを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 An end surface polishing step for polishing the end surface of the glass substrate;
A main surface polishing step for polishing the main surface of the glass substrate;
A glass substrate cleaning process;
A method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium, comprising:
A method for producing a glass substrate for a magnetic recording medium, comprising the step of forming a glass substrate laminate using the method for forming a glass substrate laminate according to claim 5 .
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011208148A JP5842502B2 (en) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | Glass substrate transport method, glass substrate laminate forming method using the glass substrate transport method, glass substrate transport device, glass substrate laminate forming system having the glass substrate transport device, and further using the glass substrate transport method Manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium, and manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium using the glass substrate laminate forming method |
CN201210356975.9A CN103010742B (en) | 2011-09-22 | 2012-09-21 | Carrying glass sheet method and glass substrate laminate forming method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011208148A JP5842502B2 (en) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | Glass substrate transport method, glass substrate laminate forming method using the glass substrate transport method, glass substrate transport device, glass substrate laminate forming system having the glass substrate transport device, and further using the glass substrate transport method Manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium, and manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium using the glass substrate laminate forming method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013069380A JP2013069380A (en) | 2013-04-18 |
JP5842502B2 true JP5842502B2 (en) | 2016-01-13 |
Family
ID=47959956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011208148A Active JP5842502B2 (en) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | Glass substrate transport method, glass substrate laminate forming method using the glass substrate transport method, glass substrate transport device, glass substrate laminate forming system having the glass substrate transport device, and further using the glass substrate transport method Manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium, and manufacturing method of glass substrate for magnetic recording medium using the glass substrate laminate forming method |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5842502B2 (en) |
CN (1) | CN103010742B (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6132957B2 (en) * | 2015-10-13 | 2017-05-24 | ヤス カンパニー リミテッド | Substrate chucking method and system by charging process |
CN107843966B (en) * | 2016-09-18 | 2021-05-04 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | Method and system for assembling microlens array assembly |
CN106733841A (en) * | 2016-12-21 | 2017-05-31 | 重庆天和玻璃有限公司 | Glass bar automatically grinding production line |
CN109664194B (en) * | 2017-10-16 | 2020-08-18 | 蓝思科技股份有限公司 | Edge polishing method for 2.5D window screen glass |
CN111149161B (en) * | 2018-03-09 | 2021-10-22 | Hoya株式会社 | Spacer, laminated body of substrate, method for manufacturing substrate, and method for manufacturing substrate for magnetic disk |
JP7315351B2 (en) * | 2019-03-26 | 2023-07-26 | Kbセーレン株式会社 | cushioning material |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH056933A (en) * | 1991-06-27 | 1993-01-14 | Kyocera Corp | Electrostatic chuck made of ceramic |
JP2001028390A (en) * | 1999-07-13 | 2001-01-30 | Nitto Denko Corp | Sucking fixing carrying sheet |
JP3933432B2 (en) * | 2001-09-10 | 2007-06-20 | Hoya株式会社 | Glass substrate clamping jig, glass substrate processing method, and glass substrate |
JP2003203899A (en) * | 2001-12-28 | 2003-07-18 | Nagano Denshi Kogyo Kk | Method and device for manufacturing epitaxial wafer silicon single-crystal substrate |
JP2005075482A (en) * | 2003-08-28 | 2005-03-24 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Glass sheet packing method and glass sheet packing device |
JP2011065729A (en) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Hoya Corp | Method of conveying magnetic disk substrate |
JP5056961B2 (en) * | 2010-02-01 | 2012-10-24 | 旭硝子株式会社 | Glass substrate for magnetic recording medium and method for manufacturing the same |
JP2011167769A (en) * | 2010-02-16 | 2011-09-01 | Konica Minolta Opto Inc | Method for polishing glass substrate |
-
2011
- 2011-09-22 JP JP2011208148A patent/JP5842502B2/en active Active
-
2012
- 2012-09-21 CN CN201210356975.9A patent/CN103010742B/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103010742A (en) | 2013-04-03 |
JP2013069380A (en) | 2013-04-18 |
CN103010742B (en) | 2016-08-03 |
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