JP5838974B2 - ジヒドロフェナントレンを有する化合物、液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents
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Description
式中、Yは、−CO−、−CS−、−CH2−、−CF2−、または−CHF−であり、L1およびL2は独立して、水素、フッ素、塩素、または−CNである。Yが−CF2−であり、L1およびL2がフッ素であるときは、大きな負の誘電率異方性(Δε)を有するが、本願とは基本骨格が異なる。
式中、E1、E2、E3、E4、E5およびE6は、独立して、−CF−または−CH−であり、Gは−CF2CF2−または−CF=CF−である。
(式中、Xは独立して、−C(=O)−、−CHF−、または−CF2−である。)
の要素を含むことにより、他の液晶性化合物との優れた相溶性、特に誘電率異方性(Δε)の値が負に大きくなるという優れた効果が発現することを見出した。この効果を活用することで、課題を解決できるという知見を見出すことができ、本発明を完成するに至った。
[1] 式(1)で表される化合物。
式(1)において、R1およびR2は独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル、炭素数2〜10のアルケニル、炭素数1〜9のアルコキシ、炭素数2〜9のアルコキシアルキル、または炭素数2〜9のアルケニルオキシであり、これらのアルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、およびアルケニルオキシにおいて、少なくとも1つの水素はフッ素で置き換えられていてもよく;
環A1、環A2、および環A3は独立して、1,4−シクロへキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル、または1,3−ジオキサン−2,5−ジイルであり、これらの環において少なくとも1つの水素はフッ素で置き換えられていてもよく;
Z1、Z2、およびZ3は独立して、単結合、−(CH2)2−、−OCH2−、−CH2O―、―COO−、−OCO−、−CF2O−、または−OCF2−であり;
Xは独立して、−C(=O)−、−CHF−、または−CF2−であり;
l、m、およびnは独立して、0または1である。
環A1、環A2、および環A3が独立して、1,4−シクロへキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレン、または2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレンである項[1]に記載の化合物。
式(1−1)において、環A1は、1,4−シクロへキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレン、または2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレンであり;
R1およびR2は独立して、炭素数1〜10のアルキル、炭素数2〜10のアルケニル、炭素数1〜9のアルコキシであり;
Z1は、単結合、−(CH2)2−、−OCH2−、−CH2O―、―COO−、−OCO−、−CF2O−、または−OCF2−であり;
Xは独立して、−C(=O)−、−CHF−、または−CF2−であり;
lは0または1である。
式中、R3およびR4は独立して、炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて少なくとも1つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、これらにおいて少なくとも1つの−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;
環C1、環C2、環C3、および環C4は独立して、1,4−シクロヘキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、少なくとも1つの水素がフッ素で置き換えられてもよい1,4−フェニレン、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル、またはデカヒドロ−2,6−ナフタレンであり;
Z4、Z5、Z6、およびZ7は独立して、−(CH2)2−、−COO−、−CH2O−、−OCF2−、−OCF2(CH2)2−、または単結合であり;
L5およびL6は独立してフッ素または塩素であり;
p、q、r、s、t、およびuは独立して、0または1であり、q、r、s、およびtの和は1または2である。
式中、R5およびR6は独立して、炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて少なくとも1つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも1つの−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;
環D1、環D2および環D3は独立して、1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジイル、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレン、または2,5−ジフルオロ1,4−フェニレンであり;
Z8およびZ9は独立して、−C≡C−、−COO−、−(CH2)2−、−CH=CH−、または単結合である。
本発明の化合物は以下の式(1)で表される液晶性化合物またはその中間体である。
アルケニルとしては、−CH=CH2、−CH=CHCH3、−CH=CHC2H5、−(CH2)2CH=CH2、−CH=CHC3H7、−(CH2)2CH=CHCH3、−(CH2)3CH=CH2、−CH=CH(CH2)2CH=CH2、および−(CH2)2CH=CH(CH2)2CH=CH2などが挙げられ;
アルコキシとしては、−OCH3、−OC2H5、−OC3H7、−OC4H9、−OC5H11、−OC6H13、および−OC7H15などが挙げられ;
アルコキシアルキルとしては、−CH2OCH3、−CH2OC2H5、−(CH2)2OCH3、および−(CH2)2OC2H5などが挙げられ;
アルケニルオキシとしては、−OCH2CH=CH2、−OCH2CH=CHCH3、および−OCH2CH=CHC2H5などが挙げられる。;
環A1は、1,4−シクロへキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレン、または2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレンであり;
Z1は、−(CH2)2−、−OCH2−、−CH2O―、―COO−、−OCO−、−CF2O−、または−OCF2−である。
アリールホウ酸(21)と公知の方法で合成される化合物(22)とを、炭酸塩水溶液とテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム触媒の存在下で反応させて化合物(1A)が合成できる。この化合物(1A)は、公知の方法で合成される化合物(23)にn−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させ、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム触媒の存在下で化合物(22)を反応させることによっても合成できる。
化合物(23)にn−ブチルリチウムを、続いて二酸化炭素を反応させてカルボン酸(24)が得られる。化合物(24)と、公知の方法で合成されるフェノール(25)とをDDC(1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド)とDMAP(4−ジメチルアミノピリジン)の存在下で脱水させることにより、−COO−を有する化合物(1B)が合成できる。この方法によって−OCO−を有する化合物も合成できる。
化合物(1B)をローソン試薬のような硫黄化剤で処理して化合物(26)が得られる。化合物(26)をフッ化水素ピリジン錯体とNBS(N−ブロモスクシンイミド)でフッ素化することで、−CF2O−を有する化合物(1C)が合成できる(M. Kuroboshi et al., Chem. Lett., 1992,827.)。化合物(1C)は化合物(26)をDAST((ジエチルアミノ)サルファートリフルオリド)でフッ素化することでも合成できる(W. H. Bunnelle et al., J. Org. Chem. 1990, 55, 768.)。この方法によって−OCF2−を有する化合物も合成できる。Peer. Kirsch et al., Anbew. Chem. Int. Ed. 2001, 40, 1480.に記載の方法によってこれらの結合基を生成させることも可能である。
化合物(23)をn−ブチルリチウムで処理した後、DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)などのホルムアミドと反応させることにより、アルデヒド(28)が得られる。公知の方法で合成されるホスホニウム塩(27)をカリウムtert−ブトキシドのような塩基で処理して発生させたリンイリドを、アルデヒド(28)に反応させることにより、化合物(1D)が合成できる。化合物(1D)をパラジウム炭素触媒の存在下で水素化することにより、化合物(1E)が合成できる。
化合物(28)を水素化ホウ素ナトリウムなどの還元剤で還元して化合物(29)を得る。これを臭化水素酸などでハロゲン化することにより化合物(30)が得られる。炭酸カリウムの存在下で、化合物(30)を化合物(25)と反応させることにより、化合物(1F)が合成できる。
これら成分Bの化合物は主として誘電率異方性の値が負であるVAモ−ド、PSAモード用の液晶組成物に用いられる。その含有量を増加させると組成物のしきい値電圧が低くなるが、粘度が大きくなるので、しきい値電圧の要求値を満足している限り含有量を少なくすることが好ましい。しかしながら、誘電率異方性の絶対値が5程度であるので、含有量が40重量%より少なくなると電圧駆動ができなくなる場合がある。
成分Cである化合物(8)〜(10)は、誘電率異方性の絶対値が小さく、中性に近い化合物である。化合物(8)は主として粘度調整または屈折率異方性の調整の効果があり、また化合物(9)および(10)は透明点を高くするなどのネマチックレンジを広げる効果、または屈折率異方性の調整の効果がある。
本発明の液晶組成物の調製は、公知の方法、例えば必要な成分を高温度下で溶解させる方法などにより一般に調製される。また、用途に応じて当業者によく知られている添加物を添加して、例えばつぎに述べるような光学活性化合物、または重合可能な化合物、重合開始剤を含む液晶組成物、染料を添加したGHモード用の液晶組成物を調製することができる。通常、添加物は当該業者によく知られており、文献などに詳細に記載されている。
本発明の液晶組成物は、ネマチック液晶をマイクロカプセル化して作製したNCAPや、液晶中に三次元網目状高分子を形成して作製したポリマ−分散型液晶表示素子(PDLCD)、例えばポリマ−ネットワ−ク液晶表示素子(PNLCD)用をはじめ、複屈折制御(ECB)型やDS型用の液晶組成物としても使用できる。
測定装置は、DRX−500(ブルカーバイオスピン(株)社製)を用いた。測定は、実施例等で製造したサンプルを、CDCl3等のサンプルが可溶な重水素化溶媒に溶解し、室温で、500MHz、積算回数24回の条件で行った。化学シフトδ値のゼロ点の基準物質としてはテトラメチルシラン(TMS)を用いた。
測定装置は、島津製作所製のGC−2014型ガスクロマトグラフを用いた。カラムは、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムDB−1(長さ30m、内径0.25mm、膜厚0.25μm;固定液相:ジメチルポリシロキサン;無極性)を用いた。キャリアーガスとしてはヘリウムを用い、流量は1ml/分に調整した。試料気化室の温度を300℃、検出器(FID)部分の温度を300℃に設定した。
記録計としては島津製作所製のC−R6A型Chromatopac、またはその同等品を用いた。得られたガスクロマトグラムには、成分化合物に対応するピークの保持時間およびピークの面積値が示されている。
測定装置は、島津製作所製のGCMS−QP2010型ガスクロマトグラフ質量分析計を用いた。カラムは、Agilent Technologies Inc.製のキャピラリカラムDB−1MS(長さ60m、内径0.25mm、膜厚0.25μm)を用いた。キャリアーガスとしてはヘリウムを用い、流量は1ml/分に調整した。試料気化室の温度を300℃、イオン源部分の温度を200℃に、イオン化電圧を70eV,エミッション電流を150μAに設定した。
液晶性化合物の物性値を測定する試料としては、化合物そのものを試料とする場合、化合物を母液晶と混合して試料とする場合の2種類を用いた。
物性値の測定は後述する方法で行った。これら測定方法の多くは、日本電子機械工業会規格(Standards of Electric Industries Association of Japan)EIAJ・ED−2521Aに記載された方法、またはこれを修飾した方法である。また、測定に用いたTN素子またはVA素子には、TFTを取り付けなかった。
以下(1)、および(2)の方法で測定を行った。
(1)偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート(メトラー社FP−52型ホットステージ)に化合物を置き、3℃/分の速度で加熱しながら相状態とその変化を偏光顕微鏡で観察し、相の種類を特定した。
(2)パーキンエルマー社製走査熱量計DSC−7システム、またはDiamond DSCシステムを用いて、3℃/分速度で昇降温し、試料の相変化に伴う吸熱ピーク、または発熱ピークの開始点を外挿により求め(on set)、転移温度を決定した。
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート(メトラー社FP−52型ホットステージ)に、試料(液晶組成物、または液晶化性合物と母液晶との混合物)を置き、1℃/分の速度で加熱しながら偏光顕微鏡を観察した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度をネマチック相の上限温度とした。ネマチック相の上限温度を、単に「上限温度」と略すことがある。
母液晶と液晶性化合物とを、液晶性化合物が、20重量%、15重量%、10重量%、5重量%、3重量%、および1重量%の量となるように混合した試料を作製し、試料をガラス瓶に入れる。このガラス瓶を、−10℃または−20℃のフリーザー中に一定期間保管したあと、結晶もしくはスメクチック相が析出しているかどうか観察をした。
バルク粘度は、E型回転粘度計を用いて測定した。
測定はM. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 3
7 (1995) に記載された方法に従った。2枚のガラス基板の間隔(セルギャップ)が20μmのVA素子に試料(液晶組成物、または液晶性化合物と母液晶との混合物)を入れた。この素子に30ボルトから50ボルトの範囲で1ボルト毎に段階的に印加した。0.2秒の無印加のあと、ただ1つの矩形波(矩形パルス;0.2 秒)と無印加(2秒)の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流(transient current)のピーク電流(peak current)とピーク時間(peak time)を測定した。これらの測定値とM. Imaiらの論文、40頁の計算式(8)とから回転粘度の値を得た。
なお、この計算に必要な誘電率異方性(Δε)は、下記誘電率異方性(Δε)で測定した値を用いた。
測定は、25℃の温度下で、波長589nmの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けた
アッベ屈折計により行った。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料(液晶組成物、または液晶性化合物と母液晶との混合物)を主プリズムに滴下した。屈折率(n‖)は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率(n⊥)は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。屈折率異方性(Δn)の値は、(Δn)=(n‖)−(n⊥)
の式から算出した。
よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン(0.16ml)のエタノール(20ml)溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、150℃で1時間加熱した。2枚のガラス基板から、間隔(セルギャップ)が20μmであるVA素子を組み立てた。
同様の方法で、ガラス基板にポリイミドの配向膜を調製した。得られたガラス基板の配向膜にラビング処理をした後、2枚のガラス基板の間隔が9μmであり、ツイスト角が80度であるTN素子を組み立てた。
得られたVA素子に試料(液晶組成物、または液晶性化合物と母液晶との混合物)を入れ、0.5ボルト(1kHz、サイン波)を印加して、液晶分子の長軸方向における誘電率(ε‖)を測定した。
また、得られたTN素子に試料(液晶組成物、または液晶性化合物と母液晶との混合物)を入れ、0.5ボルト(1kHz、サイン波)を印加して、液晶分子の短軸方向における誘電率(ε⊥)を測定した。
誘電率異方性(Δε)の値は、(Δε)=(ε‖)−(ε⊥)の式から算出した。
[実施例1および2] 2−エトキシ−1,8−ジフルオロ−7−プロピルフェナントレン−9,10−ジオン(58)および2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−7−プロピル−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.1)の合成
第一工程
窒素雰囲気下、4−ブロモ−2−フルオロ−1−プロピルベンゼン(50)(11.1g,51.13mmol)のTHF(100ml)溶液に、−70℃以下で、LDA(50.7ml,56.25mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−70℃以下で1時間攪拌後、DMF(6.15g,76.70mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温まで戻したのち、1N−塩酸水溶液100mlでクエンチし、トルエン60mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、6−ブロモ−2−フルオロ−3−プロピルベンズアルデヒド(51)を得た(5.0g,収率36%)。
化合物(51)と同様の方法で、4−ブロモ−1−エトキシ−2−フルオロベンゼン(52)(20.0g,91.30mmol)から6−ブロモ−3−エトキシ−2−フルオロベンズアルデヒド(53)を得た(17.0g,収率75.4%)。
化合物(53)(17.0g,68.81mmol)、EG(12.8g,200.2mmol)およびPTSA(0.17g,1wt%)の混合物をトルエン200ml溶媒中、Dean−starkコンデンサーを装着させ、3時間還流した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。エバポレーターでトルエンを留去し、2−(6−ブロモ−3−エトキシ−2−フルオロフェニル)−1,3−ジオキソラン(54)を得た(19.8g,収率98.8%)。
窒素雰囲気下、化合物(54)(19.8g,68.02mmol)のTHF(200ml)溶液に、−70℃以下でn−BuLi(43.3ml,71.42mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−70℃以下で1時間攪拌後、ホウ酸トリメチル(10.6g,102.0mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温まで戻したのち、2N−塩酸水溶液200mlでクエンチし、トルエン100mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をヘプタンで洗浄することにより、(4−エトキシ−3−フルオロ−2−ホルミルフェニル)ボロン酸(55)を得た(9.85g,収率68.3%)。
窒素雰囲気下、化合物(51)(4.9g,19.99mmol)、化合物(55)(4.9g,23.12mmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0.23g,0.199mmol)、炭酸ナトリウム(4.9g,46.23mmol)およびTBAB(0.96g,2.978mmol)の混合物を、トルエン30ml−エタノール20ml−水50ml溶媒中、5時間還流した。反応液をトルエン30mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、4−エトキシ−3,3’−ジフルオロ−4’−プロピル−[1,1’−ビフェニル]−2,2’−ジカルボアルデヒド(56)を得た(5.35g,収率80.5%)。
窒素雰囲気下、化合物(56)(0.5g,1.504mmol)のDMF(5ml)溶液に、亜鉛粉末(0.295g,4.513mmol)および塩化亜鉛(0.1g,0.752mmol)を加え、80℃で8時間攪拌した。反応液を1N−塩酸水溶液20mlでクエンチし、トルエン10mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2−エトキシ−1,8−ジフルオロ−7−プロピル−9,10−ジヒドロフェナントレン−9,10−ジオール(57)を得た(0.3g,収率59.7%)。
DMSO100mlにIBX(31.5g,112.5mmol)を加え室温で30分攪拌した後、化合物(57)(9.4g,28.11mmol)を加え、さらに3時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ液に水200mlを加え、酢酸エチル100mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をトルエンから再結晶することにより、2−エトキシ−1,8−ジフルオロ−7−プロピルフェナントレン−9,10−ジオン(58)を得た(3.2g,収率34.5%)。
上限温度(NI)=4.6℃;誘電率異方性(Δε)=−28.4;屈折率異方性(Δn)=0.187;粘度(η)=247.8mPa・s
窒素雰囲気下、実施例1で合成した化合物(58)(1.0g,3.027mmol)のジクロロメタン(10ml)懸濁液に、−70℃以下で、DAST(2.93g,18.16mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温までゆっくり戻したのち、水10mlでクエンチした。ジクロロメタン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィ−で精製することにより、2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−7−プロピル−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.1)を得た(0.8g,収率70.6%)。
相転移温度:C 89.5 Iso。
上限温度(NI)=−18.1℃;誘電率異方性(Δε)=−18.2;屈折率異方性(Δn)=0.1197;粘度(η)=139.8mPa・s
第一工程
窒素雰囲気下、4−ブロモ−2−フルオロ−1−フェノール(52)(10.8g,56.58mmol)、1−(ブロモメチル)−4−プロピルシクロヘキサン(60)(12.4g,56.58mmol)および炭酸カリウム(15.6g,112.9mmol)の混合物をDMF100ml中80℃で5時間攪拌した。反応液を水100mlでクエンチし、トルエン60mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、2N−水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、4−ブロモ−2−フルオロ−1−((4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼン(61)を得た(11.4g,収率61。2%)。
窒素雰囲気下、化合物(61)(11.4g,34.62mmol)のTHF(100ml)溶液に−70℃以下で、LDA(34.4ml,38.18mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−70℃以下で1時間攪拌後、DMF(4.17g,52.07mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温まで戻したのち、1N−塩酸水溶液100mlでクエンチし、トルエン60mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、6−ブロモ−2−フルオロ−3−((4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)ベンズアルデヒド(62)を得た(4.20g,収率33.9%)。
窒素雰囲気下、化合物(62)(4.20g,11.76mmol)、実施例1で合成した化合物(55)(2.74g,12.93mmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(0.14g,0.121mmol)、炭酸カリウム(3.25g,23.51mmol)およびTBAB(0.76g,2.351mmol)の混合物を、トルエン20ml−エタノール10ml−水50ml溶媒中、5時間還流した。反応液をトルエン20mlで3回抽出し、一緒にした有機層を、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、4−エトキシ−3,3’−ジフルオロ−4’−((4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)−[1,1’−ビフェニル]−2,2’−ジカルブアルデヒド(63)を得た(4.20g,収率80.3%)。
窒素雰囲気下、化合物(63)(4.20g,9.449mmol)のDMF(50ml)溶液に、亜鉛粉末(1.85g,28.30mmol)および塩化亜鉛(0.64g,4.696mmol)を加え、80℃で8時間攪拌した。1N−塩酸水溶液100mlでクエンチし、トルエン50mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2−エトキシ−1,8−ジフルオロ−7−((4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)−9,10−ジヒドロフェナントレン−9,10−ジオール(64)を得た(3.6g,収率85.4%)。
DMSO100mlにIBX(9.03g,32.25mmol)を加え室温で30分攪拌した後、化合物(64)(3.6g,8.062mmol)を加え、さらに3時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ液に水200mlを加え、酢酸エチル100mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をトルエンから再結晶することにより、2−エトキシ−1,8−ジフルオロ−7−((4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)フェナントレン−9,10−ジオン(65)を得た(3.2g,収率34.5%)。
窒素雰囲気下、実施例3で合成した化合物(65)(1.2g,2.712mmol)のジクロロメタン(10ml)懸濁液に、−70℃以下で、DAST(2.16g,13.56mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温までゆっくり戻し、水10mlでクエンチした。ジクロロメタン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−にて精製し、2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−7−((4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.211)を得た(0.73g,収率55.4%)。
相転移温度:C 115.0 Iso。
上限温度(NI)=99.3℃;誘電率異方性(Δε)=−24.4;屈折率異方性(Δn)=0.167;粘度(η)=174.8mPa・s
実施例3に記載の1−(ブロモメチル)−4−プロピルシクロヘキサン(60)を1−(ブロモメチル)−4−ペンチルシクロヘキサンに変え、実施例3および4に記載と同様の反応を行うことで、2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−7−((4−ペンチルシクロヘキシル)メトキシ)−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.513)を得た。
相転移温度:C 109.7 Iso。
上限温度(NI)=101.3℃;誘電率異方性(Δε)=−23.7;屈折率異方性(Δn)=0.158;粘度(η)=169.3mPa・s
窒素雰囲気下、4−ブロモ−2−フルオロ−1−ヨードベンゼン(67)(50.0g,166.0mmol)のTHF(300ml)溶液に−70℃以下で、n−BuLi(108.0ml,174.0mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−70℃以下で1時間攪拌後、4−プロピルシクロヘキサノン(66)(24.5g,174.0mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温まで戻したのち、1N−塩酸水溶液200mlでクエンチし、トルエン100mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、1−(4−ブロモ−2−フルオロフェニル)−4−プロピルシクロヘキサノール(68)を得た(42.0g,収率80.2%)。
化合物(68)(42.0g,133.2mmol)およびPTSA(0.42g,1wt%)の混合物をトルエン300ml溶媒中、Dean−starkコンデンサーを装着させ、3時間還流した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。エバポレーターでトルエンを留去し、4’−ブロモ−2’−フルオロ−4−プロピル−2,3,4,5,−テトラヒドロ−1,1’−ビフェニル(69)を得た(39.2g,収率99.0%)。
化合物(69)(39.2g,131.9mmol)および5%−パラジウム炭素(0.5%硫黄、50%含水品)(1.18g,3wt%)の混合物を、トルエン200ml、IPA100ml溶媒中、水素雰囲気下で18時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ液の溶媒をエバポレーターで留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに通したのち、蒸留にて低沸点物を留去することにより、4−ブロモ−2−フルオロ−1−(4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼン(70)を得た(30.8g,収率78.1%)。
窒素雰囲気下、化合物(70)(3.5g,11.70mmol)のTHF(30ml)溶液に、−70℃以下で、LDA(11.6ml,12.87mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−70℃以下で1時間攪拌後、DMF(1.28g,17.55mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温まで戻したのち、1N−塩酸水溶液50mlでクエンチし、トルエン20mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、6−ブロモ−2−フルオロ−3−(4−プロピル)シクロヘキシル)ベンズアルデヒド(71)を得た(2.3g,収率89.7%)。
化合物(71)と実施例1で合成した化合物(55)から、実施例1および2に記載と同様の反応を行うことで、2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−7−(4−プロピルシクロヘキシル)−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.11)を得た。
相転移温度:C 100.7 N 110.7 Iso。
化合物No.11 15重量%と、母液晶A 85重量%とから液晶組成物を調製した。得られた液晶組成物の物性値を測定し、測定値を外挿することで化合物No.11の物性値を算出した。結果は以下のとおりであった。
上限温度(NI)=101.9℃;誘電率異方性(Δε)=−20.1;屈折率異方性(Δn)=0.163;粘度(η)=154.5mPa・s
実施例6に記載の4−プロピルシクロヘキサノン(66)を4−ペンチルシクロヘキサノンに変え、実施例6と同様の反応を行うことで、2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−7−(4−ペンチルシクロヘキシル)−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.514)を得た。
相転移温度:C 107.5 N 122.2 Iso。
上限温度(NI)=111.3℃;誘電率異方性(Δε)=−19.2;屈折率異方性(Δn)=0.161;粘度(η)=154.5mPa・s
窒素雰囲気下、実施例6で合成した化合物(69)(27.8g,93.54mmol)のTHF(300ml)溶液に、−70℃以下で、LDA(93.6ml,103.9mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−70℃以下で1時間攪拌後、DMF(11.2g,139.8mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温まで戻したのち、1N−塩酸水溶液300mlでクエンチし、トルエン100mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、4−ブロモ−2−フルオロ−4’−プロピル−2’,3’,4’,5’−テトラヒドロ−[1,1’−ビフェニル]−3−カルボアルデヒド(72)を得た(28.2g,収率92.7%)。
化合物(72)と実施例1で合成した化合物(55)から、実施例6と同様の反応を行うことで、2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−7−(4−プロピルシクロヘキサ−1−エン−1‐イル)−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.101)を得た。
相転移温度:C 93.3 N 103.1 Iso。
上限温度(NI)=97.9℃;誘電率異方性(Δε)=−19.5;屈折率異方性(Δn)=0.194;粘度(η)=141.3mPa・s
窒素雰囲気下、ヨードトリフェニル((4−プロピルシクロヘキシル)メチル)ホスフィン(73)(143.0g,271.0mmol)のTHF(500ml)懸濁液に、−30℃以下で、カリウムt−ブトキシド(30.4g,271.0mmol)を添加した。反応液を−30℃以下で1時間攪拌後、4−ブロモ−2−フルオロベンズアルデヒド(50.0g,246.0mmol)のTHF(100ml)溶液を滴下した。反応液を室温まで戻したのち、水500mlでクエンチし、トルエン200mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、4−ブロモ−2−フルオロ−1−(2−(4−プロピルシクロヘキシル)ビニル)ベンゼン(75)を得た(75.0g,収率94.0%)。
化合物(75)(75.0g,231.0mmol)および5%−パラジウム炭素(0.5%硫黄、50%含水品)(2.82g,3wt%)の混合物を、トルエン300ml、IPA100ml溶媒中、水素雰囲気下で18時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ液の溶媒をエバポレーターで留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに通し、ヘプタン−エタノールから再結晶することにより、4−ブロモ−2−フルオロ−1−(2−(4−プロピルシクロヘキシル)エチル)ベンゼン(76)を得た(57.1g,収率75.5%)。
窒素雰囲気下、化合物(76)(89.7g,274.1mmol)のTHF(400ml)溶液に、−70℃以下で、LDA(299.0ml,328.9mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−70℃以下で1時間攪拌後、DMF(30.1g,411.1mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温まで戻したのち、1N−塩酸水溶液400mlでクエンチし、トルエン200mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、6−ブロモ−2−フルオロ−3−(2−(4−プロピルシクロヘキシル)エチル)ベンズアルデヒド(77)を得た(61.4g,収率63.1%)。
化合物(77)と実施例1で合成した化合物(55)から、実施例1および2と同様の反応を行うことで、2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−7−(2−(4−プロピルシクロヘキシル)エチル)−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.121)を得た。
相転移温度:C 87.8 N 101.7 Iso。
上限温度(NI)=97.9℃;誘電率異方性(Δε)=−17.7;屈折率異方性(Δn)=0.158;粘度(η)=144.4mPa・s
実施例1で合成した化合物(51)(52.4g,213.8mmol)、EG(39.8g,641.4mmol)およびPTSA(0.52g,1wt%)の混合物をトルエン300ml溶媒中、Dean−starkコンデンサーを装着させ、3時間還流した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。エバポレーターでトルエンを留去し、2−(6−ブロモ−2−フルオロ−3−プロピルフェニル)−1,3−ジオキソラン(78)を得た(61.2g,収率99.0%)。
窒素雰囲気下、化合物(78)(61.2g,213.0mmol)のTHF(500ml)溶液に、−70℃以下でn−BuLi(141.1ml,232.8mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−70℃以下で1時間攪拌後、ホウ酸トリメチル(33.0g,317mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温まで戻したのち、2N−塩酸水溶液400mlでクエンチし、トルエン200mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をヘプタンで洗浄することにより、(3−フルオロ−2−ホルミル−4−エトキシフェニル)ボロン酸(79)を得た(38.1g,収率86.0%)。
実施例9で合成した化合物(77)と化合物(79)から、実施例1および2と同様の反応を行うことで、1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロー2−プロピル−7−(2−(4−プロピルシクロヘキシル)エチル)−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.512)を得た。
相転移温度:C 76.4 Iso。
上限温度(NI)=65.9℃;誘電率異方性(Δε)=−13.4;屈折率異方性(Δn)=0.1297;粘度(η)=119.4mPa・s
第一工程
窒素雰囲気下、2−クロロ−6−フルオロベンズアルデヒド(84)(50.0g,315mmol)、化合物(55)(73.5g,347mmol)、Pd−132(ジョンソン−マッセイ社製)(0.223g,0.315mmol)、炭酸カリウム(87g,631mmol)およびTBAB(20.33g,63.1mmol)の混合物を、トルエン500ml−エタノール100ml−水500ml溶媒中、5時間還流した。反応液をトルエン300mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、4−エトキシ−3,3’−ジフルオロ−[1,1’−ビフェニル]−2,2’−ジカルボアルデヒド(85)を得た(77.25g,収率84%)。
窒素雰囲気下、化合物(85)(10.0g,3.45mmol)、3−エチル−5−(2−ヒドロキシエチル)−4−メチルチアゾ−ル−3−イウム ブロミド(1.74g,6.89mmol)およびトリエチルアミン(1.05g,10.34mmol)のDMF(50ml)溶液を60℃で6時間攪拌した。反応液を水150mlでクエンチし、ジクロロメタン50mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、1N−塩酸水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をトルエンで洗浄し、2−エトキシ−1,8−ジフルオロフェナントレン−9,10−ジオン(86)を得た(7.0g,70.5%)。
窒素雰囲気下、化合物(86)(6.21g,21.54mmol)のジクロロメタン(50ml)溶液に−70℃以下で、DAST(15.63g,97.00mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温までゆっくり戻したのち、水100mlでクエンチした。ジクロロメタン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−にて精製し、2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−9,10−ジヒドロフェナントレン(87)を得た(6.44g,収率90.0%)。
窒素雰囲気下、化合物(87)(6.44g,19.38mmol)のTHF(50ml)溶液に、−60℃以下で、n−ブチルリチウム(1.65M,14.1ml,23.26mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−60℃以下で1時間攪拌した後、ヨウ素(5.9g,23.26mmol)のTHF(30ml)溶液を滴下した。反応液を室温まで戻したのち、飽和塩化アンモニウム水溶液でクエンチし、トルエン50mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−7−ヨード−9,10−ジヒドロフェナントレン(88)を得た(6.7g,収率74.5%)。
窒素雰囲気下、2−(4−(ブタ−3−エン−1−イル)フェニル)−1,3,2−ジオキソボロラン(89)(1.76g,8.73mmol)、化合物(88)(2.0g,4.37mmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(5.04mg,4.37μmol)、炭酸カリウム(1.21g,8.73mmol)およびTBAB(0.035g,0.11mmol)の混合物を、トルエン10ml−エタノール5ml−水10ml溶媒中、5時間還流した。反応液をトルエン10mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2−(4−(ブタ−3−エン−1−イル)フェニル)−7−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.24)を得た(1.85g,収率87%)。
相転移温度:C 108.0 N 118.8 Iso。
上限温度(NI)=103.9℃;誘電率異方性(Δε)=−18.8;屈折率異方性(Δn)=0.244;粘度(η)=155.3mPa・s
実施例11の2−(4−(ブタ−3−エン−1−イル)フェニル)−1,3,2−ジオキソボロラン(89)を(4−エトキシ−2,3−ジフルオロフェニル)ボロン酸(90)に変え、実施例11と同様の反応を行うことで、2−エトキシ−7−(4−エトキシ−2,3−ジフルオロフェニル)−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.509)を得た。
相転移温度:C 154.5 Iso。
上限温度(NI)=106.6℃;誘電率異方性(Δε)=−21.9;屈折率異方性(Δn)=0.243;粘度(η)=156.2mPa・s
第一工程
窒素雰囲気下、実施例11で合成した化合物(87)(4.29g,12.91mmol)のTHF(40ml)溶液に、−60℃以下で、n−ブチルリチウム(1.63M,8.71ml,14.20mmol)をゆっくり滴下した。反応液を−60以下で1時間攪拌した後、ホウ酸トリメチル(1.61g,15.49mmol)をゆっくり滴下した。反応液を室温まで戻したのち、酢酸(1.16g,19.37mmol)、過酸化水素水(2.93g,25.80mmol)を加え、3時間攪拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液でクエンチし、トルエン50mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、7−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−9,10−ジヒドロフェナントレン−2−オール(91)を得た(3.76g,収率84.0%)。
窒素雰囲気下、化合物(91)(3.76g,10.80mmol)および炭酸カリウム(4.48g,32.4mmol)の混合物をDMF40ml溶媒中、110℃で1時間加熱攪拌した。次いで、1−ブロモ−1−(ブロモジフルオロメチル)−4−プロピルシクロヘキサン(92)(7.21g,21.59mmol)を110度で反応液に滴下し、さらに3時間攪拌した。反応液を水でクエンチし、トルエン50mlで3回抽出した。一緒にした有機層を、水、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させ、エバポレーターで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2−(ジフルオロ(4−プロピルシクロヘキサ−1−エン−1−イル)メトキシ)−7−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−9,10−ジヒドロフェナントレン(93)を得た(4.40g,収率78.0%)。
化合物(93)(4.40g,8.45mmol)および5%−パラジウム炭素(50%含水品)(0.132g,3wt%)の混合物を、トルエン10ml、IPA10ml溶媒中、水素雰囲気下で24時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ液の溶媒をエバポレーターで留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、2−(ジフルオロ(4−プロピルシクロヘキシル)メトキシ)−7−エトキシ−1,8,9,9,10,10−ヘキサフルオロ−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.411)を得た。
相転移温度:C 97.8 N 132.6 Iso。
上限温度(NI)=115.3℃;誘電率異方性(Δε)=−15.1;屈折率異方性(Δn)=0.1483;粘度(η)=137.5mPa・s
実施例1で合成した2−エトキシ−1,8−ジフルオロ−7−プロピル−9,10−ジヒドロフェナントレン−9,10−ジオール(57)(0.2g,0.598mmol)のジクロロメタン(5ml)溶液に、−70℃以下でDAST(0.2g,1.26mmol)をゆっくり滴下した。反応液をゆっくり室温まで戻した後、水5mlでクエンチし、ジクロロメタン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水で洗浄した。ジクロロメタン層をGCMSで分析することにより、2−エトキシ−1,8,9,10−テトラフルオロ−7−プロピル−9,10−ジヒドロフェナントレン(No.6)の生成を確認した。
特表平11−508890号公報(特許文献5)に記載された一般式に含まれる化合物(C−11)を合成した。この化合物は本発明の化合物(No.211)に類似するが、ジヒドロフェナントレン環の1位と8位にフッ素を有していない。
上限温度(NI)=67.9℃;誘電率異方性(Δε)=−6.5;屈折率異方性(Δn)=0.1603;粘度(η)=170.3mPa・s
上限温度(NI)=73.3℃;誘電率異方性(Δε)=−12.7;屈折率異方性(Δn)=0.1537;粘度(η)=194.9mPa・s
上限温度(NI)=79.9℃;誘電率異方性(Δε)=−13.0;屈折率異方性(Δn)=0.163;粘度(η)=174.5mPa・s
本発明の代表的な組成物を実施例15および16に示す。最初に、組成物の成分である化合物とその量(重量%)を示した。化合物は表の取り決めに従い、左末端基、結合基、環構造、および右末端基の記号によって表示した。
3−Pnr(F6)−O2 (No.1) 3%
3−HB−O1 (8−5) 15%
3−HH−4 (8−1) 5%
3−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 9%
5−HB(2F,3F)−O2 (2−1) 12%
2−HHB(2F,3F)−1 (3−1) 12%
3−HHB(2F,3F)−1 (3−1) 12%
3−HHB(2F,3F)−O2 (3−1) 13%
5−HHB(2F,3F)−O2 (3−1) 13%
6−HEB(2F,3F)−O2 (2−6) 6%
NI=81.0℃;Δn=0.088;η=37.6mPa・s;Δε=−4.1
上記組成物100重量部に光学活性化合物(Op−5)を0.25重量部添加したときのピッチは62.1μmであった。
3−Pnr(F6)−O2 (No.1) 3%
2−HH−5 (8−1) 3%
3−HH−4 (8−1) 15%
3−HH−5 (8−1) 4%
3−HB−O2 (8−5) 12%
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−4) 13%
3−H2B(2F,3F)−O2 (2−4) 14%
3−HHB(2F,3CL)−O2 (3−12) 5%
3−HBB(2F,3F)−O2 (3−7) 3%
3−HBB(2F,3F)−O2 (3−7) 9%
5−HBB(2F,3F)−O2 (3−7) 9%
3−HHB−1 (9−1) 3%
3−HHB−3 (9−1) 4%
3−HHB−O1 (9−1) 3%
NI=74.8℃;Δn=0.094;η=22.8mPa・s;Δε=−4.4
Claims (14)
- 式(1)で表される化合物。
式(1)において、R1およびR2は独立して、水素、炭素数1〜10のアルキル、炭素数2〜10のアルケニル、炭素数1〜9のアルコキシ、炭素数2〜9のアルコキシアルキル、または炭素数2〜9のアルケニルオキシであり、これらのアルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、およびアルケニルオキシにおいて、少なくとも1つの水素はフッ素で置き換えられていてもよく;
環A1、環A2、および環A3は独立して、1,4−シクロへキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル、または1,3−ジオキサン−2,5−ジイルであり、これらの環において少なくとも1つの水素はフッ素で置き換えられていてもよく;
Z1、Z2、およびZ3は独立して、単結合、−(CH2)2−、−OCH2−、−CH2O―、―COO−、−OCO−、−CF2O−、または−OCF2−であり;
Xは、−CF2−であり;
l、m、およびnは独立して、0または1である。 - 式(1)において、R1およびR2が独立して、炭素数1〜10のアルキル、炭素数2〜10のアルケニル、炭素数1〜9のアルコキシであり;
環A1、環A2、および環A3が独立して、1,4−シクロへキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレン、または2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレンである請求項1に記載の化合物。 - 式(1)において、環A1、環A2、および環A3が独立して、1,4−シクロへキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレン、または2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレンである請求項2に記載の化合物。
- 式(1)において、l、m、およびnの和が、0、1、または2である請求項1〜3のいずれか1項に記載の化合物。
- 式(1−1)において、Z1が、単結合、−(CH2)2−、−CH2O−、−COO−、または−CF2O−である請求項5に記載の化合物。
- 式(1−1)において、環A1が、1,4−シクロへキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、1,4−フェニレン、または2,3−ジフルオロ−1,4−フェニレンである請求項5または6に記載の化合物。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の化合物を少なくとも1つ含有する液晶組成物。
- 式(2)、(3)、(4)、(5)、(6)および(7)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する請求項8に記載の液晶組成物。
式中、R3およびR4は独立して、炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、アルキルおよびアルケニルにおいて少なくとも1つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、これらにおいて少なくとも1つの−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;
環C1、環C2、環C3、および環C4は独立して、1,4−シクロヘキシレン、1,4−シクロヘキセニレン、少なくとも1つの水素がフッ素で置き換えられてもよい1,4−フェニレン、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル、またはデカヒドロ−2,6−ナフタレンであり;
Z4、Z5、Z6、およびZ7は独立して、−(CH2)2−、−COO−、−CH2O−、−OCF2−、−OCF2(CH2)2−、または単結合であり;
L5およびL6は独立してフッ素または塩素であり;
p、q、r、s、t、およびuは独立して、0または1であり、q、r、s、およびtの和は1または2である。 - 式(8)、(9)および(10)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する請求項8に記載の液晶組成物。
式中、R5およびR6は独立して、炭素数1〜10のアルキルまたは炭素数2〜10のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて少なくとも1つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも1つの−CH2−は−O−で置き換えられてもよく;
環D1、環D2および環D3は独立して、1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジイル、1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニレン、3−フルオロ−1,4−フェニレン、または2,5−ジフルオロ1,4−フェニレンであり;
Z8およびZ9は独立して、−C≡C−、−COO−、−(CH2)2−、−CH=CH−、または単結合である。 - 式(8)、(9)および(10)で表される化合物の群から選択される少なくとも1つの化合物をさらに含有する請求項9に記載の液晶組成物。
- 少なくとも1つの光学活性化合物および/または重合可能な化合物をさらに含有する請求項8〜11のいずれか1項に記載の液晶組成物。
- 少なくとも1つの酸化防止剤および/または紫外線吸収剤を含有する請求項8〜12のいずれか1項に記載の液晶組成物。
- 請求項8〜13のいずれか1項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
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