JP5836086B2 - アミド化合物、防カビ剤およびそれを用いる防カビ方法 - Google Patents

アミド化合物、防カビ剤およびそれを用いる防カビ方法 Download PDF

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Description

本発明は、アミド化合物、防カビ剤およびそれを用いる防カビ方法、詳しくは、木材などをカビや腐朽から保護するための防カビ剤、および、その防カビ剤を用いた防カビ方法に関する。
従来、一般工業用材料や土木工業用材料などに使用される木材などを、カビや腐朽から保護するために、防カビ剤を用いることが広く知られている。
このような防カビ剤としては、例えば、水難溶性木材防腐防カビ剤として、2−(4−クロロフェニル)−α−(1−シクロプロピル−エチル)−1H−1,2,4−トリアゾール−1−エタノール(シプロコナゾール)(例えば、特許文献1参照)が提案されている。
特開2000−281502号公報
しかしながら、特許文献1に記載の防カビ剤は、その化学構造が複雑であり、このような防カビ剤を製造するには、多段階の合成工程が必要となるため、製造コストが増大するという不具合がある。
そこで、本発明は、優れた防カビ効果を発現し、かつ、製造コストの低減を図ることのできるアミド化合物、防カビ剤、および、その防カビ剤を用いる防カビ方法を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明者らは、防カビ剤として用いることができる有効成分について鋭意検討したところ、特定のアミド化合物が、簡単な構造でありながら、十分な防カビ効果を有する知見を見出し、さらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
(1)下記一般式(1)で示されるアミド化合物を含有することを特徴とする、防カビ剤、
一般式(1):
(式中、Aは、置換基を有してもよい不飽和複素5員環を示す。Yは、炭素数8〜13のアルキレン基を示す。Zは、メチル基またはビニル基を示す。)
(2)前記不飽和複素5員環が、2個の窒素原子を含むことを特徴とする、前記(1)に記載の防カビ剤、
(3)前記不飽和複素5員環が、イミダゾール基であることを特徴とする、前記(2)に記載の防カビ剤、
(4)前記不飽和複素5員環が、置換基として、メチル基および/またはフェニル基を有していることを特徴とする、前記(1)〜(3)のいずれか一つに記載の防カビ剤、
(5)前記一般式(1)において、Zが、ビニル基であることを特徴とする、前記(1)〜(4)のいずれか一つに記載の防カビ剤、
(6)前記一般式(1)において、Yが、オクチレン基であることを特徴とする、前記(1)〜(5)のいずれか一つに記載の防カビ剤、
(7)下記一般式(2)で示されるアミド化合物を含有することを特徴とする、防カビ剤、
一般式(2):
(式中、Bは、置換基を有してもよい飽和または不飽和複素5〜6員環を示す。Cは、置換基を有してもよい飽和または不飽和複素5〜6員環を示す。Yは、炭素数6〜13のアルキレン基を示す。)
(8)前記一般式(2)において、Bで示される置換基を有してもよい飽和または不飽和複素5〜6員環と、Cで示される置換基を有してもよい飽和または不飽和複素5〜6員環とが、同一であることを特徴とする、前記(7)に記載の防カビ剤、
(9)前記一般式(2)において、Bは、置換基を有してもよい飽和複素6員環であることを特徴とする、前記(7)または(8)に記載の防カビ剤、
(10)前記一般式(2)において、Cは、置換基を有してもよい飽和複素6員環であることを特徴とする、前記(7)〜(9)のいずれか一つに記載の防カビ剤、
(11)前記一般式(2)において、Yが、炭素数8〜11のアルキレン基であることを特徴とする、前記(7)〜(10)のいずれか一つに記載の防カビ剤、
(12)前記(1)〜(11)のいずれか一つに記載の防カビ剤を用いることを特徴とする、防カビ方法、
(13)下記化学式(3)で示されるアミド化合物、
化学式(3):
(14)下記化学式(4)で示されるアミド化合物、
化学式(4):
(15)下記化学式(5)で示されるアミド化合物、
化学式(5):
(16)下記化学式(6)で示されるアミド化合物、
化学式(6):
(17)下記化学式(7)で示されるアミド化合物、
化学式(7):
(18)下記化学式(8)で示されるアミド化合物、
化学式(8):
を提供するものである。
本発明の防カビ剤は、有効成分として、少なくとも、上記一般式(1)で示されるアミド化合物、または、上記一般式(2)で示されるアミド化合物を含有している。上記一般式(1)および上記一般式(2)で示されるアミド化合物は、十分な防カビ効果を有し、かつ、安価な原料から簡便な方法により合成することができる。そのため、本発明の防カビ剤は、優れた防カビ効果を発現することができることに加え、製造コストの低減を図ることができる。
本発明の防カビ剤は、少なくとも、下記一般式(1)で示されるアミド化合物、または、下記一般式(2)で示されるアミド化合物を含有する。
一般式(1):
(式中、Aは、置換基を有してもよい不飽和複素5員環を示す。Yは、炭素数8〜13のアルキレン基を示す。Zは、メチル基またはビニル基を示す。)
上記一般式(1)において、Aで示される不飽和複素5員環は、カルボニル基と結合する(アミド基を形成する)窒素原子を含むヘテロ環であり、その他にヘテロ原子を含んでいてもよい。
このような不飽和複素5員環が含む、その他のヘテロ原子としては、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられ、好ましくは、窒素原子が挙げられる。
また、その他のヘテロ原子は、不飽和複素5員環に、例えば、1〜3個含まれ、好ましくは、1個含まれる。
上記一般式(1)において、Aで示される不飽和複素5員環は、好ましくは、2個の窒素原子(カルボニル基と結合する窒素原子1個とその他の窒素原子1個)を含む。
また、その他のヘテロ原子として窒素原子を含む不飽和複素5員環としては、例えば、ピロリン環、イミダゾリン環などの1つの二重結合を有する不飽和複素5員環、例えば、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環などの芳香族複素5員環が挙げられる。
このような不飽和複素5員環のなかでは、好ましくは、芳香族複素5員環が挙げられ、さらに好ましくは、2個の窒素原子を含む芳香族複素5員環が挙げられ、とりわけ好ましくは、イミダゾール環が挙げられる。
また、不飽和複素5員環は、置換基として、炭素数1〜4のアルキル基、フェニル基を有してもよい。
炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの直鎖状または分岐状のアルキル基が挙げられ、好ましくは、直鎖状のアルキル基が挙げられ、さらに好ましくは、メチル基が挙げられる。
また、このような置換基は、不飽和複素5員環に、例えば、1〜4置換され、好ましくは、1または2置換される。
このような置換基は、不飽和複素5員環に1置換される場合、好ましくは、不飽和複素5員環の2位に置換され、不飽和複素5員環に2置換される場合、好ましくは、不飽和複素5員環の2位および4位に置換される。
このような置換基としては、好ましくは、メチル基、フェニル基、メチル基およびフェニル基の併有が挙げられる。
上記一般式(1)において、Yで示されるアルキレン基としては、例えば、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、トリデシレンなどの炭素数8〜13の直鎖状アルキレン基、例えば、エチルヘキシレン、メチルノニレン、エチルオクチレンなどの炭素数8〜13の分岐状アルキレン基などが挙げられる。
このようなアルキレン基のなかでは、好ましくは、炭素数8〜11のアルキレン基が挙げられ、さらに好ましくは、炭素数8〜11の直鎖状アルキレン基が挙げられ、とりわけ好ましくは、オクチレン基が挙げられる。
上記一般式(1)において、Zで示されるメチル基またはビニル基としては、好ましくは、ビニル基が挙げられる。
このような上記一般式(1)で示されるアミド化合物としては、例えば、1−(1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オン(下記化学式(3))、1−(2−メチル−1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オン(下記化学式(4))、1−(2−フェニル−1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オン(下記化学式(5))、1−(4−メチル−2−フェニル−1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オン(下記化学式(6))などが挙げられる。
化学式(3):
化学式(4):
化学式(5):
化学式(6):
次に、上記一般式(1)で示されるアミド化合物の合成方法について説明する。
上記一般式(1)で示されるアミドは、特に制限されないが、例えば、下記反応式(1)で示されるように、モノカルボン酸ハロゲン化物(9)と、アミン(10)とを、縮合反応させることによって、合成される。
反応式(1):
(式中、Xは、ハロゲン原子を示す。A、YおよびZは、上記一般式(1)のA、YおよびZと同意義を示す。)
上記反応式(1)において、Xで示されるハロゲン原子としては、例えば、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素などが挙げられ、好ましくは、塩素が挙げられる。
上記一般式(1)で示されるアミド化合物を合成するには、まず、モノカルボン酸ハロゲン化物(9)とアミン(10)とをそれぞれ反応溶媒に溶解して、モノカルボン酸ハロゲン化物溶液およびアミン溶液を調製する。
モノカルボン酸ハロゲン化物(9)としては、例えば、モノカルボン酸クロリド、モノカルボン酸ブロミド、モノカルボン酸ヨージドなどが挙げられる。
このようなモノカルボン酸ハロゲン化物(9)のなかでは、好ましくは、モノカルボン酸クロリドが挙げられる。
モノカルボン酸クロリドとしては、例えば、デカン酸クロリド、ウンデカン酸クロリド、ドデカン酸クロリド、トリデカン酸クロリド、テトラデカン酸クロリド、ペンタデカン酸クロリドなどの炭素数10〜15の飽和モノカルボン酸塩化物、例えば、10−ウンデセン酸クロリド、11−ドデセン酸クロリド、12−トリデセン酸クロリド、13−テトラデセン酸クロリド、14−ペンタデセン酸クロリド、15−ヘキサデセン酸クロリドなどの炭素数11〜16の不飽和モノカルボン酸塩化物などが挙げられる。
このようなモノカルボン酸クロリドのなかでは、好ましくは、炭素数11〜16の不飽和モノカルボン酸塩化物が挙げられ、さらに好ましくは、炭素数11〜14の不飽和モノカルボン酸塩化物が挙げられ、とりわけ好ましくは、10−ウンデセン酸クロリドが挙げられる。
アミン(10)は、不飽和複素5員環の二級アミンであって、例えば、ピロリン、イミダゾリン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾールなどが挙げられる。
このようなアミン(10)のなかでは、好ましくは、イミダゾールが挙げられる。
イミダゾールとしては、例えば、無置換のイミダゾール、置換基を有するイミダゾール(例えば、2−メチル−1H−イミダゾール、2−フェニル−1H−イミダゾール、4−メチル−2−フェニル−1H−イミダゾール)などが挙げられる。
反応溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、クロロホルム、酢酸エチル、塩化メチレンなどの低極性溶媒、テトラヒドロフラン(THF)、アセトニトリル、プロピオニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。
これら反応溶媒は、単独で使用してもよく、あるいは、併用することもできる。
また、これら反応溶媒のなかでは、好ましくは、テトラヒドロフラン(THF)が挙げられる。
モノカルボン酸ハロゲン化物溶液に対する反応溶媒の使用量は、モノカルボン酸ハロゲン化物(9)1molに対して、例えば、300〜4000mL、好ましくは、500〜2000mLである。
また、モノカルボン酸ハロゲン化物溶液の濃度は、例えば、0.1〜3mmol/mL、好ましくは、0.5〜2mmol/mLである。
アミン溶液に対する反応溶媒の使用量は、アミン(10)1molに対して、例えば、500〜3000mL、好ましくは、1000〜2500mLである。
また、アミン溶液の濃度は、例えば、0.1〜3mmol/mL、好ましくは、0.1〜1mmol/mLである。
モノカルボン酸ハロゲン化物溶液およびアミン溶液に対する反応溶媒の使用量は、例えば、モノカルボン酸ハロゲン化物(9)およびアミン(10)の総和100質量部に対して、100〜3000質量部、好ましくは、200〜2000質量部である。
次いで、アミン溶液をモノカルボン酸ハロゲン化物溶液に添加して、下記反応条件下において、モノカルボン酸ハロゲン化物(9)とアミン(10)とを縮合反応させる。
反応条件としては、常圧下、温度が、例えば、20〜120℃、好ましくは、50〜80℃、時間が、例えば、0.5〜6時間、好ましくは、1〜5時間である。
また、モノカルボン酸ハロゲン化物(9)と、アミン(10)との縮合反応は、還流下で実施してもよい。また、大気雰囲気または不活性ガス(窒素ガス、アルゴンガス)雰囲気のいずれにおいても実施できる。
モノカルボン酸ハロゲン化物(9)とアミン(10)との配合割合は、例えば、モノカルボン酸ハロゲン化物(9)1molに対して、アミン(10)が、0.5〜5mol、好ましくは、0.8〜3molである。
上記の縮合反応により得られた反応生成物(粗生成物)は、上記一般式(1)で示されるアミド化合物の他、不純物を含むが、そのまま用いることができ、また、単離精製を経た上で用いることもできる。
反応生成物は、例えば、濃縮、減圧濃縮、蒸留、分留、溶媒抽出、液性変換、転溶、クロマトグラフィー、結晶化、再結晶などの公知の分離手段により(必要に応じて、単一の分離手段による分離精製を繰り返し、または、2以上の分離手段による分離精製を組み合わせることにより)、単離精製することができる。
このように合成されたアミド化合物の収率は、反応に使用されたモノカルボン酸ハロゲン化物(9)に対して、例えば、50〜100%、好ましくは、60〜100%である。
以上により、上記一般式(1)で示されるアミド化合物が合成される。
次に、下記一般式(2)で示されるアミド化合物について説明する。
一般式(2):
(式中、Bは、置換基を有してもよい飽和または不飽和複素5〜6員環を示す。Cは、置換基を有してもよい飽和または不飽和複素5〜6員環を示す。Yは、炭素数6〜13のアルキレン基を示す。)
上記一般式(2)において、Bで示される飽和または不飽和複素5〜6員環は、カルボニル基と結合する(アミド基を形成する)窒素原子を含むヘテロ環であり、その他にヘテロ原子(例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子)を含んでもよい。
このようなBで示される飽和または不飽和複素5〜6員環としては、例えば、ピロリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、チアゾリジン環、オキサゾリジン環などの飽和複素5員環、例えば、ピロリン環、イミダゾリン環などの1つの二重結合を有する不飽和複素5員環、例えば、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環などの芳香族複素5員環、例えば、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環などの飽和複素6員環、例えば、ジヒドロピリジン環、テトラヒドロピリジン環、ジヒドロピラジン環、テトラヒドロピラジン環などの不飽和複素6員環などが挙げられる。
このような飽和または不飽和5〜6員環のなかでは、好ましくは、飽和複素6員環が挙げられ、さらに好ましくは、ピペリジン環が挙げられる。
また、飽和または不飽和5〜6員環は、置換基として、炭素数1〜4のアルキル基、ニトロ基、ハロゲン原子を有してもよい。
炭素数1〜4のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの直鎖状または分岐状のアルキル基が挙げられ、好ましくは、メチル基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素などが挙げられる。
このような置換基は、飽和または不飽和5〜6員環に、例えば、1〜4置換され、好ましくは、1置換される。
このような置換基は、飽和または不飽和5〜6員環に1置換される場合、好ましくは、飽和または不飽和5〜6員環の3位に置換される。
このような置換基のなかでは、好ましくは、メチル基が挙げられる。
上記一般式(2)において、Cで示される飽和または不飽和5〜6員環は、カルボニル基と結合する(アミド基を形成する)窒素原子を含むヘテロ環であり、上記のBで示される飽和または不飽和5〜6員環と、同様の飽和または不飽和5〜6員環が挙げられる。
このようなCで示される飽和または不飽和5〜6員環のなかでは、好ましくは、飽和複素6員環が挙げられ、さらに好ましくは、ピペリジン環が挙げられる。
また、このような飽和または不飽和5〜6員環が有してもよい置換基は、上記のBで示される飽和または不飽和複素5〜6員環が有する置換基と同様の置換基が挙げられ、好ましくは、メチル基が挙げられる。
また、上記一般式(2)において、Bで示される置換基を有してもよい飽和または不飽和5〜6員環と、Cで示される置換基を有してもよい飽和または不飽和5〜6員環とは、好ましくは、同一である。
上記一般式(2)において、Yで示されるアルキレン基としては、例えば、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、トリデシレンなどの炭素数6〜13の直鎖状アルキレン基、例えば、イソペンチレン、イソへキシレン、エチルヘキシレン、エチルオクチレン、エチルウンデシレンなどの炭素数6〜13の分岐状アルキレン基などが挙げられる。
このようなアルキレン基のなかでは、好ましくは、炭素数8〜11のアルキレン基が挙げられ、さらに好ましくは、炭素数8〜11の直鎖状アルキレン基が挙げられ、とりわけ好ましくは、オクチレン基およびデシレン基が挙げられる。
このような上記一般式(2)で示されるアミド化合物としては、例えば、1,10−ジ(4−メチルピペリジン−1−イル)デカン−1,10−ジオン(下記化学式(7))、1,13−ジ(ピペリジン−1−イル)トリデカン−1,13−ジオン(下記化学式(8))などが挙げられる。
化学式(7):
化学式(8):
次に、上記一般式(2)で示されるアミド化合物の合成方法について説明する。
上記一般式(2)で示されるアミドは、特に制限されないが、例えば、下記反応式(2)で示されるようにジカルボン酸(11)と、ハロゲン化剤とを反応させ、ジカルボン酸ジハロゲン化物(12)を調製した後、ジカルボン酸ジハロゲン化物(12)と、アミン(13)とを、縮合反応させることによって、合成される。
反応式(2):
(式中、Xは、ハロゲン原子を示す。B、CおよびYは、上記一般式(2)のB、CおよびYと同意義を示す。)
上記反応式(2)において、Xで示されるハロゲン原子としては、例えば、上記反応式(1)において、Xで示されるハロゲン原子と同様のハロゲン原子が挙げられ、好ましくは、塩素が挙げられる。
上記一般式(2)で示されるアミド化合物を合成するには、まず、ジカルボン酸(11)とハロゲン化剤とを、下記反応条件下において反応させ、ジカルボン酸ジハロゲン化物(12)を調製する。
ジカルボン酸(11)としては、例えば、例えば、オクタン二酸、ノナン二酸、デカン二酸(セバシン酸)、ウンデカン二酸、トリデカン二酸、テトラデカン二酸、ペンタデカン二酸などの炭素数8〜15の飽和ジカルボン酸などが挙げられる。
このようなジカルボン酸(11)のなかでは、好ましくは、炭素数10〜13の飽和ジカルボン酸が挙げられ、さらに好ましくは、デカン酸二酸およびトリデカン二酸が挙げられる。
ハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニール、塩化オキサリル、塩化ホスホリル、塩化スルフリル、三塩化リン、五塩化リン、三臭化リンなどが挙げられる。
これらハロゲン化剤のなかでは、好ましくは、塩化チオニールが挙げられる。
ハロゲン化剤の使用量は、例えば、ジカルボン酸(11)1質量部に対して、1〜8質量部、好ましくは、2〜6質量部である。
ジカルボン酸(11)と、ハロゲン化剤との反応条件としては、常圧下、温度が、例えば、20〜120℃、好ましくは、60〜80℃、時間が、例えば、0.5〜5時間、好ましくは、1〜3時間である。
また、ジカルボン酸(11)と、ハロゲン化剤との反応は、還流下で実施してもよい。
また、大気雰囲気または不活性ガス(窒素ガス、アルゴンガス)雰囲気のいずれにおいても実施できる。
このように調製されるジカルボン酸ジハロゲン化物(12)としては、例えば、オクタン二酸ジクロリド、ノナン二酸ジクロリド、デカン二酸ジクロリド(セバシン酸ジクロリド)、ウンデカン二酸ジクロリド、トリデカン二酸ジクロリド、テトラデカン二酸ジクロリド、ペンタデカン二酸ジクロリドなどの炭素数8〜15のジカルボン酸ジクロリドなどが挙げられる。
次いで、必要により、過剰のハロゲン化剤を、例えば、減圧下で留去した後、調製されたジカルボン酸ジハロゲン化物(12)と、アミン(13)とを、反応溶媒中で、縮合反応させることによって、上記一般式(2)で示されるアミド化合物が合成される。
詳しくは、例えば、ジカルボン酸ジハロゲン化物(12)と、アミン(13)とをそれぞれ反応溶媒に溶解して、ジカルボン酸ジハロゲン化物溶液およびアミン溶液を調製し、アミン溶液を、カルボン酸ハロゲン化物溶液に滴下する。
アミン(13)は、複素5〜6員環の二級のアミンであって、例えば、ピロリジン、ピラゾリジン、イミダゾリジン、チアゾリジン、オキサゾリジンなどの飽和複素5員環アミン、例えば、ピロリン、イミダゾリンなどの1つの二重結合を有する不飽和複素5員環アミン、例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾールなどの芳香族複素5員環アミン、例えば、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリンなどの飽和複素6員環アミン、例えば、ジヒドロピリジン、テトラヒドロピリジン、ジヒドロピラジン、テトラヒドロピラジンなどの不飽和複素6員環アミンなどが挙げられる。
このようなアミン(13)のなかでは、好ましくは、飽和複素6員環アミンが挙げられ、好ましくは、ピペリジンが挙げられる。
このようなピペリジンとしては、例えば、無置換のピペリジン、置換基を有するピペリジン(例えば、4−メチルピペリジン)などが挙げられる。
反応溶媒としては、例えば、上記した反応溶媒と同様の反応溶媒が挙げられ、好ましくは、テトラヒドロフラン(THF)が挙げられる。
このような反応溶媒は、単独で使用してもよく、あるいは、併用することもできる。
ジカルボン酸ジハロゲン化物溶液に対する反応溶媒の使用量は、ジカルボン酸ジハロゲン化物の原料となるジカルボン酸(11)1molに対して、例えば、300〜4000mL、好ましくは、1000〜2500mLである。
また、ジカルボン酸ジハロゲン化物溶液の濃度は、例えば、0.1〜3mmol/mL、好ましくは、0.2〜1mmol/mLである。
アミン溶液に対する反応溶媒の使用量は、アミン(13)1molに対して、例えば、300〜3000mL、好ましくは、500〜2500mLである。
また、アミン溶液の濃度は、例えば、0.1〜5mmol/mL、好ましくは、0.5〜3mmol/mLである。
ジカルボン酸ジハロゲン化物溶液およびアミン溶液に対する反応溶媒の使用量は、例えば、ジカルボン酸(11)およびアミン(13)の総和100質量部に対して、100〜3000質量部、好ましくは、200〜2000質量部である。
ジカルボン酸ジハロゲン化物(12)とアミン(13)との反応条件としては、常圧下、温度が、例えば、20〜120℃、好ましくは、50〜80℃、時間が、例えば、0.5〜5時間、好ましくは、1〜4時間である。
また、ジカルボン酸ジハロゲン化物(12)と、アミン(13)との縮合反応は、還流下で実施してもよい。また、大気雰囲気または不活性ガス(窒素ガス、アルゴンガス)雰囲気のいずれにおいても実施できる。
ジカルボン酸(11)とアミン(13)との配合割合は、例えば、ジカルボン酸(11)1molに対して、アミン(13)が、0.5〜6mol、好ましくは、0.8〜5molである。
また、ジカルボン酸(11)が有するカルボキシル基とアミン(13)との割合は、例えば、カルボキシル基1当量に対して、アミン(13)が、1〜4当量、好ましくは、1〜2当量である。
上記の合成反応により得られた反応生成物(粗生成物)は、上記一般式(2)で示されるアミド化合物の他、不純物を含むが、そのまま用いることができ、また、単離精製を経た上で用いることもできる。
反応生成物は、例えば、上記した公知の分離手段により、単離精製することができる。
このように合成された上記一般式(2)で示されるアミド化合物の収率は、反応に使用されたジカルボン酸(11)に対して、例えば、50〜100%、好ましくは、70〜100%である。
そして、このように合成された、上記一般式(1)および上記一般式(2)で示されるアミド化合物は、防カビ効果を発現するため、本発明の防カビ剤の有効成分として用いることができる。
これらアミド化合物を、本発明の防カビ剤の有効成分として用いる場合には、特に限定されず、上記したアミド化合物を単独で配合してもよく、2種以上を併用して配合してもよい。
また、本発明の防カビ剤は、公知の方法により、適宜製剤化されていてもよい。
製剤形態としては、例えば、溶液剤、水和剤、懸濁剤、分散剤、乳化用油製剤、油性製剤、ローションなどの液剤、例えば、粉末状または粒状の担体の表面に付着、担持させた粉剤、粒剤などの固形剤、例えば、マイクロカプセル剤、例えば、ペースト剤、クリームなどの半固形剤、例えば、噴霧剤、エアゾール剤などが挙げられる。
例えば、本発明の防カビ剤を液剤(溶液剤、水和剤、懸濁剤、分散剤、乳化用油製剤、油性製剤、ローションなど)として調製するには、例えば、上記アミド化合物を、後述する含有割合となるように、溶媒中に配合し、必要により、液剤の形態に合わせて、分散安定剤、乳化剤などを配合し、さらに必要により、増粘剤、凍結防止剤、防腐剤、比重調節剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、防錆剤、pH調整剤、軟化剤などの公知の添加剤を適宜配合すればよい。
液剤の調製に用いられる溶媒は、上記アミド化合物を溶解、または、分散することができるものであればよく、特に限定されないが、例えば、水、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノールなどのアルコール類、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール類、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、例えば、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)などのエーテル類などが挙げられる。これら溶媒は、単独で使用してもよく、あるいは、併用することもできる。
これら溶媒のなかでは、好ましくは、アセトン、ジエチレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。
また、防カビ剤を乳化用油製剤、油性製剤、ローションなどに調製する場合の溶媒には、例えば、アジピン酸ジアルキルエステル(具体的に、例えば、アジピン酸ジオクチル、アジピン酸ジイソオクチル、アジピン酸ジノニル、アジピン酸ジイソノニル、アジピン酸ジデシル、アジピン酸ジドデシル、アジピン酸ジテトラデシル、アジピン酸ジヘキサデシル、アジピン酸ジオクタデシル、アジピン酸デシルイソオクチルなど。)、クエン酸エステル(具体的に、例えば、クエン酸アセチルトリブチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸トリエチル)、酢酸アルキルエステル(具体的に、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなど。)などのカルボン酸アルキルエステル類、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、デカンなどの脂肪族炭化水素類、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどのアルキレングリコール系エステル類、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、例えば、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン(THF)などのエーテル類、例えば、ヘキサノール、オクタノール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコールなどのアルコール類、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール類、例えば、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、1,1,1−トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、例えば、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドなどの含窒素化合物類、例えば、アルキルシクロパラフィン類などの石油系溶媒、なたね油などの油類、例えば、エクソンナフサNo.7、エクソンナフサNo.6、エクソールD80、アイパ−L、アイパ−M、アイパ−H(以上、エクソン化学社製)などの脂肪族系有機溶剤類、例えば、ソルベッソ150、ソルベッソ200(以上、エクソン化学社製)、日石ハイゾールSAS296、日石ハイゾールSAS−LH、アルケンL(以上、日本石油化学社製、「日石ハイゾール」は登録商標)、PAD(日鉱石油社製)などの芳香族系有機溶剤類などが挙げられる。これら溶媒は、単独で使用してもよく、あるいは、併用することもできる。
これら溶剤のなかでは、好ましくは、アジピン酸ジイソノニル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、アルケンL、日石ハイゾールSAS296、なたね油が挙げられ、さらに好ましくは、アジピン酸ジイソノニル、エチレングリコールモノメチルエーテル、アルケンL、および、日石ハイゾールSAS296またはなたね油の併用が挙げられる。
懸濁剤、分散剤、乳化用油製剤などの調製に用いられる分散安定剤、乳化剤としては、例えば、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、アニオン界面活性剤などの、従来公知の界面活性剤が挙げられる。
ノニオン界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル(例えば、商品名:レオドールTW−O120V(「レオドール」は登録商標)、花王社製)、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル(例えば、商品名:ナロアクティーCL100(「ナロアクティー」は登録商標)、三洋化成社製)、ポリエチレンオキサイド・ポリプロピレンオキサイド共重合体(例えば、商品名:ナロアクティーNH100、三洋化成社製)、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシアルキレンスチリルフェニルエーテル(例えば、商品名:ニューカルゲンCP80(「カルゲン」は登録商標)、ニューカルゲンCP120、竹本油脂社製)、脂肪族多価アルコールエステル、脂肪族多価アルコールポリオキシエチレン、ショ糖脂肪酸エステル、酸化エチレンと酸化プロピレンとのブロック共重合体などが挙げられる。
これらノニオン界面活性剤のなかでは、好ましくは、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル(例えば、商品名:ナロアクティーCL100、三洋化成社製)が挙げられる。
カチオン界面活性剤としては、主として四級アンモニウム塩が挙げられ、具体的には、例えば、オクチルトリメチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライドなどのアルキル(C8〜C18)トリメチルアンモニウムハライド類、例えば、オクタデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムクロライド、オクチルドデシルジメチルアンモニウムクロライドなどのジアルキル(C8〜C18)ジメチルアンモニウムハライド類などが挙げられる。
また、油脂に由来する混合アルキル基を有する混合物、例えば、アルキル(C8〜C18)トリメチルアンモニウム塩、ジアルキル(C8〜C18)ジメチルアンモニウム塩、アルキル(C8〜C18)ジメチルベンジルアンモニウム塩(例えば、商品名:サニゾールC(「サニゾール」は登録商標)、花王社製)なども挙げられる。
アニオン界面活性剤としては、例えば、金属石鹸類、硫酸アルキルナトリウムなどの硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウムなどのアルキルナフタレンスルホン酸塩、2−スルホコハク酸ジアルキルナトリウムなどの2−スルホコハク酸ジアルキル塩、ポリカルボン酸型界面活性剤、α−オレフィンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルサルフェートアンモニウム塩、リグニンスルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸カリウムなどが挙げられる。
上記の界面活性剤は、単独で使用してもよく、あるいは、併用することもできる。
界面活性剤の配合割合は、特に限定されないが、例えば、上記防カビ剤100質量部に対して、50質量部以下、好ましくは、10〜30質量部である。
増粘剤としては、特に限定されないが、例えば、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリビニルアルコール、キサンタンガムなどが挙げられる。
増粘剤の配合割合は、特に限定されないが、例えば、上記防カビ剤100質量部に対して、50質量部以下、好ましくは、10〜30質量部である。
凍結防止剤、防腐剤、比重調節剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、防錆剤、pH調整剤、軟化剤などは、特に限定されず、それぞれの用途に用いられている公知の添加剤が挙げられる。
上記防カビ剤を固形剤(粉剤、粒剤など)として調製するには、例えば、上記アミド化合物を、後述する含有割合となるように、粉状または粒状の担体と攪拌混合する。または、上記アミド化合物を、後述する含有割合となるように、溶媒中に配合し、さらに必要により、増粘剤、凍結防止剤、防腐剤、比重調節剤などの公知の添加剤を適宜配合して、懸濁液を調製後、得られた懸濁液を乾燥する。また、上記懸濁液をスプレードライによって粉剤化、粒剤化してもよい。
粉末または粒状の担体としては、例えば、樹脂微粒子(例えば、ガンツ化成社製の合成樹脂微粒子「ガンツパール」シリーズ(「ガンツパール」は登録商標)など。)、微粉末シリカ、パーライト(黒曜石や真珠岩を高温で熱処理して生成する白色粒状の発泡体)、ゼオライト、珪藻土、クレー、タルク、酸性白土、活性炭、炭酸カルシウム、木粉、粉末セルロース、デンプン、糖類などが挙げられる。
上記防カビ剤をマイクロカプセル剤として調製するには、上記アミド化合物を、例えば、界面重合法、in situ重合法(界面反応法)、コアセルベーション法、液中乾燥法、融解分散冷却法、液中硬化皮膜法、コーティング法(気中懸濁法)、スプレードライ法、静電合体法、真空蒸着法などの方法により、マイクロカプセル化すればよい(例えば、特開昭61−249904号公報、特公平6−92282号公報、特公平6−92283号公報、特開平10−114608号公報、特開2000−247821号公報参照)。
こうして得られたマイクロカプセルを含む分散液に、必要により、増粘剤、凍結防止剤、防腐剤、比重調節剤などの公知の添加剤を適宜配合することにより、マイクロカプセルを含有する液剤またはペーストとしての防カビ剤を得ることができる。また、マイクロカプセルを含む分散剤を乾燥させることにより、マイクロカプセルからなる粉剤または粒剤としての防カビ剤を得ることができる。
上記防カビ剤を半固形剤(ペースト剤、クリームなど)として調製するには、上記アミド化合物を、後述する含有割合となるように、ペーストやクリームを形成するための賦形剤中に配合し、さらに必要により、増粘剤、凍結防止剤、防腐剤、比重調節剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、防錆剤、pH調整剤、軟化剤などの公知の添加剤を適宜配合すればよい。
上記防カビ剤を噴霧剤として調製するには、上記アミド化合物を、後述する含有割合となるように、溶媒中に配合し、さらに必要により、増粘剤、凍結防止剤、防腐剤、比重調節剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、防錆剤、pH調整剤、軟化剤などの公知の添加剤を適宜配合して、噴霧器、スプレー容器などの容器に収容すればよい。
上記防カビ剤をエアゾール剤として調製するには、上記アミド化合物と、さらに必要により、増粘剤、凍結防止剤、防腐剤、比重調節剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、防錆剤、pH調整剤、軟化剤などの公知の添加剤とを、溶媒中に配合し、噴射剤とともに、エアゾール容器に収容すればよい。
固形剤、マイクロカプセル剤、エアゾール剤などの調製に用いられる溶媒としては、例えば、液剤の調製に用いられる溶媒として、上記した溶媒と同様の溶媒が挙げられる。
分散安定剤、乳化剤、増粘剤、凍結防止剤、防腐剤、防かび剤、比重調節剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、防錆剤、pH調整剤、軟化剤などは、特に限定されず、それぞれの用途に用いられている公知の添加剤が挙げられる。
また、上記防カビ剤を担持剤として調製するには、上記のアミド化合物と、粉末または粒状の担体と、さらに必要により、増粘剤、凍結防止剤、防腐剤、比重調節剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、熱安定剤、防錆剤、pH調整剤、軟化剤などの公知の添加剤とを、上記アミド化合物が後述する含有割合となるように配合し、これら配合成分を、攪拌、混合すればよい。
上記防カビ剤において、アミド化合物の含有量は、特に限定されないが、防カビ剤全体の0.1質量%以上、好ましくは、0.1〜80質量%、より好ましくは、1〜20質量%である。
上記防カビ剤は、木材などをカビや腐朽の予防などの用途に広く使用できる。
液剤、固形剤、マイクロカプセル剤、半固形剤、噴霧剤またはエアゾール剤または担持剤として製剤化された防カビ剤の使用方法は、特に限定されるものではないが、例えば、公知の塗布方法によって、例えば、処理対象である木材などに塗布、浸透させればよい。
より具体的には、例えば、有効成分としての上記アミド化合物が1〜20質量%の割合で含有され、液剤として調製された防カビ剤の場合、動力噴霧器または手動噴霧器を用いて、木材の表面に対して50〜300g/mで塗布すればよい。
有効成分としての、上記アミド化合物が1〜20質量%の割合で含有された固形剤、マイクロカプセル剤、半固形剤、噴霧剤、エアゾール剤または担持剤を、木材の表面に塗布、浸透させる場合も、上記した分量で塗布すればよい。
防カビ剤を土壌に散布する場合には、散布状況と製剤形態により異なるが、全面散布の場合は、約0.5〜5L/mで、帯状散布の場合は、約3〜10L/mで散布すればよい。
本発明の防カビ剤は、有効成分として、少なくとも、上記一般式(1)で示されるアミド化合物、または、上記一般式(2)で示されるアミド化合物を含有している。
上記一般式(1)で示されるアミド化合物は、例えば、モノカルボン酸ハロゲン化物と不飽和複素環式アミンとを縮合反応させることにより、合成される。
また、上記一般式(2)で示されるアミド化合物は、例えば、ジカルボン酸を、ジカルボン酸ジハロゲン化物に誘導後、単離精製することなく、ジカルボン酸ジハロゲン化物と複素環式アミンとを縮合反応させることにより、合成される。
すなわち、上記一般式(1)で示されるアミド化合物および上記一般式(2)で示されるアミド化合物は、中間生成物の単離精製することなく、一段階の合成工程により簡便に合成することができる。
そのため、容易に合成することができ、かつ、中間生成物の単離精製に伴う収率の低下が発生せず、収率の向上を図ることができる。
また、上記一般式(1)で示されるアミド化合物の原料は、いずれも安価な、モノカルボン酸ハロゲン化物および不飽和複素5員環の二級アミンであり、また、上記一般式(2)で示されるアミド化合物の原料も、安価な、ジカルボン酸、ハロゲン化剤および複素5〜6員環の二級アミンである。
従って、本発明の防カビ剤は、優れた防カビ効果を発現することができることに加え、製造コストの低減を図ることができる。
次に、合成例、実施例および参考例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの合成例実施例および参考例により限定されるものではない。
合成例1
10−ウンデセン酸クロリド(2.0g、0.01mol)を、テトラヒドロフラン(THF)(10mL)に溶解し、モノカルボン酸クロリド溶液を調製した。
一方、イミダゾール(1.4g、0.01mol)を、THF(20mL)に溶解して、アミン溶液を調製した。
そして、アミン溶液を、モノカルボン酸クロリド溶液に添加し、反応液とした。
反応液は水浴上で3時間還流された後、減圧下において、反応液中のTHFが留去された。
次いで、反応液に水と酢酸エチルを加えて分配し、酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を、一度水洗した後、酢酸エチルを留去することにより、粗生成物を得た。
粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル)により精製して、1−(1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オン(上記化学式(3)に相当)(C1422O)を、褐色油状物として得た。
分子量(MW):234
高分解能−イオントラップ−飛行時間型質量分析器(HR−IT−TOFMS) m/z:257.1587[M+Na]、(Calcd for C1422ONa:257.1630)
合成例2
10−ウンデセン酸クロリド(2.0g、0.01mol)を、THF(10mL)に溶解し、モノカルボン酸クロリド溶液を調製した。
一方、2−メチルイミダゾール(1.6g、0.02mol)を、THF(20mL)に溶解して、アミン溶液を調製した。
そして、アミン溶液を、カルボン酸クロリド溶液に添加し、反応液とした。
反応液は水浴上で3時間還流された後、減圧下において、反応液中のTHFが留去された。
次いで、反応液に水と酢酸エチルを加えて分配し、酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を、一度水洗した後、酢酸エチルを留去することにより、粗生成物を得た。
粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム)により精製して、1−(2−メチル−1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オン(上記化学式(4)に相当)(C1524O)を、無色油状物として得た。
分子量(MW):248、収量:1.8g、収率:73%
HR−IT−TOFMS m/z:271.2022[M+Na]、(Calcd for C1524ONa:271.1786)
合成例3
10−ウンデセン酸クロリド(3.2g、0.016mol)を、THF(20mL)に溶解し、モノカルボン酸クロリド溶液を調製した。
一方、2−フェニルイミダゾール(4.6g、0.032mol)を、THF(40mL)に溶解して、アミン溶液を調製した。
そして、アミン溶液を、モノカルボン酸クロリド溶液に添加し、反応液とした。
反応液は水浴上で4時間還流された後、減圧下において、反応液中のTHFが留去された。
次いで、反応液に水と酢酸エチルを加えて分配し、酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を、一度水洗した後、酢酸エチルを留去することにより、粗生成物を得た。
粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム)により精製して、1−(2−フェニル−1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オン(上記化学式(5)に相当)(C2026O)を、褐色油状物として得た。
分子量(MW):310、収量:2.1g、収率:68%
HR−IT−TOFMS m/z:333.1953[M+Na]、(Calcd for C2026ONa:333.1943)
合成例4
10−ウンデセン酸クロリド(2.5g、0.012mol)を、THF(20mL)に溶解し、モノカルボン酸クロリド溶液を調製した。
一方、4−メチル−2−フェニルイミダゾール(4g、0.025mol)を、THF(40mL)に溶解して、アミン溶液を調製した。
そして、アミン溶液を、モノカルボン酸クロリド溶液に添加し、反応液とした。
反応液は水浴上で3時間還流された後、減圧下において、反応液中のTHFが留去された。
次いで、反応液に水と酢酸エチルを加えて分配し、酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を、一度水洗した後、酢酸エチルを留去することにより、粗生成物を得た。
粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:酢酸エチル)により精製して、1−(4−メチル−2−フェニル−1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オン(上記化学式(6)に相当)(C2128O)を、褐色油状物として得た。
分子量(MW):324
HR−IT−TOFMS m/z:346.2029[M+Na]、(Calcd for C2128ONa:347.2099)
合成例5
デカン二酸(デカン−1,10−ジカルボン酸)(2.7g、0.0096mol)に、塩化チオニール(8mL)を加え、水浴上で2時間還流した。その後、過剰の塩化チオニールを減圧下で留去し、デカン二酸ジクロリドを得た。
次いで、デカン二酸ジクロリドを、THF(20mL)に溶解し、ジカルボン酸ジクロリド溶液を調製した。
一方、ピペリジン(3.3g、0.0384mol)を、THF(30mL)に溶解して、アミン溶液を調製した。
そして、アミン溶液を、ジカルボン酸ジクロリド溶液に滴下し、反応液とした。
反応液は水浴上で3時間還流された後、減圧下において、反応液中のTHFが留去された。
次いで、反応液に水と酢酸エチルを加えて分配し、酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を、一度水洗した後、酢酸エチルを留去することにより、粗生成物を得た。
粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム)により精製して、1,10−ジ(4−メチルピペリジン−1−イル)デカン−1,10−ジオン(上記化学式(7)に相当)(C2240)を、無色油状物として得た。
分子量(MW):364、収量:2.9g、収率:81%
HR−IT−TOFMS m/z:387.3022[M+Na]、(Calcd for C2240Na:387.2982)
合成例6
トリデカン二酸(2.8g、0.01mol)に、塩化チオニール(8mL)を加え、水浴上で2時間還流した。その後、過剰の塩化チオニールを減圧下で留去し、トリデカン二酸ジクロリドを得た。
次いで、トリデカン二酸ジクロリドを、THF(20mL)に溶解し、ジカルボン酸ジクロリド溶液を調製した。
一方、ピペリジン(3.3g、0.0384mol)を、THF(30mL)に溶解して、アミン溶液を調製した。
そして、アミン溶液を、ジカルボン酸ジクロリド溶液に滴下し、反応液とした。
反応液は水浴上で3時間還流された後、減圧下において、反応液中のTHFが留去された。
次いで、反応液に水と酢酸エチルを加えて分配し、酢酸エチル層を分取した。酢酸エチル層を、一度水洗した後、酢酸エチルを留去することにより、粗生成物を得た。
粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム)により精製して、1,13−ジ(ピペリジン−1−イル)トリデカン−1,13−ジオン(上記化学式(8)に相当)(C2342)を、無色油状物として得た。
分子量(MW):378、収量:2.9g、収率:81%
HR−IT−TOFMS m/z:379.3368[M+H]、(Calcd for C2343:379.3319)
実施例1
合成例1で合成された1−(1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オンを、アセトンで希釈して、濃度が、10mg/mL(10000ppm)となるように調製し、防カビ剤(液剤)を得た。
実施例2
合成例2で合成された1−(2−メチル−1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オンを、アセトンで希釈して、濃度が、10mg/mL(10000ppm)となるように調製し、防カビ剤(液剤)を得た。
実施例3
合成例3で合成された1−(2−フェニル−1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オンを、アセトンで希釈して、濃度が、10mg/mL(10000ppm)となるように調製し、防カビ剤(液剤)を得た。
実施例4
合成例4で合成された1−(4−メチル−2−フェニル−1H−イミダゾール−1−イル)ウンデック−10−エン−1−オンを、アセトンで希釈して、濃度が、10mg/mL(10000ppm)となるように調製し、防カビ剤(液剤)を得た。
参考例5
合成例5で合成された1,10−ジ(4−メチルピペリジン−1−イル)デカン−1,10−ジオンを、アセトンで希釈して、濃度が、10mg/mL(10000ppm)となるように調製し、防カビ剤(液剤)を得た。
参考例6
合成例6で合成された1,13−ジ(ピペリジン−1−イル)トリデカン−1,13−ジオンを、アセトンで希釈して、濃度が、10mg/mL(10000ppm)となるように調製し、防カビ剤(液剤)を得た。
試験例(ハロー試験)
実施例および参考例で調製された防カビ剤を、それぞれ、直径8mmのろ紙(ペーパーディスク抗生物質検定用)に対して、40μLずつ滴下し、風乾させた。
次いで、試験対象としてのカビであるアスペルギルス ニガー(Aspergillus niger)およびペニシリウム フニクロサム(Penicillium funiculosum)を懸濁させたバレイショ・ブドウ糖寒天培地(PDA培地)を、シャーレに10mL分注し固化させた後、実施例および参考例で調製された防カビ剤を、それぞれ含有するろ紙を固化したPDA培地上に配置し、26℃で6日間培養後の生育阻止帯直径(ペーパーディスク直径8mmを含む)を計測した。ハロー試験結果を表1に示す。なお、表1には、各カビ剤を含有しないろ紙を用いた結果も、コントロールとして併せて示している。

Claims (9)

  1. 下記一般式(1)で示されるアミド化合物を含有することを特徴とする、防カビ剤。
    一般式(1):
    (式中、Aは、置換基を有さないイミダゾール基、または、置換基としてメチル基および/またはフェニル基を有するイミダゾール基を示す。Yは、炭素数8〜13のアルキレン基を示す。Zは、ビニル基を示す。)
  2. 下記一般式(1)で示されるアミド化合物を含有することを特徴とする、防カビ剤。
    一般式(1):
    (式中、Aは、置換基を有さないイミダゾール基、または、置換基としてメチル基および/またはフェニル基を有するイミダゾール基を示す。Y は、炭素数8〜13の直鎖状アルキレン基を示す。Zは、メチル基またはビニル基を示す。
  3. 前記一般式(1)において、Zが、ビニル基であることを特徴とする、請求項2に記載の防カビ剤。
  4. 前記一般式(1)において、Yが、オクチレン基であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の防カビ剤。
  5. 請求項1〜4のいずれか一項に記載の防カビ剤を、対象(人を除く)に用いることを特徴とする、防カビ方法。
  6. 下記化学式(3)で示されるアミド化合物。
    化学式(3):
  7. 下記化学式(4)で示されるアミド化合物。
    化学式(4):
  8. 下記化学式(5)で示されるアミド化合物。
    化学式(5):
  9. 下記化学式(6)で示されるアミド化合物。
    化学式(6):
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