JP5834548B2 - 絶縁被覆導電粒子及び異方導電性接着フィルム - Google Patents
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Description
500mL三ツ口フラスコに、ラジカル重合性二重結合及びアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤(3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製:KBM−5103)7.5gと、メタクリル酸(和光純薬工業(株)製)6.9gと、アクリル酸メチル(和光純薬工業(株)製)4.1gと、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.36gと、アセトニトリル350gとを入れてこれらを混合した。窒素(100mL/分)により1時間かけて溶存酸素を置換した後、80℃に加熱しながら6時間重合反応を進行させて、一次粒子径300nmの有機無機ハイブリッド粒子を得た。この有機無機ハイブリッド粒子を含む分散液を20mLの容器に入れ、3000r.p.m.で30分間の遠心分離(株式会社コクサン製:H−103N)により、未反応のモノマーを除去した。更にメタノールを20mL追加し、超音波分散させ再度遠心分離を行った。そこに、硬化触媒として、カルボキシル基の量に対して等モルのトリエチルアミンを入れ、メタノールを追加して超音波分散させて、架橋反応を進行させた。再度の遠心分離後、トリエチルアミンを除去し、得られた絶縁性微粒子1をメタノールに分散させた。
500mL三ツ口フラスコに、ラジカル重合性二重結合及びアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤(3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、信越化学工業(株)製:KBM−502)7.5gと、メタクリル酸(和光純薬工業(株)製)6.9gと、アクリル酸メチル(和光純薬工業(株)製)4.1gと、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.36gと、アセトニトリル350gとを入れこれらを混合した。窒素(100mL/分)により1時間かけて溶存酸素を置換した後、80℃に加熱しながら6時間重合反応を進行させて、一次粒子径300nmの有機無機ハイブリッド粒子の分散液を得た。その他は絶縁性微粒子1と同様にして、絶縁性微粒子2のメタノール分散液を準備した。
500mL三ツ口フラスコに、ラジカル重合性二重結合及びアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤(信越化学工業(株)製:KBM−5103)13gと、メタクリル酸(和光純薬工業(株)製)2.5gと、アクリル酸メチル(和光純薬工業(株)製)2.9gと、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.36gと、アセトニトリル350gとを入れこれらを混合した。窒素(100mL/分)により1時間かけて溶存酸素を置換した後、80℃に加熱しながら6時間重合反応を進行させて、一次粒子径500nmの有機無機ハイブリッド粒子の分散液を得た。その他は絶縁性微粒子1と同様にして、絶縁性微粒子3のメタノール分散液を準備した。
500mL三ツ口フラスコに、ラジカル重合性二重結合及びアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤(信越化学工業(株)製:KBM−5103)5.7gと、メタクリル酸(和光純薬工業(株)製)2.5gと、アクリル酸メチル(和光純薬工業(株)製)10.3gと、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.36gと、アセトニトリル350gとを入れこれらを混合した。窒素(100mL/分)により1時間かけて溶存酸素を置換した後、80℃に加熱しながら6時間重合反応を進行させて、一次粒子径500nmの有機無機ハイブリッド粒子の分散液を得た。その他は絶縁性微粒子1と同様にして、絶縁性微粒子4の分散液を準備した。
500mL三ツ口フラスコに、ラジカル重合性二重結合及びアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤(信越化学工業(株)製:KBM−5103)7.5gと、メタクリル酸(和光純薬工業(株)製)6.9gと、ヒドロキシメタクリレート(和光純薬工業(株)製)4.1gと、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.36gと、アセトニトリル350gとを入れ、これらを混合した。窒素(100mL/分)により1時間かけて溶存酸素を置換した後、80℃に加熱しながら6時間重合反応を進行させて、一次粒子径70nmの有機無機ハイブリッド粒子の分散液を得た。その他は絶縁性微粒子1と同様にして、絶縁性微粒子5を準備した。
500mL三ツ口フラスコに、ラジカル重合性二重結合及びアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤(信越化学工業(株)製:KBM−5103)7.5gと、メタクリル酸(和光純薬工業(株)製)6.9gと、アクリル酸メチル(和光純薬工業(株)製)4.1gと、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.36gと、アセトニトリル150gとを入れ、これらを混合した。窒素(100mL/分)により1時間かけて溶存酸素を置換した後、80℃に加熱しながら6時間重合反応を進行させて、一次粒子径800nmの有機無機ハイブリッド粒子の分散液を得た。その他は絶縁性微粒子1と同様にして、絶縁性微粒子6の分散液を準備した。
500mL三ツ口フラスコに、ラジカル重合性二重結合及びアルコキシシリル基を有するシランカップリング剤(信越化学工業(株)製:KBM−5103)15gと、メタクリル酸(和光純薬工業(株)製)2.5gと、アクリル酸メチル(和光純薬工業(株)製)1gと、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.36gと、アセトニトリル350gとを入れて、これらを混合した。窒素(100mL/分)により1時間かけて溶存酸素を置換した後、80℃に加熱しながら6時間重合反応を進行させて、一次粒子径500nmの有機無機ハイブリッド粒子の分散液を得た。その他は絶縁性微粒子1と同様にして、絶縁性微粒子8の分散液を準備した。
三ツ口フラスコに、メタクリル酸グリシジル2mmol、スチレン18mmol、ジビニルベンゼン0.6mmol、及び2,2’−アゾビス{2−[N−(2−カルボキシエチル)アミノ]ジプロパン}0.1mmolを、これらの合計の濃度が50質量%になるようにイオン交換水に溶解させた。窒素(100mL/分)により1時間かけて溶存酸素を置換した。その後、70℃に加熱しながら6時間重合反応を進行させて、一次粒子径250nmの絶縁性微粒子を得た。遠心分離により未反応モノマーを除去し、メタノールによる洗浄を3回行った。
平均粒径3.0μmの架橋ポリスチレン粒子(樹脂微粒子)3gを、アルカリ脱脂の後、酸で中和した。次いで、樹脂微粒子を、pH6.0に調整したカチオン性高分子液100mLに添加し、60℃で1時間攪拌した後、直径3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製)で濾過し、水洗を行った。パラジウム触媒であるアトテックネオガント834(アトテックジャパン(株)製、商品名)を8質量%含有するパラジウム触媒化液100mLに水洗後の樹脂微粒子を添加し、35℃で30分攪拌した後濾過し、水洗を行った。
<表面官能基を形成する工程>
メルカプト酢酸(和光純薬工業株式会社製、商品名)8mmolをメタノール200mlに溶解し、そこに導電粒子を10g加えた。直径45mmの攪拌羽を取り付けたスリーワンモーター(新東科学株式会社製、商品名:BL3000)を用いて室温(25℃)で2時間攪拌し、メタノールで洗浄したφ3μmのメンブレンフィルタ(ミリポア社製 :コーテッドタイプメンブレンフィルター)で濾過して、表面官能基としてカルボキシル基を有する導電粒子10gを得た。
重量平均分子量70000のポリエチレンイミンを含む30質量%ポリエチレンイミン水溶液(和光純薬工業株式会社製、商品名:30%ポリエチレンイミン P−70溶液)を超純水で希釈して0.3質量%ポリエチレンイミン水溶液を得た。この0.3質量%ポリエチレンイミン水溶液に上述のカルボキシル基が導入された導電粒子10gを加えた。室温(25℃)で15分間攪拌し、φ3μmのメンブレンフィルタで濾過して、高分子電解質であるポリエチレンイミンが表面に吸着した粒子を得た。この粒子を、超純水200gに混合して室温(25℃)で5分攪拌し、濾過を行った。濾過して得られた粒子を該メンブレンフィルタ上で200gの超純水で2回洗浄して、粒子に吸着していないポリエチレンイミンを除去した。
ポリエチレンイミンが吸着した導電粒子10gを、絶縁性微粒子1を2−プロパノール(和光純薬工業(株)製)で希釈して得られた2質量%の絶縁性微粒子分散液50gを滴下しながら室温(25℃)で30分間攪拌して、導電粒子及びこれを被覆する絶縁性微粒子1から構成される絶縁被覆導電粒子を得た。濾過により取り出した絶縁被覆導電粒子を、重量平均分子量1000のシリコーンオリゴマー(日立化成コーテッドサンド株式会社製:SC−6000)50gとメタノール150gの混合液に入れて、室温(25℃)で1時間攪拌して濾過を行った。最後に、絶縁被覆導電粒子をトルエン(和光純薬工業(株)製)に入れて3分攪拌し、濾過を行った。
得られた絶縁被覆導電粒子を150℃、1時間の条件で真空乾燥した。その後、旋回気流式ふるい分け分級機(株式会社セイシン企業)で凝集物を取り除いた。
絶縁性微粒子1の代わりに絶縁性微粒子2を用いたこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子2を得た。
絶縁性微粒子1の代わりに絶縁性微粒子3を用いたこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子3を得た。
絶縁性微粒子1の代わりに絶縁性微粒子4を用いたこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子4を得た。
絶縁性微粒子によって導電粒子を被覆する工程において、絶縁性微粒子分散液の滴下量を50gから40gに変更したこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子5を得た。
絶縁性微粒子によって導電粒子を被覆する工程において、絶縁性微粒子分散液の滴下量を50gから65gに変更したこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子6を得た。
絶縁性微粒子1の代わりに絶縁性微粒子5を用いたこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子7を得た。
絶縁性微粒子1の代わりに絶縁性微粒子6を用いたこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子8を得た。
絶縁性微粒子1の代わりに絶縁性微粒子8を用いたこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子10を得た。
絶縁性微粒子によって導電粒子を被覆する工程において、絶縁性微粒子分散液の滴下量を50gから32gに変更したこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子6を得た。
絶縁性微粒子によって導電粒子を被覆する工程において、絶縁性微粒子分散液の滴下量を50gから80gに変更したこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子13を得た。
絶縁性微粒子1の代わりに絶縁性微粒子9を用いたこと以外は絶縁被覆導電粒子1と同様にして、絶縁被覆導電粒子11を得た。
フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド社製品名PKHC)30g、アクリルゴム(ブチルアクリレート40質量部、エチルアクリレート30質量部、アクリロニトリル30質量部、及びグリシジルメタクリレート3質量部の共重合体、重量平均分子量:85万)15gを酢酸エチル20gに溶解して、フェノキシ樹脂とアクリルゴムの合計濃度が30質量%の溶液を得た。この溶液に、マイクロカプセル型潜在性硬化剤を含有する液状エポキシ(エポキシ当量185、旭化成エポキシ株式会社製品名ノバキュアHX−3941)30gを加えて撹拌し、接着剤溶液を作製した。この接着剤溶液に、シリカフィラー(日本アエロジル社製:Aerosil R202)の酢酸エチル分散液10質量部を35g添加し攪拌した。15gの絶縁被覆導電粒子1を接着剤溶液と混合して、超音波分散を行った。この分散液を、シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフイルムであるセパレータ(厚み40μm)にロールコータで塗布し、80℃で5分間乾燥して、厚み23μmの異方導電性接着フィルムを形成させた。
実装サンプルの接続抵抗値を4端子法により測定した。定電流電源装置((株)アドバンテスト製R−6145)を用いて一定電流(1mA)をチップ電極−基板電極間に印加し、そのときの接続部分の電位差を、(株)アドバンテスト製デジタルマルチメーター(R−6557)を用いて測定し、抵抗値に換算した。さらに、実装サンプルを85℃、85RH%の高温高湿槽に投入し、500時間経過後に取り出して、上記と同様の方法により信頼性試験後の接続抵抗値を測定した。
実装サンプルの回路の接続部に、直流(DC)50Vの電圧を1分間印加し、印加後の絶縁抵抗を、2端子測定法を用いマルチメータで測定した。ここで、絶縁抵抗とは隣り合う回路電極間の抵抗を意味する。
導電粒子を含まない接着剤層に、絶縁被覆導電粒子を含む各異方導電性接着フィルムをラミネートした積層体を準備し、この積層体を1mm角に切断した。また、接着剤層のみを3mm角に切断した。切断した積層体及び接着剤層をそれぞれカバーグラスに乗せ、それらを貼り合わせた後、(株)東レエンジニアリング製高精細自動ボンダ(FC−1200)を用いて80℃で40秒圧延した。続いて、200℃で20秒、更に加熱及び加圧した。得られたサンプルをキーエンス製光学顕微鏡(VH−Z450)を用いて1000倍にて撮像し、異方導電性接着フィルム中における絶縁被覆導電粒子の単分散率を測定した。
トルエンに絶縁被覆導電粒子0.5g浸漬し、30分間超音波(アズワン株式会社製US−4R、高周波出力:160W、発振周波数:40kHz単周波)を照射させた。トルエンを除去し、絶縁被覆導電粒子0.05gを電解水に分散させ、界面活性剤を添加し、超音波分散を5分間行った。絶縁被覆導電粒子の分散液をCOULER MULTISIZER II(ベックマン・コールター株式会社製)の試料カップに注入し、絶縁被覆導電粒子50000個についての平均粒径及び単分散率を測定した。単分散率は下記式により算出し、その値に基づいて下記基準により有機溶媒中での粒子の凝集性を判定した。
単分散率(%)={first peak粒子数(個)/全粒子数(個)}×100
AA:100%〜95%
A:95%〜90%
B:90%〜85%
C:85%未満
絶縁被覆導電粒子による導電粒子の被覆率を、SEM像の画像解析により測定した。
Claims (9)
- 導電性の金属表面を有する導電粒子と、前記導電粒子を被覆する絶縁性微粒子とを有する絶縁被覆導電粒子であって、
前記絶縁性微粒子が、ラジカル重合性有機モノマーと、ラジカル重合性不飽和基及び加水分解性シリル基を有するシラン化合物との共重合体から構成される有機無機ハイブリッド粒子であり、
前記ラジカル重合性有機モノマーが、メタクリル酸及びアクリル酸アルキルエステルを含む、絶縁被覆導電粒子。 - 前記シラン化合物が、ケイ素原子に結合したアルコキシ基を2個又は3個有する、請求項1に記載の絶縁被覆導電粒子。
- 前記シラン化合物に由来するモノマー単位の割合が、前記共重合体の質量に対して20〜70質量%である、請求項1又は2に記載の絶縁被覆導電粒子。
- 前記絶縁性微粒子が、前記ラジカル重合性有機モノマーと前記シラン化合物との共重合体から構成される有機無機ハイブリッド粒子であって、前記共重合体が前記シラン化合物の加水分解性シリル基の加水分解により架橋している、請求項1〜3のいずれか一項に記載の絶縁被覆導電粒子。
- 前記絶縁性微粒子の平均粒径が200〜500nmである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の絶縁被覆導電粒子。
- 前記絶縁性微粒子による前記導電粒子の被覆率が20%を超えて50%未満である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の絶縁被覆導電粒子。
- 絶縁性接着剤層と、
前記絶縁性接着剤層中に分散している、請求項1〜6のいずれか一項に記載の絶縁被覆導電粒子と、
を備える異方導電性接着フィルム。 - 当該異方導電性接着フィルム中における前記絶縁被覆導電粒子の単分散率が60%以上である、請求項7に記載の異方導電性接着フィルム。
- 請求項7又は8に記載の異方導電性接着フィルムを製造する方法であって、
前記絶縁被覆導電粒子、絶縁性接着剤及びSP値10以下の有機溶剤を含む混合液中で前記絶縁被覆導電粒子を分散させるステップと、
前記混合液を成膜し、成膜した前記混合液から前記有機溶剤を除去して当該異方導電性接着フィルムを形成させるステップと、を含む、方法。
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