JP5833221B2 - 有機ケイ素化合物の水性分散液 - Google Patents

有機ケイ素化合物の水性分散液 Download PDF

Info

Publication number
JP5833221B2
JP5833221B2 JP2014503089A JP2014503089A JP5833221B2 JP 5833221 B2 JP5833221 B2 JP 5833221B2 JP 2014503089 A JP2014503089 A JP 2014503089A JP 2014503089 A JP2014503089 A JP 2014503089A JP 5833221 B2 JP5833221 B2 JP 5833221B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mixture
water
viscosity
groups
mpas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2014503089A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014510179A (ja
Inventor
ホルガー、ラウチェク
ハルトムート、アッカーマン
ローベルト、シュレック
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wacker Chemie AG
Original Assignee
Wacker Chemie AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=45937353&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP5833221(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Wacker Chemie AG filed Critical Wacker Chemie AG
Publication of JP2014510179A publication Critical patent/JP2014510179A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5833221B2 publication Critical patent/JP5833221B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04—Polysiloxanes
    • C08L83/06—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/02—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques
    • C08J3/03—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in aqueous media
    • C08J3/05—Making solutions, dispersions, lattices or gels by other methods than by solution, emulsion or suspension polymerisation techniques in aqueous media from solid polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/20—Compounding polymers with additives, e.g. colouring
    • C08J3/205—Compounding polymers with additives, e.g. colouring in the presence of a continuous liquid phase
    • C08J3/21—Compounding polymers with additives, e.g. colouring in the presence of a continuous liquid phase the polymer being premixed with a liquid phase
    • C08J3/212—Compounding polymers with additives, e.g. colouring in the presence of a continuous liquid phase the polymer being premixed with a liquid phase and solid additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5415—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
    • C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L83/04—Polysiloxanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C08G77/16—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
    • C08G77/18—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to alkoxy or aryloxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04—Polysiloxanes
    • C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2383/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2383/04—Polysiloxanes
    • C08J2383/05—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2383/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2383/04—Polysiloxanes
    • C08J2383/07—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2227—Oxides; Hydroxides of metals of aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20—Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2237—Oxides; Hydroxides of metals of titanium
    • C08K2003/2241—Titanium dioxide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C08K5/541—Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5415—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
    • C08K5/5419—Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond containing at least one Si—C bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/54—Silicon-containing compounds
    • C08K5/544—Silicon-containing compounds containing nitrogen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

本発明は、有機ケイ素化合物の水性分散液、その製造方法、およびその、特に鉱物および有機建築材料の疎水化含浸およびバルク疎水化に関する。
シランおよびシロキサンは、建築保護、例えば独国特許出願公開第1069057号に記載されているようなシランの有機溶剤溶液、に長い間使用されている。コストの理由から、また、それに加えて、有機溶剤を取り扱う時の健康に対する危険性、および関連する環境汚染の点からも、有機溶剤で作業することは不利である。
アルキルアルコキシシランおよびアルキルアルコキシシロキサンを基剤とする水性処方物は公知である。欧州特許出願公開第２３４０２４号は、ＨＬＢ値４〜１５を有する非イオン乳化剤を含んでなるシランエマルションを記載している。欧州特許第３９２２５３号は、アルコキシシランとアルコキシシロキサンの混合物を含んでなる水性処方物を記載している。疎水性充填剤、例えば疎水性シリカ、の添加により、これらの処方物のビード−オフ効果を改良することができる。しかし、疎水性シリカの添加によるエマルションの安定性に関する記載はない。欧州特許第５８２６１１号も疎水性シリカを使用しているが、貯蔵安定性に関する記載はない。自己分散性組成物を、高比率の塩基性窒素を有するシロキサンで処方すると、疎水性シリカでも安定して分散し得る（欧州特許第６０９５２４号）。しかし、そのような処方物は、アミン含有量のために、使用中に黄変し、変色する傾向がある。
本発明は、有機ケイ素化合物の水性分散液であって、無機充填剤(Ｂ)、および、式：
Ｒａ（Ｒ１Ｏ）ｂＳｉＯ（４−ａ−ｂ）／２ （I）
（式中、
Ｒは、同一であるかまたは異なるものでよく、水素原子、または一価の、ＳｉＣ結合した、所望により置換されたヒドロカルビル基であり、
Ｒ１は、同一であるかまたは異なるものでよく、水素原子、または一価の、所望により置換されたヒドロカルビル基であり、
ａは、０、１、２または３、好ましくは１、２または３であり、
ｂは、０、１、２または３、好ましくは０または１であるが、ただしａおよびｂの合計は３以下である。）
単位を含む、粘度が２５℃で５〜１００００００ｍＰａｓであるシロキサン（Ｃ）から実質的になり、粘度が２５℃で１０〜１０００００００ｍＰａｓである混合物（Ａ）、
式：
Ｒ３ ｃＲ２ ｄＳｉ（ＯＲ４）４−ｃ−ｄ （II）
（式中、
Ｒ２は、同一であるかまたは異なるものでよく、一価の、ＳｉＣ結合した、所望により置換された、１〜３個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
Ｒ３は、同一であるかまたは異なるものでよく、一価の、ＳｉＣ結合した、所望により置換された、少なくとも４個の炭素原子を有し、異原子および／またはカルボニル基により中断されていてよいヒドロカルビル基を表し、
Ｒ４は、同一であるかまたは異なるものでよく、一価の、所望により置換されたヒドロカルビル基または水素を表し、
ｃは、１、２または３、好ましくは１であり、および
ｄは、０、１または２、好ましくは０または１であるが、ただしｃおよびｄの合計は１、２または３である。）
のシラン（Ｄ）、および／またはその部分的水解物、
所望により
(Ｅ)オルガノポリシロキサン、
(Ｆ)乳化剤、
(Ｇ)水、および
所望により
(Ｈ)さらなる物質、
を使用して製造される、有機ケイ素化合物の水性分散液を提供する。
本発明は、有機ケイ素化合物の水性分散液を製造する方法であって、
無機充填剤(Ｂ)、および式(Ｉ)の単位を含み、粘度が２５℃で５〜１００００００ｍＰａｓであるシロキサン（Ｃ）を混合することにより製造される、粘度が２５℃で１０〜１０００００００ｍＰａｓである混合物(Ａ)と、
式(II)のシラン(Ｄ)および／またはその部分的水解物、
所望により
(Ｅ)オルガノポリシロキサン、
(Ｆ)乳化剤、
(Ｇ)水および
所望により
(Ｈ)さらなる物質、
を混合することにより製造する、方法をさらに提供する。
発明の具体的説明
本発明の状況下では、用語「オルガノポリシロキサン」は、重合体状、オリゴマー状、および二量体シロキサンも含む。
本発明で使用する充填剤(Ｂ)の例は、沈殿シリカまたはヒュームドシリカ、二酸化チタンまたは酸化アルミニウムである。
本発明で使用する充填剤(Ｂ)は、疎水性または親水性でよく、充填剤(Ｂ)は好ましくは疎水性である。多くの公知の充填剤、特にシリカ、の疎水化方法がある。
充填剤(Ｂ)は、好ましくはシリカ、より好ましくは沈殿シリカ、またはヒュームドシリカを含む。
好ましくは、成分(Ｂ)は、ＢＥＴ表面積が２０〜１０００ｍ２／ｇ、より好ましくは５０〜８００ｍ ２ ／ｇ、特に１００〜４００ｍ ２ ／ｇである。
充填剤(Ｂ)は、粒子径が好ましくは１０μｍ未満、より好ましくは１０ｎｍ〜１μｍである。
充填剤(Ｂ)は、アグロメレートサイズが好ましくは１００μｍ未満、より好ましくは１００ｎｍ〜１０μｍである。
成分(Ｂ)として疎水性シリカを使用する場合、これは疎水化したシリカ、例えば市販の前処理したシリカでよい。しかし、疎水化は、混合物(Ａ)を製造する際にその場で行うこともできる。
親水性シリカのその場における疎水化は、公知の方法により、例えばシリカをシラザンと共に、所望により触媒を加えて、数時間１００〜２００℃に加熱することにより行うことができる。
成分(Ｂ)として使用するのが好ましい疎水性シリカは、炭素含有量が好ましくは０．１〜５．０重量％、特に０．５〜３重量％である。
成分(Ｂ)として使用するのが好ましい疎水性シリカは、独国特許出願公開第２１０７０８２号、３頁、段落２、に記載されているメタノール滴定試験により、疎水性度が３０を超える、より好ましくは５０を超える、特に５０〜７０である。
基Ｒの例は、アルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、１−ｎ−ブチル、２−ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシル基、ヘプチル基、例えばｎ−ヘプチル基、オクチル基、例えばｎ−オクチル基およびイソオクチル基、例えば２，２，４−トリメチルペンチル基、ノニル基、例えばｎ−ノニル基、デシル基、例えばｎ−デシル基、ドデシル基、例えばｎ−ドデシル基、オクタデシル基、例えばｎ−オクタデシル基、シクロアルキル基、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル基およびメチルシクロヘキシル基、アルケニル基、例えばビニル、１−プロペニルおよび２−プロペニル基、アリール基、例えばフェニル、ナフチル、アントリルおよびフェナントリル基、アルカリール基、例えばｏ−、ｍ−、ｐ−トリル基、キシリル基およびエチルフェニル基、およびアラルキル基、例えばベンジル基、およびα−およびβ−フェニルエチル基である。
置換された基Ｒの例は、ハロゲン原子により置換されたヒドロカルビル基、アミン基、グリシドキシ基またはメルカプト基、例えばトリフルオロプロピル基、アミノプロピル基、アミノエチルアミノプロピル基、グリシドキシプロピル基およびメルカプトプロピル基である。
好ましくは、基Ｒは、１〜１８個の炭素原子を有し、所望により酸素−または窒素−含有基により置換されたヒドロカルビル基、より好ましくは１〜１８個の炭素原子を有するアルキル基または６〜９個の炭素原子を有する芳香族ヒドロカルビル基、最も好ましくはメチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ドデシル、フェニルおよびエチルフェニル基、特に好ましくはメチル基である。
好ましくは、基Ｒ１は、水素原子または１〜４個の炭素原子を有し、所望によりオルガニルオキシ基により置換されたアルキル基、より好ましくは水素原子またはメチル、エチル、ｎ−ブチル、ｉ−プロピルおよび２−メトキシエチル基、特に水素原子またはメチルもしくはエチル基である。
本発明で使用する式(Ｉ)の単位を含むシロキサン(Ｃ)は、好ましくは式(I)の単位からなるシロキサン(Ｃ)、より好ましくは実質的に直鎖状オルガノポリシロキサン、特にトリオルガニルシリルまたはヒドロキシジオルガニルシリル末端基を有する実質的に直鎖状オルガノポリシロキサンを含んでなる。
本発明で使用する実質的に直鎖状のシロキサン(Ｃ)は、製造の結果として、分岐のモル比、すなわちＴおよび/またはＱ単位が、好ましくは１％まで、より好ましくは１０００ｐｐｍまでである。
本発明で使用するシロキサン(Ｃ)の例は、トリメチルシリル末端基を有するポリジメチルシロキサン、ビニルジメチルシリル末端基を有するポリジメチルシロキサン、およびヒドロキシジメチルシリル末端基を有するポリジメチルシロキサンである。
本発明で使用するシロキサン(Ｃ)は、粘度が２５℃で好ましくは５０〜５００００ｍＰａｓ、より好ましくは１００〜１００００ｍＰａｓである。
式(I)の単位を含む化合物は、市販されているか、または一般的な公知の化学的方法により製造できる。
本発明で使用する混合物(Ａ)は、充填剤(Ｂ)を、それぞれの場合に混合物（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは１〜６０重量部、より好ましくは１０〜５０重量部、特に１０〜３５重量部の量で含んでなる。
本発明で使用する混合物(Ａ)は、充填剤(Ｂ)およびシロキサン(Ｃ)と共に、５重量％までのさらなる成分、例えば製造に関連する不純物、例えば環状シロキサン、水および触媒の残留物、を含むことができるが、これは好ましくない。
本発明で使用する混合物(Ａ)の製造には、充填剤(Ｂ)をシロキサン(Ｃ)と、それ自体公知の方法により、例えばニーダー、デイソルバー、コロイドミル、で混合する。好ましくは、充填剤(Ｂ)をまずシロキサン(Ｃ)の一部と強く混合し、次いでさらなるシロキサン(Ｃ)で希釈する。
混合物(Ａ)の製造は、好ましくは０〜２５０℃、より好ましくは５〜２００℃、特に２０〜１５０℃の温度で、周囲雰囲気の圧力で、すなわち９００〜１１００ｈＰａで行う。
混合物(Ａ)を製造する際、好ましくは３．０ｋＪ／ｋｇを超える、より好ましくは８ｋＪ／ｋｇを超える、特に１０〜１５０ｋＪ／ｋｇの混合エネルギーを導入する。
本発明で使用する混合物(Ａ)は、好ましくは均質な分散液である。
混合物(Ａ)は、粘度が２５℃で好ましくは１０００〜１００００００ｍＰａｓ、より好ましくは１００００〜２０００００ｍＰａｓである。
好ましくは、本発明で使用する分散剤（Ａ）は、ＤＩＮ ５４４５８、０１／２０１０の原案による振動粘度測定により決定した粘弾性を有する。これらの分散液（Ａ）の振幅１％および角振動数１００／ｓおよび温度２５℃における貯蔵弾性率は、好ましくは１０Ｐａを超え、より好ましくは１０Ｐａ〜１００００Ｐａ、特に２００Ｐａ〜１０００Ｐａである。これらの分散液（Ａ）は、ＤＩＮ ５４４５８により測定する降伏点が、好ましくは少なくとも１Ｐａ、より好ましくは１Ｐａ〜１０００Ｐａ、特に５Ｐａ〜５０Ｐａである。
本発明で使用する混合物（Ａ）は、公知の方法、例えばニーディングにより、またはディソルバースターラー、ローター−ステーターホモジナイザーまたはロールニーダーで製造することができる。好ましい手順では、シロキサン（Ｃ）の一部を、先ず充填剤（Ｂ）全部と混合し、次いで混合物をさらなるシロキサン（Ｃ）と段階的に混合する。使用する充填剤（Ｂ）が親水性シリカである場合、混合物（Ａ）の製造の途中で、その場で疎水化する必要がある。その場における疎水化の方法は、例えばシリコーンゴムまたはシリコーン消泡剤の製造方法から、当業者には公知である。成分（Ｂ）の疎水化は、好ましくは１００〜１８０℃に成分（Ｃ）と共に単純に加熱することにより行うことができ、その場合、例えば反応を、触媒、例えば酸または塩基、例えばＫＯＨで促進することができる。しかし、低分子量疎水化剤、例えば環状シロキサン、例えばオクタメチルシクロテトラシロキサン、シラン、例えばジメチルジクロロシランまたはジメチルジメトキシシラン、またはシラザン、例えばヘキサメチルジシラザン、を使用するのが好ましい。その場の疎水化をヘキサメチルジシラザンで、ヘキサメチルジシラザン１部あたり０．１〜１部の水の存在下で、好ましくは１００〜２００℃、特に１２０〜１８０℃で、２０分間〜１０時間、特に１〜５時間、行うのが特に好ましい。
本発明の分散液は、混合物（Ａ）を、それぞれの場合に分散液の総量に対して好ましくは２〜４０重量％、より好ましくは１０〜２５重量％の量で含んでなる。
基Ｒ３の例は、Ｒ基に関して特定した、少なくとも4個の炭素原子を有する基である。
置換された基Ｒ３の例は、アミノエチルアミノプロピル、グリシドキシプロピルおよびメタクリロイルプロピル基である。
基Ｒ３は、好ましくは６〜８個の炭素原子を有し、Ｏ、Ｎ、ＳまたはＣ＝Ｏにより中断されていてよく、所望によりヒドロキシル、アルコキシ、エステル、エポキシまたはアミノ基により置換されたヒドロカルビル基、より好ましくはアルキル基、特にｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基およびイソオクチル基、例えば２，２，４−トリメチルペンチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基およびオクタデシル基を含んでなる。
基Ｒ４は、好ましくは所望により置換された、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基、より好ましくはメチル、エチル、ｎ−ブチル、２−メトキシエチルまたはイソプロピル基、特にエチル基を含んでなる。
好ましくは、基Ｒ２は、１〜３個の炭素原子を有するアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルおよびイソプロピル基、より好ましくはメチル基を含んでなる。
本発明で使用するシラン(Ｄ)の例は、イソブチルトリエトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルメチルジエトキシシラン、n-オクチルトリメトキシシラン、n-オクチルトリエトキシシラン、n-オクチルトリブトキシシラン、イソオクチルトリエトキシシラン、n-デシルトリエトキシシラン、ドデシルメチルジメトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、オクタデシルメチルジメトキシシラン、オクタデシルメチルジエトキシシランおよびオクタデシルトリエトキシシランおよびアミノエチルアミノプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルトリメトキシシランおよびメタクリロイルプロピルトリエトキシシランである。
好ましくは、成分（Ｄ）は、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシランおよびイソオクチルトリエトキシシラン、およびそれらの部分的水解物を含んでなり、特に好ましいのは、ｎ−オクチルトリエトキシシランおよびイソオクチルトリエトキシシラン、およびそれらの部分的水解物である。
成分(Ｄ)が部分的水解物を含んでなる場合、２〜１０個のケイ素原子を有する部分的水解物が好ましい。部分的水解物は、通常、式（II）のシラン中の基ＯＲ４の一部を、水または水蒸気との反応により除去し、ケイ素に結合したＯＨ基を形成することにより、形成される。これらのＯＨ基は、水が除去されて縮合し、シロキサン結合を与え、ＯＨ基並びにＯＲ４基も含むことができるオリゴマーを生じる。式（II）のシランの部分的水解物は、式（II）のシラン中の不純物としても存在し得る。
本発明の分散液は、成分(Ｄ)を、それぞれの場合に混合物（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは５〜１５００重量部、より好ましくは１００〜５００重量部の量で含んでなる。
本発明で使用するシロキサン(Ｅ)は、従来公知のいかなる望ましい直鎖状、環状および分岐鎖状シロキサンであってよい。
シロキサン(Ｅ)は、好ましくは式(I)の単位からなるシロキサンである。
所望により使用される直鎖状シロキサン(Ｅ)の例は、トリオルガノシリルオキシ基末端を有するポリジメチルシロキサンであり、ヒドロキシル基および/またはアミノアルキル基を含むことができ、シロキサン(Ｃ)に関して挙げた例も含まれる。
使用する直鎖状シロキサン(Ｅ)はすべて、粘度が２５℃で好ましくは１０〜１００００００ｍＰａｓ、より好ましくは３０〜１００００ｍＰａｓである。
より詳しくは、使用する直鎖状シロキサン(Ｅ)は、ヒドロキシル基末端を有し、粘度が２０〜２００ｍＰａｓであるポリジメチルシロキサン、または粘度が１００〜５０００ｍＰａｓであるアミノエチルアミノプロピル基を有するポリジメチルシロキサンである。
所望により使用する環状シロキサン(Ｅ)の例は、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンおよびドデカメチルシクロヘキサシロキサンである。
所望により使用する分岐鎖状シロキサン(Ｅ)の例は、例えばメチルトリクロロシランシランおよび所望により他のアルキルトリクロロシランまたはフェニルトリクロロシランと、水中エタノールの反応により調製でき、実験式、例えば、
ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）０．８Ｏ１．１、または
Ｃ６Ｈ５Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）０．７Ｏ１．２
を満足する、アルコキシ基を有するオルガノポリシロキサン、メチルトリエトキシシランおよびイソオクチルトリエトキシシランから加水分解/縮合により得られ、例えば、式：（［ＭｅＳｉＯ３／２］０．３−０．５［ＩＯＳｉＯ３／２］０．０２−０．２［ＥｔＯ１／２］０．３−０．６）ｘ（式中、Ｍｅはメチル基であり、ＩＯはイソオクチル基であり、Ｅｔはエチル基であり、ｘは縮合度である。）を満足するオリゴマー状シロキサン、および
式(I)の単位の少なくとも７０％でａ＝１であり、式（I）の他の単位でａ＝２である式（I）の単位から形成されたシリコーン樹脂、好ましくは式（I）の単位の少なくとも８０％で、特に式（Ｉ）の単位の少なくとも９０％でａ＝１であり、アルコキシ基の含有量が１〜６重量％であり、ヒドロキシル基の含有量が０．２〜１重量％であるシリコーン樹脂である。
使用する全ての分岐鎖状シロキサン（Ｅ）は、２５℃および１０００ｈＰａで固体であるか、または粘度が２５℃で１０〜１００００００ｍＰａｓ、より好ましくは１００〜１０００００ｍＰａｓ、特に１０００〜５００００ｍＰａｓであるか、または重量平均モル質量Ｍｗが好ましくは１０００〜１０００００ｇ／ｍｏｌ、より好ましくは２０００〜１００００である。
本発明で使用する全てのシリコーン樹脂（Ｅ）は、２３℃および１０００ｈＰａで固体または液体であり、液体シリコーン樹脂（Ｅ）が好ましい。
好ましくは、使用する全てのシロキサン（Ｅ）はシリコーン樹脂であり、高粘度シリコーン樹脂と低粘度シリコーン樹脂またはシリコーン油の混合物が特に好ましい。これらの混合物は、粘度が２５℃で好ましくは１００〜１０００００ｍＰａｓ、特に１０００〜１００００ｍＰａｓである。
本発明の分散液がシロキサン(Ｅ)を含んでなる場合、その量は、それぞれの場合に混合物（Ａ）の１００重量部に対して、好ましくは５〜１０００重量部、より好ましくは５０〜２００重量部である。
使用する乳化剤（Ｆ）は、シロキサン分散液の製造にこれまで使用されている全ての乳化剤でよい。使用する乳化剤（Ｆ）は、陰イオン性、非イオン性、陽イオン性および両性界面活性剤、またはそれらの混合物でよい。あるいは、乳化特性を有する重合体状化合物、例えばポリビニルアルコール、特に加水分解レベルが７５〜９５％であるポリビニルアルコールを使用することも可能である。
使用する全ての成分(Ｆ)は、非イオン性乳化剤または非イオン発生型乳化剤とイオン性乳化剤の混合物を含んでなる。
本発明で使用する非イオン性乳化剤（Ｆ）の例は、ソルビタン脂肪酸エステル、エトキシル化されたソルビタン脂肪酸エステル、エトキシル化された脂肪酸、エトキシル化された１０〜２０個の炭素原子を有する直鎖状または分岐鎖状アルコール、エトキシル化されたアルキルフェノール、ペンタエリトリチル脂肪酸エステル、グリセリルエステルおよびアルキルポリグリコシドである。
好ましくは、非イオン性乳化剤(Ｆ)は、ソルビタン脂肪酸エステル、エトキシル化されたソルビタン脂肪酸エステル、エトキシル化された脂肪酸エステル、エトキシル化された１０〜２０個の炭素原子を有する直鎖状または分岐鎖状のアルコールおよびエトキシル化されたトリグリセリドである。
好ましくは、本発明の分散液は、エトキシル化されたアルキルフェノールを含まないが、これらは環境と相溶性が無いことが分かっているためである。
成分(Ｆ)として非イオン性乳化剤を使用する場合、それらは、ただ１種類の非イオン発生型乳化剤または複数の非イオン発生型乳化剤の混合物である。好ましくは、少なくとも一種の非イオン性（Ｆ）は、ＨＬＢ値が１２以上、特に１４以上である。
成分(Ｆ)として、少なくとも一種の乳化剤が１２以上のＨＬＢ値を有する非イオン発生型乳化剤の混合物を使用するのが好ましい。この場合、乳化剤混合物（Ｆ）中の、１２以上のＨＬＢ値を有する非イオン発生型乳化剤の比率は、好ましくは少なくとも３０重量％である。
ＨＬＢ値は、乳化剤中の疎水性基と親水性基の間の平衡を表す。ＨＬＢ値の定義およびその決定方法は、常識であり、例えばJournal of Colloid and Interface Science 298 (2006) 441-450およびその中で引用されている文献中に記載されている。
使用する陰イオン性乳化剤(Ｆ)は、例えばアルキルスルホネート、アルキルサルフェートおよびアルキルホスホネートでよい。
陽イオン性乳化剤(Ｆ)の例は、全て公知の第四級アンモニウム化合物であり、少なくとも一個の置換された、または置換されていない、少なくとも10個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を有し、例えばドデシルジメチルアンモニウムクロライド、テトラデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、ベヘニルトリメチルアンモニウムブロマイド、ドデシルベンジルジメチルアンモニウムクロライドおよびベンジルトリメチルアンモニウムクロライドがある。
成分(Ｆ)として陽イオン性乳化剤を使用する場合、これらは、好ましくはアリール-またはアルキルトリメチルアンモニウム塩、例えばステアリルトリメチルアンモニウムクロライドおよびセチルトリメチルアンモニウムクロライド、より好ましくはベンジルトリアルキルアンモニウム塩、特にトリメチルベンジルアンモニウムクロライドおよびトリメチルベンジルアンモニウムメトサルフェートである。
さらなる例は、全て公知の第四級イミダゾリニウム化合物であり、少なくとも一個の置換された、または置換されていない、少なくとも１０個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を有し、例えば１−メチル−２−ステアリル−３−ステアリルアミドエチルイミダゾリニウムメトサルフェート、１−メチル−２−ノルステアリル−３−ステアリルアミドエチルイミダゾリニウムメトサルフェート、１−メチル−２−オレイル−３−オレイルアミドエチルイミダゾリニウムメトサルフェート、１−メチル−２−ステアリル−３−メチルイミダゾリニウムメトサルフェート、１−メチル−２−ベヘニル−３−メチルイミダゾリニウムメトサルフェートおよび１−メチル−２−ドデシル−３−メチルイミダゾリニウムメトサルフェートがある。
本発明による分散液の製造には、成分(Ｆ)を、それぞれの場合に分散液の総量に対して好ましくは０．１〜１５重量％、より好ましくは０．３〜８重量％の量で使用する。
本発明により使用する水(Ｇ)は、どのような種類の水でも含んでなり、例えば天然水、例えば雨水、地下水、湖の水、河川の水および海水、化学的水、例えば脱塩水、蒸留水または(複数回)再蒸留した水、医療用または製薬用の水、例えば精製水（精製水、Ｐｈａｒｍ． Ｅｕｒ． ３）、薬用脱イオン水、薬用蒸留水、薬用再蒸留水、薬用注射水または薬用保存水、独国連邦共和国の通達による飲料水および鉱水である。
本発明で使用する水(Ｇ)は、好ましくは導電率が１０μＳ／ｃｍ未満、特に２μＳ／ｃｍ未満である。
本発明で製造する分散液は、成分(Ｇ)を、それぞれの場合に分散液の総量に対して好ましくは１０〜９５重量％、より好ましくは３０〜６０重量％の量で含んでなる。
本発明の一変形では、成分(Ｇ)は、３０％未満の程度まで存在し、垂直または頭上の水平な面積の含浸を行うのに特に有利な、堅いクリーム状製品が得られるようにする。これらの本発明のクリームは、ＤＩＮ ５４４５８により振動粘度測定により、少なくとも５Ｐａ、特に少なくとも１０Ｐａの降伏点を有するのが特徴である。
本発明で使用する他の全ての成分(Ｈ)は、水性分散液にこれまで使用されている全ての添加剤でよく、例えば増粘剤、成分(Ｃ)、(Ｄ)および(Ｅ)とは異なった有機ケイ素化合物、触媒、ｐＨ調節物質、香料、染料、凍結防止剤、例えばグリコールおよびグリコールエーテル、および防腐剤がある。
所望により使用する増粘剤(Ｈ)の例は、ポリアクリル酸、ポリアクリレート、セルロースエーテル、例えばカルボキシメチルセルロースおよびヒドロキシエチルセルロース、天然ガム、例えばキサンタンガム、およびポリウレタンである。
所望により使用する有機ケイ素化合物(Ｈ)の例は、式(II)のｃ＝0であるシラン、例えばテトラエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシランおよびアミノプロピルメチルジメトキシシランである。
所望により使用する触媒(Ｈ)の例は、アミンおよび有機金属化合物、例えばジブチルスズジラウレートである。
所望により使用するｐＨ調節物質(Ｈ)の例は、アミノシラン並びにアミンも、例えばモノエタノールアミン、またはアルカリ金属水酸化物である。必要であれば、ｐＨの長期間にわたる一定性を確保するために、所望のｐＨに応じて、緩衝系、例えば酢酸の塩、リン酸の塩、クエン酸の塩を、それぞれの場合に遊離酸との組合せで使用することができる。
好ましくは、使用する全ての成分(Ｈ)は、アミンおよびアミノシラン、より好ましくはトリエタノールアミンを含んでなる。
本発明の分散液が成分(Ｈ)を使用して製造される場合、その量は、それぞれの場合に分散液の総量に対して、好ましくは０．０１〜５重量％、より好ましくは０．１〜０．５重量％である。本発明の分散液は、好ましくは成分（Ｈ）を含んでなる。
本発明の分散液は、好ましくは水と混和しない溶剤を含まないか、または水と混和しない溶剤を、分散液の総量に対して１重量％以下の量で含む。
本発明の状況下では「水と混和しない溶剤」は、２０℃および１０１．３２５ｋＰａの圧力で１ｇ／ｌ以下の量で水に可溶な全ての溶剤を意味するものとする。
より詳しくは、これらの水と混和しない溶剤は、２０℃で、蒸気圧が０．１ｋＰａ以上である。
そのような水と混和しない溶剤の例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンおよびパラフィン系炭化水素混合物である。
好ましくは本発明の分散液は、上記の成分(Ａ)〜(Ｈ)以外の成分を含まない。
本発明により使用する成分は、それぞれ1種類のそのような成分または特定成分の少なくとも２種類の混合物でよい。
本発明の水性分散液は、それ自体公知の方法により製造できる。典型的には、製造は、全ての成分を、1〜50℃の温度で単純に撹拌し、所望により続いて、例えばジェットデイスパーサー、ローター−ステーターホモジナイザーで好ましくは５〜４０ｍ／ｓの周速度で、コロイドミルまたは均質化圧力が好ましくは５０〜２０００バールの高圧ホモジナイザーで均質化する。
本発明による方法の好ましい実施態様では、成分(Ｃ)および(Ｂ)を好適なミキサー、例えばニーダー、で均質に混合する。次いで、この混合物(Ａ)に、成分(Ｄ)を加え、所望により成分(Ｅ)および所望により成分(Ｈ)を、成分(Ｆ)および(Ｇ)の混合物に、様々な混合順序で加える。使用する成分は、好ましくは高速攪拌機、例えばディソルバーディスクまたはローター-ステーターホモジナイザーで混合する。これに続いて、好ましくは高圧ホモジナイザーによる均質化を行う。
本発明による方法の特に好ましい実施態様では、成分(Ｆ)および成分(Ｇ)の一部を最初に装填し、成分(Ａ)、(Ｄ)、所望により(Ｅ)および所望により(Ｈ)を連続的に、または一緒に加え、均質に混合し、次いで成分(Ｇ)の残りの量を加え、混合し、均質化する。
高速ホモジナイザーを包含する均質化技術は、常識である。これに関して、例えば、Chemie Ingenieur Technik, 74(7), 901-909 2002を参照する。
本発明の分散液は、好ましくは乳状の、白色〜ベージュ色の液体である。
本発明の分散液は、ｐＨが好ましくは５〜９、特に６〜８である。
本発明の分散液は、不揮発性の化合物（例えばＡＳＴＭ Ｄ ５０９５により決定）比率が好ましくは１０〜９０重量％、より好ましくは２０〜７０重量％である。
本発明の分散液は、体積−平均粒子径が好ましくは０．１〜１０μｍ、特に０．３〜１．５μｍである。
本発明による分散液の分散度は、好ましくは０．５〜５、より好ましくは１．５〜３である。この値は、（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０から計算し、式中、Ｄｘは、ＩＳＯ １３３２０に従い、Ｆｒａｕｎｈｏｆｅｒ回折の原理により測定して、内側相の体積のｘ％が粒子中でこの粒子径以下である粒子径を代表する。
本発明の分散液は、粘度が、それぞれの場合に２５℃で測定して、好ましくは１００００ｍＰａｓ未満、特に１０００ｍＰａｓ未満である。
本発明の分散液は、貯蔵安定性が非常に高く、全く変色を引き起こさないという利点がある。
本発明の分散液には、安価に製造できるという利点がある。
本発明の分散液は、取り扱い易いので有利である。
本発明の分散液は、希釈し易すく、希釈した形態でも非常に高い貯蔵安定性を有するので有利である。
本発明の分散液を製造する方法には、容易に実行でき、実験室から工業的規模までの広い生産量範囲に使用できるという利点がある。
本発明の分散液は、非常に良好で、安定した含浸作用、および様々な基材に対する非常に良好な浸透特性を示すという利点がある。
本発明の水性分散液は、これまで有機ケイ素化合物を基剤とする分散液が使用されている全ての目的に使用できる。これらの分散液は、例えば建築材料保護組成物として、より詳しくは、様々な鉱物または有機基材の疎水化に優れた適性を有する。そのような分散液が使用される様式は、当業者には公知である。
本発明は、基材の処理方法であって、基材を本発明の分散液と接触させることを特徴とする、方法をさらに提供する。
本発明の分散液で処理できる基材の例は、鉱物基材、例えばレンガ、モルタル、タイル、石灰石、大理石、砂−石灰レンガ、砂岩、花こう岩、斑岩、コンクリートおよび多孔質コンクリート、有機物質、例えば木材、紙、厚紙、織物、合成および天然繊維である。
一般的に、本発明の方法における分散液は、基材の毛管中に浸透し、その中で乾燥する。
好ましくは、本発明の方法では、鉱物基材および木材を使用する。
本発明の処理は、好ましくは含浸、コーティング、下塗りおよび注入、より好ましくは含浸が関与し、その場合、より詳しくは、基材を分散液と接触させ、分散液が基剤の中に部分的または完全に浸透する。
本発明の含浸は、好ましくは疎水性含浸であり、表面の含浸として、または注入またはバルク疎水化として行うことができる。
本発明により製造した分散液で行うコンクリートのバルク疎水化により、例えば、ビード−オフ効果が改良されているので、優れた離型を行うことができる。
本発明の疎水化は、基材の吸水性を劇的に下げ、これが熱的伝導性を下げるが、氷結および融解サイクルまたは塩の影響による、もしくは木材の場合、腐敗または菌類の侵入による建築材料の破壊も防止する。従って、このように処理した材料の本来の価値が保証されるのみならず、例えば暖房または空調におけるエネルギー消費も低く抑えられる。
本発明の含浸用途に関して、本発明の分散液を基材の表面に、これまで配分するのに公知の標準的な方法により、例えば塗装、スプレー、ナイフコーティング、ローリング、流し込み、平滑化、浸漬およびロールコーティングにより塗布する。レンガ処理には、処方物がレンガの中に十分に浸透する必要がある。従って、レンガ処理には低粘度分散液が好ましい。レンガの中への浸透特性は、材料特性であるが、浸透性は、高圧でレンガの中へ分散液を送り込むことにより、人工的に促進される。
本発明の分散液は、有機分散液および顔料との組合せで塗料処方物として、これらの塗料に疎水性を付与することにも使用できる。この用途は、有機フッ素重合体分散液との組合せで行うことができ、例えば撥水性効果のみならず、油および汚れをはじく効果が望ましい場合、例えば落書きによる建物の損傷を防止することにも使用できる。
本発明の方法では、基材および意図する効果により、本発明の分散液を濃縮形態で、または水で希釈して塗布することができる。本発明の塗布を希釈した形態で行う場合、塗布する分散液中の成分（Ａ）の含有量は、好ましくは２〜３５重量％、特に５〜２０重量％である。
基材の処理方法は、効率的で安価であるという利点があり、基材は、水の影響から長期間保護される。
下記の例では、部数および百分率に関する全ての数値は、他に指示が無い限り、重量で表す。他に指示が無い限り、下記の例は、周囲の圧力、すなわち約１０００ｈＰａで、室温で、すなわち約２０℃または追加の加熱または冷却を行わずに、室温で反応物の組合せにより確立される温度で行う。
品質および安定性の試験には、エマルションの下記の試験を行った。
粒子径測定（Ｄ［４，３］＝体積−平均粒子径）を、Malvern Mastersizer X (Malvern Instruments GmbH, Herrenberg, 独国、測定原理：ISO 13320によるFraunhofer回折、で行った。
遠心分離（毎分４０００回転で１時間、これは重力の２５００倍の応力に相当）する際の安定性、水または油堆積の目視評価、または百分率の推定によるエマルションのクリーム化。
閉鎖した容器中で、５０℃で１４日間加熱貯蔵する際の安定性、粒子径測定および水または油堆積の目視査定、または定量２９Ｓｉ ＮＭＲ分析により、加熱貯蔵前の比率と比較して、シランおよびシロキサン中のケイ素の総計に基づいて、アルキルトリアルコキシシランのモル比の、百分率の推定および測定によるエマルションのクリーム化。
Ｍｅは、以下、メチル基を意味するものとする。
実施例１
シロキサンおよび疎水性充填剤の混合物の製造(分散液Ａ１)
ジメチルビニル末端基を有し、粘度１０００ｍＰａｓのポリジメチルシロキサン１００部、およびヘキサメチルジシラザン処理した、ＢＥＴ表面積１３０ｍ ２ ／ｇ、炭素含有量２．１％およびメタノール滴定による疎水性度６２を有するシリカ９５部を、ニーダー中で混合物が均質になるまで混合した。この混合物を、同じニーダー中で、ビニルジメチル末端基を有する、粘度１０００ｍＰａｓのポリジメチルシロキサン１００部と均質に混合した。混合物は、粘度が７３０００ｍＰａｓ（ブルックフィールド粘度計）であった。１００／ｓおよび振幅１％における貯蔵弾性率は５９０Ｐａであり、降伏点は９Ｐａ（ＤＩＮ ５４４５８により測定）であった。
実施例２
シロキサンおよび親水性充填剤の混合物の、その場における疎水化による製造(分散液Ａ２)
トリメチル末端基を有し、粘度１５００ｍＰａｓポリジメチルシロキサン１００部、およびＢＥＴ表面積２００ｍ ２ ／ｇを有する親水性シリカ７０部を、ニーダー中、窒素雰囲気下で、混合物が均質になるまで混合した。続いて、ヘキサメチルジシラザン２．５部および水１部を混合し、混合物を１５０℃で２時間加熱し、９０℃に冷却し、さらにヘキサメチルジシラザン８部、およびトリメチル末端基を有し、粘度１５００ｍＰａｓのポリジメチルシロキサン７４部を加え、均一に混合し、４時間加熱した。こうして得られた混合物は、粘度が９８０００ｍＰａｓ（ブルックフィールド粘度計）であった。１００／ｓおよび振幅１％における貯蔵弾性率は、７８０Ｐａであり、降伏点は１３Ｐａ（ＤＩＮ ５４４５８により測定）であった。
実施例３
５エチレングリコール基を有するエトキシル化されたイソトリデシルアルコール（ＨＬＢ＝１１．２、Ｌｕｔｅｎｓｏｌ ＴＯ ５の名称でＢＡＳＦ ＳＥ、Ｌｕｄｗｉｇｓｆａｆｅｎ、独国から入手）０．７５部、および２００エチレングリコール基を有するエトキシル化されたひまし油（ＨＬＢ＝１８．１、Ａｔｌａｓ Ｇ１３００の名称でＣｒｏｄａ ＧｍｂＨ， Ｎｅｔｔｅｔａｌ、独国から入手） の４０％水溶液１．８７５部を混合した。この混合物に、３分以内で、イソオクチルトリエトキシシラン３２部およびアミノプロピルトリエトキシシラン０．２部を加え、混合物をＵｌｔｒａ−Ｔｕｒｒａｘ（登録商標）Ｔ５０（ＩＫＡ（登録商標）−Ｗｅｒｋｅ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ， ＫＧ、Ｓｔａｕｆｅｎ， 独国）で４０００／ＴＰＭでさらに３分間撹拌した。２分間以内に、１５部の分散液Ａ１を加え、混合物をさらに２分間均質化した。エマルションを精製水４５部で希釈し、セチルトリメチルアンモニウムクロライド（Ｇｅｎａｍｉｎ ＣＴＡＣの名称でＣｌａｒｉａｎｔ ＧｍｂＨから入手）０．６３部およびＡｃｔｉｃｉｄｅ ＢＸ （Ｎ）（防腐剤、Ｔｈｏｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨ Ｓｐｅｙｅｒから入手）０．２部で保存した。このエマルションに、さらに、アミノ基を含み、粘度５００ｍＰａｓおよびアミン価０．１５ｍｅｑ／ｇを有するポリジメチルシロキサンの５０％水性エマルション（Ｗａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ， Ｍｉｎｉｃｈ、独国からＳＩＬＲＥＳ（登録商標）ＢＳ １３０６の名称で入手）４部を加えた。この水希釈性水中油エマルションの粒子径（平均体積配分）は７．０μｍであった。このエマルションを高圧ホモジナイザー（ＡＰＶ ２０００， Ｉｎｖｅｎｓｙｓ ＡＰＶ Ｕｎｎａ）で５００バールで均質化した。体積平均粒子径が０．９１μｍである流れやすいエマルションが得られる。
こうして得られたエマルションを分析し、結果を表1に示す。
実施例４
５エチレングリコール基を有し、ＨＬＢ値が１１．２であるエトキシル化されたイソトリデシルアルコール（Ｌｕｔｅｎｓｏｌ ＴＯ ５の名称でＢＡＳＦ ＳＥ、Ｌｕｄｗｉｇｓｆａｆｅｎ、独国から市販）０．７５部、および２００エチレングリコール基を有するエトキシル化されたひまし油（ＨＬＢ＝１８．１、Ａｔｌａｓ Ｇ１３００の名称でＣｒｏｄａ ＧｍｂＨ， Ｎｅｔｔｅｔａｌ、独国から入手）の４０％水溶液１．８７５部を混合した。この混合物に、３分以内で、イソオクチルトリエトキシシラン３０部、ＭｅＳｉＯ３／２単位９０ｍｏｌ％およびＭｅ２ＳｉＯ２／２単位１０ｍｏｌ％からなり、重量平均モル質量Ｍｗ６７００ｇ／ｍｏｌ、粘度３３８０ｍＰａｓおよびエトキシ基含有量３．１重量％およびヒドロキシル基含有量０．５７重量％であるメチルシリコーン樹脂７部、およびアミノプロピルトリエトキシシラン０．２部を加え、混合物をＵｌｔｒａ−Ｔｕｒｒａｘ（登録商標）Ｔ５０（ＩＫＡ（登録商標）−Ｗｅｒｋｅ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ， ＫＧ、Ｓｔａｕｆｅｎ， 独国）で４０００／ＴＰＭでさらに３分間撹拌した。２分間以内に、１０部の分散液Ａ２を加え、混合物をさらに２分間均質化した。エマルションを精製水４６部で希釈し、防腐剤（Ａｃｔｉｃｉｄｅ ＢＸ （Ｎ）の名称でＴｈｏｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨ Ｓｐｅｙｅｒ、独国から入手）０．２部で保存した。このエマルションに、さらに、アミノ基を含み、粘度５００ｍＰａｓおよびアミン価０．１５ｍｅｑ／ｇを有するポリジメチルシロキサンの５０％水性エマルション（Ｗａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ， Ｍｉｎｉｃｈ、独国からＳＩＬＲＥＳ（登録商標）ＢＳ １３０６の名称で入手）４部を加えた。この水希釈性水中油エマルションの粒子径（平均体積配分）は５．２μｍであった。このエマルションを高圧ホモジナイザー（ＡＰＶ ２０００， Ｉｎｖｅｎｓｙｓ ＡＰＶ， Ｕｎｎａ、独国）で５００バールで均質化した。体積平均粒子径が０．９２μｍである流れやすいエマルションが得られる。
こうして得られたエマルションを分析し、結果を表1に示す。
実施例５
実施例３に記載する製法を繰り返すが、セチルトリメチルアンモニウムクロライドは加えなかった。高圧均質化の前でエマルションは体積平均粒子径が４．２μｍであり、その後では１．１３μｍであった。
こうして得られたエマルションを分析し、結果を表1に示す。
実施例６
５エチレングリコール基を有し、ＨＬＢ値が１１．２であるエトキシル化されたイソトリデシルアルコール（Ｌｕｔｅｎｓｏｌ ＴＯ ５の名称でＢＡＳＦ ＳＥ、Ｌｕｄｗｉｇｓｆａｆｅｎ、独国から市販）２６ｋｇ、および２００エチレングリコール基を有するエトキシル化されたひまし油（ＨＬＢ＝１８．１、Ａｔｌａｓ Ｇ１３００の名称でＣｒｏｄａ ＧｍｂＨ， Ｎｅｔｔｅｔａｌ、独国から入手） の５０％水溶液４８ｋｇを混合した。この混合物に、１０分以内で、イソオクチルトリエトキシシラン１０５０ｋｇ、およびアミノプロピルトリエトキシシラン６．４ｋｇを加え、混合物を、Ｅｋａｔｏ−Ｕｎｉｍｉｘから市販のローター−ステーターホモジナイザーによる３．５ｍ３攪拌機システムでさらに１０分間混合した。２０分間以内に、４８０ｋｇの分散液Ａ１を加え、混合物をさらに２０分間均質化した。エマルションを精製水１３２６ｋｇで段階的に希釈した。セチルトリメチルアンモニウムクロライド３０％溶液（Ｇｅｎａｍｉｎ ＣＴＡＣの名称でＣｌａｒｉａｎｔ ＧｍｂＨから入手）６７ｋｇおよび防腐剤（Ａｃｔｉｃｉｄｅ ＢＸ （Ｎ）の名称でＴｈｏｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＧｍｂＨ Ｓｐｅｙｅｒ、独国から入手）５ｋｇを加えた。このエマルションに、さらに、アミノ基を含み、粘度５００ｍＰａｓおよびアミン価０．１５ｍｅｑ／ｇを有するポリジメチルシロキサンの５０％水性エマルション（Ｗａｃｋｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ， Ｍｉｎｉｃｈ、独国からＳＩＬＲＥＳ（登録商標）ＢＳ １３０６の名称で入手）１９１ｋｇを加えた。この水希釈性水中油エマルションの粒子径（平均体積配分）は４．７１μｍであった。このエマルションを撹拌タンクに移し、次いで高圧ホモジナイザー（ＡＰＶ Ｇａｕｌｉｎ ＧｍｂＨ， Ｍｏｄｅｌ ２６４ ＭＣ １５−１０ＴＢＳ）で２５０バールで均質化し、この途中で、第二タンクに移した。体積平均粒子径が１．００μｍである流れやすいエマルションが得られる。
こうして得られたエマルションを分析し、結果を表１に示す。
Figure 0005833221
比較例１
実施例６に記載する製法を繰り返すが、Ａ１の混合物４８０ｋｇではなく、トリメチルシリル末端基を有し、粘度が１０００ｍＰａｓであるポリジメチルシロキサン３２０ｋｇ、およびヘキサメチルジシラザン処理した、ＢＥＴ表面積１３０ｍ ２ ／ｇ、炭素含有量が２．１％、およびメタノール滴定による疎水性６２であるシリカ１６０ｋｇを順次加え、シランと混合した。エマルションが水で均質に希釈できなかったので、高圧均質化の前に粒子径測定は行わなかった。一定撹拌にも関わらず、エマルションは、第一貯蔵タンクですでに分離し、高圧ホモジナイザーで均質化を試みた後でも、不均質な外観を示した。従って、それ以上の試験は不可能であった。
実施例７ 性能試験
実施例３〜６の分散液をモルタルディスクの含浸に使用した。モルタルディスクを製造するために、標準砂（Ｎｏｒｍｅｎｓａｎｄ ＧｍｂＨ， ５９２６９ Ｂｅｃｋｕｍ （Ｍｕｎｓｔｅｒの近く）、独国）２７００ｇ、ＰＺ ４５０ Ｚ白色セメント（Ｄｙｃｋｅｒｈｏｆｆ Ｚｅｍｅｎｔｗｅｒｋｅ ＡＧ， ６５２０３ Ｗｉｅｓｂａｄｅｎ、独国） ９００ｇ、および水道水４５０ｇを混合した。続いて、混合物を、重合体フィルム上でプラスチックリング（直径８．５ｃｍ、高さ２ｃｍ）中に注ぎ込んだ。圧迫し、空気の取り込みを除去するために、パレットナイフを材料中に頻繁に差し込み、次いでパレットナイフを使用して過剰のコンクリート混合物を除去した。試料をフィルムで覆い、エッジできれいにした。使用前に、試料を標準的な気象条件下（２３℃、５０％相対空気湿度）で、少なくとも３箇月保存する必要があった。使用の直前に、試料の最上部側をサンド−ブラストしてセメントの内側層を除去した。
含浸前に、こうして得たモルタルディスクを脱イオン水中に２分間浸漬し、フィルム中に包装した状態で室温で１２時間保存した。続いて、これらのディスクを、包装から取り出した状態で、標準的気象条件下（２３／５０）に、２時間保存し、出発重量（Ｗ１）を測定し、含浸させた。これには、試料を本発明の分散液中に１分間浸漬（液体の下約５cm）した。実施例３および４による分散液は濃縮形態で含浸に使用し、実施例５による分散液は水で１：４に希釈した。ここで試料を再秤量（Ｗ２）し、差（Ｗ２−Ｗ１）を使用して含浸媒体吸収を決定した。疎水化効果を表すために、試料を標準的気象条件下（２３／５０）で１４日間保存した。次いで、試料を再秤量（Ｗ５）し、脱イオン水中に２４時間おいた（水の下５ｃｍ）。吸水性は、秤量（Ｗ６）により決定し、吸水百分率を（Ｗ６−Ｗ５）／Ｗ５ｘ１００により計算した。
ビード−オフ効果を、試料に水をスプレーした後、下記の尺度１−５を使用して目視により評価した。
１＝非常に良い、すなわち建築材料表面が水で濡れず、建築材料表面上に付着した水滴がない、
２＝良い、すなわち同様に濡れはなく、表面上に付着している水滴があるが、振ることにより容易に除去できる、
３＝軽く濡れている、すなわち水滴が建築材料表面をわずかに滑り落ちて濡らす、
４＝ひどく濡れる、すなわち滑り落ちる水滴がほとんど無い、
５＝未処理の試料のように、完全に濡れている。
結果(それぞれの場合に３モルタルディスクの平均値)を表２に示す。
Figure 0005833221

Claims (5)

  1. 有機ケイ素化合物の水性分散液であって、
    シリカを含んでなる無機充填剤(Ｂ)、および、式：
    Ｒａ（Ｒ１Ｏ）ｂＳｉＯ（４−ａ−ｂ）／２ （I）
    （式中、
    Ｒは、同一であるかまたは異なるものでよく、水素原子、または一価の、ＳｉＣ結合した、所望により置換されたヒドロカルビル基であり、
    Ｒ１は、水素原子であり、
    ａは、０、１、２または３であり、
    ｂは、０、１、２または３であるが、ただしａおよびｂの合計は３以下である。）
    単位を含む、粘度が２５℃で５〜１００００００ｍＰａｓであるシロキサン（Ｃ）から実質的になり、粘度が２５℃で１０〜１０００００００ｍＰａｓである混合物（Ａ）、
    式：
    Ｒ３ ｃＲ２ ｄＳｉ（ＯＲ４）４−ｃ−ｄ （II）
    （式中、
    Ｒ２は、同一であるかまたは異なるものでよく、一価の、ＳｉＣ結合した、所望により置換された、１〜３個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、
    Ｒ３は、同一であるかまたは異なるものでよく、一価の、ＳｉＣ結合した、所望により置換された、少なくとも４個の炭素原子を有し、異原子および／またはカルボニル基により中断されていてよいヒドロカルビル基を表し、
    Ｒ４は、同一であるかまたは異なるものでよく、一価の、所望により置換されたヒドロカルビル基または水素を表し、
    ｃは、１、２または３であり、および
    ｄは、０、１または２であるが、ただしｃおよびｄの合計は１、２または３である。）
    のシラン（Ｄ）、および／またはその部分的水解物、
    所望により
    (Ｅ)オルガノポリシロキサン、
    (Ｆ)乳化剤、
    (Ｇ)水、および
    所望により
    (Ｈ)さらなる物質、
    を使用して製造され、
    前記混合物（Ａ）は、前記シロキサン（Ｃ）よりも粘度が高い、有機ケイ素化合物の水性分散液。
  2. 混合物(Ａ)が、充填剤(Ｂ）を、前記混合物（Ａ）１００重量部に対して、１〜６０重量部の量で含んでなる、請求項１に記載の水性分散液。
  3. 混合物(Ａ)を、前記分散液の総量に対して２〜４０重量％の量で含んでなる、請求項１または２に記載の水性分散液。
  4. 請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ケイ素化合物の水性分散液を製造する方法であって、
    無機充填剤(Ｂ)、および式(Ｉ)の単位を含み、粘度が２５℃で５〜１００００００ｍＰａｓであるシロキサン（Ｃ）を混合することにより製造される、粘度が２５℃で１０〜１０００００００ｍＰａｓである混合物(Ａ)と、
    式(II)のシラン(Ｄ)および／またはその部分的水解物、
    所望により
    (Ｅ)オルガノポリシロキサン、
    (Ｆ)乳化剤、
    (Ｇ)水および
    所望により
    (Ｈ)さらなる物質、
    と混合し、
    前記混合物（Ａ）は、前記シロキサン（Ｃ）よりも粘度が高い、方法。
  5. 成分(Ｆ)および成分(Ｇ)の一部を最初に装填し、成分(Ａ)、(Ｄ)、所望により(Ｅ)および所望により(Ｈ)を連続的に、または一緒に加え、均一に混合し、次いで成分(Ｇ)の残りの量を加え、混合し、均質化する、請求項４に記載の方法。
JP2014503089A 2011-04-07 2012-03-30 有機ケイ素化合物の水性分散液 Expired - Fee Related JP5833221B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102011007006.0 2011-04-07
DE102011007006A DE102011007006A1 (de) 2011-04-07 2011-04-07 Wässrige Dispersionen von Organosiliciumverbindungen
PCT/EP2012/055819 WO2012136589A1 (de) 2011-04-07 2012-03-30 Wässrige dispersionen von organosiliciumverbindungen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014510179A JP2014510179A (ja) 2014-04-24
JP5833221B2 true JP5833221B2 (ja) 2015-12-16

Family

ID=45937353

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014503089A Expired - Fee Related JP5833221B2 (ja) 2011-04-07 2012-03-30 有機ケイ素化合物の水性分散液

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8907011B2 (ja)
EP (1) EP2694590B1 (ja)
JP (1) JP5833221B2 (ja)
KR (1) KR101582498B1 (ja)
CN (1) CN103492490B (ja)
DE (1) DE102011007006A1 (ja)
WO (1) WO2012136589A1 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103436165B (zh) * 2013-09-13 2016-01-13 上海交通大学 防水耐污纳米复合涂料及其制备及应用方法
DE102014116614B4 (de) * 2014-11-13 2018-06-21 Köster Bauchemie AG Zusammensetzung zur Hydrophobierung eines Substrats und deren Verwendung
DE102014223846A1 (de) * 2014-11-21 2016-05-25 Wacker Chemie Ag Verfahren zur hydrophobierenden Imprägnierung von gebrannten Tonformkörpern
JP6455970B2 (ja) * 2014-12-24 2019-01-23 旭化成ワッカーシリコーン株式会社 ダイカスト離型剤用水中油型シリコーンエマルジョン組成物
KR101715306B1 (ko) * 2015-12-11 2017-03-13 에이알에프산업기술연구원주식회사 마루 바닥재용 침투형 습기 차단제 조성물 및 이를 이용한 마루 시공방법
US10487242B2 (en) * 2016-08-11 2019-11-26 Gelest Technologies, Inc. Stabilized solutions of alkylalkoxysilane hydrolysates and flexible films formed thereof
WO2021126175A1 (en) * 2019-12-18 2021-06-24 Wacker Chemie Ag Aqueous dispersions of organosilicon compounds
WO2022073217A1 (en) * 2020-10-10 2022-04-14 Wacker Chemie Ag Use of alkoxysilanes or alkoxysiloxanes or compositions containing the same as admixture for mass hydrophobization of cement-based materials
EP4263462A1 (de) 2020-12-18 2023-10-25 Evonik Operations GmbH Verdünnungsstabile wässrige zusammensetzung zur massenhydrophobierung von mineralischen baustoffen
CN113511836B (zh) * 2021-08-17 2022-09-23 海南大学 一种建筑材料防水剂及其制备方法，以及防水蒸压加气建材

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE554172A (ja) 1956-01-18
GB1348372A (en) 1970-02-16 1974-03-13 Ici Ltd Foam-compatible powder compositions
US3830738A (en) 1970-02-16 1974-08-20 Ici Ltd Surface treatment of particulate solids
US4648904A (en) 1986-02-14 1987-03-10 Scm Corporation Aqueous systems containing silanes for rendering masonry surfaces water repellant
DE3911479A1 (de) 1989-04-08 1990-10-11 Goldschmidt Ag Th Zubereitung zur wasserabweisenden impraegnierung poroeser mineralischer baustoffe
DE4114498A1 (de) 1991-05-03 1992-11-05 Wacker Chemie Gmbh Organopolysiloxan- alkyltrialkoxysilanemulsionen zur impraegnierung von zementgebundenen faserbauteilen
DE4241727A1 (de) 1992-12-10 1994-06-16 Wacker Chemie Gmbh In Wasser selbstdispergierende, Organopolysiloxan anhaltende Zusammensetzungen
FR2771098B1 (fr) 1997-11-18 2004-08-13 Rhodia Chimie Sa Dispersions silicones aqueuses, formulations notamment de peintures les comprenant et l'un de leurs procedes de preparation
EP1629150A1 (en) * 2003-06-04 2006-03-01 Dow Corning Corporation Silicone/polyurethane coated fabrics
DE102007047907A1 (de) * 2007-11-30 2009-06-04 Wacker Chemie Ag Wässrige Dispersionen von Organosiliciumverbindungen

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012136589A1 (de) 2012-10-11
CN103492490A (zh) 2014-01-01
EP2694590A1 (de) 2014-02-12
CN103492490B (zh) 2015-08-12
EP2694590B1 (de) 2014-07-16
US20140020600A1 (en) 2014-01-23
KR20140003618A (ko) 2014-01-09
US8907011B2 (en) 2014-12-09
DE102011007006A1 (de) 2012-10-11
JP2014510179A (ja) 2014-04-24
KR101582498B1 (ko) 2016-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5833221B2 (ja) 有機ケイ素化合物の水性分散液
US8449666B2 (en) Aqueous dispersions of organosilicon compounds
JP5306220B2 (ja) シリコーン樹脂の水性エマルジョン
JP5250024B2 (ja) 撥水性を与える水性シリコーンエマルジョン
KR101833966B1 (ko) 수중유 실리콘 에멀젼 조성물
US20110319557A1 (en) Oil-In-Water Silicone Emulsion Composition
RU2634780C2 (ru) Водоотталкивающие полиорганосилоксановые материалы
CN107001161B (zh) 用于疏水性浸渍烧制的陶瓷模制体的方法
RU2389734C1 (ru) Способ получения аминооксиалкиленсодержащего олигоалкоксисилоксана и самоэмульгирующиеся композиции на его основе
WO2014019878A1 (de) Nicht-filmbildende formulierungen auf basis von organosiliciumverbindungen
JP6149788B2 (ja) 皮膜形成性シリコーンエマルション組成物及び皮膜
WO2021126175A1 (en) Aqueous dispersions of organosilicon compounds
KR20130105699A (ko) 유기 규소 화합물에 기초한 수성 가교결합성 분산물
CN116601127A (zh) 用于无机建筑材料的本体疏水化的稀释稳定的水性组合物

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131114

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131114

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20131114

A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20140430

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140507

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140714

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141104

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150202

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150508

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150603

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20151002

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20151028

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5833221

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R157 Certificate of patent or utility model (correction)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R157

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees