JP5830508B2 - マイクロリソグラフィ投影光学システム、装置、及び製造方法 - Google Patents
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Description
マイクロリソグラフィ投影光学システムを、結像すべき異なる種類のマスク又はレチクルに対するその柔軟性に関して改善することが本発明の目的である。
本発明によると、光学システムの入射瞳が物体平面から2.8mよりも遠くに位置するという特徴により、主光線は、物体平面において互いに実質的に平行である。レチクルにおける主光線方向の均一性により、レチクルにおける陰影効果の視野依存性を低減又は回避することができる。これらの効果は、例えば、解像度制限のような投影対物系の結像特性の望ましくない視野依存性を引き起こす可能性がある。従って、主光線方向の均一性により、これらの視野依存結像特性を低減することができ、視野にわたってより良好な均一性を有する像を供給することができる。更に、互いに対してかつ物体平面の法線に対して実質的に平行である主光線は、特にEUV波長によって結像される位相シフトマスクの使用を可能にする。物体平面での法線と主光線との間の3°又はそれよりも大きい角度は、一方を照明光線経路、他方を投影光線経路への分離を可能にする。それにより、結像すべき反射性物体の使用が容易になる。
請求項4に記載の反射性物体、特に位相シフトマスクは、光学システムの可能性を有利に利用するものである。
請求項5によると、本発明による投影対物系は、反射投影対物系である。専ら反射構成要素を有するそのような投影対物系は、超短波長、特に30mmよりも小さいEUV波長と共に用いることができる。
請求項7に記載の自由形状表面の数学的展開は、良好で再現可能な反射面の製造を可能にする。この展開では、αは、66とすることができる。更に、mは、偶数整数を構成することができる。更に、m+nは、10に等しいか又はそれよりも大きいものとすることができる。
請求項10に記載の鏡面対称光学面は、自由形状光学面の生成に対する要件を低くする。
請求項12に記載の主光線角度の正の拡大を有する反射要素を2つよりも多く持たない光学システムは、ミラー上の比較的小さい入射光線角を示し、従って、最初はより低い収差しか引き起こさない。特に、これは、特に少なくとも1つの中間像を有するシステムに対して、請求項13に記載の主光線角度の正の拡大を有する反射要素を1つのみ含む光学システムを用いて成り立つ。
請求項15に記載の像視野寸法は、マイクロリソグラフィ投影装置における光学システムの効率的使用を可能にする。矩形の視野は、約2mmの最小寸法を有することができ、約1mm又はそれよりも大きい第1の寸法、並びに約1mm又はそれよりも大きい第2の寸法を有することができ、第1の寸法と第2の寸法は直交し、像平面内で測定される。
この第2の寸法は、約10mm又は約20mm又はそれよりも大きいとすることができる。
請求項19に記載のテレセントリック光学システムは、倍率比のいかなる変化も伴わずに、像平面内に配列された非平坦ウェーハトポグラフィに起因する基板の高さ変化を許容し、又は像平面の合焦ずれを許す。
請求項20に記載の光学システムは、非常に高い解像度をもたらす。比率θ/NAは、約60又はそれ未満、又は50又はそれ未満とすることができる。
請求項22に記載の放射源を有する光学システムは、そのような放射源の波長範囲内での収差及び歪曲に対する低減が可能であるから、少なくとも1つの自由形状表面の使用による収差の最小化を有利に利用する。好ましくは、波長は、約10nmから約15nmの範囲にある。
投影対物系は、低い収差で像を供給することができる。ある一定の実施形態では、投影対物系は、約30mλ又はそれ未満の波面誤差に対して補正される。ある一定の実施形態では、投影対物系は、約2nm又はそれ未満の値よりも低い歪曲収差に対して補正される。
一部の実施形態では、回転軸回りの投影対物系の回転にも関わらず、投影対物系の測定を容易に実施することができる。例えば、投影対物系(例えば、高NA投影対物系)の実施形態は、投影対物系が軸回りに回転する際に中心視野点の平行移動が僅かであるか又は全く生じない比較的小さいか又はゼロの物体−像シフトを有することができる。従って、投影対物系が回転を受ける時に、視野位置を再定位する必要なく同じ視野位置で測定を繰返し実施することができる。
投影対物系の実施形態は、可視及び紫外(UV)波長を含む様々な異なる波長における作動に適応させることができる。実施形態は、極UV(EUV)波長における作動に適応させることができる。更に、実施形態は、1つよりも多い波長における使用又はある一定の波長範囲にわたる使用に適応させることができる。
一部の実施形態では、陰影効果の視野依存性が低いか又は全くない反射投影対物系を提供する。例えば、反射投影対物系は、物体視野上で主光線の均一な照明角度をもたらす、物体平面から遠くに(例えば、無限遠に)定位したそれらの入射瞳を有することがでる。それにより、主光線角度が物体視野にわたって変化する場合に生じる視野依存の陰影効果を低減又は回避することができる。代替的又は追加的に、投影対物系は、投影対物系内の各ミラーに対する子午断面の光線に対して、比較的小さい値の主光線入射角及び/又は小さい入射角変化を有することができ、その結果、各ミラーに対する平均反射率が上昇する。
他の特徴及び利点は、本説明、図面、及び特許請求の範囲から明らかであろう。
請求項又は下位請求項からの全ての又は選択された特徴は、特に有利な実施形態を形成するために組み合わせることができる。
図1を参照すると、マイクロリソグラフィ100は、一般的に、光源110、照明システム120、投影対物系101、及び台130を含む。参照のために直交座標系を示している。光源110は、波長λで光を生成し、光ビーム112を照明システム120に導く。照明システム120は、光と相互作用し(例えば、拡大及び均質化)、光ビーム122を物体平面103に位置決めされたレチクル140に導く。投影対物系101は、レチクル140から反射した光142を像平面102に位置決めされた基板150の表面上に結像する。投影対物系101の像側の光を光線152として示している。図1に示すように、光線は単に例示的であり、例えば、レチクル140に対する放射経路を正確に示すことを意図していない。基板150は、台130によって支持され、台130は、投影対物系101がレチクル140を基板150の異なる部分に結像するように、基板150を投影対物系101に対して移動する。
光源110は、装置100の望ましい作動波長λで光を供給するように選択される。一部の実施形態では、光源110は、KrFレーザ(例えば、約248nmの波長を有する)、又はArFレーザ(例えば、約193nmの波長を有する)のようなレーザ光源である。用いることができる非レーザ光源は、電磁スペクトルの青色又はUV部分、例えば、約365nm、約280nm、又は約227nmにおいて光を発するLEDのような発光ダイオード(LED)を含む。
一般的に、投影対物系の解像度は、波長にほぼ比例するので、比較的短い波長を用いることが望ましいであろう。従って、より短い波長は、投影対物系が、より長い波長を用いる同等の投影対物系よりも像内のより小さい特徴部を解像することを可能にする。しかし、ある一定の実施形態では、λは、電磁スペクトルの非UV部分(例えば、可視部分)内のものとすることができる。
物体平面103は、投影対物系101の長手寸法又はトラック長とも呼ばれる距離Lだけ像平面102から分離する。一般的にこの距離は、投影対物系101の特定の設計及び装置100の作動波長に依存する。EUVリソグラフィのための設計された装置等における一部の実施形態では、Lは、約1mから約3mの範囲内(例えば、約1.5mから約2.5mの範囲内)にある。ある一定の実施形態では、Lは、約1.9m又はそれ未満(例えば、約1.8m又はそれ未満、約1.7m又はそれ未満、約1.6m又はそれ未満、約1.5m又はそれ未満)のように2mよりも短い。Lは、約0.2m又はそれよりも大きい(例えば、約0.3m又はそれよりも大きく、約0.4m又はそれよりも大きく、約0.5m又はそれよりも大きく、約0.6m又はそれよりも大きく、約0.7m又はそれよりも大きく、約0.8m又はそれよりも大きく、約0.9m又はそれよりも大きく、約1m又はそれよりも大きい)ものとすることができる。
ここで、noは、基板150の表面に隣接する液浸媒体(例えば、空気、窒素、水、又は排気環境)の屈折率であり、θmaxは、投影対物系101からの像形成光線の最大円錐体の半角である。
ここで、Rは、印刷することができる最小寸法であり、kは、プロセス因子と呼ばれる無次元定数である。kは、放射(例えば、偏光特性)、照明特性(例えば、部分干渉、環状照明、双極設定、四重極設定)、及びレジスト材料に関連する様々な因子に依存して変化する。一般的に、kは、約0.4から約0.8の範囲にあるが、ある一定の用途では0.4よりも低くし、0.8よりも高くすることができる。
更に、ある一定の実施形態では、歪曲収差は、像視野にわたって比較的小量だけ異なるものとすることができる。例えば、歪曲収差は、像視野にわたって約5nm又はそれ未満(例えば、約4nm又はそれ未満、約3nm又はそれ未満、約2nm又はそれ未満、約1nm又はそれ未満)だけ異なるものとすることができる。
一般的な投影対物系101は、少なくとも4つのミラー(例えば、5つ又はそれよりも多くのミラー、6つ又はそれよりも多くのミラー、7つ又はそれよりも多くのミラー、8つ又はそれよりも多くのミラー、9つ又はそれよりも多くのミラー、10個又はそれよりも多くのミラー、11個又はそれよりも多くのミラー、12個又はそれよりも多くのミラー)を有する。対物系の全てのミラーが物体平面と像平面の間に位置決めされることが望ましい実施形態では、対物系101は、一般的に偶数個のミラー(例えば、4つのミラー、6つのミラー、8つのミラー、10個のミラー)を有することになる。投影対物系の全てのミラーが物体平面と像平面の間に位置決めされたある一定の実施形態では、奇数個のミラーを用いることができる。例えば、1つ又はそれよりも多くのミラーを比較的大きい角度で傾斜させる場合には、投影対物系は、奇数個のミラーを含むことができ、全てのミラーは、物体平面と像平面の間に位置決めされる。
z’ = (R2 − (x’ − xc)2 − (y’ − yc)2)1/2 − zc
これは、座標(xc、yc、zc)を中心とする半径Rの球面表面に関する式である。
ここで、h2=x’2+y’2であり、A’jは、円錐表面からの回転対称基準表面の偏差を特徴付ける係数である。一般的に、基準表面をミラー表面に当て嵌めるために用いる非球面係数A’jの個数は、表面を計算するために用いるシステムのコンピュータパワー、利用可能時間、及び望ましい精度レベルに依存して異なるものとすることができる。一部の実施形態では、基準表面は、3次までの非球面係数を用いて計算することができる。ある一定の実施形態では、3次よりも高い(例えば、4次、6次)係数が用いられる。円錐及び非球面表面のパラメータ化に関する更に別の解説に対しては、例えば、「Optical Research Associates」(パサデナ、CA)より入手可能な「Code V」に関する製品マニュアルを参照されたい。
回転対称基準表面を判断した後に、ミラー表面上の付加的な点の間の局所距離を特定し、可視化することができる。回転対称基準表面の付加的な特性を特定することができる。例えば、回転非対称ミラー表面からの回転対称基準表面の最大偏差を特定することができる。
投影対物系101内のミラーの第1及び第2の主曲率の合計は、比較的小さいものとすることができる。例えば、ミラーの第1及び第2の主曲率の合計の絶対値は、約10-3又はそれ未満(例えば、約5x10-4又はそれ未満、約3x10-4、約2x10-4又はそれ未満、約10-4又はそれ未満、5x10-5又はそれ未満、10-5又はそれ未満)とすることができる。
ここで、次式が成り立つ。
Zは、Z軸に平行な表面のサグであり(Z軸は、投影対物系101内の基準軸105に対して平行であってもなくてもよく、すなわち、一般的に、投影対物系101内の基準軸105に対して偏心及び傾斜する)、cは、頂点の曲率に対応する定数、kは円錐定数、Cjは単項式XmTnである。一般的に、c、k、及びCjの値は、投影対物系101に対するミラーの望ましい光学的性質に基づいて特定される。更に、単項式の次数m+nは、必要に応じて異なるものとすることができる。高次の単項式は、一般的に投影対物系設計に高レベルの収差をもたらすことができるが、一般的に特定における計算負荷が高い。一部の実施形態では、m+nは、10又はそれよりも大きい(例えば、15又はそれよりも大きく、20又はそれよりも大きい)である。下記に解説するように、自由形状ミラーの式におけるパラメータは、市販の光学設計ソフトウエアを用いて特定することができる。一部の実施形態では、m+nは、10よりも小さい(例えば、9又はそれ未満、8又はそれ未満、7又はそれ未満、6又はそれ未満、5又はそれ未満、4又はそれ未満、3又はそれ未満)。
一般的に、投影対物系101は、正の屈折力を有する1つ又はそれよりも多くのミラーを含む。言い換えれば、ミラーの反射部分は凹表面を有し、凹面ミラーと呼ばれる。投影対物系101は、2つ又はそれよりも多く(例えば、3つ又はそれよりも多く、4つ又はそれよりも多く、5つ又はそれよりも多く、6つ又はそれよりも多い)の凹面ミラーを含むことができる。また投影対物系101は、負の屈折力を有する1つ又はそれよりも多くのミラーを含むことができる。これは、ミラーのうちの1つ又はそれよりも多くが凸面表面を有する反射部分を有することを意味する(凸面ミラーと呼ばれる)。一部の実施形態では、投影対物系101は、2つ又はそれよりも多い(例えば、3つ又はそれよりも多く、4つ又はそれよりも多く、5つ又はそれよりも多く、6つ又はそれよりも多い)凸面ミラーを含む。
投影対物系1100は、物体平面103からの結像放射を像平面102に4Xの縮小倍率で結像する。投影対物系1100のトラック長は2000mmであり、結像放射の光路長は5337mmである。従って、トラック長に対する光路長の比率は、ほぼ2.67である。投影対物系1100は、ミラー1120の近くに位置決めされた開口絞り1106を有する。
投影対物系1100は、矩形の視野を有する。像側視野幅dxは、26mmである。
像側視野長dyは、2mmである。投影対物系1000は、31mmの物体−像シフトを有する。
物体平面103から像平面102までの放射経路の順序でのミラーの屈折力は、以下の通りである。ミラー1110は正の屈折力を有する。ミラー1120は正の屈折力を有する。ミラー1130は負の屈折力を有する。ミラー1140は正の屈折力を有する。ミラー1150は負の屈折力を有する。ミラー1160は正の屈折力を有する。
中心視野点における主光線入射角は、ミラー1110、1120、1130、1140、1150、及び1160において、それぞれ、4.38°、4.03°、18.37°、7.74°、12.64°、及び5.17°である。子午断面における各ミラー上の最大入射角は、ミラー1110、1120、1130、1140、1150、及び1160において、それぞれ、6.48°、6.44°、20.05°、9.12°、21.76°、及び7.22°である。ミラー1110、1120、1130、1140、1150、及び1160におけるΔθは、それぞれ、4.27°、4.92°、4.09°、3.12°、19.37°、及び4.61°である。
投影対物系1100の像側自由作業距離は、25mmである。物体側自由作業距離は163mmである。
投影対物系1100に関するデータを下記の表3A及び表3Bに示している。表3Aは、光学データを示しており、一方、表3Bは、ミラー表面の各々における非球面定数を示している。表3A及び表3Bに向けて、ミラー名称を次のように関連付ける。ミラー1(M1)はミラー1110に対応する。ミラー2(M2)はミラー1120に対応する。ミラー3(M3)はミラー1130に対応する。ミラー4(M4)はミラー1140に対応する。ミラー5(M5)はミラー1150に対応する。ミラー6(M6)はミラー1160に対応する。
一般的に、ミラーによって反射したλの光の百分率は、ミラー表面上の光の入射角の関数として変化する。結像放射は、いくつかの異なる経路に沿って反射投影対物系を通じて伝播するので、各ミラー上の光の入射角は異なるものとすることができる。凹面反射面401を含むミラー400の一部分を子午断面で示している図3を参照して、この効果を示す。結像放射は、光線410、420、及び430で示しているいくつかの異なる経路に沿って、表面401上へと入射する。光線410、420、及び430は、表面法線が異なる表面401の一部分の上に入射する。これらの部分における表面法線の方向をそれぞれ光線410、420、及び430に対応する線411、421、及び431で示している。光線410、420、及び430は、それぞれ角度θ410、θ420、及びθ430で表面401上に入射する。一般的に、角度θ410、θ420、及びθ430は、異なるものとすることができる。
投影対物系101内の各ミラーにおいて、結像放射の入射角は、様々な種類で特徴付けることができる。1つの特徴付けは、投影対物系101の子午断面における各ミラー上の子午光線の最大入射角である。子午光線は、子午断面内で延びる光線を意味する。一般的に、θは、投影対物系101内の異なるミラーにおいて異なるものとすることができる。
一部の実施形態では、像側NAに対する最大値θmax(度における)の比率は、約100又はそれ未満(例えば、約80又はそれ未満、約70又はそれ未満、68又はそれ未満、約60又はそれ未満、約50又はそれ未満、約40又はそれ未満、約30又はそれ未満)とすることができる。
一部の実施形態では、像側NAに対する最大値θCR(max)(度における)の比率は、約100又はそれ未満(例えば、約80又はそれ未満、約70又はそれ未満、68又はそれ未満、約60又はそれ未満、約50又はそれ未満、約40又はそれ未満、約30又はそれ未満)とすることができる。
ある一定の実施形態では、ミラーは、約1、500mm又はそれ未満(例えば、約1、400nm又はそれ未満、約1、300mm又はそれ未満、約1、200mm又はそれ未満、約1、100mm又はそれ未満、約1、000mm又はそれ未満、約900mm又はそれ未満、約800mm又はそれ未満、約700mm又はそれ未満、約600mm又はそれ未満、約500mm又はそれ未満、約400mm又はそれ未満、約300mm又はそれ未満、約200mm又はそれ未満、約100mm又はそれ未満)の最大寸法を有する受光域を有することができる。ミラーは、約10mmよりも大きい(例えば、約20mm又はそれよりも大きく、約50mm又はそれよりも大きい)最大寸法を有する受光域を有することができる。
一般的に、dyはdxよりも小さい。物体平面103及び像平面102における視野寸法dx、dy、及びdrの相対サイズは、投影対物系101の拡大又は縮小に依存して異なる。
ある一定の実施形態では、投影対物系101は、過走査ゼロで用いることができる。例えば、図7Cを参照すると、正方形のダイ部位740を露光させるために像視野730を用いる実施形態では、過走査ゼロで走査を達成することができる。
ここで、hoは、物体視野内の視野中心点の光軸からのx−y平面内の距離を意味し、Mは、投影対物系の拡大倍率である。例えば、4Xの縮小(すなわち、M=0.25)を有し、視野中心点が光軸から120mmである投影対物系では、doisは90mmである。
偏心及び/又は傾斜の後に、指定した光学性能基準に対して投影対物系設計を最適化するように、各ミラーにおける自由形状を特定することができる。
一部の実施形態では、投影対物系101は、視野絞りを含む。例えば、投影対物系が中間像を含む実施形態では、視野絞りは、中間像に又はその近くに位置決めすることができる。
投影対物系1200は、矩形の視野を有する。像側視野幅dxは26mmである。像側視野長dyは2mmである。投影対物系1200の物体−像シフトはゼロである。
投影対物系1200は、ミラー1240と1250の間に中間像をもたらす。
MxxMyで与えられる各ミラーの受光域の寸法は、ミラー1210において250mmx153mm、ミラー1020において70mmx69mm、ミラー1230において328mmx153mm、ミラー1240において325mmx112mm、ミラー1250において87mmx75mm、及びミラー1260において269mmx238mmである。
投影対物系1200の像側自由作業距離は、40mmである。物体側自由作業距離は、439mmである。
投影対物系1200では、dop-1/dop-2は、1.91である。更に、隣接ミラー対1240及び1250は、投影対物系のトラック長の50%を超える分だけ分離している。また、ミラー1210と物体平面103の間の距離は、投影対物系のトラック長の50%よりも大きい。
投影対物系1400は、矩形の視野を有する。像側視野幅dxは26mmである。像側視野長dyは2mmである。投影対物系1000は、119mmの物体−像シフトを有する。
投影対物系1300は、ミラー1340と1350の間に中間像をもたらす。
MxxMyで与えられる各ミラーの受光域の寸法は、ミラー1310において271mmx173mm、ミラー1320において69mmx65mm、ミラー1330において290mmx115mm、ミラー1340において272mmx66mm、ミラー1350において81mmx67mm、及びミラー1360において274mmx243mmである。
投影対物系1300では、dop-1/dop-2は、1.63である。更に、隣接ミラー対1340及び1350は、投影対物系のトラック長の50%を超える分だけ分離している。また、ミラー1310と物体平面103の間の距離は、投影対物系のトラック長の50%よりも大きい。
他の実施形態は、特許請求の範囲に説明している。
103 物体平面
1100 マイクロリソグラフィ投影光学システム
1110、1120、1130、1140、1150、1160 光学要素
Claims (26)
- マイクロリソグラフィ投影光学システムであって、
−波長λを有する放射を物体平面内の物体視野から像平面内の像視野に結像するように配列された複数の光学要素を含み、
−前記物体平面から発する光学システムの前記放射の経路が、前記物体平面での法線に対して3°又はそれよりも大きい角度にある主光線を有し、
−前記物体視野は、第1の方向の寸法が10mm又はそれよりも大きく、前記第1の方向と直交する第2の方向の幅の寸法が1mm又はそれよりも大きい最小領域を有し、
−前記物体平面における前記主光線は、前記物体平面において露光視野全域で0.5°又はそれ未満の範囲内で互いに平行である、
ことを特徴とする光学システム。 - 前記物体平面においてテレセントリックであることを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記主光線は、前記物体平面での前記法線に対して4°又はそれよりも大きい角度にあることを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 結像される反射性物体を前記物体視野に含むことを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 反射投影対物系を有することを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記要素の少なくとも1つは、前記放射の経路に位置決めされた回転非対称表面を有する反射要素であり、
前記回転非対称表面は、1つ又はそれよりも多くの位置で最良適合回転対称表面からλ又はそれよりも大きく偏位している、
ことを特徴とする請求項1に記載の光学システム。 - 回転非対称表面が、1つ又はそれよりも多くの位置で10λ又はそれよりも大きく最良適合回転対称表面から偏位することを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 回転非対称表面が、1つ又はそれよりも多くの位置で20nm又はそれよりも大きく最良適合回転対称表面から偏位することを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記複数の要素は、子午面を形成し、該要素は、該子午面に対して鏡面対称であることを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記複数の要素は、前記放射の経路に位置決めされた回転非対称表面を有する反射要素である2つの要素を含むことを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記複数の要素は、主光線角度の正の拡大を有する反射要素を2つよりも多く含まないことを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記複数の要素は、主光線角度の正の拡大を有する反射要素を1つよりも多く含まないことを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 0.2又はそれよりも大きい像側開口数を有することを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記像平面において矩形視野を有し、
直交方向の各々における前記矩形視野は、1mm又はそれよりも大きい最小寸法を有する、
ことを特徴とする請求項1に記載の光学システム。 - 前記像視野での静的歪曲収差が、10nm又はそれ未満であることを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記像視野での波面誤差が、λ/14又はそれ未満であることを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記主光線は、前記物体平面において0.05°以内で互いに平行であることを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記複数の要素は、前記像平面においてテレセントリックであることを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 光学システムを通る前記放射の経路が、主光線によって特徴付けられ、光学システムの子午断面に対して、視野中心点の該主光線は、前記要素の各々の表面上へのθ度の最大入射角を有し、光学システムが、0.3よりも大きい像側開口数NAを有し、比率θ/NAは、68よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 75mm又はそれ未満の物体−像シフトを有することを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 波長λで前記放射を物体平面に供給するように構成された放射源を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の光学システム。
- 前記放射源からの放射を前記物体平面に位置決めされた物体に向けるように配列された1つ又はそれよりも多くの要素を含む照明システムを更に含み、
前記照明システムは、光学システムの入射瞳に対応する位置に位置決めされた要素を含む、
ことを特徴とする請求項22に記載の光学システム。 - 請求項23に記載の光学システムと、
レチクルを前記光学システムが該レチクルを像平面に結像するように物体平面に位置決めするように構成された第1の可動台と、
物品を前記レチクルの像が該物品の表面にあるように前記像平面に位置決めするように構成された第2の可動台と、
を含むことを特徴とするマイクロリソグラフィ装置。 - 請求項1に記載の光学システムと、
30nm又はそれ未満のλで前記放射を物体平面に供給するように構成された放射源と、
前記放射源からの放射を前記物体平面に位置決めされた物体に向けるように配列された1つ又はそれよりも多くの要素を有する照明システムと、
を含む、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ装置。 - 微細構造構成要素をマイクロリソグラフィにより製造する方法であって、
−少なくとも放射光感応材料の層を有する基板を準備する段階、
−投影されることになる構造を有するマスクを準備する段階、
−請求項24又は請求項25に記載のマイクロリソグラフィ装置を準備する段階、
−前記マイクロリソグラフィ装置を用いて前記マスクの少なくとも一部を前記層の区域上に投影する段階、
を含むことを特徴とする方法。
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