JP5816345B2 - ガス遮断器 - Google Patents

Description

本発明の実施形態は、ガス遮断器に関する。

パッファ型のガス遮断器は、アークの熱エネルギーにより生じる消弧性ガスの流れによ
りパッファ室内の圧力を上昇させ、アークが弱まる電流零点において、圧力が上昇したパ
ッファ室内かとアークが発生する空間との差圧によりアークに対して消弧性ガスを吹き付
けることで電流を遮断する。このようなガス遮断器において、電流の遮断性能の向上には
、アークが発生する空間とパッファ室内との間に充分な差圧を確保することが必要である
。

しかしながら、アークの熱エネルギーにより生じる消弧性ガスの流れがパッファ室内で
拡散してしまうことで充分な圧力上昇が得られずに、アークが発生する空間とパッファ室
との間に充分な差圧が確保できないため、電流の充分な遮断性能が得られないという問題
がある。

特開２００９−９９４９９号公報

アークの熱エネルギーによりパッファ室内の圧力を充分に上昇させることで、電流の充
分な遮断性能を得ることのできるガス遮断器を提供する。

実施形態のガス遮断器は、消弧性ガスが充填された容器と、前記容器内に設置され第１
のアーク接触子を備える第１の接触子部と、前記容器内に前記第１の接触子部に対向して
配置され、前記第１のアーク接触子と接触または離間した状態を取りうる第２のアーク接
触子を備える第２の接触子部とを備える。また、前記第１の接触子部は、前記第１のアー
ク接触子と前記第２のアーク接触子との間に発生するアークを吹き消すための前記消弧性
ガスを蓄える空間を有するパッファ室と、前記第１のアーク接触子の近傍に第１の開口と
、前記パッファ室と連接する第２の開口とを有する消弧性ガスの流路と、前記パッファ室
の前記空間内に設けられ、前記流路からの前記消弧性ガスの流れを遮るように配置され、
前記空間を第１の空間と第２の空間とに分割する面状の部材とを備える。

第一の実施形態に係るガス遮断器の断面図。 第一の実施形態に係るガス遮断器のA-A断面を示す断面図。 第一の実施形態に係るガス遮断器における消弧性ガスの流れを説明する図。 第一の実施形態に係るガス遮断器における消弧性ガスの流れを説明する図。 第一の実施形態に係るガス遮断器における熱的パッファ室内の圧力分布の解 析結果。 第二の実施形態に係るガス遮断器の断面図。 第二の実施形態に係るガス遮断器のB-B断面を示す断面図。 第二の実施形態の変形例に係るガス遮断器の分割部材の形状を示す図。 第三の実施形態に係るガス遮断器の断面図。 第四の実施形態に係るガス遮断器の断面図。

以下、発明を実施するための実施形態について説明する。

（第一の実施形態）
図１は、本実施形態に係るガス遮断器の構成を示す断面図である。

本実施形態のガス遮断器は、消弧性ガスが充填されている中空円筒形状の容器５０と、
容器５０の中心軸上に、可動接触子部１と、この可動接触子部１に対向する対向接触子部
２（図１中の破線で囲まれた部分）と、可動接触子部１の一部に接触する固定ピストン２
４とを備える。

なお、図１では可動接触子部１と対向接触子部２とが接触している通電状態を示す。こ
こでは通電状態では 交流電流が流れているものとする。

以下の説明では、対向接触子部２側の方向を前方（図１の左側）、その反対側を後方（
図１の右側）として定義する。

本実施形態において、可動接触子部１は、中空円筒形状のシリンダ２３と、シリンダ２
３の内部の中心軸上に設けられる中空の操作ロッド２１と、シリンダ２３と操作ロッド２
１とに囲まれて設けられるパッファ室４２及び４３とを備える。

可動接触子部１は、容器５０の中心軸に沿って前方または後方に移動可能である。

シリンダ２３の前方の端部にはフランジ２２が一体的に形成されている。さらにこのフ
ランジ２２の前方には、スロート部１４を有する絶縁ノズル１３と、可動通電接触子１５
とが設けられている。

また、シリンダ２３の内周面の中程には隔壁２６が一体的に形成されている。この隔壁
２６を介してシリンダ２３内の空間（パッファ室）は、前方側に熱的パッファ室４２が、
後方側に機械パッファ室４３がそれぞれ設けられている。このとき、パッファ室内のシリ
ンダ側の面を外周、操作ロッド側の面を内周として定義する。

前方の熱的パッファ室４２は、後述する遮断動作時に発生するアークからの熱エネルギ
ーにより生じる消弧性ガスの流れが隔壁２６等に衝突することで昇圧される空間である。

後方の機械パッファ室４３は、遮断動作時に後述する固定ピストン２４の機械的圧縮作
用により昇圧される空間である。

操作ロッド２１は、図示しない駆動装置によって、中心軸方向に往復運動するように構
成されており、その中程には操作ロッド２１の内部と、容器５０内の充填ガス雰囲気空間
とを連通させるための開口部４５fが複数形成されている。この操作ロッド２１の前方に
は、前方の先端が中心に丸まった指状の可動アーク接触子１１が一体的に形成されている
。

上記のフランジ２２と操作ロッド２１との間には、開口部４５aが形成されている。ま
た、可動アーク接触子１１の前方側の先端と、スロート部１４との間には開口部４５bが
形成されている。この開口部４５aから開口部４５bまで、熱エネルギー及び消弧性ガスの
流路４４が形成されている。図１の導通状態では開口部４５bが対向アーク接触子１２に
よって塞がれている。

隔壁２６には開口部４５dが形成されている。この開口部４５dの熱的パッファ室４２側
には、ばね２９ａにより蓄勢された浮動の逆止弁２７が設けられている。

対向接触子部２は、容器５０の中心軸に沿って、フランジ５２と、フランジ５２の周囲
に一体的に固定された円筒形状の対向通電接触子５４と、対向通電接触子５４と図示しな
い前方において固定され、対向通電接触子５４の中心軸に位置する対向アーク接触子１２
とを備える。

また、フランジ５２は開口部５３を有する。対向通電接触子５４は、可動通電接触子１
５と接触させるため、後方側の厚さが、前方側に比べ厚いほうが好ましい。

固定ピストン２４は、機械パッファ室４３の後方に挿入される環状平板である。この固
定ピストン２４は、その内周面で操作ロッド２１の外周面に対して摺動すると共に、その
外周面でシリンダ２３の内周面に対して摺動するように構成されており、その後方に一体
的に設けられて軸方向に伸びるピストン支持部２５によって、容器５０内に固定されてい
る。

機械パッファ室４３内の空間は、シリンダ２３、隔壁２６、操作路ロッド２１および固
定ピストン２４の一面で取り囲まれているため、操作ロッド２１が摺動するにつれて空間
の体積が変化する。

また、固定ピストン２４には、開口部４５eが形成されており、開口部４５eには、ばね
２９ｂで閉方向に蓄勢された放圧弁２８が設けられている。

通常の通電状態においては、操作ロッド２１を駆動することにより可動接触子部１を前
方に移動させて、図１に示すように、対向通電接触子５４と可動通電接触子１５とは接触
している。また、可動アーク接触子１１と対向アーク接触子１２とは接触している。

後述の遮断動作時（図３及び図４）には、操作ロッド２１を駆動することにより可動接
触子部１を後方に移動させる。このとき、可動アーク接触子１１と対向アーク接触子１２
とが非接触となることでアーク空間４７が形成されるとともに、流路４４の開口部４５b
が対向アーク接触子１２から開放される。このアーク空間４７に発生するアーク４６の熱
エネルギーにより生じた消弧性ガスの流れは開口部４５ｂを介して流路４４を通り、開口
部４５ａから熱的パッファ室４２へ流入する。

本実施形態のガス遮断器では、図１に示すように、熱的パッファ室４２内で、開口部４
５aから流入した消弧性ガスの流れが、隔壁２６に到達する前に途中で拡散してしまうこ
とを防止するために、熱的パッファ室４２内の中心軸と水平な側面の外周側（外周面）に
面上の分割部材３を配置する。

この分割部材３は、開口部４５aから流入する消弧性ガスの流入進路を遮るように配置
され、容器５０の中心軸方向に、熱的パッファ室４２を主空間４１ａと従空間４１ｂとに
分割する。

分割部材３は、一体の環状平面もしくは環状曲面からなり、分割部材３の取付角度４は
任意にとることができる。さらに、主空間４１ａと従空間４１ｂを連通させる少なくとも
１箇所の開口部４５cを設ける。

図１では、分割部材３として一体の環状平板を用い、分割部材３の取付角度４をほぼ９
０度としたときの例を示している。

図２は、図１に示す本実施形態のガス遮断器におけるA-A断面を示す断面図である。図
２（a）に示すように、分割部材３としては、１枚の部材から成る環状平板を用いており
、熱的パッファ室４２の外周面を形成するシリンダ２３に溶接、あるいは鋳造等による一
体成型により形成される。そして、分割部材３と熱的パッファ室４２の内周面を形成する
操作ロッド２１との間に環状の開口部４５cが設けられる。

このとき、分割部材３としては、上記の環状平板に代えて、熱的パッファ室４２の前方
あるいは後方に曲率を有するような環状曲板を用いることも可能である。

なお、分割部材３としては、図２（b）に示すように、１枚の部材からではなく、複数
に分割された部材を、熱的パッファ室４２内の外周面の円周に沿って所定の間隔で配置す
ることも可能である。

以下、図３及び図４を参照して、本実施形態に係るガス遮断器の動作及び内部での消弧
性ガスの流れについて詳細に説明する。

図３は、遮断動作初期における、本実施形態に係るガス遮断器内部での消弧性ガスの流
れを説明するための図である。

遮断動作が開始すると、操作ロッド２１が後方に移動し、この操作ロッド２１を含む可
動接触子部１が一体的に移動する。これにより、操作ロッド２１とシリンダ２３および隔
壁２６が一体的に移動することになり、固定された固定ピストン２４に対して隔壁２６が
接近するため、機械パッファ室４３の空間が圧縮されて昇圧する。

遮断動作の初期時点では、隔壁２６の開口部４５dに取り付けられた逆止弁２７は浮動
なので、慣性力により、可動接触子部１と一体に移動しない。つまり、逆止弁２７は相対
的に前方に移動したことになる。これにより、隔壁２６の開口部４５dは開状態となる。

このとき、機械パッファ室４３が昇圧しているので、機械パッファ室４３から開口部４５
dを経て、消弧性ガスが機械パッファ室４３内から熱的パッファ室４２の従空間４１ｂへ
供給される。

他方で、対向アーク接触子１２と可動アーク接触子１１が開離すると、両アーク接触子
１２及び１１間のアーク空間４７にはアーク４６が発生する。このとき、アーク４６によ
り、アーク空間４７の温度、圧力は急激に上昇する。

したがって、アーク空間４７は熱的パッファ室４２より圧力が上昇するために、アーク
空間４７の消弧性ガスは、流路４４の可動アーク接触子１１の先端部の開口部４５ｂから
フランジ２２の開口部４５ａを経て熱的パッファ室４２に至る流れ５１ａを生じる。

上記のように、アーク４６による熱エネルギーから生じた流れ５１ａは、流路４４を通
じて、主空間４１ａ内に流入する。このとき、主空間４１ａ内に流入した流れ５１ｂは分
割部材３に衝突し、熱的パッファ室４２の主空間４１a内を循環する流れ５１ｃを生じる
。

そして、この流れ５１cは、開口部４５cを通じて従空間４１bへ流入し、従空間４１b内
を循環する流れ５１ｄが発生する。

このように、分割部材３を配置することで、流れ５１ｂが途中で拡散せずに、分割部材
３に衝突することで主空間４１a内を循環する流れ５１bを生じ、主空間４１ａ内の圧力を
上昇させる。同時に、流れ５１ｄが隔壁２６に衝突することで同様に、従空間４１ｂ内の
圧力を上昇させることで、熱的パッファ室４２内の圧力を充分に上昇させることが可能と
なる。

本実施形態においては、熱的パッファ室４２と機械パッファ室４３が相補的に作用する
。以下では、上記のように、アーク４６の熱エネルギーにより主空間４１a及び従空間４
１bの圧力が充分に昇圧された後の、熱的パッファ室４２と機械パッファ室４３との関係
について説明する。なお、ここでは、主空間４１a及び従空間４１b間での消弧性ガスの流
れについては説明を省略し、主空間４１a及び従空間４１bを熱的パッファ室４２としてま
とめて説明する。

この際、大電流遮断時（例えば２０ｋＡを越える場合）には熱的パッファ室４２は著し
く昇圧され、熱的パッファ室４２と機械パッファ室４３の間に逆差圧が生じるため、逆止
弁２７には後方への力が作用し、隔壁２６の開口部４５dは閉状態となる。このため、熱
的パッファ室４２のみで充分な昇圧を行うことができる。

また、逆止弁２７が閉じることにより、機械パッファ室４３へのアーク４６の熱エネル
ギーの流入が抑制されるため、機械パッファ室４３の過剰な昇圧がある程度抑制されるこ
とになり、遮断動作を妨害する反力を抑えることができる。

このとき、もし機械パッファ室４３の過剰圧力上昇となった場合には、固定ピストン２
４に設けられた放圧弁２８が開状態となって、機械パッファ室４３内の消弧性ガスは、機
械パッファ室４３から充填ガス雰囲気空間へと流出する。

これに対して中小電流遮断時（例えば２０ｋＡ以下の場合）には、熱的パッファ室４２
は充分に昇圧されないため、熱的パッファ室４２と機械パッファ室４３の圧力は比較的均
衡した状態にあり、逆止弁２７の動作は状態により変化する。特に、後述の電流零点近傍
においては、熱的パッファ室４２の圧力は次第に低下し、機械パッファ室４３の圧力を下
回るため、逆止弁２７は開状態となり、機械パッファ室４３から熱的パッファ室４２への
流れが発生することになる。

これにより、機械パッファ室４３の機械的な圧縮により、熱的パッファ室４２の昇圧を
補うことができる。

図４は、上記のように熱的パッファ室４２内を充分に昇圧した後の電流零点以降におけ
る、本実施形態に係るガス遮断器内部での消弧性ガスの流れを説明するための図である。

上記の遮断動作初期の状態からさらにストロークが進行し、交流電流が一時的に零にな
る電流零点に達すると、アーク４６は減衰する。そして、アーク４６は残留アークプラズ
マ状態となり、アーク空間４７における圧力及び温度が減少する。これにより、電流零点
に達する以前に上昇した熱的パッファ室４２の圧力が、アーク空間４７の圧力を上回るこ
とで差圧が逆転する。

このとき、開口部４５bは充分に開口し、熱的パッファ室４２からフランジ２２の開口
部４５ａを経て、アーク空間４７に向かって流路４４を通過する流れ５１gが生じる。さ
らに、この流れ５１gは、流路４４の開口部４５ｂから対向アーク接触子１２に向かって
流れる５１hと、操作ロッド２１の中空部内を流れ、開口部４５fに向かう流れる５１iと
に分かれる。

この流れ５１gを勢いよくアーク４６に対して吹きつけ、さらに流れ５１h、５１iによ
って、アーク４６は相乗的に冷却されて消弧され、電流遮断が達成される。

なお、このとき操作ロッド２１の開口部４５fを通過した流れ５１jは、充填ガス雰囲気
空間へと流出する。

図５に本実施形態に係るガス遮断器における熱的パッファ室４２内の数値解析によって
得られた圧力分布を示す。ここで、ガス遮断器の軸方向をXにとり、熱的パッファ室４２
の軸方向の長さをL、半径方向の長さを0.532*Lとする。このとき、前方側の壁面をX=０の
位置とすると、後方側の壁面の位置はX=Ｌとなる。

また、ここでは分割部材３は、熱的パッファ室４２の前方側の壁面から、熱的パッファ
室４２の軸方向の長さの0.550倍の距離（X=0.550*L）の位置に設けるものとする。また、
開口部４５cの高さを0.082*Lとして数値解析を行った。

破線で表される分割部材３なしの場合、圧力は前方側では高く、後方に移動していくの
に伴い下降し、圧力勾配が負になっていることがわかる。それに対して、実線で表される
分割部材ありの場合、圧力は破線に比べて前方側では低いが、後方に移動するのに伴い上
昇し、圧力勾配が正となっていることがわかる。

また、従空間４１ｂ内の圧力分布においても、分割部材３ありの場合、分割部材３なし
の場合に比べて圧力勾配が大きくなっていることがわかる。

これにより、分割部材３を配置することで、熱的パッファ室４２とアーク空間４７との
間に大きな差圧を確保することができ、その結果、勢いよく消弧性ガスをアーク４６に吹
き付けることが可能となる。

特に、軸方向に長いパッファ室を有するガス遮断器では、アークの熱エネルギーにより
生じる流れがパッファ室内で拡散してしまう問題があったが、分割部材３を配置すること
により、流れの拡散を防ぐことができ、有効である。

なお、本実施形態のように開口部４５dに設けられている逆止弁２７及びばね２９aを設
けずに、熱的パッファ室４２と機械パッファ室４３とを開口部４５aにより常時連通する
構成とすることも可能である。

（第二の実施形態）
以下、図６及び図７を参照して、第二の実施形態に係るガス遮断器の構成について説明
する。ここで、図６は本実施形態に係るガス遮断器の構成を示す断面図、図７は本実施形
態に係るガス遮断器のB-B断面を示す断面図である。なお、第一の実施形態と同一の構成
には同一の符号を付し、説明は省略する。

図６に示すように、本実施形態のガス遮断器では、熱的パッファ室４２内の中心軸と水
平な側面の内周側（内周面）に分割部材３を設置している。

図７に示すように、分割部材３としては一体の環状平板を用いており、熱的パッファ室
４２の内周面を形成する操作ロッド２１に溶接あるいは一体成型により形成される。そし
て、分割部材３と熱的パッファ室４２の外周面を形成するシリンダ２３の間に環状の開口
部４５cが設けられる。

このとき、分割部材３としては、上記の環状平板に代えて、熱的パッファ室４２の前方
あるいは後方に曲率を有するような環状曲板を用いることも可能である。

なお、分割部材３の形状としては、上記のように一体の環状平板あるいは環状曲板では
なく、複数に分割された分割部材３を、所定の間隔で上記側面の円周に沿って配置する構
成であってもよい。

本実施形態のガス遮断器によれば、第一の実施形態と同様に、アーク４６の熱エネルギ
ーにより生じた流れは、流路４４を通り開口部４５ａから主空間４１ａに流入し、分割部
材３に衝突することで、主空間４１ａ内の圧力を上昇させることができる。

その結果、アーク空間４７との間に大きな差圧を確保することができるために、勢いよ
く消弧性ガスをアーク４６に吹き付けることが可能になる。

また、第一の実施形態のように分割部材３の配置位置を熱的パッファ室４２の外周面に
限定することなく、製造の際の自由度を確保することができる。

（第二の実施形態の変形例）
以下、図８を参照して、第二の実施形態の本変形例に係るガス遮断器の構成について説
明する。図８は本変形例に係るガス遮断器の分割部材３の形状を示す図である。

第二の実施形態と異なるのは、熱的パッファ室４２及び機械パッファ室４３の間での消
弧性ガスの流れをスムーズにするために、図８に示すように、環状平板あるいは環状曲板
の分割部材３の内周部に４箇所の開口部４５gを設けている点である。なお、この開口部
４５gは４箇所に限定されるものではない。

このように、分割部材３の内周部に開口部４５gを設けることで、熱的パッファ室４２
及び機械パッファ室４３の間での流れをスムーズにすることができる。

本変形例のガス遮断器によれば、アーク４６の熱エネルギーにより生じた流れは、流路
４４を通り開口部４５ａから主空間４１ａに流入し、分割部材３に衝突することで、主空
間４１ａ内の圧力を上昇させることができる。

その結果、アーク空間４７との間に大きな差圧を確保することができるために、勢いよ
く消弧性ガスをアーク４６に吹き付けることが可能になる。

（第三の実施形態）
以下、図９を参照して、本実施形態に係るガス遮断器の構成について詳細に説明する。

なお、第一の実施形態と同一の構成には同一の符号を付し、説明は省略する。

本実施形態のガス遮断器は、熱的パッファ室４２と機械パッファ室４３を隔壁２６で仕
切らずに、パッファ室４８のみを備えている点において第一の実施形態、第二の実施形態
及び第二の実施形態の変形例とは異なる。

本実施形態のガス遮断器では、パッファ室４８内の中心軸と水平な側面の外周側（外周
面）に分割部材３を配置し、パッファ室４８を主空間４８ａと従空間４８ｂに分割する。

このとき、第１の実施形態と同様に、アーク４６の熱エネルギーにより生じた流れは、流
路４４を通り開口部４５ａから主空間４８ａに流入し、分割部材３に流れが衝突すること
で、主空間４８ａ内の圧力を上昇させることができる。

その結果、アーク空間４７との間に大きな差圧を確保することができるために、消弧性
ガスを勢いよくアーク４６に吹き付けることが可能となる。

さらに、分割部材３によりパッファ室４８を主空間４８ａと従空間４８ｂに仕切ること
で、従空間４８ｂ内のアーク４６の熱エネルギーによる昇圧をある程度抑制することがで
き、遮断動作を妨害する反力を抑えることができる。

さらに、本実施形態のガス遮断器によれば、隔壁２６、逆止弁２７、ばね２９aを備え
ていないために、より簡単な構成により電流の遮断性能を向上させることが可能になる。

なお、本実施形態のガス遮断器の分割部材３としては、パッファ室４８内の外周面に配
置するものとして説明を行ったが、第二の実施形態で説明したように、パッファ室４８内
の中心軸と水平な側面の内周側（内周面）に設置することも可能である。

また、分割部材３としては、一体の環状平板または環状曲板であってもよいし、複数に
分割された分割部材３を、所定の間隔で上記側面の円周に沿って配置する構成であっても
よい。

（第四の実施形態）
以下、図１０を参照して、本実施形態に係るガス遮断器の構成について詳細に説明する
。なお、第一の実施形態と同一の構成には同一の符号を付し、説明は省略する。

本実施形態のガス遮断器は、熱的パッファ室４２と機械パッファ室４３を隔壁２６で仕
切らずに、パッファ室４８のみを備えていることに加え、固定ピストン２４を備えていな
い点において第一の実施形態、第二の実施形態、第二の実施形態の変形例及び第三の実施
形態とは異なる。

本実施形態のガス遮断器では、第二の実施形態と同様に、パッファ室４９内の中心軸と
水平な側面の外周側（外周面）に分割部材３を配置し、パッファ室４９を主空間４９ａと
従空間４９ｂに分割する。このとき、第１、第２の実施形態と同様に、アーク４６の熱エ
ネルギーにより生じた流れは、流路４４を通り開口部４５ａから主空間４９ａに流入し、
分割部材３に流れが衝突することで、主空間４９ａ内の圧力を上昇させ、アーク空間４７
との間に大きな差圧を確保することができるようになる。

その結果、消弧性ガスを勢いよくアーク４６に吹き付けることができるようになる。さ
らに、分割部材３によりパッファ室４９を主空間４９ａと従空間４９ｂに仕切ることで、
従空間４９ｂ内のアーク４６の熱エネルギーによる昇圧をある程度抑制することができ、
遮断動作を妨害する反力を抑えることができる。

さらに、本実施形態のガス遮断器によれば、第二の実施形態と同様に、より簡単な構成
となることに加え、固定ピストン２４を備えていないために、より簡単な機構により電流
の遮断性能を向上させることが可能になる。

なお、本実施形態のガス遮断器の分割部材３としては、パッファ室４９内の外周面に配
置するものとして説明を行ったが、第二の実施形態で説明したように、パッファ室４９の
中心軸と水平な側面の内周側（内周面）に設置することも可能である。

また、分割部材３としては、一体の環状平板または環状曲板であってもよいし、複数に
分割された分割部材３を、所定の間隔で上記側面の円周に沿って配置する構成であっても
よい。

以上説明した少なくとも１つの実施形態のガス遮断器によれば、熱的パッファ室内の流
れが拡散している位置に、分割部材３を配置し、熱的パッファ室を主空間と従空間に分割
することで、流れが分割部材３に衝突し、熱的パッファ室内の圧力を上昇させることがで
きる。その結果、熱的パッファ室とアーク空間４７との間に大きな差圧を確保することが
でき、勢いよく消弧性ガスをアーク４６に吹き付けることができるようになるために、電
流の充分な遮断性能を得ることが可能となる。

これら実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図し
ていない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明
の要旨を逸脱しない範囲で、様々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実
施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同時に、特許請求の範囲に記載され
た発明とその均等の範囲に含まれるものである。

以下に、本願原出願の特許査定時の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。

［１］消弧性ガスが充填された容器と、前記容器内に設置され第１のアーク接触子を備
える第１の接触子部と、前記容器内に前記第１の接触子部に対向して配置され、前記第１
のアーク接触子と接触または離間した状態を取りうる第２のアーク接触子を備える第２の
接触子部とを備え、前記第１の接触子部が、前記第１のアーク接触子と前記第２のアーク
接触子との間に発生するアークを吹き消すための前記消弧性ガスを蓄える空間を有するパ
ッファ室と、前記第１のアーク接触子の近傍に第１の開口と、前記パッファ室の近傍に第
２の開口とを有する消弧性ガスの流路と、前記パッファ室の前記空間内に設けられ、前記
流路からの前記消弧性ガスの流れを遮るように配置され、前記空間を第１の空間と第２の
空間とに分割する環状の部材と、前記第１の空間と前記第２の空間とを連通するものであ
って、前記部材の円周方向に沿う第３の開口と、を備えるガス遮断器。

１・・・可動接触子部
２・・・対向接触子部
３・・・分割部材
４・・・取付角度
１１・・・可動アーク接触子
１２・・・対向アーク接触子
１３・・・絶縁ノズル
１４・・・スロート部
１５・・・可動通電接触子
２１・・・操作ロッド
２２・・・フランジ
２３・・・シリンダ
２４・・・固定ピストン
２５・・・ピストン支持部
２６・・・隔壁
２７・・・逆止弁
２８・・・放止弁
２９a、２９b・・・ばね
３１・・・固定壁
４１a、４８a、４９a・・・主空間
４１b、４８b、４９b・・・従空間
４２・・・熱的パッファ室
４３・・・機械パッファ室
４４・・・流路
４５a、４５b、４５c、４５d、４５e、４５f・・・開口部
４６・・・アーク
４７・・・アーク空間
４８、４９・・・パッファ室
５０・・・密封容器
５２・・・フランジ
５３・・・開口部
５４・・・対向通電接触子

Claims (8)

1. 消弧性ガスが充填された容器と、
   前記容器内に設置され第１のアーク接触子を備える第１の接触子部と、
   前記容器内に前記第１の接触子部に対向して配置され、前記第１のアーク接触子と接触または離間した状態を取りうる第２のアーク接触子を備える第２の接触子部とを備え、
   前記第１の接触子部が、
   前記第１のアーク接触子と前記第２のアーク接触子との間に発生するアークを吹き消すための前記消弧性ガスを蓄えることができるパッファ室と、
   前記パッファ室を第１の空間と第２の空間とに分割する環状の部材と、
   前記第１の空間と前記第２の空間とを連通するものであって、前記部材の円周方向に沿う開口と、
   を備えるガス遮断器であって、
   前記第１の接触子部は、一方向に延伸する中空のシリンダと、前記シリンダの内部で前記方向に延伸するロッドとを備え、
   前記第１の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記第１の接触子部と前記パッファ室とを連通する流路が設けられる壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記第２の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記壁面とは異なる他の壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記部材は、前記空間内の前記シリンダの内面に設けられ、前記シリンダの内面から前記ロッドの外面に向けて突出しているガス遮断器。
2. 消弧性ガスが充填された容器と、
   前記容器内に設置され第１のアーク接触子を備える第１の接触子部と、
   前記容器内に前記第１の接触子部に対向して配置され、前記第１のアーク接触子と接触または離間した状態を取りうる第２のアーク接触子を備える第２の接触子部とを備え、
   前記第１の接触子部が、
   前記第１のアーク接触子と前記第２のアーク接触子との間に発生するアークを吹き消すための前記消弧性ガスを蓄えることができるパッファ室と、
   前記パッファ室を第１の空間と第２の空間とに分割する環状の部材と、
   前記第１の空間と前記第２の空間とを連通するものであって、前記部材の円周方向に沿う開口と、
   を備えるガス遮断器であって、
   前記第１の接触子部は、一方向に延伸する中空のシリンダと、前記シリンダの内部で前記方向に延伸するロッドとを備え、
   前記第１の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記第１の接触子部と前記パッファ室とを連通する流路が設けられる壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記第２の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記壁面とは異なる他の壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記部材は、前記空間内の前記ロッドの外面に設けられ、前記ロッドの外面から前記シリンダの内面に向けて突出しているガス遮断器。
3. 前記開口が、前記部材の前記シリンダ側に設けられる、請求項１記載のガス遮断器。
4. 前記開口が、前記部材の前記ロッド側に設けられる、請求項２記載のガス遮断器。
5. 前記部材は、平板あるいは曲板である、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のガス遮断器。
6. 消弧性ガスが充填された容器と、
   前記容器内に設置され第１のアーク接触子を備える第１の接触子部と、
   前記容器内に前記第１の接触子部に対向して配置され、前記第１のアーク接触子と接触または離間した状態を取りうる第２のアーク接触子を備える第２の接触子部とを備え、
   前記第１の接触子部が、
   前記第１のアーク接触子と前記第２のアーク接触子との間に発生するアークを吹き消すための前記消弧性ガスを蓄えることができるパッファ室と、
   前記パッファ室を第１の空間と第２の空間とに分割する環状の部材と、
   前記第１の空間と前記第２の空間とを連通するものであって、前記部材の円周方向に沿う開口と、
   を備えるガス遮断器であって、
   前記第１の接触子部は、一方向に延伸する中空のシリンダと、前記シリンダの内部で前記方向に延伸するロッドとを備え、
   前記第１の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記第１の接触子部と前記パッファ室とを連通する流路が設けられる壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記第２の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記壁面とは異なる他の壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記部材が、前記シリンダの内面または前記ロッドの外面のいずれかの円周に沿って複数に分割されているガス遮断器。
7. 消弧性ガスが充填された容器と、
   前記容器内に設置され第１のアーク接触子を備える第１の接触子部と、
   前記容器内に前記第１の接触子部に対向して配置され、前記第１のアーク接触子と接触または離間した状態を取りうる第２のアーク接触子を備える第２の接触子部とを備え、
   前記第１の接触子部が、
   前記第１のアーク接触子と前記第２のアーク接触子との間に発生するアークを吹き消すための前記消弧性ガスを蓄えることができるパッファ室と、
   前記パッファ室を第１の空間と第２の空間とに分割する環状の部材と、
   前記第１の空間と前記第２の空間とを連通するものであって、前記部材の円周方向に沿う開口と、
   を備えるガス遮断器であって、
   前記第１の接触子部は、一方向に延伸する中空のシリンダと、前記シリンダの内部で前記方向に延伸するロッドとを備え、
   前記第１の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記第１の接触子部と前記パッファ室とを連通する流路が設けられる壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記第２の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記壁面とは異なる他の壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記ロッドの外面に固定されたピストンと、
   前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記他の壁面と、前記ピストンとで囲まれた第２のパッファ室とを備え、
   前記他の壁面は、前記パッファ室と前記第２のパッファ室とを連通する第２の開口を有するガス遮断器。
8. 消弧性ガスが充填された容器と、
   前記容器内に設置され第１のアーク接触子を備える第１の接触子部と、
   前記容器内に前記第１の接触子部に対向して配置され、前記第１のアーク接触子と接触または離間した状態を取りうる第２のアーク接触子を備える第２の接触子部とを備え、
   前記第１の接触子部が、
   前記第１のアーク接触子と前記第２のアーク接触子との間に発生するアークを吹き消すための前記消弧性ガスを蓄えることができるパッファ室と、
   前記パッファ室を第１の空間と第２の空間とに分割する環状の部材と、
   前記第１の空間と前記第２の空間とを連通するものであって、前記部材の円周方向に沿う開口と、
   を備えるガス遮断器であって、
   前記第１の接触子部は、一方向に延伸する中空のシリンダと、前記シリンダの内部で前記方向に延伸するロッドとを備え、
   前記第１の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記第１の接触子部と前記パッファ室とを連通する流路が設けられる壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記第２の空間は、前記シリンダの内面と、前記ロッドの外面と、前記壁面とは異なる他の壁面と、前記部材とで囲まれ、
   前記ロッドの外面に固定されたピストンを備え、
   前記他の壁面が、前記ピストンである、ガス遮断器。

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