JP5815743B2 - 真空処理装置 - Google Patents
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Description
第1実施形態に係る真空処理装置を図1〜4に基づいて説明する。図1は真空処理装置1の概略図、図2は図1のA−A断面図であり、ホルダー回動軸Oに垂直な面での真空処理装置1中央部の断面概略図、図3は図1のB−B断面図であり、ホルダー回動軸Oに平行な重力方向の面での基板ホルダー10の断面概略図である。また、図4は基板ホルダー10を傾けたときのホース17の状態を示す説明図である。
第2実施形態に係る真空処理装置を図5,6に基づいて説明する。第1実施形態の構成要素と同一の構成要素については同一の参照番号を付して説明を省略する。本実施形態と上述した第1の実施形態との主な違いは、本実施形態に係る真空処理装置2の収容装置がローラーの一部に換えて回転ガイド25(第2のガイド部)を備えていることである。
Claims (4)
- 内部で真空処理を可能とする真空容器と、
ターゲットを取り付け可能なターゲットホルダーと、
基板が保持される基板ホルダーと、
前記ターゲットホルダーにターゲットが取り付けられた際に、前記基板ホルダーを回動軸まわりに回動させることで、前記基板ホルダーに保持された基板を前記ターゲットに対して傾斜させる傾斜手段と、
前記基板ホルダーに設けられ、前記真空容器の外側に設けられた圧縮装置とともに作用することで、前記基板ホルダーに保持された基板を冷却する冷却装置と、
前記圧縮装置と前記冷却装置との間で冷媒が移送される移送部と、
前記真空容器の外側に設けられ、所定の曲率半径を越えない状態で前記移送部が収容される収容手段と、を備え、
前記収容手段は、
前記冷却装置と一端部が連結され、前記回動軸から所定距離離間した位置で他端部が前記移送部と連結され、前記基板ホルダーの回動動作に伴って回動する連結部と、
前記連結部の回動動作に伴って、前記移送部を所定の曲率半径を越えない範囲で屈曲させて案内する第1のガイド部と、を有することを特徴とする真空処理装置。 - 前記移送部の一端部を前記真空容器の外側の所定位置に固定する固定部を備えることを特徴とする請求項1に記載の真空処理装置。
- 前記収容手段は、前記基板を傾斜する動作に伴って回動し、前記第1のガイド部に案内されるように前記移送部を案内する第2のガイド部を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の真空処理装置。
- 前記移送部は、前記基板ホルダーが回動動作する際の回動方向にならって屈曲されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の真空処理装置。
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