JP5785435B2 - インプラントの製造方法 - Google Patents
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Description
粗面加工されたチタンインプラントを100mlの0.01,0.1,1.0,及び10%のハイドロキシアパタイト懸濁液中に各2本を直接投入し,1分後に取り出し乾燥した(比較例1−1〜1−4)。
Claims (10)
- 水,リン酸カルシウム系溶液又は第1のリン酸カルシウム懸濁液である含浸液を真空中でインプラントの表面に含浸させる工程を含むインプラントの製造方法であって,
前記含浸液が存在しない真空チャンバ内にインプラントを収容するインプラント収容工程と,
前記含浸液が存在しない状態で,前記インプラント収容工程でインプラントを収容した前記真空チャンバを真空に引く真空化工程と,
前記真空化工程の後に,真空となった前記真空チャンバ内に前記含浸液を注入し,前記真空チャンバに収容されたインプラントに前記含浸液を含浸させる真空含浸工程と,
前記真空含浸工程の後に,前記真空チャンバから前記インプラントを取り出して,前記インプラントを第2のリン酸カルシウム懸濁液に浸漬する浸漬工程と,
前記浸漬工程の後に,前記インプラントを前記第2のリン酸カルシウム懸濁液から取り出して乾燥する乾燥工程と,を含む,
インプラントの製造方法。 - 請求項1に記載のインプラントの製造方法であって,
前記インプラントが,歯科用インプラントである,
インプラントの製造方法。 - 請求項1に記載のインプラントの製造方法であって,
前記真空化工程において,前記真空チャンバ内の真空度を,1×10−5気圧以上1×10−1気圧以下とする,
インプラントの製造方法。 - 請求項1に記載のインプラントの製造方法であって,
前記真空化工程において,前記真空チャンバ内の真空度を,1mmHg以上50mmHg以下とする,
インプラントの製造方法。 - 請求項1に記載のインプラントの製造方法であって,
前記真空含浸工程は,
前記真空チャンバに収容されたインプラントに,第1のリン酸カルシウム懸濁液を含浸させる工程であり,
前記第1のリン酸カルシウム懸濁液は,
ハイドロキシアパタイト,リン酸3カルシウム,リン酸8カルシウム,及びリン酸水素カルシウムから選択される1又は2種以上のリン酸カルシウム系物質が懸濁した液である,
インプラントの製造方法。 - 請求項5に記載のインプラントの製造方法であって,
前記第1のリン酸カルシウム懸濁液は,前記リン酸カルシウム系物質を0.01質量%以上5質量%以下含む懸濁液である,
インプラントの製造方法。 - 請求項1又は請求項5に記載のインプラントの製造方法であって,
前記第2のリン酸カルシウム懸濁液は,
ハイドロキシアパタイト,リン酸3カルシウム,リン酸8カルシウム,及びリン酸水素カルシウムから選択される1又は2種以上のリン酸カルシウム系物質が懸濁した液である,
インプラントの製造方法。 - 請求項7に記載のインプラントの製造方法であって,
前記第2のリン酸カルシウム懸濁液は,前記リン酸カルシウム系物質を0.01質量%以上5質量%以下含む懸濁液である,
インプラントの製造方法。 - 請求項1に記載のインプラントの製造方法であって,
前記インプラント収容工程,前記真空化工程,前記真空含浸工程,前記浸漬工程,及び前記乾燥工程を含め真空浸漬工程としたときに,
前記真空浸漬工程を繰り返し行う,
インプラントの製造方法。 - 請求項1又は請求項9に記載のインプラントの製造方法であって,
前記乾燥工程の後に前記インプラントを水熱処理する水熱処理工程をさらに含み,
前記水熱処理工程は,前記インプラントを100℃以上300℃以下,1気圧以上30気圧以下の雰囲気に1時間以上20時間以下さらす工程である,
インプラントの製造方法。
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